JP2000140562A - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
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- JP2000140562A JP2000140562A JP10324784A JP32478498A JP2000140562A JP 2000140562 A JP2000140562 A JP 2000140562A JP 10324784 A JP10324784 A JP 10324784A JP 32478498 A JP32478498 A JP 32478498A JP 2000140562 A JP2000140562 A JP 2000140562A
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- electrode
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 通風抵抗が小さく、且つ処理対象ガスの処理
効率が高いガス処理装置の提供。 【解決手段】 ガス処理装置Ａは、ダクト１内に間隔を
開けて交互に垂直配置される放電電極２およびアース電
極３と、これら電極間に配される触媒４とを備え、高電
圧を各放電電極２- 各アース電極間３に印加して、発生
するプラズマによりガス１０を処理する。
効率が高いガス処理装置の提供。 【解決手段】 ガス処理装置Ａは、ダクト１内に間隔を
開けて交互に垂直配置される放電電極２およびアース電
極３と、これら電極間に配される触媒４とを備え、高電
圧を各放電電極２- 各アース電極間３に印加して、発生
するプラズマによりガス１０を処理する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、空気を浄化するガ
ス処理装置に関する。
ス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、排気ガス中で高電圧放電を行
ってプラズマ状態を作ることで排気ガスの浄化を行う技
術が知られている。近年、この技術を脱臭目的に応用し
て、工場の排気を浄化する浄化装置や、空気清浄機に使
われつつある。このプラズマを用いた脱臭では、触媒を
併用することで、より高い効率で空気を浄化することが
できる。
ってプラズマ状態を作ることで排気ガスの浄化を行う技
術が知られている。近年、この技術を脱臭目的に応用し
て、工場の排気を浄化する浄化装置や、空気清浄機に使
われつつある。このプラズマを用いた脱臭では、触媒を
併用することで、より高い効率で空気を浄化することが
できる。
【０００３】例えば、特開平３- ２７５１１９号公報に
記載のプラズマ排ガス処理装置では、放電極、該放電極
に対向するアース電極との間に誘電体を設け、放電極と
アース電極との間の空間に処理対象の排ガスを通してい
る。
記載のプラズマ排ガス処理装置では、放電極、該放電極
に対向するアース電極との間に誘電体を設け、放電極と
アース電極との間の空間に処理対象の排ガスを通してい
る。
【０００４】また、特開平６- ３２７９６４号公報に記
載の気体酸化用電界装置では、絶縁性のハニカム構造体
の管状通路内壁を挟むようにして電極を配置し、その管
状内壁に直交する電界を与えてガス通路内にグロー放電
を発生させている。
載の気体酸化用電界装置では、絶縁性のハニカム構造体
の管状通路内壁を挟むようにして電極を配置し、その管
状内壁に直交する電界を与えてガス通路内にグロー放電
を発生させている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前者のものは、ガス
が、触媒と電極の平面のみで接触する構造であるため、
ガスとの接触面積が少なく、処理効率が悪い。また、後
者のものは、構造上、通風抵抗が大きくなるので、大量
のガスを短時間に処理することができない。
が、触媒と電極の平面のみで接触する構造であるため、
ガスとの接触面積が少なく、処理効率が悪い。また、後
者のものは、構造上、通風抵抗が大きくなるので、大量
のガスを短時間に処理することができない。
【０００６】本発明の第１の目的は、通風抵抗が小さ
く、且つ処理対象ガスの処理効率が高いガス処理装置の
提供にある。本発明の第２の目的は、異なる複種類の成
分を有する処理対象ガスを処理することができるガス処
理装置の提供にある。
く、且つ処理対象ガスの処理効率が高いガス処理装置の
提供にある。本発明の第２の目的は、異なる複種類の成
分を有する処理対象ガスを処理することができるガス処
理装置の提供にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】〔請求項１について〕通
風路内を流れる処理対象ガスのガス流が直交して接触す
る様に、通風路内にハニカム構造触媒を配置している。
ハニカム構造触媒を挟み、ガス流が直交して通過する様
に通風路内に放電電極とアース電極とを配置している。
通風路内に処理対象ガスを流し、放電電極- アース電極
間に高電圧を印加すると、電極間にプラズマが発生し、
生成される各種のラジカルや、触媒反応によりガスが分
解される。ガス流が直交して通過する様に、放電電極と
アース電極とを通風路内に配置しているので、広い範囲
を長時間、プラズマに曝すことができ、各種のラジカル
を多く生成することができる。触媒をハニカム構造にし
ているので、処理対象ガスと触媒との接触面積が多く取
れるため処理効率に優れる。また、触媒の通風抵抗が小
さいので圧損が少なく、大量の処理対象ガスを短時間に
処理することができる。ハニカム構造触媒を、放電電極
とアース電極で挟むだけであるので構造が簡単であり、
ガス処理装置を安価に製造することができる。
風路内を流れる処理対象ガスのガス流が直交して接触す
る様に、通風路内にハニカム構造触媒を配置している。
ハニカム構造触媒を挟み、ガス流が直交して通過する様
に通風路内に放電電極とアース電極とを配置している。
通風路内に処理対象ガスを流し、放電電極- アース電極
間に高電圧を印加すると、電極間にプラズマが発生し、
生成される各種のラジカルや、触媒反応によりガスが分
解される。ガス流が直交して通過する様に、放電電極と
アース電極とを通風路内に配置しているので、広い範囲
を長時間、プラズマに曝すことができ、各種のラジカル
を多く生成することができる。触媒をハニカム構造にし
ているので、処理対象ガスと触媒との接触面積が多く取
れるため処理効率に優れる。また、触媒の通風抵抗が小
さいので圧損が少なく、大量の処理対象ガスを短時間に
処理することができる。ハニカム構造触媒を、放電電極
とアース電極で挟むだけであるので構造が簡単であり、
ガス処理装置を安価に製造することができる。
【０００８】〔請求項２について〕通風路内を流れる処
理対象ガスのガス流が直交して通過する様に、通風路内
に間隔を開けて交互に、放電電極およびアース電極を配
置している。そして、ガス流が直交して接触する様に、
ハニカム構造触媒をこれら電極間に配している。通風路
内に処理対象ガスを流し、各放電電極- 各アース電極間
に高電圧を印加すると、各電極間にプラズマが発生し、
生成される各種のラジカルや、触媒反応によりガスが分
解される。ガス流が直交して通過する様に放電電極とア
ース電極とを通風路内に配置しているので、広い範囲を
長時間、プラズマに曝すことができ、各種のラジカルを
多く生成することができる。
理対象ガスのガス流が直交して通過する様に、通風路内
に間隔を開けて交互に、放電電極およびアース電極を配
置している。そして、ガス流が直交して接触する様に、
ハニカム構造触媒をこれら電極間に配している。通風路
内に処理対象ガスを流し、各放電電極- 各アース電極間
に高電圧を印加すると、各電極間にプラズマが発生し、
生成される各種のラジカルや、触媒反応によりガスが分
解される。ガス流が直交して通過する様に放電電極とア
ース電極とを通風路内に配置しているので、広い範囲を
長時間、プラズマに曝すことができ、各種のラジカルを
多く生成することができる。
【０００９】通風路内に間隔を開けて交互に放電電極お
よびアース電極を配置し、各電極間にハニカム構造触媒
を配しているので、処理対象ガスの処理能力に優れ、処
理対象ガスを確実に処理することができる。また、ハニ
カム構造触媒を、放電電極とアース電極で挟むだけであ
るので構造が簡単であり、複数個のハニカム構造触媒を
容易に通風路内に配置することができ、ガス処理装置を
安価に製造することができる。
よびアース電極を配置し、各電極間にハニカム構造触媒
を配しているので、処理対象ガスの処理能力に優れ、処
理対象ガスを確実に処理することができる。また、ハニ
カム構造触媒を、放電電極とアース電極で挟むだけであ
るので構造が簡単であり、複数個のハニカム構造触媒を
容易に通風路内に配置することができ、ガス処理装置を
安価に製造することができる。
【００１０】〔請求項３について〕各ハニカム構造触媒
を、それぞれ、異なる種類としている。これにより、複
種類のガスが混じっていても、触媒が有効に機能して複
種類の化合物を何れかの触媒により分解することができ
る。
を、それぞれ、異なる種類としている。これにより、複
種類のガスが混じっていても、触媒が有効に機能して複
種類の化合物を何れかの触媒により分解することができ
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の第１実施例（請求項１、
２に対応）を図１および図２に基づいて説明する。図に
示す様に、ガス処理装置Ａは、ダクト１内に、放電電極
２とアース電極３とを交互に配置し、これら電極間に触
媒４を配設してなる。また、５は高電圧発生装置であ
り、放電電極２- アース電極３間に高電圧を印加するた
めのものである。
２に対応）を図１および図２に基づいて説明する。図に
示す様に、ガス処理装置Ａは、ダクト１内に、放電電極
２とアース電極３とを交互に配置し、これら電極間に触
媒４を配設してなる。また、５は高電圧発生装置であ
り、放電電極２- アース電極３間に高電圧を印加するた
めのものである。
【００１２】ダクト１は、断面長方形の筒状を呈し、プ
ラスチックで形成されている。このダクト１の入口１１
はガス１０を出す産業装置の排気出口、あるいは空気清
浄器の吸い込み口に接続され、ダクト１の出口１２は室
外へ臨む排気管、または空気清浄器の吹き出し口に接続
されている。
ラスチックで形成されている。このダクト１の入口１１
はガス１０を出す産業装置の排気出口、あるいは空気清
浄器の吸い込み口に接続され、ダクト１の出口１２は室
外へ臨む排気管、または空気清浄器の吹き出し口に接続
されている。
【００１３】放電電極２（本実施例では五個）は、縦線
部を有しない網状を呈し、電極面とダクト内底面とが直
角になる様にダクト１内に配設されている。これら放電
電極２は、金属性メッシュ、極細ワイヤ、または針状体
等で形成されている。なお、各放電電極２は、導線２１
によって電気接続され、高電圧発生装置５の＋極に電気
接続されている。
部を有しない網状を呈し、電極面とダクト内底面とが直
角になる様にダクト１内に配設されている。これら放電
電極２は、金属性メッシュ、極細ワイヤ、または針状体
等で形成されている。なお、各放電電極２は、導線２１
によって電気接続され、高電圧発生装置５の＋極に電気
接続されている。
【００１４】アース電極３（本実施例では五個）は、枠
状を呈し、電極面とダクト内底面とが直角になる様に、
各放電電極２の後方に所定間隔（数十ｃｍ）を隔てて放
電電極２と平行に配設されている。これらアース電極３
は、金属性メッシュ等で形成されている。なお、各アー
ス電極３は、導線３１によって電気接続され、高電圧発
生装置５の−極に電気接続されている。
状を呈し、電極面とダクト内底面とが直角になる様に、
各放電電極２の後方に所定間隔（数十ｃｍ）を隔てて放
電電極２と平行に配設されている。これらアース電極３
は、金属性メッシュ等で形成されている。なお、各アー
ス電極３は、導線３１によって電気接続され、高電圧発
生装置５の−極に電気接続されている。
【００１５】触媒４は、ハニカム構造を持った直方体形
状を呈し、セラミックハニカムに酸化チタンを担持させ
たものである。この触媒４は、触媒面とダクト内底面と
が直角（各電極と平行）になる様に、放電電極２とアー
ス電極３との中間に配設（本実施例では五個）されてい
る。
状を呈し、セラミックハニカムに酸化チタンを担持させ
たものである。この触媒４は、触媒面とダクト内底面と
が直角（各電極と平行）になる様に、放電電極２とアー
ス電極３との中間に配設（本実施例では五個）されてい
る。
【００１６】高電圧発生装置５は、パルス状の高電圧
（数ｋＶ〜数１０ｋＶ）を発生させるための装置であ
る。
（数ｋＶ〜数１０ｋＶ）を発生させるための装置であ
る。
【００１７】本実施例のガス処理装置Ａは、以下の様に
作動する。臭気を有するガス１０をダクト１に流し、放
電電極２- アース電極３にパルス状の高電圧を印加する
と、各電極間にプラズマが発生し、生成される各種のラ
ジカルや、触媒反応によりガス１０が分解される。
作動する。臭気を有するガス１０をダクト１に流し、放
電電極２- アース電極３にパルス状の高電圧を印加する
と、各電極間にプラズマが発生し、生成される各種のラ
ジカルや、触媒反応によりガス１０が分解される。
【００１８】本実施例のガス処理装置Ａは、以下の利点
を有する。 〔ア〕電極面とダクト内底面とが直角になる様に、各放
電電極２と各アース電極３とを通風路内に配置している
ので、広い範囲を長時間、プラズマに曝すことができ、
各種のラジカルを従来のものより多く生成することがで
き、分解効率に優れる。
を有する。 〔ア〕電極面とダクト内底面とが直角になる様に、各放
電電極２と各アース電極３とを通風路内に配置している
ので、広い範囲を長時間、プラズマに曝すことができ、
各種のラジカルを従来のものより多く生成することがで
き、分解効率に優れる。
【００１９】〔イ〕触媒４がハニカム構造であり、触媒
４を多段に配設しているので、ガス１０と触媒４との接
触面積が多く取れ処理効率に優れる。また、触媒４の通
風抵抗が小さいので触媒４を多段に配設しているにも係
わらず圧損が少なく、大量のガス１０を短時間に処理す
ることができる。
４を多段に配設しているので、ガス１０と触媒４との接
触面積が多く取れ処理効率に優れる。また、触媒４の通
風抵抗が小さいので触媒４を多段に配設しているにも係
わらず圧損が少なく、大量のガス１０を短時間に処理す
ることができる。
【００２０】〔ウ〕ガス処理装置Ａは、触媒４を、放電
電極２とアース電極３で挟むだけであるので構造が簡単
であり、安価に製造することができる。
電極２とアース電極３で挟むだけであるので構造が簡単
であり、安価に製造することができる。
【００２１】つぎに、本発明の第２実施例（請求項１、
２、３に対応）を、図１および図２に基づいて説明す
る。本実施例のガス処理装置Ｂは、下記の点がガス処理
装置Ａと異なる。本実施例では、触媒４は三個である。
一段目の触媒４は、硫化水素、メチルメルカルブタン等
のＳ系化合物が分解可能なハニカム構造触媒である。二
段目の触媒４は、酢酸やアルデヒド等の酸性化合物が分
解可能なハニカム構造触媒である。三段目の触媒４は、
アンモニア、トリメチルアミン等の塩基性化合物が分解
可能なハニカム構造触媒である。
２、３に対応）を、図１および図２に基づいて説明す
る。本実施例のガス処理装置Ｂは、下記の点がガス処理
装置Ａと異なる。本実施例では、触媒４は三個である。
一段目の触媒４は、硫化水素、メチルメルカルブタン等
のＳ系化合物が分解可能なハニカム構造触媒である。二
段目の触媒４は、酢酸やアルデヒド等の酸性化合物が分
解可能なハニカム構造触媒である。三段目の触媒４は、
アンモニア、トリメチルアミン等の塩基性化合物が分解
可能なハニカム構造触媒である。
【００２２】本実施例のガス処理装置Ｂは、以下の様に
作動する。各種類のガス１０をダクト１に流し、放電電
極２- アース電極３にパルス状の高電圧を印加すると、
各電極間にプラズマが発生し、生成される各種のラジカ
ルや、複種類の触媒反応により、各ガス１０が分解され
る。
作動する。各種類のガス１０をダクト１に流し、放電電
極２- アース電極３にパルス状の高電圧を印加すると、
各電極間にプラズマが発生し、生成される各種のラジカ
ルや、複種類の触媒反応により、各ガス１０が分解され
る。
【００２３】本実施例のガス処理装置Ｂは、以下の利点
を有する。 〔エ〕複数の臭気が混じったガス１０を出す産業装置
や、異なる種類の臭気を有するガス１０を出す複数の産
業装置に接続してガス１０を有効に脱臭処理することが
できる。
を有する。 〔エ〕複数の臭気が混じったガス１０を出す産業装置
や、異なる種類の臭気を有するガス１０を出す複数の産
業装置に接続してガス１０を有効に脱臭処理することが
できる。
【図１】本発明の実施例に係るガス処理装置の構造説明
図である。
図である。
【図２】本発明の実施例に係るガス処理装置の斜視図で
ある。
ある。
Ａ、Ｂ ガス処理装置 １ ダクト（通風路） ２ 放電電極 ３ アース電極 ４ 触媒（ハニカム構造触媒） １０ ガス（処理対象ガス）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 53/86 Ｂ０１Ｄ 53/34 １１９ Ｂ０１Ｊ 19/08 53/36 Ｈ 21/06 Ｇ Ｆターム(参考） 4D002 AA03 AA06 AA13 AA14 AA32 AA40 AB02 AC10 BA05 BA06 BA07 CA20 DA70 GA01 GB20 4D048 AA01 AA03 AA08 AA17 AA19 AA22 AB03 AB05 BA07X BB02 CC33 EA03 4G069 AA04 BA04A BA04B BA13A BA13B CA01 CA10 CA17 DA06 EA18 4G075 AA03 BD01 CA47 DA02 EB42 EC21 EE12 EE33
Claims (3)
- 【請求項１】 通風路内を流れる処理対象ガスのガス流
が直交して接触する様に、通風路内に配置されるハニカ
ム構造触媒と、 該ハニカム構造触媒を挟み、前記ガス流が直交して通過
する様に通風路内に配置される放電電極およびアース電
極とを備え、 高電圧を前記放電電極- 前記アース電極間に印加して、
発生するプラズマにより前記ガスを処理するガス処理装
置。 - 【請求項２】 通風路内を流れる処理対象ガスのガス流
が直交して通過する様に、通風路内に間隔を開けて交互
に配置される放電電極およびアース電極と、 前記ガス流が直交して接触する様に、これら電極間に配
されるハニカム構造触媒とを備え、 高電圧を各放電電極- 各アース電極間に印加して、発生
するプラズマにより前記ガスを処理するガス処理装置。 - 【請求項３】 各ハニカム構造触媒を、それぞれ、異な
る種類とし、異なる化合物を分解可能にしたことを特徴
とする請求項２記載のガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10324784A JP2000140562A (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10324784A JP2000140562A (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000140562A true JP2000140562A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=18169646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10324784A Pending JP2000140562A (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000140562A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100451125B1 (ko) * | 2001-10-10 | 2004-10-02 | 한국기계연구원 | 저온 플라즈마 반응기를 이용한 유해 가스 처리 시스템 및그 제어 방법 |
| JP2008194670A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-08-28 | Yamatake Corp | ガス処理装置 |
| JP2009165939A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Yamatake Corp | ガス処理装置 |
| JP2011206703A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Yamatake Corp | ガス処理装置 |
| JP2011206702A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Yamatake Corp | ガス処理装置 |
| JP2012213719A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Azbil Corp | ガス処理装置 |
| JP2012213721A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Azbil Corp | ガス処理装置 |
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| WO2012153024A1 (fr) * | 2011-05-10 | 2012-11-15 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Dispositif pour le traitement des gaz par plasma de surface |
| WO2013042328A1 (ja) | 2011-09-21 | 2013-03-28 | 株式会社Ｎｂｃメッシュテック | 低温プラズマと触媒体を用いるガス処理装置および方法 |
-
1998
- 1998-11-16 JP JP10324784A patent/JP2000140562A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100451125B1 (ko) * | 2001-10-10 | 2004-10-02 | 한국기계연구원 | 저온 플라즈마 반응기를 이용한 유해 가스 처리 시스템 및그 제어 방법 |
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| WO2012153024A1 (fr) * | 2011-05-10 | 2012-11-15 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Dispositif pour le traitement des gaz par plasma de surface |
| US8974741B2 (en) | 2011-05-10 | 2015-03-10 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Device for treating gases using surface plasma |
| WO2013042328A1 (ja) | 2011-09-21 | 2013-03-28 | 株式会社Ｎｂｃメッシュテック | 低温プラズマと触媒体を用いるガス処理装置および方法 |
| US9962651B2 (en) | 2011-09-21 | 2018-05-08 | Nbc Meshtec, Inc. | Device and method for gas treatment using non-thermal plasma and catalyst medium |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041224 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080513 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080916 |