JP2000136121A - 光保護化粧品組成物とその用途 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 改善された光保護力を有する化粧品組成物を
提供する。 【解決手段】 化粧品的に許容可能なビヒクルに：(ｉ)
ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種のシ
リコン誘導体からなる溶解される遮蔽系と；(ｉｉ)少な
くとも１種のケイ皮酸誘導体及び／又は少なくとも１種
のサリチル酸誘導体からなる溶解させる遮蔽系とを含有
せしめ；溶解させる遮蔽系を、前記溶解される遮蔽系の
全体を溶解するのに十分な量にする。
提供する。 【解決手段】 化粧品的に許容可能なビヒクルに：(ｉ)
ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種のシ
リコン誘導体からなる溶解される遮蔽系と；(ｉｉ)少な
くとも１種のケイ皮酸誘導体及び／又は少なくとも１種
のサリチル酸誘導体からなる溶解させる遮蔽系とを含有
せしめ；溶解させる遮蔽系を、前記溶解される遮蔽系の
全体を溶解するのに十分な量にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、紫外線から
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される化粧品用組成物(以下、この組成物を単に
抗日光組成物と呼称する)、並びに上述した化粧品用途
におけるそれらの使用に関する。より詳細には、本発明
は、化粧品的に許容可能なビヒクルに、少なくとも２種
の特定の親油性遮蔽剤を含有し、該遮蔽剤の一方が他方
の遮蔽剤に対する溶解性を有する遮蔽剤であることを特
徴とする抗日光組成物に関する。さらに、本発明は、一
又は二種類の特定の液状の親油性遮蔽剤により、一又は
二の特定の固体状の親油性遮蔽剤を溶解させる方法に関
する。
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される化粧品用組成物(以下、この組成物を単に
抗日光組成物と呼称する)、並びに上述した化粧品用途
におけるそれらの使用に関する。より詳細には、本発明
は、化粧品的に許容可能なビヒクルに、少なくとも２種
の特定の親油性遮蔽剤を含有し、該遮蔽剤の一方が他方
の遮蔽剤に対する溶解性を有する遮蔽剤であることを特
徴とする抗日光組成物に関する。さらに、本発明は、一
又は二種類の特定の液状の親油性遮蔽剤により、一又は
二の特定の固体状の親油性遮蔽剤を溶解させる方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】 ２８
０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの皮膚
は日焼し、特にＵＶ-Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然な褐色
化の形成の障害となるサンバーン状態となったり、また
紅斑が形成されたりする；よって、ＵＶ-Ｂは遮蔽しな
ければならない。また、皮膚をサンタン状態にする３２
０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａは、特
に、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさらされている皮膚に
悪影響を与えうることが知られている。ＵＶ-Ａは、特
に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を
時期尚早の老化に導く原因となるものである。それら
は、紅斑反応の誘因を促進し、ある個体においてこの反
応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応を引き起こす
恐れがある。よって、ＵＶ-Ａもまた遮蔽することが望
ましい。
０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの皮膚
は日焼し、特にＵＶ-Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然な褐色
化の形成の障害となるサンバーン状態となったり、また
紅斑が形成されたりする；よって、ＵＶ-Ｂは遮蔽しな
ければならない。また、皮膚をサンタン状態にする３２
０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａは、特
に、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさらされている皮膚に
悪影響を与えうることが知られている。ＵＶ-Ａは、特
に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を
時期尚早の老化に導く原因となるものである。それら
は、紅斑反応の誘因を促進し、ある個体においてこの反
応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応を引き起こす
恐れがある。よって、ＵＶ-Ａもまた遮蔽することが望
ましい。
【０００３】皮膚の光保護(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)
を意図した多数の化合物が、現在までに提供されてい
る。使用中の快適性(柔軟性、エモリエント性、適用の
容易さ等)をより良好にすることに関連した種々の理由
から、現在の抗日光組成物は、一般的に水中油型エマル
ション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させら
れた油性非連続相とからなるビヒクル)の形態で提供さ
れており、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複
数の通常の有機遮蔽剤類を種々の濃度で含有し、これら
の遮蔽剤は、所望の保護ファクター［保護ファクター
(ＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始
めるまでに必要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場
合に紅斑が形成され始めるまでに必要な時間に対する比
率を数学的に表したものである］に応じて選択される。
親油性であるか親水性であるかにより、これらの遮蔽剤
は最終組成物の脂肪相又は水相のいずれかにそれぞれ分
散されうる。
を意図した多数の化合物が、現在までに提供されてい
る。使用中の快適性(柔軟性、エモリエント性、適用の
容易さ等)をより良好にすることに関連した種々の理由
から、現在の抗日光組成物は、一般的に水中油型エマル
ション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させら
れた油性非連続相とからなるビヒクル)の形態で提供さ
れており、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複
数の通常の有機遮蔽剤類を種々の濃度で含有し、これら
の遮蔽剤は、所望の保護ファクター［保護ファクター
(ＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始
めるまでに必要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場
合に紅斑が形成され始めるまでに必要な時間に対する比
率を数学的に表したものである］に応じて選択される。
親油性であるか親水性であるかにより、これらの遮蔽剤
は最終組成物の脂肪相又は水相のいずれかにそれぞれ分
散されうる。
【０００４】抗日光組成物に特に有用であり、ＵＶ-Ａ
及びＵＶ-Ｂに対し高い活性を有する親油性のＵＶ有機
遮蔽剤は、欧州特許公開第０３９２８８３号、欧州特許
公開第０６６０７０１号、欧州特許公開第０７０８１０
８号、欧州特許公開第０７１１７７８号及び欧州特許公
開第７１１７７９号に記載されている。それらは、ベン
ゾトリアゾール官能基を有するポリオルガノシロキサン
又はシランである。それらは顕著な特徴を有するもので
あるが、室温で固体状であるといった欠点も有する。こ
のため、それらを抗日光化粧品用組成物に使用する場合
は、それらの調製及び実施、特にそれらを適切に溶解さ
せるための溶媒を見出すことについて、ある種の制約が
生じていた。この点について、今日では通常、油、例え
ばエステル類、特にＣ１２-Ｃ１５安息香酸アルキル
［ファインテックス社(Finetex)の「フィンソルブ(Fins
olv)ＴＮ」］、又はトリグリセリド、特にＣ８-Ｃ１２
脂肪酸トリグリセリド［ヒュルス社(Huls)の「ミグリオ
ール(Miglyol)８１２」］、又は一価アルコール又は多
価アルコール、例えばエタノール、並びにそれらの混合
物が使用されている。しかし、たとえ上述した遮蔽剤に
対して溶解特性を有していても、これらの生成物はＵＶ
線を遮蔽する分野において、ＵＶ-Ａ又はＵＶ-Ｂのいず
れに対しても特有の活性を示さないという欠点を有する
ものであった。
及びＵＶ-Ｂに対し高い活性を有する親油性のＵＶ有機
遮蔽剤は、欧州特許公開第０３９２８８３号、欧州特許
公開第０６６０７０１号、欧州特許公開第０７０８１０
８号、欧州特許公開第０７１１７７８号及び欧州特許公
開第７１１７７９号に記載されている。それらは、ベン
ゾトリアゾール官能基を有するポリオルガノシロキサン
又はシランである。それらは顕著な特徴を有するもので
あるが、室温で固体状であるといった欠点も有する。こ
のため、それらを抗日光化粧品用組成物に使用する場合
は、それらの調製及び実施、特にそれらを適切に溶解さ
せるための溶媒を見出すことについて、ある種の制約が
生じていた。この点について、今日では通常、油、例え
ばエステル類、特にＣ１２-Ｃ１５安息香酸アルキル
［ファインテックス社(Finetex)の「フィンソルブ(Fins
olv)ＴＮ」］、又はトリグリセリド、特にＣ８-Ｃ１２
脂肪酸トリグリセリド［ヒュルス社(Huls)の「ミグリオ
ール(Miglyol)８１２」］、又は一価アルコール又は多
価アルコール、例えばエタノール、並びにそれらの混合
物が使用されている。しかし、たとえ上述した遮蔽剤に
対して溶解特性を有していても、これらの生成物はＵＶ
線を遮蔽する分野において、ＵＶ-Ａ又はＵＶ-Ｂのいず
れに対しても特有の活性を示さないという欠点を有する
ものであった。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】実
際、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこと
に、ケイ皮酸誘導体系のＵＶ遮蔽剤及び／又はサリチル
酸誘導体系のＵＶ遮蔽剤が、特に上述した固体状の遮蔽
剤、すなわちベンゾトリアゾール官能基を有するシリコ
ン誘導体に対する好ましい溶媒を構成することを見出し
た。ケイ皮酸誘導体及びサリチル酸誘導体はＵＶ-Ｂに
活性のあることで既に知られている液状の親油性遮蔽剤
であるが、上述の固体状の遮蔽剤に対する溶解性につい
ては、決して開示されていない。よって、本発見の利点
は２つあり、一方は、以前から知られているもの以外の
溶媒により、ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコ
ン誘導体又はその混合物を溶解させることが可能となる
ことで、これ自体は常に有利であり、他方は、遮蔽剤の
量を増加させ、最終的な抗日光組成物の保護レベルを大
幅に増加させることが可能となることである。これらの
組合わさった発見が本発明の基礎である。
際、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこと
に、ケイ皮酸誘導体系のＵＶ遮蔽剤及び／又はサリチル
酸誘導体系のＵＶ遮蔽剤が、特に上述した固体状の遮蔽
剤、すなわちベンゾトリアゾール官能基を有するシリコ
ン誘導体に対する好ましい溶媒を構成することを見出し
た。ケイ皮酸誘導体及びサリチル酸誘導体はＵＶ-Ｂに
活性のあることで既に知られている液状の親油性遮蔽剤
であるが、上述の固体状の遮蔽剤に対する溶解性につい
ては、決して開示されていない。よって、本発見の利点
は２つあり、一方は、以前から知られているもの以外の
溶媒により、ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコ
ン誘導体又はその混合物を溶解させることが可能となる
ことで、これ自体は常に有利であり、他方は、遮蔽剤の
量を増加させ、最終的な抗日光組成物の保護レベルを大
幅に増加させることが可能となることである。これらの
組合わさった発見が本発明の基礎である。
【０００６】よって、本発明の主題事項は、化粧品的に
許容可能なビヒクルに： (ｉ)ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種
のシリコン誘導体からなる溶解される遮蔽系と； (ｉｉ)少なくとも１種のケイ皮酸誘導体及び／又は少な
くとも１種のサリチル酸誘導体からなる溶解させる遮蔽
系とを含有せしめてなり； 溶解させる遮蔽系が、それだけで前記溶解される遮蔽系
の全体を溶解させるのに十分な量で存在していることを
特徴とする新規化粧品組成物、特に抗日光組成物を提供
することにある。
許容可能なビヒクルに： (ｉ)ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種
のシリコン誘導体からなる溶解される遮蔽系と； (ｉｉ)少なくとも１種のケイ皮酸誘導体及び／又は少な
くとも１種のサリチル酸誘導体からなる溶解させる遮蔽
系とを含有せしめてなり； 溶解させる遮蔽系が、それだけで前記溶解される遮蔽系
の全体を溶解させるのに十分な量で存在していることを
特徴とする新規化粧品組成物、特に抗日光組成物を提供
することにある。
【０００７】本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造への、上述した組成物の使用にあ
る。
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造への、上述した組成物の使用にあ
る。
【０００８】本発明の他の主題事項は、本発明の組成物
を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することからな
る、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護
するために美容処理方法にある。
を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することからな
る、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護
するために美容処理方法にある。
【０００９】最後に、本発明の他の主題は、ＵＶ線から
の皮膚及び／又は毛髪の保護を意図した化粧品用組成物
の製造において、該組成物に存在するベンゾトリアゾー
ル官能基を有するシリコン誘導体系の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤を、十分な量でそれだけで溶解させることを
可能にする溶解させる遮蔽系として使用する、少なくと
も１種のケイ皮酸誘導体及び／又は少なくとも１種のサ
リチル酸誘導体の使用にある。
の皮膚及び／又は毛髪の保護を意図した化粧品用組成物
の製造において、該組成物に存在するベンゾトリアゾー
ル官能基を有するシリコン誘導体系の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤を、十分な量でそれだけで溶解させることを
可能にする溶解させる遮蔽系として使用する、少なくと
も１種のケイ皮酸誘導体及び／又は少なくとも１種のサ
リチル酸誘導体の使用にある。
【００１０】本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下
の詳細な記載を読むことで明らかになるであろう。
の詳細な記載を読むことで明らかになるであろう。
【００１１】本発明で使用されるベンゾトリアゾール官
能基を有するシリコン誘導体は、次の式(１)： Ｏ(３-ａ)／２Ｓｉ(Ｒ７)ａ-Ｇ (１) {上式中： − Ｒ７はハロゲン化されていてもよいＣ１-Ｃ１０ア
ルキル基又はフェニル基又はトリメチルシリルオキシ基
を表し、 − ａは０〜３から選択される整数であり、 − 符号Ｇは、次の式(２)：
能基を有するシリコン誘導体は、次の式(１)： Ｏ(３-ａ)／２Ｓｉ(Ｒ７)ａ-Ｇ (１) {上式中： − Ｒ７はハロゲン化されていてもよいＣ１-Ｃ１０ア
ルキル基又はフェニル基又はトリメチルシリルオキシ基
を表し、 − ａは０〜３から選択される整数であり、 − 符号Ｇは、次の式(２)：
【化１１】 ［上式中、 − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ８アル
キル基、ハロゲン及びＣ１-Ｃ４アルコキシ基から選択
され、後者の場合、同じ芳香環上の隣接する２つのＹ基
は、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアル
キリデンジオキシ基を協働して形成し得るものであると
理解され、 − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ に相当する、ケイ素原子に直接結合する一価の基を示
す}の少なくとも１つの単位を含有するベンゾトリアゾ
ール官能基を有するシロキサン又はシランであることが
好ましい。
キル基、ハロゲン及びＣ１-Ｃ４アルコキシ基から選択
され、後者の場合、同じ芳香環上の隣接する２つのＹ基
は、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアル
キリデンジオキシ基を協働して形成し得るものであると
理解され、 − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ に相当する、ケイ素原子に直接結合する一価の基を示
す}の少なくとも１つの単位を含有するベンゾトリアゾ
ール官能基を有するシロキサン又はシランであることが
好ましい。
【００１２】これらの化合物は、特に欧州特許公開第０
３９２８８３号、欧州特許公開第０６６０７０１号、欧
州特許公開第０７０８１０８号、欧州特許公開第０７１
１７７８号及び欧州特許公開第７１１７７９号に記載さ
れている。好ましくは、本発明で使用されるシリコン誘
導体は、特に欧州特許公開第０６６０７０１号に開示さ
れているベンゾトリアゾールシリコーンの一般的ファミ
リーに属するものである。
３９２８８３号、欧州特許公開第０６６０７０１号、欧
州特許公開第０７０８１０８号、欧州特許公開第０７１
１７７８号及び欧州特許公開第７１１７７９号に記載さ
れている。好ましくは、本発明で使用されるシリコン誘
導体は、特に欧州特許公開第０６６０７０１号に開示さ
れているベンゾトリアゾールシリコーンの一般的ファミ
リーに属するものである。
【００１３】本発明の実施に特に適切なベンゾトリアゾ
ールシリコーンのファミリーは、次の式(５)又は(６)：
ールシリコーンのファミリーは、次の式(５)又は(６)：
【化１２】
【化１３】 {上式中、 − Ｒ７は同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ１０
アルキル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル
及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、数基準
で、Ｒ７基の少なくとも８０％はメチルであり； − Ｄは同一でも異なっていてもよく、Ｒ７基及び符号
Ｇから選択され、 − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
あり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｄの少なくとも１つは
Ｇを示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
り、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり、 − 符号Ｇは上述した式(２)に相当するものである｝ に相当する化合物を含むものである。
アルキル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル
及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、数基準
で、Ｒ７基の少なくとも８０％はメチルであり； − Ｄは同一でも異なっていてもよく、Ｒ７基及び符号
Ｇから選択され、 − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
あり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｄの少なくとも１つは
Ｇを示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
り、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり、 − 符号Ｇは上述した式(２)に相当するものである｝ に相当する化合物を含むものである。
【００１４】上述した式(２)から明らかなように、ベン
ゾトリアゾール単位に対する-(Ｘ) ｍ-(ＣＨ２)ｐ-ＣＨ
(Ｚ)-ＣＨ２-の結合は、シリコーン鎖のケイ素原子に対
する前記ベンゾトリアゾール単位の結合を確実にするも
のであるが、これは、本発明において、次の式：
ゾトリアゾール単位に対する-(Ｘ) ｍ-(ＣＨ２)ｐ-ＣＨ
(Ｚ)-ＣＨ２-の結合は、シリコーン鎖のケイ素原子に対
する前記ベンゾトリアゾール単位の結合を確実にするも
のであるが、これは、本発明において、次の式：
【化１４】 に示す、ベンゾトリアゾールの２つの芳香環によって提
供される全ての利用可能な位置で起こり得る。
供される全ての利用可能な位置で起こり得る。
【００１５】この結合は、好ましくは３、４又は５位
(ヒドロキシル官能基を有する芳香環)、又は４'位(トリ
アゾール環に隣接したベンゼン環)で生じるか、さらに
好ましくは３、４又は５位で生じる。本発明の好ましい
実施態様では３位で結合する。同様に、一又は複数の置
換基単位Ｙの結合は、ベンゾトリアゾールの他の任意の
利用可能な位置で生じ得る。しかしながら、この結合
は、好ましくは３、４、４'、５及び／又は６位で生じ
る。本発明の好ましい実施態様においては、単位Ｙは５
位で結合する。
(ヒドロキシル官能基を有する芳香環)、又は４'位(トリ
アゾール環に隣接したベンゼン環)で生じるか、さらに
好ましくは３、４又は５位で生じる。本発明の好ましい
実施態様では３位で結合する。同様に、一又は複数の置
換基単位Ｙの結合は、ベンゾトリアゾールの他の任意の
利用可能な位置で生じ得る。しかしながら、この結合
は、好ましくは３、４、４'、５及び／又は６位で生じ
る。本発明の好ましい実施態様においては、単位Ｙは５
位で結合する。
【００１６】上述した式(５)及び(６)において、アルキ
ル基は直鎖状又は分枝状であってよく、特に、メチル、
エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソ
ブチル、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソアミル、ネオペ
ンチル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、２-
エチルヘキシル及びtert-オクチル基から選択され得
る。本発明の好ましいＲ７アルキル基は、メチル、エチ
ル、プロピル、ｎ-ブチル、ｎ-オクチル及び２-エチル
ヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ７基は、全て
メチル基である。
ル基は直鎖状又は分枝状であってよく、特に、メチル、
エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソ
ブチル、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソアミル、ネオペ
ンチル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、２-
エチルヘキシル及びtert-オクチル基から選択され得
る。本発明の好ましいＲ７アルキル基は、メチル、エチ
ル、プロピル、ｎ-ブチル、ｎ-オクチル及び２-エチル
ヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ７基は、全て
メチル基である。
【００１７】上述した式(５)又は(６)の化合物の中でも
式(５)に相当するもの、すなわち、短い直鎖を含むジオ
ルガノシロキサン類が好ましく使用される。上述した式
(５)の化合物の中でも、Ｄ基が、両方ともＲ７基である
ものが、好ましく使用される。
式(５)に相当するもの、すなわち、短い直鎖を含むジオ
ルガノシロキサン類が好ましく使用される。上述した式
(５)の化合物の中でも、Ｄ基が、両方ともＲ７基である
ものが、好ましく使用される。
【００１８】本発明の範囲内に入る直鎖状のジオルガノ
シロキサン類としては、次の特徴： − ＤはＲ７基であり、 − Ｒ７はアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜１０であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチ
ル、tert-ブチル又はＣ１-Ｃ４アルコキシから選択さ
れ、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０、又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを有する統計
的誘導体(statistical derivatives)又はブロックが定
まった誘導体である。
シロキサン類としては、次の特徴： − ＤはＲ７基であり、 − Ｒ７はアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜１０であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチ
ル、tert-ブチル又はＣ１-Ｃ４アルコキシから選択さ
れ、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０、又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを有する統計
的誘導体(statistical derivatives)又はブロックが定
まった誘導体である。
【００１９】本発明に特に適したベンゾトリアゾールシ
リコーン類のファミリーの一つは、次の一般式(７)：
リコーン類のファミリーの一つは、次の一般式(７)：
【化１５】 ［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｅは、
【化１６】 の二価の基を表す］で定まるものである。
【００２０】本発明の特に好ましい実施態様におけるベ
ンゾトリアゾールシリコーンは、次の式：
ンゾトリアゾールシリコーンは、次の式：
【化１７】 に相当する化合物［以下、本明細書中、化合物(ａ)と称
す］である。
す］である。
【００２１】上述した式(１)、(５)、(６)及び(７)の生
成物を調製するために適した方法は、特に、米国特許第
３２２０９７２号、米国特許第３６９７４７３号、米国
特許第４３４０７０９号、米国特許第４３１６０３３号
及び米国特許第４３２８３４６号、及び欧州特許公開第
０３９２８８３号及び欧州特許公開第０７４２００３号
に開示されている。
成物を調製するために適した方法は、特に、米国特許第
３２２０９７２号、米国特許第３６９７４７３号、米国
特許第４３４０７０９号、米国特許第４３１６０３３号
及び米国特許第４３２８３４６号、及び欧州特許公開第
０３９２８８３号及び欧州特許公開第０７４２００３号
に開示されている。
【００２２】ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコ
ン誘導体は、組成物の全重量に対して０．１〜２０重量
％、好ましくは０．２〜１５重量％の範囲の含有量で、
本発明の組成物中に存在し得る。本発明の本質的な特徴
は、単独で又は混合物で、これらの化合物が、最終組成
物に完全に又は実質的に完全に溶解した形態で提供され
なくてはならないということである。
ン誘導体は、組成物の全重量に対して０．１〜２０重量
％、好ましくは０．２〜１５重量％の範囲の含有量で、
本発明の組成物中に存在し得る。本発明の本質的な特徴
は、単独で又は混合物で、これらの化合物が、最終組成
物に完全に又は実質的に完全に溶解した形態で提供され
なくてはならないということである。
【００２３】本発明で使用可能なケイ皮酸誘導体として
は、４-メトキシケイ皮酸イソペンチル、４-メトキシケ
イ皮酸２-エチルヘキシル、ジイソプロピルケイ皮酸メ
チル、４-メトキシケイ皮酸イソアミル又は４-メトキシ
ケイ皮酸ジエタノールアミンを挙げることができる。
は、４-メトキシケイ皮酸イソペンチル、４-メトキシケ
イ皮酸２-エチルヘキシル、ジイソプロピルケイ皮酸メ
チル、４-メトキシケイ皮酸イソアミル又は４-メトキシ
ケイ皮酸ジエタノールアミンを挙げることができる。
【００２４】上述したケイ皮酸誘導体の中でも、本発明
においては、ジボーダン社(Givaudan)から「パルソール
(Parsol)ＭＣＸ」の商品名で販売されているｐ-メトキ
シケイ皮酸２-エチルヘキシルが特に好ましく使用さ
れ；この遮蔽剤は次の展開式：
においては、ジボーダン社(Givaudan)から「パルソール
(Parsol)ＭＣＸ」の商品名で販売されているｐ-メトキ
シケイ皮酸２-エチルヘキシルが特に好ましく使用さ
れ；この遮蔽剤は次の展開式：
【化１８】 に相当するものである。
【００２５】本発明で使用可能なサリチル酸誘導体とし
ては、サリチル酸ホモメンチル(homomenthyl salicylat
e)、サリチル酸２-エチルヘキシル、サリチル酸トリエ
タノールアミン又はサリチル酸４-イソプロピルベンジ
ルを挙げることができる。
ては、サリチル酸ホモメンチル(homomenthyl salicylat
e)、サリチル酸２-エチルヘキシル、サリチル酸トリエ
タノールアミン又はサリチル酸４-イソプロピルベンジ
ルを挙げることができる。
【００２６】上述したサリチル酸誘導体の中でも、本発
明においては、ホモサレート(homosalate)の名称で知ら
れているサリチル酸ホモメンチル、例えばウィトコ社(W
itco)から「ケメスター(Kemester)ＨＭＳ」の名称で市
販されている製品が特に好ましく使用される。それは次
の式：
明においては、ホモサレート(homosalate)の名称で知ら
れているサリチル酸ホモメンチル、例えばウィトコ社(W
itco)から「ケメスター(Kemester)ＨＭＳ」の名称で市
販されている製品が特に好ましく使用される。それは次
の式：
【化１９】 に相当するものである。
【００２７】上述したサリチル酸誘導体の中でも、本発
明においては、次の式：
明においては、次の式：
【化２０】 に相当する、ＢＡＳＦ社から「ユビノール(Uvinol)Ｏ-
１８」の商品名で販売されているサリチル酸オクチルが
より好ましく使用される。
１８」の商品名で販売されているサリチル酸オクチルが
より好ましく使用される。
【００２８】また、本発明で使用可能なサリチル酸誘導
体としては、次の式(Ｉ)：
体としては、次の式(Ｉ)：
【化２１】 ［上式中、ｍは５、７又は９の値であり、ｎは４、６又
は８の値であり、ｐは０又は１の値であり、ｐが０値で
ある場合に、ｍは５又は７の値であり、ｎは４又は６の
値である］に相当する、分枝状のアルキル鎖を有するサ
リチル酸化合物又はその混合物を挙げることができる。
は８の値であり、ｐは０又は１の値であり、ｐが０値で
ある場合に、ｍは５又は７の値であり、ｎは４又は６の
値である］に相当する、分枝状のアルキル鎖を有するサ
リチル酸化合物又はその混合物を挙げることができる。
【００２９】これらの化合物は、米国特許第５７８３１
７３号において記載され、調製されている。これら式
(Ｉ)の化合物としては、安息香酸２-ブチルオクチル、
安息香酸２-ヘキシルデシル、ヒドロキシ安息香酸２-ブ
チルオクチル又はそれらの混合物、特に安息香酸２-ブ
チルオクチル／安息香酸２-ヘキシルデシルの混合物、
例えばシー・ピー・ホール社(C.P.Hall)から販売されてい
る市販品の「オールスター(Allstar)ＡＢ」、又はヒド
ロキシ安息香酸２-ブチルオクチル、例えばシー・ピー・
ホール社から販売されている市販品の「ホールブライト
(Hallbrite)ＢＨＢ」を挙げることができる。
７３号において記載され、調製されている。これら式
(Ｉ)の化合物としては、安息香酸２-ブチルオクチル、
安息香酸２-ヘキシルデシル、ヒドロキシ安息香酸２-ブ
チルオクチル又はそれらの混合物、特に安息香酸２-ブ
チルオクチル／安息香酸２-ヘキシルデシルの混合物、
例えばシー・ピー・ホール社(C.P.Hall)から販売されてい
る市販品の「オールスター(Allstar)ＡＢ」、又はヒド
ロキシ安息香酸２-ブチルオクチル、例えばシー・ピー・
ホール社から販売されている市販品の「ホールブライト
(Hallbrite)ＢＨＢ」を挙げることができる。
【００３０】本発明のケイ皮酸誘導体又は誘導体類及び
／又はサリチル酸誘導体又は誘導体類は、組成物の全重
量に対して０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜１
５重量％の範囲の含有量で存在する。
／又はサリチル酸誘導体又は誘導体類は、組成物の全重
量に対して０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜１
５重量％の範囲の含有量で存在する。
【００３１】本発明の組成物の本質的な特徴として、こ
れらの化合物は、単独又は混合物として、組成物中のベ
ンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体遮蔽剤
の全て、又は実質的にその全てを溶解させるのに十分な
量で使用されなくてはならない。本発明の固体状の遮蔽
剤を、確実完全に安定して溶解させるための溶媒の最小
量は、これらの溶媒における該遮蔽剤の溶解度パラメー
タを調査することにより常套的に決定することができ
る。
れらの化合物は、単独又は混合物として、組成物中のベ
ンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体遮蔽剤
の全て、又は実質的にその全てを溶解させるのに十分な
量で使用されなくてはならない。本発明の固体状の遮蔽
剤を、確実完全に安定して溶解させるための溶媒の最小
量は、これらの溶媒における該遮蔽剤の溶解度パラメー
タを調査することにより常套的に決定することができ
る。
【００３２】例えば、室温において、上述した化合物
(ａ)に相当するベンゾトリアゾールシリコーンは、ｐ-
メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシル (シンナマート系
の溶媒遮蔽剤)に５０重量％の割合で溶解し、サリチル
酸オクチル(サリチラート系の溶媒遮蔽剤)に６０重量％
の割合で溶解する。一般的に、ベンゾトリアゾール官能
基を有するシリコン誘導体と、シンナマート及び／又は
サリチラート化合物の濃度は、最終組成物の日光保護フ
ァクターが少なくとも２になるように選択される。
(ａ)に相当するベンゾトリアゾールシリコーンは、ｐ-
メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシル (シンナマート系
の溶媒遮蔽剤)に５０重量％の割合で溶解し、サリチル
酸オクチル(サリチラート系の溶媒遮蔽剤)に６０重量％
の割合で溶解する。一般的に、ベンゾトリアゾール官能
基を有するシリコン誘導体と、シンナマート及び／又は
サリチラート化合物の濃度は、最終組成物の日光保護フ
ァクターが少なくとも２になるように選択される。
【００３３】本発明の組成物の特に有利な特徴は、上述
したケイ皮酸誘導体及び／又はサリチル酸誘導体以外
の、ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコーン誘導
体用の溶解剤を含有しないか又は実質的に含有しないこ
とである。本発明において、一方の化合物が他方の化合
物に対し、約１重量％未満の溶解度しか示さない場合
は、該最初の化合物は、他方の化合物に対する溶解性を
有していないとされる。
したケイ皮酸誘導体及び／又はサリチル酸誘導体以外
の、ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコーン誘導
体用の溶解剤を含有しないか又は実質的に含有しないこ
とである。本発明において、一方の化合物が他方の化合
物に対し、約１重量％未満の溶解度しか示さない場合
は、該最初の化合物は、他方の化合物に対する溶解性を
有していないとされる。
【００３４】さらに、本発明の好ましい実施態様におい
て、種々の遮蔽系が存在する化粧品的に許容可能なビヒ
クルは、水中油型エマルションである。
て、種々の遮蔽系が存在する化粧品的に許容可能なビヒ
クルは、水中油型エマルションである。
【００３５】もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物
は、上述した全ての遮蔽剤以外にも、ＵＶ-Ａ及び／又
はＵＶ-Ｂに対して活性のある一又は複数の付加的な親
水性又は親油性のサンスクリーン剤(吸収剤)を含有して
もよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ショウノウ
誘導体類、トリアジン誘導体類、ベンゾフェノン誘導体
類、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β-ジフェニルアク
リラート誘導体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、又は国際
特許出願第９３／０４６６５号に開示されているシリコ
ーン遮蔽剤及びポリマー遮蔽剤から選択することができ
る。有機遮蔽剤の他の例は、欧州特許公開第０４８７４
０４号に記載されている。
は、上述した全ての遮蔽剤以外にも、ＵＶ-Ａ及び／又
はＵＶ-Ｂに対して活性のある一又は複数の付加的な親
水性又は親油性のサンスクリーン剤(吸収剤)を含有して
もよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ショウノウ
誘導体類、トリアジン誘導体類、ベンゾフェノン誘導体
類、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β-ジフェニルアク
リラート誘導体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、又は国際
特許出願第９３／０４６６５号に開示されているシリコ
ーン遮蔽剤及びポリマー遮蔽剤から選択することができ
る。有機遮蔽剤の他の例は、欧州特許公開第０４８７４
０４号に記載されている。
【００３６】また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(Ｄ
ＨＡ)をさらに含有してもよい。
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(Ｄ
ＨＡ)をさらに含有してもよい。
【００３７】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料類(一次粒子
の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは
１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、ＵＶ光保護
剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、
又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔
料類をさらに含有してもよい。また、従来のコーティン
グ剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウム
である。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナ
ノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７７
２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示されて
いるものがある。
は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料類(一次粒子
の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは
１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、ＵＶ光保護
剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、
又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔
料類をさらに含有してもよい。また、従来のコーティン
グ剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウム
である。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナ
ノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７７
２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示されて
いるものがある。
【００３８】また、本発明の組成物は、特に、脂肪物
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント剤、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性化又は酸性化
剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日
光組成物の製造に通常使用されている任意の他の成分か
ら選択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに
含有してもよい。
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント剤、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性化又は酸性化
剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日
光組成物の製造に通常使用されている任意の他の成分か
ら選択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに
含有してもよい。
【００３９】脂肪物質類は油又はロウ又はそれらの混合
物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール
及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植
物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流
動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、イ
ソパラフィン類、ポリ-α-オレフィン類、フッ化及び過
フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウ
は、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロウ、植物性
ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択することがで
きる。
物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール
及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植
物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流
動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、イ
ソパラフィン類、ポリ-α-オレフィン類、フッ化及び過
フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウ
は、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロウ、植物性
ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択することがで
きる。
【００４０】有機溶媒としては、低級アルコール類とポ
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
【００４１】もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽
剤の組合せにより得られる固有の有利な特性、特に日光
保護ファクターが、考慮される添加において、全く又は
実質的に悪影響を受けないように留意して、これら任意
の付加的な化合物及び／又はそれらの量を選択するであ
ろう。
剤の組合せにより得られる固有の有利な特性、特に日光
保護ファクターが、考慮される添加において、全く又は
実質的に悪影響を受けないように留意して、これら任意
の付加的な化合物及び／又はそれらの量を選択するであ
ろう。
【００４２】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図したものにより、調製されうる。
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図したものにより、調製されうる。
【００４３】この組成物は、特に単一又は複合エマルシ
ョン(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)、例
えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダ
ー又は棒状固形物の形態で提供することもでき、エアゾ
ールとして包装されてもよく、又はフォーム又はスプレ
ーの形態で提供することもできる。
ョン(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)、例
えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダ
ー又は棒状固形物の形態で提供することもでき、エアゾ
ールとして包装されてもよく、又はフォーム又はスプレ
ーの形態で提供することもできる。
【００４４】エマルションに関連したものである場合、
このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム(Ban
gham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Wa
tkins)の、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第
２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］に
より調製される非イオン性の小胞体分散液を含有しても
よい。
このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム(Ban
gham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Wa
tkins)の、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第
２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］に
より調製される非イオン性の小胞体分散液を含有しても
よい。
【００４５】本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための保護用組成物として使用す
ることができる。
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための保護用組成物として使用す
ることができる。
【００４６】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した
形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルシ
ョン、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えば
クリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、
棒状固体、棒状体、エアゾールフォーム又はスプレーの
形態で提供することができる。
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した
形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルシ
ョン、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えば
クリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、
棒状固体、棒状体、エアゾールフォーム又はスプレーの
形態で提供することができる。
【００４７】本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用
に使用される場合、シャンプー、ローション、ゲル、エ
マルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態として
提供することができ、また、例えばシャンプーの前又は
後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又
は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用されて
すすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用
のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用
のローション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪
のストレート化、染色又は脱色用の毛髪のための組成物
の形態で提供することができる。
に使用される場合、シャンプー、ローション、ゲル、エ
マルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態として
提供することができ、また、例えばシャンプーの前又は
後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又
は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用されて
すすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用
のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用
のローション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪
のストレート化、染色又は脱色用の毛髪のための組成物
の形態で提供することができる。
【００４８】組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメーク
アップ用製品、例えば、皮膚のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、口紅、アイシャドウ、フェイス
パウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される
場合、それは、無水又は水性、固体状又はペースト状の
形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、
非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液で提供することが
できる。
アップ用製品、例えば、皮膚のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、口紅、アイシャドウ、フェイス
パウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される
場合、それは、無水又は水性、固体状又はペースト状の
形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、
非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液で提供することが
できる。
【００４９】指針として、水中油型エマルション型のビ
ヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
ヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００５０】本明細書の最初に示したように、本発明の
他の主題は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮膚又
は毛髪に適用することからなる、ＵＶ線の影響からそれ
らを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方
法にある。
他の主題は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮膚又
は毛髪に適用することからなる、ＵＶ線の影響からそれ
らを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方
法にある。
【００５１】
【実施例】次に本発明の実施例を例証するが、本発明の
範囲を限定するものではない。 実施例１：抗日光用クリーム(油／水エマルション) − 化合物(ａ)に相当するベンゾトリアゾー ルシリコーン ５ｇ − ケイ皮酸２-エチルヘキシル(パルソールＭ ＣＸ) １０ｇ − 乳化剤［Arlacel(アルラセル)１６５］ ２ｇ − ステアリン酸 ２．５ｇ − 防腐剤 適量 − ステアリルアルコール ０．５ｇ − トリエタノールアミン ０．５ｇ − 保湿剤 ８ｇ − 防腐剤 適量 − 金属イオン封鎖剤 ０．１ｇ − アクリル酸増粘ポリマー［ペムレン(Pemulen) ＴＲ１］ ０．２２ｇ − ポリジメチルシロキサン(ＤＣ２４５フルイド) ２ｇ − トリエタノールアミン ０．２２ｇ − 精製水 全体を１００ｇにする量
範囲を限定するものではない。 実施例１：抗日光用クリーム(油／水エマルション) − 化合物(ａ)に相当するベンゾトリアゾー ルシリコーン ５ｇ − ケイ皮酸２-エチルヘキシル(パルソールＭ ＣＸ) １０ｇ − 乳化剤［Arlacel(アルラセル)１６５］ ２ｇ − ステアリン酸 ２．５ｇ − 防腐剤 適量 − ステアリルアルコール ０．５ｇ − トリエタノールアミン ０．５ｇ − 保湿剤 ８ｇ − 防腐剤 適量 − 金属イオン封鎖剤 ０．１ｇ − アクリル酸増粘ポリマー［ペムレン(Pemulen) ＴＲ１］ ０．２２ｇ − ポリジメチルシロキサン(ＤＣ２４５フルイド) ２ｇ − トリエタノールアミン ０．２２ｇ − 精製水 全体を１００ｇにする量
【００５２】上述したエマルションを、脂肪相に遮蔽剤
を溶解させ、ついでこの脂肪相に乳化剤を添加し、約８
０℃にし、最後に素早く攪拌しながら、予め同じ温度に
加熱しておいた水を添加することにより調製した。
を溶解させ、ついでこの脂肪相に乳化剤を添加し、約８
０℃にし、最後に素早く攪拌しながら、予め同じ温度に
加熱しておいた水を添加することにより調製した。
【００５３】 実施例２ − 化合物(ａ)に相当するベンゾトリアゾー ルシリコーン ６ｇ − サリチル酸オクチル １０ｇ − 乳化剤(アルラセル１６５) ２ｇ − ステアリン酸 ２．５ｇ − 防腐剤 適量 − ステアリルアルコール ０．５ｇ − トリエタノールアミン ０．５ｇ − 保湿剤 ８ｇ − 防腐剤 適量 − 金属イオン封鎖剤 ０．１ｇ − アクリル酸増粘ポリマー(ペムレンＴＲ１) ０．２２ｇ − ポリジメチルシロキサン(ＤＣ２４５フルイド) ２ｇ − トリエタノールアミン ０．２２ｇ − 精製水 全体を１００ｇにする量
【００５４】上述したエマルションを、脂肪相に遮蔽剤
を溶解させ、ついでこの脂肪相に乳化剤を添加し、約８
０℃にし、最後に素早く攪拌しながら、予め同じ温度に
加熱しておいた水を添加することにより調製した。
を溶解させ、ついでこの脂肪相に乳化剤を添加し、約８
０℃にし、最後に素早く攪拌しながら、予め同じ温度に
加熱しておいた水を添加することにより調製した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 カリーン ドゥシャバンヌ フランス国 45000 オルレアン，リュ ドゥ フォーブルグ バニエ 237
Claims (28)
- 【請求項１】 化粧品的に許容可能なビヒクルに： (ｉ)ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種
のシリコン誘導体からなる溶解される遮蔽系と； (ｉｉ)少なくとも１種のケイ皮酸誘導体及び／又は少な
くとも１種のサリチル酸誘導体からなる溶解させる遮蔽
系とを含有してなり； 前記溶解させる遮蔽系が、それだけで、前記溶解される
遮蔽系の全体を溶解させるのに十分な量で存在している
ことを特徴とする、皮膚及び／又は毛髪を光保護するた
めの局所使用用化粧品組成物。 - 【請求項２】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
コン誘導体が、次の式(１)： Ｏ(３-ａ)／２Ｓｉ(Ｒ７)ａ-Ｇ (１) {上式中： − Ｒ７はハロゲン化されていてもよいＣ１-Ｃ１０ア
ルキル基又はフェニル基又はトリメチルシリルオキシ基
を表し、 − ａは０〜３から選択される整数であり、 − 符号Ｇは、次の式(２)： 【化１】 ［上式中、 − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ８アル
キル基、ハロゲン及びＣ１-Ｃ４アルコキシ基から選択
され、後者の場合、同じ芳香環上の隣接する２つのＹ基
は、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアル
キリデンジオキシ基を協働して形成し得るものであると
理解され、 − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ に相当する、ケイ素原子に直接結合する一価の基を示
す}の少なくとも１つの単位を含有するベンゾトリアゾ
ール官能基を有するポリオルガノシロキサン又はシラン
から選択されることを特徴とする請求項１に記載の組成
物。 - 【請求項３】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
コン誘導体が、次の式(５)又は(６)： 【化２】 【化３】 {上式中、 − Ｒ７は同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ１０
アルキル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル
及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、数基準
で、Ｒ７基の少なくとも８０％はメチルであり； − Ｄは同一でも異なっていてもよく、Ｒ７基及び符号
Ｇの基から選択され、 − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
あり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｄの少なくとも１つは
Ｇを示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
り、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり、 − 符号Ｇは前記式(２)に相当する｝ に相当するものであることを特徴とする請求項１又は２
に記載の組成物。 - 【請求項４】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
コン誘導体が、次の式(７)： 【化４】 ［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、Ｅは、 【化５】 の二価の基を表す］に相当するものであることを特徴と
する請求項３に記載の組成物。 - 【請求項５】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
コン誘導体が、次の式： 【化６】 に相当するものであることを特徴とする請求項４に記載
の組成物。 - 【請求項６】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリ
コン誘導体が、組成物の全重量に対して０．１〜２０重
量％、好ましくは０．２〜１５重量％の範囲の含有量で
存在していることを特徴とする請求項１ないし５のいず
れか１項に記載の組成物。 - 【請求項７】 ケイ皮酸誘導体が、４-メトキシケイ皮
酸イソペンチル、４-メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシ
ル、ジイソプロピルケイ皮酸メチル、４-メトキシケイ
皮酸イソアミル又は４-メトキシケイ皮酸ジエタノール
アミンからなる群から選択されることを特徴とする請求
項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項８】 ケイ皮酸誘導体が次の展開式： 【化７】 に相当するｐ-メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシルであ
ることを特徴とする請求項７に記載の組成物。 - 【請求項９】 サリチル酸誘導体が、サリチル酸ホモメ
ンチル、サリチル酸２-エチルヘキシル、サリチル酸ト
リエタノールアミン又はサリチル酸４-イソプロピルベ
ンジルからなる群から選択されることを特徴とする請求
項１ないし８のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１０】 サリチル酸誘導体が、次の式： 【化８】 のサリチル酸ホモメンチルであることを特徴とする請求
項９に記載の組成物。 - 【請求項１１】 サリチル酸誘導体が、次の式： 【化９】 に相当するサリチル酸オクチルであることを特徴とす
る、請求項９に記載の組成物。 - 【請求項１２】 サリチル酸誘導体が、次の式(Ｉ)： 【化１０】 ［上式中、ｍは５、７又は９の値であり、ｎは４、６又
は８の値であり、ｐは０又は１の値であり、ｐが０値で
ある場合に、ｍは５又は７の値であり、ｎは４又は６の
値である］に相当する、分枝アルキル鎖を有するサリチ
ル酸化合物又はその混合物から選択されることを特徴と
する請求項１ないし８のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１３】 式(Ｉ)のサリチル酸誘導体が、安息香
酸２-ブチルオクチル、安息香酸２-ヘキシルデシル、ヒ
ドロキシ安息香酸２-ブチルオクチル又はそれらの混合
物から選択されることを特徴とする請求項１２に記載の
組成物。 - 【請求項１４】 ケイ皮酸誘導体及び／又はサリチル酸
誘導体が、組成物の全重量に対して０．１〜２０重量
％、好ましくは０．２〜１５重量％の範囲の含有量で存
在していることを特徴とする請求項１ないし１３のいず
れか１項に記載の組成物。 - 【請求項１５】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシ
リコン誘導体とシンナマート及び／又はサリチラート化
合物の濃度が、組成物の日光保護ファクターが少なくと
も２になるように選択されることを特徴とする請求項１
ないし１４のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１６】 前記溶解させる遮蔽系以外の、溶解さ
れる遮蔽系を溶解する系を含有しないか又は実質的に含
有しないことを特徴とする請求項１ないし１５のいずれ
か１項に記載の組成物。 - 【請求項１７】 前記化粧品的に許容可能なビヒクル
が、水中油型エマルションの形態で提供されることを特
徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の組
成物。 - 【請求項１８】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂに対して活
性のある一又は複数の付加的な親水性又は親油性の有機
遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１
ないし１７のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１９】 前記付加的な有機遮蔽剤が、ショウノ
ウ誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体
類、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β-ジフェニルアク
リラート誘導体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、ベンゾト
リアゾール官能基を有するシリコン誘導体以外のシリコ
ーン遮蔽剤及びポリマー遮蔽剤から選択されることを特
徴とする請求項１８に記載の組成物。 - 【請求項２０】 付加的な光保護剤として、ＵＶ線を散
乱及び／又は反射により物理的に遮蔽可能な、被覆又は
非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有す
ることを特徴とする請求項１ないし１９のいずれか１項
に記載の組成物。 - 【請求項２１】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウ
ム、酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択される
ことを特徴とする請求項２０に記載の組成物。 - 【請求項２２】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
及び／又は褐色にする少なくとも１種の薬剤をさらに含
有していることを特徴とする請求項１ないし２１のいず
れか１項に記載の組成物。 - 【請求項２３】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟
剤、酸化防止剤、乳白剤、安定剤、エモリエント剤、ヒ
ドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐
剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマ
ー類、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、又は染料から選
択される少なくとも１種の化粧品用アジュバントをさら
に含有していることを特徴とする請求項１ないし２２の
いずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２４】 非イオン性の小胞体分散液、水中油型
エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲ
ル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、棒状固
体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるヒトの皮
膚の保護用組成物または抗日光組成物であることを特徴
とする請求項１ないし２３のいずれか１項に記載の組成
物。 - 【請求項２５】 分散液、懸濁液又はエマルションで、
ペースト状又は固体状、水性又は無水の形態で提供さ
れ、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物である
ことを特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に
記載の組成物。 - 【請求項２６】 シャンプー、ローション、ゲル、エマ
ルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供さ
れ、ＵＶ線からの毛髪の保護を意図したものであること
を特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に記載
の組成物。 - 【請求項２７】 太陽光線等のＵＶ線から皮膚及び／又
は毛髪を保護することを意図した化粧品組成物の製造に
おける、請求項１ないし２６のいずれか１項に記載の組
成物の使用。 - 【請求項２８】 ＵＶ線から皮膚及び／又は毛髪を保護
することを意図した化粧品組成物の製造において、請求
項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物に存在する
ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体系の
少なくとも１つのＵＶ遮蔽剤を、十分な量でそれだけで
溶解させることを可能にする溶解させる遮蔽系として使
用する、請求項７ないし１３のいずれか１項に記載の組
成物に使用される少なくとも１種のケイ皮酸誘導体及び
／又は少なくとも１種のサリチル酸誘導体の使用。
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