JP2000111265A - Ceramic calcinating roller and manufacture of ceramic sintered structure using the same - Google Patents
Ceramic calcinating roller and manufacture of ceramic sintered structure using the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミック焼成用
ローラ及びそれを用いたセラミック焼結体の製造方法に
関する。The present invention relates to a ceramic firing roller and a method for manufacturing a ceramic sintered body using the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来よりスパークプラグ用絶縁体を始め
とするセラミック焼成体は、プレス成形や射出成形等に
よりセラミック成形体を作り、これを焼成することによ
り製造されている。セラミック成形体は、セラミック製
の焼成用治具（例えば容器状の鞘や板状のセッター）に
装着され、該治具とともに焼成炉中にて加熱することに
より焼成される。近年、このような焼成炉として、上記
焼成用治具をセラミック焼成用ローラにより下側から支
持しつつ該ローラを回転させることにより、前記被焼成
物等を前記セラミック焼成炉内にて搬送しながら焼成を
行う、いわゆるローラハースキルンが使用されている。
例えば、スパークプラグ用のアルミナ系絶縁体の場合、
焼成温度が１３００℃以上と高く、常時そのような高温
にさらされるセラミック焼成用ローラに対しても相応の
高温強度と耐久性に優れたものが求められている。2. Description of the Related Art Conventionally, a ceramic fired body such as an insulator for a spark plug is manufactured by forming a ceramic molded body by press molding, injection molding, or the like, and firing the molded body. The ceramic molded body is mounted on a ceramic firing jig (for example, a container-shaped sheath or a plate-shaped setter), and fired by heating in a firing furnace together with the jig. In recent years, as such a firing furnace, by rotating the roller while supporting the firing jig from below with a ceramic firing roller, the object to be fired and the like are conveyed in the ceramic firing furnace. A so-called roller hearth kiln for firing is used.
For example, in the case of an alumina-based insulator for a spark plug,
The firing temperature is as high as 1300 ° C. or higher, and a ceramic firing roller which is constantly exposed to such a high temperature is required to have a suitable high-temperature strength and excellent durability.
【０００３】上記のようなセラミック焼成用ローラとし
ては、例えばアルミナを主体とするものが多く用いられ
ているが、アルミナ製のローラは、１３００℃以上で使
用される場合において、被焼成物の重量が大きいと強度
不足による破損等のトラブルが生じやすい欠点があっ
た。そこで、このようなアルミナ製ローラに代えて近
年、高温強度や耐酸化性に優れた炭化珪素製のローラが
使用されるようになってきている。炭化珪素は、大気中
にて長時間高温にさらされると表層部が酸化されて、二
酸化珪素の薄い被膜が形成される。この二酸化珪素の被
膜は緻密であり、これが内部の炭化珪素を保護する一種
の不働態として機能することから、耐酸化性が高められ
るといわれている。[0003] As the above-mentioned rollers for firing ceramics, for example, those mainly composed of alumina are often used. However, when the rollers made of alumina are used at 1300 ° C or more, the weight of the material to be fired is reduced. Is large, there is a disadvantage that troubles such as breakage due to insufficient strength are apt to occur. Therefore, in recent years, a roller made of silicon carbide having excellent high-temperature strength and oxidation resistance has been used in place of such an alumina roller. When silicon carbide is exposed to a high temperature for a long time in the atmosphere, the surface layer is oxidized, and a thin film of silicon dioxide is formed. It is said that the silicon dioxide film is dense and functions as a kind of passive state for protecting silicon carbide inside, so that oxidation resistance is improved.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記した鞘
やセッター等の焼成用治具の材質としては一般に、アル
ミナ（コランダム）やムライト質を主体とするセラミッ
クが使用されているが、これら材質には様々な要因によ
りＮａやＫといったアルカリ金属元素成分を含んでいる
ことが多い。図１７に示すように、このようなアルカリ
金属元素成分を含有する焼成用治具１００が、上記のよ
うな炭化珪素ローラ１０１と高温下で接すると、炭化珪
素ローラ１０１の表面の二酸化珪素の被膜と治具１００
側のアルカリ金属元素成分とが反応して、融点の低いア
ルカリケイ酸ガラス質１０２が形成されることがある。By the way, as a material of the above-mentioned firing jig such as a sheath or a setter, alumina (corundum) or ceramic mainly composed of mullite is generally used. Often contains alkali metal element components such as Na and K due to various factors. As shown in FIG. 17, when the firing jig 100 containing such an alkali metal element component comes in contact with the above-described silicon carbide roller 101 at a high temperature, a silicon dioxide film on the surface of the silicon carbide roller 101 is formed. And jig 100
Reaction with the alkali metal element component on the side may form the alkali silicate glassy material 102 having a low melting point.
【０００５】このようなガラス質１０２が形成される
と、ローラの回転に伴い、軟化したガラス質１０２が焼
成用治具側に付着して持ち去られ、ローラ表面が抉られ
るように侵食される。侵食されたローラ表面には炭化珪
素の素地が露出するが、これはすぐに高温酸化されて新
たな二酸化珪素被膜が形成される。そして、その二酸化
珪素被膜が、新たな焼成用治具１００との接触により反
応してガラス質１０２となり持ち去られる。このような
ことが繰り返されて炭化珪素ローラ１０１の侵食が進行
し、やがてはローラ破断等のトラブルにつながる問題が
ある。When such a vitreous material 102 is formed, the softened vitreous material 102 adheres to the firing jig side with the rotation of the roller and is carried away, so that the roller surface is eroded so as to gouge. Silicon carbide substrate is exposed on the eroded roller surface, which is quickly oxidized at high temperature to form a new silicon dioxide film. Then, the silicon dioxide film reacts upon contact with a new firing jig 100 to become vitreous 102 and is carried away. There is a problem that the above is repeated and the erosion of the silicon carbide roller 101 progresses, which eventually leads to troubles such as roller breakage.
【０００６】また、破断に至らずともローラの表面には
侵食により凹凸が生じ、焼成用治具１００側にも反応に
より生成したガラス質が付着する。その結果、ローラ表
面あるいは治具底面の平滑性が失われ、治具（すなわち
被焼成物）の搬送にがたつきが生じて、安定した操業が
不能になることもある。Even if the roller does not break, the surface of the roller becomes uneven due to erosion, and glass produced by the reaction adheres to the firing jig 100 side. As a result, the smoothness of the roller surface or the jig bottom surface is lost, and the jig (that is, the object to be fired) is rattled, so that stable operation may not be possible.
【０００７】本発明の課題は、例えばアルカリ金属元素
成分を含んだ被焼成物あるいは被焼成物を保持する治具
と高温で接触した場合でも、ローラ面に侵食が生じにく
く、ひいては長寿命でローラ面の平滑性も安定に維持す
ることができるセラミック焼成用ローラと、それを用い
たセラミック焼結体の製造方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a roller which is hardly corroded even when it comes into contact with an object containing an alkali metal element or a jig for holding the object at a high temperature. An object of the present invention is to provide a ceramic firing roller capable of stably maintaining surface smoothness, and a method for manufacturing a ceramic sintered body using the same.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段及び作用・効果】本発明
は、セラミック焼成炉内に配置され、被焼成物又は被焼
成物の保持体（以下、両者を総称して被焼成物等とい
う）を下側から支持しつつ回転することにより、被焼成
物等をセラミック焼成炉内にて搬送するためのセラミッ
ク焼成用ローラにおいて、上記課題を解決するために、
カチオン成分主体が珪素であるセラミック製のローラ本
体の外周面を、珪素の含有率が０．１重量％未満である
セラミックからなる反応抑制セラミック層により、少な
くとも部分的に被覆したことを特徴とする。Means for Solving the Problems and Action / Effect The present invention relates to an object to be fired or a holder for the object to be fired (hereinafter, both of them are collectively referred to as an object to be fired) arranged in a ceramic firing furnace. By rotating while supporting from the lower side, in a ceramic firing roller for transporting an object to be fired in a ceramic firing furnace, in order to solve the above problems,
An outer peripheral surface of a ceramic roller body in which the cation component is mainly silicon is at least partially covered with a reaction-suppressing ceramic layer made of ceramic having a silicon content of less than 0.1% by weight. .
【０００９】上記セラミック焼成用ローラにおいては、
セラミック製のローラ本体の外周面を、珪素成分の含有
率が０．１重量％未満である反応抑制セラミック層によ
り、少なくとも部分的に被覆する構成とした。これによ
り、例えばアルカリ金属元素成分を含んだ治具により被
焼成物を保持して焼成を行う場合でも、治具と接触する
ローラ外周面を覆う反応抑制セラミック層が珪素成分を
ほとんど含有しないため、治具側のアルカリ金属と珪素
成分との反応によるアルカリケイ酸ガラス質の形成が効
果的に防止ないし抑制される。その結果、ローラ外周面
に侵食が生じにくくなり、ひいては長寿命でローラ面の
平滑性も安定に維持できるセラミック焼成ローラが実現
される。In the above ceramic firing roller,
The outer peripheral surface of the ceramic roller body was at least partially covered with a reaction-suppressing ceramic layer having a silicon component content of less than 0.1% by weight. Thereby, for example, even when performing firing while holding the object to be fired by a jig containing an alkali metal element component, since the reaction suppression ceramic layer covering the outer peripheral surface of the roller contacting the jig contains almost no silicon component, The formation of alkali silicate glass by the reaction between the alkali metal and the silicon component on the jig side is effectively prevented or suppressed. As a result, erosion hardly occurs on the outer peripheral surface of the roller, and as a result, a fired ceramic roller that has a long life and can maintain the smoothness of the roller surface stably is realized.
【００１０】反応抑制セラミック層中の珪素成分の含有
量が０．１重量％以上になると、アルカリケイ酸ガラス
質の形成抑制効果が不十分となり、ローラ外周面に侵食
が生じやすくなる。なお、ガラス質の形成抑制の観点か
らは、反応抑制セラミック層は、珪素成分をなるべく含
有しないこと、望ましくは実質的に含有しないのがよ
い。When the content of the silicon component in the reaction-suppressing ceramic layer is 0.1% by weight or more, the effect of suppressing the formation of alkali silicate glass becomes insufficient, and the outer peripheral surface of the roller tends to be eroded. From the viewpoint of suppressing the formation of glassy material, the reaction-suppressing ceramic layer should contain as little silicon component as possible, and preferably do not substantially contain silicon component.
【００１１】また、本発明のセラミック焼結体の製造方
法は、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属元素成分を含有する被
焼成物又は被焼成物の保持体（以下、両者を総称して被
焼成物等という）を、焼成炉内にて上記本発明のセラミ
ック焼成用ローラにより下側から支持しつつ、該セラミ
ック焼成用ローラを回転させることにより、被焼成物等
をセラミック焼成炉内にて搬送しながら加熱して被焼成
物を焼成し、セラミック焼結体を得ることを特徴とす
る。すなわち、上記セラミック焼成用ローラを用いてセ
ラミック成形体の焼成を行うことにより、被焼成物等
（例えば治具；以下、治具等ともいう）側にアルカリ金
属元素成分が含有されていてもガラス質の形成が抑制さ
れ、ローラ侵食等の不具合が生じにくくなる。その結
果、ローラの寿命が延び、その更新費用も安上がりで済
む。Further, the method for producing a ceramic sintered body according to the present invention is directed to a method for manufacturing a fired object containing an alkali metal element such as Na or K or a holder for the fired object (hereinafter, both are collectively referred to as the fired material). Are supported from below by the ceramic firing roller of the present invention in the firing furnace, and the object to be fired is conveyed in the ceramic firing furnace by rotating the ceramic firing roller. The object to be fired is fired by heating while heating to obtain a ceramic sintered body. That is, by firing the ceramic molded body using the ceramic firing roller, even if the object to be fired (for example, a jig; hereinafter, also referred to as a jig or the like) contains an alkali metal element component, the glass is fired. Quality formation is suppressed, and problems such as roller erosion are less likely to occur. As a result, the life of the roller is extended, and the cost of renewing the roller is reduced.
【００１２】セラミック成形体は、例えばスパークプラ
グ用絶縁体のアルミナ系セラミック成形体とすることが
でき、セラミック焼結体はスパークプラグ用アルミナ系
絶縁体とすることができる。アルミナ系絶縁体は、焼成
温度が１３００〜１７００℃と高いので、治具等にアル
カリ金属元素成分が含有されていると、ローラとの間の
反応が問題になりやすい。従って、これに本発明を適用
することは、ローラ寿命向上の上での波及効果が特に大
きいといえる。The ceramic molded body may be, for example, an alumina-based ceramic insulator for a spark plug insulator, and the ceramic sintered body may be an alumina-based insulator for a spark plug. Since the alumina-based insulator has a high firing temperature of 1300 to 1700 ° C., if the jig or the like contains an alkali metal element component, the reaction with the roller tends to be a problem. Therefore, it can be said that applying the present invention to this has a particularly great ripple effect on the life of the roller.
【００１３】この場合、ローラ本体は、炭化珪素を主体
に構成することが、ローラの高温強度を確保する上で望
ましい。この場合、ローラ本体が珪素成分を多量に含有
するため、上記反応抑制セラミック層の形成によるガラ
ス質形成抑制効果、ひいてはローラの侵食抑制効果が特
に顕著に達成され、高強度で耐久性にも優れたセラミッ
ク焼成用ローラが実現される。なお、ローラ本体の高温
強度を十分に確保するためには、その構成セラミック中
の炭化珪素成分の含有量を８０〜９９重量％、望ましく
は９０〜９９重量％とするのがよい。In this case, it is desirable that the roller body is mainly composed of silicon carbide in order to ensure the high-temperature strength of the roller. In this case, since the roller body contains a large amount of the silicon component, the effect of suppressing the formation of glass by the formation of the reaction-suppressing ceramic layer and the effect of suppressing the erosion of the roller are particularly remarkably achieved, and the strength is excellent and the durability is excellent. Thus, a ceramic firing roller is realized. In order to sufficiently secure the high-temperature strength of the roller body, the content of the silicon carbide component in the constituent ceramic is preferably set to 80 to 99% by weight, and more preferably 90 to 99% by weight.
【００１４】反応抑制セラミック層は、融点が１６００
℃以上の酸化物で構成することが、例えばアルミナ系焼
結体等を焼成したりする際において、該層の高温耐久性
を確保する上で望ましい。このような反応抑制セラミッ
ク層の材質としては、具体的に、金属元素成分がＡｌ、
Ｚｒ、Ｍｇ及びＴｉから選ばれる１種又は２種以上より
実質的になる酸化物を９５重量％以上含有するものを採
用することができる。アルカリ金属元素成分との反応性
が低い該酸化物の含有量を９５重量％以上とすること
で、前記したアルカリケイ酸ガラス質の形成が極めて効
果的に抑制され、ローラの寿命を格段に向上させること
ができる。The reaction-suppressing ceramic layer has a melting point of 1600.
It is desirable that the layer be composed of an oxide having a temperature of at least 100 ° C., for example, in firing an alumina-based sintered body or the like, in order to ensure high-temperature durability of the layer. As a material of such a reaction suppression ceramic layer, specifically, a metal element component is Al,
An oxide containing at least 95% by weight of an oxide substantially consisting of one or more selected from Zr, Mg and Ti can be employed. By setting the content of the oxide having low reactivity with the alkali metal element component to 95% by weight or more, the formation of the alkali silicate glass is extremely effectively suppressed, and the life of the roller is significantly improved. Can be done.
【００１５】また、反応抑制セラミック層は、具体的に
は、酸化アルミニウム（例えばコランダム）、酸化マグ
ネシウム、マグネシアスピネル（例えばＡｌ２Ｏ３−Ｍ
ｇＯスピネル）及びチタン酸アルミニウムから選ばれる
１種又は２種以上を主体に構成することができる。これ
ら材質は、アルカリ金属元素成分に対して特に反応不活
性であり、また高温強度にも優れているので、本発明に
特に好適に使用することができる。The reaction-suppressing ceramic layer is made of, specifically, aluminum oxide (for example, corundum), magnesium oxide, magnesia spinel (for example, Al 2 O 3 -M
gO spinel) and one or more selected from aluminum titanate. These materials are particularly inert to the alkali metal element components and have excellent high-temperature strength, so that they can be particularly preferably used in the present invention.
【００１６】例えばローラ表層部に二酸化珪素が存在し
ている場合、アルカリケイ酸ガラス質は、アルカリ金属
元素成分を含有する治具等とローラとの直接接触によっ
ても生ずるが、アルカリ金属元素成分は高温加熱により
雰囲気中に蒸発するので、二酸化珪素が存在するとこれ
に吸着されて同様にガラス質を形成することがある。し
かしながら、ローラ表面にガラス質が形成されても、こ
れと治具等との直接接触が起こらない状況下において
は、治具側への付着によるガラス質の持ち出しが起こら
なくなるので、ローラ侵食の問題は回避される。例え
ば、カチオン成分が珪素を主体とするセラミック（例え
ば炭化珪素）で構成されたローラ本体の外周面におい
て、ローラ本体の素地が部分的に露出していても、反応
抑制セラミック層が該素地から所定厚さで盛り上がって
形成されていれば、治具等は反応抑制セラミック層の表
面にて接触し、素地露出部分からは浮き上がった形で保
持される。その結果、該露出部分に形成されたガラス質
と治具等との接触が起こりにくくなり、侵食が進みにく
くなる。従って、このような場合は、ローラ本体の外周
面を反応抑制セラミック層により部分的にのみ被覆した
構成とすることが可能となる。For example, when silicon dioxide is present in the surface layer of the roller, the alkali silicate glass is produced by direct contact between the roller and a jig or the like containing the alkali metal element component. Since it evaporates into the atmosphere by high-temperature heating, if silicon dioxide is present, it may be adsorbed by the silicon dioxide and form a vitreous material. However, even when vitreous is formed on the roller surface, in a situation where the vitreous material does not come into direct contact with a jig or the like, the vitreous material is not taken out due to adhesion to the jig side. Is avoided. For example, even if the base body of the roller body is partially exposed on the outer peripheral surface of the roller body composed of a ceramic whose main component is silicon (for example, silicon carbide), the reaction-suppressing ceramic layer is separated from the base body by a predetermined amount. If it is formed to have a raised thickness, the jig or the like comes into contact with the surface of the reaction-suppressing ceramic layer and is held in a raised form from the exposed portion of the substrate. As a result, contact between the vitreous material formed on the exposed portion and the jig or the like is less likely to occur, and erosion is less likely to proceed. Therefore, in such a case, it is possible to adopt a configuration in which the outer peripheral surface of the roller body is only partially covered with the reaction suppressing ceramic layer.
【００１７】また、形成する反応抑制セラミック層とロ
ーラ本体との線膨張係数の差が大きい場合は、炉内の温
度変化によりローラに熱サイクルが加わったときに、反
応抑制セラミック層に、ローラ本体との間の膨張差（あ
るいは収縮差）に基づくクラックや剥がれ等の欠陥が生
じることがある。このような欠陥は、反応抑制セラミッ
ク層をローラ外周面の全面に厚膜で形成した場合に生じ
やすい。他方、治具等の側のアルカリ金属元素成分と、
ローラ本体側の珪素成分との反応を防止する観点から
は、反応抑制セラミック層はなるべく厚膜に形成したい
という要請がある。そこで、上記のように、反応抑制セ
ラミック層を、ローラ本体の素地が部分的に露出するよ
うに形成すれば、その露出部分において反応抑制セラミ
ック層とローラ本体との間の膨張差（あるいは収縮差）
が吸収され、層厚を大きくした場合でもクラックや剥が
れ等が生じににくくなる利点がある。これは、ローラ本
体の材質を、線膨張係数が小さい炭化珪素を主体に構成
した場合に特に有効である。If the difference in the coefficient of linear expansion between the formed reaction-suppressing ceramic layer and the roller body is large, when the roller is subjected to a thermal cycle due to a temperature change in the furnace, the reaction-suppressing ceramic layer is added to the roller body. In some cases, defects such as cracks or peeling based on the difference in expansion (or difference in contraction) between the two may occur. Such defects are likely to occur when the reaction-suppressing ceramic layer is formed as a thick film on the entire outer peripheral surface of the roller. On the other hand, an alkali metal element component on the side of a jig or the like,
From the viewpoint of preventing the reaction with the silicon component on the roller body side, there is a demand to form the reaction suppressing ceramic layer as thick as possible. Therefore, as described above, if the reaction-suppressing ceramic layer is formed so that the base body of the roller body is partially exposed, the difference in expansion (or difference in contraction) between the reaction-suppressing ceramic layer and the roller body in the exposed portion. )
Is absorbed, and there is an advantage that even when the layer thickness is increased, cracks, peeling, and the like are less likely to occur. This is particularly effective when the roller body is mainly made of silicon carbide having a small linear expansion coefficient.
【００１８】例えば、ローラ本体の表面には、反応抑制
セラミック層による被覆領域を分散形成することができ
る。より具体的には、反応抑制セラミック層の上記被覆
領域は、島状又は散点状に形成することができる。ま
た、該被覆領域は、網状、格子状又は所定間隔で配列す
る線状の非被覆領域により区切られた形で形成すること
もできる。これら構成により、上記効果をより顕著に達
成することができる。For example, an area covered with a reaction-suppressing ceramic layer can be dispersedly formed on the surface of the roller body. More specifically, the covering region of the reaction-suppressing ceramic layer can be formed in an island shape or a scattered dot shape. In addition, the covered area may be formed in a mesh, a grid, or a form separated by linear uncovered areas arranged at predetermined intervals. With these configurations, the above effects can be more remarkably achieved.
【００１９】なお、上記のような反応抑制セラミック層
による被覆領域と非被覆領域とは、ローラ外周面上に混
在させて形成することができるが、このような混在領域
を形成する場合は、ローラ本体の外周面を軸線方向にお
いて、周方向に沿う５ｍｍ幅の帯状領域に仮想的に区切
った場合に、各帯状領域中の反応抑制セラミック層の被
覆率が６０％以上となっていることが望ましい。５ｍｍ
幅の帯状領域中の反応抑制セラミック層の被覆率が６０
％未満になると、露出したローラ本体素地と治具等との
直接接触が生じやすくなり、ローラの侵食が進みやすく
なる場合がある。なお、上記被覆率は、望ましくは９０
％以上とするのがよい。The area covered with the reaction-suppressing ceramic layer and the area not covered by the reaction-suppressing ceramic layer can be formed by being mixed on the outer peripheral surface of the roller. When the outer peripheral surface of the main body is virtually divided in the axial direction into band-shaped regions having a width of 5 mm along the circumferential direction, the coverage of the reaction-suppressing ceramic layer in each band-shaped region is desirably 60% or more. . 5mm
60% coverage of the reaction-suppressing ceramic layer in the wide band
%, Direct contact between the exposed roller main body and the jig or the like is likely to occur, and the erosion of the roller may easily proceed. In addition, the above-mentioned coverage is desirably 90
% Or more.
【００２０】ただし、被焼成物等との接触領域が、ロー
ラ外周面の一部分のみに限られている場合には、その部
分を包含する領域を除く残余のローラ表面が、必ずしも
上記の被覆条件を満たさないものとなっていてもよい
（例えば、該残余のローラ表面に反応抑制セラミック層
が全く形成されない態様など）。例えば、被焼成物等と
の接触領域が、ローラ外周面の軸方向中間領域に限られ
ている場合には、反応抑制セラミック層による面積被覆
率が６０％以上となる帯状領域を有効帯状領域、同６０
％未満となる帯状領域を非有効帯状領域として、外周面
の軸方向両端部分が非有効帯状領域で占められ、残余の
中間部分が有効帯状領域にて占められている構成とする
ことができる。なお、有効帯状領域は、被覆率が実質的
に１００％となっている領域であってもよい。However, when the contact area with the object to be baked is limited to only a part of the outer peripheral surface of the roller, the remaining roller surface excluding the area including the part necessarily meets the above-mentioned coating conditions. It may not be satisfied (for example, an embodiment in which the reaction-suppressing ceramic layer is not formed on the remaining roller surface at all). For example, when the contact area with the object to be fired or the like is limited to the axially intermediate area of the outer peripheral surface of the roller, the effective area is an area where the area coverage of the reaction-suppressing ceramic layer is 60% or more. Id 60
%, The end portion in the axial direction of the outer peripheral surface is occupied by the ineffective band region, and the remaining intermediate portion is occupied by the effective band region. Note that the effective band-shaped region may be a region where the coverage is substantially 100%.
【００２１】また、反応抑制セラミック層の平均厚さは
１０〜５００μｍの範囲で調整するのがよい。上記平均
厚さが１０μｍ未満になると、治具等の側のアルカリ金
属元素成分と、ローラ本体側の珪素成分との反応を十分
に防止しきれなくなる場合がある。また、ローラ本体の
素地を部分的に露出させる場合に、治具等と該素地との
接触が起こりやすくなる。他方、５００μｍを超える
と、反応抑制セラミック層とローラ本体との間の膨張差
（あるいは収縮差）による膜剥がれ等の欠陥が生じやす
くなる場合がある。なお、反応抑制セラミック層の平均
厚さは、望ましくは１０〜１００μｍの範囲で調整する
のがよい。The average thickness of the reaction-suppressing ceramic layer is preferably adjusted within the range of 10 to 500 μm. If the average thickness is less than 10 μm, the reaction between the alkali metal component on the jig or the like and the silicon component on the roller body may not be sufficiently prevented. Further, when the base body of the roller body is partially exposed, contact between the jig or the like and the base body easily occurs. On the other hand, if it exceeds 500 μm, defects such as film peeling due to a difference in expansion (or difference in contraction) between the reaction-suppressing ceramic layer and the roller body may easily occur. The average thickness of the reaction-suppressing ceramic layer is preferably adjusted in the range of 10 to 100 μm.
【００２２】[0022]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
の図面を用いて説明する。図１（ｂ）は、本発明のセラ
ミック焼成用ローラを使用した焼成炉の一例を模式的に
示すものである。該焼成炉ＫＦは、内部が焼成空間とさ
れた横長の炉本体３を備え、その長手方向における一方
の端面側に被焼成物の入口が、他方の端面側に同じく出
口が形成されている（入口、出口とも図示せず）。そし
て、その炉本体３内には、その長手方向に沿って上記入
口から出口に至る被焼成物の搬送経路Ｐが形成されてお
り、回転軸が互いにほぼ平行となるように、その搬送経
路Ｐに沿って所定の間隔で、複数のセラミック焼成用ロ
ーラ（以下、単にローラともいう）１が配置されてい
る。すなわち、焼成炉ＫＦは、いわゆるローラハースキ
ルンとして構成されている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1B schematically shows an example of a firing furnace using the ceramic firing roller of the present invention. The sintering furnace KF includes a horizontally long furnace body 3 having a sintering space inside, and an inlet for an object to be fired is formed at one end face side in the longitudinal direction, and an outlet is similarly formed at the other end face side ( Neither the entrance nor the exit is shown). In the furnace main body 3, a transfer path P for the object to be fired is formed along the longitudinal direction from the inlet to the outlet, and the transfer path P is set so that the rotation axes are substantially parallel to each other. A plurality of ceramic firing rollers (hereinafter, also simply referred to as rollers) 1 are arranged at predetermined intervals along. That is, the firing furnace KF is configured as a so-called roller hearth kiln.
【００２３】ローラ１の列は、図示しない回転駆動源に
より互いに連動して一方向に回転駆動され、その上面側
においてセラミック製の容器状の治具５０内に収容され
た被焼成物としてのセラミック成形体Ｇを上記搬送経路
Ｐに沿って搬送する役割を果たす。そして、炉本体３内
は、上記搬送経路Ｐに沿って配置された図示しないガス
バーナ等の加熱源により加熱され、セラミック成形体Ｇ
は治具５０内に収容された状態にてローラ１の列により
搬送されつつ、炉本体３内で焼成されることとなる。The rows of the rollers 1 are rotated in one direction by a rotary drive source (not shown) in conjunction with each other, and a ceramic as a firing target housed in a ceramic container-like jig 50 on the upper surface thereof. It serves to transport the formed body G along the transport path P. Then, the inside of the furnace main body 3 is heated by a heating source such as a gas burner (not shown) arranged along the transport path P, and the ceramic molded body G is heated.
Is conveyed by the rows of the rollers 1 while being housed in the jig 50, and is fired in the furnace main body 3.
【００２４】図１（ａ）に示すように治具５０は、セラ
ミック焼結体としてのスパークプラグ用絶縁体を製造す
るためのものであり、方形板状の底部５０ａと、その底
部５０ａの周縁部においてほぼ垂直に立ち上がる側壁部
５０ｂとを備え、上面側が開放したやや偏平な直方体形
状に形成されている（このような治具５０は、一般には
鞘とも称されている）。As shown in FIG. 1A, a jig 50 is for manufacturing an insulator for a spark plug as a ceramic sintered body, and has a square plate-shaped bottom 50a and a peripheral edge of the bottom 50a. And a side wall portion 50b that rises substantially vertically in the portion, and is formed in a slightly flat rectangular parallelepiped shape with an open upper surface side (such a jig 50 is generally also referred to as a sheath).
【００２５】上記治具５０は、内側空間が被焼成物とし
てのセラミック成形体Ｇの収容部となっている。このセ
ラミック成形体Ｇは、絶縁体外形形状を反映した棒状形
態のもので、アルミナ粉末と所定の焼結助剤粉末にバイ
ンダ（例えばＰＶＡ）を配合して得られる原料粉末をプ
レス成形後、必要に応じて切削加工することにより絶縁
体外形形状に仕上げたものである。このようなセラミッ
ク成形体Ｇが複数、それぞれ立てた状態で治具５０内に
密に配置・収容される。The inner space of the jig 50 serves as an accommodating portion for the ceramic molded body G as an object to be fired. The ceramic molded body G is a rod-like shape reflecting the outer shape of the insulator. After pressing a raw material powder obtained by blending a binder (for example, PVA) with alumina powder and a predetermined sintering aid powder, it is necessary to press-mold the raw material powder. In this case, the outer shape of the insulator is obtained by cutting in accordance with the above. A plurality of such ceramic molded bodies G are densely arranged and accommodated in the jig 50 in a standing state.
【００２６】上記治具５０は、その全体が、アルミナ
（コランダム）あるいはムライト（３Ａｌ２Ｏ３・２Ｓ
ｉＯ２）等のアルミナ系セラミックより構成されてい
る。該アルミナ系セラミックには、使用する原料の純度
やその他の要因により、ＮａやＫ等のアルカリ金属元素
成分が、例えば酸化物の形態で、多い場合で０．７重量
％程度、少ない場合でも０．３重量％程度含有されてい
る。The entire jig 50 is made of alumina (corundum) or mullite (3Al 2 O 3 .2S).
It is made of alumina ceramic such as iO 2 ). Depending on the purity of the raw material used and other factors, the alumina-based ceramic contains an alkali metal element component such as Na or K in the form of an oxide, for example, in a large amount of about 0.7% by weight, and in a small amount of 0%. About 3% by weight.
【００２７】次に、図２に示すように、ローラ１の要部
は、炭化珪素を主体とするセラミック、例えば炭化珪素
を８０〜９９重量％含有するセラミックにより中空（中
実でもよい）円筒状に構成されたローラ本体１ａと、そ
の外周面を覆う反応抑制セラミック層１ｂとからなる。
反応抑制セラミック層１ｂは、珪素成分の含有率が０．
１重量％未満（望ましくは珪素成分の含有率が実質的に
ゼロ）で、融点が１６００℃以上のセラミック、例えば
金属元素成分がＡｌ、Ｚｒ、Ｍｇ及びＴｉから選ばれる
１種又は２種以上より実質的になる酸化物を９５重量％
以上含有するセラミックで構成されている。このような
セラミックは、具体的には、酸化アルミニウム（例えば
コランダム）、酸化マグネシウム、マグネシアスピネル
（例えばＡｌ２Ｏ３−ＭｇＯスピネル）及びチタン酸ア
ルミニウムから選ばれる１種又は２種以上を主体とする
ものである。Next, as shown in FIG. 2, the main part of the roller 1 is made of a ceramic having silicon carbide as a main body, for example, a ceramic containing 80 to 99% by weight of silicon carbide and having a hollow (or solid) cylindrical shape. And a reaction-suppressing ceramic layer 1b that covers the outer peripheral surface of the roller main body 1a.
The reaction suppression ceramic layer 1b has a silicon component content of 0.1%.
A ceramic having a melting point of less than 1% by weight (preferably, the content of a silicon component is substantially zero) and a melting point of 1600 ° C. or more, such as one or more metal elements selected from Al, Zr, Mg, and Ti. 95% by weight of a substantial oxide
It is composed of the ceramic contained above. Specifically, such a ceramic is mainly composed of one or more selected from aluminum oxide (eg, corundum), magnesium oxide, magnesia spinel (eg, Al 2 O 3 —MgO spinel) and aluminum titanate. Things.
【００２８】反応抑制セラミック層１ｂは、平均厚さが
１０〜５００μｍ（望ましくは１０〜１００μｍ）とさ
れている。また、該反応抑制セラミック層１ｂ中には、
網目状の非被覆領域１ｃ，１ｄが形成されており、それ
ら非被覆領域１ｃ，１ｄにおいてローラ本体１ａの素地
が露出している。The reaction suppression ceramic layer 1b has an average thickness of 10 to 500 μm (preferably 10 to 100 μm). Further, in the reaction suppressing ceramic layer 1b,
The mesh-shaped uncovered areas 1c and 1d are formed, and the base body of the roller body 1a is exposed in the uncovered areas 1c and 1d.
【００２９】非被覆領域１ｃ，１ｄは、それぞれローラ
本体１ａの周方向と所定角度をなす環状に形成されると
ともに、該ローラ本体１ａの軸線方向に所定の間隔で配
列する第一の線状部１ｃの組と、同じくその第一の線状
部１ｃの組と交差して、菱形状の網目を形成する第二の
線状部１ｄの組とからなる。各線状部１ｃ，１ｄの幅は
例えば０．５〜２．０ｍｍ（本実施例では１．０ｍｍ）
であり、配列間隔は例えば５〜２０ｍｍ（本実施例では
１０ｍｍ）である。また、線状部１ｃ，１ｄの交差角度
（鋭角側）は例えば３０〜６０°（本実施例では３０
°）である。なお、線状部１ｃの組及び線状部１ｄの組
は、その少なくとも一方を連続螺旋形態で形成してもよ
い。The uncovered areas 1c and 1d are each formed in an annular shape at a predetermined angle with respect to the circumferential direction of the roller body 1a, and the first linear portions arranged at predetermined intervals in the axial direction of the roller body 1a. 1c and a set of second linear portions 1d which also cross the first set of linear portions 1c to form a rhombic mesh. The width of each linear portion 1c, 1d is, for example, 0.5 to 2.0 mm (1.0 mm in this embodiment).
The arrangement interval is, for example, 5 to 20 mm (10 mm in this embodiment). Further, the intersection angle (the acute angle side) of the linear portions 1c and 1d is, for example, 30 to 60 ° (30 in the present embodiment).
°). Note that at least one of the set of linear portions 1c and the set of linear portions 1d may be formed in a continuous spiral form.
【００３０】図５（ａ）に示すように、治具５０（収容
されている成形体は省略して描いている）は、焼成炉内
にてローラ１により下側から支持され、それらローラ１
の回転により炉内を搬送されつつ、アルミナを主原料と
する成形体Ｇ（図１）の焼成温度である１３００〜１７
００℃の高温に加熱される。治具５０の底面はローラ１
の外周面と接触する形となる。そして、ローラ１は本体
１ａが主に炭化珪素にて構成されているので高温強度に
優れ、上記のような高温下において高荷重が付加されて
も強度不足による破損等のトラブルが生じにくい。ま
た、被焼成物の重量をその強度向上分だけ増やすことが
できるので、生産性も向上する。As shown in FIG. 5 (a), the jig 50 (the housed molded body is omitted) is supported from below by rollers 1 in a firing furnace.
While being conveyed in the furnace by the rotation of, the firing temperature of the molded body G (FIG. 1) containing alumina as a main raw material is 1300 to 17
Heated to a high temperature of 00 ° C. Roller 1 is on the bottom of jig 50
Is in contact with the outer peripheral surface of. Since the main body 1a of the roller 1 is mainly made of silicon carbide, the roller 1 has excellent high-temperature strength. Even when a high load is applied at high temperatures as described above, troubles such as breakage due to insufficient strength hardly occur. Further, since the weight of the object to be fired can be increased by an amount corresponding to the strength improvement, the productivity is also improved.
【００３１】他方、図５（ｂ）に示すように、ローラ１
においては、反応抑制セラミック層１ｂが、非被覆領域
１ｃ，１ｄにおいて露出しているローラ本体１ａ（炭化
珪素を主体とする）の素地から所定厚さで盛り上がって
形成されている。従って、治具５０の底面は反応抑制セ
ラミック層１ｂの表面にて接触し、ローラ本体１ａの素
地露出部分からは浮き上がった形で保持されることとな
る。On the other hand, as shown in FIG.
In the above, the reaction-suppressing ceramic layer 1b is formed to have a predetermined thickness from the base of the roller body 1a (mainly composed of silicon carbide) exposed in the non-covered areas 1c and 1d. Therefore, the bottom surface of the jig 50 comes into contact with the surface of the reaction-suppressing ceramic layer 1b, and is held in a raised form from the base exposed portion of the roller body 1a.
【００３２】ここで、ローラ本体１ａの露出した素地表
面には、炭化珪素の酸化に基づく二酸化珪素の薄層が形
成されている。他方、アルカリ金属元素成分を含有する
治具５０からは、焼成温度への加熱に伴いそのアルカリ
金属元素成分が雰囲気中に蒸発し、上記二酸化珪素の層
に吸着されてアルカリケイ酸ガラス質を形成する。しか
しながら、治具５０の底面は該ガラス層が形成される露
出表面からは浮き上がっているので、これとの直接接触
が起こりにくくなっている。その結果、図１７にて示し
た治具へのガラス質の付着と、ローラ表面からのその持
ち去りとが防止ないし抑制され、ローラ１の侵食が起こ
りにくくなる。また、ローラ１の表面や治具５０の底面
が平滑に維持され、安定した治具５０の炉内搬送が可能
となる。Here, a thin layer of silicon dioxide based on the oxidation of silicon carbide is formed on the exposed base surface of the roller body 1a. On the other hand, from the jig 50 containing the alkali metal element, the alkali metal element evaporates into the atmosphere with heating to the firing temperature, and is adsorbed by the silicon dioxide layer to form an alkali silicate glass. I do. However, since the bottom surface of the jig 50 is raised above the exposed surface on which the glass layer is formed, direct contact with the jig 50 is unlikely to occur. As a result, the adhesion of the vitreous material to the jig shown in FIG. 17 and the removal thereof from the roller surface are prevented or suppressed, and the erosion of the roller 1 is less likely to occur. In addition, the surface of the roller 1 and the bottom surface of the jig 50 are kept smooth, so that the jig 50 can be stably transported in the furnace.
【００３３】また、ローラ本体１ａの主材質である炭化
珪素は、反応抑制セラミック層１ｂの主材質である酸化
アルミニウム、酸化マグネシウム、マグネシアスピネル
あるいはチタン酸アルミニウムより線膨張係数がかなり
小さい。例えば、図５（ｃ）に示すように、ローラ１の
温度が上昇すると、反応抑制セラミック層１ｂの方がロ
ーラ本体１ａよりも多く膨張する形となる。しかしなが
ら、非被覆領域１ｃ，１ｄが形成されていることから、
反応抑制セラミック層１ｂの膨張が吸収され、クラック
や剥がれ等の欠陥が生じにくい。Silicon carbide, which is the main material of the roller body 1a, has a significantly smaller linear expansion coefficient than aluminum oxide, magnesium oxide, magnesia spinel, or aluminum titanate, which is the main material of the reaction suppressing ceramic layer 1b. For example, as shown in FIG. 5C, when the temperature of the roller 1 rises, the reaction-suppressing ceramic layer 1b expands more than the roller body 1a. However, since the uncovered areas 1c and 1d are formed,
The expansion of the reaction-suppressing ceramic layer 1b is absorbed, and defects such as cracks and peeling hardly occur.
【００３４】なお、図３に示すように、反応抑制セラミ
ック層１ｂは、島状あるいは散点状に形成することもで
きる。この場合、反応抑制セラミック層１ｂの背景領域
が、ローラ本体１の素地露出領域１ｅとなる。なお、島
状あるいは散点状の反応抑制セラミック層１ｂの各被覆
領域の寸法は、同面積の円形領域の直径にて表した場合
に１．０〜１０ｍｍの範囲で調整される。As shown in FIG. 3, the reaction-suppressing ceramic layer 1b can be formed in an island shape or a scattered shape. In this case, the background area of the reaction-suppressing ceramic layer 1b becomes the base exposed area 1e of the roller body 1. The size of each covering region of the island-shaped or scattered reaction-suppressing ceramic layer 1b is adjusted in the range of 1.0 to 10 mm when represented by the diameter of a circular region having the same area.
【００３５】さらに、図４（ａ）に示すように、非被覆
領域１ｃ，１ｄは、ローラ本体１ａの周方向に沿う線状
部１ｃを軸線方向に所定の間隔で配列・形成した組（連
続螺旋形態としてもよい）と、同じく軸線方向の線状部
１ｃを周方向に所定の間隔で配列形成した組とにより、
格子状に形成してもよい。また、図４（ｂ）あるいは
（ｃ）に示すように、線状部１ｃの組あるいは線状部１
ｄの組の一方を省略することも可能である。なお、図４
（ａ）においては、非被覆領域１ｃ，１ｄと、被覆領域
１ｂとの形成関係を反転すること（すなわち、非被覆領
域１ｃ，１ｄを被覆領域とし、被覆領域１ｂを非被覆領
域とすること）も可能である。Further, as shown in FIG. 4 (a), the uncovered areas 1c and 1d are groups (continuously formed) in which linear portions 1c along the circumferential direction of the roller body 1a are arranged and formed at predetermined intervals in the axial direction. Spiral form), and a set in which the linear portions 1c in the axial direction are also arranged at predetermined intervals in the circumferential direction.
It may be formed in a lattice shape. Further, as shown in FIG. 4B or 4C, a set of linear portions 1c or linear portions 1c is formed.
It is also possible to omit one of the sets of d. FIG.
In (a), the formation relationship between the uncovered areas 1c and 1d and the covered area 1b is reversed (that is, the uncovered areas 1c and 1d are used as covered areas, and the covered area 1b is used as uncovered areas). Is also possible.
【００３６】また、図１５に示すように、治具５０の搬
送時におけるローラ表面と治具５０との接触領域が、例
えばローラ幅方向の中央部など、一部の領域に限られて
いる場合、治具５０との接触が予定されない面（例え
ば、ローラ幅方向の少なくとも片側部分など）１ｊにお
いて、図１６に示すように、反応抑制セラミック層１ｂ
による被覆を省略するようにしてもよい。この場合は、
その接触の予定が見込まれる領域１ｋにおいて、島状あ
るいは散点状の反応抑制セラミック層を形成する場合な
ど、反応抑制セラミック層による被覆領域１ｂと同じく
非被覆領域１ｅとを混在させて形成することができる。
そして、その混在形成領域（すなわち、ローラ表面の全
領域から、ローラ幅方向の両端部など、反応抑制セラミ
ック層１ｂによる被覆が省略される部分を除いた残余の
領域）の面積の６０％以上、望ましくは９０％以上が反
応抑制セラミック層の被覆領域とされていることが望ま
しい。As shown in FIG. 15, the contact area between the roller surface and the jig 50 when the jig 50 is conveyed is limited to a partial area, for example, a central portion in the roller width direction. As shown in FIG. 16, a reaction-suppressing ceramic layer 1b is formed on a surface 1j (for example, at least one side in the roller width direction) where contact with the jig 50 is not expected.
May be omitted. in this case,
In the case where an island-like or scattered reaction-suppressing ceramic layer is formed in the region 1k where the contact is expected, the uncovered region 1e and the region 1b covered by the reaction-suppressing ceramic layer are mixed together. Can be.
60% or more of the area of the mixed formation region (that is, the remaining region excluding the portion where the coating with the reaction suppression ceramic layer 1b is omitted, such as both ends in the roller width direction, from the entire region of the roller surface); Desirably, 90% or more of the area is covered with the reaction-suppressing ceramic layer.
【００３７】例えば、図１６（ａ）に示すように、ロー
ラ本体１ａの外周面を軸線方向において、周方向に沿う
５ｍｍ幅の帯状領域に仮想的に区切った場合に、同図
（ｂ）に示すように、各帯状領域中の反応抑制セラミッ
ク層１ｂの被覆率が６０％以上（望ましくは９０％以
上）となっていることが、露出したローラ本体１ａの素
地と治具５０（図１等）との直接接触を回避する上で望
ましい。For example, as shown in FIG. 16A, when the outer peripheral surface of the roller main body 1a is virtually divided in the axial direction into a 5 mm-wide band along the circumferential direction, FIG. As shown in the figure, the coverage of the reaction-suppressing ceramic layer 1b in each band-shaped region is 60% or more (preferably 90% or more), which indicates that the exposed base material of the roller body 1a and the jig 50 (FIG. 1 etc.) This is desirable to avoid direct contact with
【００３８】そして、治具５０との接触が、ローラ外周
面の軸方向中間領域に限られている場合には、反応抑制
セラミック層１ｂによる面積被覆率が６０％以上となる
帯状領域を有効帯状領域、同６０％未満となる帯状領域
を非有効帯状領域として、外周面の軸方向両端部分が非
有効帯状領域で占められ、残余の中間部分が有効帯状領
域にて占められている構成とすることができる。非有効
帯状領域においては、反応抑制セラミック層１ｂによる
被覆が完全に省略されていてもよいし、６０％未満の範
囲内で部分的に被覆されていてもいずれでもよい。When the contact with the jig 50 is limited to the axially intermediate region on the outer peripheral surface of the roller, the band-shaped region where the area coverage by the reaction-suppressing ceramic layer 1b is 60% or more is formed as an effective band-shaped region. The band, which is less than 60% of the area, is defined as a non-effective band, and both ends in the axial direction of the outer peripheral surface are occupied by the non-effective band, and the remaining intermediate portion is occupied by the effective band. be able to. In the ineffective band-like region, the coating with the reaction-suppressing ceramic layer 1b may be completely omitted, or may be partially coated within a range of less than 60%.
【００３９】以下、ローラ１の各種製造方法について説
明する。まず、ローラ本体１ａは、原料粉末をプレス成
形あるいは射出成形等によりローラ形状に成形し、これ
を焼成して予め作製しておく。他方、反応抑制セラミッ
ク層の原料粉末に適量の有機バインダと溶媒とを配合・
混合して原料スラリーを調整しておく。次に、図６
（ａ）に示すように、ローラ本体１ａの外周面に対し、
非被覆領域１ｃ，１ｄとなるべき領域は覆い、反応抑制
セラミック層１ｂの被覆領域となるべき領域は覆わない
マスキングシート５（例えば、被覆領域を形成するため
の貫通孔パターン５ａが形成された片面粘着シート等で
構成される）を貼着する。Hereinafter, various methods for manufacturing the roller 1 will be described. First, the roller body 1a is prepared by molding a raw material powder into a roller shape by press molding, injection molding, or the like, and baking this. On the other hand, an appropriate amount of an organic binder and a solvent are mixed with the raw material powder of the reaction suppression ceramic layer.
The raw material slurry is adjusted by mixing. Next, FIG.
As shown in (a), with respect to the outer peripheral surface of the roller body 1a,
A masking sheet 5 that covers the areas to be the uncovered areas 1c and 1d and does not cover the areas to be the covered areas of the reaction-suppressing ceramic layer 1b (for example, a single-sided surface on which a through-hole pattern 5a for forming the covered areas is formed). (Consisting of an adhesive sheet or the like).
【００４０】そして、図６（ｂ）に示すように、そのマ
スキングシート５の上から前記原料スラリーＳをスプレ
ーノズルＮ等から噴霧して、スラリー塗布層ＳＬを形成
する。この状態でスラリー塗布層ＳＬを乾燥した後、同
図（ｃ）に示すように、マスキングシート５を除去する
ことにより、ローラ本体１ａの外周面には、反応抑制セ
ラミック層の原料粉末の被覆領域パターン１ｂ’が、マ
スキングシート５の貫通孔パターン５ａに対応した形状
で形成される（図６は、図３のローラ１を製造する場合
の例を示している）。これを所定の温度にて再度焼成す
ることにより、反応抑制セラミック層１ｂが形成された
ローラ１を得る。なお、被覆領域パターン１ｂ’を、ロ
ーラ本体１ａの未焼成の成形体に対して形成し、ローラ
本体１ａと反応抑制セラミック層１ｂとを同時焼成する
ようにしてもよい。Then, as shown in FIG. 6B, the raw material slurry S is sprayed from above the masking sheet 5 from a spray nozzle N or the like to form a slurry coating layer SL. After the slurry coating layer SL is dried in this state, the masking sheet 5 is removed and the outer peripheral surface of the roller main body 1a is covered with the raw material powder coating area of the reaction suppression ceramic layer as shown in FIG. The pattern 1b 'is formed in a shape corresponding to the through-hole pattern 5a of the masking sheet 5 (FIG. 6 shows an example in which the roller 1 of FIG. 3 is manufactured). This is fired again at a predetermined temperature to obtain the roller 1 on which the reaction-suppressing ceramic layer 1b is formed. Note that the covering region pattern 1b 'may be formed on the unfired molded body of the roller body 1a, and the roller body 1a and the reaction-suppressing ceramic layer 1b may be simultaneously fired.
【００４１】なお、被覆領域パターン１ｂ’は、図７に
示すように原料スラリーＳ（あるいは原料粉末ペース
ト）を用いて印刷形成することもできる。この例では、
ゴムあるいは金属等で構成された印刷ロール４９の外周
面に印刷すべきパターンに対応した凹部パターン４９ａ
を形成しておき、これを容器Ｑ内に収容された原料スラ
リーＳ中に浸漬しつつ回転させた後、余分なスラリーＳ
をスクレーパ５１で掻き落として凹部パターン４９ａに
スラリーＳを充填する。そして、これをローラ本体１ａ
の外周面に転写することにより被覆領域パターン１ｂ’
が形成される。The covering area pattern 1b 'can be formed by printing using a raw material slurry S (or a raw material powder paste) as shown in FIG. In this example,
A concave pattern 49a corresponding to the pattern to be printed on the outer peripheral surface of the print roll 49 made of rubber or metal.
Is formed and rotated while being immersed in the raw material slurry S accommodated in the container Q.
Is scraped off by the scraper 51, and the concave pattern 49a is filled with the slurry S. Then, the roller body 1a
Is transferred to the outer peripheral surface of the cover region pattern 1b '.
Is formed.
【００４２】また、図４等に示すローラ１を製造する場
合は、次のような方法も可能である。まず、図８（ａ）
に示すように、ローラ本体１ａの未焼成成形体１ａ’の
外周面全面に、原料スラリーＳを塗布（本実施例ではス
プレーノズルＮにより噴霧塗布している）してスラリー
塗布層ＳＬを形成する。次に、図（ｂ）及び（ｃ）に示
すように、工具５５（例えばバイト）を用いてそのスラ
リー塗布層ＳＬを線状に削り取り、非被覆領域１ｃ，１
ｄとなるべきパターン１ｃ’及び１ｄ’を形成する。こ
れを焼成すれば、ローラ１が得られる。このとき、スラ
リー塗布層ＳＬのみが削り取られ、下地の未焼成成形体
１ａ’は削り取られないようにしてもよいが、スラリー
塗布層ＳＬを下地表層部とともに削り取って、上記パタ
ーン１ｃ’及び１ｄ’をやや深い溝状に形成してもよ
い。この場合、図８（ｄ）に示すように、ローラ本体１
ａ上の反応抑制セラミック層１ｂは、下地となる本体１
ａにまで切れ込んだ溝状の非被覆領域１ｃ，１ｄにより
区切られる形となる。これにより、非被覆領域１ｃ，１
ｄにおける治具５０（図１）とローラ本体１ａの露出表
面との接触が一層起こりにくくなる。When manufacturing the roller 1 shown in FIG. 4 or the like, the following method is also possible. First, FIG.
As shown in (1), the raw material slurry S is applied to the entire outer peripheral surface of the unsintered molded body 1a 'of the roller body 1a (in the present embodiment, spray coating is performed by a spray nozzle N) to form a slurry coating layer SL. . Next, as shown in FIGS. 2B and 2C, the slurry coating layer SL is linearly cut off using a tool 55 (for example, a cutting tool), and the uncoated regions 1c and 1 are removed.
The patterns 1c ′ and 1d ′ to be d are formed. When this is fired, the roller 1 is obtained. At this time, only the slurry coating layer SL may be scraped off, and the underlying green body 1a 'may not be scraped off. However, the slurry coating layer SL may be scraped off together with the surface layer portion of the slurry to form the patterns 1c' and 1d '. May be formed in a slightly deep groove shape. In this case, as shown in FIG.
The reaction suppressing ceramic layer 1b on the base body 1
The shape is divided by the groove-shaped non-covered regions 1c and 1d cut to a. Thereby, the uncovered areas 1c, 1
The contact between the jig 50 (FIG. 1) and the exposed surface of the roller main body 1a at d becomes even less likely.
【００４３】図９は、焼成済のローラ本体１ａの外周面
に、反応抑制セラミック層の原料粉末を用いてこれを溶
射ノズルＦＮから噴射することにより、反応抑制セラミ
ック材の溶射層を形成する例である。この場合、溶融セ
ラミックの噴霧滴の付着条件を調整することで、散点状
の反応抑制セラミック層１ｂを形成することができる。FIG. 9 shows an example in which the reaction-suppressing ceramic material is sprayed from the thermal spray nozzle FN on the outer peripheral surface of the fired roller body 1a to form a reaction-suppressing ceramic material sprayed layer. It is. In this case, by adjusting the conditions for the adhesion of the spray droplets of the molten ceramic, the scattered reaction-suppressing ceramic layer 1b can be formed.
【００４４】また、反応抑制セラミック層は、真空蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤ等
の気相成膜法を用いて形成してもよい（以下、気相成膜
法により形成されたセラミック被膜を、広義に蒸着被膜
と称する）。図１０においては、（ａ）に示すように、
焼成済のローラ本体１ａの外周面をマスクシート５で覆
い、（ｂ）に示すように、その上から気相成膜法により
蒸着被膜ＶＦを作り、さらに（ｃ）に示すように、マス
クシート５を除去して、反応抑制セラミック層１ｂを形
成している。The reaction-suppressing ceramic layer may be formed by a vapor deposition method such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, or CVD (hereinafter, a ceramic coating formed by the vapor deposition method). Is broadly referred to as a deposited film). In FIG. 10, as shown in FIG.
The outer peripheral surface of the calcined roller body 1a is covered with a mask sheet 5, and as shown in (b), a vapor deposition film VF is formed thereon by a vapor phase film forming method, and further, as shown in (c), a mask sheet is formed. 5 are removed to form the reaction suppressing ceramic layer 1b.
【００４５】他方、図１１に示す方法では、まず（ａ）
に示すように、ローラ本体１ａの未焼成成形体１ａ’の
外周面に縦横の溝部１ｆ’，１ｇ’を格子状に形成し、
（ｂ）に示すように、これを焼成して溝付きのローラ本
体１ａを作る。次いで、（ｃ）に示すように、その外周
面の全面に気相成膜法により反応抑制セラミック層１ｂ
を形成してローラ１を得る。この場合、（ｄ）に示すよ
うに、溝部１ｆ，１ｇの内面も含めて反応抑制セラミッ
ク層１ｂが連続的に形成されるが、例えばローラ本体１
ａとの膨張差による反応抑制セラミック層１ｂの割れや
剥がれは溝部１ｆ，１ｇの位置で優先的に起こりやす
く、溝部１ｆ，１ｇ以外の領域（すなわち、治具５０と
接触する領域）を覆う反応抑制セラミック層１ｂには影
響が及びにくい利点がある。On the other hand, in the method shown in FIG.
As shown in FIG. 3, longitudinal and horizontal grooves 1f ′ and 1g ′ are formed in a grid on the outer peripheral surface of the green body 1a ′ of the roller body 1a.
As shown in (b), this is baked to produce a grooved roller body 1a. Next, as shown in (c), the reaction suppressing ceramic layer 1b is formed on the entire outer peripheral surface by a vapor phase film forming method.
Is formed to obtain the roller 1. In this case, as shown in (d), the reaction suppression ceramic layer 1b is continuously formed including the inner surfaces of the grooves 1f and 1g.
The cracks and peeling of the reaction-suppressing ceramic layer 1b due to the difference in expansion from the area a tend to occur preferentially at the positions of the grooves 1f and 1g, and the reaction covering the area other than the grooves 1f and 1g (that is, the area that contacts the jig 50). The suppression ceramic layer 1b has an advantage that is hardly affected.
【００４６】図１２は類似の例を示しており、（ａ）に
示すように、外周面に予め島状の凸部１ｈを形成したロ
ーラ本体１ａに対して、その外周面の全面に気相成膜法
により反応抑制セラミック層１ｂを形成するようにして
いる。この場合、（ｂ）及び（ｃ）に示すように、凸部
１ｈの側面１ｉには反応抑制セラミック層１ｂが形成さ
れにくい。その結果、反応抑制セラミック層１ｂの凸部
１ｈの頂面を覆う部分（すなわち、治具５０と接触する
領域）が周囲の部分から分断されやすくなり、ローラ本
体１ａとの膨張差による反応抑制セラミック層１ｂの割
れや剥がれの影響を同様に及びにくくすることができ
る。FIG. 12 shows a similar example. As shown in FIG. 12 (a), a roller body 1a having an island-shaped convex portion 1h formed in advance on the outer peripheral surface has a vapor phase on the entire outer peripheral surface. The reaction suppressing ceramic layer 1b is formed by a film forming method. In this case, as shown in (b) and (c), the reaction suppression ceramic layer 1b is not easily formed on the side surface 1i of the projection 1h. As a result, the portion covering the top surface of the convex portion 1h of the reaction suppressing ceramic layer 1b (that is, the region in contact with the jig 50) is easily separated from the surrounding portion, and the reaction suppressing ceramic due to a difference in expansion from the roller body 1a. The effect of cracking or peeling of the layer 1b can be similarly reduced.
【００４７】なお、反応抑制セラミック層１ｂの割れや
剥がれの問題が生じにくい場合には、これを図１３に示
すように、平滑に形成したローラ本体１ａの外周面全面
を覆う連続形態に形成するようにしてもよい。また、図
１４に示すように、反応抑制セラミック層の原料粉末の
筒状成形体８２とローラ本体の成形体８１とを重ね合わ
せて２層構造の成形体を作り、これを焼成により一体化
して、それぞれ反応抑制セラミック層及びローラ本体部
とするようにしてもよい。When the problem of cracking or peeling of the reaction-suppressing ceramic layer 1b is unlikely to occur, the reaction-suppressing ceramic layer 1b is formed in a continuous form covering the entire outer peripheral surface of the roller body 1a as shown in FIG. You may do so. Further, as shown in FIG. 14, a cylindrical molded body 82 of the raw material powder of the reaction-suppressing ceramic layer and a molded body 81 of the roller body are overlapped to form a molded body having a two-layer structure, which is integrated by firing. Alternatively, the reaction suppressing ceramic layer and the roller main body may be used.
【００４８】[0048]
【実施例】本発明の効果を確認するために、以下の実験
を行なった。まず、図４（ａ）に示すローラ１を次のよ
うにして作成した。まず、ローラ本体１ａは、市販の炭
化珪素ローラ（炭化珪素含有量：約９６重量％、常圧焼
結炭化珪素ＣＥＲＡＳＩＣ−Ｂ（東芝セラミックス
（株）製））を用いた。ローラ長は１６００ｍｍ、外径
は４０ｍｍ、内径は３０ｍｍであり、４×３×４０ｍｍ
のテストピースを切り出して測定した３点曲げ強度は４
００ＭＰａであった。EXAMPLES The following experiments were conducted to confirm the effects of the present invention. First, the roller 1 shown in FIG. 4A was prepared as follows. First, as the roller main body 1a, a commercially available silicon carbide roller (silicon carbide content: about 96% by weight, normal-pressure sintered silicon carbide CERASIC-B (manufactured by Toshiba Ceramics Corporation)) was used. Roller length is 1600mm, outer diameter is 40mm, inner diameter is 30mm, 4 × 3 × 40mm
The three-point bending strength measured by cutting out a test piece of
It was 00 MPa.
【００４９】図１５に示すように、このローラ本体１ａ
の外周面の軸方向中間に位置する幅１２００ｍｍの領域
１ｋに、各種材質の反応抑制セラミック層を、軸線方向
及び周方向に６ｍｍ間隔で形成された幅１ｍｍの格子状
の非被覆領域（非被覆領域により区切られる個々の被覆
部分は、５ｍｍ角の正方形状領域となる）により区切っ
た形で、０〜６５０μｍの各種厚さにて形成した。な
お、反応抑制セラミック層の材質は表１に記した通りで
あり、それぞれ原料粉末のペーストを用いてローラ本体
１ａの外周面に被覆パターンを印刷し、これを再焼成す
ることにより形成している。As shown in FIG. 15, the roller body 1a
In a region 1k having a width of 1200 mm, which is located in the middle of the outer peripheral surface in the axial direction, a reaction-suppressing ceramic layer of various materials is formed in a lattice-shaped uncoated region having a width of 1 mm formed at intervals of 6 mm in the axial direction and the circumferential direction (uncoated Each coated portion divided by the region becomes a square region of 5 mm square), and was formed in various thicknesses of 0 to 650 μm. The material of the reaction-suppressing ceramic layer is as shown in Table 1, and is formed by printing a coating pattern on the outer peripheral surface of the roller body 1a using a paste of the raw material powder and re-baking the coating pattern. .
【００５０】次に、治具５０として次のような鞘を多数
用意した。 材質‥‥コランダム＋ムライト、Ａｌ２Ｏ３：８４重量
％、ＳｉＯ２：１５重量％、Ｎａ２Ｏ：０．３重量％、
その他（Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＯ２等）：合計０．７重量
％； 寸法‥‥内法にて底面幅２８０ｍｍ、底面奥行２３０ｍ
ｍ、深さ９０ｍｍ、平均厚さ１０ｍｍ） 重量‥‥３．０ｋｇ 各鞘には、スパークプラグ絶縁体製造用のＡｌ２Ｏ３粉
末成形体（Ａｌ２Ｏ３：９５重量％、Ｎａ２Ｏ：０．１
重量％）を、３．５ｋｇ充填した。Next, a number of the following sheaths were prepared as jigs 50. Material: corundum + mullite, Al 2 O 3 : 84% by weight, SiO 2 : 15% by weight, Na 2 O: 0.3% by weight,
Others (Fe 2 O 3 , TiO 2, etc.): Total 0.7% by weight; Dimension ‥‥ Bottom width 280 mm, bottom depth 230 m by internal method
m, depth 90 mm, average thickness 10 mm) Weight ‥‥ 3.0 kg Each sheath has an Al 2 O 3 powder compact (Al 2 O 3 : 95 wt%, Na 2 O: 0.1
3.5% by weight).
【００５１】そして、図１（ｂ）に示すように、各ロー
ラ１を焼成炉ＫＦ内に、１８本／ｍの配列間隔にて挿入
し、炉ＫＦ内を１５５０℃に昇温するとともに、Ａｌ２
Ｏ３粉末成形体を詰めた鞘を、図１６の領域１ｋからは
み出さないようにしつつ、平均送り速度５ｍ／ｈｒ、平
均鞘送り個数４００個／日にて送り込み、焼成の連続操
業を行った。そして、どれか１本のローラに破断が生じ
るまでの耐久時間にて評価するとともに、耐久後のロー
ラ表面の状態及び破断面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）
観察した。以上の結果を表１に示す。Then, as shown in FIG. 1B, each roller 1 is inserted into the firing furnace KF at an arrangement interval of 18 rollers / m, and the temperature in the furnace KF is raised to 1550 ° C. 2
The sheath packed with the O 3 powder compact was fed at an average feed speed of 5 m / hr and an average sheath feed number of 400 pieces / day while keeping it from protruding from the region 1 k in FIG. 16, and a continuous firing operation was performed. . Then, while evaluating the endurance time until breakage occurs in any one of the rollers, the state of the roller surface after the endurance and the fracture surface are SEM (scanning electron microscope).
Observed. Table 1 shows the above results.
【００５２】[0052]
【表１】 [Table 1]
【００５３】すなわち、反応抑制セラミック層を形成し
た本発明のローラは５０００時間以上の良好な耐久結果
を示したのに対し、反応抑制セラミック層を形成しない
比較例のローラは、短時間で破断に至っていることがわ
かる。なお、比較例のローラの破断面を観察したとこ
ろ、鞘との接触部において、ローラ厚さの１／３〜１／
２程度まで、鞘側のアルカリ金属元素成分との反応によ
るものと思われるガラス質侵食層が形成されていた。ま
た、反応抑制セラミック層の形成厚さがやや小さい番号
５のローラにおいても若干のガラス質侵食層の形成が見
られた。他方、反応抑制セラミック層の形成厚さがやや
大きい番号６のローラでは、被覆層に若干の剥離が見ら
れた。That is, the roller of the present invention having the reaction-suppressing ceramic layer formed thereon exhibited a good durability of 5000 hours or more, whereas the roller of the comparative example having no reaction-suppressing ceramic layer was broken in a short time. You can see that it has been reached. In addition, when the fracture surface of the roller of the comparative example was observed, at the contact portion with the sheath, 1/3 to 1/1 of the roller thickness.
Up to about 2, a vitreous erosion layer was formed, which was thought to be due to the reaction with the alkali metal element component on the sheath side. Also, a slight vitreous erosion layer was formed on the roller of No. 5 in which the formation thickness of the reaction suppressing ceramic layer was rather small. On the other hand, with the roller of No. 6 in which the reaction suppressing ceramic layer was formed with a somewhat large thickness, slight peeling was observed in the coating layer.
【図１】セラミック焼成用治具の一例を示す側面模式図
及び本発明のセラミック焼成用ローラを用いた焼成炉の
一例を示す模式図。FIG. 1 is a schematic side view showing an example of a ceramic firing jig and a schematic view showing an example of a firing furnace using a ceramic firing roller of the present invention.
【図２】本発明のセラミック焼成用ローラの一例を示す
斜視図。FIG. 2 is a perspective view showing an example of a ceramic firing roller of the present invention.
【図３】本発明のセラミック焼成用ローラの第一の変形
例を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a first modification of the ceramic firing roller of the present invention.
【図４】同じく第二の変形例を示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view showing a second modified example.
【図５】本発明のセラミック焼成用ローラの作用説明
図。FIG. 5 is a diagram illustrating the operation of the ceramic firing roller of the present invention.
【図６】本発明のセラミック焼成用ローラの製造方法の
第一の例を示す説明図。FIG. 6 is an explanatory view showing a first example of a method for manufacturing a ceramic firing roller of the present invention.
【図７】同じく第二の例を示す説明図。FIG. 7 is an explanatory view showing a second example.
【図８】同じく第三の例を示す説明図。FIG. 8 is an explanatory view showing a third example.
【図９】同じく第四の例を示す説明図。FIG. 9 is an explanatory view showing a fourth example.
【図１０】同じく第五の例を示す説明図。FIG. 10 is an explanatory view showing a fifth example.
【図１１】同じく第六の例を示す説明図。FIG. 11 is an explanatory view showing a sixth example.
【図１２】同じく第七の例を示す説明図。FIG. 12 is an explanatory view showing a seventh example.
【図１３】同じく第八の例を示す説明図。FIG. 13 is an explanatory view showing an eighth example.
【図１４】同じく第九の例を示す説明図。FIG. 14 is an explanatory view showing a ninth example.
【図１５】ローラ外周面の、軸方向両端部の反応抑制セ
ラミック層を省略する態様を示す模式図。FIG. 15 is a schematic view showing an embodiment in which a reaction-suppressing ceramic layer at both axial ends of an outer peripheral surface of a roller is omitted.
【図１６】有効帯状領域と非有効帯状領域との概念を示
す説明図。FIG. 16 is an explanatory diagram showing the concept of an effective band area and a non-effective band area.
【図１７】従来のセラミック焼成用ローラの問題点を説
明する図。FIG. 17 is a view for explaining a problem of a conventional ceramic firing roller.
１ セラミック焼成用ローラ ＫＦ 焼成炉 １ａ ローラ本体 １ｂ 反応抑制セラミック層 １ｃ，１ｄ 非被覆領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic firing roller KF firing furnace 1a Roller main body 1b Reaction suppression ceramic layer 1c, 1d Uncoated area
Claims (13)
物又は被焼成物の保持体（以下、両者を総称して被焼成
物等という）を下側から支持しつつ回転することによ
り、前記被焼成物等を前記セラミック焼成炉内にて搬送
するためのセラミック焼成用ローラであって、 カチオン成分の主体が珪素であるセラミック製のローラ
本体の外周面を、珪素成分の含有率が０．１重量％未満
であるセラミックからなる反応抑制セラミック層によ
り、少なくとも部分的に被覆したことを特徴とするセラ
ミック焼成用ローラ。1. The method according to claim 1, wherein the rotating member is disposed in a ceramic firing furnace, and rotates while supporting an object to be fired or a holder for the object to be fired (hereinafter, both are collectively referred to as an object to be fired) from below. A ceramic firing roller for transporting an object to be fired or the like in the ceramic firing furnace, wherein the outer peripheral surface of a ceramic roller body in which a cation component is mainly composed of silicon has a silicon component content of 0.1%. A ceramic firing roller, characterized in that it is at least partially coated with a reaction-suppressing ceramic layer of less than 1% by weight of ceramic.
されている請求項１記載のセラミック焼成用ローラ。2. The ceramic firing roller according to claim 1, wherein the roller body is mainly composed of silicon carbide.
６００℃以上の酸化物にて構成されている請求項１記載
のセラミック焼成用ローラ。3. The reaction-suppressing ceramic layer has a melting point of 1%.
2. The ceramic firing roller according to claim 1, wherein the roller is made of an oxide having a temperature of 600 ° C. or higher.
成分がＡｌ、Ｚｒ、Ｍｇ及びＴｉから選ばれる１種又は
２種以上より実質的になる酸化物を９５重量％以上含有
するセラミックで構成されている請求項１ないし３のい
ずれかに記載のセラミック焼成用ローラ。4. The reaction-suppressing ceramic layer is composed of a ceramic containing 95% by weight or more of an oxide whose metal element component is substantially one or more selected from Al, Zr, Mg and Ti. The ceramic firing roller according to any one of claims 1 to 3, wherein:
ミニウム、酸化マグネシウム、マグネシアスピネル及び
チタン酸アルミニウムから選ばれる１種又は２種以上を
主体に構成される請求項１ないし４のいずれかに記載の
セラミック焼成用ローラ。5. The method according to claim 1, wherein the reaction-suppressing ceramic layer is mainly composed of one or more selected from aluminum oxide, magnesium oxide, magnesia spinel and aluminum titanate. Roller for ceramic firing.
制セラミック層による被覆領域が分散形成されている請
求項１ないし５のいずれかに記載のセラミック焼成用ロ
ーラ。6. The ceramic firing roller according to claim 1, wherein a region covered with the reaction-suppressing ceramic layer is dispersedly formed on a surface of the roller body.
制セラミック層による被覆領域が島状又は散点状に形成
されている請求項６記載のセラミック焼成用ローラ。7. The ceramic firing roller according to claim 6, wherein a region covered with the reaction-suppressing ceramic layer is formed in an island shape or a scattered shape on the surface of the roller body.
制セラミック層による被覆領域が、網状、格子状又は所
定間隔で配列する線状の非被覆領域により区切られた形
で形成されている請求項７記載のセラミック焼成用ロー
ラ。8. The surface of the roller body, wherein a region covered with the reaction-suppressing ceramic layer is formed in a form delimited by a mesh-like, lattice-like, or linear non-covering region arranged at a predetermined interval. Item 7. A ceramic firing roller according to Item 7.
いて、周方向に沿う５ｍｍ幅の帯状領域に仮想的に区切
った場合に、前記反応抑制セラミック層による面積被覆
率が６０％以上となる帯状領域を有効帯状領域、同６０
％未満となる帯状領域を非有効帯状領域として、前記外
周面の軸方向両端部分が前記非有効帯状領域で占めら
れ、残余の中間部分が前記有効帯状領域にて占められて
いる請求項１ないし８のいずれかに記載のセラミック焼
成用ローラ。9. When the outer peripheral surface of the roller main body is virtually divided in the axial direction into a 5 mm-wide band-like region along the circumferential direction, a belt-like shape having an area coverage of 60% or more by the reaction-suppressing ceramic layer. The area is the effective band area, and the area is 60
% Of the outer peripheral surface is occupied by the ineffective band-like region, and the remaining intermediate portion is occupied by the effective band-like region. 9. The roller for firing ceramic according to any one of 8.
が１０〜５００μｍの範囲で調整されている請求項１な
いし９のいずれかに記載のセラミック焼成用ローラ。10. The ceramic firing roller according to claim 1, wherein the average thickness of the reaction-suppressing ceramic layer is adjusted within a range of 10 to 500 μm.
含有する被焼成物又は被焼成物の保持体（以下、両者を
総称して被焼成物等という）を、焼成炉内にて請求項１
ないし１０のいずれかに記載のセラミック焼成用ローラ
により下側から支持しつつ、該セラミック焼成用ローラ
を回転させることにより、前記被焼成物等を前記セラミ
ック焼成炉内にて搬送しながら加熱して前記被焼成物を
焼成し、セラミック焼結体を得ることを特徴とするセラ
ミック焼結体の製造方法。11. An object to be fired containing an alkali metal element component such as Na or K or a holder of the object to be fired (hereinafter, both are collectively referred to as an object to be fired) in a firing furnace. 1
While being supported from below by the ceramic baking roller according to any one of to 10, by rotating the ceramic baking roller, the object to be fired or the like is heated while being conveyed in the ceramic baking furnace. A method for manufacturing a ceramic sintered body, characterized by firing the object to be fired to obtain a ceramic sintered body.
ーラ本体は炭化珪素を主体に構成されるものであり、前
記焼成は１３００℃以上で行われる請求項１１記載のセ
ラミック焼結体の製造方法。12. The method according to claim 11, wherein the roller body of the ceramic firing roller is mainly composed of silicon carbide, and the firing is performed at 1300 ° C. or higher.
ラグ用絶縁体である請求項１１又は１２に記載のセラミ
ック焼結体の製造方法。13. The method according to claim 11, wherein the ceramic sintered body is an insulator for a spark plug.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10285243A JP2000111265A (en) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | Ceramic calcinating roller and manufacture of ceramic sintered structure using the same |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10285243A JP2000111265A (en) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | Ceramic calcinating roller and manufacture of ceramic sintered structure using the same |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP (1) | JP2000111265A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003107379A1 (en) * | 2002-06-12 | 2003-12-24 | 松下電器産業株式会社 | Method of manufacturing plasma display panel and baking device used for the method |
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-
1998
- 1998-10-07 JP JP10285243A patent/JP2000111265A/en active Pending
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