JP2000109461A - フェノキシピリジン系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

フェノキシピリジン系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤

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JP2000109461A
JP2000109461A JP10296049A JP29604998A JP2000109461A JP 2000109461 A JP2000109461 A JP 2000109461A JP 10296049 A JP10296049 A JP 10296049A JP 29604998 A JP29604998 A JP 29604998A JP 2000109461 A JP2000109461 A JP 2000109461A
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Koji Kikukawa
弘司 菊川
Soichiro Nagayama
宗一郎 永山
Ken Ono
研 大野
Nobuko Kidai
宣子 木代
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Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Original Assignee
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 除草剤の有効成分として有用な、新規化合物
を提供する。 【構成】 式(I); 【化1】 (式中、R1 はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
ルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロ
アルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、ハ
ロアルキルチオ、アルケニル、アルキニル、アミノ、モ
ノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルフ
ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニル、
ジアルキルアミノカルボニル、シアノ又はニトロであ
り、R2 は水素原子、置換されてもよいアルキル、置換
されてもよいアルケニル、置換されてもよいアルキニル
又は置換されてもよいシクロアルキルであり、Xは酸素
原子又は硫黄原子であり、nは0〜3の整数であり、n
が2以上の場合のR1 は同一でも相異ってもよい)で表
されるフェノキシピリジン系化合物又はその塩。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、除草剤の有効成分
として有用な新規フェノキシピリジン系化合物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】特開平8−268808号公報には、ピ
リジン環の6位にフェノキシ又はベンジルオキシが置換
したフェノキシピリジンが記載されている。しかしなが
ら、本発明のフェノキシピリジン系化合物はピリジン環
の6位に鎖状基又はシクロアルキル基が置換している点
において、それらと明瞭に区別される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題とその手段】本願発明者
等は、より優れた除草剤を見出すべくフェノキシピリジ
ン系化合物につき種々検討した結果、本発明を完成し
た。すなわち本発明は、式(I);
【0004】
【化14】
【0005】(式中、R1 はハロゲン、アルキル、ハロ
アルキル、アルコキシアルキル、シアノアルキル、アル
コキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アル
キルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニル、アルキニ
ル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、
アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルコキ
シカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、シアノ又
はニトロであり、R2 は水素原子、置換されてもよいア
ルキル、置換されてもよいアルケニル、置換されてもよ
いアルキニル又は置換されてもよいシクロアルキルであ
り、Xは酸素原子又は硫黄原子であり、nは0〜3の整
数であり、nが2以上の場合のR1 は同一でも相異って
もよい)で表される新規フェノキシピリジン系化合物又
はその塩、それらの製造方法、それらを含有する除草剤
並びにそれらの製造用新規中間体化合物に関する。
【0006】R2 中の置換されてもよいアルキルのその
置換基としては、ハロゲン、C1〜4アルコキシ、C1
〜4アルキルチオ、C3〜6シクロアルキル、アミノ、
C1〜4モノアルキルアミノ、C1〜4ジアルキルアミ
ノ、シアノ、ニトロなどが挙げられる。置換数は1又は
2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同
一でも相異なってもよい。また、これら置換基の置換位
置はいずれの位置でもよい。
【0007】R2 中の置換されてもよいアルケニル又は
置換されてもよいアルキニルのその置換基としてはハロ
ゲン、C1〜4アルコキシ、C1〜4アルキルチオなど
が挙げられる。置換数は1又は2以上であってよく、2
以上の場合、これら置換基は同一でも相異なってもよ
い。また、これら置換基の置換位置はいずれの位置でも
よい。
【0008】R2 中の置換されてもよいシクロアルキル
のその置換基としてはハロゲン、C1〜4アルキルなど
が挙げられる。置換数は1又は2以上であってよく、2
以上の場合、これら置換基は同一でも相異なってもよ
い。また、これら置換基の置換位置はいずれの位置でも
よい。
【0009】R1 中のアルキル及びアルキル部分はC1
〜4の直鎖状又は分枝状のもの、R2 中のアルキル及び
アルキル部分はC1〜6の直鎖状又は分枝状のものであ
る。それらの具体例としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、
ヘキシルなどが挙げられる。R1 中のアルケニル及びア
ルキニルはC2〜4の直鎖状又は分枝状のもの、R2
のアルケニル、アルキニル、アルケニル部分及びアルキ
ニル部分はC2〜6の直鎖状又は分枝状のものである。
それらの具体例としては、ビニル、アリル、イソプロペ
ニル、ブタジエニル、エチニル、プロパルギルなどが挙
げられる。
【0010】R2 中のシクロアルキルは、C3〜6のも
のである。その具体例としては、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。R1 及び
2 中のハロゲン又は置換基としてのハロゲンは、弗
素、塩素、臭素又は沃素の各原子である。置換基として
のハロゲンの数は1又は2以上であってよく、2以上の
場合、各ハロゲンは同一でも相異なってもよい。また、
ハロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。
【0011】前記式(I) で表されるフェノキシピリジン
系化合物は、塩を形成することが可能である。その塩と
しては、農業上許容されるものであればあらゆるものが
含まれるが、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無
機酸塩;酢酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸
塩;ナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属
塩;マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土
類金属塩;ジメチルアミン塩、トリエチルアミン塩のよ
うなアンモニウム塩などが挙げられる。
【0012】前記式(I) で表されるフェノキシピリジン
系化合物又はその塩(以下本発明化合物と略す)は、以
下の反応〔A〕〜〔D〕並びに通常の塩の製造方法に従
って製造できる。
【0013】
【化15】
【0014】反応〔A〕中、R1 、X及びnは前述の通
りであり、Bnはアルキル又はアルコキシにより置換さ
れていてもよいベンジルである。反応〔A〕は、酸又
は塩基の存在下で行なう加水分解反応である。酸として
は、例えば塩酸、硫酸のような無機酸;酢酸のような有
機酸などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基
としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
な炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような
重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
金属水酸化物などから1種又は2種以上を適宜選択でき
る。
【0015】反応〔A〕は、必要に応じて溶媒の存在
下で行なう。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ばいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;
四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような環状又は非環状脂肪族炭化水素
類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのよう
なエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチ
ルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶
媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニト
リルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケト
ンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパ
ノール、tert−ブタノールのようなアルコール類;水な
どから1種又は2種以上を適宜選択できる。反応〔A〕
の反応温度は、通常−10〜+200℃、望ましくは
10〜100℃であり、反応時間は、通常0.5〜24
時間、望ましくは1〜18時間である。
【0016】反応〔A〕は、式(I-1) 中Xが酸素原子
である場合の反応であり、触媒の存在下で行なう水素添
加反応である。触媒としては、例えばパラジウム、パラ
ジウムカーボン、塩化パラジウム、鉄、白金の他、当該
分野で用いられているその他のパラジウム系触媒や、白
金系触媒などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
触媒は、通常触媒量用いるが、ピリジン環上の置換基で
あるR1 の種類によっては過剰量使用することがある。
【0017】反応〔A〕は、通常溶媒の存在下で行な
う。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれ
のものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
のような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチルの
ようなエステル類;アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、アクリロニトリルのようなニトリル類;モノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなア
ミン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert
−ブタノールのようなアルコール類などから1種又は2
種以上を適宜選択できる。反応〔A〕の反応温度は、
通常−10〜+200℃、望ましくは10〜60℃であ
り、反応時間は、通常0.5〜48時間、望ましくは1
〜24時間である。
【0018】反応〔A〕は、式(I-1) 中Xが酸素原子
であり、且つBnがアルコキシで置換されたベンジルで
ある場合の反応であり、酸化剤の存在下で行なう脱ベン
ジル化反応である。酸化剤としては、例えば硝酸二アン
モニウムセリウム(IV)、2,3−ジクロロ−5,6−ジ
シアノ−パラ−ベンゾキノンなどから適宜選択できる。
【0019】反応〔A〕は、通常溶媒の存在下で行な
う。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれ
のものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化
炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘ
キサンのような環状又は非環状脂肪族炭化水素類;酢酸
メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスル
ホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジンのよ
うな極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオ
ニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;酢
酸、プロピオン酸のような有機酸;水などから1種又は
2種以上を適宜選択できる。反応〔A〕の反応温度
は、通常−10〜+140℃、望ましくは0〜80℃で
あり、反応時間は、通常0.1〜24時間、望ましくは
0.5〜8時間である。
【0020】
【化16】
【0021】反応〔B〕中、R1 、X、n及び式(I-1)
は前述の通りであり、R2'は置換されてもよいアルキ
ル、置換されてもよいアルケニル、置換されてもよいア
ルキニル又は置換されてもよいシクロアルキルであり、
1 及びZ3 はそれぞれハロゲンである。反応〔B〕
及びは、同様の反応条件であり、従って以下のごとく
表記することができる。
【0022】
【化17】
【0023】式中、R1 、R2'、n及び式(I-2) は前述
の通りであり、Aは−XH(Xは前述の通り)又はハロ
ゲンであり、BはAが−XHの時ハロゲンであり、Aが
ハロゲンの時−XH(Xは前述の通り)である。反応
〔B〕は、通常塩基の存在下で行なう。塩基としては、
例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウム
第3級ブチレートのようなアルカリ金属のアルコレー
ト;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重
炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水
素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化
物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルア
ミンのようなアミン類;ピリジン、4−ジメチルアミノ
ピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上
を適宜選択できる。
【0024】反応〔B〕は、必要に応じて溶媒の存在下
で行なう。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば
いずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メ
チル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな環状又は非環状脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル
類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピ
リジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニト
リル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルア
ミンのようなアミン類;メタノール、エタノール、プロ
パノール、tert−ブタノールのようなアルコール類;ア
ンモニア水;水などから1種又は2種以上を適宜選択で
きる。
【0025】反応〔B〕は、必要に応じて触媒の存在下
で行なう。触媒としては、銅、鉄のような金属のハロゲ
ン化物、例えば沃化銅、塩化銅などから1種又は2種以
上を適宜選択できる。反応〔B〕の反応温度は、通常−
10〜+200℃、望ましくは10〜150℃であり、
反応時間は、通常0.01〜48時間、望ましくは0.
1〜24時間である。
【0026】
【化18】
【0027】反応〔C〕中、R1 、R2'、X、n及び式
(I-2) は前述の通りであり、Z2 はハロゲンである。反
応〔C〕の反応時間を除くその他の反応条件は、前記反
応〔B〕に準じる。反応〔C〕の反応時間は、通常1〜
168時間、望ましくは1〜120時間である。
【0028】
【化19】
【0029】反応〔D〕中、R1 、n及び式(IV)は前述
の通りであり、tert−はタ−シャリーの略である。反応
〔D〕は、必要に応じて溶媒の存在下で行なう。溶媒と
しては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでも
よく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベ
ンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メ
チル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのよ
うな環状又は非環状脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル
類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピ
リジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニト
リル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類;酢酸、プロピオン酸のような有機酸;水などから1
種又は2種以上を適宜選択できる。反応〔D〕の反応温
度は、通常10〜200℃、望ましくは50〜140℃
であり、反応時間は、通常0.5〜24時間、望ましく
は1〜6時間である。
【0030】前記反応〔A〕中で使用される式(II)の化
合物は、本発明で使用される有用な中間体化合物であ
り、以下の反応〔E〕の製造方法に従って製造できる。
式(II)の化合物中には、新規化合物も含まれている。
【0031】
【化20】
【0032】反応〔E〕中、R1 、X、n、Z2
3 、Bn、式(II)及び式(VII) は前述の通りである。
反応〔E〕の反応時間を除くその他の反応条件は、前
記反応〔B〕に準じる。反応〔E〕の反応時間は、通
常0.1〜24時間、望ましくは0.5〜5時間であ
る。反応〔E〕の反応時間を除くその他の反応条件
は、前記反応〔B〕に準じる。反応〔E〕の反応時間
は、通常1〜168時間、望ましくは1〜120時間で
ある。
【0033】前記反応〔B〕及び〔D〕中で使用される
式(IV)の化合物及び前記反応〔C〕中で使用される式(V
I)の化合物は、本発明で使用される有用な中間体化合物
であり、以下の反応〔F〕の製造方法に従って製造でき
る。式(IV)及び(VI)各々の化合物中には、新規化合物も
含まれている。
【0034】
【化21】
【0035】反応〔F〕中、式(IV)、(V) 、(VI)、(VI
I) 及び(IX)は前述の通りである。反応〔F〕の反応
時間を除くその他の反応条件は、前記反応〔B〕に準じ
る。反応〔F〕の反応時間は、通常0.5〜48時
間、望ましくは1〜24時間である。反応〔F〕は、
前記反応〔B〕に準じて行なう。
【0036】前記反応〔E〕及び〔F〕中で使用される
式(IX)の化合物は、本発明で使用される有用な中間体化
合物であるが、それらは、市販されているか、各種文献
により公知であるか、或いは各種文献を参照し常法によ
り合成可能な化合物である。上記文献としては、例えば
特開平8−269055号公報(段落番号0030〜0
032並びに参考製造例1〜4)や、J.Org.Ch
em.1991,56,4793〜4796頁などが挙
げられる。
【0037】本発明化合物並びに製造用中間体化合物に
は、その置換基の種類によって(置換されたシクロアル
キル部分を持つ場合)光学異性体が存在するが、本発明
には各異性体及び異性体混合物(ラセミ体)の両方が含
まれる。尚、本願明細書においては、特に記載しない限
りこの光学異性体についてはラセミ体として記載する。
また、本発明化合物中R2 が水素原子である化合物には
互変異性体が存在するが、本発明には各異性体及び異性
体混合物の両方が含まれる。更に本発明化合物並びに製
造用中間体化合物には、その置換基の種類によって(ア
ルケニル部分を持つ場合)幾何異性体が存在するが、本
発明には各異性体(E体、Z体)及び異性体混合物の両
方が含まれる。
【0038】本発明化合物は、除草剤の有効成分として
使用した場合に優れた除草効果を示す。その適用範囲
は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農
道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわた
り、適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。
【0039】本発明化合物は、例えばイヌビエ、メヒシ
バ、エノコログサ、アキノエノコログサ、オヒシバ、カ
ラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ビロードキ
ビ、パラグラス、アゼガヤ、イトアゼガヤ、スズメノカ
タビラ、スズメノテッポウなどのイネ科雑草、コゴメガ
ヤツリ、ハマスゲ、キハマスゲ、ホタルイ、ミズガヤツ
リ、タマガヤツリ、マツバイ、クログワイなどのカヤツ
リグサ科雑草、ウリカワ、オモダカ、ヘラオモダカなど
のオモダカ科雑草、コナギ、ミズアオイなどのミズアオ
イ科雑草、アゼナ、アブノメなどのゴマノハグサ科雑
草、キカシグサ、ヒメミソハギなどのミソハギ科雑草の
他、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカキンゴ
ジカ、スベリヒユ、アオビユ、アオゲイトウ、エビスグ
サ、イヌホウズキ、サナエタデ、ハコベ、オナモミ、タ
ネツケバナ、ホトケノザ、ブタクサ、ヤエムグラ、セイ
ヨウヒルガオ、チョウセンアサガオ、エゾノキツネアザ
ミ、エノキグサなどの広葉雑草などの有害雑草を防除す
ることができる為、有用作物、例えばトウモロコシ、ダ
イズ、ワタ、コムギ、イネ、オオムギ、エンバク、ソル
ガム、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、
芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培に
おいて選択的に有害雑草を防除する場合或は非選択的に
有害雑草を防除する場合において有効に使用される。特
に本発明化合物は、トウモロコシ、ダイズ、コムギ、イ
ネなどの栽培、その中でもダイズ栽培において選択的に
有害雑草を防除する場合において有効に使用される。
【0040】本発明化合物は通常各種農業上の補助剤と
混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁
剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、錠剤、カプセル剤など
の形態に製剤し、除草剤として使用されるが、本発明の
目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられてい
るあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用す
る補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、
タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、
カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナ
トリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担
体;水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオ
キサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケト
ン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロ
リドン、アルコールなどの溶剤;脂肪酸塩、安息香酸
塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハ
ク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、
アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジ
グリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル
塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン
酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチ
レンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキ
ルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル
塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポ
リオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰
イオン系の界面活性剤や展着剤;ソルビタン脂肪酸エス
テル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセラ
イド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセ
チレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアル
キレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポ
リオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポ
リオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系
の界面活性剤や展着剤;オリーブ油、カポック油、ひま
し油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ
油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜
麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油
などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸
脱しないかぎり、当該分野で知られたものの中から選ん
で用いることができる。また、増量剤、増粘剤、沈降防
止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤な
ど通常使用される各種補助剤も使用することができる。
本発明化合物と各種補助剤との配合割合は0.1:9
9.9〜95:5、望ましくは0.2:99.8〜8
5:15である。
【0041】本発明化合物を含有する除草剤の施用量
は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、
施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般
に1ヘクタール当り本発明化合物が0.5〜5000
g、望ましくは1〜1000g、さらに望ましくは5〜
500gとなるように施用する。本発明には、このよう
な除草剤の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。
【0042】また、本発明化合物を含有する除草剤は、
他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用するこ
とができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すこ
とがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物
質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本
発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物の1種又は2
種以上とを混用或は併用した混合除草性組成物は、適用
草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性等を好ましい方
向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他
の除草剤の有効成分化合物は各々別々に製剤したものを
散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使
用してもよい。本発明には、前記した混合除草性組成物
も含まれる。
【0043】本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合
物との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形
態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定で
きないが、本発明化合物1重量部に対し、他の除草剤は
有効成分化合物を1種あたり0.001〜10000重
量部、望ましくは0.01〜1000重量部配合する。
また、施用適量は1ヘクタール当りの総有効成分化合物
量として0.1〜10000g、望ましくは0.2〜5
000gである。本発明には、このような混合除草性組
成物の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。
【0044】他の除草剤の有効成分化合物としては、下
記するもの(一般名)が例示できるが、特に記載がない
場合であってもこれら化合物に塩、アルキルエステル等
が存在する場合は、当然それらも含まれる。
【0045】(1)2,4−D、MCPA、MCPB、
ナプロアニリド(naproanilide)のような
フェノキシ系、2,3,6−TBA、ジカンバ(dic
amba)、ピクロラム(picloram)、クロピ
ラリド(clopyralid)のような芳香族カルボ
ン酸系、その他ベナゾリン(benazolin)、キ
ンクロラック(quinclorac)、キンメラック
(quinmerac)、ダイフルフェンゾピル(di
flufenzopyr)などのように植物のオーキシ
ン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているも
の。
【0046】(2)ジウロン(diuron)、リニュ
ロン(linuron)、イソプロチュロン(isop
roturon)、メトベンズロン(metobenz
uron)のような尿素系、シマジン(simazin
e)、アトラジン(atrazine)、アトラトン
(atratone)、シメトリン(simetry
n)、プロメトリン(prometryn)、ジメタメ
トリン(dimethametryn)、メトリブジン
(metribuzine)、テルブチラジン(ter
buthylazine)、シアナジン(cyanaz
ine)、アメトリン(ametryn)のようなトリ
アジン系、ブロマシル(bromacil)、レナシル
(lenacil)のようなウラシル系、プロパニル
(propanil)、シプロミッド(cypromi
d)のようなアニリド系、スエップ(swep)、フェ
ンメディファム(phenmedipham)のような
カーバメート系、ブロモキシニル(bromoxyni
l)、ブロモキシニル・オクタノエート(bromox
ynil−octanoate)、アイオキシニル(i
oxynil)のようなヒドロキシベンゾニトリル系、
その他ピリデート(pyridate)、ベンタゾン
(bentazon)などのように植物の光合成を阻害
することで除草効力を示すとされているもの。
【0047】(3)それ自身が植物体中でフリーラジカ
ルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示
すとされているパラコート(paraquat)、ジク
ワット(diquat)のような4級アンモニウム塩
系。
【0048】(4)ニトロフェン(nitrofe
n)、クロメトキシフェン(chlomethoxyf
en)、ビフェノックス(bifenox)、アシフル
オルフェンナトリウム塩(acifluorfen−s
odium)、ホメサフェン(fomesafen)、
オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、ラ
クトフェン(lactofen)のようなジフェニルエ
ーテル系、クロルフタリム(chlorphthali
m)、フルミオキサジン(flumioxadin
e)、フルミクロラックペンチル(flumiclor
ac−pentyl)、フルチアセットメチル(flu
thiacet−methyl)のような環状イミド
系、その他オキサジアルギル(oxadiargy
l)、オキサジアゾン(oxadiazon)、スルフ
ェントラゾン(sulfentrazone)、カーフ
ェントラゾンエチル(carfentrazone−e
thyl)、チジアジミン(thidiazimi
n)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ア
ザフェニジン(azafenidin)、ピラフルフェ
ンエチル(pyraflufen−ethyl)、フル
ミオキサジン(flumioxazin)、5−〔4−
ブロモ−1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1
H−ピラゾール−3−イル〕−2−クロロ−4−フルオ
ロベンゾエートなどのように植物のクロロフィル生合成
を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させ
ることで除草効力を示すとされているもの。
【0049】(5)ノルフルラゾン(norflura
zon)、メトフルラゾン(metflurazon)
のようなピリダジノン系、ピラゾレート(pyrazo
late)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfe
n)、ベンゾフェナップ(benzofenap)のよ
うなピラゾール系、その他フルリドン(flurido
ne)、フルルタモン(flurtamone)、ジフ
ルフェニカン(diflufenican)、メトキシ
フェノン(methoxyphenone)、クロマゾ
ン(clomazone)、スルコトリオン(sulc
otrione)、メソトリオン(mesotrion
e)、イソキサフルトール(isoxaflutol
e)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、
イソキサクロロトール(isoxachlortol
e)などのようにカロチノイドなどの植物の色素生合成
を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされ
ているもの。
【0050】(6)ジクロホップメチル(diclof
op−methyl)、ピリフェノップナトリウム塩
(pyriphenop−sodium)、フルアジホ
ップブチル(fluazifop−butyl)、ハロ
キシホップメチル(haloxyfop−methy
l)、キザロホップエチル(quizalofop−e
thyl)、シハロホップブチル(cyhalofop
−butyl)、フェノキサプロップエチル(feno
xaprop−ethyl)のようなアリールオキシフ
ェノキシプロピオン酸系、アロキシジムナトリウム塩
(alloxydim−sodium)、クレソジム
(clethodim)、セトキシジム(sethox
ydim)、トラルコキジム(tralkoxydi
m)、ブトロキシジム(butroxydim)、テプ
ラロキシジム(tepraloxydim)のようなシ
クロヘキサンジオン系などのようにイネ科植物に特異的
に除草効力が強く認められるもの。
【0051】(7)クロリムロンエチル(chlori
muron−ethyl)、スルホメツロンメチル(s
ulfometuron−methyl)、プリミスル
フロンメチル(primisulfuron−meth
yl)、ベンスルフロンメチル(bensulfuro
n−methyl)、クロルスルフロン(chlors
ulfuron)、メトスルフロンメチル(metsu
lfuron−methyl)、シノスルフロン(ci
nosulfuron)、ピラゾスルフロンエチル(p
yrazosulfuron−ethyl)、アジムス
ルフロン(azimsulfuron)、フラザスルフ
ロン(flazasulfuron)、リムスルフロン
(rimusulfuron)、ニコスルフロン(ni
cosulfuron)、イマゾスルフロン(imaz
osulfuron)、シクロスルファムロン(cyc
losulfamuron)、プロスルフロン(pro
sulfuron)、フルピルスルフロン(flupy
rsulfuron)、トリスルフロンメチル(tri
sulfuron−methyl)、ハロスルフロンメ
チル(halosulfuron−methyl)、チ
フェンスルフロンメチル(thifensulfuro
n−methyl)、エトキシスルフロン(ethox
ysulfuron)、オキサスルフロン(oxasu
lfuron)、フルカーバゾン(flucarbaz
one)のようなスルホニルウレア系、フルメツラム
(flumetsulam)、メトスラム(metos
ulam)、ジクロスラム(diclosulam)、
クロランスラム(cloransulam)のようなト
リアゾロピリミジンスルホンアミド系、イマザピル(i
mazapyr)、イマゼタピル(imazethap
yr)、イマザキン(imazaquin)、イマザモ
ックス(imazamox)、イマザメス(imaza
meth)、イマザメタベンズ(imazametha
benz)のようなイミダゾリノン系、ピリチオバック
ナトリウム塩(pyrithiobac−sodiu
m)、ビスピリバックナトリウム塩(bispyrib
ac−sodium)、ピリミノバックメチル(pyr
iminobac−methyl)のようなピリミジニ
ルサリチル酸系、その他グリホサートアンモニウム塩
(glyphosate−ammonium)、グリホ
サートイソプロピルアミン塩(glyphosate−
isopropyl amine)、グルホシネートア
ンモニウム塩(glufosinate−ammoni
um)、ビアラホス(bialaphos)などのよう
に植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示
すとされているもの。
【0052】(8)トリフルラリン(triflura
lin)、オリザリン(oryzalin)、ニトラリ
ン(nitralin)、ペンディメタリン(pend
imethalin)、エタルフルラリン(ethal
fluralin)のようなジニトロアニリン系、アミ
プロホスメチル(amiprofos−methy
l)、ブタミホス(butamifos)、アニロホス
(anilofos)、ピペロホス(piperoph
os)のような有機リン系、クロルプロファム(chl
orpropham)、バーバン(barban)のよ
うなフェニルカーバメート系、ダイムロン(daimu
ron)、クミルロン(cumyluron)、ブロモ
ブチド(bromobutide)のようなクミルアミ
ン系、その他アシュラム(asulam)、ジチオピル
(dithiopyr)、チアゾピル(thiazop
yr)などのように植物の細胞有糸***を阻害すること
で除草効力を示すとされているもの。
【0053】(9)EPTC、ブチレート(butyl
ate)、モリネート(molinate)、ジメピペ
レート(dimepiperate)、エスプロカルブ
(esprocarb)、チオベンカルブ(thiob
encarb)、ピリブチカルブ(pyributic
arb)のようなチオカーバメート系、アラクロール
(alachlor)、ブタクロール(butachl
or)、プレチラクロール(pretilachlo
r)、メトラクロール(metolachlor)、テ
ニルクロール(thenylchlor)、ジメテナミ
ド(dimethenamid)、アセトクロール(a
cetochlor)、プロパクロール(propac
hlor)のようなクロロアセトアミド系、その他エト
ベンザニド(ethobenzanide)、メフェナ
セット(mefenacet)、チアフルアミド(th
iafluamide)、トリディファン(tridi
phane)、カフェンストロール(cafenstr
ole)、フェントラザミド(fentrazamid
e)、オキサジクロメフォン(oxaziclomef
on)、インダノファン(indanofan)、フル
フェナセット(flufenacet)などのように植
物のタンパク質生合成あるいは脂質生合成を阻害するこ
とで除草効力を示すとされているもの。
【0054】また本発明化合物は後記試験例1、2及び
3に見られるとおり、トウモロコシ、ダイズ、コムギ、
イネなどの作物に対し安全性を有し、且つ、雑草を良好
に防除できる選択性を示すものを含むが、本発明化合物
を前記作物栽培において使用する際、前記他の除草剤の
有効成分化合物の中、例えば次のごとき化合物の1種又
は2種以上と混用或は併用すれば相乗効果が得られるこ
とがある。
【0055】トウモロコシの栽培;2,4−D、MCP
A、ジカンバ、クロピラリド、ベナゾリン、ダイフルフ
ェンゾピル、ジウロン、リニュロン、メトベンズロン、
シマジン、アトラジン、アトラトン、メトリブジン、テ
ルブチラジン、シアナジン、アメトリン、シプロミッ
ド、ブロモキシニル、ブロモキシニル・オクタノエー
ト、ピリデート、ベンタゾン、パラコート、オキシフル
オルフェン、フルミクロラックペンチル、フルチアセッ
トメチル、フルリドン、スルコトリオン、メソトリオ
ン、イソキサフルトール、カーフェントラゾンエチル、
プリミスルフロンメチル、リムスルフロン、ニコスルフ
ロン、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、チフェ
ンスルフロンメチル、フルメツラム、メトスラム、イマ
ゼタピル、グリホサートアンモニウム塩、グリホサート
イソプロピルアミン塩、グルホシネートアンモニウム
塩、トリフルラリン、ペンディメタリン、EPTC、ブ
チレート、アラクロール、メトラクロール、アセトクロ
ール、プロパクロール、ジメテナミド、トリディファン
【0056】ダイズの栽培;2,4−D、リニュロン、
メトリブジン、シアナジン、ベンタゾン、パラコート、
アシフルオルフェンナトリウム塩、ホメサフェン、ラク
トフェン、フルミクロラックペンチル、フルチアセット
メチル、スルフェントラゾン、ノルフルラゾン、クロマ
ゾン、フルアジホップブチル、キザロホップエチル、フ
ェノキサプロップエチル、クレソジム、セトキシジム、
クロリムロンエチル、チフェンスルフロンメチル、オキ
サスルフロン、フルメツラム、イマザピル、イマゼタピ
ル、イマザキン、イマザモックス、トリフルラリン、ペ
ンディメタリン、エタルフルラリン、アラクロール、メ
トラクロール、アセトクロール、フルフェナセット
【0057】コムギの栽培;MCPB、キンメラック、
リニュロン、イソプロチュロン、プロメトリン、ブロモ
キシニル、ブロモキシニル・オクタノエート、ピリデー
ト、ビフェノックス、カーフェントラゾンエチル、チジ
アジミン、ピラフルフェンエチル、フルルタモン、ジフ
ルフェニカン、スルコトリオン、ジクロホップメチル、
トラルコキジム、クロルスルフロン、メトスルフロンメ
チル、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、フルメ
ツラム、メトスラム、ペンディメタリン、バーバン、イ
マザメタベンズ
【0058】イネの栽培;2,4−D、MCPA、MC
PB、ナプロアニリド、キンクロラック、シメトリン、
プロメトリン、ジメタメトリン、プロパニル、スエッ
プ、ベンタゾン、ニトロフェン、クロメトキシフェン、
ビフェノックス、オキサジアルギル、オキサジアゾン、
スルフェントラゾン、カーフェントラゾンエチル、ペン
トキサゾン、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ベンゾ
フェナップ、メトキシフェン、シハロホップブチル、ベ
ンスルフロンメチル、シノスルフロン、ピラゾスルフロ
ンエチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、シク
ロスルファムロン、エトキシスルフロン、ビスピリバッ
クナトリウム塩、ピリミノバックメチル、アニロホス、
ピペロホス、ダイムロン、クミルロン、ブロモブチド、
ジチオピル、モリネート、ジメピペレート、エスプロカ
ルブ、チオベンカルブ、ピリブチカルブ、テニルクロー
ル、プレチラクロール、ブタクロール、エトベンザニ
ド、メフェナセット、カフェンストロール、フェントラ
ザミド、インダノファン
【0059】
【実施例】次に本発明の実施例を記載するが、本発明は
これらに限定されるものではない。まず本発明化合物の
合成例を記載する。
【0060】合成例1 2−(3−トリフルオロメチルフェノキシ)−6−ヒド
ロキシ−4−メトキシピリジン(後記化合物No.1
2)の合成 (1) 60%油性の水素化ナトリウム1.9gをテトラヒド
ロフラン20mlに加え、そこへベンジルアルコール5.8gを
テトラヒドロフラン10mlに溶解させた溶液を冷却攪拌下
で徐々に滴下した。滴下終了後、室温で30分間攪拌した
後、再度冷却し、2,6−ジクロロ−4−メトキシピリ
ジン8.0gをテトラヒドロフラン20mlに溶解させた溶液を
徐々に滴下した。滴下終了後、加熱還流下で2時間反応
させた。反応終了後放冷し、反応液を水中投入した。塩
酸を加え中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=85/15)で分
離精製して、2−ベンジルオキシ−6−クロロ−4−メ
トキシピリジン12.0g を得た。
【0061】(2) 60%油性の水素化ナトリウム2.0g
をジメチルホルムアミド20mlに加え、そこへ3−ヒドロ
キシベンゾトリフルオリド7.5gをジメチルホルムアミド
10mlに溶解させた溶液を冷却攪拌下で徐々に滴下した。
滴下終了後、室温で1時間攪拌した後、再度冷却し、ヨ
ウ化銅4.4gとピリジン1.8gを加え、次いで2−ベンジル
オキシ−6−クロロ−4−メトキシピリジン11.5g をジ
メチルホルムアミド10mlに溶解させた溶液を徐々に滴下
した。滴下終了後、80℃で5日間反応させた。反応終了
後放冷し、反応液を水中投入した。飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=85/15)で分離精
製して、2−ベンジルオキシ−6−(3−トリフルオロ
メチルフェノキシ)−4−メトキシピリジン4.9gを得
た。 (3) 2−ベンジルオキシ−6−(3−トリフルオロ
メチルフェノキシ)−4−メトキシピリジン4.9gを乾燥
したメタノール50mlに溶解させ、触媒量の塩化パラジウ
ムとパラジウムカーボンを加え、水素ガス加圧下、室温
で5時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾
液から溶媒を減圧下で留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸
エチル=1 /3 )で分離精製して、融点152〜154
℃である目的物3.2gを得た。
【0062】合成例2 2−(1,2−ジクロロ−1−プロペニルオキシ−3−
イル)−6−(3−トリフルオロメチルフェノキシ)−
4−メトキシピリジン(後記化合物No.121)の合
成 2−(3−トリフルオロメチルフェノキシ)−6−ヒド
ロキシ−4−メトキシピリジン3.0gをジメチルスルホキ
シド30mlに溶解させ、そこへ炭酸カリウム1.4gとE体−
Z体混合の1,2,3−トリクロロプロペン1.7gを加
え、80℃で2時間反応させた。反応終了後放冷し、反応
液を水中投入した。塩酸を加え中和した後、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸
エチル=3 /1 )で分離精製して、E体−Z体混合の油
状目的物2.6gを得た。
【0063】合成例3 2−(3−トリフルオロメチルフェノキシ)−6−ヒド
ロキシ−4―メトキシピリジン(後記化合物No.1
2)の合成 (1) 炭酸カリウム940mg をジメチルスルホキシド10
mlに加え、そこへ3−ヒドロキシベンゾトリフルオリド
1.1gを滴下し、室温で30分間攪拌した。その後、2,6
−ジクロロ−4−メトキシピリジン1.1gを加え、110 ℃
で18時間反応させた。反応終了後放冷し、反応液を水中
投入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−
ヘキサン)で分離精製して、油状の6−クロロ−4―メ
トキシ−2−(3−トリフルオロメチルフェノキシ)ピ
リジン1.28gを得た。 (2) 6−クロロ−4―メトキシ−2−(3−トリフ
ルオロメチルフェノキシ)ピリジン600mg と水酸化カリ
ウム220mg をtert−ブタノール10mlに溶解させ、100 ℃
還流下で5時間反応させた。反応終了後放冷し、反応液
を水中投入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗
し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で分離精製
して、目的物とその分解物との混合物100mg を得た。
【0064】合成例4 2−(3−トリフルオロメチルフェノキシ)−6−ヒド
ロキシ−4―メチルチオピリジン(後記化合物No.1
5)の合成 (1) 炭酸カリウム1.2gをジメチルスルホキシド10ml
に加え、そこへ3−ヒドロキシベンゾトリフルオリド1.
4gを滴下し、室温で30分間攪拌した。その後、2,6−
ジクロロ−4−メチルチオピリジン1.5gを加え、110 ℃
で5時間反応させた。反応終了後放冷し、反応液を水中
投入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−
ヘキサン)で分離精製して、6−クロロ−4―メチルチ
オ−2−(3−トリフルオロメチルフェノキシ)ピリジ
ン1.2gを得た。 (2) 6−クロロ−4−メチルチオ−2−(3−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ピリジン600mg と水酸化カ
リウム300mg をtert−ブタノール10mlに溶解させ、100
℃還流下で5時間反応させた。反応終了後放冷し、反応
液を水中投入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗
し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:トルエン/酢酸エチル=5/1)で分離精製し
て、融点120〜121℃の目的物30mgを得た。
【0065】合成例5 6−メトキシ−3−ニトロ−2−(3−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ピリジン(後記化合物No.32)の
合成 炭酸カリウム1.0gをジメチルスルホキシド4ml に加え、
冷却攪拌下で3−ヒドロキシベンゾトリフルオリド1.0g
を滴下し、室温で30分間攪拌した。その後、2−クロ
ロ−6−メトキシ−3−ニトロピリジン1.15g を加え、
80℃で4時間反応させた。反応終了後放冷し、反応液を
水中投入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:
n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で分離精製して、
油状の目的物1.77gを得た。
【0066】合成例6 3−アミノ−6−メトキシ−2−(3−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ピリジン(後記化合物No.33)の
合成 6−メトキシ−3−ニトロ−2−(3−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ピリジン1.0gとパラジウム炭素100mg
をエタノール10mlに加え、水素ガス加圧下、室温で5時
間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液から
溶媒を減圧下で留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン/酢酸エチル
=4/1)で分離精製して、油状の目的物800mg を得
た。
【0067】合成例7 3−ジメチルアミノ−6−メトキシ−2−(3−トリフ
ルオロメチルフェノキシ)ピリジン(後記化合物No.
34)の合成 6−メトキシ−3−ニトロ−2−(3−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ピリジン1.0gをジメチルホルムアミド
10mlに加え、そこへ80℃で30%ホルムアルデヒド2ml と
ギ酸2ml を滴下し、同温度で2時間反応させた。反応終
了後放冷し、反応液を炭酸ナトリウム水溶液に投入し、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン
/酢酸エチル=5/1)で分離精製して、油状の目的物
830mg を得た。
【0068】次に、前記式(I) で表される本発明化合物
の代表例を第1表に挙げ、それら化合物のNMRスペク
トルデータを第2表に記載する。また、前記式(IV)で表
される中間体化合物の代表例を第3表に挙げ、それら化
合物のNMRスペクトルデータを第4表に記載する。こ
れら化合物は前記合成例或は前記した本発明化合物又は
中間体化合物の種々の製造方法に基づいて合成すること
ができる。第1表及び第3表で用いられる略号は、各々
以下の意味を示す。Me:メチル基、Et:エチル基、Pr:
プロピル基、Bu:ブチル基、Hex:ヘキシル基、Cy:シク
ロ、n:ノルマル、i:イソ。また、Cy-Hex(2-Cl)は、2−
クロロシクロヘキシル基を示す。他の同様の記載もこれ
に準じる。第1表及び第3表中、R1 が「−」であるも
のは、nが0のものである。
【0069】
【表1】
【0070】
【表2】
【0071】
【表3】
【0072】
【表4】
【0073】
【表5】
【0074】
【表6】
【0075】
【表7】
【0076】
【表8】
【0077】
【表9】
【0078】
【表10】
【0079】
【表11】
【0080】
【表12】
【0081】
【表13】
【0082】
【表14】
【0083】
【表15】
【0084】次に本発明の試験例を記載する。 試験例1 1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつ
め、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の
葉令((1) ノビエ1.8〜2.3葉期、(2) メヒシバ
1.6〜1.9葉期、(3) アオゲイトウ0.2〜0.6
葉期、(4) アメリカキンゴジカ0.2〜0.5葉期、
(5) マルバアサガオ0.5〜1.1葉期、(6)オナモミ
0.8〜1.6葉期、(7) イネ1.7〜2.1葉期、
(8) コムギ2.1〜2.8葉期、(9) トウモロコシ2.
3〜2.9葉期、(10)ダイズ初生葉期)に達したとき、
本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤
を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘクタール当
り500リットルの水に希釈した。更にその希釈液に対
して農業用展着剤を0.1容量%加え、小型スプレーで
茎葉処理した。
【0085】薬剤処理後21〜22日目に各種植物の生
育状態を肉眼観察し、0 (無処理区と同等)〜100
(完全枯殺)の抑草率(%)で除草効果を評価し、第5
表の結果を得た。
【0086】
【表16】
【0087】試験例2 1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつ
め、各種植物の種子(ノビエ、メヒシバ、アオゲイト
ウ、アメリカキンゴジカ、マルバアサガオ、オナモミ、
イネ、コムギ、トウモロコシ及びダイズ)を播種した。
播種翌日、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製
した水和剤を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘ
クタール当り1500リットルの水に希釈したものを小
型スプレーで土壌処理した。
【0088】薬剤処理後21〜22日目に各種植物の生
育状態を肉眼観察し、0 (無処理区と同等)〜100
(完全枯殺)の抑草率(%)で除草効果を評価し、第6
表の結果を得た。
【0089】
【表17】
【0090】試験例3 1/1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を
詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽
く覆土した。その後湛水深0.5〜1cmの状態で温室
内に静置し、2日後にウリカワの塊茎を植え込んだ。そ
の後湛水深を3〜4cmに保ち、ノビエ及びホタルイが
0.5葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発
明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤の水
希釈液を、所定有効成分量になるようにピペットで均一
に滴下処理した。
【0091】また1/1,000,000ヘクタールポ
ットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を3〜4
cmとし、1日後に2葉期のイネ(品種:日本晴)を移
植深3cmに移植した。移植後4日目に本発明化合物を
前述と同様に処理した。薬剤処理後14日目にノビエ、
ホタルイ及びウリカワの生育状態を、薬剤処理後21日
目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、0 (無処理区と
同等)〜100(完全枯殺)の抑草率(%)で除草効果
を評価し、第7表の結果を得た。
【0092】
【表18】
【0093】次に、本発明の製剤例を記載する。 製剤例1 (1)本発明化合物 75 重量部 (2)ゲロポンT−77(商品名;ローヌ・プーラン社製) 14.5重量部 (3)NaCl 10 重量部 (4)デキストリン 0.5重量部 以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ2
0%の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤を得る。
【0094】 製剤例2 (1)カオリン 78 重量部 (2)ラベリンFAN(商品名;第一工業製薬(株)製) 2 重量部 (3)ソルポール5039(商品名;東邦化学工業(株)製) 5 重量部 (4)カープレックス(商品名;塩野義製薬(株)製) 15 重量部 以上、(1)〜(4)の成分の混合物と本発明化合物と
を9:1の重量割合で混合して水和剤を得る。
【0095】 製剤例3 (1)ハイフィラーNo.10(商品名;松村産業(株)製)33 重量部 (2)ソルポール5050(商品名;東邦化学工業(株)製) 3 重量部 (3)ソルポール5073(商品名;東邦化学工業(株)製) 4 重量部 (4)本発明化合物 60 重量部 以上の(1)〜(4)の各成分を混合して水和剤を得
る。
【0096】 製剤例4 (1)本発明化合物 4 重量部 (2)ベントナイト 30 重量部 (3)炭酸カルシウム 61.5重量部 (4)トキサノンGR-31 A(商品名;三洋化成工業(株)製)3 重量部 (5)リグニンスルホン酸カルシウム塩 1.5重量部 予め粉砕した(1)と、(2)及び(3)とを混合し、
そこへ(4)、(5)及び水を加えて混合し、押出し造
粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤を得る。
【0097】 製剤例5 (1)本発明化合物 30 重量部 (2)ジークライト(商品名;ジークライト(株)製) 60 重量部 (3)ニューカルゲンWG−1(商品名;竹本油脂(株)製) 5 重量部 (4)ニューカルゲンFS−7(商品名;竹本油脂(株)製) 5 重量部 (1)、(2)及び(3)を混合し、粉砕機を通した
後、(4)を加えて混練後、押出し造粒する。その後、
乾燥、整粒して顆粒水和剤を得る。
【0098】 製剤例6 (1)本発明化合物 40 重量部 (2)ソプロポールFL(商品名;ローヌ・プーラン社製) 2 重量部 (3)シリコン 0.2重量部 (4)ザンサンガム 0.1重量部 (5)エチレングリコール 5 重量部 (6)水 52.7重量部 以上の(1)〜(6)の成分を混合し、湿式粉砕機(ダ
イノ−ミル)を用いて粉砕して水性懸濁剤を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木代 宣子 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内 Fターム(参考) 4C055 AA01 BA03 BA39 BA42 BA47 BB01 BB02 BB04 BB07 BB10 CA01 CA02 CA03 CA05 CA06 CA13 CA39 CA51 CA52 CA57 CA59 CB01 CB02 DA01 DA05 DA06 DA13 DA16 DA42 DA47 DA52 DA57 DA58 DB01 DB02 FA01 FA32 FA37 4H011 AB01 AB02 DA02 DA14 DD03

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I); 【化1】 (式中、R1 はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
    ルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロ
    アルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、ハ
    ロアルキルチオ、アルケニル、アルキニル、アミノ、モ
    ノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルフ
    ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニル、
    ジアルキルアミノカルボニル、シアノ又はニトロであ
    り、R2 は水素原子、置換されてもよいアルキル、置換
    されてもよいアルケニル、置換されてもよいアルキニル
    又は置換されてもよいシクロアルキルであり、Xは酸素
    原子又は硫黄原子であり、nは0〜3の整数であり、n
    が2以上の場合のR1 は同一でも相異ってもよい)で表
    されるフェノキシピリジン系化合物又はその塩。
  2. 【請求項2】 式(I-1); 【化2】 (式中、R1 はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
    ルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロ
    アルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、ハ
    ロアルキルチオ、アルケニル、アルキニル、アミノ、モ
    ノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルフ
    ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニル、
    ジアルキルアミノカルボニル、シアノ又はニトロであ
    り、Xは酸素原子又は硫黄原子であり、nは0〜3の整
    数であり、nが2以上の場合のR1 は同一でも相異って
    もよい)で表されるフェノキシピリジン系化合物又はそ
    の塩の製造方法であって、(1) 式(II); 【化3】 (式中、R1 、X及びnは前述の通りであり、Bnはア
    ルキル又はアルコキシにより置換されていてもよいベン
    ジルである)で表される化合物を用いて加水分解反応を
    行なうか、(2) 式(II)の化合物を用いて水素添加反応を
    行なうか、或いは(3) 式(II)の化合物を用い、酸化剤の
    存在下で脱ベンジル化反応を行なうか、いずれかの方法
    により前記式(I-1) の化合物を製造することを特徴とす
    る方法。
  3. 【請求項3】 式(I-2); 【化4】 (式中、R1 はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
    ルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロ
    アルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、ハ
    ロアルキルチオ、アルケニル、アルキニル、アミノ、モ
    ノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルフ
    ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニル、
    ジアルキルアミノカルボニル、シアノ又はニトロであ
    り、R2'は置換されてもよいアルキル、置換されてもよ
    いアルケニル、置換されてもよいアルキニル又は置換さ
    れてもよいシクロアルキルであり、Xは酸素原子又は硫
    黄原子であり、nは0〜3の整数であり、nが2以上の
    場合のR1 は同一でも相異ってもよい)で表されるフェ
    ノキシピリジン系化合物又はその塩の製造方法であっ
    て、(1) 式(I-1); 【化5】 (式中、R1 、X及びnは前述の通りである)で表され
    る化合物と、式(III); 【化6】 (式中、R2'は前述の通りであり、Z1 はハロゲンであ
    る)で表される化合物とを反応させるか、或いは(2) 式
    (IV); 【化7】 (式中、R1 及びnは前述の通りであり、Z3 はハロゲ
    ンである)で表される化合物と、式(V); 【化8】 (式中、R2'及びXは前述の通りである)で表される化
    合物とを反応させるか、いずれかの方法により前記式(I
    -2) の化合物を製造することを特徴とする方法。
  4. 【請求項4】 式(I-2); 【化9】 (式中、R1 はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
    ルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロ
    アルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、ハ
    ロアルキルチオ、アルケニル、アルキニル、アミノ、モ
    ノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルフ
    ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニル、
    ジアルキルアミノカルボニル、シアノ又はニトロであ
    り、R2'は置換されてもよいアルキル、置換されてもよ
    いアルケニル、置換されてもよいアルキニル又は置換さ
    れてもよいシクロアルキルであり、Xは酸素原子又は硫
    黄原子であり、nは0〜3の整数であり、nが2以上の
    場合のR1 は同一でも相異ってもよい)で表されるフェ
    ノキシピリジン系化合物又はその塩の製造方法であっ
    て、式(VI); 【化10】 (式中、R1 、R2'、X及びnは前述の通りであり、Z
    2 はハロゲンである)で表される化合物と、式(VII); 【化11】 で表される化合物とを反応させることを特徴とする方
    法。
  5. 【請求項5】 式(I-3); 【化12】 (式中、R1 はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ア
    ルコキシアルキル、シアノアルキル、アルコキシ、ハロ
    アルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、ハ
    ロアルキルチオ、アルケニル、アルキニル、アミノ、モ
    ノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルフ
    ィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカルボニル、
    ジアルキルアミノカルボニル、シアノ又はニトロであ
    り、nは0〜3の整数であり、nが2以上の場合のR1
    は同一でも相異ってもよい)で表されるフェノキシピリ
    ジン系化合物又はその塩の製造方法であって、式(IV); 【化13】 (式中、R1 及びnは前述の通りであり、Z3 はハロゲ
    ンである)で表される化合物と、水酸化カリウム及びte
    rt−ブタノールとを反応させることを特徴とする方法。
  6. 【請求項6】 請求項1のフェノキシピリジン系化合物
    又はその塩を有効成分として含有する除草剤。
  7. 【請求項7】 請求項1のフェノキシピリジン系化合物
    又はその塩の有効成分量を施用する有害雑草の防除方
    法。
  8. 【請求項8】 請求項1のフェノキシピリジン系化合物
    又はその塩の少なくとも1種と、他の除草剤の有効成分
    化合物の少なくとも1種とを含有する混合除草性組成
    物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105753775A (zh) * 2016-03-31 2016-07-13 常州大学 一种2-溴-6-(3-(三氟甲基)苯氧基)吡啶的合成方法

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CN105753775A (zh) * 2016-03-31 2016-07-13 常州大学 一种2-溴-6-(3-(三氟甲基)苯氧基)吡啶的合成方法

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