JP2004002394A - ピリジン系化合物又はその塩並びにそれらを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

【課題】除草剤の有効成分として有用な新規ピリジン系化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）：
【化１】

（式中、Ｒ^１は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、Ｒ^２は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基などであり、Ｒ^３は置換されてもよいアルキル基などであり、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基であり、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、Ｒ^８は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であり並びにＸはＣＯ、ＣＳ又はＳＯ_２である）で表されるピリジン系化合物又はその塩。
【選択図】　　　　　なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、除草剤の有効成分として有用な新規ピリジン系化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特開平９−３２８４７１号公報には、４−ジフルオロハロゲノアルキル−３−置換ピリジン誘導体が開示されているが、後記式（Ｉ）のピリジン系化合物に近似する具体的化合物の記載はない。また、国際公開公報　ＷＯ　０１／１７９７５には、ピリミジン誘導体が開示されているが、後記式（Ｉ）のピリジン系化合物とは化学構造が異なる。
【０００３】
【特許文献１】
特開平９−３２８４７１号公報
【０００４】
【特許文献２】
国際公開公報　ＷＯ　０１／１７９７５
【０００５】
【発明が解決しようとする課題とその手段】
本願発明者らは、より優れた除草剤を見出すべく種々検討した結果、特定のピリジン系化合物が優れた除草活性を有することを見出し、本発明を完成した。すなわち本発明は、式（Ｉ）：
【０００６】
【化９】

【０００７】
（式中、Ｒ^１は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、Ｒ^２は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいシクロアルケニル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよいフェニルアミノ基、置換されてもよい環状アルキルアミノ基、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよい環状エーテル基であり、Ｒ^３は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよいヘテロアリール基であり、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基であり、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、Ｒ^８は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であり並びにＸはＣＯ、ＣＳ又はＳＯ_２であり、但しＲ^４はクロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル又はヨードジフルオロメチルでない）で表されるピリジン系化合物又はその塩、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤に関する。
【０００８】
置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいシクロアルケニル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよい環状アルキルアミノ基及び置換されてもよい環状エーテル基のその置換基としては、例えばハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ジアルキルアミノ、トリメチルシリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、環状エーテル、さらに置換されてもよいアリール、さらに置換されてもよいアリールオキシ、さらに置換されてもよいアリールチオ、さらに置換されてもよいヘテロアリールなどが挙げられる。これら置換基の置換数は１又は２以上であってよく、２以上の場合、それらの置換基は同一でも相異なっていてもよい。２以上のアルキルが置換する場合、それらアルキルが互いに結合して、炭素環を形成してもよい。また、これら置換基のうち、さらに置換されてもよいアリール、さらに置換されてもよいアリールオキシ、さらに置換されてもよいアリールチオ及びさらに置換されてもよいヘテロアリールは、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、トリメチルシリル、アルコキシイミノ、フェニルなどで置換されていてもよい。
【０００９】
置換されてもよいフェニルアミノ基、置換されてもよいアリール基及び置換されてもよいヘテロアリール基のその置換基としては、例えばハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、トリメチルシリル、アルコキシイミノ、フェニルなどが挙げられる。これら置換基の置換数は１又は２以上であってよく、２以上の場合、それらの置換基は同一でも相異なっていてもよい。また、これら置換基のうち、フェニルは、さらにハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、アルコキシイミノ、トリメチルシリルなどにより置換されていてもよい。
【００１０】
アルキル又はアルキル部分としては、炭素数１〜８の直鎖又は分枝状のものであってよく、例えばメチル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル、ノルマルブチル、セカンダリーブチル、ターシャリーブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
【００１１】
アルケニル又はアルケニル部分としては、炭素数２〜８の直鎖又は分枝状のものであってよく、例えばビニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニルなどが挙げられる。
【００１２】
アルキニル又はアルキニル部分としては、炭素数２〜８の直鎖又は分枝状のものであってよく、例えばエチニル、プロピニル、ブチニル、イソブチニル、ペンチニル、ヘキシニルなどが挙げられる。
【００１３】
シクロアルキルとしては、炭素数３〜６のものであってよく、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。また、インダニルのようにベンゼン環が縮合したものであってもよい。
【００１４】
シクロアルケニルとしては、炭素数４〜６のものであってよく、例えばシクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどが挙げられる。また、インデニルのようにベンゼン環が縮合したものであってもよい。
【００１５】
環状アルキルアミノとしては、炭素数２〜６のものであってよく、例えばアジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニルなどが挙げられる。
【００１６】
アリールとしては、フェニル、ナフチルなどが挙げられる。また、インダニルのようにシクロアルカンが縮合したものであってもよい。
【００１７】
ヘテロアリールとしては、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれた１から３個のヘテロ原子を含む５員若しくは６員のアリール又はそれらにベンゼン環が縮合したものであり、例えばチエニル、フラニル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソキサゾリル、ベンゾイミダゾリル、インダゾリル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニルなどが挙げられる。
【００１８】
ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。ハロアルキル基などに含まれるハロゲン原子の数は１又は２以上であってよく、２以上の場合、各ハロゲンは同一でも相異なってもよい。また、ハロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。
【００１９】
環状エーテルとしては、炭素数２〜４のものであってよく、例えばエポキシ、テトラヒドロフリル、１，３−ジオキソラニル、１，３−ジオキサニルなどが挙げられる。
【００２０】
式（Ｉ）のピリジン系化合物は、塩を形成することが可能である。その塩としては、農業上許容されるものであればあらゆるものが含まれるが、例えばナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩；ジメチルアミン塩、トリエチルアミン塩のようなアンモニウム塩などが挙げられる。
【００２１】
式（Ｉ）のピリジン系化合物には、光学異性体又は幾何異性体が存在し、本発明には各異性体及び異性体混合物の双方が含まれる。
【００２２】
式（Ｉ）のピリジン系化合物のうち、ＸがＣＯである化合物は、方法〔Ａ〕に従って製造することができる。
【化１０】

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りであり、Ｙ^１はＯＨ基、塩素原子、臭素原子又はＲ^２ＣＯＯ基である）
【００２３】
すなわち、式（Ｉ−１）のピリジン系化合物は、式（ＩＩ）のアミン誘導体と式（ＩＩＩ−１）のカルボン酸誘導体とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は塩基の存在下で行なわれる。塩基としては、無機塩基、有機塩基のいずれも使用することができる。無機塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；などが挙げられる。有機塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウムのような有機リチウム化合物；トリエチルアミンのような３級アミン；ピリジンなどが挙げられる。上記反応は、Ｙ^１がＯＨ基である場合、縮合剤の存在下で行なわれる。縮合剤としては、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾールなどが挙げられる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような極性非プロトン性溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素などがあげられ、それらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−２０　℃〜１２０　℃、好ましくは−１０　℃〜５０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００２４】
式（Ｉ）のピリジン系化合物のうち、ＸがＳＯ_２である化合物は、方法〔Ｂ〕に従って製造することができる。
【化１１】

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りであり、Ｙ^２は塩素原子、臭素原子又はＲ^２ＳＯ_２Ｏ基である）
すなわち、式（Ｉ−２）のピリジン系化合物は、式（ＩＩ）のアミン誘導体と式（ＩＩＩ−２）のスルホン酸誘導体とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は、前記方法〔Ａ〕に準じて行われる。
【００２５】
式（Ｉ）のピリジン系化合物のうち、ＸがＣＳである化合物は、方法〔Ｃ〕に従って製造することができる。
【化１２】

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）
【００２６】
すなわち、式（Ｉ−３）のピリジン系化合物は、式（Ｉ−１）の化合物と硫化剤とを反応させることにより製造することができる。硫化剤としては、例えば、五硫化リン、ローソン試薬［２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド］などが挙げられる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素などが挙げられる。
反応温度は、通常８０　℃〜１５０　℃、好ましくは１１０　℃〜１３０　℃である。反応時間は３０分から２４時間である。
【００２７】
式（ＩＩ）のアミン誘導体には、新規化合物が含まれ、例えば以下に示す方法〔Ｄ〕〜〔Ｌ〕に従って製造することができる。
【化１３】

（式中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りであり、Ｒ^９はＣ_１〜Ｃ_６アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_６アルキルで置換されてもよいフェニル基である）
【００２８】
すなわち、式（ＩＩ）のアミン誘導体は、方法〔Ｄ〕に従って、式（ＶＩ）のスルホン酸エステルと式（ＶＩＩ）のアミンとを反応させることにより製造することができる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、メタノール、エタノールのようなアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのような環状エーテル類；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのような極性非プロトン性溶媒；水；或は水とここに列挙した有機溶媒類との混合物などが挙げられる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−２０　℃〜１５０　℃、好ましくは−１０　℃〜１２０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００２９】
上記式（ＶＩ）のスルホン酸エステルは、方法〔Ｅ〕に従って式（ＩＶ）のアルコール誘導体と式（Ｖ）のスルホン酸塩化物とを反応させて製造することができる。
【化１４】

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^９は前述の通りである）
【００３０】
上記反応は塩基の存在下で行われる。塩基としては、前記方法〔Ａ〕の説明で例示したものと同様のものが挙げられるが、特にピリジン、トリエチルアミンなどの有機塩基が好適である。またピリジンは、大過剰に使用することにより、溶媒と塩基の二つの役割を果たすこともできる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、前記方法〔Ａ〕の説明で例示したものと同様のものが挙げられる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−７８　℃〜１２０　℃、好ましくは−２０　℃〜５０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００３１】
また、式（ＩＩ）のアミン誘導体のうち、特にＲ^１が水素原子の化合物は、方法〔Ｆ〕に従って製造することができる。
【化１５】

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）
【００３２】
すなわち、式（ＩＸ）のアジド化合物を還元することにより式（ＩＩ−１）のアミン誘導体を製造することができる。
還元反応としては、パラジウム炭素、白金炭素、ラネーニッケル等の触媒を用いた水素化接触還元が、好適である。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、メタノール、エタノールのようなアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのような環状エーテル類などが挙げられる。
反応は、大気圧から５気圧程度の水素ガス気流下で実施され、反応温度は、通常−２０　℃〜１００　℃、好ましくは０　℃〜５０　℃であり、反応時間は３０分から２４時間である。
【００３３】
上記式（ＩＸ）のアジド化合物は、方法〔Ｇ〕に従って式（ＶＩ）のスルホン酸エステル誘導体と式（ＶＩＩＩ）のアルカリ金属アジドとを反応させて製造することができる。
【化１６】

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^９は前述の通りであり、Ｚはナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属である）
【００３４】
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよいが、例えば、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような極性非プロトン性溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサンのような環状エーテル類；ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−２０　℃〜１５０　℃、好ましくは−１０　℃〜１２０　℃である。反応時間は３０分から２４時間である。
【００３５】
また、式（ＩＩ）のアミン誘導体のうち、特にＲ^１が置換されてもよいアルキル基の化合物は、方法〔Ｈ〕に従って製造することができる。
【化１７】

（式中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）
【００３６】
すなわち、式（ＸＩ）のカルボン酸アミドを還元することにより式（ＩＩ−２）のアミン誘導体を製造することができる。
還元反応は、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ボラン錯体等の還元剤を使用して行われる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類；トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水素などが挙げられる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−２０　℃〜１５０　℃、好ましくは−１０　℃〜１２０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００３７】
上記式（ＸＩ）のカルボン酸アミドは、方法〔Ｉ〕に従って式（ＩＩ−１）のアミン誘導体と式（Ｘ）のカルボン酸誘導体とを反応させて製造することができる。
【化１８】

（式中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りであり、Ｙ^３はＯＨ基、塩素原子又はＲ^１ＣＯＯ基である）
【００３８】
上記反応は塩基又は縮合剤の存在下で行われる。塩基及び縮合剤としては、前記方法〔Ａ〕の説明で例示したものと同様のものが挙げられる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、前記方法〔Ａ〕の説明で例示したものと同様のものがあげられる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−２０　℃〜１２０　℃、好ましくは−１０　℃〜５０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００３９】
また、式（ＩＩ）のアミン誘導体は、方法〔Ｊ〕に従って製造することができる。
【化１９】

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りであり、Ｒ^ａはアルキル基又はフェニル基であり、Ｒ^ｂは水素原子又はＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
【００４０】
すなわち、式（ＩＩ−３）のアミン誘導体は、式（ＩＸ）のアジド誘導体に対し、トリメチルホスフィン、トリフェニルホスフィンのようなホスフィンとアルデヒドとを反応させることによって反応溶液中に生成するホスホニウムイリドを、水素化ホウ素ナトリウムで還元することにより得られる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類；トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水素；ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールのようなアルコール類などが挙げられる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−２０　℃〜１００　℃、好ましくは−１０　℃〜６０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００４１】
また、式（ＩＩ）のアミン誘導体は、方法〔Ｋ〕に従って製造することができる。
【化２０】

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^ｂは前述の通りである）
【００４２】
すなわち、式（ＩＩ‐３）のアミン誘導体は、式（ＩＩ‐１）のアミン誘導体に対し、オルトギ酸メチルやオルト酢酸エチルのような、オルトエステル類を反応させることによって生成する、アルコキシイミンを、水素化ホウ素ナトリウムで還元することにより得られる。
アルコキシイミンは、トリフルオロ酢酸、無水酢酸等の酸触媒の存在下に生成する。本反応に、溶媒は使用しない。また、本反応は、必要により、不活性ガス気流下で行なわれる。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常５０　℃〜２００　℃、好ましくは８０　℃〜１８０　℃である。反応時間は、３０分から１２時間である。
アルコキシイミンの還元反応は、溶媒中で行なわれる。溶媒は、メタノール、エタノール等のアルコールが使用される。
反応温度は、通常−２０　℃〜１２０　℃、好ましくは０　℃〜８０　℃である。反応時間は、３０分から１２時間である。
【００４３】
また、前記式（ＩＶ）のアルコール誘導体は、方法〔Ｌ〕に従って製造することができる。
【化２１】

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）
【００４４】
すなわち、式（ＩＶ）のアルコール誘導体は、式（ＸＩＩ）のピリジン誘導体に対し、リチウムジイソプロピルアミドを反応させた後、アルデヒドを反応させることによって得られる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類があげられる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−１００　℃〜６０　℃、好ましくは−８５　℃〜３０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００４５】
式（Ｉ）のピリジン系化合物は、方法〔Ｍ〕〜〔Ｎ〕に従って製造することもできる。
【化２２】

（式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｘ及びＹ^１は前述の通りである）
上記反応は、前記方法〔Ａ〕に準じて行われる。
【００４６】
【化２３】

（式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りであり、Ｒ^{１ ａ}は置換されてもよいアルキル基であり、Ｙ^４は塩素原子、臭素原子、沃素原子、−ＯＳＯ_２Ｒ^９基又は−ＯＳＯ_３Ｒ^９基であり、Ｒ^９は前述の通りである）
上記反応は塩基の存在下で行なわれる。塩基としては、無機塩基、有機塩基のいずれも使用することができる。無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物などが挙げられる。有機塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウムのような有機リチウム化合物；トリエチルアミンのような３級アミン；ピリジンなどが挙げられる。
上記反応は溶媒中で行われる。溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような極性非プロトン性溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素などがあげられ、それらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
また上記反応は、必要により、不活性ガス気流下で行われる。不活性ガスとしては、例えば窒素、ヘリウム、アルゴンなどが使用される。
反応温度は、通常−１００　℃〜１２０　℃、好ましくは−８０　℃〜５０　℃である。反応時間は３０分から４８時間である。
【００４７】
本発明化合物は、除草剤の有効成分として使用した場合に優れた除草効果を示す。その適用範囲は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわたり、適用方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処理等を適宜選択できる。
【００４８】
本発明化合物は、例えばイヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、アキノエノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ビロードキビ、パラグラス、アゼガヤ、イトアゼガヤ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウなどのイネ科雑草、コゴメガヤツリ、ハマスゲ、キハマスゲ、ホタルイ、ミズガヤツリ、タマガヤツリ、マツバイ、クログワイなどのカヤツリグサ科雑草、ウリカワ、オモダカ、ヘラオモダカなどのオモダカ科雑草、コナギ、ミズアオイなどのミズアオイ科雑草、アゼナ、アブノメなどのゴマノハグサ科雑草、キカシグサ、ヒメミソハギなどのミソハギ科雑草の他、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカキンゴジカ、スベリヒユ、アオビユ、アオゲイトウ、エビスグサ、イヌホウズキ、サナエタデ、ハコベ、オナモミ、タネツケバナ、ホトケノザ、ブタクサ、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、チョウセンアサガオ、エゾノキツネアザミ、エノキグサなどの広葉雑草など、有害雑草を防除することができる為、有用作物、例えばトウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イネ、オオムギ、エンバク、ソルガム、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合或は非選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。特に本発明化合物は、トウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イネ、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培、その中でもトウモロコシ、ダイズ、コムギ、イネなどの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。
【００４９】
本発明化合物は通常各種農業上の補助剤と混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、錠剤、カプセル剤などの形態に製剤し、除草剤として使用されるが、本発明の目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられているあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担体；水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アルコールなどの溶剤；脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰イオン系の界面活性剤や展着剤；ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着剤；オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸脱しないかぎり、当該分野で知られたものの中から選んで用いることができる。また、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤など通常使用される各種補助剤も使用することができる。本発明化合物と各種補助剤との配合割合は０．１：９９．９〜９５：５、望ましくは０．２：９９．８〜８５：１５である。
【００５０】
本発明化合物を含有する除草剤の施用量は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般に１ヘクタール当り本発明化合物が０．５〜５０００ｇ、望ましくは１〜１０００ｇ、更に望ましくは１０〜５００ｇとなるように施用する。本発明には、このような除草剤の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。
【００５１】
また、本発明化合物を含有する除草剤は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物の１種又は２種以上とを混用或は併用した混合除草性組成物は、適用草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性等を好ましい方向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物は各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明には、前記した混合除草性組成物も含まれる。
【００５２】
本発明化合物と他の除草剤の有効成分との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定できないが、本発明化合物１重量部に対し、他の除草剤は有効成分を１種あたり０．００１〜１００００重量部、望ましくは０．０１〜１０００重量部配合する。また、施用適量は１ヘクタール当りの総有効成分化合物量として０．１〜１００００ｇ、望ましくは０．２〜５０００ｇ、更に望ましくは１０〜３０００ｇである。本発明には、このような混合除草組成物の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。
他の除草剤の有効成分としては、下記するもの（一般名；一部ＩＳＯ申請中を含む）が例示できるが、特に記載がない場合であってもこれら化合物に塩、アルキルエステル等が存在する場合は、当然それらも含まれる。
【００５３】
（１）２，４−Ｄ、２，４−ＤＰ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＰ、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）のようなフェノキシ系、２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、ジクロベニル（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）のような芳香族カルボン酸系、その他ベナゾリン（ｂｅｎａｚｏｌｉｎ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、ダイフルフェンゾピル（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）などのように植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているもの。
【００５４】
（２）クロロトルロン（ｃｈｌｏｒｏｔｏｌｕｒｏｎ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、イソプロチュロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）のような尿素系、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、アトラトン（ａｔｒａｔｏｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、ヘキサジノン（ｈｅｘａｚｉｎｏｎｅ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、テルブチラジン（ｔｅｒｂｕｔｈｙｌａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｒｙｎ）、シブトリン（ｃｙｂｕｔｒｙｎｅ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）のようなトリアジン系、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、レナシル（ｌｅｎａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、のようなウラシル系、プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、シプロミッド（ｃｙｐｒｏｍｉｄ）のようなアニリド系、スエップ（ｓｗｅｐ）、デスメディファム（ｄｅｓｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）のようなカーバメート系、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、ブロモキシニル・オクタノエート（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ−ｏｃｔａｎｏａｔｅ）、アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）のようなヒドロキシベンゾニトリル系、その他ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）などのように植物の光合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
【００５５】
（３）それ自身が植物体中でフリーラジカルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示すとされているパラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）のような４級アンモニウム塩系。
【００５６】
（４）ニトロフェン（ｎｉｔｒｏｆｅｎ）、クロメトキシフェン（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、アシフルオルフェンナトリウム塩（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ホメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、エトキシフェンエチル（ｅｔｈｏｘｙｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）のようなジフェニルエーテル系、クロルフタリム（ｃｈｌｏｒｐｈｔｈａｌｉｍ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）のような環状イミド系、その他オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、スルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、カーフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａｚｉｍｉｎ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、アザフェニジン（ａｚａｆｅｎｉｄｉｎ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、フルポキサム（ｆｌｕｐｏｘａｍ）、フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔｅ）、プロフルアゾール（ｐｒｏｆｌｕａｚｏｌ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｈｌｏｎｉｌ）などのように植物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされているもの。
【００５７】
（５）ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、メトフルラゾン（ｍｅｔｆｌｕｒａｚｏｎ）のようなピリダジノン系、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）のようなピラゾール系、その他アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌ）、フルリドン（ｆｌｕｒｉｄｏｎｅ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、メトキシフェノン（ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｏｎｅ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ジフェンゾコート（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）、イソキサクロロトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌｅ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎｅ）、ピコリノフェン（ｐｉｃｏｌｉｎｏｆｅｎ）、ビフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）などのようにカロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされているもの。
【００５８】
（６）ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フラムプロップエムメチル（ｆｌａｍｐｒｏｐ−Ｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリフェノップナトリウム塩（ｐｙｒｉｐｈｅｎｏｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、フェノキサプロップエチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）のようなアリールオキシフェノキシプロピオン酸系、アロキシジムナトリウム塩（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、クレソジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、カロキシジム（ｃａｌｏｘｙｄｉｍ）、クレフォキシジム（ｃｌｅｆｏｘｙｄｉｍ）のようなシクロヘキサンジオン系などのようにイネ科植物に特異的に除草効力が強く認められるもの。
【００５９】
（７）クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリスルフロンメチル（ｔｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、チフェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロン（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イオドスルフロン（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルフォスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フォーラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフルオキシスルフロン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）のようなスルホニルウレア系、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、メトスルファム（ｍｅｔｏｓｕｌｆａｍ）、ペノクススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）のようなトリアゾロピリミジンスルホンアミド系、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザメス（ｉｍａｚａｍｅｔｈ）、イマザメタベンズ（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ）、イマザピック（ｉｍａｚａｐｉｃ）のようなイミダゾリノン系、ピリチオバックナトリウム塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビスピリバックナトリウム塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）のようなピリミジニルサリチル酸系、フルカーバゾン（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ）、プロカーバゾンソディウム（ｐｒｏｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）のようなスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系、その他グリホサートアンモニウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリホサートイソプロピルアミン塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ　ａｍｉｎｅ）、グルホシネートアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｐｈｏｓ）などのように植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
【００６０】
（８）トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、オリザリン（ｏｒｙｚａｌｉｎ）、ニトラリン（ｎｉｔｒａｌｉｎ）、ペンディメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌｆｌｕｒａｌｉｎ）のようなジニトロアニリン系、アミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）のような有機リン系、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、バーバン（ｂａｒｂａｎ）のようなフェニルカーバメート系、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）のようなクミルアミン系、その他アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）などのように植物の細胞有糸***を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
【００６１】
（９）ＥＰＴＣ、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔｅ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、チオベンカルブ（ｔｈｉｏｂｅｎｃａｒｂ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、トリアレート（ｔｒｉａｌｌａｔｅ）のようなチオカーバメート系、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、Ｓ−メトラクロール（Ｓ−ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、ペトキサマイド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）のようなクロロアセトアミド系、その他エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、トリディファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、オキサジクロメフォン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）などのように植物のタンパク質生合成或は脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
【００６２】
（１０）Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ、Ｅｐｉｃｏｃｃｏｓｕｒｕｓ　ｎｅｍａｔｏｓｕｒｕｓ、Ｅｘｓｅｒｏｈｉｌｕｍ ｍｏｎｏｓｅｒａｓ、Ｄｒｅｃｈｓｒｅｌａ　ｍｏｎｏｃｅｒａｓなどのように植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの。
【００６３】
また本発明化合物は後記試験例に見られるとおり、トウモロコシ、ダイズ、コムギ、イネなどの作物に対し安全性を有し、且つ、雑草を良好に防除できる選択性を示すものを含むが、本発明化合物を前記作物栽培において使用する際、前記他の除草剤の有効成分化合物中、例えば次のごとき化合物の１種又は２種以上と混用或は併用すれば相乗効果が得られることがある。
【００６４】
イネの栽培；２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、ナプロアニリド、ジクロベニル、キンクロラック、シメトリン、プロメトリン、ジメタメトリン、プロパニル、スエップ、ベンタゾン、ニトロフェン、クロメトキシフェン、ビフェノックス、オキサジアルギル、オキサジアゾン、スルフェントラゾン、カーフェントラゾンエチル、ペントキサゾン、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ベンゾフェナップ、メトキシフェノン、シハロホップブチル、フェノキサプロップエチル、ベンスルフロンメチル、シノスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、ペノクススラム、ビスピリバックナトリウム塩、ピリミノバックメチル、アニロホス、ピペロホス、ダイムロン、クミルロン、ブロモブチド、ジチオピル、モリネート、ジメピペレート、エスプロカルブ、チオベンカルブ、ピリブチカルブ、テニルクロール、プレチラクロール、ブタクロール、エトベンザニド、メフェナセット、フルフェナセット、カフェンストロール、フェントラザミド、オキサジクロメフォン、インダノファン、ベンゾビシクロン、ピリベンゾキシム、トリアジフラム、クレフォキシジム、ピラクロニル、ピリフタリド
【００６５】
ダイズの栽培；２，４−Ｄ、リニュロン、メトリブジン、シアナジン、ベンタゾン、パラコート、アシフルオルフェンナトリウム塩、ホメサフェン、ラクトフェン、エトキシフェンエチル、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、フルチアセットメチル、スルフェントラゾン、ノルフルラゾン、クロマゾン、フルアジホップブチル、キザロホップエチル、フェノキサプロップエチル、ハロキシホップメチル、クレソジム、セトキシジム、ブトロキシジム、テプラロキシジム、クロリムロンエチル、チフェンスルフロンメチル、オキサスルフロン、フルメツラム、クロランスラムメチル、ジクロスラム、イマザピル、イマゼタピル、イマザキン、イマザモックス、イマザピック、トリフルラリン、ペンディメタリン、エタルフルラリン、アラクロール、ペトキサマイド、メトラクロール、Ｓ−メトラクロール、アセトクロール、ジメテナミド、フルフェナセット
【００６６】
トウモロコシの栽培；２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ジカンバ、クロピラリド、ベナゾリン、ダイフルフェンゾピル、ジウロン、リニュロン、メトベンズロン、シマジン、アトラジン、アトラトン、メトリブジン、テルブチラジン、シアナジン、アメトリン、シプロミッド、ブロモキシニル、ブロモキシニル・オクタノエート、ピリデート、ベンタゾン、パラコート、オキシフルオルフェン、フルミクロラックペンチル、フルチアセットメチル、フルリドン、スルコトリオン、メソトリオン、イソキサフルトール、カーフェントラゾンエチル、プリミスルフロンメチル、リムスルフロン、ニコスルフロン、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、フルメツラム、メトスラム、イマゼタピル、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩、グルホシネートアンモニウム塩、トリフルラリン、ペンディメタリン、ＥＰＴＣ、ブチレート、アラクロール、ペトキサマイド、メトラクロール、Ｓ−メトラクロール、アセトクロール、プロパクロール、ジメテナミド、トリディファン、フロラスラム、メトベンズロン、メトスルファン、オキサスルフロン、テプラロキシジム
【００６７】
コムギの栽培；ＭＣＰＢ、ジクロベニル、キンメラック、クロロトルロン、リニュロン、イソプロチュロン、プロメトリン、ブロモキシニル、ブロモキシニル・オクタノエート、ピリデート、ビフェノックス、カーフェントラゾンエチル、チジアジミン、ピラフルフェンエチル、フルルタモン、ジフルフェニカン、スルコトリオン、ジクロホップメチル、フラムプロップエムエチル、トラルコキジム、クロルスルフロン、メトスルフロンメチル、プロスルフロン、ハロスルフロンメチル、フルメツラム、メトスラム、ペンディメタリン、バーバン、イマザメタベンズ、シニドンエチル、エトキシフェンエチル、フロラスラム、フルアゾレート、フルポキサム、イオドスルフロン、メトスルファム、ピリベンゾキシム、スルフォスルフロン、トラルコキシジム、フルカルバゾンソディウム、ピコリノフェン、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、イマザモックス
【００６８】
本発明の望ましい態様は以下の通りである。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
（１）置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいシクロアルケニル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよい環状アルキルアミノ基及び置換されてもよい環状エーテル基のその置換基が、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ジアルキルアミノ、トリメチルシリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、環状エーテル、さらに置換されてもよいアリール、さらに置換されてもよいアリールオキシ、さらに置換されてもよいアリールチオ及びさらに置換されてもよいヘテロアリールより成る群から選ばれた少なくとも１種であり；置換されてもよいフェニルアミノ基、置換されてもよいアリール基及び置換されてもよいヘテロアリール基のその置換基が、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、トリメチルシリル、アルコキシイミノ及びさらに置換されてもよいフェニルより成る群から選ばれた少なくとも１種である、前記式（Ｉ）のピリジン系化合物又はその塩、それらを有効成分として含有する除草剤或はそれらの有効量を施用して有害雑草を防除する方法。
【００６９】
（２）環状アルキルアミノがアジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル又はピペリジニルであり；アリールがフェニル、ナフチル又はインダニルであり；環状エーテルがエポキシ、テトラヒドロフリル、１，３−ジオキソラニル又は１，３−ジオキサニルであり；ヘテロアリールが酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれた１から３個のヘテロ原子を含む５員若しくは６員のアリール又はそれらにベンゼン環が縮合したものである、前記式（Ｉ）のピリジン系化合物又はその塩、それらを有効成分として含有する除草剤或はそれらの有効量を施用して有害雑草を防除する方法。
【００７０】
（３）ヘテロアリールがチエニル、フラニル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソキサゾリル、ベンゾイミダゾリル、インダゾリル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キナゾリニル又はキノキサリニルである、前記式（Ｉ）のピリジン系化合物又はその塩、それらを有効成分として含有する除草剤或はそれらの有効量を施用して有害雑草を防除する方法。
【００７１】
（４）Ｒ^４が水素原子、アルキル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基である、前記式（Ｉ）のピリジン系化合物又はその塩、それらを有効成分として含有する除草剤或はそれらの有効量を施用して有害雑草を防除する方法。
【００７２】
（５）前記式（Ｉ）が、式（Ｉａ）：
【化２４】

（式中、Ｒ^１は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、Ｒ^２は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよいフェニルアミノ基又は置換されてもよい環状アルキルアミノ基であり、Ｒ^３は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよいヘテロアリール基であり、Ｒ^４はアルキル基、ハロアルキル基、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基であり、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり並びにＲ^８は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であり、Ｘ^ａは酸素原子又は硫黄原子であり、但しＲ^４はクロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル又はヨードジフルオロメチルでない）であるピリジン系化合物又はその塩、それらを有効成分として含有する除草剤或はそれらの有効量を施用して有害雑草を防除する方法。
【００７３】
【実施例】
次に、実験例を挙げて本発明化合物の合成法を具体的に説明する。尚、本発明化合物の合成中間体の合成法も併せて記載する。
【００７４】
例１　Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロピル］フェニルアセトアミド（化合物Ｎｏ．Ｉ‐１）の合成
１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン０．１８４　ｇ及び炭酸カリウム０．１１５　ｇをアセトニトリル５　ｍｌに加え、室温で３０分間撹拌した溶液に、フェニルアセチルクロリド０．１２９　ｇを滴下し、更に室温で１４時間撹拌を続けた。反応終了後、反応溶液に水５０　ｍｌ及び酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行い、得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、無色結晶（融点７１．２　℃）の目的物０．１５　ｇ（収率５４％）を得た。
【００７５】
例２　Ｎ−エチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロピル］２，６−ジフルオロフェニルアセトアミド（化合物Ｎｏ．Ｉ‐３０）の合成
１−エチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン０．２０　ｇ及び炭酸カリウム０．１５　ｇをアセトニトリル２０　ｍｌに加え、室温で３０分間撹拌した溶液に、２，６−ジフルオロフェニルアセチルクロリド０．２０　ｇを滴下し、更に室温で９時間撹拌を続けた。反応終了後、反応溶液に水５０　ｍｌ及び酢酸エチル１００　ｍｌを加えて抽出を行い、得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、無色結晶（融点１２１．９　℃）の目的物０．１６　ｇ（収率４９　％）を得た。
【００７６】
例３　Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロピル］フェニルスルホンアミド（化合物Ｎｏ．Ｉ‐１１７）の合成
１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン０．２２６ｇ及び炭酸カリウム０．１８　ｇをアセトニトリル１０　ｍｌに加え、室温で３０分間撹拌した溶液に、ベンゼンスルホニルクロリド０．２２　ｇを滴下し、更に室温で１２時間撹拌を続けた。反応終了後、反応溶液に水５０　ｍｌ及び酢酸エチル１００　ｍｌを加えて抽出を行い、得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、油状物質の目的物０．１８　ｇ（収率５０　％）を得た。
【００７７】
例４　Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロピル］−２−フェノキシプロピオン酸アミド（化合物Ｎｏ．Ｉ−１１９）の合成
１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン０．２３　ｇ及び炭酸カリウム０．１８　ｇをアセトニトリル１０　ｍｌに加え、室温で３０分間撹拌した溶液に、２−フェノキシプロピオン酸クロリド０．２４　ｇを滴下し、更に室温で１０時間撹拌を続けた。反応終了後、反応溶液に水５０　ｍｌ及び酢酸エチル１００　ｍｌを加えて抽出を行い、得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／２）で精製し、無定形の目的物０．１５６　ｇ（収率４１％）を得た。
【００７８】
例５　Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロピル］　３−フェニルプロペンアミド（化合物Ｎｏ．Ｉ‐１６６）の合成
１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン０．３０　ｇのテトラヒドロフラン１０　ｍｌ溶液に、シンナモイルクロリド０．３６　ｇ、トリエチルアミン０．２９　ｇを０　℃で滴下した。室温で７時間撹拌後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出を行い、得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去した後、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、油状の目的物７３　ｍｇ（収率１５％）を得た。
【００７９】
例６　Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）プロピル］ブタンアミド（化合物Ｎｏ．Ｉ‐１８９）の合成
１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン０．１７ｇのテトラヒドロフラン７　ｍｌ溶液に、ブチリルクロリド０．１１　ｇ、トリエチルアミン０．１２　ｇを０　℃で滴下した。室温で１８時間撹拌後、反応溶液に水５０　ｍｌ及び酢酸エチル１００　ｍｌを加えて抽出を行い、得られた有機層を、水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し後、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製し、油状の目的物０．１９　ｇ（収率８６　％）を得た。
【００８０】
例７　１−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−２−メチル−１−プロパノールの合成
ジイソプロピルアミン２１．７　ｇのテトラヒドロフラン２００　ｍｌ溶液を−７０　℃に冷却しておき、そこへｎ−ブチルリチウム１１４　ｍｌを徐々に滴下した。１５分間同温度で撹拌を続けた後、２−クロロ−４−トリフルオロメチルピリジン３０　ｇを滴下し、１時間撹拌した。次に、イソブチルアルデヒド１１．９　ｇのテトラヒドロフラン３０　ｍｌ溶液を、滴下した後、２時間同温度で撹拌を続けた。反応終了後、反応溶液に、塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて抽出を行い、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、目的物３３　ｇ（収率７９　％）を油状物質として得た。
【００８１】
例８　１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−２−メチル−１−プロパノールの合成
上記例７で得られた１−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−２−メチル−１−プロパノール３３　ｇとトリエチルアミン２３．５　ｇとを、メタノール３００　ｍｌに溶解し、そこへ１０　％パラジウム‐炭素触媒（５０　％含水物）３．０　ｇを加えた。この懸濁液を、２気圧の水素ガス気流下、室温で８時間撹拌した。不溶物を濾別後、溶媒を減圧下に留去し、残渣に酢酸エチルと水を加えて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、淡黄色液体の目的物２２　ｇ（収率７７　％）を得た。
【００８２】
例９　２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−１−プロピル　メタンスルホネートの合成
上記例８で得られた１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−２−メチル−１−プロパノール５　ｇをピリジン５０　ｍｌに溶解し、室温でメタンスルホニルクロリド３．１　ｇを滴下した。溶液を８時間室温で撹拌後、ピリジンを減圧下に留去し、残渣に酢酸エチルと水を加えて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、白色無定形固体の目的物５．８　ｇ（収率８６　％）を得た。
【００８３】
例１０　１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパンの合成
上記例９で得られた２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−１−プロピル　メタンスルホネート２　ｇを４０　％メチルアミンメタノール溶液３０　ｍｌと共に、オートクレーブ中１００　℃で８時間反応させた。溶媒を留去後、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／メタノール＝９／１）で精製し、淡黄色液体の目的物０．２　ｇ（収率１３　％）を得た。
【００８４】
例１１　１−アジド−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパンの合成
上記例９に従って合成した２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−１−プロピル　メタンスルホネート１０　ｇの１００　ｍｌジメチルスルホキシド溶液に、室温でアジ化ナトリウム４．４　ｇを加え、７０　℃に加温して４時間撹拌を続けた。反応液を室温まで冷却後、水及びエーテルを加えて抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して、黄色液体の目的物８　ｇ（収率９７　％）を得た。
【００８５】
例１２　１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパンの合成
例１１で得られた１−アジド−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン３　ｇの８０　ｍｌジクロロメタン溶液に、トリメチルホスフィンの１Ｍテトラヒドロフラン溶液１６．６　ｍｌを室温で滴下した後、２時間撹拌を続けた。次に、パラホルムアルデヒド１．８７　ｇを徐々に加え、８時間撹拌した。反応溶液を０　℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム２．３３　ｇの５０　ｍｌエタノール溶液を滴下した後、同温度で１時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和した後、ジクロロメタンを加えて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、淡黄色液体の目的物１．４　ｇ（収率４９　％）を得た。
【００８６】
例１３　１−アミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパンの合成
上記例１１で得られた１−アジド−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン１．３８　ｇを、メタノール１８　ｍｌに溶解し、５　％パラジウム‐炭素触媒０．３６　ｇを加えた。この懸濁液を、２気圧の水素ガス気流下、室温で４時間撹拌した。不溶物を濾別後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、固体の目的物１．０　ｇ（収率８１　％）を得た。
【００８７】
例１４　１−メチルアミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパンの合成
上記例１３で得られた１−アミノ−２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−プロパン０．５ｇにオルトギ酸トリエチル５．５　ｍｌ、トリフルオロ酢酸１滴を加え、１５０　℃で４時間加熱した。反応溶液を濃縮し、残渣にエタノール７　ｍｌを加えた。この溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム０．１６　ｇを加え、添加完了後、ガスの発生がなくなるまで加熱還流した。反応混合物を減圧下濃縮した後、残渣を氷水に注ぎ、ジクロロメタンで３回抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。ジクロロメタンを減圧留去し後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、油状の目的物８７　ｍｇ（収率１６　％）を得た。
【００８８】
次に、前記式（Ｉ）のピリジン系化合物の代表例を第１表に示すが、これら化合物は前記合成例或は前記方法〔Ａ〕〜〔Ｌ〕に従って製造することができる。なお、表中、Ｍｅはメチルを、Ｅｔはエチルを、（ｎ）Ｐｒはノルマルプロピルを、（ｉ）Ｐｒはイソプロピルを、（ｎ）Ｂｕはノルマルブチルを、（ｉ）Ｂｕはイソブチルを、（ｓ）Ｂｕはセカンダリーブチル（即ち１−メチルプロピル）を、（ｔ）Ｂｕはターシャリーブチルを、（ｎ）Ｐｅはノルマルペンチルを、（ｎ）Ｈｅｘはノルマルヘキシルを、（ｎ）Ｏｃはノルマルオクチルを、ＭｅＯ−はメトキシを、ＭｅＳ−はメチルチオを、ＥｔＯ−はエトキシを、（ｉ）ＢｕＯ−はイソブチルオキシを、Ｐｈはフェニルを、ＰｈＣＨ_２−はベンジルを、またＰｈＣＨ（ＣＨ_３）−はα−メチルベンジルを、各々表す。また、表中、３−Ｐｅとあるのはペンタン−３−イル（即ち１−エチルプロピル）を、４−Ｉ−ＰｈＣＨ_２−とあるのは４−ヨードベンジルを、２，４−ｄｉ−Ｃｌ−ＰｈＣＨ_２−とあるのは２，４−ジクロロベンジルを、２，３，６−ｔｒｉ−Ｆ−ＰｈＣＨ_２−とあるのは２，３，６−トリフルオロベンジルを、２，３，４，５，６−ｐｅｎｔａ−Ｆ−ＰｈＯＣＨ_２−とあるのは、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェノキシメチルを表す。他の同様の記載もこれらに準じる。
表中のｏｉｌは油状物を示す。また、化合物Ｎｏ．Ｉ−２２１とＩ−２２２とは、互いにジアステレオマーである。
【００８９】
【表１】

【００９０】
【表２】

【００９１】
【表３】

【００９２】
【表４】

【００９３】
【表５】

【００９４】
【表６】

【００９５】
【表７】

【００９６】
【表８】

【００９７】
【表９】

【００９８】
【表１０】

【００９９】
【表１１】

【０１００】
【表１２】

【０１０１】
【表１３】

【０１０２】
【表１４】

【０１０３】
【表１５】

【０１０４】
【表１６】

【０１０５】
【表１７】

【０１０６】
【表１８】

【０１０７】
【表１９】

【０１０８】
さらに、ピリジン系化合物のＮＭＲスペクトルデータを第２表に記載する。

【０１０９】
【表２０】

【０１１０】
【表２１】

【０１１１】
【表２２】

【０１１２】
【表２３】

【０１１３】
【表２４】

【０１１４】
【表２５】

【０１１５】
【表２６】

【０１１６】
【表２７】

【０１１７】
【表２８】

【０１１８】
【表２９】

【０１１９】
【表３０】

【０１２０】
【表３１】

【０１２１】
【表３２】

【０１２２】
【表３３】

【０１２３】
【表３４】

【０１２４】
【表３５】

【０１２５】
【表３６】

【０１２６】
【表３７】

【０１２７】
【表３８】

【０１２８】
次に本発明の試験例を記載する。
試験例１
１／１７０，０００ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の葉令（（１）ノビエ１．３〜２．８葉期、（２）メヒシバ１．０〜２．８葉期、（３）エノコログサ１．３〜２．６、（４）アオゲイトウ０．１〜１．２葉期、（５）アメリカキンゴジカ０．１〜１．２葉期、（６）イチビ０．１〜１．２葉期、（７）マルバアサガオ０．１〜１．５葉期、（８）イネ１．２〜２．６葉期、（９）コムギ１．３〜２．４葉期、（１０）トウモロコシ２．１〜３．２葉期、（１１）ダイズ０．１〜０．４葉期）に達したとき、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量し、１ヘクタール当り５００リットルの水に希釈した。更にその希釈液に対して農業用展着剤を０．１容量％加え、小型スプレーで茎葉処理した。
薬剤処理後１８〜２３日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、０（無処理区と同等）〜１００（完全枯殺）の抑草率（％）で除草効果を評価し、第３表の結果を得た。
【０１２９】
【表３９】

【０１３０】
【表４０】

【０１３１】
【表４１】

【０１３２】
【表４２】

【０１３３】
【表４３】

【０１３４】
試験例２
１／１７０，０００ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子（ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、アオゲイトウ、アメリカキンゴジカ、イチビ、イネ、コムギ、トウモロコシ及びダイズ）を播種した。播種翌日、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量し、１ヘクタール当り１５００リットルの水に希釈し、小型スプレーで土壌処理した。
薬剤処理後２０〜２８日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、０（無処理区と同等）〜１００（完全枯殺）の抑草率（％）で除草効果を評価し、第４表の結果を得た。
【０１３５】
【表４４】

【０１３６】
【表４５】

【０１３７】
【表４６】

【０１３８】
【表４７】

【０１３９】
【表４８】

【０１４０】
【表４９】

【０１４１】
【表５０】

【０１４２】
【表５１】

【０１４３】
【表５２】

【０１４４】
【表５３】

【０１４５】
試験例３
１／１，０００，０００ヘクタールポットに水田土壌を詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽く覆土した。その後湛水深０．５〜１ｃｍの状態で温室内に静置し、翌日又は２日後にウリカワの塊茎を植え込んだ。その後湛水深を３〜４ｃｍに保ち、ノビエ及びホタルイが０．５葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤の水希釈液を、所定有効成分量になるようにピペットで均一に滴下処理した。
【０１４６】
また１／１，０００，０００ヘクタールポットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を３〜４ｃｍとし、翌日に２葉期のイネ（品種：日本晴）を移植深３ｃｍに移植した。移植後４日目に本発明化合物を前述と同様に処理した。
薬剤処理後１４日目にノビエ、ホタルイ及びウリカワの生育状態を、薬剤処理後２１日目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、０（無処理区と同等）〜１００（完全枯殺）の抑草率（％）で評価し、第５表の結果を得た。
【０１４７】
【表５４】

【０１４８】
【表５５】

【０１４９】
【表５６】

【０１５０】
【表５７】

【０１５１】
【表５８】

【０１５２】
【表５９】

【０１５３】
【表６０】

【０１５４】
【表６１】

【０１５５】
【表６２】

【０１５６】
【表６３】

【０１５７】
【表６４】

【０１５８】
次に、本発明の製剤例を記載する。
製剤例１
（１）本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７５　　重量部
（２）ゲロポンＴ−７７（商品名；ローヌ・プーラン社製）　　　１４．５　重量部
（３）ＮａＣｌ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０　　重量部
（４）デキストリン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５　　重量部
以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ２０％の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤が得られる。
【０１５９】
製剤例２
（１）カオリン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８　重量部
（２）ラベリンＦＡＮ（商品名；第一工業製薬（株）製）　　　　２　重量部
（３）ソルポール５０３９（商品名；東邦化学工業（株）製）　　　５　重量部
（４）カープレックス（商品名；塩野義製薬（株）製）　　　１５　重量部
以上、（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物とを９：１の重量割合で混合して水和剤が得られる。
【０１６０】
製剤例３
（１）ハイフィラーＮｏ．１０（商品名；松村産業（株）製）　　　　３３　重量部
（２）ソルポール５０５０（商品名；東邦化学工業（株）製）　　　　　３　重量部
（３）ソルポール５０７３（商品名；東邦化学工業（株）製）　　　４　重量部
（４）本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０　重量部
以上の（１）〜（４）の各成分を混合して水和剤が得られる。
【０１６１】
製剤例４
（１）本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４　重量部
（２）ベントナイト　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０　重量部
（３）炭酸カルシウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　６１．５重量部
（４）トキサノンＧＲ−３１Ａ（商品名；三洋化成工業（株）製）　３　重量部
（５）リグニンスルホン酸カルシウム塩　　　　　　　　　　１．５　重量部
予め粉砕した（１）と、（２）及び（３）とを混合し、そこへ（４）、（５）及び水を加えて混合し、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得られる。
【０１６２】
製剤例５
（１）本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０　重量部
（２）ジークライト（商品名；ジークライト（株）製）　　　　６０　重量部
（３）ニューカルゲン　ＷＧ−１（商品名；竹本油脂（株）製）　　５　重量部
（４）ニューカルゲン　ＦＳ−７（商品名；竹本油脂（株）製）　　　５　重量部
（１）、（２）及び（３）を混合し、粉砕機を通した後、（４）を加えて混練後、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。
【０１６３】
製剤例６
（１）本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２８　重量部
（２）ソプロポールＦＬ（商品名；ローヌ・プーラン社製）　　　　　２　重量部
（３）ソルポール３５５　（商品名；東邦化学工業（株）製）　　　　１　重量部
（４）ＩＰソルベント１６２０（商品名；出光石油化学（株）製）　　　３２　重量部
（５）エチレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　６　重量部
（６）水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３１　重量部
以上の（１）〜（６）の成分を混合し、湿式粉砕機（ダイノ−ミル）を用いて粉砕して水性懸濁剤が得られる。

Claims (10)

1. 式（Ｉ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、Ｒ^２は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいシクロアルケニル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよいフェニルアミノ基、置換されてもよい環状アルキルアミノ基、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよい環状エーテル基であり、Ｒ^３は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよいヘテロアリール基であり、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基であり、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、Ｒ^８は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であり並びにＸはＣＯ、ＣＳ又はＳＯ_２であり、但しＲ^４はクロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル又はヨードジフルオロメチルでない）で表されるピリジン系化合物又はその塩。
2. 置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいシクロアルケニル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよい環状アルキルアミノ基及び置換されてもよい環状エーテル基のその置換基が、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ジアルキルアミノ、トリメチルシリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、環状エーテル、さらに置換されてもよいアリール、さらに置換されてもよいアリールオキシ、さらに置換されてもよいアリールチオ、さらに置換されてもよいヘテロアリールより成る群から選ばれた少なくとも１種であり；置換されてもよいフェニルアミノ基、置換されてもよいアリール基及び置換されてもよいヘテロアリール基のその置換基が、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、トリメチルシリル、アルコキシイミノ、さらに置換されてもよいフェニルから成る群から選ばれた少なくとも１種である、前記請求項１に記載のピリジン系化合物又はその塩。
3. 置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいシクロアルケニル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよい環状アルキルアミノ基及び置換されてもよい環状エーテル基のその置換基が、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ジアルキルアミノ、トリメチルシリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、環状エーテル、さらに置換されてもよいアリール、さらに置換されてもよいアリールオキシ、さらに置換されてもよいアリールチオ、置換されてもよいヘテロアリールより成る群から選ばれた少なくとも１種であり、それらの、さらに置換されてもよいアリール、さらに置換されてもよいアリールオキシ、さらに置換されてもよいアリールチオ、さらに置換されてもよいヘテロアリールのその置換基が、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、トリメチルシリル、アルコキシイミノ、フェニルより成る群から選ばれた少なくとも１種であり；置換されてもよいフェニルアミノ基、置換されてもよいアリール基及び置換されてもよいヘテロアリール基のその置換基が、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、トリメチルシリル、アルコキシイミノ、さらに置換されてもよいフェニルから成る群から選ばれた少なくとも１種であり、それらのさらに置換されてもよいフェニル基のその置換基がハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、トリメチルシリル、アルコキシイミノ、フェニルより成る群から選ばれた少なくとも１種である、前記請求項１に記載のピリジン系化合物又はその塩。
4. 環状アルキルアミノがアジリジニル、アゼチジニル、ピロリジニル又はピペリジニルであり；アリールがフェニル、ナフチル又はインダニルであり；環状エーテルがエポキシ、テトラヒドロフリル、１，３−ジオキソラニル又は１，３−ジオキサニルであり；ヘテロアリールが酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれた１から３個のヘテロ原子を含む５員若しくは６員のアリール又はそれらにベンゼン環が縮合したものである前記請求項１に記載のピリジン系化合物又はその塩。
5. Ｒ^４が水素原子、アルキル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基である、前記請求項１に記載のピリジン系化合物又はその塩。
6. 式（Ｉ−ａ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、Ｒ^２は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよいフェニルアミノ基又は置換されてもよい環状アルキルアミノ基であり、Ｒ^３は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよいヘテロアリール基であり、Ｒ^４はアルキル基、ハロアルキル基、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基であり、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり並びにＲ^８は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であり、Ｘ_ａは酸素原子又は硫黄原子であり、但しＲ^４はクロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル又はヨードジフルオロメチルでない）で表されるピリジン系化合物又はその塩。
7. 式（Ｉ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、Ｒ^２は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいシクロアルケニル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいモノ若しくはジアルキルアミノ基、置換されてもよいフェニルアミノ基、置換されてもよい環状アルキルアミノ基であり、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよい環状エーテル基であり、Ｒ^３は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基又は置換されてもよいヘテロアリール基であり、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、−ＯＲ^８基又は−ＳＲ^８基であり、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、Ｒ^８は置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であり並びにＸはＣＯ、ＣＳ又はＳＯ_２であり、但しＲ^４はクロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル又はヨードジフルオロメチルでない）で表されるピリジン系化合物又はその塩の製造方法であって、（１）式（ＩＩ）：
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）で表されるアミン誘導体と式（ＩＩＩ−１）：
   Ｒ^２−ＣＯＹ^１
   （式中、Ｒ^２は前述の通りであり、Ｙ^１はＯＨ基、塩素原子又はＲ^２ＣＯＯ基である）で表されるカルボン酸誘導体とを反応させるか、（２）前記式（ＩＩ）で表されるアミン誘導体と式（ＩＩＩ−２）：
   Ｒ^２−ＳＯ_２Ｙ^２
   （式中、Ｒ^２は前述の通りであり、Ｙ^２は塩素原子又はＲ^２ＳＯ_２Ｏ基である）で表されるスルホン酸誘導体とを反応させるか、（３）式（Ｉ−１）：
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）で表されるピリジン系化合物と硫化剤とを反応させるか、（４）式（ＩＩ−１）：
   

   

   （式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）で表されるアミン誘導体と式：Ｒ^２−Ｘ−Ｙ^１
   （式中、Ｙ^１はＯＨ基、塩素原子、臭素原子又はＲ^２ＣＯＯ基であり、Ｒ^２及びＸは前述の通りである）で表される化合物とを反応させるか、（５）式（Ｉ−５）：
   

   

   （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）で表されるピリジン系化合物と式：Ｒ^１ａ−Ｙ^４
   （式中、Ｒ^{１ ａ}は置換されてもよいアルキル基であり、Ｙ^４は塩素原子、臭素原子、沃素原子、−ＯＳＯ_２Ｒ^９基又は−ＯＳＯ_３Ｒ^９基であり、Ｒ^９はＣ_１〜Ｃ_６アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_６アルキルで置換されてもよいフェニル基である）で表される化合物とを反応させるか、或は（６）式（Ｉ−６）：
   

   

   （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前述の通りである）で表されるピリジン系化合物と式：Ｒ^１ａ−Ｙ^４
   （式中、Ｒ^{１ ａ}及びＹ^４は前述の通りである）で表される化合物とを反応させる方法。
8. 請求項１、２、３、４、５又は６のピリジン系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤。
9. 請求項１、２、３、４、５又は６のピリジン系化合物又はその塩の有効量を施用して有害雑草を防除する方法。
10. 請求項１、２、３、４、５又は６のピリジン系化合物又はその塩の少なくとも１種と、他の除草剤の少なくとも１種とを含有する混合除草組成物。