JP2000084859A - Polishing body - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure sufficient moldability and polishing force in polishing in a wet state by composing a support body with a polishing layer comprising an abrasive and a binder, of base paper with polymer layers on both faces. SOLUTION: Base paper of 100 μm-500 μm thickness is used as a support body, and fused polyethylene is applied to both faces of base paper respectively to be 20 μm in thickness by a laminator. A coating solution for a polishing layer is then applied to the laminated paper and dried to provide a polishing layer. After hardening a polishing layer binder, the laminated paper is cut out into requested size to prepare a sample of a polishing body. With this polishing body, a polishing test of the end face of an optical fiber is performed under a silica slurry aqueous solution. As a result, polishing force (polishing quantity) and moldability (output and surface property of a polishing surface) satisfying the demand as a wet polishing body for the optical fiber can be ensured, and the polishing body formed of the laminated paper support body is sufficiently usable.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨剤をバインダ
ーに分散してなる研磨層を支持体上に設けてなり、防水
性を付与したポリマー層を有する原紙を支持体に用いた
光ファイバー端面等の研磨などの用途に用いられる研磨
シート、研磨ディスク等の研磨体に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an end face of an optical fiber using a base paper having a waterproof polymer layer as a support, provided with a polishing layer formed by dispersing an abrasive in a binder on a support. The present invention relates to a polishing body such as a polishing sheet and a polishing disk used for polishing and the like.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来より、研磨シート等の研磨体におけ
る研磨層を設ける支持体としては、高分子樹脂（ポリエ
チレンテレフタレート、アラミド、ポリエチレンナフタ
レート等）や樹脂を含浸させた布紙が用いられてきた。
基材として用いる布紙のうち、紙としてはクラフト紙や
耐水処理したクラフト紙が用いられ、布としては綿や麻
等の天然繊維、化学繊維、これらの混紡、混織りが使用
される。2. Description of the Related Art Conventionally, as a support for providing a polishing layer in a polishing body such as a polishing sheet, a polymer resin (polyethylene terephthalate, aramid, polyethylene naphthalate, etc.) or a cloth impregnated with the resin has been used. Was.
Of the cloth paper used as the base material, kraft paper or water-resistant kraft paper is used as the paper, and natural fibers such as cotton and hemp, chemical fibers, and blends and weaves thereof are used as the cloth.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかして、前述のよう
な紙のみによる研磨体又はクラフト紙、布を支持体とし
た研磨体では、特にウェット状態での研磨における十分
な成形性及び研磨力を確保するのが困難である。また、
従来の高分子樹脂支持体では高価である。However, in the case of the above-mentioned abrasive body made of paper alone or an abrasive body made of kraft paper or cloth as described above, sufficient formability and abrasive power especially in the polishing in a wet state are not obtained. Difficult to secure. Also,
Conventional polymer resin supports are expensive.

【０００４】そこで、本発明は上記点に鑑みなされたも
のであって、支持体上に研磨剤とバインダーからなる研
磨層を設けてなる研磨シート、研磨ディスク等の研磨体
において、特にウェット状態での研磨体として要求され
る特性を満足すると共にコストの低減も図るようにした
支持体を有する研磨体を提供せんとするものである。In view of the above, the present invention has been made in view of the above points, and is particularly useful in a polishing body such as a polishing sheet or a polishing disk in which a polishing layer comprising an abrasive and a binder is provided on a support. It is an object of the present invention to provide a polishing body having a support which satisfies the characteristics required as the polishing body and reduces the cost.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体は、研磨剤とバインダーからなる研磨層を支
持体上に有してなり、前記支持体が両面にポリマー層を
有する原紙からなることを特徴とするものである。A polishing body of the present invention which has solved the above-mentioned problems has a polishing layer comprising an abrasive and a binder on a support, and the base has a polymer layer on both sides. It is characterized by consisting of.

【０００６】前記ポリマー層を有する原紙は、ポリエチ
レン層がラミネートされた原紙であることが望ましい。
また、前記支持体の厚みが２０〜８００μｍであること
が好ましい。さらに、前記支持体の重量厚みが４５〜３
００ｇ／ｍ²であることが好適である。The base paper having the polymer layer is preferably a base paper on which a polyethylene layer is laminated.
The thickness of the support is preferably 20 to 800 μm. Further, when the weight and thickness of the support is 45 to 3
Preferably, it is 00 g / m ² .

【０００７】[0007]

【発明の効果】上記のような本発明によれば、支持体を
両面にポリマー層を有する原紙としたことにより、研磨
層塗布液等の塗設時における原紙内部への浸透をポリマ
ー層で阻止して所定の研磨層を形成できと共に、水等に
よって支持体の強度が急激に低下することが防止でき、
ウェット状態で使用される研磨体として要求される成形
性及び研磨力を確保しながら、高分子樹脂支持体による
ものよりコストダウンを図ることができる。According to the present invention as described above, since the support is made of base paper having a polymer layer on both sides, penetration of the polishing layer coating solution and the like into the base paper during coating is prevented by the polymer layer. In addition to being able to form a predetermined polishing layer, it is possible to prevent the strength of the support from being rapidly reduced by water or the like,
The cost can be reduced as compared with the case of using the polymer resin support while securing the moldability and the polishing force required for the polishing body used in the wet state.

【０００８】また、ポリエチレン層がラミネートされた
原紙を支持体としたものでは、研磨体の作製時及び研磨
時に水、アルコールスラリーを使用する場合に、これら
に対して十分な耐性を有し良好な研磨が実施できる。ま
た、前記支持体の厚みが２０〜８００μｍ、又は、重量
厚みが４５〜３００ｇ／ｍ²であるものでは、研磨に要
求される十分な強度を得て、良好な研磨が行える。[0008] Further, in the case of using a base paper on which a polyethylene layer is laminated as a support, when water or an alcohol slurry is used at the time of producing and polishing a polishing body, it has sufficient resistance to these and has good properties. Polishing can be performed. When the support has a thickness of 20 to 800 μm or a weight of 45 to 300 g / m ² , sufficient strength required for polishing can be obtained and good polishing can be performed.

【０００９】[0009]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の実施の
形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the polishing body of the present invention will be shown, and the present invention will be described in more detail.

【００１０】本発明の研磨体は、両面に１０〜２０μｍ
のポリエチレン層又はポリプロピレン層等のポリマー層
がラミネートされた原紙による可撓性支持体上に、アル
ミナ等による研磨剤微粉末をバインダーに分散した研磨
層を設けてなる。The polishing body of the present invention has a thickness of 10 to 20 μm on both sides.
A polishing layer in which a fine abrasive powder of alumina or the like is dispersed in a binder is provided on a flexible support made of base paper on which a polymer layer such as a polyethylene layer or a polypropylene layer is laminated.

【００１１】前記支持体の厚みは２０〜８００μｍ、重
量厚みは４５〜３００ｇ／ｍ²程度が好適であり、例え
ば、写真用のレジンコート紙（ＲＣ紙）、耐水紙（ＷＰ
紙）が好適に使用でき、上記厚み範囲で十分な強度及び
耐水性を有している。The support preferably has a thickness of about ²⁰ to 800 μm and a weight thickness of about 45 to 300 g / m ^2. For example, resin-coated paper for photo (RC paper), water-resistant paper (WP)
Paper) can be suitably used, and has sufficient strength and water resistance in the above thickness range.

【００１２】前記原紙としては、印刷用紙：非塗工印刷
用紙（上級、中級、下級、薄葉）、微塗工印刷用紙、塗
工印刷用紙（アート、コート、軽量コート）、特殊印刷
用紙（色上質）等、情報用紙：複写原紙、感光紙用紙、
フォーム紙、ＰＰＣ用紙、情報記録紙等、包装用紙：包
装紙等、雑種紙：工業用雑種紙、家庭用雑種紙等があ
り、これらの選択使用が可能である。また、その製紙方
法としては、化学パルプ（ＬＢＫＰ、ＮＢＫＰ：クラフ
トパルプ）、機械パルプ（ＧＰ、ＴＭＰ：グランドパル
プ、サーモメカニカルパルプ）、再生パルプ（ＤＩＰ：
デインクトパルプ）等を調整し、抄紙機により抄紙、加
圧脱水、蒸気乾燥、サイズプレート（澱粉塗布）、蒸気
乾燥、カレンダー、巻き取ってなるものが使用できる。
そして、上記原紙の両面に、レジンコート加工機等のラ
ミネータを使用して、前記ポリエチレン等のポリマーを
ラミネートして支持体を形成してなる。As the base paper, printing paper: uncoated printing paper (high-grade, intermediate-grade, lower-grade, thin-leaf), finely-coated printing paper, coated printing paper (art, coat, lightweight coat), special printing paper (color High-quality), etc., information paper: copy base paper, photosensitive paper,
Foam paper, PPC paper, information recording paper, etc., wrapping paper: wrapping paper, etc., hybrid paper: industrial hybrid paper, household hybrid paper, etc., and these can be selectively used. The papermaking method includes chemical pulp (LBKP, NBKP: kraft pulp), mechanical pulp (GP, TMP: ground pulp, thermomechanical pulp), and recycled pulp (DIP:
Deinked pulp) and the like, and papermaking, pressure dehydration, steam drying, size plate (starch coating), steam drying, calendering and winding by a paper machine can be used.
Then, a polymer such as polyethylene is laminated on both sides of the base paper using a laminator such as a resin coater to form a support.

【００１３】また、前記研磨体により、例えば、光ファ
イバーの端面を研磨する場合には、ディスク状の研磨シ
ートによる研磨体を用いて、この研磨体を回転させつつ
水、アルコールスラリーを供給し、その研磨層表面に光
ファイバーを押し付け研磨する。When the end face of an optical fiber is polished by the polishing body, for example, water and an alcohol slurry are supplied while rotating the polishing body using a polishing body made of a disk-shaped polishing sheet. The optical fiber is pressed against the surface of the polishing layer and polished.

【００１４】本発明の研磨層で用いられる研磨剤は、モ
ース硬度６〜１０でかつ粉体総量の５０％以上を含み、
一般的に研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、α−
アルミナ、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アル
ミナ、炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造ダイヤ
モンド、ダイヤモンド、α−酸化鉄、窒化珪素、窒化硼
素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チ
タンカーバイド、シリカ、ジルコニア、酸化チタン、酸
化セリウム、ベンガラ、ガーネット等で、主としてモー
ス硬度７以上の材料が１内至４種迄の組み合わせで使用
できる。これらの研磨剤は平均粒子サイズが０．０５〜
５０μｍの大きさのものが使用される。これらの研磨剤
は、研磨層の場合研磨剤１００重量部に対してバインダ
ー１０〜１０００重量部の範囲で用いられる。The abrasive used in the polishing layer of the present invention has a Mohs' hardness of 6 to 10 and contains 50% or more of the total amount of powder.
Generally, a material with an abrasive or polishing action,
Alumina, γ-alumina, α, γ-alumina, fused alumina, silicon carbide, chromium oxide, corundum, artificial diamond, diamond, α-iron oxide, silicon nitride, boron nitride, molybdenum carbide, boron carbide, tungsten carbide, titanium carbide , Silica, zirconia, titanium oxide, cerium oxide, red iron oxide, garnet, etc., and materials having a Mohs hardness of 7 or more can be used in combinations of 1 to 4 types. These abrasives have an average particle size of 0.05 to
Those having a size of 50 μm are used. These abrasives are used in the range of 10 to 1000 parts by weight of the binder with respect to 100 parts by weight of the abrasive in the case of the polishing layer.

【００１５】研磨剤の具体例としては、住友化学社製の
ＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫ
Ｐ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００などが
挙げられる。またＪＩＳに定められたＷＡ３２０、ＷＡ
６００、ＷＡ１０００、ＷＡ２０００、ＷＡ４０００、
ＷＡ６０００などが挙げられる。これらについては特公
昭５２−２８６４２号、特公昭４９−３９４０２号、特
開昭６３−９８８２８号、米国特許３６８７７２５号、
米国特許３００７８０７号、米国特許３０４１１９６
号、米国特許３２９３０６６号、米国特許３６３０９１
０号、米国特許３８３３４１２号、米国特許４１１７１
９０号、英国特許１１４５３４９号、***特許８５３２
１１号等に記載されている。Specific examples of the abrasive include AKP1, AKP15, AKP20, AKP30, and AK manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
P50, AKP80, Hit50, Hit100 and the like. Also, WA320, WA specified in JIS
600, WA1000, WA2000, WA4000,
WA6000 and the like. These are described in JP-B-52-28642, JP-B-49-39402, JP-A-63-98828, U.S. Pat.
U.S. Pat. No. 3,077,807, U.S. Pat.
No. 3,293,066, U.S. Pat.
No. 0, U.S. Pat. No. 3,833,412, U.S. Pat.
No. 90, British Patent 1145349, West German Patent 8532
No. 11, etc.

【００１６】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光
線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。Examples of the binder used in the polishing layer of the present invention include conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins, electron beam-curable resins, ultraviolet-curable resins, visible light-curable resins, and the like. Is used.

【００１７】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が２００
℃以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２０
０〜８００程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。As the thermoplastic resin, the softening temperature is 200
C. or lower, having an average molecular weight of 10,000 to 300,000 and a degree of polymerization of about 50 to 2,000, more preferably 20 to 2,000.
It is about 0 to 800. For example, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, vinyl chloride copolymer, vinyl chloride vinyl acetate vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride vinylidene copolymer, vinyl acrylonitrile copolymer, acrylic acid Ester acrylonitrile copolymer, acrylate vinylidene chloride copolymer, acrylate styrene copolymer, methacrylate acrylonitrile copolymer,
Methacrylic acid ester vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid ester styrene copolymer, urethane elastomer, nylon-silicone resin, nitrocellulose-polyamide resin, polyfucca vinyl, vinylidene chloride acrylonitrile copolymer, butadiene acrylonitrile copolymer, polyamide Resins, polyvinyl butyral, cellulose derivatives (cellulose acetate butyrate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, nitrocellulose, ethyl cellulose, methyl cellulose, propyl cellulose, methyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose,
Acetylcellulose), various synthetic rubber-based thermoplastic resins such as styrene-butadiene copolymer, polyester resin, polycarbonate resin, chlorovinyl ether acrylate copolymer, amino resin, polyamide resin, and mixtures thereof. .

【００１８】これらの樹脂の例示は、特公昭３７−６８
７７号、特公昭３９−１２５２８号、特公昭３９−１９
２８２号、特公昭４０−５３４９号、特公昭４０−２０
９０７号、特公昭４１−９４６３号、特公昭４１−１４
０５９号、特公昭４１−１６９８５号、特公昭４２−６
４２８号、特公昭４２−１１６２１号、特公昭４３−４
６２３号、特公昭４３−１５２０６号、特公昭４４−２
８８９号、特公昭４４−１７９４７号、特公昭４４−１
８２３２号、特公昭４５−１４０２０号、特公昭４５−
１４５００号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭４７
−２２０６３号、特公昭４７−２２０６４号、特公昭４
７−２２０６８号、特公昭４７−２２０６９号、特公昭
４７−２２０７０号、特公昭４７−２７８８６号、特開
昭５７−１３３５２１、特開昭５８−１３７１３３、特
開昭５８−１６６５３３、特開昭５８−２２２４３３、
特開昭５９−５８６４２等、米国特許４５７１３６４
号、米国特許４７５２５３０号の公報等に記載されてい
る。Examples of these resins are described in JP-B-37-68.
No. 77, JP-B-39-12528, JP-B-39-19
No. 282, No. 40-5349, No. 40-20
No. 907, JP-B-41-9463, JP-B-41-14
No. 059, JP-B-41-16985, JP-B-42-6
No. 428, JP-B-42-11621, JP-B-43-4
No. 623, JP-B-43-15206, JP-B-44-2
No. 889, No. 44-17947, No. 44-1
No. 8232, No. 45-14020, No. 45-
14500, JP-B-47-18573, JP-B-47
-22063, JP-B-47-2264, JP-B-4
7-22068, JP-B-47-22069, JP-B-47-22070, JP-B-47-27886, JP-A-57-133521, JP-A-58-137133, JP-A-58-166533, and JP-A-58-166533. 58-222433,
JP-A-59-58642 and the like, U.S. Pat.
And U.S. Pat. No. 4,752,530.

【００１９】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬
化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。The thermosetting resin or the reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating liquid, and becomes infinite by a reaction such as condensation and addition by heating and humidifying after coating and drying. Is preferred. Among these resins, those which do not soften or melt before the resin is thermally decomposed are preferable. Specifically, for example, a phenol resin, a phenoxy resin, an epoxy resin, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyurethane polycarbonate resin, a urea resin, a melamine resin, an alkyd resin, a silicone resin, an acrylic reaction resin (an electron beam curing resin), and an epoxy-polyamide Resin, nitrocellulose melamine resin, mixture of high molecular weight polyester resin and isocyanate prepolymer, mixture of methacrylate copolymer and diisocyanate prepolymer, mixture of polyester polyol and polyisocyanate, urea formaldehyde resin, low molecular weight glycol / high molecular weight A diol / triphenylmethane triisocyanate mixture, a polyamine resin, a polyimine resin, and mixtures thereof.

【００２０】これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０
３号、特公昭４０−９７７９号、特公昭４１−７１９２
号、特公昭４１−８０１６号、特公昭４１−１４２７５
号、特公昭４２−１８１７９号、特公昭４３−１２０８
１号、特公昭４４−２８０２３号、特公昭４５−１４５
０１号、特公昭４５−２４９０２号、特公昭４６−１３
１０３号、特公昭４７−２２０６５号、特公昭４７−２
２０６６号、特公昭４７−２２０６７号、特公昭４７−
２２０７２号、特公昭４７−２２０７３号、特公昭４７
−２８０４５号、特公昭４７−２８０４８号、特公昭４
７−２８９２２号等の公報に記載されている。Examples of these resins are described in JP-B-39-810.
No. 3, JP-B-40-9779, JP-B-41-7192
No., JP-B-41-8016, JP-B-41-14275
No., JP-B-42-18179, JP-B-43-1208
No. 1, Japanese Patent Publication No. 44-28023, Japanese Patent Publication No. 45-145
No. 01, JP-B-45-24902, JP-B-46-13
103, JP-B-47-2265, JP-B-47-2
No. 2066, JP-B-47-22067, JP-B-47-
22072, JP-B-47-22073, JP-B-47
-28045, JP-B-47-28048, JP-B-4
It is described in publications such as 7-28922.

【００２１】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（ＰＯ(ＯＭ)(ＯＭ)）、ホスホ
ン酸、硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ）、及びこれらのエステル基等
の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々
の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2
ｅｑ含むことが好ましい。These thermoplastic resins, thermosetting resins, and reactive resins have carboxylic acid (COOM), sulfinic acid, sulfenic acid, sulfonic acid (SO ₃ M), phosphoric acid (PO) as functional groups other than the main functional groups. (OM) (OM)), phosphonic acid, sulfuric acid (OSO ₃ M), and acidic groups such as ester groups thereof (M is H, an alkali metal, an alkaline earth metal,
Hydrocarbon groups), amino acids; aminosulfonic acids, sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, amphoteric groups such as alkyl betaine, amino groups, imino groups, imide groups,
An amide group, etc., a hydroxyl group, an alkoxyl group, a thiol group, an alkylthio group, a halogen group (F, Cl, Br,
I) a silyl group, a siloxane group, an epoxy group, an isocyanato group, a cyano group, a nitrile group, an oxo group, an acryl group, and a phosphine group. ^-6 eq ~ 1 × 10 ^-2
It is preferable to include eq.

【００２２】本発明の研磨層に用いるポリイソシアネー
トとしては、トリレンジイソシアネート、４・４’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレ
ン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート等のイソシアネート類、当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、イソシアネート類の縮合によ
って生成した２〜１０量体のポリイソシアネート、ポリ
イソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基
がイソシアネートであるもの等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は１００
〜２００００のものが好適である。The polyisocyanate used in the polishing layer of the present invention includes tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, o-toluidine diisocyanate, and isophorone diisocyanate. Isocyanates such as triphenylmethane triisocyanate and isophorone diisocyanate, products of the isocyanates and polyalcohols, polyisocyanates of 2 to 10-mers produced by condensation of isocyanates, and products of polyisocyanates and polyurethanes Those whose terminal functional groups are isocyanates can be used. The average molecular weight of these polyisocyanates is 100
Those of 20,000 are preferred.

【００２３】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コ
ロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネート
ＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（以上日本ポリウレタン社
製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０
Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タ
ケネート３００Ｓ、タケネート５００（以上武田薬品社
製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、ス
ミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デ
スモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デス
モジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲ
Ｆ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３
（以上住友バイエル社製）等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。Commercially available trade names of these polyisocyanates include Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, Millionate MTL (all manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), Takenate D-102, and Takenate D-110.
N, Takenate D-200, Takenate D-202, Takenate 300S, Takenate 500 (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Sumidur T-80, Sumidur 44S, Sumidur PF, Sumidur L, Sumidur N, Desmodur L , Death module IL, death module N, death module HL, death module T65, death module 15, death module R, death module R
F, death module SL, death module Z4273
(Manufactured by Sumitomo Bayer Co., Ltd.), and these can be used alone or in combination of two or more by utilizing the difference in curing reactivity.

【００２４】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１００
０〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等）を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量１０
０重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例
示は特開昭６０−１３１６２２号、特開昭６１−７４１
３８号等の公報において示されている。For the purpose of accelerating the curing reaction, a hydroxyl group (butanediol, hexanediol, having a molecular weight of 100
A compound having an amino group (such as monomethylamine, dimethylamine, or trimethylamine), a metal oxide catalyst, or a catalyst such as iron acetylacetonate can also be used in combination. It is desirable that these compounds having a hydroxyl group or an amino group are polyfunctional. These polyisocyanates have a total amount of binder resin and polyisocyanate of 10 in the polishing layer and the back layer.
It is preferably used in an amount of 2 to 70 parts by weight per 0 parts by weight, more preferably 5 to 50 parts by weight. Examples of these are disclosed in JP-A-60-131622 and JP-A-61-741.
No. 38 and the like.

【００２５】その他、研磨層中には各種の機能を持った
化合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤
滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤
等が加えられる。In addition, compounds having various functions are added to the polishing layer as additives. For example, a dispersant, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, a fungicide, a coloring agent, a solvent, and the like are added.

【００２６】本発明の研磨層に使用される粉末状潤滑剤
としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼
素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪
素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、
ポリオレフイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉
末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉
末、ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。The powdery lubricant used in the polishing layer of the present invention includes graphite, molybdenum disulfide, boron nitride, graphite fluoride, calcium carbonate, barium sulfate, silicon oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and the like. Inorganic fine powder such as tungsten disulfide, acrylic styrene resin fine powder, benzoguanamine resin fine powder, melamine resin fine powder,
There are resin fine powders such as polyolefin resin fine powder, polyester resin fine powder, polyamide resin fine powder, polyimide resin fine powder, and polyhooker ethylene resin fine powder.

【００２７】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン（信越化学社製ＫＦ９６、ＫＦ６９
等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸及び有機酸エステル化合物、トリアザインドリ
ジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素・
硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０
の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしく
は２つ以上とからなる脂肪酸エステル類、炭素数１０個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が１１〜７０個となる一価〜六価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アル
コール類も使用できる。As the organic compound-based lubricant, silicone oil (dialkyl polysiloxane, dialkoxy polysiloxane, phenyl polysiloxane, fluoroalkyl polysiloxane (KF96, KF69 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
)), Fatty acid-modified silicone oil, fluoroalcohol, polyolefin (polyethylene wax, polypropylene, etc.), polyglycol (ethylene glycol, polyethylene oxide wax, etc.), tetrafluoroethylene oxide wax, polytetrafluoroglycol, perfluoroalkyl ether, perfluoro Fatty acids, perfluoro fatty acid esters, perfluoroalkyl sulfates, perfluoroalkyl sulfonates, perfluoroalkylbenzene sulfonates, perfluoroalkyl phosphates, and other compounds containing fluorine or silicon, alkyl sulfates, alkyl sulfonates , Alkyl phosphonic acid triester,
Organic acids and organic acid ester compounds such as alkyl phosphonic acid monoesters, alkyl phosphonic acid diesters, alkyl phosphates, succinates, etc., triazaindolizine, tetraazaindene, benzotriazole, benzotriazine, benzodiazole, EDTA, etc. nitrogen·
Heterocyclic compound containing sulfur, having 10 to 40 carbon atoms
Consisting of a monobasic fatty acid of formula (I) and any one or more of monohydric or dihydric alcohols having 2 to 40 carbon atoms, trihydric alcohol, tetrahydric alcohol, and hexahydric alcohol Esters, fatty acid esters of monohydric to hexavalent alcohols having a total of 11 to 70 carbon atoms in total with monobasic fatty acids having 10 or more carbon atoms and carbon atoms of the fatty acids, 8 to 40 carbon atoms And fatty acid amides, fatty acid alkyl amides and aliphatic alcohols.

【００２８】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。Specific examples of these compounds include butyl caprylate, octyl caprylate, ethyl laurate, butyl laurate, octyl laurate, ethyl myristate, butyl myristate, octyl myristate, 2-ethylhexyl myristate, Ethyl palmitate, butyl palmitate, octyl palmitate, 2 ethylhexyl palmitate, ethyl stearate, butyl stearate, isobutyl stearate, octyl stearate, 2 ethyl hexyl stearate, amyl stearate, isoamyl stearate, 2 stearic acid
Ethylpentyl, 2-hexyldecyl stearate, isotridecyl stearate, stearic acid amide, alkyl stearate, butoxyethyl stearate,
Anhydrosorbitan monostearate, anhydrosorbitan distearate, anhydrosorbitan tristearate, anhydrosorbitan tetrastearate, oleyl oleate, oleyl alcohol, lauryl alcohol, montan wax, carnauba wax, etc. used alone or in combination it can.

【００２９】また本発明に使用される潤滑剤としては、
潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用でき、防
錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール
等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー１００重量部に対して
０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては、特公昭４３−２３８８９号、特公昭４８−２４
０４１号、特公昭４８−１８４８２号、特公昭４４−１
８２２１、特公昭４７−２８０４３号、特公昭５７−５
６１３２、特開昭５９−８１３６号、特開昭５９−８１
３９号、特開昭６１−８５６２１号、米国特許３４２３
２３３号、米国特許３４７００２１号、米国特許３４９
２２３５号、米国特許３４９７４１１号、米国特許３５
２３０８６号、米国特許３６２５７６０号、米国特許３
６３０７７２号、米国特許３６３４２５３号、米国特許
３６４２５３９号、米国特許３６８７７２５号、米国特
許４１３５０３１号、米国特許４４９７８６４号、米国
特許４５５２７９４号、アイビーエムテクニカル ディ
スクロジャーブリテン（ＩＢＭ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ
Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖｏｌ．
９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エレクト
ロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ１２，
ｐ３８０、化学便覧，応用編，ｐ９５４−９６７，１９
８０年丸善株発行等に記載されている。The lubricant used in the present invention includes:
Lubricating oil additives can be used alone or in combination. Antioxidants known as rust inhibitors (metal chelates such as alkylphenol, benzotriazine, tetraazaindene, sulfamide, guanidine, nucleic acid, pyridine, amine, hydroquinone, EDTA, etc.) Agents), rust inhibitors (naphthenic acid, alkenyl succinic acid, phosphoric acid, dilauryl phosphate, etc.), oil agents (rapeseed oil, lauryl alcohol, etc.), extreme pressure agents (dibenzyl sulfide, tricresyl phosphate, tributyl) Phosphite, etc.), detergents / dispersants, viscosity index improvers, pour point depressants, foaming agents and the like. These lubricants are added in the range of 0.01 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. These are described in JP-B-43-23889 and JP-B-48-24.
No. 041, JP-B-48-18482, JP-B-44-1
8221, JP-B-47-28043, JP-B-57-5
6132, JP-A-59-8136, JP-A-59-81
39, JP-A-61-85621, U.S. Pat.
No. 233, U.S. Pat.
No. 2235, U.S. Pat. No. 3,497,411, U.S. Pat.
No. 23086, U.S. Pat. No. 3,625,760, U.S. Pat.
No. 630772, US Pat. No. 3,634,253, US Pat. No. 3,642,539, US Pat. No. 3,687,725, US Pat. No. 4,350,311, US Pat. No. 4,497,864, US Pat. No. 4,552,794, IBM Technical Disclosure Britain (IBM Technical)
Disclosure Bulletin) Vol.
9, No7, p779 (December 1966), ELEKTRONIK 1961 No12,
p380, Handbook of Chemistry, Advanced Edition, p954-967, 19
It is described in 1980 Maruzen Issuance.

【００３０】本発明に使用する研磨剤の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ、Ｒ₁は炭素数１〜３９
個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の
脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ₄ ⁺等）又
はアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、Ｃｕ、Ｐ
ｂ等からなる金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミ
ド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この
他に炭素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、
フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸
エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀
酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー１００重量部に対し
て０．００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨剤や非研磨微粉末の表面に予
め被着させてもよく、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号、
特公昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８２２１
号、特公昭４８−７４４１号、特公昭４８−１５００１
号、特公昭４８−１５００２号、特公昭４８−１６３６
３号、特公昭４９−３９４０２号、米国特許３３８７９
９３号、同３４７００２１号等において示されている。The dispersing agent and dispersing agent for the abrasive used in the present invention include caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, linolenic acid, C2 of stearic acid, behenic acid, maleic acid, phthalic acid, etc.
40 pieces of fatty acids (R ₁ COOH, R ₁ is a carbon number 1 to 39
Alkyl groups, phenyl groups, aralkyl groups), alkali metals (Li, Na, K, NH ₄ ^+, etc.) or alkaline earth metals (Mg, Ca, Ba, etc.) of the above fatty acids, Cu, P
metal soap (copper oleate), fatty acid amide, lecithin (soybean oil lecithin) or the like composed of b. In addition, higher alcohols having 4 to 40 carbon atoms (butanol, octyl alcohol, myristyl alcohol, stearyl alcohol) and their sulfates, sulfonic acids,
Phenylsulfonic acid, alkylsulfonic acid, sulfonic ester, phosphoric monoester, phosphoric diester, phosphoric triester, alkylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, amine compound and the like can also be used. Further, polyethylene glycol, polyethylene oxide, sulfosuccinic acid, metal sulfosuccinate, sulfosuccinate, and the like can also be used. One or more of these dispersants are usually used, and one kind of the dispersant is added in an amount of 0.005 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder. Regarding the method of using these dispersants, the dispersants may be previously adhered to the surface of the abrasive or non-abrasive fine powder, or may be added during dispersion.
Such a thing is, for example, JP-B-39-28369,
JP-B-44-17945, JP-B-44-18221
No., JP-B-48-7441, JP-B-48-15001
No., JP-B-48-15002, JP-B-48-1636
No. 3, JP-B-49-39402, U.S. Pat.
Nos. 93 and 3470021.

【００３１】本発明に用いる防黴剤としては、２−（４
−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロ
ジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０・１０’−
オキシビスフェノキサルシン、２・４・５・６テトラク
ロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルス
ルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル
錫）、サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図
書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等におい
て示されている。As the antifungal agent used in the present invention, 2- (4
-Thiazolyl) -benzimidazole, N- (fluorodichloromethylthio) -phthalimide, 10.10'-
Oxybisphenoxalcin, 2,4,5.6 tetrachloroisophthalonitrile, P-tolyldiiodomethylsulfone, triiodoallyl alcohol, dihydroacetoacid, mercury phenyloleate, bis (tributyltin) oxide, saltylani There are rides. Such a substance is described in, for example, "Microbial Disaster and Prevention Technology", Engineering Book, 1972, "Chemistry and Industry", 32, 904 (1979).

【００３２】本発明に用いる帯電防止剤としては、カー
ボンブラックが使用でき、例えば、ゴム用ファーネス、
ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク等を用いることができる。その比表面積は５〜５００
ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ² であるのが好ましい。この
カーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社
製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１
０００，９００，８００，７００、三菱化成工業社製：
６５０Ｂ，９５０Ｂ，３２５０Ｂ，８５０，９００，９
６０，９８０，１０００，２３００，２４００，２６０
０等があげられる。また、カーボンブラックを分散剤等
で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したものを用
いることもできる。As the antistatic agent used in the present invention, carbon black can be used.
Thermal for rubber, black for color, acetylene black and the like can be used. Its specific surface area is 5-500
m ² / g, DBP oil absorption 10-400 ml / 100
g, pH 2-10, water content 0.1-10%, tap density 0.1-1 g / cm ² . As a specific example of this carbon black, BLACKPEARLS 2000, 1300, 1 manufactured by Cabot Corporation
000,900,800,700, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation:
650B, 950B, 3250B, 850, 900, 9
60,980,1000,2300,2400,260
0 and the like. In addition, carbon black that has been subjected to surface treatment with a dispersant or the like or graphitized with a resin can also be used.

【００３３】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト、変性グラファイト、
カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。Examples of the antistatic agent other than carbon black used in the present invention include graphite, modified graphite,
Conductive powders such as carbon black graft polymer, tin oxide-antimony oxide, tin oxide, titanium oxide-tin oxide-antimony oxide; natural surfactants such as saponin; alkylene oxide-based, glycerin-based, glycidol-based, polyhydric alcohol, Nonionic surfactants such as polyhydric alcohol esters and alkylphenol EO adducts; higher alkylamines, cyclic amines, hydantoin derivatives, amidoamines, esteramides, quaternary ammonium salts, pyridine and other heterocycles, phosphoniums and sulfoniums Anionic surfactants containing acidic groups such as carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, phosphoric acid, sulfate ester group, phosphonate ester, phosphate ester group; amino acids; aminosulfonic acids, sulfuric acid of amino alcohol or Phosphoric esters, amphoteric surfactants such as alkyl betaine type and the like are used.

【００３４】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭６０−２８０２５号、米
国特許２２７１６２３号、同２２４０４７２号、同２２
８８２２６号、同２６７６１２２号、同２６７６９２４
号、同２６７６９７５号、同２６９１５６６号、同２７
２７８６０号、同２７３０４９８号、同２７４２３７９
号、同２７３９８９１号、同３０６８１０１号、同３１
５８４８４号、同３２０１２５３号、同３２１０１９１
号、同３２９４５４０号、同３４１５６４９号、同３４
４１４１３号、同３４４２６５４号、同３４７５１７４
号、同３５４５９７４号、***特許公開（ＯＬＳ）１９
４２６６５号、英国特許１０７７３１７号、同１１９８
４５０号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』（槇書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ
著『サーフエス アクテイブ エージエンツ』（インタ
ーサイエンス パブリケーション コーポレイテッド１
９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペデ
ィア オブ サーフエスアクティブ エージェンツ，第
２巻』（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年
版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社，
昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房（１９６８）等に記載されている。Some of the examples of the surfactant compound which can be used as the antistatic agent are described in JP-A-60-28025, US Pat. Nos. 2,271,623, 2,224,472, and 22.
88226, 2676122, 2676924
Nos. 2,676,975, 2,691,566,27
27860, 2730498, 2742379
Nos. 2739891, 3068101, 31
No. 58484, No. 3201253, No. 32010191
Nos. 3,294,540, 3,415,649 and 34
No. 41413, No. 3444254, No. 3475174
No. 3,545,974, West German Patent Publication (OLS) 19
No. 42665, British Patent Nos. 1077317 and 1198
No. 450, Ryohei Oda et al., "Synthesis of Surfactants and Their Applications" (Maki Shoten, 1972 edition); W. "Surfes Active Age Entities" by Beili (Interscience Publication Corporation 1
985); P. Encyclopedia of Surfactive Agents, Vol. 2 (Chemical publishing company, 1964 edition) by Sisley; Surfactant Handbook, 6th printing (Sangyo Tosho Co., Ltd.,
December 20, 1966); Hideo Marumo, "Antistatic Agent"
Koshobo (1968) and the like.

【００３５】これらの界面活性剤は単独又は混合して添
加してもよい。研磨体における、これらの界面活性剤の
使用量は、研磨剤１００重量部当たり０．０１〜１０重
量部である。またバック層での使用量はバインダー１０
０重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは
帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそ
のほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。These surfactants may be added alone or as a mixture. The amount of these surfactants used in the abrasive body is 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the abrasive. The amount used in the back layer is 10 binders.
It is 0.01 to 30 parts by weight per 0 parts by weight. These are used as antistatic agents, but are sometimes applied for other purposes such as improvement of dispersion, improvement of lubricity, coating aid, wetting agent, curing accelerator, and dispersion accelerator. .

【００３６】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等が使用できる。またこれら溶媒は通常
任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以下の量
で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成
分等）を含んでもよい。有機溶媒の代わりに水系溶媒
（水、アルコール、アセトン等）を使用することもでき
る。As the organic solvent used in the dispersion, kneading and coating of the present invention, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone and tetrahydrofuran in any ratio; methanol, ethanol, propanol and butanol , Isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, alcohols such as methylcyclohexanol; methyl acetate,
Ester systems such as ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate and glycol monoethyl ether; ether systems such as diethyl ether, tetrahydrofuran, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether and dioxane; benzene, toluene, xylene, Tar-based (aromatic hydrocarbons) such as cresol, chlorobenzene, and styrene; chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, ethylene chlorohydrin, and dichlorobenzene; NN-dimethylformaldehyde , Hexane and the like can be used. These solvents are generally used in two or more kinds at an arbitrary ratio. Further, a trace amount of impurities (polymer of the solvent itself, moisture, raw material components, etc.) may be contained in an amount of 1% by weight or less. An aqueous solvent (water, alcohol, acetone, etc.) can be used instead of the organic solvent.

【００３７】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・
乾燥する。塗布溶液の分散、混練の方法には特に制限は
なく、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶
媒等）、分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０
℃）などは適宜設定することができる。研磨塗料の調製
には通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロー
ルミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンド
グラインダー、ツェグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）アトラ
イター、高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、
高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサ
ー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキ
サー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモ
ジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュ
ー押し出し機、及び超音波分散機などを用いることがで
きる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数
備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳
細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パット
ン）“Ｐａｉｎｔ Ｆｌｏｗ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイント フロー アンド
ピグメント ディスパージョン）１９６４年Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ社発行（ジョン ウイリー
アンド サンズ））や田中信一著『工業材料』２５巻３
７（１９７７）などや当該書籍の引用文献に記載されて
いる。これら分散、混練の補助材料として分散・混練を
効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５
ｍｍφの径のスチールボール、スチールビーズ、セラミ
ツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用い
ることができる。またこれら材料は球形に限らない。ま
た、米国特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５
６号などの明細書にも記載がある。本発明においても上
記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された方法に
準じて混練分散を行い研磨層塗布液を調製することがで
きる。The polishing layer is formed by dissolving the above composition and the like in a solvent by arbitrarily combining the above-mentioned compositions and the like, and coating the solution on a support as a coating solution.
dry. The method for dispersing and kneading the coating solution is not particularly limited, and the order of addition of each component (resin, powder, lubricant, solvent, etc.), the addition position during dispersing / kneading, the dispersing temperature (0 to 80)
° C) can be set as appropriate. For the preparation of the abrasive paint, a conventional kneading machine, for example, a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, a pebble mill, a tron mill, a sand grinder, a Seggari attritor, a high-speed impeller, a disperser, a high-speed stone mill,
Use high speed impact mill, disperser, kneader, high speed mixer, ribbon blender, co-kneader, intensive mixer, tumbler, blender, disperser, homogenizer, single screw extruder, twin screw extruder, ultrasonic disperser, etc. Can be. Usually, a plurality of these dispersing and kneading machines are provided for dispersing and kneading, and the treatment is continuously performed. For details of the technique relating to kneading and dispersion, see T.A. C. "Paint Flow and Pigment," by Patton (TC Patton)
Dispersion ”(Paint Flow and
Pigment dispersion) 1964 John
Published by Wiley & Sons (John Wiley
And Sands)) Yanaka Shinichi, Industrial Materials, Vol. 25, No. 3
7 (1977) and the references cited in the book. In order to efficiently promote dispersion and kneading as an auxiliary material for these dispersion and kneading, an equivalent sphere diameter of 10 cmφ to 0.05 cm is used.
Steel balls, steel beads, ceramic beads, glass beads, and organic polymer beads having a diameter of mmφ can be used. These materials are not limited to spherical shapes. Also, U.S. Pat. Nos. 2,581,414 and 2,85515.
There is also a description in the specification such as No. 6. Also in the present invention, the coating liquid for the polishing layer can be prepared by kneading and dispersing according to the method described in the above-mentioned book or the literature cited therein.

【００３８】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチ
ストークス（２５℃）に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』２５３頁〜２
７７頁（昭和４６．３．２０．発行）等に詳細に記載さ
れている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗層あるいは支持体と
の密着力向上のためにコロナ放電処理等を行っても良
い。また研磨層の多層構成は、同時多層塗布、逐次多層
塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５７
−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公
報、特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９−１
６５２３９号公報の明細書等に示されている。As a method of applying the coating liquid for a polishing layer on a support, the viscosity of the coating liquid is adjusted to 1 to 20,000 centistokes (25 ° C.), and an air doctor coater, a blade coater, an air knife coater, a squeeze Coater, impregnating coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss coater, cast coater, spray coater, rod coater, forward rotation roll coater, curtain coater, extrusion coater, bar coater, lip coater, etc. can be used, other methods It is also possible to provide specific descriptions of these in “Coating Engineering” published by Asakura Shoten, pages 253 to 2
This is described in detail on page 77 (issued in 1963, 1963). The order of application of these coating liquids can be arbitrarily selected, and a corona discharge treatment or the like may be performed before the application of the desired liquid to improve the adhesion to the undercoat layer or the support. The multilayer structure of the polishing layer may be a simultaneous multilayer coating, a sequential multilayer coating, or the like. These are described, for example, in
-123532, JP-B-62-37451, JP-A-59-142741 and JP-A-59-1.
No. 65239, and the like.

【００３９】このような方法により、支持体上に約１〜
２００μｍほどで塗布された研磨液を必要により直ちに
２５〜１３０℃で多段階で乾燥処理を施し、研磨層を
０．０５〜１０μｍの厚みに乾燥する。そして、所望の
形状に裁断したりして、本発明の研磨体を製造する。こ
れらの製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分
散、塗布・乾燥、平滑処理、熱処理、ＥＢ処理、表面研
磨処理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望
ましい。By such a method, about 1 to about
The polishing liquid applied at about 200 μm is immediately subjected to a drying treatment at 25 to 130 ° C. in multiple stages as needed, and the polishing layer is dried to a thickness of 0.05 to 10 μm. Then, the abrasive body of the present invention is manufactured by cutting into a desired shape. In these production methods, it is desirable that the steps of powder preliminary treatment / surface treatment, kneading / dispersion, coating / drying, smoothing treatment, heat treatment, EB treatment, surface polishing treatment, cutting, and winding are continuously performed.

【００４０】研磨体が研磨テープの場合には、作製した
研磨テープを裁断したあと所望のプラスチックや金属の
リールに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前の工
程において研磨シートその他の研磨体をバーニッシュ及
び／又はクリーニングすることが望ましい。バーニッシ
ュは研磨体の表面粗度と研磨力を制御するために具体的
にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド
刃、セラミックス刃のような硬い材料により研磨面の突
起部分をそぎおとし均一にもしくは平滑にする。これら
材料のモース硬度は８以上が好ましいが特に制限はなく
突起を除去できるものであれば良い。これら材料の形状
は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホイール（回
転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与しても良
い）のような形状でも使用できる。また研磨体のクリー
ニングは、研磨体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する
目的で研磨体表層を不織布などでワイピングすることに
より行う。このようなワイピングの材料としては、例え
ば日本バイリーン社製の各種バイリーンや東レ社製のト
レシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フィ
ルム社製の各種研磨体、また不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリ
ロニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペー
パー等が使用できる。これらは例えば特公昭４６−３９
３０９号、特公昭５８−４６７６８号、特開昭５６−９
０４２９号、特公昭５８−４６７６７号、特開昭６３−
２５９８３０号、特開平１−２０１８２４号等にも記載
されている。When the polishing body is a polishing tape, the produced polishing tape is cut and wound on a desired plastic or metal reel. It is desirable to burnish and / or clean the abrasive sheet or other abrasive body immediately before or before winding. Burnishes are designed to control the surface roughness and polishing power of the polished body.Specifically, the protrusions on the polished surface are cut with a hard material such as a sapphire blade, a razor blade, a carbide blade, a diamond blade, or a ceramic blade. Make it even or smooth. The Mohs hardness of these materials is preferably 8 or more, but is not particularly limited as long as protrusions can be removed. The shape of these materials does not need to be a blade in particular, and shapes such as a square shape, a round shape, and a wheel (these materials may be provided around a rotating cylindrical shape) can be used. The cleaning of the abrasive body is performed by wiping the surface layer of the abrasive body with a nonwoven fabric or the like in order to remove dirt and excess lubricant on the surface of the abrasive body. Examples of such wiping materials include various types of virgin manufactured by Japan Vilene Co., Ltd., Toraysee, Exaine manufactured by Toray Co., Ltd., Kimwipe (trade name), and various abrasives manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. Tissue paper, such as nonwoven fabric made of rayon, nonwoven fabric made of acrylonitrile, and blended nonwoven fabric can be used. These are described, for example, in JP-B-46-39.
No. 309, JP-B-58-46768, JP-A-56-9
No. 0429, JP-B-58-46767, JP-A-63-463.
No. 259830, JP-A-1-201824 and the like.

【００４１】本発明に使用される研磨剤、バインダー、
添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等）、溶剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい）或いはその製法に関しては、特公昭
５６−２６８９０号等に記載されている製造方法等を参
考にできる。The abrasives, binders, and binders used in the present invention
Additives (lubricants, dispersants, antistatic agents, surface treatment agents, carbon black, abrasives, light-blocking agents, antioxidants, antifungal agents, etc.), solvents and supports (undercoat layer, back layer, under back) (It may have a coating layer) or the production method thereof can be referred to the production method described in JP-B-56-26890 or the like.

【００４２】[0042]

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be shown below.
Evaluate its properties. In the examples, "parts" indicates "parts by weight".

【００４３】＜実施例１〜５＞まず、支持体として、１
００μｍ〜５００μｍ厚みの原紙に、溶融したポリエチ
レンをラミネーター（ＲＣ加工機：レジンコート加工
機）で両面に各々２０μｍ塗布したポリエチレン層をラ
ミネートしてなる。<Examples 1 to 5> First, as a support, 1
A polyethylene layer in which molten polyethylene is applied to both sides by 20 μm on a base paper having a thickness of 00 μm to 500 μm with a laminator (RC processing machine: resin coating processing machine).

【００４４】次に、下記組成Ａを均一に混練分散し、粘
度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液を、上記の
ラミネート紙（１４０μｍ〜５４０μｍ）による支持体
上に塗布し、乾燥させて研磨層を設ける。紫外線を照射
して研磨層バインダーを硬化させた後、所望の大きさに
切り出して研磨体の試料を作製した。Next, the following composition A is uniformly kneaded and dispersed, the viscosity is adjusted, and a coating solution for a polishing layer mixed with a curing agent is applied on a support made of the above-mentioned laminated paper (140 μm to 540 μm), and dried. Then, a polishing layer is provided. After irradiating ultraviolet rays to harden the polishing layer binder, it was cut into a desired size to prepare a sample of a polished body.

【００４５】各実施例１〜５は、下記表１に示すよう
に、原紙の厚みが１００μｍ〜５００μｍ（ラミネート
紙厚み：１４０μｍ〜５４０μｍ）と異なるものであ
る。In Examples 1 to 5, as shown in Table 1 below, the thickness of the base paper was different from 100 μm to 500 μm (laminated paper thickness: 140 μm to 540 μm).

【００４６】上記各実施例の研磨体によって、光ファイ
バーの端面をシリカスラリー水溶液のもと、荷重５０
ｇ、回転数１２０ｒｐｍ の研磨条件で６０秒研磨した
研磨試験を行って、研磨量（研削厚み：μｍ）と、研磨
前後の光ファイバーの出力差（ｄＢ）を測定した結果を
下記表１に示す。研磨量は、光ファイバーの研磨前後で
の寸法差を測定したものであり、その値が大きいほど研
磨力が大きい。出力は、光ファイバー表面の成形性を示
し、プラス側の値を示す方が良好な特性である。さら
に、研磨面の面性は、研磨後の光ファイバー表面におけ
る傷の発生を観察し、大きい傷が発生していない良好な
ものを○、大きい傷が１〜５本発生しているものを△、
大きい傷が６本以上発生しているものを×と評価してい
る。With the polishing body of each of the above embodiments, the end face of the optical fiber was subjected to a load of 50% under an aqueous solution of silica slurry.
g, a polishing test in which polishing was performed for 60 seconds under a polishing condition of a rotation speed of 120 rpm, and the results of measuring the polishing amount (ground thickness: μm) and the output difference (dB) of the optical fiber before and after polishing are shown in Table 1 below. The polishing amount is obtained by measuring a dimensional difference between before and after polishing of the optical fiber, and the larger the value, the larger the polishing power. The output indicates the moldability of the surface of the optical fiber, and the better the output, the better the characteristic. Furthermore, the surface properties of the polished surface were observed by observing the occurrence of scratches on the surface of the optical fiber after polishing.
Those having 6 or more large scratches are evaluated as x.

【００４７】＜比較例１〜７＞表１には、比較例１〜７
の研磨体による同様の研磨テストを行った結果を併記し
ている。比較例１〜４は、順に厚みが１５μｍ〜１００
μｍと大きくなるポリエステルシートによる支持体の両
面に、実施例と同様の研磨層を設けたものであり、比較
例５〜７はポリマー層がラミネートされていない原紙
（厚みが１００μｍ〜３００μｍと大きくなる）のみに
よる支持体の両面に、実施例と同様の研磨層を設けたも
のである。<Comparative Examples 1 to 7> Table 1 shows Comparative Examples 1 to 7
The results of the same polishing test performed on the polishing body of Example 1 are also shown. Comparative Examples 1 to 4 have a thickness of 15 μm to 100 in order.
A polishing sheet similar to that of the example was provided on both sides of the support made of a polyester sheet having a size of as large as μm, and Comparative Examples 5 to 7 had a base paper on which the polymer layer was not laminated (thickness as large as 100 μm to 300 μm). ) Is provided with a polishing layer similar to that of the example on both surfaces of the support.

【００４８】表１の結果から、本発明実施例１〜５によ
る研磨体では、光ファイバーのウェット用研磨体として
の要求を満足する研磨力（研磨量）及び成形性（出力、
研磨面の面性）が確保でき、ラミネート紙支持体による
研磨体が十分に使用可能であることが判明した。これに
対して、比較例１〜４のポリエステルシートによるもの
では、前記実施例と同等かそれ以上の研磨量が得られて
も、成形性の点で出力差がマイナスの値となると共に傷
が発生している。さらに比較例５〜７の原紙のみによる
ものでは、研磨量が小さく研磨力不足であると共に、成
形性の点で出力差が大きなマイナス値となり、さらに、
多数の傷が発生している。From the results shown in Table 1, in the polished bodies according to Examples 1 to 5 of the present invention, the polishing force (polishing amount) and the formability (output,
The surface property of the polished surface was secured, and it was found that the polished body using the laminated paper support could be used sufficiently. On the other hand, in the case of the polyester sheets of Comparative Examples 1 to 4, even if a polishing amount equal to or more than that of the above-described example was obtained, the output difference became a negative value in terms of moldability, and scratches were generated. It has occurred. Further, with only the base papers of Comparative Examples 5 to 7, the polishing amount was small and the polishing power was insufficient, and the output difference was a large negative value in terms of moldability.
Many scratches have occurred.

【００４９】 ［研磨層用塗布液組成：Ａ］ 研磨剤（アルミナ：ＷＡ２０００） １００部 バインダー（紫外線硬化樹脂、ＳＯ₃Ｈ含有１×10^-4eq/g） １６部 バインダー（ポリイソシアネート） ８部 溶剤（シクロヘキサノン／メチルエチルケトン：１／１） ２００部[Coating Composition for Abrasive Layer: A] Abrasive (alumina: WA2000) 100 parts Binder (ultraviolet curable resin, 1 × 10 ⁻⁴ eq / g containing SO ₃ H) 16 parts Binder (polyisocyanate) 8 parts Solvent (cyclohexanone / methyl ethyl ketone: 1/1) 200 parts

【００５０】[0050]

【表１】 [Table 1]

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 研磨剤とバインダーからなる研磨層を支
持体上に有してなる研磨体において、 前記支持体が両面にポリマー層を有する原紙からなるこ
とを特徴とする研磨体。1. A polishing body having a polishing layer comprising an abrasive and a binder on a support, wherein the support comprises base paper having a polymer layer on both surfaces. 【請求項２】 前記ポリマー層を有する原紙が、ポリエ
チレン層がラミネートされた原紙であることを特徴とす
る請求項１に記載の研磨体。2. The polishing body according to claim 1, wherein the base paper having the polymer layer is a base paper laminated with a polyethylene layer. 【請求項３】 前記支持体の厚みが２０〜８００μｍで
あることを特徴とする請求項１に記載の研磨体。3. The polishing body according to claim 1, wherein said support has a thickness of 20 to 800 μm. 【請求項４】 前記支持体の重量厚みが４５〜３００ｇ
／ｍ²であることを特徴とする請求項１に記載の研磨
体。4. The weight of the support is 45 to 300 g.
/ M ^2. The polishing body according to claim 1, wherein