JP2000061363A - 基板処理装置の処理液吐出ノズル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短時間で基板の表面全域に処理液を供給して
基板を処理することが可能な基板処理装置の処理液吐出
ノズルを提供することを目的とする。 【解決手段】 処理液吐出ノズル１は、処理液貯留部４
２と処理液吐出口４７とを有するノズル本体４３と、処
理液貯留部４２内の処理液に対して超音波振動を付与す
るための超音波発振子４１と、処理液吐出口４７よりも
小さいオリフィスを有する絞り部４８と、処理液貯留部
４２内に存在する気泡を処理液貯留部４２から外部に排
出するための超音波発振子４１に形成された気泡排出孔
４４とを備える。上記絞り部４８と処理液吐出口４７と
は、絞り部４８から処理液吐出部４７に向けて順次その
断面が拡大する形状を有する内壁４５により接続されて
いる。そして、この内壁４５は、その内部を通過する処
理液の流線に沿ってなめらかに変化する、ド・ラバル管
状の形状を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用
マスク基板等の基板に対して処理液を供給するための基
板処理装置の処理液吐出ノズルに関する。

【０００２】

【従来の技術】このような基板処理装置の一種として、
例えば、スピンチャックに保持されて回転する基板の表
面に、数百キロヘルツ〜数メガヘルツ程度の超音波振動
が付与された処理液を供給することにより、この基板を
超音波振動を利用して洗浄処理する構成を有するものが
知られている。

【０００３】そして、このような基板処理装置に使用さ
れる処理液吐出ノズルは、処理液を一時的に貯留する処
理液貯留部とこの処理液貯留部の下方に形成された処理
液吐出口とを有するノズル本体と、処理液貯留部内の処
理液に対して超音波振動を付与する超音波発振子とを備
え、処理液吐出口から基板に対して超音波振動が付与さ
れた処理液を供給するようにしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような基板処理装
置においては、処理液は、処理液吐出ノズルの処理液吐
出口から基板に向けて、直線状に、かつ、基板表面の一
点に集中する状態で吐出される。このため、基板表面の
広い範囲に処理液を供給することは不可能であり、基板
表面の全域にわたって均一な処理を行うためには、処理
液吐出ノズルを基板の表面に対して移動させながら、長
い時間をかけて基板全域に処理液を供給して基板を洗浄
処理する必要が生ずる。

【０００５】また、基板に供給する処理液の流量を増加
させることにより、基板の洗浄処理に要する時間を短縮
しようとする場合においても、従来の基板処理装置にお
いては、処理液は、処理液吐出ノズルの処理液吐出口か
ら基板に向けて、直線状に、かつ、基板表面の一点に集
中する状態で吐出される構成であることから、基板の表
面で処理液が飛び散ってしまい、処理液の流量を増加し
たにもかかわらず基板の表面に有効に供給される処理液
が増加せず、洗浄処理に要する時間を短縮することはで
きないという問題がある。

【０００６】このような問題は、基板に対して超音波振
動が付与された処理液を供給して基板を洗浄処理するた
めの処理液吐出ノズルのみならず、基板に対して処理液
を供給するための処理液吐出ノズル全般に生ずる問題で
ある。

【０００７】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、短時間で基板の表面全域に処理液を供
給して基板を処理することが可能な基板処理装置の処理
液吐出ノズルを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板に対して処理液を供給するため基板処理装置の
処理液吐出ノズルであって、ノズル本体と、前記ノズル
本体内における処理液の流路中に形成された絞り部と、
前記ノズル本体の下方に形成された処理液吐出口とを備
え、前記ノズル本体の内壁は、前記絞り部と前記処理液
吐出口とを、前記絞り部から前記処理液吐出口に向けて
順次その断面積が拡大する状態で接続することを特徴と
する。

【０００９】請求項２に記載の発明は、基板に対して超
音波振動が付与された処理液を供給するための基板処理
装置の処理液吐出ノズルであって、処理液を一時的に貯
留する処理液貯留部と、この処理液貯留部の下方に形成
された処理液吐出口とを有するノズル本体と、前記処理
液貯留部内の処理液に対して超音波振動を付与する超音
波発振子と、前記処理液貯留部と前記処理液吐出口との
間に配設された前記処理液吐出口よりも小さいオリフィ
スを有する絞り部とを備え、前記ノズル本体の内壁は、
前記絞り部と前記処理液吐出口とを、前記絞り部から前
記処理液吐出口に向けて順次その断面積が拡大する状態
で接続することを特徴とする。

【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の発明において、処理液吐出ノズルを、前記処理液吐出
口と前記基板との距離が１０ｍｍ以下となるように配置
している。

【００１１】請求項４に記載の発明は、請求項２に記載
の発明において、処理液吐出ノズルより吐出する処理液
の量を毎分１０リットル以上としている。

【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項２乃至請
求項４いずれかに記載の発明において、前記絞り部と前
記処理液吐出口との間の位置における前記ノズル本体の
内壁は、ド・ラバル管状の形状を有している。

【００１３】請求項６に記載の発明は、請求項２乃至請
求項５いずれかに記載の発明において、前記処理液貯留
部内に存在する気泡を前記処理液貯留部から外部に排出
するための気泡排出孔をさらに備えている。

【００１４】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
の発明において、前記超音波発振子は前記処理液貯留部
の上方に配設されており、前記気泡排出孔は前記超音波
発振子に形成されている。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る処理液吐
出ノズル１を使用した基板処理装置の概要図であり、図
２はその要部を示す斜視図である。

【００１６】この基板処理装置は、図１および図２に示
すように、水平面内を回転する基板Ｗに対して処理液吐
出ノズル１から処理液としての純水および薬液を吐出す
ることにより基板Ｗを洗浄処理するためのものであり、
基板Ｗの端縁をそこに立設した４本の支持ピン１２によ
り支持するスピンチャック１１と、このスピンチャック
１１を鉛直方向を向く軸１３を中心として回転させるモ
ータ１４と、基板Ｗの回転に伴って基板Ｗの端縁から飛
散する処理液を捕獲するための飛散防止用カップ１５
と、スピンチャック１１に支持された基板Ｗの表面と近
接配置されたこの発明に係る処理液吐出ノズル１と、こ
の処理液吐出ノズル１とアーム３５を介して接続される
ことにより、処理液吐出ノズル１を、基板Ｗの回転中心
と対向する位置と基板Ｗの端縁と対向する位置との間で
往復移動させるノズル移動機構３６とを備える。

【００１７】処理液吐出ノズル１は、薬液タンク２２
と、循環ポンプ１７と、ヒータ１８と、フィルタ１９
と、開閉弁２０とを有する薬液循環路２１と、開閉弁２
５を介して接続されている。また、処理液吐出ノズル１
は、純水の供給源と、開閉弁２６を介して接続されてい
る。

【００１８】また、処理液吐出ノズル１から気泡を排出
するための気泡排出路３４は、開閉弁２７および絞り弁
３０を介して、上記薬液循環路２１に連通する気泡排出
路３１と接続されている。同様に、気泡排出路３４は、
開閉弁２８および絞り弁２９を介して図示しないドレイ
ンに連通する気泡排出路３２と接続されている。さら
に、処理液吐出ノズル１は、後述する超音波発振子４１
の電源３３と接続されている。

【００１９】図３は、上述した処理液吐出ノズル１の縦
断面図である。

【００２０】この処理液吐出ノズル１は、処理液を一時
的に貯留する処理液貯留部４２とこの処理液貯留部４２
の下方に形成された処理液吐出口４７とを有するノズル
本体４３と、処理液貯留部４２内の処理液に対して数百
キロヘルツ〜数メガヘルツ程度の超音波振動を付与する
ための超音波発振子４１と、処理液吐出口４７よりも小
さいオリフィスを有する絞り部４８と、処理液貯留部４
２内に存在する気泡を処理液貯留部４２から外部に排出
するための超音波発振子４１に形成された気泡排出孔４
４とを備える。

【００２１】この気泡排出孔４４は、上述した気泡排出
路３４と接続されている。また、超音波発振子４１は、
上述した電源３３と接続されている。

【００２２】また、上記絞り部４８と処理液吐出口４７
とは、絞り部４８から処理液吐出口４７に向けて順次そ
の断面が拡大する形状を有する内壁４５により接続され
ている。そして、この内壁４５は、その内部を通過する
処理液の流線に沿ってなめらかに変化する、ド・ラバル
管（ｄｅ Ｌａｖａｌ ｎｏｚｚｌｅ）状の形状を有す
る。

【００２３】次に、この基板処理装置による基板Ｗの処
理動作について説明する。なお、以下の説明において
は、この基板処理装置により、基板Ｗに薬液を供給して
基板Ｗを薬液により洗浄処理した後、この基板Ｗを純水
でさらに洗浄処理する場合について説明する。

【００２４】基板Ｗに薬液を供給するに先立ち、薬液循
環路２１内に薬液を循環させておく。この薬液の循環時
においては、ポンプ１７の作用により薬液タンク２２か
ら汲み上げられた薬液は、ヒータ１８により加熱され、
フィルター１９により濾過された後、開閉弁２０を介し
て薬液タンク２２に戻る循環動作中に、所定の温度まで
加熱される。例えば、この薬液がＳＣ１と呼称される洗
浄処理に使用するアンモニアと過酸化水素と純水との混
合液である場合には、この薬液は約８０℃まで加熱され
る。

【００２５】この状態において、モータ１４の駆動によ
りスピンチャック１１に保持された基板Ｗを回転させる
と共に、開閉弁２５を開放することにより薬液循環路２
１から処理液吐出ノズル１に薬液を供給する。このと
き、開閉弁２７を開放する。そして、処理液吐出ノズル
１の処理液吐出口４７から薬液を吐出した状態で超音波
発振子４１の電源３３を作動させ、処理液吐出ノズル１
を、ノズル移動機構３６の駆動により、基板Ｗの回転中
心と対向する位置と基板Ｗの端縁と対向する位置との間
を往復移動させる。これにより、基板Ｗの全面に超音波
振動が付与された薬液が供給され、基板Ｗが薬液により
洗浄処理される。

【００２６】このとき、上述したように、処理液吐出ノ
ズル１における絞り部４８と処理液吐出口４７とは、絞
り部４８から処理液吐出口４７に向けて順次その断面が
拡大する形状を有する内壁４５により接続されており、
この内壁４５はその内部を通過する薬液の流線に沿って
なめらかに変化するド・ラバル管（ｄｅ Ｌａｖａｌｎ
ｏｚｚｌｅ）状の形状を有する。

【００２７】このため、絞り部４８を通過した後、処理
液吐出口４７に到達した薬液は拡大しようとする運動量
をもつことになる。従って、処理液吐出ノズル１の処理
液吐出口４７から吐出された薬液は、スピンチャック１
１に支持されて回転する基板Ｗの表面における広い領域
に拡げられる。このため、基板Ｗの表面全域を短時間で
洗浄処理することが可能となる。

【００２８】また、同様に、絞り部４８を通過した後、
処理液吐出口４７に到達した薬液は拡大しようとする運
動量をもつことになることから、処理液吐出ノズル１か
ら吐出する薬液の流量を増加させた場合においても、基
板Ｗの表面で薬液が飛び散る現象を生ずることはない。
従って、処理液吐出ノズル１から基板Ｗに供給する薬液
の流量を増加させることにより、基板Ｗの洗浄処理に要
する時間を短縮することが可能となる。

【００２９】なお、処理液吐出ノズル１の処理液吐出口
４７から吐出された薬液の基板Ｗの表面における拡張機
能を効果的に作用せしめるためには、処理液吐出口４７
とスピンチャック１１に支持されて回転する基板Ｗの表
面との距離を１０ｍｍ以下とすることが好ましく、５ｍ
ｍ以下とすることがより好ましい。

【００３０】また、処理液吐出ノズル１の処理液吐出口
４７から吐出された薬液の基板Ｗの表面における拡張機
能を効果的に作用せしめた上で、基板Ｗを迅速に洗浄処
理するためには、処理液吐出ノズル１より吐出する薬液
の量を毎分１０リットル以上とすることが好ましい。

【００３１】基板Ｗの表面に供給され、基板Ｗの回転に
伴ってその端縁より飛散した薬液は、飛散防止用カップ
１５により捕獲される。そして、この状態においては、
飛散防止用カップ１５の下面に形成された排出口１６
は、薬液タンク２２と連通する薬液回収路２３の一端と
対向する位置に移動している。このため、この薬液は、
薬液回収路２３を介して薬液タンク２２に回収される。

【００３２】このような薬液供給動作中においては、加
熱状態にある薬液から気泡が発生する。そして、この気
泡は、処理液吐出ノズル１の処理液貯留部４２に一時的
に蓄積される。処理液吐出ノズル１の処理液貯留部４２
にこのような気泡が蓄積された場合には、超音波発振子
４１から薬液に対して超音波エネルギーを十分に付与す
ることができないばかりでなく、超音波発振子４１が空
発振状態となって破損するという問題が生ずる。

【００３３】しかしながら、この処理液吐出ノズル１に
おいては、処理液貯留部４２と処理液吐出口４７との間
に、処理液吐出口４７よりも小さいオリフィスとしての
絞り部４８が形成されていることから、処理液貯留部４
２内の薬液はこの絞り部４８の作用で圧力を付与される
ことになる。このため、処理液貯留部４２内の薬液が加
圧され、この圧力に起因して処理液貯留部４２内に一時
的に蓄積された気泡は、少量の薬液と共に、超音波発振
子４１に形成された気泡排出孔４４から気泡排出路３４
に排出される。

【００３４】特に、この実施の形態においては、超音波
発振子４１は処理液貯留部４２の上方に配設されてお
り、また、気泡排出孔４４は超音波発振子４１に形成さ
れている。このため、処理液貯留部４２内で気泡が停滞
することを防止することができ、処理液貯留部４２内に
存在する全ての気泡を速やかに気泡排出孔４４から排出
することが可能となる。

【００３５】気泡排出孔４４から気泡排出路３４に少量
の薬液と共に排出された気泡は、開放状態の開閉弁２７
および絞り弁３０を介して気泡排出路３１および薬液循
環路２１に案内され、薬液タンク２２に回収される。

【００３６】このとき、処理液吐出ノズル１から気泡を
排出するための気泡排出路３４は、開閉弁２７および絞
り弁３０を介して、上記薬液循環路２１に連通する気泡
排出路３１と接続されている。このため、絞り弁３０の
開放状態を調整することにより、処理液吐出ノズル１の
処理液貯留部４２から気泡と共に排出される薬液の量を
所望の値に制御することができる。従って、処理液吐出
ノズル１の気泡排出孔４４から多量の薬液が排出される
ことにより処理液貯留部４２内の薬液の圧力が低下し、
薬液吐出口４７からの薬液の吐出量が低下するという問
題を生ずることはない。

【００３７】基板Ｗに対する薬液処理が終了すれば、開
閉弁２５および２７を閉止して、処理液吐出ノズル１へ
の薬液の供給を停止する。そして、開閉弁２６および２
８を開放する。

【００３８】これにより、処理液吐出ノズル１の処理液
吐出口４７から純水が吐出される。この状態において、
処理液吐出ノズル１を、ノズル移動機構３６の駆動によ
り、基板Ｗの回転中心と対向する位置と基板Ｗの端縁と
対向する位置との間で往復移動させる。これにより、基
板Ｗの全面に超音波振動が付与された純水が供給され、
基板Ｗが純水により洗浄処理される。

【００３９】このとき、上述した薬液の場合と同様、絞
り部４８を通過した後、処理液吐出口４７に到達した純
水は拡大しようとする運動量をもつことになる。従っ
て、処理液吐出ノズル１の処理液吐出口４７から吐出さ
れた純水は、スピンチャック１１に支持されて回転する
基板Ｗの表面における広い領域に拡げられる。このた
め、基板Ｗの表面全域を短時間で洗浄処理することが可
能となる。

【００４０】また、同様に、絞り部４８を通過した後、
処理液吐出口４７に到達した純水は拡大しようとする運
動量をもつことになることから、処理液吐出ノズル１か
ら吐出する純水の流量を増加させた場合においても、基
板Ｗの表面で純水が飛び散る現象を生ずることはない。
従って、処理液吐出ノズル１から基板Ｗに供給する純水
の流量を増加させることにより、基板Ｗの洗浄処理に要
する時間を短縮することが可能となる。

【００４１】なお、処理液吐出ノズル１の処理液吐出口
４７から吐出された純水の基板Ｗの表面における拡張機
能を効果的に作用せしめるためには、上述した薬液の場
合と同様、処理液吐出口４７とスピンチャック１１に支
持されて回転する基板Ｗの表面との距離を１０ｍｍ以下
とすることが好ましく、５ｍｍ以下とすることがより好
ましい。

【００４２】また、処理液吐出ノズル１の処理液吐出口
４７から吐出された純水の基板Ｗの表面における拡張機
能を効果的に作用せしめた上で、基板Ｗを迅速に洗浄処
理するためには、上述した薬液の場合と同様、処理液吐
出ノズル１より吐出する純水の量を毎分１０リットル以
上とすることが好ましい。

【００４３】基板Ｗの表面に供給され、基板Ｗの回転に
伴ってその端縁より飛散した純水は、飛散防止用カップ
１５により捕獲される。そして、この状態においては、
飛散防止用カップ１５の下面に形成された排出口１６
は、図示しないドレインと連通する純水回収路２４の一
端と対向する位置に移動している。このため、この純水
は、純水回収路２４を介してドレインに排出される。

【００４４】このような純水供給動作中においては、超
音波振動子４１により超音波振動を付与された純水から
気泡が発生する。そして、この気泡は、薬液の場合と同
様、処理液吐出ノズル１の処理液貯留部４２に一時的に
蓄積される。

【００４５】この場合においても、処理液貯留部４２と
処理液吐出口４７との間に、処理液吐出口４７よりも小
さいオリフィスとしての絞り部４８が形成されているこ
とから、処理液貯留部４２内の純水が加圧され、この圧
力に起因して処理液貯留部４２内に一時的に蓄積された
気泡は、少量の純水と共に、超音波発振子４１に形成さ
れた気泡排出孔４４から気泡排出路３４に排出される。

【００４６】上述したように、特に、この実施の形態に
おいては、超音波発振子４１は処理液貯留部４２の上方
に配設されており、また、気泡排出孔４４は超音波発振
子４１に形成されている。このため、処理液貯留部４２
内に存在する全ての気泡を、速やかに気泡排出孔４４か
ら排出することが可能となる。

【００４７】気泡排出孔４４から気泡排出路３４に少量
の純水と共に排出された気泡は、開放状態の開閉弁２８
および絞り弁２９を介して気泡排出路３２に案内され、
図示しないドレインに排出される。

【００４８】このとき、上述した薬液の場合と同様、処
理液吐出ノズル１から気泡を排出するための気泡排出路
３４は、開閉弁２８および絞り弁２９を介して気泡排出
路３２と接続されている。このため、絞り弁２９の開放
状態を調整することにより、処理液吐出ノズル１の処理
液貯留部４２から気泡と共に排出される純水の量を所望
の値に制御することができる。従って、処理液吐出ノズ
ル１の気泡排出孔４４から多量の純水が排出されること
により処理液貯留部４２内の純水の圧力が低下し、純水
吐出口４７からの純水の吐出量が低下するという問題を
生ずることはない。

【００４９】以上の処理工程が終了すれば、開閉弁２６
および２８を閉止して処理を終了する。

【００５０】なお、上述した実施の形態においては、処
理液吐出ノズル１からスピンチャック１１に支持されて
回転する基板Ｗに向けて処理液を吐出した状態で、処理
液吐出ノズル１を基板Ｗの回転中心と対向する位置と基
板Ｗの端縁と対向する位置との間で往復移動させること
により、基板Ｗの表面全域に超音波振動が付与された処
理液を供給する場合について説明したが、処理液吐出ノ
ズル１から基板Ｗの表面に供給される処理液を、基板Ｗ
の表面における特に広い領域に拡張しうる場合において
は、処理液吐出ノズル１を静止させた状態で、処理液を
処理液吐出ノズル１からスピンチャック１１に支持され
て回転する基板Ｗの中心付近に供給する構成とすること
も可能である。

【００５１】また、上述した実施の形態においては、処
理液吐出ノズル１における内壁４５が、その内部を通過
する処理液の流線に沿ってなめらかに変化する、ド・ラ
バル管（ｄｅ Ｌａｖａｌ ｎｏｚｚｌｅ）状の形状を
有する場合について説明したが、この内壁４５として
は、絞り部４８と処理液吐出口４７とを、絞り部４８か
ら処理液吐出口４７に向けて順次その断面積が拡大する
状態で接続しうる形状であれば、ド・ラバル管（ｄｅ
Ｌａｖａｌ ｎｏｚｚｌｅ）状の形状以外の形状のもの
を採用することも可能である。

【００５２】また、上述した実施の形態においては、こ
の発明を、基板Ｗに対して超音波振動が付与された処理
液を供給することにより基板Ｗを洗浄処理するための処
理液吐出ノズル１に適用した場合について説明したが、
この発明は、基板Ｗに対して処理液を供給するための各
種の処理液吐出ノズル全般に適用することが可能であ
る。

【００５３】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、ノズル
本体の内壁が、ノズル本体内における処理液の流路中に
形成された絞り部と処理液吐出口とを、絞り部から処理
液吐出口に向けて順次その断面積が拡大する状態で接続
することから、処理液を基板Ｗの表面における広い領域
に拡げることができ、短時間で基板の表面全域に処理液
を供給して基板を処理することが可能となる。

【００５４】請求項２に記載の発明によれば、処理液を
一時的に貯留する処理液貯留部と、この処理液貯留部の
下方に形成された処理液吐出口とを有するノズル本体
と、処理液貯留部内の処理液に対して超音波振動を付与
する超音波発振子と、処理液貯留部と処理液吐出口との
間に配設された処理液吐出口よりも小さいオリフィスを
有する絞り部とを備え、ノズル本体の内壁は、絞り部と
処理液吐出口とを、絞り部から処理液吐出口に向けて順
次その断面積が拡大する状態で接続することから、超音
波振動が付与された処理液を基板Ｗの表面における広い
領域に拡げることができ、短時間で基板の表面全域に超
音波振動が付与された処理液を供給して基板を処理する
ことが可能となる。

【００５５】請求項３に記載の発明によれば、処理液吐
出ノズルを、処理液吐出口と基板との距離が１０ｍｍ以
下となるように配置したことから、超音波振動が付与さ
れた処理液を基板Ｗの表面におけるより広い領域に効果
的に拡げることが可能となる。

【００５６】請求項４に記載の発明によれば、処理液吐
出ノズルより吐出する処理液の量を毎分１０リットル以
上としたことから、基板の表面で薬液が飛び散る現象を
生ずることなく、基板を迅速に処理することができる。

【００５７】請求項５に記載の発明によれば、絞り部と
処理液吐出口との間の位置におけるノズル本体の内壁が
ド・ラバル管状の形状を有することから、超音波振動が
付与された処理液を基板Ｗの表面におけるより広い領域
に特に効果的に拡げることが可能となる。

【００５８】請求項６に記載の発明によれば、処理液貯
留部内に存在する気泡を処理液貯留部から外部に排出す
るための気泡排出孔をさらに備えることから、処理液吐
出ノズル内における気泡の蓄積を防止することができ
る。このため、処理液に十分な超音波振動を付与するこ
とが可能となり、また、超音波発振子の損傷を防止する
ことが可能となる。

【００５９】請求項７に記載の発明によれば、超音波発
振子は処理液貯留部の上方に配設されており、気泡排出
孔は超音波発振子に形成されていることから、処理液貯
留部内に存在する全ての気泡を、速やかに気泡排出孔か
ら排出することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る処理液吐出ノズル１を使用した
基板処理装置の概要図である。

【図２】この発明に係る処理液吐出ノズル１を使用した
基板処理装置の要部を示す斜視図である。

【図３】処理液吐出ノズル１の縦断面図である。

【符号の説明】

１ 処理液吐出ノズル ４１ 超音波発振子 ４２ 処理液貯留部 ４４ 気泡排出孔 ４５ 内壁 ４７ 処理液吐出口 ４８ 絞り部 Ｗ 基板

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Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に対して処理液を供給するため基板
   処理装置の処理液吐出ノズルであって、 ノズル本体と、 前記ノズル本体内における処理液の流路中に形成された
   絞り部と、 前記ノズル本体の下方に形成された処理液吐出口とを備
   え、 前記ノズル本体の内壁は、前記絞り部と前記処理液吐出
   口とを、前記絞り部から前記処理液吐出口に向けて順次
   その断面積が拡大する状態で接続することを特徴とする
   基板処理装置の処理液吐出ノズル。
2. 【請求項２】 基板に対して超音波振動が付与された処
   理液を供給するための基板処理装置の処理液吐出ノズル
   であって、 処理液を一時的に貯留する処理液貯留部と、この処理液
   貯留部の下方に形成された処理液吐出口とを有するノズ
   ル本体と、 前記処理液貯留部内の処理液に対して超音波振動を付与
   する超音波発振子と、 前記処理液貯留部と前記処理液吐出口との間に配設され
   た前記処理液吐出口よりも小さいオリフィスを有する絞
   り部とを備え、 前記ノズル本体の内壁は、前記絞り部と前記処理液吐出
   口とを、前記絞り部から前記処理液吐出口に向けて順次
   その断面積が拡大する状態で接続することを特徴とする
   基板処理装置の処理液吐出ノズル。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の基板処理装置の処理液
   吐出ノズルにおいて、 当該処理液吐出ノズルを、前記処理液吐出口と前記基板
   との距離が１０ｍｍ以下となるように配置した基板処理
   装置の処理液吐出ノズル。
4. 【請求項４】 請求項２に記載の基板処理装置の処理液
   吐出ノズルにおいて、 当該処理液吐出ノズルより吐出する処理液の量を毎分１
   ０リットル以上とした基板処理装置の処理液吐出ノズ
   ル。
5. 【請求項５】 請求項２乃至請求項４いずれかに記載の
   基板処理装置の処理液吐出ノズルにおいて、 前記絞り部と前記処理液吐出口との間の位置における前
   記ノズル本体の内壁は、ド・ラバル管状の形状を有する
   基板処理装置の処理液吐出ノズル。
6. 【請求項６】 請求項２乃至請求項５いずれかに記載の
   基板処理装置の処理液吐出ノズルにおいて、 前記処理液貯留部内に存在する気泡を前記処理液貯留部
   から外部に排出するための気泡排出孔をさらに備えた基
   板処理装置の処理液吐出ノズル。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の基板処理装置の処理液
   吐出ノズルにおいて、 前記超音波発振子は前記処理液貯留部の上方に配設され
   ており、前記気泡排出孔は前記超音波発振子に形成され
   ている基板処理装置の処理液吐出ノズル。