JP2000055615A - パターン修正装置 - Google Patents
パターン修正装置Info
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- JP2000055615A JP2000055615A JP10226922A JP22692298A JP2000055615A JP 2000055615 A JP2000055615 A JP 2000055615A JP 10226922 A JP10226922 A JP 10226922A JP 22692298 A JP22692298 A JP 22692298A JP 2000055615 A JP2000055615 A JP 2000055615A
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
ンを高精度で簡便に修正することができる装置を提供す
る。 【解決手段】 パターン修正個所と、ペーストおよび針
を含む塗布手段との位置合わせの移動を行ない、針9に
よってパターン修正箇所にペーストを塗布する装置であ
って、その塗布手段は、針の上下動機構と、ペーストを
針9の下に直線的に移動させ、直線的に復帰させるペー
スト移動機構とを備えるパターン修正装置の構成とす
る。
Description
パターンのパターン修正装置に関し、なかでも液晶ディ
スプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)基板、プラズマ
ディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)基板、プリン
ト基板等に形成されたパターンのパターン修正装置に関
する。
レイは、精力的に高精細化が推進されつつある。これに
伴い、基板に形成されるパターンである電極線等のパタ
ーン幅もますます細くなり、断線等のオープン欠陥が発
生する確率が高くなってきている。これら断線等のオー
プン欠陥を補修する方法として、ペーストを針の先端部
に付着させ、この先端部を欠陥部に触れさせることによ
ってペーストを欠陥部に移行させる方法が特開平8−2
92442号公報等に開示されている。
面図である。同図において、パターン欠陥部を観察する
光学装置31の光学軸21と、ペーストを移行させる針
1との間にはオフセット距離41が存在する。欠陥を修
正するときには、光学装置で観察した欠陥部の位置に、
針をオフセット距離41だけ移動しなければならない。
ここで、針1は光学軸21の右後方に位置するので、位
置合わせのためのオフセット移動は2軸方向の移動とな
る。
載した部分を示す図である。同図において、針1は、位
置決めアクチュエータ2によって駆動され上下方向に運
動する。針とペーストとを備える塗布手段は、パターン
欠陥部の上方にオフセット距離だけ移動する。次に、ペ
ーストを搭載した回転円板7が回転され、ペースト容器
3の中に針が浸漬され、ペーストを針に付着させる。そ
の後、回転円板7の切欠き部8から針1が降下して、基
板(図示せず)上に形成されたパターンの欠陥部にペー
ストを移行させる。
つあるフラットディスプレイに対応するためには、上記
のパターン修正装置における修正箇所とペースト塗布手
段の位置合わせの精度を高める必要がある。したがっ
て、上記の従来のパターン修正装置では、基板上のパタ
ーンの全範囲にわたって高精度に移動するテーブルが必
要となり、コストのみならず技術的事項においても問題
を生じていた。
クトな構造の実現により、オフセット距離を極力小さく
し、高精度の位置合わせを簡便に行なうことができるパ
ターン修正装置を提供することにある。
基本的な構成は次のものである。すなわち、基板上に形
成されたパターンの修正箇所を検出する手段によって検
出して、インクまたはペーストを塗布手段によって修正
箇所に塗布する機構を備えるパターン修正装置であっ
て、上記の塗布手段は、針を上下に移動させる針上下動
機構と、インクまたはペーストを塗布手段の下に直線的
に移動させ、かつ直線的に復帰させるインクまたはペー
スト移動機構とを備えるパターン修正装置の構成とす
る。
を小さなスペースに収納することができ、その結果、オ
フセット距離を小さくすることができ、簡便に高精度の
修正が可能となる。
多い。すなわち、上記のパターン修正装置は、針が修正
箇所の位置に合うように、塗布手段を移動させる塗布手
段移動機構をさらに備える場合が多い。
度な修正作業が可能となる。なお、この塗布手段移動機
構には、門柱構造、1軸テーブル、とくに精密小ストロ
ーク1軸テーブル等が含まれる。オフセット距離を小さ
くすることができる効果として、上記のように、小スト
ロークの精密1軸テーブルの移動で足りる移動距離とな
り、その結果、低コストで、さらに高精度の修正作業が
簡便にできるようになる。
動方向に沿って配列された複数のペーストを載置する載
置板をさらに備え、上記の塗布手段移動機構の移動方向
は、ペースト移動機構の移動方向と、ほぼ直角をなすよ
うに配置する場合が多い。
の移動をさせることにより、各構造をコンパクトに配置
することができる。その結果、オフセット距離を大幅に
減少させ、上記したように、小ストローク1軸精密テー
ブル等を用いることができ、高精度の修正が簡便にでき
るようになった。
置板11と針9の部分の、本発明例を示す図である。針
9は、保持部20を介して位置決めアクチュエータ10
の駆動軸先端に取付けられている。ここで、ペースト類
とは、インクおよびペーストをいう。針9の先端部に付
着されたペーストの移行は、針を垂直方向に駆動させる
位置決めアクチュエータ10によって、針先端部をパタ
ーン修正箇所に触れさせることによってなされる。
介して、ペースト移動機構の主要装置である位置決めア
クチュエータ12によって水平方向に駆動される。載置
板11には、複数のペースト容器13〜16のほかに、
針洗浄部17およびエアパージ部18とが備えられてい
る。
ペーストを針9の先端部に付着させる動き、すなわち、
ペースト移動機構の動きを、載置板の針の方向への直線
運動とすることが可能となった。その結果、ペーストの
収納とペースト移動機構との配置を、オフセット距離を
短くしやすい配置とすることができた。その結果、最終
的に、高精度で簡便な修正が可能となった。
る。まず、塗布手段移動機構によって、針9を、パター
ン修正箇所の上方の所定位置に合うように、1軸方向の
移動によりオフセット移動する。次いで、載置板11
を、ペースト移動機構の主要装置である位置決めアクチ
ュエータ12により直進させ、使用するペーストが収納
されたペースト容器13を針9の下方に位置させる。
めアクチュエータ10によって針を上下させ、針の先端
部にペーストを付着させた後、搭載板11を位置決めア
クチュエータ12により元の位置に復帰させる。その
後、針を降下させてパターン欠陥部にペーストを移行さ
せる。
13、赤インク容器14、緑インク容器15、青インク
容器16)、針洗浄部17およびエアパージ部18を載
置した載置板11を位置決めアクチュエータ12により
直動させることにより、上記したように、取付面積の小
さいコンパクトな機構が可能となった。
修正箇所と、塗布手段に含まれる針9との位置を合わせ
るオフセット移動の機構、すなわち塗布手段移動機構に
ついて説明する。
における、光学装置31の光学軸21と針9と載置板1
1の位置関係を示す図である。針9は光学軸21のY軸
方向の後方に配置されている。この位置関係において、
位置合わせの塗布手段移動、すなわち、オフセット移動
を行う3つの方法がある。
テーブルにより位置合わせのオフセット移動を行なう方
法(XY分離型)である。
2により、オフセット移動を行なう装置の機構を示す図
である。基板が搭載されたYテーブル22は、光学装置
により光学軸21の真下で観察されたパターン修正箇所
を、固定された針9の下方に移動させる。
付けられた塗布手段をオフセット移動させ、固定された
基板中のパターン修正箇所に位置合わせする方法(ガン
トリー型)がある。
移動を行なう装置の機構を示す図である。基板が搭載さ
れているテーブルの移動はなく、門柱構造をY軸方向に
移動させ、光学装置で観察したパターン修正箇所の上方
に針9を移動させ、位置合わせを行なう。
によりオフセット移動を行ない、位置合わせをする方法
について説明する。
ストローク1軸テーブルによりオフセット移動を行なう
装置の機構を示す図である。このパターン修正装置は、
光学装置の光学軸21と針9との間のオフセット距離4
1を移動するための精密小ストローク1軸テーブル24
を備える。すなわち、塗布手段移動機構の主要装置とし
て、精密小ストローク1軸テーブルを用いている。光学
装置により観察し、認識したパターン修正箇所に、精密
小ストローク1軸テーブル24により、針9を移動さ
せ、位置合わせを行う。
ちのいかなる装置によっても、位置合わせを行なうこと
が可能である。
ースト等載置部に直線運動を行なわせることによりペー
スト載置部分をコンパクトにすることができ、その結
果、オフセット距離を小さくでき、高精度の修正が簡便
にできるようになった。
て説明を行ったが、上記に開示された実施の形態は、あ
くまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形
態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請
求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等
の意味および範囲内でのすべての変更を含むことが意図
されている。その意味で、部品「針」は、針だけに限定
されるものではなく、針またはディスペンサでも良い。
構をコンパクトにすることが可能となり、それによって
オフセット距離を小さくでき、安価な手段により修正位
置の精度の向上が可能となった。
である。
す本発明例の見取図である。
本発明例の側面図である。
明例の側面図である。
セット移動させる本発明例の側面図である。
の正面図である。
装置を示す見取図である。
スト容器、14 赤インク容器、15 緑インク容器、
16 青インク容器) 17 針洗浄部 18 エアパージ部 19 ガイド連結板 20 針保持部 21 光学装置の光学軸 22 Yテーブル 23 門柱構造 24 精密小ストローク1軸テーブル 31 光学装置 41 オフセット距離
Claims (3)
- 【請求項1】 基板上に形成されたパターンの修正箇所
を検出する手段によって検出して、インクまたはペース
トを塗布手段によって前記修正箇所に塗布する機構を備
えるパターン修正装置であって、 前記塗布手段は、 前記針を上下に移動させる針上下動機構と、 前記インクまたはペーストを前記塗布手段の下に直線的
に移動させ、かつ直線的に復帰させるインクまたはペー
スト移動機構とを備えるものであるパターン修正装置。 - 【請求項2】 前記パターン修正装置は、前記針が前記
修正箇所の位置に合うように、前記塗布手段を移動させ
る塗布手段移動機構をさらに備える請求項1に記載のパ
ターン修正装置。 - 【請求項3】 前記塗布手段は、前記ペースト移動機構
の移動方向に沿って配列された複数のペーストを載置す
る載置板をさらに備え、 前記塗布手段移動機構の移動方向は、前記ペースト移動
機構の移動方向と、ほぼ直角をなす請求項1または2に
記載のパターン修正装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP22692298A JP3742228B2 (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | パターン修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP22692298A JP3742228B2 (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | パターン修正装置 |
Publications (2)
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JP2000055615A true JP2000055615A (ja) | 2000-02-25 |
JP3742228B2 JP3742228B2 (ja) | 2006-02-01 |
Family
ID=16852714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22692298A Expired - Fee Related JP3742228B2 (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | パターン修正装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3742228B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100905794B1 (ko) | 2003-01-20 | 2009-07-02 | 엘지전자 주식회사 | 평면 디스플레이용 리페어 시스템의 페이스트 도포 장치 |
CN104132598A (zh) * | 2014-07-31 | 2014-11-05 | 豪利机械(苏州)有限公司 | 量具校正仪 |
KR101547829B1 (ko) * | 2013-12-16 | 2015-09-04 | 주식회사 두성테크 | 전자부품 검사장비 및 그 운전 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006044358A1 (de) | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Etel S.A. | Positioniereinrichtung in Portalbauweise |
-
1998
- 1998-08-11 JP JP22692298A patent/JP3742228B2/ja not_active Expired - Fee Related
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