JP2000046769A - 分析装置 - Google Patents
分析装置Info
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- JP2000046769A JP2000046769A JP10213206A JP21320698A JP2000046769A JP 2000046769 A JP2000046769 A JP 2000046769A JP 10213206 A JP10213206 A JP 10213206A JP 21320698 A JP21320698 A JP 21320698A JP 2000046769 A JP2000046769 A JP 2000046769A
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- 238000012300 Sequence Analysis Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 41
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
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Landscapes
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】現在測定中のスペクトルと、他の所望のスペク
トルを同時に3次元的に表示する。 【解決手段】制御装置6は、同時表示の設定、同時表示
する既存のスペクトルの設定がなされると、当該設定さ
れた既存のスペクトルをモニタ7に表示し、現在の測定
によって得られたスペクトルを、その既存のスペクトル
と同時に3次元的にモニタ7に表示する。シーケンス分
析の場合には、設定された各分析点でのスペクトルを同
時に3次元的にモニタ7に表示する。
トルを同時に3次元的に表示する。 【解決手段】制御装置6は、同時表示の設定、同時表示
する既存のスペクトルの設定がなされると、当該設定さ
れた既存のスペクトルをモニタ7に表示し、現在の測定
によって得られたスペクトルを、その既存のスペクトル
と同時に3次元的にモニタ7に表示する。シーケンス分
析の場合には、設定された各分析点でのスペクトルを同
時に3次元的にモニタ7に表示する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、点分析が可能な分析装
置に関する。
置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、エネルギー分散型X線検出器
(EDS)を備えた分析装置では、試料に電子ビームを
照射したときに、試料から放射されるX線をEDSによ
り検出し、その検出信号に基づいてスペクトルを得るこ
とが行われている。EDSを備えた分析装置に限らず、
試料から放射された放射線を検出してスペクトルを得る
分析装置は種々知られている。
(EDS)を備えた分析装置では、試料に電子ビームを
照射したときに、試料から放射されるX線をEDSによ
り検出し、その検出信号に基づいてスペクトルを得るこ
とが行われている。EDSを備えた分析装置に限らず、
試料から放射された放射線を検出してスペクトルを得る
分析装置は種々知られている。
【0003】また、EDSを備えた分析装置では、シー
ケンス分析と称される分析も行われている。シーケンス
分析とは、試料上に複数の分析点を定め、それらの分析
点に、順次、電子ビームを所定時間ずつ照射し、EDS
3により各分析点から放射されるX線を検出していく分
析手法であり、各分析点について一つのスペクトルが得
られる。
ケンス分析と称される分析も行われている。シーケンス
分析とは、試料上に複数の分析点を定め、それらの分析
点に、順次、電子ビームを所定時間ずつ照射し、EDS
3により各分析点から放射されるX線を検出していく分
析手法であり、各分析点について一つのスペクトルが得
られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おける分析では、現在測定中のスペクトルしか表示され
ないので、当該現在測定中のスペクトルと、標準試料を
分析して得られたスペクトルや、他の分析点のスペクト
ル等、現在測定中のスペクトル以外の既存の所望のスペ
クトルとを比較しようとした場合には、現在の測定が終
了するまで待つ必要があり、効率よく分析を行うことが
できないものであった。
おける分析では、現在測定中のスペクトルしか表示され
ないので、当該現在測定中のスペクトルと、標準試料を
分析して得られたスペクトルや、他の分析点のスペクト
ル等、現在測定中のスペクトル以外の既存の所望のスペ
クトルとを比較しようとした場合には、現在の測定が終
了するまで待つ必要があり、効率よく分析を行うことが
できないものであった。
【0005】そこで、本発明は、現在測定中のスペクト
ルだけでなく、その他の既存の所望のスペクトルをも同
時に表示することができる分析装置を提供することを目
的とするものである。
ルだけでなく、その他の既存の所望のスペクトルをも同
時に表示することができる分析装置を提供することを目
的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1記載の分析装置は、試料から放射される
X線等の放射線を検出してスペクトルを表示可能な分析
装置において、現在測定中のスペクトルと、その他の所
望のスペクトルとを同時に表示可能となされていること
を特徴とする。
めに、請求項1記載の分析装置は、試料から放射される
X線等の放射線を検出してスペクトルを表示可能な分析
装置において、現在測定中のスペクトルと、その他の所
望のスペクトルとを同時に表示可能となされていること
を特徴とする。
【0007】請求項2記載の分析装置は、少なくともシ
ーケンス分析が可能な分析装置において、当該シーケン
ス分析における複数の分析点での測定スペクトルを3次
元的に同時に表示可能となされていることを特徴とす
る。
ーケンス分析が可能な分析装置において、当該シーケン
ス分析における複数の分析点での測定スペクトルを3次
元的に同時に表示可能となされていることを特徴とす
る。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ実施の形
態について説明する。図1は本発明に係る分析装置の一
実施形態を示す図であり、図中、1は分析装置本体、2
は2次電子検出器、3はEDS、4は試料、6は制御装
置、7はモニタ、8は入力装置、9はメモリを示す。
態について説明する。図1は本発明に係る分析装置の一
実施形態を示す図であり、図中、1は分析装置本体、2
は2次電子検出器、3はEDS、4は試料、6は制御装
置、7はモニタ、8は入力装置、9はメモリを示す。
【0009】分析装置本体1は、走査電子顕微鏡の機能
と、EDS3によるX線分析装置としての機能が一体化
されたものであり、この分析装置本体1の内部には、2
次電子検出器2、EDS3、試料4が備えられている。
なお、分析装置本体1の内部には、電子銃、各種のレン
ズ、走査電子顕微鏡の機能を達成するための装置、X線
分析装置の機能を達成するための装置等、種々の装置が
備えられているが、本発明においては本質的な事項では
ないので、図1では省略している。
と、EDS3によるX線分析装置としての機能が一体化
されたものであり、この分析装置本体1の内部には、2
次電子検出器2、EDS3、試料4が備えられている。
なお、分析装置本体1の内部には、電子銃、各種のレン
ズ、走査電子顕微鏡の機能を達成するための装置、X線
分析装置の機能を達成するための装置等、種々の装置が
備えられているが、本発明においては本質的な事項では
ないので、図1では省略している。
【0010】制御装置6は、CPU及びその周辺回路で
構成されており、2次電子検出器2からの信号を取り込
んで走査電子顕微鏡像(以下、SEM像と称す)を形成
する処理、EDS3からの信号を取り込んでスペクトル
を生成する処理、その生成したスペクトルに基づいて定
性分析等の所定の分析を行う処理、シーケンス分析を行
うための処理等の所定の処理を行う。
構成されており、2次電子検出器2からの信号を取り込
んで走査電子顕微鏡像(以下、SEM像と称す)を形成
する処理、EDS3からの信号を取り込んでスペクトル
を生成する処理、その生成したスペクトルに基づいて定
性分析等の所定の分析を行う処理、シーケンス分析を行
うための処理等の所定の処理を行う。
【0011】入力装置8はキーボード、マウスで構成さ
れている。メモリ9には、SEM像、EDS3から取り
込んだ信号、生成したスペクトル等が格納される。な
お、制御装置6、モニタ7及び入力装置8はパーソナル
コンピュータ、あるいはワークステーションによって構
成することができる。
れている。メモリ9には、SEM像、EDS3から取り
込んだ信号、生成したスペクトル等が格納される。な
お、制御装置6、モニタ7及び入力装置8はパーソナル
コンピュータ、あるいはワークステーションによって構
成することができる。
【0012】さて、いま、オペレータが当該分析装置に
より試料のX線分析を行おうとし、その際に既存の所望
のスペクトルを同時に観察したいとする。このとき、オ
ペレータは、入力装置8から、これから測定するスペク
トルと既存のスペクトルとを同時に表示する、同時表示
の設定、これから測定するスペクトルと同時に観察した
い既存のスペクトルの設定、及びこれから測定を行うX
線分析の設定を行う。制御装置6は、これら設定された
内容を認識し、設定されたX線分析を行うために分析装
置本体1の種々の装置を制御すると共に、設定された既
存のスペクトルをメモリ9から読み出してモニタ7に3
次元的に表示する。
より試料のX線分析を行おうとし、その際に既存の所望
のスペクトルを同時に観察したいとする。このとき、オ
ペレータは、入力装置8から、これから測定するスペク
トルと既存のスペクトルとを同時に表示する、同時表示
の設定、これから測定するスペクトルと同時に観察した
い既存のスペクトルの設定、及びこれから測定を行うX
線分析の設定を行う。制御装置6は、これら設定された
内容を認識し、設定されたX線分析を行うために分析装
置本体1の種々の装置を制御すると共に、設定された既
存のスペクトルをメモリ9から読み出してモニタ7に3
次元的に表示する。
【0013】このときの表示の例を図2に示す。図2は
2つの既存のスペクトルが設定された場合の例であり、
例えば、1番目に設定された既存のスペクトルは図のA
で示すように一番奥に表示され、2番目に設定された既
存のスペクトルは図のBで示すように、その手前に表示
されている。一番手前にはこれから測定されるスペクト
ルが表示されるので、この段階ではスペクトルは表示さ
れていない。なお、図には示していないが、スペクトル
の横軸はエネルギー(eV)、縦軸はカウント数であ
る。
2つの既存のスペクトルが設定された場合の例であり、
例えば、1番目に設定された既存のスペクトルは図のA
で示すように一番奥に表示され、2番目に設定された既
存のスペクトルは図のBで示すように、その手前に表示
されている。一番手前にはこれから測定されるスペクト
ルが表示されるので、この段階ではスペクトルは表示さ
れていない。なお、図には示していないが、スペクトル
の横軸はエネルギー(eV)、縦軸はカウント数であ
る。
【0014】次に、制御装置6は、分析装置本体1に対
してX線分析の開始を指示する。これによってX線分析
が開始され、制御装置6はEDS3からの信号を取り込
み、スペクトルを生成して、そのスペクトルを、図2に
示す既存のスペクトルが表示されている画像の一番手前
の位置に重畳表示する。
してX線分析の開始を指示する。これによってX線分析
が開始され、制御装置6はEDS3からの信号を取り込
み、スペクトルを生成して、そのスペクトルを、図2に
示す既存のスペクトルが表示されている画像の一番手前
の位置に重畳表示する。
【0015】その表示例を図3に示す。図中、A,Bは
図2に示すものと同じであり、これらの2つの既存のス
ペクトルに加えて、今回の測定によって得られているス
ペクトルが図のCで示すように、一番手前側に表示され
る。
図2に示すものと同じであり、これらの2つの既存のス
ペクトルに加えて、今回の測定によって得られているス
ペクトルが図のCで示すように、一番手前側に表示され
る。
【0016】以上のようであるので、この分析装置によ
れば、現在測定中のスペクトルと、既存の所望のスペク
トルを同時に3次元的に表示することができるので、相
互のスペクトルの比較を測定中にも容易に行うことがで
き、作業効率を向上させることができる。
れば、現在測定中のスペクトルと、既存の所望のスペク
トルを同時に3次元的に表示することができるので、相
互のスペクトルの比較を測定中にも容易に行うことがで
き、作業効率を向上させることができる。
【0017】次に、シーケンス分析を行う場合について
説明する。シーケンス分析を行う場合には、まず分析装
置の走査電子顕微鏡の機能を用いてSEM像を得、その
SEM像をモニタ7上で観察して複数の分析点を定め、
それらの分析点に番号を付すと共に、それらの分析点の
位置を登録する。
説明する。シーケンス分析を行う場合には、まず分析装
置の走査電子顕微鏡の機能を用いてSEM像を得、その
SEM像をモニタ7上で観察して複数の分析点を定め、
それらの分析点に番号を付すと共に、それらの分析点の
位置を登録する。
【0018】このようにして分析点の番号、及び位置を
登録したら、オペレータは入力装置8から、シーケンス
分析の設定、各分析点でのスペクトルの3次元同時表示
の設定を行い、シーケンス分析の開始を指示する。
登録したら、オペレータは入力装置8から、シーケンス
分析の設定、各分析点でのスペクトルの3次元同時表示
の設定を行い、シーケンス分析の開始を指示する。
【0019】制御装置6は、これら設定された内容を認
識し、まず、1番目の分析点の位置に電子ビームを所定
時間照射させ、そのときにEDS3から出力される信号
を取り込んで1番目の分析点でのスペクトルを生成し
て、モニタ7の所定の位置に表示する。1番目の分析点
での測定が終了すると、制御装置6は次に2番目の分析
点の位置に電子ビームを所定時間照射させ、そのときに
EDS3から出力される信号を取り込んで2番目の分析
点でのスペクトルを生成して、1番目の分析点でのスペ
クトルが表示されている画面に、同時にモニタ7の所定
の位置に表示する。以下、この動作を最後の分析点まで
行う。これによって、モニタ7には、設定された全ての
分析点でのスペクトルが同時に3次元的に表示される。
識し、まず、1番目の分析点の位置に電子ビームを所定
時間照射させ、そのときにEDS3から出力される信号
を取り込んで1番目の分析点でのスペクトルを生成し
て、モニタ7の所定の位置に表示する。1番目の分析点
での測定が終了すると、制御装置6は次に2番目の分析
点の位置に電子ビームを所定時間照射させ、そのときに
EDS3から出力される信号を取り込んで2番目の分析
点でのスペクトルを生成して、1番目の分析点でのスペ
クトルが表示されている画面に、同時にモニタ7の所定
の位置に表示する。以下、この動作を最後の分析点まで
行う。これによって、モニタ7には、設定された全ての
分析点でのスペクトルが同時に3次元的に表示される。
【0020】その表示例を図4に示す。図4は分析点が
5つ設定された場合の例であり、一番奥に1番目の分析
点である分析点1でのスペクトルが表示され、以下、2
番目の分析点である分析点2でのスペクトル、3番目の
分析点である分析点3でのスペクトル、4番目の分析点
である分析点4でのスペクトル、5番目の分析点である
分析点5でのスペクトルの順に手前側に表示されてい
る。
5つ設定された場合の例であり、一番奥に1番目の分析
点である分析点1でのスペクトルが表示され、以下、2
番目の分析点である分析点2でのスペクトル、3番目の
分析点である分析点3でのスペクトル、4番目の分析点
である分析点4でのスペクトル、5番目の分析点である
分析点5でのスペクトルの順に手前側に表示されてい
る。
【0021】このように、この分析装置によれば、シー
ケンス分析を行う場合に、全ての分析点でのスペクトル
が同時に3次元的に表示されるので、各分析点での組成
等を測定中にも容易に比較することができ、作業効率を
向上させることができる。
ケンス分析を行う場合に、全ての分析点でのスペクトル
が同時に3次元的に表示されるので、各分析点での組成
等を測定中にも容易に比較することができ、作業効率を
向上させることができる。
【0022】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能であることは当然である。
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能であることは当然である。
【図1】 本発明に係る分析装置の一実施形態を示す図
である。
である。
【図2】 既存のスペクトルの3次元表示の例を示す図
である。
である。
【図3】 測定中のスペクトルと、既存のスペクトルの
同時表示の例を示す図である。
同時表示の例を示す図である。
【図4】 シーケンス分析における各分析点でのスペク
トルの同時表示の例を示す図である。
トルの同時表示の例を示す図である。
1…分析装置本体、2…2次電子検出器、3…EDS、
4…試料、6…制御装置、7…モニタ、8…入力装置、
9…メモリ。
4…試料、6…制御装置、7…モニタ、8…入力装置、
9…メモリ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 37/252 H01J 37/252 A (72)発明者 太田 康則 東京都昭島市武蔵野三丁目1番2号 日本 電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 十文字 清 東京都昭島市武蔵野三丁目1番2号 日本 電子エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2G001 AA03 BA04 BA05 CA01 DA01 FA01 FA06 GA01 GA06 HA13 JA13 JA17 JA20 KA01 5C033 PP05 PP06 5C082 AA11 BA13 BA16 BA27 BB14 CA02 CA06 CA55 DA61 MM10
Claims (2)
- 【請求項1】試料から放射されるX線等の放射線を検出
してスペクトルを表示可能な分析装置において、現在測
定中のスペクトルと、その他の所望のスペクトルとを同
時に表示可能となされていることを特徴とする分析装
置。 - 【請求項2】少なくともシーケンス分析が可能な分析装
置において、当該シーケンス分析における複数の分析点
での測定スペクトルを3次元的に同時に表示可能となさ
れていることを特徴とする分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10213206A JP2000046769A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10213206A JP2000046769A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000046769A true JP2000046769A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16635305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10213206A Pending JP2000046769A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000046769A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002250706A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Horiba Ltd | 分析装置 |
JP2011027673A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
JP2011038998A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
JP2013104676A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
JP2014235415A (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-15 | 株式会社島津製作所 | 光学測定装置、並びに、測定結果表示方法及び測定結果表示プログラム |
JP2015099102A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | セイコー・イージーアンドジー株式会社 | 放射能測定装置 |
-
1998
- 1998-07-28 JP JP10213206A patent/JP2000046769A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002250706A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Horiba Ltd | 分析装置 |
JP2011027673A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
JP2011038998A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
JP2013104676A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | Hioki Ee Corp | 測定結果表示装置および測定結果表示方法 |
JP2014235415A (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-15 | 株式会社島津製作所 | 光学測定装置、並びに、測定結果表示方法及び測定結果表示プログラム |
JP2015099102A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | セイコー・イージーアンドジー株式会社 | 放射能測定装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040421 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040811 |