JP2000042916A

JP2000042916A - 均一摩耗の研磨装置

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Publication number: JP2000042916A
Application number: JP10212493A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Uchida; 勝彦内田
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Priority date: 1998-07-28
Filing date: 1998-07-28
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Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】研磨材の幅より極端に狭幅の被研磨物を研磨
する場合に、研磨材表面の不均一摩耗を防止し、研磨材
の取り替え早期化を防止する。【解決手段】Ｘ、Ｙステージ７，５に回転砥石３を戴
置し、これの被研磨物２への接触圧調整用のスプリング
６を備え、更に２つの傾斜カム２２，２３の間に、所定
間隔で固定ローラー２０が軸支され、更に、Ｘステージ
には２つの移動ローラー２１が２つの傾斜カムの外側の
位置に、Ｘ方向のみに回転砥石の幅以上の近似幅内で、
往復摺動運動可能に軸支され、Ｘステージの往復運動に
伴い、各々の移動ローラーがカムの外側を押圧し、カム
が回転し、固定ローラーを押圧し、Ｘ−ステージを下方
向に押圧して回転砥石が下方向に少しずれて同砥石幅の
端部から被研磨物先端がはずれ、再度、砥石上に戴る際
は、容易に砥石端部に返送載置されて、砥石全幅に渡っ
て同一程度の磨耗を繰返す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被研磨物の幅が、
研磨砥石に対して、非常に小さく或いは薄い場合にも研
磨砥石の摩耗が平均して得られ、常に平坦な研磨面を保
持できる研磨装置に関する。詳細には、本発明は、ハー
ドデイスク、先端部電子部品のような幅狭の先端部の被
研磨物を研磨する研磨装置で、研磨砥石表面の摩耗が平
均化され、均一にされるような研磨装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ハードデイスクのような電子部品の幅狭
い端部を研磨する必要がある場合、研磨砥石の表面は、
幅狭い端部で、研磨されていくために、研磨砥石の幅方
向に摺動させて、研磨砥石の表面の摩耗を、平均化させ
ていく。然し乍ら、そうすると、研磨砥石の表面の摩耗
がうまく平均化されず、研磨砥石の中央部のみが摩耗さ
れてしまうか、或いは、研磨砥石の端部近くでは、より
多く摩耗されてしまう。

【０００３】これは、研磨砥石の表面の中で、より研磨
のために使用する面が、より摩耗してしまい、また、研
磨砥石の表面は丸くなった方が、研磨はよりたやすくな
るためである。また、研磨砥石の端部から、幅狭い被研
磨物が落ちないように、被研磨物が、研磨砥石の端部に
近くなったときには、もとに戻っていくように、摺動運
動するようにすると、研磨砥石の中心部のみが摩耗さ
れ、極端に表すと、図３のＢに示すような断面図の研磨
砥石になる恐れがある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】研磨砥石の幅に比べて
極端に薄い被研磨物を研磨しなければならない場合に、
研磨砥石の表面が不均一に摩耗してしまうことが多く、
すると研磨砥石が全部使用しないのに、少し早くに取り
替えなければならなくなる。従って、本発明は、研磨砥
石の幅に比べて極端に薄い被研磨物を研磨する研磨装置
において、摩耗が均一になる作用を有し、最後まで研磨
砥石を利用できる、経済的に有利な研磨装置を提供する
ことを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題点
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、摩耗が均一になる
と同時に先端形を容易に研磨することができる研磨装置
を次のような構成により提供する。

【０００６】即ち、非常に幅狭の被研磨物を研磨するた
めの回転砥石を有する研磨装置において、回転砥石は、
Ｘ−方向及びＹ−方向に独立に摺動運動できるＸ、Ｙ−
ステージに載置され；Ｘ、Ｙ−ステージは、回転砥石の
被研磨物への接触圧を調整するためのスプリング或いは
空気圧手段を備え、Ｘ−方向のみに回転砥石の幅以上の
近似幅内に往復摺動運動させる駆動手段を備え、その下
のＹ−ステージに対してはＹ方向のみに摺動し、固定ス
テージに対してＸ方向のみに摺動するＸ−ステージと、
該Ｘ−ステージに対してＹ方向のみに摺動するＹ−ステ
ージを有し；更に、所定間隔で軸支された、２つの傾斜
カムの間に位置された固定ローラーを備え；更に、各々
２つの傾斜カムの外側の位置に、Ｘ−ステージに載置さ
れ、軸支された、Ｘ−方向のみに回転砥石の幅以上の近
似幅内で往復摺動運動する２つの移動ローラーを備え、
Ｘ−ステージの往復運動に伴い、各々の移動ローラーが
カムの外側を押圧し、更に、カムが回転し、固定ローラ
ーを押圧し、Ｘ−ステージを下方向に押圧して、回転砥
石が下方向に少しズレ、回転砥石の幅の端部から被研磨
物先端が、はずれると同時に回転砥石は下にズレ、ま
た、逆に被研磨物が回転砥石上に載る際に、容易に砥石
端部に返送載置され、砥石全幅に渡って摩耗の程度を同
一にし、且つ、砥石が摩耗して、砥石の厚さが変わって
も、同じように、幅狭の先端部の被研磨物を研磨するこ
とができる研磨装置である。

【０００７】更に、Ｘ、Ｙ−ステージ及び固定ステージ
は、更に、位置調整できる位置調整ステージの上に載置
されて、幅狭の先端部の被研磨物が、研磨材の研磨位置
への調節を容易にする。更に、移動ローラーは、弾性材
料で表面が被われており、カムに突き当るときに、移動
ローラーへの力の配分が、より柔らかにされ、前記の調
整がより円滑にされるものが好適である。そして、２つ
のカムの形状は、先端になるほど幅広くなり、それによ
り、カムの外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜
は緩やかにされ、カムによりステージの運動即ち、回転
砥石の運動は、より円滑にできる。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の研磨装置の実施例を図１
及び２を参照して詳細に説明する。本発明装置は、図示
のような、非常に幅狭の被研磨物(２)を研磨する回転砥
石(３)を備える研磨装置である。例えば、電子記憶装置
のためのガラス製のハードデイスク基板の端部面(１
６、１７、１８：図１及び４参照)を正確に形成するた
め、ガラスディスク(２)の先端部を研磨する場合に、本
発明の研磨装置を用いると都合がよい。なお、被研磨物
(２)は、図１では、端面が３つ(１６、１７、１８)に分
けられ、各々の面が研磨されるが、図２その他の図で
は、被研磨物のそのような３端面が略されている。

【０００９】従来の研磨装置では、図３のＡに示すよう
に、非常に幅狭の被研磨物(２)を回転研磨砥石(３)に接
触させて、研磨すると、図３のＢの断面図に示すよう
に、中央部が凹んでしまい、砥石を全部使用しないで、
取り変えなければならなくなる。これに対して、本発明
の研磨装置では、図４のＡ、Ｂに示すように、被研磨物
(２)に対して回転研磨砥石(３)が往復運動をして、図４
のＢの断面図に示すような断面で、即ち、常に摩耗した
研磨砥石の表面が平坦になり、砥石が摩耗していく、即
ち、均一に摩耗する研磨方式である。

【００１０】本発明によると、回転砥石(３)は、Ｘ−方
向及びＹ−方向に独立に摺動運動できるＸ、Ｙ−ステー
ジの上に載置されている。そのＸ、Ｙ−ステージは、回
転砥石(３)が、被研磨物(２)への接触圧を調整するため
のスプリング(図１の６で示される）で常に上向きに
（図１、２の面上において）引っ張られている。スプリ
ング(６)の代わりに、空気圧手段を使用することもでき
る。本発明の研磨装置では、Ｘ−方向のみに回転砥石
(３)の幅(ｄ)以上の近似幅内(２ａ)に往復摺動運動させ
る。そのための駆動手段は、モータで駆動され、往復運
動で動くレバー、車輪等からなる機構でよい。

【００１１】そして、回転砥石(３)は、被研磨物(２)へ
の接触圧は、図１の(６)で示したスプリング或いは空気
圧により、ステージ全体を上に（図１、２の面上で考え
て）引っ張っている。その張力が、回転砥石(３)と被研
磨物(２)との接触圧力を付与して、研磨していく。本発
明の研磨装置(１)は、非常に幅狭の被研磨物(２)を研磨
するためであるから、この接触圧力は非常に小さいもの
でよい。

【００１２】回転砥石(３)の上に、非常に幅狭の被研磨
物(２)を、左右に往復運動させ、研磨材(３)の摩耗を平
均化させていかなければならない。そのために、先ず、
ほぼ研磨材(３)の幅ｄの間隔で左右に、回転砥石(３)
を、往復運動させるモータ手段（図示せず）を備える。
回転砥石は、Ｘ−方向及びＹ−方向に独立に摺動運動で
きるＸ、Ｙ−ステージに載置されているので、被研磨物
に対して自由に位置関係を設定できる。

【００１３】往復運動については、研磨砥石(３)の幅ｄ
だけの往復運動では、従来の研磨装置と同じく、研磨砥
石の中央部分のみが摩耗してしまう。摩耗を均一にする
には、研磨砥石(３)幅すべてを均一に利用して研磨しな
ければならない。そのためには、研磨砥石の端部まで摺
動することが大切である。即ち、回転砥石の幅以上の近
似の幅（ｄ＋α＝２ａ：図１、５参照）の幅で往復運動
させる。

【００１４】即ち、回転砥石(３)は、その回転軸(４)で
回転され、その軸を受ける構造体は、図示のように、Ｙ
−ステージ(５)上に載置される。そして、Ｙ−ステージ
(５）は、Ｘ−ステージ（７)のレール(７’)に乗った４
つのＹ方向に摺動するＹ方向ガイド(１２)により、Ｙ方
向のみに摺動し、そして、固定ステージ(８)に対して
は、Ｘ方向に摺動するガイド(１３)により、Ｘ方向のみ
に摺動する。

【００１５】Ｙ−ステージ(５)に対して、４つのＹ方向
に摺動するＹ方向ガイド(１２)により、Ｙ方向にのみ摺
動するＸ−ステージ(７)は、更に、Ｘ方向に摺動可能
に、Ｘ方向ガイド(１５)により、位置調整ステージ(９)
に載置される。即ち、Ｘ−ステージ(７)は、Ｘ−ステー
ジを乗せるレール(７’)と位置調整ステージ(１０)にＸ
方向に摺動可能な構造体(７”)を有し、構造体(７”)
は、その下部は、固定ステージ基台(２４)に伸びてお
り、その上に一対の変形カム(２２)(２３)を載せ、その
ための支持軸(２５)で結合される。

【００１６】そして、回転砥石(３)が載置されたＹ−ス
テージ(５)は、Ｘ−ステージ(７)に左右往復運動駆動手
段（図示せず）が結合され、左右にＸ方向に往復運動が
付与されると、４つのガイド(１２)を介して、Ｘ−ステ
ージと共に、左右にＸ方向に往復運動して、砥石(３)の
幅以上（２ａ＝ｄ＋α）に渡り、移動する。そのため
に、被研磨物(２)は、砥石(３)の上をその幅以上に渡り
移動し、その結果、砥石(３)は幅全体に渡り均一に摩耗
される。

【００１７】２つの傾斜カム(２２)(２３)の間に位置さ
れた固定ローラー(２０)は、図示では、前述の固定ステ
ージ(８)に、支持軸で結合されている。更に、固定ステ
ージ(８)は、図１の下部に示すように、下に伸びて（図
１、２の面上で考えて）、Ｙ方向のみに摺動するＹ方向
摺動ガイド(１４)（図示せず）を介して、位置調整ステ
ージ(９)の上に結合される。そして、その２つの傾斜カ
ム(２２)(２３)の外側の位置には、２つの移動ローラー
(２１)を備える。移動ローラー(２１)は、Ｙ−ステージ
(５)の上に載置され、Ｙ−ステージ(５)の往復運動によ
る移動とともに、Ｘ−方向にのみに回転砥石の幅(ｄ)以
上の近似幅内で往復摺動運動する。

【００１８】従って、図示の下部に示される機構；ロー
ラー(２０)(２１)(２１)と対のカム(２２)(２３)から構
成される機構により、Ｙ−ステージ(５)の往復運動に伴
い、外側の移動ローラー(２１)(２１)が、各々、カム
(２２)(２３)の外側を押圧し、すると、カム(２２)(２
３)が回転され、遂には、固定ローラー(２０)を下方向
に押圧する（図５参照）。固定ローラー(２０)、固定ス
テージ(８)、Ｘ方向ガイド(１３)を介して、Ｙ−ステー
ジ(５)を下方向に押し下げ（図１、２の面上）、する
と、回転砥石(３)が下方向に少しズレる。このときは、
回転砥石(３)の幅の端部から被研磨物(２)先端が、はず
れるときである。即ち、被研磨物(２)先端が、回転砥石
(３)からはずれると同時に回転砥石(３)は下にズレ、安
全性を確保すると共に、また、逆に被研磨物(２)が回転
砥石(３)上に載る際には、逆に、被研磨物(２)の下から
回転砥石(３)が昇ってくる（図１、２の面上）ので、容
易に砥石(３)の端部に容易に、柔らかく返送載置され
る。従って、砥石(３)の上を、被研磨物(２)先端が、等
速度で進んでいき、その端部でも同様に柔らかく、被研
磨物(２)先端が、はずれるので、砥石(３)の摩耗は、平
均化され、図４に示すようになり、平坦な摩耗面とな
る。そのために、砥石(３)が全部摩耗するまで使用でき
るようになる。

【００１９】位置調整ステージ(９)(１０)に対して、上
述のように、図示の摺動溝により、Ｘ−ステージ(７)は
図では縦方向に摺動でき、Ｙ−ステージ(５)は横方向に
摺動できるが、回転砥石(３)は、この位置調整ステージ
(９)(１０)により、図１の平面上のＸ方向及びＹ方向に
任意に位置合わせでき、例えば、位置合わせネジ(１
１’)を回転して、ステージ(１１)をＸ方向に摺動で
き、被研磨物(２)に対して回転砥石を任意の位置に調整
する。

【００２０】更に、１対のカム(２２、２３)は、図５に
示されるように、先端になる程幅広い形状であり、対称
形にあり、その間に、固定ローラー(２０)が挟まれ、更
に、それらのカム(２２、２３)の外側に各々移動ローラ
ー(２１)がある。

【００２１】次に、砥石(３)の全幅に渡って摩耗の程度
を同一にし、更に、砥石(３)が摩耗して、砥石(３)の厚
さが変わっても、同じように、幅狭の先端部の被研磨物
(２）を研磨することができる。即ち、図５において、
砥石（３)が摩耗して、ローラー(２１)(２０)(２１)
が、２１”、２０”、２１”で示す位置になると、カム
(２２)(２３)の軸(２５)から遠い位置で、ローラー(２
１)(２１)は、カム(２２)(２３)を押圧する。すると、
摩耗がない位置より、長い距離移動しないとローラー
(２０”)に接触し押圧することができない。従って、
(２１)(２０)(２１)の位置と同じ移動距離で、ローラー
(２０)に接触し押圧するには、カムの幅を広くしなけれ
ばならない。従って、図示のように、２つのカムの形状
(２２)(２３)は、先端になるほど幅広くなる。更に、カ
ム(２２)(２３)の外側面の傾斜が激しく且つその内側面
の傾斜は緩やかにされ、カム(２２)(２３)によりＹ−ス
テージ(５)の運動即ち、回転砥石(３)の運動は、より円
滑にされる。

【００２２】即ち、所定間隔で軸支された２つの傾斜カ
ム(２２、２３)の間に、Ｙ−方向のみに移動する固定ロ
ーラー(２０)を備え、更に、２つの傾斜カム(２２、２
３)の外側に更に、各々移動ローラー(２１、２１)を備
える。すると、例えば、回転砥石(３)が中央点からａ
（図５参照）だけ右へと移動し、図５に示されるように
左のローラー(２１)が(２１’)の位置に移動すると、ロ
ーラー(２１)が左のカム(２２)を押圧し、また、逆に反
対にａだけ左に移動すると、右のローラー(２１)が右の
カム(２３)を押圧し、ローラー(２０)に接触し押圧する
ので、両方で、２ａ移動すると、逆転する。即ち、２ａ
＝ｄ＋αの距離移動する。それにより砥石幅ｄを少し外
れた範囲で、研磨を継続することができる。即ち、ロー
ラー(２１)がカム(２２)(２３)の外側を押圧するように
なり、カム(２２)は右回転し、またカム(２３)は左回転
し、中央の固定ローラー(２０)を内側縁で押圧すると、
固定ローラー(２０)を介して、Ｙ−ステージ(５)が図で
下方向に移動し、被研磨物(２)から離れる傾向に入る。
即ち、往復運動では、２つの移動ローラー(２１)と２つ
のカム(２２)(２３)は、左右の往復の端で、即ち、ｄ＋
αの距離移動する毎に、中央の固定ローラー(２０)を少
し押し下げ、砥石(３)を被研磨物(２)から離れさせ、ま
た、反転移動では、反対の移動がある。

【００２３】即ち、(２５)の点で軸支されたカム(２２)
と(２３)により挟まれて、固定ローラー(２０)はＹ−方
向にのみ移動できるので、図で下方向に移動する。する
と、Ｘ−ステージ全体は下方向に移動し、結局、回転砥
石(３)は、被研磨物(２)から離れる方向に、移動する傾
向にある。従って、回転砥石(３)が被研磨物(２)から外
れると同時にスプリング(６)の張力に逆らって回転砥石
(３)は被研磨物(２)から離れる方向に動く。

【００２４】次に、ステージ(５)は反転移動し、被研磨
物(２)は回転砥石(３)の上に載置されるように移動する
が、そのときに、ステージ即ち、回転砥石(３)は、上述
の運動と逆に動き、図において、上に移動し、被研磨物
(２)に接触し、それを載置する。即ち、回転砥石(３)の
幅の端部から被研磨物(２)先端がはずれても、容易に砥
石(３)端部に返送載置され、そして、研磨材(３)が摩耗
して、厚さが変わっても、即ち、Ｙ−方向にステージ全
体が移動しても、この関係；即ち、２つの傾斜カム(２
２、２３)の間に、固定ローラー(２０)と、カムの外側
の移動ローラー(２１)の関係は変わらないので、同様
に、往復運動を繰り返すことができる。

【００２５】この場合に、本発明の研磨装置によると、
移動ローラー(２１)(２１)及び固定ローラー(２０)は、
表面が弾性材料である。その弾性材料はとくにゴムがよ
い。そのために、ステージ(５)(７)の左右への往復運動
において、弾性材表面の移動ローラー(２１)(２１)が各
々、カム(２２)(２３)の外側面に突き当り、押圧して、
そして、更に、弾性材表面の固定ローラー(２０)も両カ
ム(２２)(２３)の内側面により押圧される。

【００２６】このときに、各ローラーの表面が、弾性材
であるために、押圧に対して少し遅く移動するが、逆転
して、戻るときに、弾性材料表面のために戻る速度が遅
くなり、少し遅く、回転砥石(３)が上に移動するので、
被研磨物(２)が回転砥石(３)の上の位置に戻ってから、
回転砥石(３)が上に上がってくるので、容易に、幅狭の
先端部の被研磨物(２)が、回転砥石(３)上に再び載置さ
れ、研磨が継続されていく。本発明の研磨装置において
は、このような往復運動の繰り返しにより、研磨砥石
(３)の上で、被研磨物(２)が左右往復運動が行われて、
平均された砥石の摩耗が生じて、研磨が継続される。

【００２７】即ち、弾性材表面の固定ローラー(２０)と
移動ローラー(２１)(２１)とカム(２２)(２３)の特定に
配置された組合せは、Ｘ、Ｙ−ステージ(５)(７)のＸ−
方向の運動、往復運動を、一定の近似幅内に規制し、同
時に、被研磨物(２)が回転砥石(３)の上から外れる端部
においても、均一に砥石(３)が摩耗し、更に、その厚さ
(ｈ)が変わっても、同じ間隔で、即ち、弾性材表面の固
定ローラー(２０)と移動ローラー(２１)(２１)とカム
(２２)(２３)の特定の配置関係は変わらないので、一定
幅内に同じ往復運動を行うことができるものである。

【００２８】即ち、回転砥石(３)の幅の端部から被研磨
物先端(２)がはずれても、容易に砥石(３)の端部に返送
載置され、そして、研磨材(３)が摩耗して、厚さ(ｈ)が
変わっても、幅狭の先端部の被研磨物(２)を研磨して、
往復運動を同様に継続することができる。

【００２９】Ｘ、Ｙ−ステージのＸ−方向の位置は、そ
れに固定された固定ローラー(２０)が、カム(２２)(２
３)による突き当りにより、回転砥石(３)のＹ−方向で
の摺動運動が、調整され、砥石のＸ−方向での摺動に伴
い、幅狭の先端部の被研磨物を研磨しても、砥石全表面
において均一に摩耗される。

【００３０】以上のような構成の本発明の研磨装置で
は、回転砥石(３)の端部は、摩耗が強くならず、研磨砥
石の摩耗が幅方向で均一にされる。２つのカムの形状
は、先端になるほど幅広くなってい、それにより、カム
の外側面の傾斜が激しく且つその内側面の傾斜は緩やか
にされ、カムによりステージの運動即ち、回転砥石の運
動は、より円滑される。

【００３１】更に、本発明の研磨装置３セットを使用し
て、例えば、ハードデイスク(２)の円盤端部の３つの端
面(１６)(１７)(１８)（図１、４Ａを参照）を同時に研
磨処理することができる。即ち、３つの端面(１６、１
７、１８：図４参照)に対して各々上記のような本発明
の研磨装置を取りつけると、１度にハードデイスク端面
の仕上げができる。

【００３２】

【発明の効果】本発明の均一摩耗の研磨装置は、図示の
ような構成により、次のごとき技術的効果があった。 (１)Ｘ−方向及びＹ−方向に独立に摺動運動できるＸ、
Ｙ−ステージにより、Ｘ−方向の摺動幅を回転砥石の幅
(ｄ)以上の近似幅内（２ａ）に規制し、且つ、回転砥石
の幅の端部から被研磨物先端がはずれても、容易に砥石
端部に返送載置され、そして、研磨砥石が摩耗して、厚
さが変わっても、同じ間隔で、幅狭の先端部の被研磨物
を研磨することができる。

【００３３】(２)回転砥石と被研磨物との位置合わせが
容易にできる。 (３)弾性材料で表面が被われたローラーのために戻る速
度が遅くなり、容易に、幅狭の先端部の被研磨物が、回
転砥石上に再び載置される。 (４)２つのカムの形状は、先端になるほど幅広くなって
おり、それにより、カムの外側面の傾斜が激しく且つそ
の内側面の傾斜は緩やかにされ、カムによりステージの
運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の研磨装置の正面図である。

【図２】本発明の研磨装置の一部断面側面図である。

【図３】従来の幅狭の被研磨物(２)を研磨する研磨装置
の様子を示す模式的説明図である。Ａは研磨の様子を、
Ｂは研磨で摩耗した研磨材の断面を示す。

【図４】本発明の研磨装置で、幅狭の被研磨物(２)を研
磨する研磨操作を模式的に説明する。Ａは、本発明によ
る研磨の様子を、Ｂは研磨で摩耗した研磨材の断面を示
す。

【図５】本発明の研磨装置での、固定ローラー(２０)と
移動ローラー(２１)とそれを挟むカム(２２、２３)の作
用を説明する図である。

【符号の説明】

１研磨装置２幅狭の被研磨物３回転砥石４回転砥石の回転軸５Ｙ−ステージ６スプリング７Ｘ−ステージ８固定ステージ９、１０、１１位置調整ステージ１２Ｙ方向摺動ガイド１３Ｘ方向摺動ガイド１４Ｙ方向摺動ガイド１５Ｘ方向摺動ガイド１６、１７、１８ハードデイスクの形成すべき３つ
の端面２０固定ローラー（Ｙ方向にのみ移動）２１移動ローラー（Ｘ方向にのみ移動）２２、２３変形カム２４固定ステージ基台（７”によりＸ−ステージに
結合）２５カム回転軸３３従来の研磨装置で摩耗された面４１砥石の研磨面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非常に幅狭の被研磨物を研磨するため
の回転砥石を有する研磨装置において、該回転砥石は、Ｘ−方向及びＹ−方向に独立に摺動運動
できるＸ、Ｙ−ステージに載置され；該Ｘ、Ｙ−ステー
ジは、該回転砥石の該被研磨物への接触圧を調整するた
めのスプリング或いは空気圧手段を備え、Ｘ−方向のみ
に該回転砥石の幅以上の近似幅内に往復摺動運動させる
駆動手段を備え、その下のＹ−ステージに対してはＹ方
向のみに摺動し、固定ステージに対してＸ方向のみに摺
動するＸ−ステージと、該Ｘ−ステージに対してＹ方向
のみに摺動するＹ−ステージを有し；更に、所定間隔で
軸支された、２つの傾斜カムの間に位置された固定ロー
ラーを備え；更に、各々２つの傾斜カムの外側の位置
に、Ｘ−ステージに載置され、軸支された、Ｘ−方向の
みに該回転砥石の幅以上の近似幅内で往復摺動運動する
２つの移動ローラーを備え、Ｘ−ステージの該往復運動
に伴い、各々の移動ローラーが該カムの外側を押圧し、
更に、該カムが回転し、固定ローラーを押圧し、Ｘ−ス
テージを下方向に押圧して、該回転砥石が下方向に少し
ズレ、該回転砥石の幅の端部から被研磨物先端が、はず
れると同時に回転砥石は下にズレ、また、逆に被研磨物
が回転砥石上に載る際に、容易に砥石端部に返送載置さ
れ、該砥石全幅に渡って摩耗の程度を同一にし、且つ、
該砥石が摩耗して、該砥石の厚さが変わっても、同じよ
うに、幅狭の先端部の被研磨物を研磨することができる
ことを特徴とする前記の研磨装置。
【請求項２】前記のＸ、Ｙ−ステージ及び固定ステ
ージは、更に、位置調整できる位置調整ステージの上に
載置されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨
装置。
【請求項３】前記の２つの移動ローラー及び固定ロ
ーラーは、弾性材料で表面が被われており、それが、該
カムに突き当り、押圧されて、戻るときに、弾性材料表
面のために戻る速度が遅くなり、容易に、幅狭の先端部
の被研磨物が、回転砥石上に再び載置されることを特徴
とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項４】２つのカムの形状は、先端になるほど
幅広くおり、それにより、該カムの外側面の傾斜が激し
く且つその内側面の傾斜は緩やかにされ、カムにより該
ステージの運動即ち、回転砥石の運動は、より円滑にさ
れることを特徴とする請求項１或いは２に記載の研磨装
置。