JP2000029631A - Upper transparent electrode plate for touch panel and device provided with the same - Google Patents
Upper transparent electrode plate for touch panel and device provided with the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、タッチパネル用上
部透明電極板およびそれを含む装置に関するものであ
り、特に、液晶表示装置、プラズマ表示装置、ＥＬ表示
装置、ＣＲＴ表示装置等の表示面上に配置されるタッチ
パネルに用いられるタッチパネル用上部透明電極板およ
びそれを含む装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an upper transparent electrode plate for a touch panel and a device including the same, and more particularly, to a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, and a CRT display device. The present invention relates to an upper transparent electrode plate for a touch panel used for a touch panel to be arranged, and an apparatus including the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】表示装置一体型の入力スイッチとしての
透明なタッチパネルは、その表示装置の表示面上に配置
されて使用される。現在使用されているタッチパネルに
は種々の方式のものが存在するが、抵抗膜方式のタッチ
パネルが最も広く使用されている。2. Description of the Related Art A transparent touch panel as an input switch integrated with a display device is used by being arranged on a display surface of the display device. There are various types of touch panels currently used, and a resistive touch panel is most widely used.
【０００３】抵抗膜式のタッチパネルは、透明基板とそ
の下面上に形成された透明電極層とからなる上部透明電
極板と、透明基板とその上面上に形成された透明電極層
とからなる下部透明電極板とが、所定の空間を隔てて透
明電極層同士が対面するように配置されている。A resistive touch panel has an upper transparent electrode plate comprising a transparent substrate and a transparent electrode layer formed on the lower surface thereof, and a lower transparent electrode plate comprising a transparent substrate and a transparent electrode layer formed on the upper surface thereof. The electrode plate is disposed so that the transparent electrode layers face each other with a predetermined space therebetween.
【０００４】このように構成されるタッチパネルにおい
て、上部透明電極板の透明基板を入力ペンまたは指で押
圧したとき、透明基板が撓んでその押圧点において上部
透明電極板の透明電極層が下部透明電極板の透明電極層
と接触する。そして、その接触点の座標が電気抵抗の測
定によって検知されて、入力情報が読取られる。In the touch panel constructed as described above, when the transparent substrate of the upper transparent electrode plate is pressed with an input pen or a finger, the transparent substrate bends and the transparent electrode layer of the upper transparent electrode plate becomes lower transparent electrode at the pressed point. Contact the transparent electrode layer of the plate. Then, the coordinates of the contact point are detected by measuring the electric resistance, and the input information is read.
【０００５】このような従来の表示装置の表示面上に配
置されて使用されるタッチパネルにおいては、上部透明
電極板の透明基板上に反射防止層を設けることにより、
透明電極層表面や液晶セルの上面の反射を防止すること
が行なわれている。[0005] In such a touch panel used on a display surface of a conventional display device, an antireflection layer is provided on a transparent substrate of an upper transparent electrode plate.
It has been practiced to prevent reflection on the surface of a transparent electrode layer or the upper surface of a liquid crystal cell.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透明基
板上に反射防止層を設けた場合には、入力ペンを用いて
押圧する際に、ペン先のすべりが悪くなり、書き味が悪
くなってしまうという問題があった。However, when an anti-reflection layer is provided on a transparent substrate, when the input pen is used to press, the slip of the pen tip deteriorates, and the writing quality deteriorates. There was a problem.
【０００７】この発明の目的は、上述の問題点を解決
し、表面反射が有効に防止されるとともに、書き味の良
好なタッチパネル用上部透明電極板およびそれを含む装
置を提供することにある。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide an upper transparent electrode plate for a touch panel, which effectively prevents surface reflection and has good writing, and a device including the same.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明によるタ
ッチパネル用上部透明電極板は、透明基板と、透明基板
の下面上に形成された透明電極層と、透明基板の上面上
に設けられた反射防止層と、反射防止層の上面上に形成
されたパーフルオロアルキル基含有有機化合物からなる
摩擦係数制御層とを備えている。An upper transparent electrode plate for a touch panel according to the present invention is provided on a transparent substrate, a transparent electrode layer formed on a lower surface of the transparent substrate, and an upper surface of the transparent substrate. An anti-reflection layer and a friction coefficient control layer made of a perfluoroalkyl group-containing organic compound formed on the upper surface of the anti-reflection layer.
【０００９】請求項２の発明によるタッチパネル用上部
透明電極板は、請求項１の発明の構成において、摩擦係
数制御層は、動摩擦係数が０．０２〜０．１の範囲内と
なるように形成されていることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided an upper transparent electrode plate for a touch panel according to the first aspect of the invention, wherein the friction coefficient control layer is formed such that the dynamic friction coefficient is in the range of 0.02 to 0.1. It is characterized by being.
【００１０】請求項３の発明によるタッチパネル用上部
透明電極板は、請求項１または請求項２の発明の構成に
おいて、パーフルオロアルキル基含有有機化合物が、パ
ーフルオロアルキル基含有有機シラン化合物であること
を特徴としている。According to a third aspect of the present invention, there is provided an upper transparent electrode plate for a touch panel according to the first or second aspect of the invention, wherein the perfluoroalkyl group-containing organic compound is a perfluoroalkyl group-containing organic silane compound. It is characterized by.
【００１１】請求項４の発明によるタッチパネル用上部
透明電極板は、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の
発明の構成において、反射防止層は２以上の層から構成
され、２以上の層のうち最上層は酸化ケイ素層であるこ
とを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an upper transparent electrode plate for a touch panel according to any one of the first to third aspects, wherein the anti-reflection layer comprises two or more layers. The uppermost layer is a silicon oxide layer.
【００１２】請求項５の発明によるタッチパネルは、請
求項１〜請求項４のいずれかに記載のタッチパネル用上
部透明電極板に加えて、タッチパネル用下部透明電極板
をさらに備え、タッチパネル用下部透明電極板は、透明
基板とその上面上に形成された透明電極層とを含み、上
部透明電極板の透明電極層と下部透明電極板の電極層と
は、所定の間隔で互いに対面するように配置されている
ことを特徴としている。A touch panel according to a fifth aspect of the present invention further comprises a lower transparent electrode plate for a touch panel in addition to the upper transparent electrode plate for a touch panel according to any one of the first to fourth aspects. The plate includes a transparent substrate and a transparent electrode layer formed on the upper surface thereof, and the transparent electrode layer of the upper transparent electrode plate and the electrode layer of the lower transparent electrode plate are arranged so as to face each other at a predetermined interval. It is characterized by having.
【００１３】請求項６の発明によるタッチパネル付表示
装置は、請求項５に記載のタッチパネルが表示装置の表
示面上に配置されていることを特徴としている。A display device with a touch panel according to a sixth aspect of the invention is characterized in that the touch panel according to the fifth aspect is arranged on a display surface of the display device.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】図１は、本発明によるタッチパネ
ル用上部透明電極板の一例の構成を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing the structure of an example of an upper transparent electrode plate for a touch panel according to the present invention.
【００１５】図１を参照して、この上部透明電極板１０
は、透明基板１と、透明基板１の下面上に形成された透
明電極層３とを備えている。Referring to FIG. 1, this upper transparent electrode plate 10
Includes a transparent substrate 1 and a transparent electrode layer 3 formed on the lower surface of the transparent substrate 1.
【００１６】透明基板１は、入力ペンまたは指による押
圧によって撓み得るものであって、薄い透明樹脂板から
なる。透明樹脂板としては、たとえばアクリル系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、
ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート等の種々の樹
脂からなるものが用いられ得る。なお、透明基板１は、
このような樹脂板に限られず、非常に薄い透明ガラス板
で形成されていてもよい。The transparent substrate 1 can be bent by pressing with an input pen or a finger, and is made of a thin transparent resin plate. As the transparent resin plate, for example, acrylic resin,
Polycarbonate resin, cyclic polyolefin resin,
Those made of various resins such as polyethersulfone and polyarylate can be used. In addition, the transparent substrate 1
It is not limited to such a resin plate, but may be formed of a very thin transparent glass plate.
【００１７】また、透明電極層３は、ＩＴＯ（インジウ
ム・錫の酸化物）、錫・アンチモンの酸化物等の金属酸
化物の薄膜または金、銀、パラジウム、アルミニウム等
の金属の極薄膜を、真空蒸着法、イオンビーム蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法等を利用し
て、透明基板１の下面上に形成することによって得られ
たものである。The transparent electrode layer 3 is formed of a thin film of a metal oxide such as ITO (oxide of indium / tin) or an oxide of tin / antimony or an extremely thin film of a metal such as gold, silver, palladium or aluminum. Vacuum deposition, ion beam deposition,
It is obtained by forming it on the lower surface of the transparent substrate 1 by using a sputtering method, an ion plating method or the like.
【００１８】この上部透明電極板１０において、透明基
板１の上面上には、反射防止層７が設けられ、さらに、
反射防止層７上には、摩擦係数制御層８が形成されてい
る。In the upper transparent electrode plate 10, an antireflection layer 7 is provided on the upper surface of the transparent substrate 1.
On the antireflection layer 7, a friction coefficient control layer 8 is formed.
【００１９】反射防止層７は、無機化合物の単層または
多層の薄膜からなる公知のものでよく、真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、スパッタリング法などの公知の
方法により形成することができる。たとえば、真空蒸着
法においては、被覆させたい基材を真空槽に仕込み、通
常は真空度を１０-4Ｔｏｒｒ以下とし、蒸着させる物質
を抵抗加熱、電子線加熱等により加熱蒸発させ、この蒸
発した物質が基材表面に凝縮することにより、薄膜を形
成することができる。スパッタリング法においては、通
常、１０-3Ｔｏｒｒ程度の低圧中で二電極間でグロー放
電を行なわせ、これにより放出される陰極物質を基材に
付着させることができる。さらに具体的には、特開平４
−３３８９０１号公報や特開昭６４−８６１０１号公
報、さらには特開昭５６−１１３１０１号公報に記載の
方法が挙げられる。また、反射防止層７の構成に関して
は、米国特許３，１８５，０２０号公報や、同３，４３
２，２２５号公報等に記載のものを挙げることができ
る。反射防止層としては、ポリスチレン層等を積層した
反射防止膜（特開平６−３４４４８７号公報）等の有機
系の反射防止膜もあるが、本発明において用いる反射防
止層は無機化合物の層からなる反射防止層である。The antireflection layer 7 may be a known one comprising a single layer or a multilayer thin film of an inorganic compound, and can be formed by a known method such as a vacuum deposition method, an ion plating method, and a sputtering method. For example, in a vacuum deposition method, a substrate to be coated is charged into a vacuum chamber, the degree of vacuum is usually set to 10 −4 Torr or less, and a substance to be deposited is heated and evaporated by resistance heating, electron beam heating, or the like, and this evaporation is performed. A substance can condense on the substrate surface to form a thin film. In the sputtering method, glow discharge is usually performed between two electrodes at a low pressure of about 10 −3 Torr, and the cathode material emitted by the glow discharge can be attached to the substrate. More specifically, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
JP-A-338901, JP-A-64-86101, and furthermore, JP-A-56-113101. Regarding the configuration of the antireflection layer 7, US Pat. No. 3,185,020 and US Pat.
No. 2,225 can be mentioned. As the anti-reflection layer, there is an organic anti-reflection film such as an anti-reflection film in which a polystyrene layer or the like is laminated (JP-A-6-344487). The anti-reflection layer used in the present invention comprises an inorganic compound layer. It is an anti-reflection layer.
【００２０】反射防止層の材料として用いられる無機化
合物としては、たとえば二酸化ケイ素、一酸化ケイ素等
の酸化ケイ素、酸化イットリウム、酸化アルミニウム、
酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化錫、酸化ランタ
ン、酸化インジウム、酸化ネオジウム、酸化アンチモ
ン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン、酸
化ビスマスなどの金属酸化物、フッ化カルシウム、フッ
化ナトリウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、
フッ化ランタン、フッ化ネオジウム、フッ化セリウム、
フッ化鉛等の金属ハロゲン化物、硫化亜鉛、硫化カドミ
ウム、三硫化アンチモン等の金属硫化物、セレン化亜鉛
等のセレン化金属、テルル化カドミウム、テルル化鉛等
のテルル化金属、ケイ素、ゲルマニウム、テルル等を挙
げることができる。Examples of the inorganic compound used as a material of the antireflection layer include silicon oxide such as silicon dioxide and silicon monoxide, yttrium oxide, aluminum oxide, and the like.
Metal oxides such as magnesium oxide, thorium oxide, tin oxide, lanthanum oxide, indium oxide, neodymium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, cerium oxide, titanium oxide, bismuth oxide, calcium fluoride, sodium fluoride, lithium fluoride, Magnesium fluoride,
Lanthanum fluoride, neodymium fluoride, cerium fluoride,
Metal halides such as lead fluoride, zinc sulfide, cadmium sulfide, metal sulfides such as antimony trisulfide, metal selenides such as zinc selenide, cadmium telluride, metal tellurides such as lead telluride, silicon, germanium, Tellurium and the like can be mentioned.
【００２１】パーフルオロアルキル基含有有機化合物か
らなる層８は、反射防止層７上に形成され、摩擦係数制
御層として機能する被覆層である。好ましくは、摩擦係
数制御層８は、動摩擦係数が０．０２〜０．１の範囲内
となるように形成されているとよい。動摩擦係数が０．
１よりも大きいと、ペン先のすべりが悪くなり書き味が
良くなく、一方、動摩擦係数が０．０２より小さいと、
逆にペン先のすべりが良くなり過ぎてかえって書き味が
悪くなってしまうからである。The layer 8 made of a perfluoroalkyl group-containing organic compound is a coating layer formed on the antireflection layer 7 and functioning as a friction coefficient control layer. Preferably, the friction coefficient control layer 8 is formed so that the dynamic friction coefficient is in the range of 0.02 to 0.1. The dynamic friction coefficient is 0.
If it is larger than 1, the pen tip slips and the writing is not good, while if the dynamic friction coefficient is smaller than 0.02,
Conversely, the pen tip becomes too slippery and the writing taste worsens.
【００２２】また、パーフルオロアルキル基含有有機化
合物としては、たとえばパーフルオロアルキル基含有有
機シラン化合物を挙げることができる。The organic compound containing a perfluoroalkyl group includes, for example, an organic silane compound containing a perfluoroalkyl group.
【００２３】このシラン化合物は、下記の一般式［化
１］で示され、かつその数平均分子量は５×１０2 〜１
×１０5 である。This silane compound is represented by the following general formula [Formula 1] and has a number average molecular weight of 5 × 10 2 to 1
× 10 5 .
【００２４】[0024]
【化１】 Embedded image
【００２５】中でも、一般式［化１］中の、Ｒf は通
常、炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロ
アルキル基であり、好ましくは、ＣＦ3 基、Ｃ2 Ｆ
5 基、Ｃ3Ｆ7 基である。Ｙにおける低級アルキル基と
しては通常、炭素数１〜５のものが挙げられる。Ｒ1 の
加水分解可能な基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子等のハロゲン原子、Ｒ3 Ｏ基、Ｒ3 ＣＯＯ基、
（Ｒ4 ）2 Ｃ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ基、（Ｒ3 ）2 Ｃ＝ＮＯ
基、Ｒ5 Ｃ＝ＮＯ基、（Ｒ4 ）2 Ｎ基、およびＲ3 ＣＯ
ＮＲ4 基が好ましい（ここで、Ｒ3 はアルキル基等の通
常は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基またはフェニル
基等の通常は炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、Ｒ4
は水素原子またはアルキル基等の通常は炭素数１〜５の
低級脂肪族炭化水素基、Ｒ5 はアルキリデン基等の通常
は炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基である）。Among them, R f in the general formula [Chemical Formula 1] is usually a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, and is preferably a CF 3 group or a C 2 F group.
5 and C 3 F 7 groups. As the lower alkyl group for Y, one having 1 to 5 carbon atoms is usually mentioned. Examples of the hydrolyzable group for R 1 include a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, an R 3 O group, an R 3 COO group,
(R 4 ) 2 C = C (R 3 ) CO group, (R 3 ) 2 C = NO
Group, R 5 C = NO group, (R 4 ) 2 N group, and R 3 CO
NR 4 group is preferred (wherein, R 3 is usually generally aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms and an aliphatic hydrocarbon group or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an alkyl group, R 4
Is usually a lower aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms such as a hydrogen atom or an alkyl group, and R 5 is a divalent aliphatic hydrocarbon group usually having 3 to 6 carbon atoms such as an alkylidene group).
【００２６】さらに好ましくは、塩素原子、ＣＨ3 Ｏ
基、Ｃ2 Ｈ5 Ｏ基である。Ｒ2 は水素原子または不活性
な１価の有機基であり、好ましくは、アルキル基等の通
常は炭素数１〜４の１価の炭化水素基である。ａ、ｂ、
ｃ、ｄは０〜２００の整数であり、好ましくは１〜５０
である。ｍおよびｎは、０〜２の整数であり、好ましく
は０である。ｐは１または２以上の整数であり、好まし
くは１〜１０の整数であり、さらに好ましくは１〜５の
整数である。また、数平均分子量は５×１０2 〜１×１
０5 であり、好ましくは１×１０3 〜１×１０4 であ
る。More preferably, a chlorine atom, CH 3 O
A C 2 H 5 O group. R 2 is a hydrogen atom or an inert monovalent organic group, preferably a monovalent hydrocarbon group usually having 1 to 4 carbon atoms such as an alkyl group. a, b,
c and d are integers of 0 to 200, preferably 1 to 50.
It is. m and n are integers of 0 to 2, preferably 0. p is an integer of 1 or 2 or more, preferably an integer of 1 to 10, and more preferably an integer of 1 to 5. The number average molecular weight is 5 × 10 2 to 1 × 1.
0 5 , preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 4 .
【００２７】また、上記の一般式［化１］で表わされる
シラン化合物の好ましい構造のものとして、Ｒf がＣ3
Ｆ7 基であり、ａが１〜５０の整数であり、ｂ、ｃおよ
びｄが０であり、ｅが１であり、Ｚがフッ素原子であ
り、ｎが０である化合物、すなわち下記の一般式［化
２］で表わされる化合物がある。Further, as a preferred structure of the silane compound represented by the above general formula [Chemical Formula 1], R f is C 3
An F 7 group, a is an integer of 1 to 50, b, c and d are 0, e is 1, Z is a fluorine atom, compounds wherein n is 0, i.e. generally below There is a compound represented by the formula [Formula 2].
【００２８】[0028]
【化２】 Embedded image
【００２９】（式中、Ｙ、ｍ、Ｒ1 およびｐは前記と同
じ意味を表わし、ｑは１〜５０の整数を表わす。） これらのシラン化合物は、市販のパーフルオロポリエー
テルをシラン処理することによって得ることができる。
たとえば、特開平１−２９４７０９号公報に開示のある
とおりである。(In the formula, Y, m, R 1 and p have the same meanings as above, and q represents an integer of 1 to 50.) These silane compounds are obtained by subjecting a commercially available perfluoropolyether to silane treatment. Can be obtained by:
For example, it is as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-294709.
【００３０】該シラン化合物からなる摩擦係数制御層８
を、反射防止層７上に形成するには、スピン塗装、浸漬
塗装、ロールコート塗装、グラビアコート塗装、カーテ
ンフロー塗装等が用いられる。なお、塗布する際には、
溶剤で希釈して行なうことが該シラン化合物からなる層
の厚みを制御する点で、また作業性の点で好ましい。該
溶剤としては、たとえばパーフルオロヘキサン、パーフ
ルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１、３−
ジメチルシクロヘキサン等の通常は炭素数５〜１２のパ
ーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチ
ル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ素
化脂肪族炭化水素等が挙げられる。塗布液中の該シラン
化合物濃度は浸漬塗装法においては０．０５〜０．５ｗ
ｔ％が好ましい。A friction coefficient control layer 8 comprising the silane compound
Is formed on the antireflection layer 7 by spin coating, dip coating, roll coating, gravure coating, curtain flow coating, or the like. When applying,
Dilution with a solvent is preferred from the viewpoint of controlling the thickness of the layer comprising the silane compound and from the viewpoint of workability. Examples of the solvent include perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane, perfluoro-1,3-
Examples thereof include perfluoroaliphatic hydrocarbons having usually 5 to 12 carbon atoms such as dimethylcyclohexane, polyfluorinated aromatic hydrocarbons such as bis (trifluoromethyl) benzene, and polyfluorinated aliphatic hydrocarbons. The concentration of the silane compound in the coating solution is 0.05 to 0.5 W in the dip coating method.
t% is preferred.
【００３１】該シラン化合物からなる摩擦係数制御層８
の厚みは、摩擦係数制御効果および反射防止効果の点か
ら、０．００１〜０．０３μｍが好ましい。A friction coefficient control layer 8 comprising the silane compound
Is preferably 0.001 to 0.03 μm from the viewpoint of a friction coefficient control effect and an antireflection effect.
【００３２】また、図２は、本発明によるタッチパネル
用上部透明電極板の他の例の構成を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing the structure of another example of the upper transparent electrode plate for a touch panel according to the present invention.
【００３３】図２を参照して、このタッチパネル用上部
透明電極板１１においては、透明基板１と反射防止層７
との間に、ハードコート層２が介在されている。なお、
他の構成については、図１に示すタッチパネル用上部透
明電極板１０と全く同様であるので、その説明は省略す
る。Referring to FIG. 2, in the upper transparent electrode plate 11 for the touch panel, the transparent substrate 1 and the anti-reflection layer 7 are provided.
, A hard coat layer 2 is interposed. In addition,
Other configurations are exactly the same as those of the upper transparent electrode plate for a touch panel 10 shown in FIG. 1, and thus description thereof is omitted.
【００３４】図２を参照して、このようにハードコート
層２を透明基板１表面上に形成し、該基板１の表面を被
覆することにより、表面硬度が増加するのみならず、反
射防止層７と接触する面が平滑になるため、反射防止層
７の密着性が向上する。Referring to FIG. 2, by forming the hard coat layer 2 on the surface of the transparent substrate 1 and covering the surface of the substrate 1, not only the surface hardness is increased, but also the anti-reflection layer is formed. Since the surface in contact with 7 is smooth, the adhesion of antireflection layer 7 is improved.
【００３５】ハードコート層２としては、この用途に用
いられる公知のものでよい。たとえば、多官能性モノマ
を主成分とする原料を重合硬化させることによって得ら
れる硬化膜を挙げることができる。具体的には、ウレタ
ン変性（メタ）アクリルオリゴマー、多価アルコールと
（メタ）アクリル酸とのエステル化物、ポリエーテル
（メタ）アクリレート等のアクリロイル基、メタクリロ
イル基を２つ以上含んだ多官能重合性化合物を紫外線、
電子線等の活性化エネルギ線によって重合硬化させた
層、あるいはシリコン系、メラミン系、エポキシ系の架
橋性樹脂原料を熱によって架橋硬化させたものなどを挙
げることができる。中でも、耐久性や取扱いの容易さの
点で、ウレタン変性アクリルオリゴマーからなる樹脂原
料を紫外線または電子線によって硬化させた層、シリコ
ン系の多官能重合性化合物からなる樹脂原料を熱によっ
て硬化させた層が優れている。The hard coat layer 2 may be a known one used for this purpose. For example, a cured film obtained by polymerizing and curing a raw material containing a polyfunctional monomer as a main component can be used. Specifically, urethane-modified (meth) acrylic oligomer, esterified product of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, acryloyl group such as polyether (meth) acrylate, and polyfunctional polymerizable compound containing two or more methacryloyl groups UV light compounds
Examples thereof include a layer polymerized and cured by an activation energy beam such as an electron beam, and a layer obtained by crosslinking and curing a silicon-based, melamine-based, or epoxy-based crosslinkable resin material by heat. Above all, in terms of durability and ease of handling, a layer obtained by curing a resin material composed of a urethane-modified acrylic oligomer by ultraviolet rays or electron beams, and a resin material composed of a silicon-based polyfunctional polymerizable compound were cured by heat. The layers are excellent.
【００３６】ウレタン変性（メタ）アクリレートは、末
端イソシアネートポリウレタンと水酸基を有する（メ
タ）アクリル酸誘導体とのウレタン化反応によって得る
ことができる。末端イソシアネートポリウレタンは、ポ
リイソシアネートたとえばヘキサメチレンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート等と複数の水酸基を
有するオリゴマー、たとえばポリカプロラクトンジオー
ル、ポリテトラメチレンジオール等との反応によって生
成される。水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体と
しては、たとえば（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエ
チル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル等を
挙げることができる。The urethane-modified (meth) acrylate can be obtained by a urethane-forming reaction between a terminal isocyanate polyurethane and a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group. The terminal isocyanate polyurethane is produced by the reaction of a polyisocyanate such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and the like with an oligomer having a plurality of hydroxyl groups such as polycaprolactone diol and polytetramethylene diol. Examples of the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate.
【００３７】多価アルコールと（メタ）アクリル酸との
エステル化物における多価アルコールとしては、たとえ
ばエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパ
ンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキ
サンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−
１，３−ヘキサンジオール、２，２′−チオジエタノー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の２価のア
ルコール、トリメチロールプロパン、ペンタグリセロー
ル、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロ
ール、ジペンタグリセロール等の３価以上のアルコール
が挙げられる。また、得られる硬化膜の可撓性を持た
せ、ひび割れしにくくするために、多価アルコールと
（メタ）アクリル酸とのエステル化物の生成において、
（メタ）アクリル酸に加えさらに多価不飽和カルボン酸
を少量加えて混合エステルとしてもよい。該多価不飽和
カルボン酸としては、たとえばコハク酸、テトラヒドロ
フタル酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸等を挙げることができる。Examples of the polyhydric alcohol in the esterified product of the polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, propanediol, butanediol, pentanediol, hexanediol and neopentyl. Glycol, 2-ethyl-
Dihydric alcohols such as 1,3-hexanediol, 2,2'-thiodiethanol and 1,4-cyclohexanedimethanol, trimethylolpropane, pentaglycerol, glycerol, pentaerythritol, diglycerol, and dipentaglycerol; Alcohols with a valency or higher. In addition, in order to impart flexibility to the obtained cured film and make it less likely to crack, in the production of an esterified product of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid,
In addition to (meth) acrylic acid, a small amount of a polyunsaturated carboxylic acid may be added to form a mixed ester. Examples of the polyunsaturated carboxylic acid include succinic acid, tetrahydrophthalic acid, phthalic acid, maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid.
【００３８】ハードコート層２を形成する方法として
は、まず、原料を通常のコーティング作業で用いられる
方法で、たとえば、基材を回転させ、その上にコート剤
を滴下することにより、コート剤による被膜を均一に形
成させるスピン塗装、または、基材をコート剤溶液中に
浸漬させ、一定の速度で引き上げることにより被膜を形
成させる浸漬塗装、または、ロールにコート剤被膜を形
成させ、ロール間を基材が移動することによりロールの
コート剤を基材上に転写させるロールコート塗装やグラ
ビアコート塗装、または、コート剤を滝状に流し落と
し、その下を基材が通り抜けることによりコート剤の被
膜を形成させるカーテンフロー塗装等で塗布し（たとえ
ば「コーティング方法」（原崎勇次著、槇書店、１９７
９年１０月３０日発行）や「塗布機と周辺機器」（青山
他著、株式会社ポリマー工業研究所、加工技術研究会、
１９７９年２月発行）に記載の方法）、続いて上述した
ように、用いた原料に応じた方法により硬化させる方法
を挙げることができる。The method for forming the hard coat layer 2 is as follows. First, the raw material is used in a usual coating operation, for example, by rotating the base material and dropping the coating material on the substrate. Spin coating to form a uniform coating, or dip coating to form a coating by immersing the substrate in a coating agent solution and pulling up at a constant speed, or to form a coating agent coating on rolls, Roll coating or gravure coating, in which the coating material of the roll is transferred onto the substrate by moving the substrate, or the coating agent is coated by flowing the coating agent down like a waterfall and passing the substrate underneath. (For example, “coating method” (Yuji Harasaki, Maki Shoten, 197)
Published October 30, 1997) and "Coating Machine and Peripheral Equipment" (Aoyama et al., Polymer Industrial Research Institute, Processing Technology Research Group,
(Published in February 1979)), and then, as described above, a method of curing by a method according to the raw materials used.
【００３９】ハードコート層の厚さは、塗膜強度、表面
強度、光学特性の点から、１〜２０μｍが好ましい。The thickness of the hard coat layer is preferably from 1 to 20 μm from the viewpoint of coating film strength, surface strength and optical characteristics.
【００４０】図３は、図１に示す上部透明電極板１０を
含む本発明によるタッチパネル付表示装置の一例を示す
断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing an example of a display device with a touch panel according to the present invention including the upper transparent electrode plate 10 shown in FIG.
【００４１】図３を参照して、このタッチパネル付表示
装置５０は、上部透明電極板１０と下部透明電極場２０
とを備えたタッチパネル３０が、たとえば液晶表示装置
のような表示装置４０の表示面上に配置されて構成され
ている。Referring to FIG. 3, the display device with a touch panel 50 includes an upper transparent electrode plate 10 and a lower transparent electrode field 20.
The touch panel 30 having the above configuration is arranged on a display surface of a display device 40 such as a liquid crystal display device.
【００４２】下部透明電極板２０は、透明基板４と透明
基板４の上面上に形成された透明電極層５とを備えてい
る。The lower transparent electrode plate 20 has a transparent substrate 4 and a transparent electrode layer 5 formed on the upper surface of the transparent substrate 4.
【００４３】透明基板４は、薄い透明ガラス板または透
明樹脂板からなる。透明樹脂板としては、透明基板１と
同様の材料からなるものを用いることができる。また、
透明電極層５は、上部透明電極板２０の透明電極層３と
同様に形成され得る。The transparent substrate 4 is made of a thin transparent glass plate or a transparent resin plate. As the transparent resin plate, one made of the same material as the transparent substrate 1 can be used. Also,
The transparent electrode layer 5 can be formed in the same manner as the transparent electrode layer 3 of the upper transparent electrode plate 20.
【００４４】上部透明電極板１０と下部透明電極板２０
とは、スペーサ６によって所定の間隔を隔てて透明電極
層３と透明電極層５とが対面するように、配置されてい
る。Upper transparent electrode plate 10 and lower transparent electrode plate 20
Is disposed so that the transparent electrode layer 3 and the transparent electrode layer 5 face each other at a predetermined interval by the spacer 6.
【００４５】[0045]
【実施例】（実施例１） 反射防止層の形成 片面にマスクフィルムを装着した透明基板を真空蒸着装
置（（株）シンクロンＢＭＣ−７００）の真空蒸着槽に
入れ、真空度を２×１０-5Ｔｏｒｒにした後、二酸化ケ
イ素、二酸化チタン、二酸化ケイ素、二酸化チタン、二
酸化ケイ素の順序でＥＢ（電子線）により、各層の厚み
が順に１５、１５、２８、１０７、９０ｎｍとなるよう
に蒸着し、透明基板上に反射防止層を設けた。EXAMPLES (Example 1) Formation of an anti-reflection layer A transparent substrate having a mask film mounted on one side was put into a vacuum evaporation tank of a vacuum evaporation apparatus (SYNCRON BMC-700), and the degree of vacuum was set to 2 × 10 −. After 5 Torr, silicon dioxide, titanium dioxide, silicon dioxide, titanium dioxide, and silicon dioxide were deposited in this order by EB (electron beam) so that the thickness of each layer was 15, 15, 28, 107, and 90 nm. An antireflection layer was provided on a transparent substrate.
【００４６】 摩擦係数制御液の調製 特開平１−２９４７０９号公報の実施例６の原料の下記
の式［化３］で示されるフッ素含有ポリエーテルを使用
し、同公報実施例４に従って、ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉＣｌ3
で示されるビニルトリクロルシランを反応させ、得られ
たヨウ素含有シラン化合物を亜鉛粉末とメタノールで処
理し、下記の式［化４］で示される数平均分子量が約５
０００のシラン化合物を得た。Preparation of Liquid for Controlling Friction Coefficient Using a fluorine-containing polyether represented by the following formula [Chemical Formula 3] as a raw material of Example 6 of JP-A-1-294709, CH 2 was prepared according to Example 4 of the same publication. = CHSiCl 3
And the obtained iodine-containing silane compound is treated with zinc powder and methanol to give a number average molecular weight of about 5
000 silane compounds were obtained.
【００４７】[0047]
【化３】 Embedded image
【００４８】[0048]
【化４】 Embedded image
【００４９】具体的には、攪拌器、滴下ロート、還流冷
却器および温度計を備えた２００ｍｌの４つ口フラスコ
中に、［化３］で示されるω−フルオロポリパーフルオ
ロオキセタンヨウ素化合物４０ｇをヘキサフルオロテト
ラクロロブタン８０ｇに溶解したもの、および、ジ−ｔ
−ブチルパーオキシド１．５ｇ（１×１０-2モル）を仕
込み、十分に系内を窒素置換した後、窒素気流下滴下ロ
ートよりビニルトリクロロシラン１６．１ｇ（０．１モ
ル）を滴下した。滴下終了後、系内の温度を１２０℃に
昇温させ、４時間反応させた。反応終了後、減圧下で揮
発分を完全に留去することによって、末端にヨウ素を有
するシラン化合物３８．７ｇを得た。次いで、前記と同
様のフラスコ中に、前記シラン化合物３４．４ｇをパー
フルオロヘキサン５０ｇに溶解したものを仕込み、亜鉛
２．１ｇ（３．２×１０-2モル）を強攪拌分散させた。
氷水浴で系を冷却し、窒素気流下無水メタノール１０ｇ
を滴下した。滴下終了後、氷水浴を取除き、加熱還流下
２時間反応させた。反応終了後、不溶物を濾別し、２層
に分離した液相から分液ロートを用いて下層を分取し
た。得られた溶液を無水メタノールを用いて３回洗浄し
た後、減圧下揮発分を完全に留去することによって、
［化４］で示される末端が水素化されたシラン化合物３
１．６ｇを得た。Specifically, in a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a reflux condenser and a thermometer, 40 g of the ω-fluoropolyperfluorooxetane iodine compound represented by the following formula [3] was added. Dissolved in 80 g of hexafluorotetrachlorobutane, and di-t
After 1.5 g (1 × 10 -2 mol) of -butyl peroxide was charged and the inside of the system was sufficiently purged with nitrogen, 16.1 g (0.1 mol) of vinyltrichlorosilane was added dropwise from a dropping funnel under a nitrogen stream. After completion of the dropwise addition, the temperature in the system was raised to 120 ° C., and the reaction was performed for 4 hours. After completion of the reaction, volatile matters were completely distilled off under reduced pressure to obtain 38.7 g of a silane compound having iodine at a terminal. Next, a solution prepared by dissolving 34.4 g of the silane compound in 50 g of perfluorohexane was charged into the same flask as above, and 2.1 g (3.2 × 10 -2 mol) of zinc was dispersed with vigorous stirring.
Cool the system in an ice water bath, and dry anhydrous methanol 10 g under a nitrogen stream.
Was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the ice-water bath was removed, and the reaction was carried out for 2 hours under reflux. After completion of the reaction, insolubles were separated by filtration, and the lower layer was separated from the liquid phase separated into two layers using a separating funnel. After the obtained solution was washed three times with anhydrous methanol, the volatile components were completely distilled off under reduced pressure,
The terminally hydrogenated silane compound 3 represented by Chemical Formula 4
1.6 g were obtained.
【００５０】1 Ｈ−ＮＭＲより、１．２〜３．０ｐｐｍ
に下記の式［化５］の各水素原子に由来する幅広い吸収
体が現われた。内部標準としてω−フルオロポリパーフ
ルオロオキセタン水素化物５．０モル％を添加し、下記
の式（Ａ）から重合度Ｐ（［化２］におけるｐの平均
値）を計算すると２．０となった。From 1 H-NMR, 1.2 to 3.0 ppm
A wide range of absorbers derived from each hydrogen atom of the following formula [Formula 5] has appeared. After adding 5.0 mol% of ω-fluoropolyperfluorooxetane hydride as an internal standard, the degree of polymerization P (average value of p in [Chemical Formula 2]) was calculated from the following formula (A) to be 2.0. Was.
【００５１】[0051]
【化５】 Embedded image
【００５２】 Ｉ／Ｉs ＝｛０．９５（３Ｐ＋１）｝／０．０５ …（Ａ） Ｉ：１．２〜３．０ｐｐｍの積分吸収強度 Ｉs ：内部標準物質の積分吸収強度 ｐ：重合度（［化２］におけるｐの平均値） 次いで、得られたシラン化合物を、テトラデカフルオロ
ヘキサンで希釈し、０．１重量％となした液を調製し
た。I / I s = {0.95 (3P + 1)} / 0.05 (A) I: integrated absorption intensity of 1.2 to 3.0 ppm I s : integrated absorption intensity of internal standard substance p: polymerization Degree (average value of p in [Chemical Formula 2]) Next, the obtained silane compound was diluted with tetradecafluorohexane to prepare a liquid having a concentration of 0.1% by weight.
【００５３】 反射防止層上へのシラン化合物からな
る摩擦制御層の形成 上記で作製した透明基板の反射防止層が設けられてい
ない面をマスクフィルムで覆った後、これをで調製し
た摩擦係数制御液中に浸漬し、１５ｃｍ／分の速さで引
き上げて塗布した。塗布後は室温条件下で一昼夜放置し
て溶剤を揮発させて摩擦係数制御層を反射防止層の表面
上に形成させ、マスクフィルムを取除いた。Formation of Friction Control Layer Made of Silane Compound on Antireflection Layer After covering the surface of the transparent substrate prepared above on which the antireflection layer is not provided with a mask film, controlling the friction coefficient prepared using the mask film It was immersed in the solution, pulled up at a speed of 15 cm / min, and applied. After the application, the solvent was volatilized at room temperature for 24 hours to evaporate the solvent to form a friction coefficient control layer on the surface of the antireflection layer, and the mask film was removed.
【００５４】このようにして得られたタッチパネル用上
部透明電極板について、ポリアセタール製のタッチパネ
ル用ペン（先端０．８ｍｍＲ）を用い、１７０ｇ荷重、
１ｃｍ／秒の条件で動摩擦係数を測定した。The upper transparent electrode plate for a touch panel thus obtained was subjected to a 170 g load using a polyacetal touch pen (0.8 mmR tip).
The dynamic friction coefficient was measured under the condition of 1 cm / sec.
【００５５】その結果、実施例１のタッチパネル用上部
透明電極板の動摩擦係数は、０．０４であった。また、
ペン先のすべりが良く、書き味は良好であった。As a result, the dynamic friction coefficient of the upper transparent electrode plate for a touch panel of Example 1 was 0.04. Also,
The pen tip slipped well and the writing taste was good.
【００５６】（比較例１）反射防止層上に摩擦係数制御
層を形成しない他は実施例１と全く同様にして、タッチ
パネル用上部透明電極板を作製した。Comparative Example 1 An upper transparent electrode plate for a touch panel was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that the friction coefficient control layer was not formed on the antireflection layer.
【００５７】このようにして得られたタッチパネル用上
部透明電極板について、実施例１と同様に動摩擦係数を
測定した。With respect to the upper transparent electrode plate for a touch panel thus obtained, the dynamic friction coefficient was measured in the same manner as in Example 1.
【００５８】その結果、比較例１のタッチパネル用上部
透明電極板の動摩擦係数は、０．１４であった。またペ
ン先のすべりが悪く、引っかかり感があって書き味が良
くなかった。As a result, the dynamic friction coefficient of the upper transparent electrode plate for a touch panel of Comparative Example 1 was 0.14. In addition, the pen tip slipped poorly and had a feeling of being caught, and the writing taste was not good.
【００５９】[0059]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、反射防止層の上面上に、パーフルオロアルキル基含
有有機化合物からなる摩擦係数制御層が形成されてい
る。そのため、表面反射が有効に防止されるとともに、
書き味の良好なタッチパネルが得られる。As described above, according to the present invention, the friction coefficient control layer made of a perfluoroalkyl group-containing organic compound is formed on the upper surface of the antireflection layer. Therefore, while surface reflection is effectively prevented,
A touch panel with good writing quality can be obtained.
【図１】本発明によるタッチパネル用上部透明電極板の
一例の構成を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of an example of an upper transparent electrode plate for a touch panel according to the present invention.
【図２】本発明によるタッチパネル用上部透明電極板の
他の例の構成を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of another example of an upper transparent electrode plate for a touch panel according to the present invention.
【図３】本発明によるタッチパネル付表示装置の一例を
示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing an example of a display device with a touch panel according to the present invention.
１，４ 透明基板 ２ ハードコート層 ３，５ 透明電極層 ６ スペーサ ７ 反射防止層 ８ 摩擦係数制御層 １０，１１ 上部透明電極板 ２０ 下部透明電極板 ３０ タッチパネル ４０ 表示装置 ５０ タッチパネル付表示装置 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 1,4 Transparent substrate 2 Hard coat layer 3,5 Transparent electrode layer 6 Spacer 7 Antireflection layer 8 Friction coefficient control layer 10,11 Upper transparent electrode plate 20 Lower transparent electrode plate 30 Touch panel 40 Display device 50 Display device with touch panel In the respective drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
Claims (6)
て、 透明基板と、 前記透明基板の下面上に形成された透明電極層と、 前記透明基板の上面上に設けられた反射防止層と、 前記反射防止層の上面上に形成されたパーフルオロアル
キル基含有有機化合物からなる摩擦係数制御層と、を備
えた、タッチパネル用上部透明電極板。An upper transparent electrode plate for a touch panel, comprising: a transparent substrate; a transparent electrode layer formed on a lower surface of the transparent substrate; an anti-reflection layer provided on an upper surface of the transparent substrate; An upper transparent electrode plate for a touch panel, comprising: a friction coefficient control layer made of a perfluoroalkyl group-containing organic compound formed on an upper surface of an antireflection layer.
０．０２〜０．１の範囲内となるように形成されている
ことを特徴とする、請求項１記載のタッチパネル用上部
透明電極板。2. The upper transparent electrode plate for a touch panel according to claim 1, wherein the friction coefficient control layer is formed so that a dynamic friction coefficient is in a range of 0.02 to 0.1. .
合物が、パーフルオロアルキル基含有有機シラン化合物
であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記
載のタッチパネル用上部透明電極板。3. The upper transparent electrode plate for a touch panel according to claim 1, wherein the perfluoroalkyl group-containing organic compound is a perfluoroalkyl group-containing organic silane compound.
され、 前記２以上の層のうち最上層は、酸化ケイ素層であるこ
とを特徴とする、請求項１〜請求項３のいずれかに記載
のタッチパネル用上部透明電極板。4. The antireflection layer according to claim 1, wherein the antireflection layer is composed of two or more layers, and the uppermost layer of the two or more layers is a silicon oxide layer. An upper transparent electrode plate for a touch panel according to any of the above items.
タッチパネル用上部透明電極板に加えて、タッチパネル
用下部透明電極板をさらに備え、 前記タッチパネル用下部透明電極板は、透明基板とその
上面上に形成された透明電極層とを含み、 前記上部透明電極板の透明電極層と前記下部透明電極板
の電極層とは、所定の間隔で互いに対面するように配置
されていることを特徴とする、タッチパネル。5. In addition to the upper transparent electrode plate for a touch panel according to claim 1, further comprising a lower transparent electrode plate for a touch panel, wherein the lower transparent electrode plate for a touch panel comprises a transparent substrate and A transparent electrode layer formed on the upper surface thereof, wherein the transparent electrode layer of the upper transparent electrode plate and the electrode layer of the lower transparent electrode plate are arranged so as to face each other at a predetermined interval. Features a touch panel.
上に配置されていることを特徴とする、タッチパネル付
表示装置。6. A display device with a touch panel, wherein the touch panel according to claim 5 is arranged on a display surface of the display device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19407198A JP2000029631A (en) | 1998-07-09 | 1998-07-09 | Upper transparent electrode plate for touch panel and device provided with the same |
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Publications (1)
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|---|---|
| JP2000029631A true JP2000029631A (en) | 2000-01-28 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19407198A Pending JP2000029631A (en) | 1998-07-09 | 1998-07-09 | Upper transparent electrode plate for touch panel and device provided with the same |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2000029631A (en) |
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- 1998-07-09 JP JP19407198A patent/JP2000029631A/en active Pending
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050526 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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