JP2000011364A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面性が良く走行性やヘッドタッチの良好な
薄手の塗布型磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 粒子を含有するフィラー面Ａと平均粒子
径が前記粒子の平均粒子径以上である粒子を含有するフ
ィラー面Ｂを持つ、厚さ２〜５．５μｍのポリエステル
系プラスチックフィルムの両面に、金属、半金属及び合
金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた金属材
料からなる強化膜が形成されている支持体の少なくとも
一面上に強磁性粉末を結合剤に分散させてなる磁性層を
形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特定の構造及び物
性を有する支持体を用いてなる薄手の塗布型磁気記録媒
体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の磁気記録は高密度記録化（同じ面
積により多くの情報を記録する）及び高容量化（同じ体
積により多くの情報を記録する）の方向にあり、高密度
記録化のためには高周波数特性の優れた磁気記録媒体が
要望されている。従来は磁性粉を適当なバインダーに分
散させて支持体上に塗布したいわゆる塗布型の磁気記録
媒体が主流であり、高密度記録に対する要求を満たすた
めに磁性粉末の微粒子化、高充填化、また磁性層表面を
平滑化する等種々の改善がなされている。

【０００３】一方、高容量化する方法として、磁気記録
媒体の支持体を薄膜化することが考えれられる。通常、
磁気記録媒体の支持体としては、ポリエチレンテレフタ
レート（以下、ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフ
タリンジカルボキシレート（以下、ＰＥＮ）等のポリエ
ステル系プラスチックをはじめとする非磁性支持体が用
いられ、その厚さは例えばＶＨＳ型のビデオテープでは
１６μｍ程度、８ｍｍビデオテープでは９μｍ程度であ
るが、高容量化（小型・長時間）を達成するために、よ
り一層支持体の薄膜化を進める必要がある。薄膜化され
たテープを用いる場合には、今までの厚いテープとの互
換性（媒体に対するヘッドの当たりや走行性など）を得
ることが望まれ、この観点から、支持体として剛性の高
いポリアミドフィルムが用いられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ポリア
ミドフィルムは現在市販されている量が従来のポリエス
テルフィルムと比べて格段に少なく、ポリアミドフィル
ムによる薄手の磁気記録媒体の量的拡大には制約が多
い。また、ＰＥＴやＰＥＮをそのまま用いると、剛性が
低いので、ヘッドタッチ（磁気ヘッドと媒体の接触状態
を言う）が悪くなり、走行不良や大幅な出力の低下を招
くなどの点から、媒体の薄膜化には限界があった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題点に鑑み、薄手の磁気記録媒体に適した支持体を得る
ために鋭意研究した結果、特定の構造を有するポリエス
テル系プラスチックフィルムを用い、更に該フィルムの
両面に金属系の強化膜を設けたものを支持体とすること
により、この支持体に塗布型磁性層を形成した場合に
は、ポリアミドフィルムを支持体に用いた場合と同等の
剛性を有し、且つ表面性が良好な塗布型の磁気記録媒体
が得られ、出力特性に優れることを見出し、本発明を完
成するに至った。

【０００６】すなわち本発明は、粒子を含有するフィラ
ー面Ａと平均粒子径が前記粒子の平均粒子径以上である
粒子を含有するフィラー面Ｂを持つ、厚さ２〜５．５μ
ｍのポリエステル系プラスチックフィルムの両面に、金
属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物か
ら選ばれた金属材料からなる強化膜が形成されている支
持体の少なくとも一面上に強磁性粉末を結合剤に分散さ
せてなる磁性層が形成されていることを特徴とする磁気
記録媒体を提供するものである。以下に本発明の磁気記
録媒体について説明する。

【０００７】

【発明の実施の形態】＜支持体＞本発明の磁気記録媒体
に用いられる支持体は、ポリエステル系プラスチックか
らなるフィルムと該フィルムの両面に設けられた金属系
の強化膜からなる。

【０００８】ここで、ポリエステルとしては、ＰＥＴ、
ＰＥＮ、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−
１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、
ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエートなどが挙げられ
る。特にＰＥＴ、ＰＥＮが好ましい。また、これらのポ
リエステルはホモポリエステルであってもコポリエステ
ルであってもよい。

【０００９】また、本発明の支持体に用いられるポリエ
ステル系フィルムは、厚さが２〜５．５μｍ、好ましく
は２．５〜５．５μｍ、更に好ましくは３．５〜５．５
μｍである。本発明の支持体は特定のフィラー面Ａとフ
ィラー面Ｂを有するポリエステル系フィルムに金属系の
強化膜を形成するものである。フィルムの曲げ剛性は、
フィルムのヤング率、フィルムの厚さにより算出可能で
あり、更にフィルムの両面に何らかの層を形成する場合
は、フィルムの曲げ剛性と形成する層の厚さとヤング率
並びにフィルムの厚さから得られるパラメーターとを加
味して算出される。このとき、最も外側に剛性の高い層
を形成すること、更にはフィルムの両側の最も外側に剛
性の高い層を形成することにより、高い曲げ剛性が得ら
れる。曲げ応力がフィルムに加わるとフィルムの一面側
は縮み他面側は伸びることになり、フィルムの伸び縮み
を阻止することが曲げ剛性の向上につながる。よって、
本発明の支持体としてフィルムの両面に硬い膜を形成さ
せる意味がある。一般に金属は酸化物の方が硬度が高く
なるので、強化膜の表面部を酸化することにより、本発
明の効果は更に向上する。更に、厚さ２〜５．５μｍの
薄いポリエステル系フィルムを用いる場合でも、フィル
ムの両側に剛性の高い金属系の強化膜を形成し、その
際、強化膜の厚さやヤング率を調節することにより、ポ
リアミドフィルムに匹敵する曲げ剛性の支持体を得るこ
とができる。本発明はこのような知見によるものである
が、ポリエステル系フィルムの厚さが５．５μｍを超え
ると、強化膜による曲げ剛性の向上効果は少なくなる。
これは、一般にフィルムの曲げ剛性は厚さの３乗に比例
することから、フィルムの厚さが増えるとフィルムの剛
性そのものが向上し、強化膜による剛性の向上率が相対
的に減少するからである。また、厚さが２μｍ未満のポ
リエステル系フィルムは、基本的にフィルム自体の曲げ
剛性が低すぎるため、強化膜による剛性の向上が加味さ
れても十分な剛性が発現するには至らない。本発明にお
ける強化膜による剛性の向上効果は厚さ３．５〜５．５
μｍのフィルムにおいて特に顕著である。

【００１０】また、前記の通り、本発明の支持体に用い
られるポリエステル系フィルムは、フィラー面Ａとフィ
ラー面Ｂとを有する。フィラー面とは、フィルムに内在
する粒子により表面突起が形成される面を言う。

【００１１】本発明に用いられるポリエステル系フィル
ムは、単層でも使用可能であるし、２層以上の積層フィ
ルムを用いてもよい。

【００１２】フィラー面に用いられる粒子は炭酸カルシ
ウム、シリカ、アルミナ、ポリスチレン等が例示される
がこれらに限定されない。この粒子の平均粒子径はフィ
ラー面Ａ側は好ましくは５０〜１０００ｎｍであり、よ
り好ましくは７０〜９００ｎｍである。フィラー面Ｂ側
は好ましくは５０〜２０００ｎｍであり、より好ましく
は９０〜１８００ｎｍである。フィラー面Ｂ側の粒子の
平均粒子径はフィラー面Ａ側の粒子の平均粒子径以上で
ある。粒子の添加量はＡ面側では好ましくはフィラー面
を構成するポリエステル層の０．０１〜１．０重量％、
より好ましくは０．０２〜０．８重量％であり、Ｂ面側
では好ましくは０．０５〜１．０重量％、より好ましく
は０．０８〜０．８重量％である。このような粒子を添
加することにより、フィラー面に強化膜が設けられた本
発明の支持体に適度な表面突起が形成されるため、塗布
工程での支持体の適度な易滑性が付与され、また最終製
品での易滑性や表面性が良好となる。

【００１３】上記平均粒子径は下記の方法により測定さ
れたものである。即ち、電顕試験台上に粒子粉体を、こ
の粒子ができるだけ重ならないように散在せしめ、電子
顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１０
０万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子の面積
円相当径を求め、この数平均値をもって平均粒子径とす
る。

【００１４】なお、この平均粒子径をフィルムから求め
る場合下記の手法等により求められる。フィルムフィラ
ー面をイオンエッチングしフィラー面の微粒子をフィル
ム表面から暴露し電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕
微鏡）により倍率１万倍程度で観測し、少なくとも１０
０個の粒子の面積円相当径を求め、この数平均値をもっ
て平均粒子径とする。

【００１５】ポリエステル系フィルムの幅方向（磁気テ
ープとしたときの長手方向に直交する方向）のヤング率
は８０００ＭＰａ以上が好ましく、更に好ましくは８０
００〜１１８００ＭＰａである。幅方向のヤング率が８
０００ＭＰａ未満であると、本ポリエステル系フィルム
から作成された支持体より作成された磁気記録媒体のビ
デオテープレコーダー、データーストリーマー装置内で
の記録、再生時、ヘッドの走行、テープ走行規制ガイド
との接触等によるテープエッジダメージが発生する場合
がある。

【００１６】本支持体に用いられるポリエステル系フィ
ルムの長手方向（磁気テープとしたときの長手方向）の
ヤング率は、６０００ＭＰａ以下が好ましく、更に好ま
しくは３９００〜５５００ＭＰａである。長手方向のヤ
ング率が６０００ＭＰａを越えると、本ポリエステル系
フィルムから作成された支持体の長手方向の剛性が高く
なることがあり、本支持体より作成した磁気記録媒体の
従来の磁気記録媒体との互換性がとれなくなる場合があ
るので、長手方向のヤング率は６０００ＭＰａ以下が好
ましい。

【００１７】上記ポリエステル系フィルムのヤング率
は、引張試験測定により得られる応力−ひずみ曲線にお
けるスタート点の立ち上がり勾配からＡＳＴＭ Ｄ−８
８２−６７に準じて測定され、単位はＭＰａで表す。こ
のときのサンプル幅、実効長さは１０ｍｍ、１００ｍｍ
とし、引張速度は１００ｍｍ／ｍｉｎとした。

【００１８】このようなフィラー面Ａとフィラー面Ｂと
を有するポリエステル系フィルムは、以下の方法で得る
ことができる。

【００１９】溶融、成形、２軸延伸、熱固定からなる通
常のプラスチックフィルム製造工程において、共押出し
技術の使用により、平均粒子径５０〜１０００ｎｍの粒
子を０．０１〜１．０重量％含有させたポリエステル原
料（Ａ）と、平均粒子径５０〜２０００ｎｍの粒子を
０．０５〜１．０重量％含有させたポリエステル原料
（Ｂ）を用いたＡ／Ｂ積層フィルムを押出し、縦方向に
９０〜１５０℃で２．５〜７．０倍延伸し、横方向に９
０〜１５０℃で３．０〜７．０倍延伸した後、１５０〜
２２０℃の温度で熱固定を行いつつ１．１倍以上、横に
延伸する。このようにして原料Ａ側表面にフィラー面
Ａ、原料Ｂ側表面にフィラー面Ｂを形成させることがで
きる。共押出しを行わず、単層のポリエステル系フィル
ムを用いても良いし、Ａ層、Ｂ層の間に更に層を設け、
３層以上の積層構造を有するポリエステル系フィルムを
用いても良い。

【００２０】本発明に用いるポリエステル系フィルムの
フィラーＡ面の表面粗さＲａ値は３〜３０ｎｍであるの
が好ましく、より好ましくは４〜２５ｎｍである。フィ
ラーＢ面の表面粗さＲａ値は３〜５０ｎｍであるのが好
ましく、より好ましくは４〜６０ｎｍである。フィラー
面Ａ、ＢのＲａ値はポリエステル層Ａ、Ｂ内の粒子種
類、添加量の調整により調整することができる。

【００２１】なお、この表面粗さＲａ値はＪＩＳ Ｂ
０６０１で規定する中心線平均粗さに相当する中心線平
均粗さであり、触針式表面粗さ計によりフィルムの長手
方向に測定することにより求める。触針半径は２〜５μ
ｍ、カットオフ値は０．２５ｍｍ、評価長さは５ｍｍ程
度とする。

【００２２】通常、本発明の支持体では、当該フィルム
のフィラー面Ａ側に磁性層が形成され、フィラー面Ｂ側
にはバックコート層が形成されることが好ましい。特に
後述するように、バックコート層を金属薄膜型のバック
コートとした場合においては、走行性、耐久性の点から
フィラー面Ｂ側にバックコート層を形成することが好ま
しい。

【００２３】また、フィルムの両面に形成される強化膜
は、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複
合物から選ばれた金属材料からなる。具体的には、Ａ
ｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎ
などの金属、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂなどの半金
属が挙げられる。これらの金属及び半金属の合金として
は、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−
Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓ
ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓ
ｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃ
ｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ等が挙げられ
る。また、これらの金属、半金属及び合金の酸化物は、
例えば蒸着時に酸素ガスを導入することで容易に得られ
る。また、これらの金属、半金属及び合金の複合物とし
ては、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｓｉ−Ｎ、Ｃｕ−Ａ
ｌ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ−Ｏなどが挙げられ
る。

【００２４】強化膜の形成方法は問わないが、真空蒸着
法が一般的であり、その他にもスパッタ法やイオンプレ
ーティング法などを用いることができる。

【００２５】強化膜の厚さは、２０〜５００ｎｍが好ま
しく、より好ましくは５０〜３００ｎｍである。また、
強化膜は単層でも多層でも何れでも良い。

【００２６】本発明では、特に、強化膜が、金属、半金
属及び合金から選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強
化膜中の酸素濃度の分布が該強化膜の表面近傍で大きい
ことが好ましく、更に、強化膜中の酸素濃度の分布が該
強化膜の表面近傍と該強化膜と前記フィルムの界面近傍
で大きいことが、フィルムの剛性の面で好ましい。この
ような酸素分布を有する強化膜は、成膜時又は成膜後、
表面を酸化性ガスで強制的に酸化処理することにより作
製することができる。また、強化膜中の酸素濃度分布の
測定は、オージェ電子分光分析の深さ方向の分析により
行うことができる。ただし、強化膜の最表面やフィルム
との界面付近は異物の混入などの影響により、オージェ
プロファイルの形状を正確に求めることは困難であり、
本発明においてこれらの部分の酸素濃度の変化は排除さ
れる。

【００２７】ここで、「酸素濃度が大きい」とは、相対
的にその他の部分よりも酸素濃度が大きいことであり、
特に濃度の変動が１０原子％以上ある場合を含む。

【００２８】本発明において、強化膜はポリエステル系
フィルムの両面に形成されるが、両面とも同一の金属材
料で形成することが生産性の面から望ましく、特に本発
明では両面の強化膜をＣｏとその酸化物から形成するこ
とが好ましい。

【００２９】本発明は上記特定の支持体を用いてなる塗
布型の磁気記録媒体に関するものである。特に微細突起
を有し表面性の良好なフィラー面Ａ上に形成された強化
膜の上に磁性層を塗布形成することにより、高い表面性
を有ししかもヘッドとの滑り係数が低い磁性層が得られ
る。また表面に突起を有するフィラー面Ｂ上に形成され
た強化膜側に塗布型又は金属薄膜型のバックコート層を
形成することにより、適度な易滑性を付与できる。媒体
をこのような構成とすることにより、媒体の剛性を適正
化し、ヘッドタッチが良好で走行性も良好となり、出力
特性やジッター特性等に優れた塗布型磁性層を有する磁
気記録媒体が得られる。

【００３０】＜磁性層＞次に、本発明の磁気記録媒体の
磁性層について説明する。該磁性層は、強磁性粉末、結
合剤及び溶剤を主成分とする磁性塗料を用いて塗布形成
される。

【００３１】上記強磁性粉末としては、例えばγ−Ｆｅ
₂Ｏ₃、ＦｅＯ_x （４／３≦ｘ＜３／２）、Ｃｏ被着γ−
Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ被着ＦｅＯ_x （４／３≦ｘ＜３／２）な
どの強磁性酸化鉄系粉末、鉄を主体とする強磁性金属粉
末及び強磁性六方晶系フェライト粉末などが挙げられる
が、高密度記録を達成するには、鉄を主体とする強磁性
金属粉末、強磁性六方晶フェライト粉末が好ましい。

【００３２】上記強磁性金属粉末としては、金属分が５
０重量％以上であり、該金属分の６０％以上が鉄である
強磁性金属粉末が挙げられる。該強磁性金属粉末の具体
例としては、例えば、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−
Ａｌ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎ
ｉ−Ａｌ−Ｚｎ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉなどが挙げられる。
鉄を主体とする強磁性金属粉末では、その形状は針状又
は紡錘状であることが好ましい。そしてその長軸長は、
好ましくは０．０５〜０．２５μｍ、更に好ましくは
０．０５〜０．２μｍである。また、好ましい針状比は
３〜２０、好ましいＸ線粒径は１３〜２５ｎｍであり、
好ましいＢＥＴ比表面積は３０〜８０ｍ²／ｇである。

【００３３】また、上記強磁性六方晶系フェライト粉末
としては、微小平板状のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト並びにそれらのＦｅ原子の一部がＴ
ｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｖなどの原子で置換された強磁
性粉末などが挙げられる。該強磁性六方晶系フェライト
粉末は、好ましい板径が０．０２〜０．０９μｍであ
り、好ましい板状比が２〜７であり、好ましいＢＥＴ比
表面積は３０〜７０ｍ²／ｇである。

【００３４】上記強磁性粉末の保磁力は１２０〜２４０
ｋＡ／ｍ（１５０８〜３０１５Ｏｅ）であることが好ま
しく、特に１３０〜２００ｋＡ／ｍ（１６３４〜２５１
３Ｏｅ）が好ましい。上記範囲内であれば全波長領域で
のＲＦ出力が過不足なく得られ、しかもオーバーライト
特性も良好となる。

【００３５】また、上記強磁性金属粉末の飽和磁化は１
００〜１８０Ａｍ² ／ｋｇ（１００〜１８０ｅｍｕ／
ｇ）であることが好ましく、特に１１０〜１６０Ａｍ²
／ｋｇ（１１０〜１６０ｅｍｕ／ｇ）であることが好ま
しい。一方、上記強磁性六方晶系フェライト粉末の飽和
磁化は３０〜７０Ａｍ² ／ｋｇ（３０〜７０ｅｍｕ／
ｇ）であることが好ましく、特に４５〜７０Ａｍ² ／ｋ
ｇ（４５〜７０ｅｍｕ／ｇ）であることが好ましい。上
記範囲内であれば十分な再生出力が得られる。

【００３６】また、上記強磁性粉末には、必要に応じて
希土類元素や遷移金属元素を含有させることができる。
具体的には、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、
Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、
Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇ
ｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｂ、Ｐが挙げられ
る。

【００３７】なお、本発明においては上記強磁性粉末の
分散性などを向上させるために、該強磁性粉末に表面処
理を施しても良い。上記表面処理は「Characterization
ofPowder Surfaces 」（T.J.Wiseman ら著，Academic
Press，1976）に記載されている方法などと同様の方法
により行うことができ、例えば上記強磁性粉末の表面を
無機質酸化物で被覆する方法が挙げられている。この際
用いることができる無機質酸化物としては、Ａｌ
₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓ
ｂ₂Ｏ₃ 、ＺｎＯなどが挙げられ、使用に際してはこれ
らを単独で用いても二種以上を混合して用いてもよい。
なお、上記表面処理は上記の方法以外にシランカップリ
ング処理、チタンカップリング処理及びアルミニウムカ
ップリング処理などの有機処理によっても行うことがで
きる。

【００３８】上記磁性層に含まれる上記結合剤は、磁気
記録媒体に用いられる公知のものなら特に制限なく用い
ることができる。例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及
び反応型樹脂ならびにこれらの混合物等が挙げられる。

【００３９】具体的には、塩化ビニルの共重合体及びそ
の変成物、アクリル酸、メタクリル酸及びそのエステル
の共重合物、アクリロニトリルの共重合体（ゴム系の樹
脂）、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ
樹脂、繊維素系樹脂、ポリアミド樹脂等を用いることが
できる。

【００４０】上記結合剤の数平均分子量は２，０００〜
２００，０００であることが好ましい。

【００４１】分散性を向上させるため、上記結合剤に、
水酸基、カルボキシル基又はその塩、スルホン酸基又は
その塩、リン酸基又はその塩、ニトロ基又は硝酸エステ
ル基、アセチル基、硫酸エステル基又はその塩、エポキ
シ基、ニトリル基、カルボニル基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アルキルアンモニウム塩基、スルホベタイ
ン、カルボベタイン等のベタイン構造等の分極性の官能
基（いわゆる、極性基）を含有させてもよい。

【００４２】上記磁性層の形成に用いられる磁性塗料に
含有される溶剤としては、ケトン系の溶剤、エステル系
の溶剤、エーテル系の溶剤、芳香族炭化水素系の溶剤及
び塩素化炭化水素系の溶剤などが挙げられ、具体的には
特開昭５７−１６２１２８号公報の第３頁右下欄１７行
〜第４頁左下欄１０行などの記載されている溶剤を用い
ることができる。上記溶剤の使用量は、上記強磁性粉末
１００重量部に対して８０〜５００重量部とすることが
好ましく、１００〜３５０重量部とすることがさらに好
ましい。

【００４３】また、上記磁性層の形成に用いられる磁性
塗料には、分散剤、潤滑剤、研磨材、帯電防止剤、防錆
剤、防黴剤などの通常の磁気記録媒体に用いられる添加
剤を必要に応じて添加することができる。上記添加剤と
して具体的には、特開昭５７−１６２１２８号公報の第
２頁左下欄６行〜第２頁右下欄１０行及び第３頁左下欄
６行〜第３頁右上欄１８行などに記載されている種々の
添加剤を挙げることができる。

【００４４】上記磁性層の厚みは０．０３〜３μｍであ
ることが好ましく、０．０５〜２μｍであることが更に
好ましく、０．０５〜１μｍであることが特に好まし
い。磁性層の厚みが当該範囲内であると高記録密度化が
容易となり、しかも高密度化の設計も容易となる。

【００４５】＜中間層＞また、必要に応じて、磁性層と
支持体との間に無機粉末及び／又は有機粉末を結合剤に
分散させて形成される中間層を設けることができる。該
中間層は磁性を有する層であっても、非磁性の層であっ
てもよい。上記中間層が磁性を有する層である場合に
は、該中間層は磁性粉末を含有する磁性の層（以下、磁
性中間層という）であり、磁性粉末、結合剤及び溶剤を
主成分とする磁性塗料を用いて形成される。一方、上記
中間層が非磁性の層である場合には、該中間層は非磁性
粉末を含有する層（以下、非磁性中間層という）であ
り、非磁性粉末、結合剤及び溶剤を主成分とする非磁性
塗料を用いて形成される。

【００４６】上記磁性中間層の形成に用いられる磁性塗
料に含有される磁性体粉末としては強磁性粉末が好まし
く用いられる。上記強磁性粉末としては酸化鉄系磁性粉
末、鉄を主体とする強磁性金属粉末、強磁性六方晶系フ
ェライト粉末などが挙げられる。上記強磁性粉末として
は、上記磁性層の形成に用いられる磁性塗料に含有され
る酸化鉄系磁性粉末、強磁性金属粉末、強磁性六方晶フ
ェライト粉末と同様のものが用いられる。該強磁性粉末
の保磁力、飽和磁化、形状、ＢＥＴ比表面積などの物性
も、上記磁性層の形成に用いられる強磁性金属粉末及び
強磁性六方晶フェライト粉末の物性と同様である。

【００４７】また、磁性中間層の形成に用いられる磁性
塗料に含有される磁性粉末には必要に応じて希土類元素
や遷移金属元素を含有させることができる。また、上記
磁性層の強磁性金属粉末と同様の表面処理を該磁性粉末
に施しても良い。

【００４８】磁性中間層の形成に用いられる磁性塗料に
含有される溶剤としても、上記磁性層の形成に用いられ
る磁性塗料に含有される溶剤と同様のものが用いられ
る。上記溶剤の使用量は上記磁性粉末１００重量部に対
して８０〜５００重量部とすることが好ましく、特に１
００〜３５０重量部とすることが好ましい。

【００４９】また、上記磁性中間層の形成に用いられる
磁性塗料には必要に応じて、上記磁性層の形成に用いら
れる磁性塗料に添加される添加剤を添加することができ
る。また、上記磁性中間層の形成に用いられる磁性塗料
には、後述する非磁性中間層の形成に用いられる非磁性
塗料に含有される非磁性粉末を添加することもできる。

【００５０】次に非磁性中間層について説明する。非磁
性中間層の形成に用いられる非磁性塗料に含有される非
磁性粉末としては、例えば、カーボンブラック、グラフ
ァイト、酸化チタン、硫酸バリウム、硫化亜鉛、炭酸マ
グネシウム、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化カルシウ
ム、酸化マグネシウム、二酸化マグネシウム、二硫化タ
ングステン、二硫化モリブデン、窒化ホウ素、二酸化
錫、二酸化珪素、非磁性の酸化クロム、アルミナ、炭化
珪素、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、
非磁性の酸化鉄、ザクロ石、ケイ石、窒化珪素、炭化モ
リブデン、炭化ホウ素、炭化タングステン、炭化チタ
ン、ケイソウ土、ドロマイト、樹脂性の粉末などが挙げ
られる。これらの中でも非磁性の酸化鉄、酸化チタン、
カーボンブラック、アルミナ、酸化珪素、窒化ホウ素な
どが好ましく用いられる。これら非磁性粉末は単独で用
いても、二種以上を混合して用いてもよい。

【００５１】上記非磁性粉末の形状は、球状、板状、針
状、無定形のいずれでもよく、また、その大きさは球
状、板状、無定形のものにおいては５〜２００ｎｍであ
ることが好ましく、また、針状のものは長軸長が２０〜
２００ｎｍで針状比が３〜２０であることが好ましい。

【００５２】尚、本発明においては上記非磁性粉末の分
散性などを向上させるために、該非磁性粉末に上記磁性
層の形成に用いられる磁性塗料に含有される強磁性粉末
と同様の表面処理を施すことができる。

【００５３】上記非磁性中間層の形成に用いられる非磁
性塗料に含有される溶剤としては、上記磁性層の形成に
用いられる磁性塗料に含有される溶剤と同様のものが用
いられる。上記溶剤の使用量は上記非磁性粉末１００重
量部に対して８０〜５００重量部とすることが好まし
く、特に１００〜３５０重量部とすることが好ましい。
また、上記非磁性中間層の形成に用いられる非磁性塗料
には必要に応じて上記磁性層の形成に用いられる磁性塗
料に添加される添加剤を添加することができる。

【００５４】上記中間層（磁性、非磁性）の厚みは０．
２〜３μｍであることが好ましく、特に０．５〜２μｍ
であることが好ましい。該中間層の厚みが当該範囲であ
れば磁気記録媒体にしわやたわみが発生しにくく、かつ
高記録容量が容易となる。

【００５５】＜バックコート層＞更に、本発明において
は、支持体上にバックコート層を形成することができ
る。バックコート層は、カーボンブラックやバインダー
を主成分とする厚さ０．２〜１．０μｍ程度の塗布型の
バックコート層でもよいし、蒸着法、直流スパッタ法、
交流スパッタ法、高周波スパッタ法、直流マグネトロン
スパッタ法、高周波マグネトロンスパッタ法、イオンビ
ームスパッタ法などの乾式メッキ手段により、真空中で
金属又は半金属を支持体に付着させて形成された金属薄
膜型のバックコート層でもよい。

【００５６】前者の塗布型のバックコート層は従来の方
法に従い、バックコート塗料から形成することができ
る。該バックコート塗料としては上記磁性層の形成に使
用される磁性塗料と同様の結合剤、硬化剤、無機粉等を
適量配合したものが使用される。該バックコート層の厚
みは０．０５〜１．０μｍが好ましく、特に０．１〜
０．８μｍであることが走行耐久性と高記録容量に両立
の点から好ましい。

【００５７】後者の金属薄膜型のバックコート層の場
合、バックコート層として付着する金属としては、いろ
いろ考えられるが、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａ
ｇ、Ｃｏなど及びこれらの合金が用いられ、Ａｌ、Ｃｏ
やＣｕ−Ａｌ合金が好適である。また、バックコート層
を形成する半金属としては、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、
Ｓｂなどが用いられ、Ｓｉが好適である。更に蒸着時に
前記金属又は半金属に酸化反応、炭化反応等をさせた酸
化膜、炭化膜などのようにセラミックス化したものも好
適である。また、更に添加物をドープし、導電率を向上
させることは好ましい。金属薄膜型のバックコート層の
厚さは、０．０５〜１．０μｍ程度である。かかるバッ
クコート層は、本発明に用いられる支持体の強化膜自体
からなるか又は本発明に用いられる支持体の強化膜上に
形成された少なくとも１層の金属薄膜からなることが好
ましい。特に支持体の強化膜をバックコート層とするこ
とが好ましい。

【００５８】また、必要に応じて、金属薄膜型のバック
コート層上に厚さが１〜５０ｎｍの保護層を設けること
もできる。保護層を構成する材料として、Ａｌ等の金属
の酸化物、窒化物、あるいは炭化物などの他、ＳｉＣ
等、及びそれを含む化合物などが考えられる。また、特
に、炭素膜、中でもダイヤモンドライクカーボンが好ま
しい。ダイヤモンドライクカーボンよりなる保護層はフ
ィジカルベーパーデポジション（ＰＶＤ）法又はケミカ
ルベーパーデポジション（ＣＶＤ）法により形成され
る。特に、ＥＣＲプラズマＣＶＤ装置により形成され
る。即ち、真空槽内に配設された支持体上の磁性層に対
してＥＣＲプラズマＣＶＤ装置を作動させ、磁性層に炭
化水素系ガスのプラズマを吹き付ける。これにより、磁
性層表面に保護層（ダイヤモンドライクカーボン層）が
形成される。

【００５９】更に、必要に応じては、該保護層上に適当
な潤滑剤からなる潤滑剤層を形成することが走行性の面
から好ましい。特にパーフルオロポリエーテル等のフッ
素系の潤滑剤が好ましく、潤滑剤層の厚さは０．５〜１
０ｎｍ程度である。潤滑剤としては、例えば-[C(R)F-CF
₂-O]_p-(但し、R はF,CF₃, CH₃などの基) 、特にHOOC-CF
₂(OC₂F₄)_p(OCF₂)_q-OCF₂COOH ，F-(CF₂CF₂CF₂O)_n-CF₂CF₂
COOH 等のカルボキシル基変性パーフルオロポリエーテ
ル、HOCH₂-CF₂(OC₂F₄)_p(OCF₂)_q-OCF₂-CH₂OH,HO-(C₂H₄O)
_m-CH₂-(OC₂F₄)_p(OCF₂)_q-OCH₂-(OCH₂CH₂)_n-OH, F-(CF₂CF
₂CF₂O)_n-CF₂CF₂CH₂OH 等のアルコール変性パーフルオロ
ポリエーテルが挙げられる。分子量は５００〜５０００
０のものが好ましい。具体的には、モンテカチーニ社の
商品名「ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ」や「ＦＯＭＢ
ＬＩＮ Ｚ ＤＯＬ」、ダイキン工業社の商品名「デム
ナムＳＡ」等がある。特に耐久性の面ではフッ素系アル
キル基とアルキル基の両方を持つ潤滑剤の使用が好まし
い。また、これらの潤滑剤を混合して使用することも好
ましい。

【００６０】本発明の磁気記録媒体は、上記実施形態に
制限されず、上述した実施形態及びその他の変更形態も
可能である。例えば、本発明の磁気記録媒体の層構造
は、磁性層と一層の中間層との重層構造に限られず、磁
性層と非磁性支持体との間に非磁性中間層及び磁性中間
層を適宜組み合わせた二層以上の中間層が形成されてい
てもよい。また、本発明の磁気記録媒体には、支持体、
中間層、磁性層及びバックコート層以外に、更に、支持
体と中間層又はバックコート層との間にプライマー層を
設けたり、長波長信号を使用するハードシステムに対応
してサーボ信号等を記録するための他の磁性層及びその
他の層を設けてもよい。

【００６１】但し、上記塗布型又は金属薄膜型のバック
コート層、上記磁性層及び必要に応じて設けられる中間
層の厚みの合計は、上記支持体の厚みの７０％以下であ
ることが好ましい。これらの層の厚みの合計が当該範囲
であると、後述する実施例から明らかなように、薄く且
つ幅方向に比較的高い範囲のヤング率を有する上記支持
体を使用した磁気テープを、ロールへ巻き取る場合に、
たわみやしわの発生が抑制される。上記範囲は６０％以
下、特に４０％以下であることが好ましい。なお、これ
らの層の厚みの合計の下限については別段制限はない
が、実用的な範囲としては支持体の厚みの１０％程度で
ある。

【００６２】更に、本発明の磁気記録媒体の全厚は、
３．５〜９μｍが好ましく、４〜８．５μｍが更に好ま
しい。この厚みの範囲において、支持体、塗布磁性層及
びバックコート層のバランスがとれ、カッピング等の発
生もなく、表面性が良くヘッドタッチの良好な薄手の塗
布型の磁気記録媒体が提供できる。

【００６３】また、本発明の磁気記録媒体は、８ｍｍビ
デオテープやＤＡＴテープ、ＤＤＳテープ、ＤＶＣテー
プ、ＤＬＴテープ等の磁気テープとして適用することも
できるが、今後開発される薄手の磁気記録媒体としても
好適である。

【００６４】

【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。

【００６５】実施例１ （１）支持体の製造 下記の方法で、フィラー面Ａとフィラー面Ｂを有する厚
さ４．９μｍのＰＥＴフィルムを得た。

【００６６】実質的に不活性粒子を含有しないＰＥＴに
平均粒子径９０ｎｍのシリカを０．１５重量％含有させ
た原料Ａと、実質的に不活性粒子を含有しないＰＥＴに
平均粒子径３００ｎｍの炭酸カルシウムを０．２０重量
％含有させた原料Ｂとを厚み比５：１の割合で共押出し
し、ロール延伸法で１１０℃で３．０倍に縦延伸した。

【００６７】その後、ステンターにて横方向に１０５℃
で３．３倍に延伸し、更に２１５℃で１．５６倍に横延
伸しながら熱処理し、中間スプールに巻き、スリッター
で小幅にスリットし、円筒コアーにロール状に巻取り、
フィラー面Ａ（原料Ａよりなる面）とフィラー面Ｂ（原
料Ｂよりなる面）を有する厚さ４．９μｍのロール状ポ
リエステルフィルムを得た。

【００６８】本ポリエステルフィルムはフィラー面Ａの
Ｒａ値は５ｎｍであった。フィラー面ＢのＲａ値は２０
ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４２００
ＭＰａ／９０００ＭＰａであった。

【００６９】次いで、このＰＥＴフィルムの両面に、図
１の装置を用いて、それぞれ厚さ１２０ｎｍのＣｏ強化
膜を成膜し、強化膜が形成された支持体を製造した。こ
の時の蒸着条件は、最大入射角６０°、フィルム走行速
度１．５ｍ／分、電子銃パワー１６ｋＷ、ノズル１４ａ
からの酸素ガス流量１０ＳＣＣＭ、ノズル１４ｃからの
酸素ガス流量６０ＳＣＣＭであった。なお、図１は真空
蒸着装置の概略図であり、図１において、１は支持体、
１０は冷却キャンロール、１１はルツボ、１２はＣｏ、
１３は防着板、１４ａ、１４ｂ、１４ｃは酸素ガスノズ
ル、１５は電子銃、１６は真空チャンバである。本例で
は酸素ガスノズル１４ｂは使用しなかった。

【００７０】得られた支持体のフィラー面Ａ側の強化膜
の元素分布をオージェ電子分光法により分析した結果を
図３に示す。ここで、オージェ電子分光法は、電子銃条
件として電子銃加速電圧１０ｋＶ、エミッション電流１
０ｎＡ、倍率２０００倍であり、エッチング条件とし
て、エッチングガスがアルゴンガスで、加速電圧３ｋ
Ｖ、イオン電流３００ｎＡであり、この条件下で２５秒
間毎にエッチングして行った（以下同じ）。図３から、
この支持体のフィラー面Ａ側の強化膜は、その表面近傍
と、強化膜とＰＥＴフィルムの界面近傍で酸素濃度が高
いことがわかる。

【００７１】（２）磁気テープの製造 上記で得られた支持体フィルムのフィラー面Ａ側の強化
膜上に、下記配合の磁性塗料（ア）を最終厚みが０．９
μｍとなるようにライン速度１００ｍ／分にて塗工し、
塗膜が未乾燥のうちに６４０ｋＡ／ｍ（８ｋＯｅ）の磁
場強度のソレノイドを通過させた後、乾燥させた。イン
ラインカレンダーにて、ロール温度：９５℃、線圧：
３．５ｋＮ／ｃｍのカレンダー条件下でカレンダー処理
を施し、次いで、乾燥厚みが０．５μｍとなるよう下記
配合のバックコート塗料（イ）を支持体フィルムのフィ
ラー面側の強化膜上に塗布した後、乾燥して巻き取っ
た。この後、５０℃にて１２時間エージング処理し、８
ｍｍ巾にスリットした後、表面をバーニッシュ処理して
不織布でクリーニングを行い、磁気テープを得た。この
磁気テープを８ｍｍ用カセットに装填し、評価用のカセ
ットとした。尚、上記磁気テープにおける磁性層の磁気
特性を振動式磁力計（印加磁場８００ｋＡ／ｍ（１０ｋ
Ｏｅ））で測定したところ、保磁力は１５８ｋＡ／ｍ
（１９８５Ｏｅ）、飽和磁束密度は０．３７Ｔ（３７０
０ガウス）、角型比は０．８９であった。

【００７２】 ＜磁性塗料アの配合＞ ・鉄を主体とする針状強磁性金属粉末 １００重量部 〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(重量比)〕 〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１９２２Ｏｅ） 、飽和磁化：１４６Ａｍ² ／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ ｍ² ／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕 ・アルミナ（研磨材、平均粒子径：０．１８μｍ） ８重量部 ・カーボンブラック ０．５重量部 （帯電防止剤、平均一次粒子径：０．０１８μｍ） ・塩化ビニル共重合体（結合剤） １０重量部 （平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１重量％、スルホン酸基含有量 ：８×１０^-5当量／ｇ） ・ポリウレタン樹脂（結合剤） ７重量部 （数平均分子量：２５０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０^-4当量／ｇ、 ガラス転移点：４５℃） ・パルミチン酸（潤滑剤） １．５重量部 ・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ２．５重量部 ・ポリイソシアネート（硬化剤） ５重量部 〔日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名）〕 ・メチルエチルケトン １２０重量部 ・トルエン ８０重量部 ・シクロヘキサノン ４０重量部 ＜バックコート塗料イの配合＞ ・カーボンブラック ４０重量部 （帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ） ・ニッポラン２３０１（結合剤） ５０重量部 〔商品名、日本ポリウレタン工業（株）のポリウレタン〕 ・ポリイソシアネート（硬化剤） ４重量部 〔武田薬品工業（株）製、商品名（Ｄ−２５０Ｎ）〕 ・ニトロセルロース ２０重量部 ・ステアリン酸 １重量部 ・メチルエチルケトン １４０重量部 ・トルエン １４０重量部 ・シクロヘキサノン １４０重量部 （３）性能評価 上記で得られた８ｍｍビデオカセットについて、出力、
走行性（ジッタ）及びヘッドタッチの指標としてエンベ
ロープを以下の方法で評価した。走行性は走行に伴う電
磁変換特性の変化を表すジッタを指標とした。その結果
を表１に示す。

【００７３】・出力 ８ｍｍＶＴＲを改造したデッキを用いて、表１の周波数
での出力を測定し、本比較例１を基準（０ｄＢ）とする
相対評価とした。

【００７４】・ジッタ ジッタは、市販の８ｍｍＶＴＲを改造し、これにジッタ
メーターを接続して測定した。

【００７５】・エンベロープ エンベロープは、アドバンテスト社のＴＲ４１７１型ス
ペクトラアナライザを用い、ＲＢＷ＝１０ｋＨｚ、ＶＢ
Ｗ＝３０ｋＨｚ、周波数スパン＝０ＭＨｚ、スイープタ
イム＝４０ｍｓ、アベレージ＝１６回の条件で得られた
出力波形（エンベロープ）をオシロスコープで測定し、
図２に示すように、出力波形の最大値Ｂと最小値Ａから
欠け量として下記のように算出した。欠け量（dB）＝２
０ｌｏｇ（Ａ／Ｂ）欠け量の小さいもの程ヘッドタッチ
が良好である。

【００７６】実施例２ 実施例１において、フィラー面ＡのＲａ値が４ｎｍであ
る以外は、同様の厚さ４．９μｍ、ヤング率は長手方向
／幅方向で４２００ＭＰａ／９０００ＭＰａのＰＥＴフ
ィルムを用いて実施例１と同様に８ｍｍビデオカセット
を製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果
を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ａに含ま
れる平均粒子径９０ｎｍのシリカの含有量を０．１０重
量％とした以外は実施例１と同様にして製造されたもの
である。

【００７７】実施例３ 実施例１において、フィラー面ＢのＲａ値が４０ｎｍで
ある以外は、同様の厚さ４．９μｍ、ヤング率は長手方
向／幅方向で４２００ＭＰａ／９０００ＭＰａのＰＥＴ
フィルムを用いて実施例１と同様に８ｍｍビデオカセッ
トを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結
果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＴフィルム
は、実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ｂに
含まれる炭酸カルシウムの含有量を０．６０重量％とし
た以外は実施例１と同様にして製造されたものである。

【００７８】実施例４ 実施例１において、ＰＥＴフィルムに代えて厚さ４．２
μｍのＰＥＮフィルムを用いた以外は実施例１と同様に
して８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の性
能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、ここで
用いたＰＥＮフィルムは、フィラー面ＡのＲａ値は４ｎ
ｍであった。フィラー面ＢのＲａ値は１７ｎｍであっ
た。ヤング率は長手方向／幅方向で５５００ＭＰａ／１
１０００ＭＰａであった。また、このＰＥＮフィルムは
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料をＰＥＴ
からＰＥＮと変更し、縦延伸温度、倍率を１３５℃で
５．０倍とし、横延伸温度、倍率を１３５℃、６．０倍
とし、更に１６０℃で１．２倍に横に延伸し、２００℃
で熱処理と変更した以外は実施例１と同様にして製造さ
れたものである。

【００７９】実施例５ 実施例１において、蒸着装置の酸素ガスノズル１４ａか
らの酸素ガスの導入をせずに両面の強化膜を形成し、そ
の他は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオカセットを
製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を
表１に示す。なお、得られた支持体のフィラー面Ａ側の
強化膜の元素分布をオージェ電子分光法により分析した
結果を図４に示す。図４から、この支持体のフィラー面
Ａ側の強化膜は、その表面近傍で酸素濃度が高いことが
わかる。

【００８０】実施例６ 実施例１において、支持体に強化膜を形成する際に全く
酸素ガスを導入をせず、その他は実施例１と同様にし
て、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の性
能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、得られ
た支持体のフィラー面Ａ側の強化膜の元素分布をオージ
ェ電子分光法により分析した結果を図５に示す。図５か
ら、この支持体のフィラー面Ａ側の強化膜は、酸素濃度
がほぼ一定であることがわかる（表面近傍がわずかに酸
素濃度が高いのは自然酸化によるものである）。

【００８１】実施例７ (1) 支持体の製造 実施例１の製造法において、共押出しフィルムの厚さを
０．８倍、押出し速度を１．２倍とし、他は同様にし
て、フィラー面Ａとフィラー面Ｂを有する厚さ３．５μ
ｍのＰＥＴフィルムを得た。本ポリエステルフィルムの
フィラー面ＡのＲａ値は５ｎｍであった。フィラー面Ｂ
のＲａ値は２０ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅
方向で４３００ＭＰａ／９２００ＭＰａであった。

【００８２】次いで、このＰＥＴフィルムの両面に、図
１の装置を用いて、フィラー面Ａに厚さ１００ｎｍのＳ
ｉＯ_x 強化膜を成膜し、フィラー面Ｂに厚さ１５０ｎｍ
のＳｉＯ_x 強化膜を成膜し、強化膜が形成された支持体
を製造した。この時の蒸着条件は、最大入射角４０°、
電子銃パワー１８ｋＷ、ノズル１４ａからの酸素ガス流
量２０ＳＣＣＭ、ノズル１４ｃからの酸素ガス流量３０
ＳＣＣＭであり、フィルム走行速度はフィラー面Ａで３
ｍ／分、フィラー面Ｂで４．５ｍ／分であった。

【００８３】（２）磁気テープの製造および性能評価 上記で得られた支持体フィルムを再度図１の装置にセッ
トし、支持体のフィラー面Ａ側のＳｉＯ_x 強化膜上に実
施例１と同様に磁性層を形成した。その他も実施例１と
同様にして８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同
様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。

【００８４】実施例８ 実施例７において、ＳｉＯ_x 強化膜の形成の際に蒸着装
置の酸素ガスノズル１４ｂのみから酸素ガスを導入（流
量５０ＳＣＣＭ）して両面の強化膜を形成し、その他は
実施例７と同様にして、８ｍｍビデオカセットを製造
し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１
に示す。なお、得られた支持体のフィラー面Ａ側の強化
膜の元素分布をオージェ電子分光法により分析した結果
を図６に示す。図６に示されるように、この支持体のフ
ィラー面Ａ側の強化膜中の酸素濃度は、その表面近傍は
自然酸化によりやや高くなり、深さ方向に向かうにつれ
て一旦酸素濃度が減少するが徐々に増加し、再度ゆるや
かに減少している。

【００８５】実施例９ 実施例７において、支持体のフィラー面Ａに形成するＳ
ｉＯ_x 強化膜をＮｉ−Ｏ強化膜に代えた以外は実施例７
と同様にして、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例
１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。な
お、Ｎｉ−Ｏ強化膜を形成する際の蒸着条件は、最大入
射角５０°、電子銃パワー１２ｋＷ、フィルム走行速度
１．２ｍ／分、ノズル１４ａからの酸素ガス流量２０Ｓ
ＣＣＭ、ノズル１４ｃからの酸素ガス流量４０ＳＣＣＭ
であった。

【００８６】実施例１０ 実施例７において、ＰＥＴフィルムに代えて厚さ２．５
μｍのＰＥＮフィルムを用いた以外は実施例７と同様に
して８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例７同様の性
能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、ここで
用いたＰＥＮフィルムは、フィラー面ＡのＲａ値は４ｎ
ｍであった。フィラー面ＢのＲａ値は１７ｎｍであっ
た。ヤング率は長手方向／幅方向で６０００ＭＰａ／１
１０００ＭＰａであった。また、このＰＥＮフィルムは
実施例４のＰＥＮフィルム製造において、共押出しフィ
ルムの厚さを０．７倍、押出し速度を１．２倍とし、他
は同様にして得た。

【００８７】実施例１１ 実施例７において、厚さ５．５μｍのＰＥＴフィルムを
用いた以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオカセッ
トを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結
果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＴフィルム
は、フィラー面ＡのＲａ値は５ｎｍであった。フィラー
面ＢのＲａ値は１８ｎｍであった。ヤング率は長手方向
／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａであった。
また、ここで用いられたＰＥＴフィルムは実施例１のＰ
ＥＴフィルム製造において、共押出しフィルムの厚さを
１．２倍とし、他は同様にして得た。

【００８８】実施例１２ 実施例９において、フィラー面Ａ側のＮｉ−Ｏ強化膜と
フィラー面Ｂ側のＳｉＯ_x 強化膜の厚さをそれぞれ２倍
にした（フィルム走行速度を半分にした）以外は実施例
１と同様にして、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施
例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。

【００８９】実施例１３ 実施例９において、フィラー面Ａ側のＮｉ−Ｏ強化膜と
フィラー面Ｂ側のＳｉＯ_x 強化膜の厚さをそれぞれ半分
にした（フィルム走行速度を２倍にした）以外は実施例
１と同様にして、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施
例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。

【００９０】実施例１４ 図１の装置を用いて、実施例１で得られたポリエステル
フィルムのフィラー面Ａに厚さ１８０ｎｍのＣｏ強化膜
を成膜し、一方フィラー面Ｂには厚さ１８０ｎｍのＣｏ
強化膜を成膜した。その後実施例１と同様に８ｍｍビデ
オカセットを製造し、実施例１同様の性能評価を行っ
た。その結果を表１に示す。

【００９１】実施例１５ 実施例１のＰＥＴフィルム製造において、２１５℃での
横延伸倍率を１．２４倍と変更した以外は実施例１と同
様にして得た厚さ４．９μｍのＰＥＴフィルムを用い、
８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の性能評
価を行った。その結果を表１に示す。なお、ここで用い
たＰＥＴフィルムは、フィラー面ＡのＲａ値が５ｎｍで
あった。フィラー面ＢのＲａ値は２５ｎｍであった。ヤ
ング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／７５００
ＭＰａであった。

【００９２】実施例１６ 実施例４のＰＥＮフィルム製造において、縦延伸倍率を
５．８倍と変更した以外は実施例４と同様にして厚さ
４．２μｍのＰＥＮフィルムを用い、８ｍｍビデオカセ
ットを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その
結果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＮフィルム
は、フィラー面ＡのＲａ値が４ｎｍであった。フィラー
面ＢのＲａ値は１６ｎｍであった。ヤング率は長手方向
／幅方向で６５００ＭＰａ／１１０００ＭＰａであっ
た。

【００９３】実施例１７ 実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ｂ内の炭
酸カルシウムの平均粒子径を９０ｎｍとした。その他は
実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのポリエステルフ
ィルムを得た以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオ
カセットを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。
その結果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＴフィ
ルムは、フィラー面ＡのＲａ値は５ｎｍであった。フィ
ラー面ＢのＲａ値は１０ｎｍであった。ヤング率は長手
方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａであっ
た。

【００９４】実施例１８ 実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ｂ内の炭
酸カルシウムの平均粒子径を１２００ｎｍとした。その
他は実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのポリエステ
ルフィルムを得た以外は実施例１と同様にして８ｍｍビ
デオカセットを製造し、実施例１同様の性能評価を行っ
た。その結果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＴ
フィルムは、フィラー面ＡのＲａ値は５ｎｍであった。
フィラー面ＢのＲａ値は７０ｎｍであった。ヤング率は
長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａで
あった。

【００９５】実施例１９ 実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ａに含ま
れるシリカの粒子径を２５ｎｍとした以外は実施例１と
同様にして厚さ４．９μｍのＰＥＴフィルムを用い、８
ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の性能評価
を行った。その結果を表１に示す。なお、ここで用いた
ＰＥＴフィルムは、フィラー面ＡのＲａ値は４ｎｍであ
った。フィラー面ＢのＲａ値は２０ｎｍであった。ヤン
グ率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００Ｍ
Ｐａであった。

【００９６】実施例２０ 実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ａに粒子
径８００ｎｍのシリカを０．０１重量％追加した以外は
実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのＰＥＴフィルム
を用い、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様
の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、こ
こで用いたＰＥＴフィルムは、フィラー面ＡのＲａ値は
２５ｎｍであった。フィラー面ＢのＲａ値は２１ｎｍで
あった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ
／９１００ＭＰａであった。

【００９７】実施例２１ 実施例１のフィラー面Ｂ側の強化膜上に厚さ５０ｎｍの
ＳｉＯ_x 膜を成膜しこれをバックコート層とし、次いで
該ＳｉＯ_x 膜上にＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカ
ーボンからなる厚さ１０ｎｍの保護膜を形成した。ま
た、保護膜にはフッ素系潤滑剤〔商品名：ＡＭ２００１
（ダイキン工業社製）〕を厚さが２ｎｍとなるように付
着させ、潤滑層を形成した。それ以外は実施例１と同様
にして８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の
性能評価を行った。その結果を表１に示す。

【００９８】実施例２２ 実施例１のフィラー面Ｂ側の強化膜（Ｃｏ膜）の厚さを
２１０ｎｍとしこれをバックコート層とし、次いで該Ｃ
ｏ膜上にＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボンか
らなる厚さ１５ｎｍの保護膜を形成した。また、保護膜
にはフッ素系潤滑剤〔商品名：ＡＭ２００１（ダイキン
工業社製）〕を厚さが２ｎｍとなるように付着させ、潤
滑層を形成した。それ以外は実施例１と同様にして８ｍ
ｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の性能評価を
行った。その結果を表１に示す。

【００９９】比較例１ 実施例１において、フィラー面が形成されていないＰＥ
Ｔフィルムを用い、このＰＥＴフィルムに実施例１と同
様にして強化膜を形成し、支持体とした。その他は実施
例１と同様にして、８ｍｍビデオカセットを製造し、実
施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示
す。なお、ここで用いたＰＥＴフィルムの表面は両面と
もＲａ値が２ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方
向で４２００ＭＰａ／９０００ＭＰａであった。

【０１００】比較例２ 実施例１において、支持体のフィラー面ＢにＣｏ強化膜
を形成せず、代わりに実施例１のバックコート塗料
（イ）を塗布して厚さ０．５μｍ（乾燥厚）の塗布型の
バックコート層を形成した。その他は実施例１と同様に
して、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の
性能評価を行った。その結果を表１に示す。

【０１０１】比較例３ 実施例７において、支持体のフィラー面ＢにＳｉＯ_x 強
化膜を形成せず、代わりに実施例１のバックコート塗料
（イ）を塗布して厚さ０．５μｍ（乾燥厚）の塗布型の
バックコート層を形成した。その他は実施例１と同様に
して、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１同様の
性能評価を行った。その結果を表１に示す。

【０１０２】比較例４ 実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ａに粒子
径１２００ｎｍのシリカを０．０２重量％追加し、原料
Ｂ内の炭酸カルシウムの平均粒子径を４０ｎｍとした以
外は実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのＰＥＴフィ
ルムを用い、８ｍｍビデオカセットを製造し、実施例１
同様に性能評価を行った。その結果を表１に示す。な
お、ここで用いたＰＥＴフィルムは、フィラー面ＡのＲ
ａ値は３５ｎｍであった。フィラー面ＢのＲａ値は２ｎ
ｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４２００Ｍ
Ｐａ／９０００ＭＰａであった。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】＊１：表１の出力値は１ＭＨｚ、１０ＭＨ
ｚ、１５ＭＨｚの各周波数における実施例１の測定値を
基準（０ｄＢ）としたときの相対値（ｄＢ単位）であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の強化膜を形成するため
の装置の例を示す略図

【図２】実施例におけるエンベロープ欠け量を算出する
ためのモデル図

【図３】実施例１の支持体のフィラー面Ａ側の強化膜の
オージェ分光分析のチャート

【図４】実施例５の支持体のフィラー面Ａ側の強化膜の
オージェ分光分析のチャート

【図５】実施例６の支持体のフィラー面Ａ側の強化膜の
オージェ分光分析のチャート

【図６】実施例８の支持体のフィラー面Ａ側の強化膜の
オージェ分光分析のチャート

【符号の説明】

１…支持体 １０…冷却キャンロール １１…ルツボ １２…Ｃｏ １５…電子銃 １６…真空チャンバ

フロントページの続き (72)発明者 大西 雅也 滋賀県大津市園山一丁目１番１号 東レ株 式会社滋賀事業場内 (72)発明者 原田 直 滋賀県大津市園山一丁目１番１号 東レ株 式会社滋賀事業場内 (72)発明者 北折 典之 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 石川 彰 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 大塚 和俊 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 Ｆターム(参考） 5D006 BA01 CA01 CA05 CB01 CB06 CB07 CC01 CC03 CC04 DA00 EA03 FA00 FA05 5D112 AA01 AA02 AA03 AA08 AA11 AA22 BA01 BA08 BD03 FA02

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粒子を含有するフィラー面Ａと平均粒子
   径が前記粒子の平均粒子径以上である粒子を含有するフ
   ィラー面Ｂを持つ、厚さ２〜５．５μｍのポリエステル
   系プラスチックフィルムの両面に、金属、半金属及び合
   金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた金属材
   料からなる強化膜が形成されている支持体の少なくとも
   一面上に強磁性粉末を結合剤に分散させてなる磁性層が
   形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記支持体のフィラー面Ａ側に磁性層が
   形成されてなる請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記フィラー面Ａの粒子の平均粒子径が
   ５０〜１０００ｎｍ、フィラー面Ｂの粒子の平均粒子径
   が５０〜２０００ｎｍであることを特徴とする請求項１
   又は２記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記フィラー面Ａの表面粗さＲａ値が３
   〜３０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜３の何れ
   か１項記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記ポリエステル系フィルムの幅方向の
   ヤング率が８０００ＭＰａ以上であることを特徴とする
   請求項１〜４の何れか１項記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記フィラー面Ｂの表面粗さＲａ値が３
   〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜５の何れ
   か１項記載の磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 前記ポリエステル系フィルムの長手方向
   のヤング率が６０００ＭＰａ以下であることを特徴とす
   る請求項１〜６の何れか１項記載の磁気記録媒体。
8. 【請求項８】 前記強化膜が、金属、半金属及び合金か
   ら選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強化膜中の酸素
   濃度が該強化膜の表面近傍で大きい請求項１〜７の何れ
   か１項記載の磁気記録媒体。
9. 【請求項９】 前記強化膜が、金属、半金属及び合金か
   ら選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強化膜中の酸素
   濃度が該強化膜の表面近傍と該強化膜と前記フィルムの
   界面近傍で大きい請求項１〜８の何れか１項記載の磁気
   記録媒体。
10. 【請求項１０】 前記金属材料がコバルトを主体とする
    強磁性金属とその酸化物である請求項１〜９の何れか１
    項記載の磁気記録媒体。
11. 【請求項１１】 前記両面の強化膜が同一の金属材料か
    らなる請求項１〜１０の何れか１項記載の磁気記録媒
    体。
12. 【請求項１２】 前記強化膜が真空中の斜め蒸着により
    形成されたものである請求項１〜１１の何れか１項記載
    の磁気記録媒体。
13. 【請求項１３】 前記支持体のフィラー面Ｂ側にバック
    コート層を有し、該バックコート層が、前記支持体の強
    化膜自体からなるか又は前記支持体の強化膜上に形成さ
    れた少なくとも１層の金属薄膜からなる請求項１〜１２
    の何れか１項記載の磁気記録媒体。
14. 【請求項１４】 前記バックコート層が前記支持体に形
    成された前記強化膜からなる請求項１３記載の磁気記録
    媒体。
15. 【請求項１５】 前記バックコート層がコバルトを主体
    とする強磁性金属とその酸化物からなる請求項１３又は
    １４記載の磁気記録媒体。
16. 【請求項１６】 前記バックコート層上に潤滑層が形成
    されている請求項１３〜１５の何れか１項記載の磁気記
    録媒体。
17. 【請求項１７】 媒体の全厚が４〜８．５μｍである請
    求項１〜１６の何れか１項記載の磁気記録媒体。