JP2000010281A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JP2000010281A
JP2000010281A JP10178966A JP17896698A JP2000010281A JP 2000010281 A JP2000010281 A JP 2000010281A JP 10178966 A JP10178966 A JP 10178966A JP 17896698 A JP17896698 A JP 17896698A JP 2000010281 A JP2000010281 A JP 2000010281A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
group
weight
compound
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10178966A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3813742B2 (ja
Inventor
Koichi Kawamura
浩一 川村
Noriaki Watanabe
則章 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP17896698A priority Critical patent/JP3813742B2/ja
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to EP99106132A priority patent/EP0949539B1/en
Priority to DE69941227T priority patent/DE69941227D1/de
Priority to US09/287,568 priority patent/US6423467B1/en
Priority to EP02028009A priority patent/EP1314552B1/en
Priority to EP02007384A priority patent/EP1225478B1/en
Priority to DE69905959T priority patent/DE69905959T2/de
Publication of JP2000010281A publication Critical patent/JP2000010281A/ja
Priority to US09/862,497 priority patent/US6746812B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3813742B2 publication Critical patent/JP3813742B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感度を低下させることなく、硬調な画像形成
性を示す感光性樹脂組成物を提供しようとするものであ
る。特に、硬調で、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、およ
び現像許容性の広い満足するべき、感光性樹脂組成物を
提供する。 【解決手段】 少なくともa.フルオロ脂肪族基、b.
式 −L−P(Lは高分子化合物骨格に連結する2価の
有機基を表し、Pはオルト位にカルボキシル基を有する
芳香族基を表す。)で示される基を有する高分子化合物
を含有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な、フッ素系高
分子化合物(以下、フッ素系ポリマーとも称する)を含
有する感光性樹脂組成物に関するものであり、特に平版
印刷版に有用な感光性樹脂組成物に関し、さらに平版印
刷版において硬調な画像形成性を与える感光性樹脂組成
物に関する。
【0002】
【従来の技術】基板上に感光性樹脂組成物が塗布されて
なる平版印刷版は通常露光後、アルカリ現像により露光
部もしくは未露光部を除去し画像を得る。次に印刷過程
に於いて残存した感光性樹脂組成物からなる画像がイン
キ受容部として作用し、また溶出したあと現出した基板
が水受容部として作用し印刷物が得られる。この際、良
好な印刷物を得るためには、ネガ型平版印刷版、ポジ型
平版印刷版を問わず露光現像後得られる画像ができるだ
け画像部と非画像部のディスクリミネーションが高い、
すなわち階調が高い(硬調)ものが画像再現性、および
耐傷性の点で好ましく、かつ感度の高いものが必要とさ
れる。
【0003】ポジ型平版印刷版として代表される、o−
キノンジアジド化合物を含有してなる感光性樹脂組成物
は、非常に優れたポジ型感光性樹脂組成物として平版印
刷版の製造やフォトレジストとして工業的に用いられて
きた。従来このo−キノンジアジド系のポジ型感光性樹
脂組成物の感度を高める方法について種々の提案がなさ
れてきたが、感度を低下させることなく、硬調な画像形
成性を示し、かつ焼きぼけ、白灯安全性および現像許容
性を満足するべき物は得られていない。
【0004】なお、画像の硬調性、焼きぼけ、白灯安全
性および現像許容性については、以下に説明する。画像
が硬調であるとはステップウェッジを通して露光し現像
したときに画像が残存し始める段数と完全に膜が残存し
ている段数との差が小さいことを意味する。焼きぼけと
は、キノンジアジドの分解により生じた窒素によりリス
フィルムが浮き上がり完全な密着露光ができなくなるた
めに生じるものであり、一般的にクリアー感度を同一に
したとき、画像が硬調であるほど焼きぼけを解消しやす
い。
【0005】白灯安全性とは、印刷版を蛍光灯などの白
灯下に曝したときに画像の感度の安定性を示すものであ
り、画像が硬調なものほど白灯安全性が良い。これはキ
ノンジアジドが白灯により一部分解することに起因する
もので、画像が硬調なものはキノンジアジドが少量分解
しても画像が溶出することがないため白灯下に曝さなか
ったのと同じような画像となる。なおステップウエッジ
とは一段ごとに濃度が0.15ずつ変化する短冊形のフ
ィルムであり、露光量と露光後現像した後の感光層残膜
量との関係を得る際に用いられる。またクリアー感度と
は露光現像後画像ができ始めるときの感度を意味する。
現像許容性とは、現像液の濃度が変化したときに、露光
し現像したあとの画像感度がどれだけ変動するかを観る
ものであり、感度の変動が小さいものほど現像許容性が
よいという。
【0006】一方、ネガ型平版印刷版として代表される
光重合開始剤と重合可能な2重結合を有するモノマーを
含有する光重合系印刷版、とくに可視光領域のレーザー
光線に対して感度の高いレーザー直接露光型印刷版にお
いては、従来階調が軟調であるため印刷版を固定しミラ
ーを高速で回転し露光するインナードラム型のレーザー
プレートセッターで画像露光すると、散乱光や反射光に
よるカブリが発生しやすかった。印刷版の耐刷力を上げ
るために、高いエネルギーで露光したいが、散乱光や反
射光によるカブリがますます悪くなるため、露光量を上
げ耐刷力を上げることができなかった。耐刷力を上げる
ために、高露光量でも散乱光や反射光によるカブリが発
生しないようにする事が必要である。そのためには、階
調を硬調にする事で解決することができる。なぜなら、
レーザーによる画像露光は、1ドット当たり約1μ秒オ
ーダーの時間露光されるが、散乱光や反射光によるカブ
リは数分のオーダーで極めて弱い光が長時間感光材料に
さらされ、感光層が光硬化するものである。
【0007】よって、感光材料の階調が硬調になると弱
い光では感光材料が光硬化し難く、現像により除去され
カブリにならないのである。また赤外線レーザーなどを
用いて描画する感熱型平版印刷版においては画像部と非
画像部のディスクリミネーションが低い、すなわち階調
が低い(軟調)ために素手で触れた部分の画像抜けを生
じたり、また外傷に対する安定性が悪いという問題点が
あった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】特開平8−15858
号公報には界面活性剤としてフルオロ脂肪族基、ポリオ
キシアルキレン基、および酸性水素原子基を有するフッ
素系ポリマーが記載されている。しかしながら、該公報
に具体例として記載されているポリマーを用いても焼き
ぼけ、白灯安全性に関してはなんら効果が得られなかっ
た。本発明は、従来の技術の上記問題点を解決し、感度
を低下させることなく、硬調な画像形成性を示す感光性
樹脂組成物を提供しようとするものである。特に、硬調
で、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、および現像許容性の
広い満足するべき、感光性樹脂組成物を提供しようとす
るものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進めた結果、感光性樹脂組成物にある特定のフッ素系
ポリマーを添加することにより、上記目的が達成される
ことを見いだした。すなわち本発明は、フッ素系ポリマ
ーとして次のような共重合体を感光性樹脂組成物に添加
すると感度を低下させることなく、硬調な画像形成性を
示し、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、および現像許容性
を広くしたポジ型感光性樹脂組成物が得られることを見
いだした。またこの方法は、従来公知の方法で高感度化
したポジ型感光性樹脂組成物の硬調化に特に有効であ
り、本発明によるフッ素系ポリマーを添加することで、
軟調であった画像が硬調化し、焼きぼけ、白灯安全性、
および現像許容性が改善されることを見いだした。
【0010】また本発明のフッ素系ポリマーを添加する
ことによりネガ型平版印刷版では階調が高くなり、とく
にレーザー感光性光重合系印刷版においてはレーザー光
に対して高感度でかつ散乱光や反射光によるかぶり性が
良好で高耐刷力を有する印刷版が得られることが判明し
た。また感熱型平版印刷版においてはディスクリミネー
ションが大きく画像強度が強く従って素手で触れた部分
の画像抜けを起こさず、また外傷に対する安定性が向上
した印刷版が得られることが判明した。
【0011】即ち、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
るフッ素系ポリマーとは、少なくともa.フルオロ脂肪
族基、b.式 −L−P(Lは高分子化合物骨格に連結
する2価の有機基を表し、Pはオルト位にカルボキシル
基を有する芳香族基を表す。)で示される基を有するポ
リマー(高分子化合物)である。本発明の感光性樹脂組
成物は、その中に含まれるフッ素系ポリマーがオルト位
にカルボキシル基を有する芳香族基を有することによ
り、該フッ素系ポリマーとバインダーとの相互作用が強
くなり、その結果、現像時の硬調化が促進されるものと
考えられる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の特徴をなすフッ素
系ポリマーについて詳細に説明する。本発明で用いるフ
ッ素系ポリマーは上記a、bの基を有するものならばど
んなポリマーの形態でもよい。具体的な形態としてはア
クリル樹脂、メタアクリル樹脂、スチリル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂などを用いる
ことができる。そのうち、アクリル樹脂、メタアクリル
樹脂、スチリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂が有用であり、特にアクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、ポリウレタン樹脂が有用である。
【0013】アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリウ
レタン樹脂のうち合成適性の上でアクリル樹脂、メタア
クリル樹脂が特に有用であり、以下アクリル樹脂、メタ
アクリル樹脂について詳細に記載する。本発明で用いる
フッ素系ポリマーが(メタ)アクリル樹脂の場合、次の
構成単位を共重合成分として有するものからなる。 a.フルオロ脂肪族基を有する付加重合可能なモノマ
ー、 b.下記一般式(1)または(2)の構造で示されるカ
ルボン酸基を有する付加重合可能なモノマー、
【0014】
【化1】
【0015】(式中、Aは、水素原子、ハロゲン原子、
又はアルキル基を表わし、Xは、酸素原子、NH、又は
N−R5 (ここでR5はアルキル基を示す)を表わし、
1、R2、R3及びR4は、各々独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、−O−R6 、−OCO−R 7 、−
NHCO−R8 、−NHCONH−R9 、−OCONH
−R10、−COO−R11、−CONH−R12、−CO−
13、−CON(R14)(R15)、−CNもしくは−C
HO基を表すか、又は、R1、R2、R3及びR4は、その
うちの2個が結合して環を形成してもよく、R6〜R15
はアルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置換ア
リール基を表わす。但し、好ましくはR1、R2、R3
びR4の内の少なくとも1つは水素原子以外の基を示
す。)
【0016】
【化2】
【0017】(式中、Aは、水素原子、ハロゲン原子又
はアルキル基を表わし、Xは、酸素原子、NH又はN−
5 (ここでR5はアルキル基を示す)を表わし、R1
2、R3及びR4は、各々独立して、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、−O−R6、−OCO−R7、−NHCO
−R8 、−NHCONHR9 、−OCONH−R10
−COO−R11、−CONH−R12、−COR13、−C
ON(R14)(R15)、−CNもしくは−CHO基を表
すか、又は、R1、R2、R3及びR4は、そのうちの2個
が結合して環を形成してもよく、R6〜R15はアルキル
基、置換アルキル基、アリール基又は置換アリール基を
表わし、好ましくはR1、R2、R3及びR4の内の少なく
とも1つは水素原子以外の基を示す、L1は、2価の有
機基を表わす。)
【0018】先ず、本発明のフッ素系ポリマーの共重合
成分a.である、フルオロ脂肪族基を有する付加重合可
能なモノマーについて説明するについて詳しく述べ
る。。フルオロ脂肪族基とは、炭素原子上の水素原子が
フッ素化され、通常飽和されかつ一般に1価、2価の脂
肪族基である。これは直鎖、分岐鎖、または環式のもの
を含む。フルオロ脂肪族基は本発明の目的において十分
な効果を発揮するためには、3〜20、好ましくは6〜
12の炭素原子を有し、かつ40重量%以上の好ましく
は50重量%以上の、炭素原子に結合したフッ素を有す
るものである。好適なフルオロ脂肪族基は、Cn2n+1
−(nは1以上、好ましくは3以上の整数)のように実
質上完全に、または十分にフッ素化されたパーフルオロ
脂肪族基(以下、Rf基とも略す)である。
【0019】成分a.として示されるフルオロ脂肪族基
を有する付加重合可能なモノマーにおける付加重合性モ
ノマー部としては、ラジカル重合可能な不飽和基を持つ
ビニル単量体が用いられる。これらのビニル単量体のう
ち好ましいのもとしてはアクリレート、メタクリレー
ト、アクリルアミド、メタクリルアミド、スチレン系、
ビニル系である。フルオロ脂肪族基結合したアクリレー
ト、メタクリレートの具体例としては、例えば、Rf−
R′−OOC−C(R″)=CH2(ここでR′は、例え
ば、単結合、アルキレン、スルホンアミドアルキレン、
またはカルボンアミドアルキレンであり、R″は水素原
子、メチル基、ハロゲン原子、またはパーフルオロ脂肪
族基)で表される化合物が挙げられる。
【0020】これらの具体例としては例えば米国特許第
2803615号、同第2642416号、同第282
6564号、同第3102103号、同第328290
5号、及び同第3304278号、特開平6−2562
89号、特開昭62−1116号、特開昭62−487
72号、特開昭63−77574号、特開昭62−36
657号に記載のもの及び日本化学会誌1985(No.
10)1884〜1888頁記載のものを挙げることがで
きる。またこれらのフルオロ脂肪族基結合モノマーのほ
かにも、Reports Res.Lab.Asahi Glass Co. Lld., 34
巻1984年27〜34頁記載のフルオロ脂肪族基結合
マクロマーを優位に用いることができる。またフルオロ
脂肪族基結合モノマーとしては、下記構造式の様なパー
フルオロアルキル基の長さの異なる混合物であっても用
いることができる。
【0021】
【化3】
【0022】本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に
用いられるこれらのフルオロ脂肪族基含有ビニル単量体
の量は、該フッ素系ポリマーの重量に基づいて3〜70
重量%であり、好ましくは7〜60重量%の範囲であ
る。
【0023】つぎに、本発明のフッ素系ポリマーの共重
合成分b.について詳しく述べる。先ず、下記一般式
(1)の構造で示されるカルボン酸基を有する付加重合
可能なモノマーについて説明する。
【0024】
【化4】
【0025】(式中、Aは、水素原子、ハロゲン原子、
又はアルキル基を表わし、Xは、酸素原子、NH、又は
N−R5 (ここでR5はアルキル基を示す)を表わし、
1、R2、R3及びR4は、各々独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、−O−R6 、−OCO−R 7 、−
NHCO−R8 、−NHCONH−R9 、−OCONH
−R10、−COO−R11、−CONH−R12、−CO−
13、−CON(R14)(R15)、−CNもしくは−C
HO基を表すか、又は、R1、R2、R3及びR4は、その
うちの2個が結合して環を形成してもよく、R6〜R15
はアルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置換ア
リール基を表わす。但し、好ましくはR1、R2、R3
びR4の内の少なくとも1つは水素原子以外の基を示
す。)
【0026】上記一般式(1)中、Aは、水素原子、ハ
ロゲン原子又はアルキル基を表わす。ハロゲン原子とし
ては塩素又は臭素の各原子が好ましい。アルキル基とし
ては、炭素数1〜6個、好ましくは1〜4個のものを用
いることができる。上記一般式(1)中、R1、R2、R
3及びR4は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基、−O−R6 、−OCO−R7、−NHCO−R
8 、−NHCONH−R9、−OCONH−R10、−C
OO−R11、−CONH−R12、−CO−R13、−CO
N(R14)(R15)、−CNもしくは−CHO基を表
す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素の各原子
が好ましい。アルキル基としては、炭素数1〜20個の
ものが用いられ、より好ましくは1〜8個のアルキル基
が用いられる。アリール基としては、フェニル、ナフチ
ルなどの炭素数6〜20個のものが用いられ、より好ま
しくは炭素数6〜10個のものが用いられる。置換アル
キル基および置換アリール基の置換基としては、アリー
ル基、炭素数1〜10個のアルコキシ基、ハロゲン原
子、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ホルミ
ル基、エーテル基などを挙げることができる。また、置
換アリール基の置換基としては、上記したもののほかに
も炭素数1〜10個のアルキル基を挙げることができ
る。
【0027】R1、R2、R3及びR4は、そのうちの2個
が結合して環を形成してもよい。R 1〜R4のうちの2つ
が結合して形成する環としては5〜7員環が好ましく、
シクロペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、ナフタレ
ン等の炭素数4〜14個の脂肪族環、アリール環および
ピリジル、フリル、ピロール、インドールなどのヘテロ
原子1〜4個を含むヘテロ環を挙げることができる。ま
た、R5としては、炭素数1〜6個のアルキル基、より
好ましくは1〜4個のアルキル基を挙げることができ
る。
【0028】R6〜R15は、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基又は置換アリール基を表す。アルキル基
としては、炭素数1〜20個のものが用いられ、より好
ましくは1〜8個のアルキル基が用いられる。アリール
基としては、フェニル、ナフチルなどの炭素数6〜20
個のものが用いられ、より好ましくは6〜10個のもの
が用いられる。置換アルキル基および置換アリール基の
置換基としては、炭素数6〜10個のアリール基、炭素
数1〜10個のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数2
〜10個のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜10個
のアシルオキシ基、ホルミル基などを挙げることができ
る。置換アリール基の置換基としては、上記したものの
ほかにも、炭素数1〜10個までのアルキル基を挙げる
ことができる。
【0029】上記一般式(1)中、Aとしては、水素原
子もしくはメチル基が好ましく、Xとしては、NHが好
ましい。R1〜R4としては、ハロゲン原子、1から8個
の炭素数を有するアルキル基;ハロゲン原子、アリール
基又はアルコキシ基で置換された全炭素数1〜15個の
アルキル基;−O−R6基;−OCO−R7基;−OCO
NH−R10基(ここでR6、R7、R10はそれぞれ独立し
て1から8個の炭素数を有するアルキル基;アリール
基;ハロゲン原子、アリール基又はアルコキシ基で置換
された全炭素数1から15個の置換アルキル基;もしく
はハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基で置換さ
れた全炭素数6から15個の置換アリール基が好まし
い)が好ましく、またR1〜R4は、そのうちの2個が結
合して環を形成することも好ましい。好ましい環の具体
例としては、カルボキシル基が結合しているアリール基
と縮環した形で言うと、ナフタレン、テトラリン、イン
デン、インダノン、テトラロン、ベンゾフラン又はイン
ドールである。
【0030】次に、上記の一般式(1)で示される重合
単位の具体例を以下に示す。ただし本発明はこの具体例
に限定されるものではない。
【0031】
【化5】
【0032】
【化6】
【0033】
【化7】
【0034】次に、下記一般式(2)の構造で示される
カルボン酸基を有する付加重合可能なモノマーについて
説明する。
【0035】
【化8】
【0036】(式中、Aは、水素原子、ハロゲン原子又
はアルキル基を表わし、Xは、酸素原子、NH又はN−
5 (ここでR5はアルキル基を示す)を表わし、R1
2、R3及びR4は、各々独立して、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、−O−R6、−OCO−R7、−NHCO
−R8 、−NHCONHR9 、−OCONH−R10
−COO−R11、−CONH−R12、−COR13、−C
ON(R14)(R15)、−CNもしくは−CHO基を表
すか、又は、R1、R2、R3及びR4は、そのうちの2個
が結合して環を形成してもよく、R6〜R15はアルキル
基、置換アルキル基、アリール基又は置換アリール基を
表わし、好ましくはR1、R2、R3及びR4の内の少なく
とも1つは水素原子以外の基を示し、L1は、2価の有
機基を表わす。)
【0037】上記一般式(2)中、Aは、水素原子、ハ
ロゲン原子又はアルキル基を表わす。ハロゲン原子とし
ては臭素、塩素の各原子が好ましい。アルキル基として
は、炭素数1〜6個、好ましくは1〜4個のものを用い
ることができる。上記一般式(2)中、R1、R2、R3
及びR4は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基、−O−R6、−OCO−R7 、−NHCO−R
8 、−NHCONH−R9 、−OCONH−R10、−C
OO−R11、−CONH−R12、−CO−R13、−CO
N(R 14)(R15)、−CN、もしくは−CHO基を表
す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素の各原子
が好ましい。アルキル基としては、炭素数1〜20個の
ものが用いられ、より好ましくは1〜8個のアルキル基
が用いられる。アリール基としては、フェニル、ナフチ
ルなどの炭素数6〜20個のものが用いられ、より好ま
しくは6〜10個までのものが用いられる。置換アルキ
ル基および置換アリール基の置換基としては、炭素数6
〜10個のアリール基、炭素数1〜10個のアルコキシ
基、ハロゲン原子、炭素数2〜11個のアルコキシカル
ボニル基、炭素数2〜11個のアシルオキシ基、ホルミ
ル基などを挙げることができる。また、置換アリール基
の置換基としては、上記したもののほかにも炭素数1〜
10個のアルキル基を挙げることができる。
【0038】R1、R2、R3及びR4は、そのうちの2個
が結合して環を形成してもよい。このような環として
は、シクロヘキル、フェニル、ナフチル等の炭素数4〜
14個の脂肪族環、アリール環、およびピリジル、フリ
ル、ピロール、インドールなどのヘテロ原子1〜4個を
含むヘテロ環を挙げることができる。R5としては、炭
素数1〜6個のアルキル基、より好ましくは1〜4個の
アルキル基を挙げることができる。
【0039】R6〜R15は、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基又は置換アリール基を表わす。アルキル
基としては、炭素数1〜20個のものが用いられ、より
好ましくは1〜8個のアルキル基が用いられる。アリー
ル基としては、フェニル、ナフチルなどの炭素数6〜2
0個のものが用いられ、より好ましくは6〜10個のも
のが用いられる。置換アルキル基および置換アリール基
の置換基としては、炭素数6〜10個のアリール基、炭
素数1〜10個のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数
2〜11個のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜11
個のアシルオキシ基、ホルミル基などを挙げることがで
きる。置換アリール基の置換基としては、上記したもの
のほかにも、炭素数1〜10個までのアルキル基を挙げ
ることができる。
【0040】また、上記一般式(2)中、L1 は2価の
有機基を表す。有用な2価の有機基には、例えばメチレ
ン、エチレンなどの炭素数1〜20個のアルキレン基、
例えばフェニレン、ナフチレンなどの炭素数6〜20個
のアリーレン基、例えばビニリデン基のような炭素数2
〜10個のアルケニレン基が含まれ、これらのアルキレ
ン基、アリーレン基、アルケニレン基には、更に置換基
を有していてもよい。好適な置換基にはハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子など)、シアノ基などが含
まれる。上記のような、いずれも置換基を有していても
よいアルキレン基、アリーレン基およびアルケニレン基
は、その内の2以上の基が組み合わされてL1 で規定さ
れる2価の有機基を構成することもできる。
【0041】更にL1 で規定される有機基の片末端、両
末端、中間、片末端と中間又は両末端と中間に、エステ
ル基(−COO−)、アミド基(−CONH−)、カー
バメート基(−NHCO2−)、ウレア基(−NHCO
NH−)、エーテル基(−O−)、イミノ基(−NH
−)、チオエーテル基(−S−)、スルホンアミド基
(−SO2 NH2 −)が含まれ、又は介在してもよい。
特に好適なL1 は、下記一般式(3)で示される2価の
有機基である。 −(L11a −(L12b −(L13c −L14− (3) ここで、L11は−COO−または−CONH−を示し、
12は−(CH2l −O−(但し、lは2〜15の整
数を示す。)又は−(CH2m −(但し、mは2〜1
5の整数を示す。)を示し、L13は−CO−又は=CO
−(CH2n−COO−(但し、nは2〜15の整数を
示す。)を示し、L14は炭素数6〜10個のアリーレン
基、−(CH2p−(但し、pは2〜15の整数)又は
NHを示し、aは0又は1、bは0、1又は2、cは0
又は1の整数をそれぞれ以す。
【0042】上記一般式(2)中、Aとしては、水素原
子もしくはメチル基が好ましく、Xとしては、NHが好
ましい。R1〜R4としては、水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、1から8個の炭素数を有するアルキル基;
ハロゲン原子、アリール基又はアルコキシ基で置換され
た全炭素数1〜15個のアルキル基;−O−R6基;−
OCO−R7基;−OCONH−R10基(ここでR6、R
7、R10は各々独立して1から8個の炭素数を有するア
ルキル基;アリール基;ハロゲン原子、アリール基又は
アルコキシ基で置換された全炭素数1から15個の置換
アルキル基;もしくはハロゲン原子、アルキル基又はア
ルコキシ基で置換された全炭素数6から15個の置換ア
リール基が好ましい)が好ましく、またR1〜R4は、そ
のうちの2個が結合して環を形成することも好ましい。
好ましい環の具体例としては、カルボキシル基が結合し
ているアリール基と縮環した形で言うと、ナフタレン、
テトラリン、インデン、インダノン、テトラロン、ベン
ゾフラン、インドールである。
【0043】次に、上記の一般式(2)で示される重合
単位の具体例を以下に示す。ただし本発明はこの具体例
に限定されるものではない。
【0044】
【化9】
【0045】
【化10】
【0046】本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に
用いられるこれらの上記の一般式(1)または(2)で
示されるカルボン酸基を側鎖に有する単量体の量は、該
フッ素系ポリマーの重量に基づいて5〜80重量%であ
り、好ましくは20〜50重量%の範囲である。
【0047】本発明のフッ素系ポリマーは公知慣用の方
法で製造することができる。例えばフルオロ脂肪族基を
有する(メタ)アクリレート(成分a.)および上記一
般式(1)または(2)で示される(メタ)アクリレー
ト(成分b.)を、有機溶媒中、汎用のラジカル重合開
始剤を添加し、熱重合させることにより製造できる。も
しくは、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物と
を、添加して上記と同じ方法にて製造することができ
る。
【0048】本発明の目的を達成するためには、本発明
によるフッ素系ポリマーが成分a.およびb.から成る
ことが必須であるが,より好ましくはその他の付加重合
不飽和化合物として脂肪族基もしくは芳香族基を有する
(メタ)アクリレートもしくは(メタ)アクリルアミド
を含有することができる.このような脂肪族基もしくは
芳香族基を有する(メタ)アクリレートもしくは(メ
タ)アクリルアミドの好ましいものとしては、4個以上
の炭素原子を有する脂肪族基、もしくは芳香族基を有す
る(メタ)アクリレートまたは(メタ)アクリルアミド
である.
【0049】4個以上の炭素原子を有する脂肪族基とは
1価、2価の脂肪族基を含む。また4個以上の炭素原子
を有する脂肪族基としては、直鎖、分岐鎖、または環式
のものを含む。これらの脂肪族基が本発明の目的におい
てより有効に効果を発揮するためには、6−30、好ま
しくは8−25の炭素原子を有していることが好まし
い。具体的には、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、
n−オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基,テトラデシル基,オクタデ
シル基などを挙げることができる。また芳香族基として
は、炭素原子6−30、好ましくは6−20の炭素原子
を有するものが好ましい。また芳香族基は1個以上の炭
素原子を有する脂肪族基で置換されたものが好ましい。
置換基として用いる1個以上の炭素原子を有する脂肪族
基としては1−20、よりこのましくは4−18の炭素
原子を有する、たとえばn−ブチル、t−ブチル、シク
ロヘキシル、2-エチルヘキシルなどの直鎖、分岐鎖、ま
たは環式の脂肪族基が望ましい.
【0050】また、これらの脂肪族基、および芳香族基
はその他の置換基を有していてもよく、置換基としては
ハロゲン原子、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、
アルコキシカルボニル、シアノ、芳香族基などを挙げる
ことができる。4個以上の炭素原子を有する脂肪族基お
よび/または芳香族基を有するアクリレート、メタクリ
レート、アクリルアミドもしくはメタアクリルアミドの
具体例としては下記のモノマーを挙げることができる。
【0051】例えばアクリル酸n−ブチル、アクリル酸
iso−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸ペ
ンチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アク
リル酸デシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステア
リル、アクリル酸ベヘニル、アクリル酸ベンジル、アク
リル酸メチルベンジル、アクリル酸ジメチルベンジル、
アクリル酸クロロベンジル、アクリル酸ブロモベンジ
ル、アクリル酸エチルベンジル、アクリル酸n−プロピ
ルベンジル、アクリル酸iso−プロピルベンジル、ア
クリル酸n−ブチルベンジル、アクリル酸iso−ブチ
ルベンジル、アクリル酸tert−ブチルベンジル、ア
クリル酸フェニル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸ト
リル、アクリル酸キシリル、アクリル酸クロロフェニ
ル、アクリル酸ブロモフェニル、アクリル酸エチルフェ
ニル、アクリル酸n−プロピルフェニル、アクリル酸i
so−プロピルフェニル、アクリル酸n−ブチルフェニ
ル、アクリル酸iso−ブチルフェニル、アクリル酸t
ert−ブチルフェニルである。好ましくはアクリル酸
ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ベヘニ
ル、アクリル酸tert−ブチルベンジル、アクリル酸
tert−ブチル、アクリル酸tert−ブチルフェニ
ルである。
【0052】更にメタクリル酸エステル類をあげること
ができる。例えばメタクリル酸n−ブチル、メタクリル
酸iso−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、メ
タクリル酸ペンチル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ラウリ
ル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ベヘニル、
メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチルベンジル、
メタクリル酸ジメチルベンジル、メタクリル酸クロロベ
ンジル、メタクリル酸ブロモベンジル、メタクリル酸エ
チルベンジル、メタクリル酸n−プロピルベンジル、メ
タクリル酸iso−プロピルベンジル、メタクリル酸n
−ブチルベンジル、メタクリル酸iso−ブチルベンシ
ル、メタクリル酸tert−ブチルベンジル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ナフチル、メタクリル酸ト
リル、メタクリル酸キシリル、メタクリル酸クロロフェ
ニル、メタクリル酸ブロモフェニル、メタクリル酸エチ
ルフェニル、メタクリル酸n−プロピルフェニル、メタ
クリル酸iso−プロピルフェニル、メタクリル酸n−
ブチルフェニル、メタクリル酸iso−ブチルフェニ
ル、メタクリル酸tert−ブチルフェニルである。好
ましくはメタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリ
ル、メタクリル酸ベヘニル、メタクリル酸tert−ブ
チル、メタクリル酸tert−ブチルベンジル、メタク
リル酸tert−ブチルフェニルである。
【0053】さらにつぎのようなアクリルアミド類、メ
タアクリルアミド類を例として挙げることができる。N
−ノニルアクリルアミド、N−デシルアクリルアミド、
N−ラウリルアクリルアミド、N−ステアリルアクリル
アミド、N−ノニルメタアクリルアミド、N−デシルメ
タアクリルアミド、N−ラウリルメタアクリルアミド、
N−ステアリルメタアクリルアミドなど。本発明におけ
るフッ素系ポリマー中に用いられるこれら4個以上の炭
素原子を有する脂肪族基もしくは芳香族基に結合したビ
ニル単量体の量は、該フッ素系ポリマーの重量に基づい
て5〜70重量%であり、好ましくは10〜50重量%
の範囲である。
【0054】また場合により用いられるその他の付加重
合不飽和化合物としては、PolymerHandbook 2nd ed.,
J.Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2 Pa
ge 1〜483記載のものを用いることができる。これらの
例としてはたとえば、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、グリシジル(メタ)アクリレート、などの(メ
タ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド、N−エ
チル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)ア
クリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミ
ド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−(p−ヒ
ドロキシフェニル)−メタアクリルアミドなどの(メ
タ)アクリルアミド類、酢酸アリル、カプロン酸アリ
ル、ステアリン酸アリル、アリルオキシエタノール等の
アリル化合物;
【0055】エチルビニルエーテル、プロピルビニルエ
ーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテ
ル、メトトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチル
ビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒ
ドロキシエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテ
ル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル、トリルビニルエーテル、ジエチルアミ
ノエチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;ビニル
アセテート、ビニルブチレート、ビニルカプロエート、
ビニルクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、
ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、
安息香酸ビニル、クロル安息香酸ビニル等のビニルエス
テル類;スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、クロルメチルスチレン、エトキ
シメチルスチレン、ヒドロキシスチレン、クロルスチレ
ン、ブロムスチレン等のスチレン類;
【0056】メチルビニルケトン、エチルビニルケト
ン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等の
ビニルケトン類;イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のオレフィン類;その他、クロトン酸ブチル、イタ
コン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジメ
チル、フマル酸ジエチル、N−ビニルピロリドン、N−
ビニルピリジン、アクリロニトリル等が挙げられる。ま
たこれらのモノマーの他、特開昭62−226143
号、特開平3−172849号公報記載のポリオキシア
ルキレン(メタ)アクリレートを用いることができる。
【0057】また本発明のフッ素系ポリマーがアクリル
樹脂、メタアクリル樹脂以外の形態で使用される場合に
於いても、成分a.,b.の他に、疎水性成分c.とし
て脂肪族基または芳香族基を有する成分を重合させる方
が平版印刷版のインキ受容性(着肉性)を高める上で望
ましい。とくにポリウレタン樹脂の形態で使用するとき
には、10個以上の直鎖、分岐鎖脂肪族基もしくはアル
キレン基、および4個以上の炭素原子を有する脂肪族基
で置換された芳香族基から選ばれる少なくとも1つを有
する重合体成分であることが望ましい。
【0058】以下、本発明による含フッ素ポリマーの具
体的な構造の例を示す。なお式中の数字は各モノマー成
分のモル比率を示す。
【0059】
【化11】
【0060】
【化12】
【0061】
【化13】
【0062】
【化14】
【0063】
【化15】
【0064】本発明で用いるフッ素系ポリマーの分子量
の範囲は、平均分子量として3,000〜200,00
0のものであり、より好ましくは6,000〜100,
000のものである。本発明の感光性樹脂組成物におけ
るフッ素系ポリマーの添加量の範囲は、溶媒を除く全組
成分に対して0.001〜10重量%が好ましく、0.
01〜5重量%がより好ましい。
【0065】次に本発明によるポジ型感光性樹脂組成物
を調製するに際して必要となる他の成分について説明す
る。ポジ型感光性樹脂組成物としては、露光の前後で現
像液に対する溶解性または膨潤性が変化するものならば
使用できるが、その中に含まれる好ましいものとして
は、o−キノンジアジド化合物が挙げられる。例えば、
アルカリ可溶性樹脂とo−キノンジアジド化合物とを含
有するポジ型感光性樹脂組成物の場合、o−キノンジア
ジド化合物は、少なくとも1つのo−キノンジアジド基
を有する化合物で、活性光線によりアルカリ水溶液に対
する溶解性を増すものが好ましい。
【0066】この様なものとしては、種々の構造のもの
が知られており、例えば、J.KOSAR著「Light-Sensitive
Systems」(John Wiley & Sons, Inc, 1965年発行)P.33
6〜P.352に詳細に記載されている。ポジ型感光性樹脂組
成物の感光性化合物としては、特に種々のヒドロキシル
化合物とo−ベンゾキノンジアジドあるいはo−ナフト
キノンジアジドのスルホン酸エステルが好適である。
【0067】上記のようなo−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−5−スルホニルクロライドとフェノール・ホルムアル
デヒド樹脂またはクレゾール・ホルムアルデヒド樹脂と
のエステル;米国特許第3,635,709号明細書に
記載されている1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−
5−スルホニルクロライドとピロガロール・アセトン樹
脂とのエステル;特公昭63−13,528号公報に記
載されている1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホニルクロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒ
ド樹脂とのエステル;特公昭62−44,257号公報
に記載されている1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−5−スルホニルクロライドとレゾルシン−ピロガロー
ル・アセトン共縮合樹脂とのエステル;特公昭56−4
5,127号公報に記載されている末端にヒドロキシル
基を有するポリエステルに1,2−ナフトキノン−2−
ジアジド−5−スルホニルクロライドをエステル化させ
たもの;
【0068】特公昭50−24,641号公報に記載さ
れているN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミドのホモポリマーまたは他の共重合しうるモノマーと
の共重合体に1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホニルクロライドをエステル化させたもの;特公
昭54−29,922号公報に記載されている1,2−
ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロライ
ドとビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ル;特公昭52−36,043号公報に記載されている
p−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたは他の共重
合しうるモノマーとの共重合体に1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホニルクロライドをエステル
化させたもの;1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−
5−スルホニルクロライドとポリヒドロキシベンゾフェ
ノンとのエステルがある。
【0069】その他、本発明に使用できる公知のo−キ
ノンジアジド化合物としては、特開昭63−80,25
4号、特開昭58−5,737号、特開昭57−11
1,530号、特開昭57−111,531号、特開昭
57−114,138号、特開昭57−142,635
号、特開昭51−36,129号、特公昭62−3,4
11号、特公昭62−51,459号、特公昭51−4
83号などの各明細書中に記載されているものなどを上
げることができる。前記のo−キノンジアジド化合物の
含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、通常
5〜60重量%で、より好ましくは10〜40重量%で
ある。
【0070】o−キノンジアジド以外の感光性化合物と
してはアルカリ可溶性基を酸分解基で保護した化合物と
光酸発生剤との組み合わせからなる化学増幅系の感光物
を用いることができる。化学増幅系で用いられる光酸発
生剤としては、公知のものを用いることができる。
【0071】たとえば S. I. Schlesinger, Photogr. S
ci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S.Bal etal, Polymer,
21, 423(1980)等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第
4,069,055号、同4,069,056号、特開平3-140140号等に記
載のアンモニウム塩、D. C.Necker etal, Macromolecul
es, 17, 2468(1984) 、C. S. Wen etal, Teh, Proc.Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct(1988)、米国特
許第4,069,055号、同4,069,056号等に記載のホスホニウ
ム塩、J. V. Crivello etal, Macromorecules, 10(6),
1307(1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31(198
8)、欧州特許第104,143号、米国特許第339,049号、同第
410,201号、特開平2-150848号、特開平2-296514号等に
記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello etal, Polymer
J. 17, 73(1985)、J. V. Crivello etal. J. Org. Che
m., 43, 3055(1978)、W. R. Wattetal, J. Polymer Sc
i., Polymer Chem. Ed., 22, 1789(1984)、J. V. Crive
lloetal, Polymer Bull., 14, 279(1985) 、J. V. Criv
ello etal, Macromorecules, 14(5), 1141(1981)、J.
V. Crivello etal, J. Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17, 2877(1979) 、欧州特許第370,693 号、米国特
許3,902,114 号,欧州特許第233,567号、同297,443号、
同297,442号、米国特許第4,933,377号、同410,201号、
同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,83
3,827号、獨国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同
3,604,581号等に記載のスルホニウム塩、
【0072】J. V. Crivello etal, Macromorecules, 1
0(6), 1307(1977)、J. V. Crivello etal, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047(1979)等に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen etal, Teh, Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p478 Tokyo,Oct(1988)等に記載のア
ルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,815
号、特公昭46-4605号、特開昭48-36281号、特開昭55-32
070号、特開昭60-239736号、特開昭61-169835号、特開
昭61-169837号、特開昭62-58241号、特開昭62-212401
号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339号等に記載の
有機ハロゲン化合物、K.Meier etal, J. Rad. Curing,
13(4), 26(1986)、T. P. Gill etal, Inorg. Chem., 1
9, 3007(1980) 、D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19(1
2), 377(1896)、特開平2-161445号等に記載の有機金属
/有機ハロゲン化物、S. Hayase etal, J. Polymer Sc
i., 25, 753(1987)、E. Reichmanis etal, J. Pholymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1(1985)、 Q. Q. Zhu
etal, J. Photochem., 36, 85, 39, 317(1987) 、B. Am
it etal, Tetrahedron Lett., (24), 2205(1973) 、D.
H. R. Barton etal, J. Chem Soc., 3571(1965)、P. M.
Collins etal, J. Chem. SoC.,Perkin I, 1695(1975)
、M. Rudinstein etal, Tetrahedron Lett., (17), 14
45(1975) 、J. W. Walker etal J. Am. Chem. Soc., 11
0, 7170(1988)、S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,1
1(4),191(1985)、H.M.Houlihan etal,Macormolecules,2
1,2001(1988)、P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Com
mun.,532(1972)、 S.Hayase etal,Macromolecules,18,17
99(1985)、E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Soli
d State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houlihan etal,Macr
omolcules,21,2001(1988)、 欧州特許第0290,750号、同0
46,083号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343号、
米国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60-19
8538号、特開昭53-133022号等に記載のo−ニトロベン
ジル型保護基を有する光酸発生剤、
【0073】M. TUNOOK etal,Polymer Preprints Japa
n, 35(8)、 G. Berner etal, J. Rad. Curing, 13(4)、W.
J. Mijs etal, Coating Technol., 55(697), 45(198
3), Akzo、 H. Adachi etal, Polymer Preprints, Japa
n, 37(3)、欧州特許第0199,672号、同84515号、同199,67
2号、同044,115号、同0101,122号、米国特許第4,618,56
4号、同4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64-18143
号、特開平2-245756号、特願平3-140109号等に記載のイ
ミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン
酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号等に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。これらの活性光
線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合
物の添加量は、感光性樹脂組成物の全重量(塗布溶媒を
除く)を基準として通常0.001〜40重量%の範囲
で用いられ、好ましくは0.01〜20重量%、更に好
ましくは0.1〜5重量%の範囲で使用される。
【0074】またアルカリ可溶性基を酸分解基で保護し
た化合物としては−C−O−C−または−C−O−Si
−結合を有する化合物であり以下の例を挙げることがで
きる。 a)少なくとも1つのオルトカルボン酸エステルおよび
カルボン酸アミドアセタール群から選ばれるものを含
み、その化合物が重合性を有することができ、上記の群
が主鎖中の架橋要素として、または側方置換基として生
じ得る様な化合物、 b)主鎖中に反復アセタールおよびケタール群から選ば
れるものを含むオリゴマー性または重合体化合物、 c)少なくとも一種のエノールエステルまたはN−アシ
ルアミノカーボネート群を含む化合物、 d)β−ケトエステルまたはβ−ケトアミドの環状アセ
タールまたはケタール、
【0075】e)シリルエーテル群を含む化合物、 f)シリルエノールエーテル群を含む化合物、 g)アルデヒドまたはケトン成分が、現像剤に対して、
0.1〜100g/リットルの溶解性を有するモノアセ
タールまたはモノケタール、 h)第三級アルコール系のエーテル、および i)第三級アリル位またはベンジル位アルコールのカル
ボン酸エステルおよび炭酸エステル。
【0076】光照射感応性混合物の成分として、酸によ
り開裂し得る種類(a)の化合物は、ドイツ特許公開第
2,610,842号および同第2,928,636号
に記載されている。種類(b)の化合物を含む混合物
は、ドイツ特許第2,306,248号および同第2,
718,254号に記載されている。種類(c)の化合
物は、ヨーロッパ特許公開第0,006,626号およ
び同第0,006,627号に記載されている。種類
(d)の化合物は、ヨーロッパ特許公開第0,202,
196号に記載されており、種類(e)として使用する
化合物は、ドイツ特許公開第3,544,165号およ
び同第3,601,264号に記載されている。種類
(f)の化合物は、ドイツ特許公開第3,730,78
5号および同第3,730,783号に記載されてお
り、種類(g)の化合物は、ドイツ特許公開第3,73
0,783号に記載されている。種類(h)の化合物
は、例えば米国特許第4,603,101号に記載され
ており、種類(i)の化合物は、例えば米国特許第4,
491,628号およびJ. M. Frechetらの論文(J. Im
agingSci. 30,59−64(1986))にも記載されている。こ
れらの酸分解性基で保護された化合物の含有量は感光性
樹脂組成物の全固形分に対して通常1〜60重量%、よ
り好ましくは5〜40重量%である。
【0077】水不溶でアルカリ性水溶液に可溶の合成樹
脂(以下、アルカリ可溶性樹脂という)としては、例え
ばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、フェノール・クレゾール・ホルム
アルデヒド共縮合樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、
ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシス
チレン、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共
重合体の他、特開平7−28244号公報記載のスルホ
ニルイミド系ポリマー、特開平7−36184号公報記
載のカルボキシル基含有ポリマーなどが挙げられる。そ
の他特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特
開平2−866号に記載のスルホンアミド基を有するア
クリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂、等種々のアルカリ
可溶性の高分子化合物も用いることができる。これらの
アルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子量が50
0〜20,000で数平均分子量が200〜60,00
0のものが好ましい。かかるアルカリ可溶性の高分子化
合物は1種類あるいは2種類以上を組合せて使用しても
よく、全組成物の80重量%以下の添加量で用いられ
る。
【0078】更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物
を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。かかるアルカリ可溶性樹脂は、通常、組成物全重量
の90重量%以下の添加量で用いられる。
【0079】感光性樹脂組成物中には、更に必要に応じ
て、感度を高めるための環状酸無水物、露光後直ちに可
視像を得るための焼き出し剤、画像着色剤としての染
料、その他のフィラーなどを加えることができる。
【0080】本発明における感光性樹脂組成物中には、
感度を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有
機酸類を添加することが好ましい。環状酸無水物として
は米国特許第4,115,128号明細書に記載されて
いるように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、
ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ
4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタ
ル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フ
ェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリッ
ト酸等がある。フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−ト
リフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒド
ロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニ
ルメタンなどが挙げられる。
【0081】有機酸類としては、特開昭60−8894
2号公報、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トル
イル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、
フェノール類、有機酸類の感光性樹脂組成物中に占める
割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好まし
くは、0.1〜5重量%である。
【0082】露光後、直ちに可視像を得るための焼き出
し剤としては、露光によって酸を放出する感光性化合物
と、酸と塩を形成して色調を変える有機染料との組み合
わせを挙げることができる。
【0083】露光によって酸を放出する感光性化合物と
しては、例えば、特開昭50−36,209号公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニド;特開昭53−36223号公報に記載さ
れているトリハロメチル−2−ビロンやトリハロメチル
−s−トリアジン;特開昭55−62444号公報に記
載されている種々のo−ナフトキノンジアジド化合物;
特開昭55−77742号公報に記載されている2−ト
リハロメチル−5−アリール−1,3,4−オキサジア
ゾール化合物;ジアゾニウム塩などを挙げることができ
る。これらの化合物は、単独または混合して使用するこ
とができ、その添加量は、組成物全重量に対し、0.3
〜15重量%の範囲が好ましい。
【0084】本発明における、感光性樹脂組成物中に
は、光分解して酸性物質を発生する化合物の光分解生成
物と相互作用することによってその色調を変える有機染
料が少なくとも一種類以上用いられる。このような有機
染料としては、ジフェニルメタン系、トリアリールメタ
ン系、チアジン系、オキサジン系、フェナジン系、キサ
ンテン系、アントラキノン系、イミノナフトキノン系、
アゾメチン系の色素を用いることができる。具体的には
次のようなものである。
【0085】ブリリアントグリーン、エオシン、エチル
バイオレット、エリスロシンB、メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノール
フタレイン、1,3−ジフェニルトリアジン、アリザリ
ンレッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、チモールス
ルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレン
ジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、2,7−
ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴー
レッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、
ナイルブルー2B、ナイルブルーA、フエナセタリン、
メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシ
ン、オイルブルー#603〔オリエント化学工業(株)
製〕、オイルピンク#312〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルレッド5B〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルスカーレット#308〔オリエント
化学工業(株)製〕、オイルレッドOG〔オリエント化
学工業(株)製〕、オイルレッドRR〔オリエント化学
工業(株)製〕、オイルグリーン#502〔オリエント
化学工業(株)製〕、スピロンレッドBEHスペシャル
〔保土谷化学工業(株)製〕、ビクトリアピュアーブル
ーBOH〔保土谷化学工業(株)製〕、
【0086】パテントピュア−ブルー〔住友三国化学工
業(株)製〕、スーダンブルーII〔BASF社製〕、m
−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミン
B、ローダミン6G、ファーストアッシドバイオレット
R、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチ
ルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシ
アニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフ
トキノン、2−カルボステアリルアミノ−4−p−ジヒ
ドロオキシエチル−アミノ−フェニルイミノナフトキノ
ン、p−メトキシベンゾイル−p′−ジエチルアミノ−
o′−メチルフェニルイミノアセトアニリド、シアノ−
p−ジエチルアミノフェニルイミノアセトアニリド、1
−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェ
ニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−
p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン
等。
【0087】特に好ましい有機染料は、トリアリールメ
タン系染料である。トリアリールメタン系染料では、特
開昭62−2932471号公報、特願平4−1128
44号明細書に示されているような対アニオンとしてス
ルホン酸化合物を有するものが特に有用である。これら
の染料は単独又は混合して使用することができ、添加量
は感光性樹脂組成物の総重量に対して0.3〜15重量
%が好ましい。また必要に応じて他の染料、顔料と併用
でき、その使用量は染料及び顔料の総重量に対して70
重量%以下、より好ましくは50重量%以下である。
【0088】次に本発明の感光性樹脂組成物において、
ネガ型印刷版である光重合性印刷版の感光層として用い
られる場合の感光性樹脂組成物について説明する。本発
明の感光性樹脂組成物が光重合性感光性樹脂組成物であ
る場合の、その主な成分としては、前記フッ素系ポリマ
ーの他、付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合
物、光重合開始剤等であり、必要に応じ、熱重合禁止剤
等の化合物が添加される。
【0089】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましく
は2個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量
体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつもので
ある。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が
あげられる。
【0090】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリレ−
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。
【0091】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリト−ルペンタメタアクリレ
−ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。
【0092】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
【0093】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。
【0094】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。 CH2 =C(R5 )COOCH2 CH(R6 )OH (A) (ただし、R5 およびR6 はHあるいはCH3 を示
す。)
【0095】また、特開昭51−37193号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜30
8ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの使用量は、全成分に対して5〜70
重量%(以下%と略称する。)、好ましくは10〜50
%である。
【0096】本発明で用いられる光重合性の感光性樹脂
組成物に含まれる光重合開始剤としては、使用する光源
の波長により、特許、文献等で公知である種々の光重合
開始剤、あるいは2種以上の光重合開始剤の併用系(光
重合開始系)を適宜選択して使用することができる。例
えば400nm付近の光を光源として用いる場合、ベン
ジル、ベンゾインエーテル、ミヒラーズケトン、アント
ラキノン、チオキサントン、アクリジン、フェナジン、
ベンゾフェノン等が広く使用されている。
【0097】また、400nm以上の可視光線、Arレ
ーザー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAG
レーザーを光源とする場合にも、種々の光重合開始系が
提案されており、例えば、米国特許第2,850,44
5号に記載のある種の光還元性染料、例えばロ−ズベン
ガル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と
光重合開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料と
アミンの複合開始系(特公昭44−20189号)、ヘ
キサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料と
の併用系(特公昭45−37377号)、ヘキサアリー
ルビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデン
ケトンの系(特公昭47−2528号、特開昭54−1
55292号)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と
染料の系(特開昭48−84183号)、環状トリアジ
ンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024
号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−1
12681号、特開昭58−15503号)、ビイミダ
ゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−
140203号)、有機過酸化物と色素の系(特開昭5
9−1504号、特開昭59−140203号、特開昭
59−189340号、特開昭62−174203号、
特公昭62−1641号、米国特許第4766055
号)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−2
58903号、特開平2−63054号など)、
【0098】染料とボレ−ト化合物の系(特開昭62−
143044号、特開昭62−150242号、特開昭
64−13140号、特開昭64−13141号、特開
昭64−13142号、特開昭64−13143号、特
開昭64−13144号、特開昭64−17048号、
特開平1−229003号、特開平1−298348
号、特開平1−138204号など)、ローダニン環を
有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−1796
43号、特開平2−244050号)、チタノセンと3
−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110
号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基ある
いはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和
化合物を組み合わせた系(特開平4−221958号、
特開平4−219756号)、チタノセンと特定のメロ
シアニン色素の系(特開平6−295061号)、チタ
ノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−
334897号)等を挙げることができる。これらの光
重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化合物100
重量部に対し、0.05〜100重量部、好ましくは
0.1〜70重量部、更に好ましくは0.2〜50重量
部の範囲で用いることができる。
【0099】また、本発明の光重合性の感光性樹脂組成
物においては、以上の基本成分の他に感光性樹脂組成物
の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性
不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱
重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁
止剤としてはハロイドキノン、p−メトキシフェノー
ル、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、
t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオ
ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,
2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第
一セリウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミ
ンアルミニウム塩等があげられる。熱重合禁止剤の添加
量は、全組成物の重量に対して約0.01%〜約5%が
好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防
止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂
肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層
の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量
は、全組成物の約0.5%〜約10%が好ましい。
【0100】本発明の感光性樹脂組成物として光重合性
のものを用いて感光層とした平版印刷版は、その光重合
性感光層の上に、酸素による重合阻害を防止する目的
で、酸素遮断性保護層を設けることができる。酸素遮断
性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体としては、ポリ
ビニルアルコール、およびその部分エステル、エーテ
ル、およびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を
有せしめるような実質的量の未置換ビニルアルコール単
位を含有するその共重合体が挙げられる。ポリビニルア
ルコールとしては、71〜100%加水分解され、重合
度が300〜2400の範囲のものが挙げられる。
【0101】具体的には株式会社クラレ製PVA−10
5,PVA−110,PVA−117,PVA−117
H,PVA−120,PVA−124,PVA−124
H,PVA−CS,PVA−CST,PVA−HC,P
VA−203,PVA−204,PVA−205,PV
A−210,PVA−217,PVA−220,PVA
−224,PVA−217EE,PVA−217E,P
VA−220E,PVA−224E,PVA−405,
PVA−420,PVA−613,L−8等があげられ
る。上記の共重合体としては、88〜100%加水分解
されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプ
ロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニル
アセタール並びにそれらの共重合体が挙げられる。その
他有用な重合体としてはポリビニルピロリドン、ゼラチ
ンおよびアラビアゴムが挙げられ、これらは単独また
は、併用して用いても良い。
【0102】本発明の酸素遮断性保護層を塗布する際用
いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エ
タノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして
塗布溶液中の固形分の濃度は1〜20重量%が適当であ
る。本発明の酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上
させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための
水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶
性の可塑剤としてはたとえばプロピオンアミド、シクロ
ヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等があ
る。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーなどを
添加しても良い。酸素遮断性保護層の被覆量は乾燥後の
重量で約0.1/m2〜約15/m2の範囲が適当である。より好
ましくは1.0/m2〜約5.0/m2である。
【0103】本発明は上記のキノンジアジド、もしくは
酸分解性基で保護されたアルカリ可溶性基を有する化合
物を用いたポジ型PS版、光重合系を用いたネガ型PS版の
ほかに次のタイプの平版印刷版材料にも同様に用いるこ
とができる。 (1) ジアゾ樹脂を用いたネガ型平版印刷版材料。 (2) 光架橋型樹脂を用いたネガ型平版印刷版材料。 (3) アルカリ可溶バインダー、酸発生剤、酸(熱)架橋
性化合物を含むネガ型のレーザー直描型平版印刷材料。 (4) アルカリ可溶バインダー、熱分解性でありかつ分解
しない状態では該アルカリ可溶性バインダーの溶解性を
実質的に低下させる物質をさらに含むポジ型のレーザー
直描型平版印刷材料。
【0104】以下順次各例に使用する材料を詳しく説明
する。 (1) に使用するジアゾ樹脂としては、例えばジアゾジア
リールアミンと活性カルボニル化合物との縮合物の塩に
代表されるジアゾ樹脂があり、感光性、水不溶性で有機
溶剤可溶性のものが好ましい。特に好適なジアゾ樹脂と
しては、例えば4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−3−メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−
メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3′−メチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−メトキシジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−3−メチル−4′−エトキシジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−3−メトキシジフェニル
アミン等とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、4,4′−ビス
−メトキシメチルジフェニルエーテル等との縮合物の有
機酸塩または無機酸塩である。
【0105】この際の有機酸としては、例えばメタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、
キシレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ドデシル
ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、プロピル
ナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン−5−スルホン酸等が挙げられ、無機酸として
は、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸、チ
オシアン酸等が挙げられる。更に、特開昭54−301
21号公報に記載の主鎖がポリエステル基であるジアゾ
樹脂;特開昭61−273538号公報に記載の無水カ
ルボン酸残基を有する重合体と、ヒドロキシル基を有す
るジアゾ化合物を反応してなるジアゾ樹脂;ポリイソシ
アネート化合物とヒドロキシル基を有するジアゾ化合物
を反応してなるジアゾ樹脂等も使用しうる。
【0106】これらのジアゾ樹脂の使用量は、組成物の
固形分に対して0〜40重量%の範囲が好ましく、また
必要に応じて、2種以上のジアゾ樹脂を併用してもよ
い。またネガ型感光性樹脂組成物を調製する際には、通
常有機高分子結合剤を併用する。このような有機高分子
結合剤としては、例えば、アクリル樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール
樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック樹脂等が挙げられ
る。更に、性能向上のために、公知の添加剤、例えば、
熱重合防止剤、染料、顔料、可塑剤、安定性向上剤など
を加えることができる。
【0107】好適な染料としては、例えば、クリスタル
バイオレット、マラカイグリーン、ビクトリアブルー、
メチレンブルー、エチルバイオレット、ローダミンB等
の塩基性油溶性染料などが挙げられる。市販品として
は、例えば、「ビクトリアピュアブルーBOH」(保土
谷化学工業(株)社製)、「オイルブルー#603」
(オリエント化学工業(株)社製)等が挙げられる。顔
料としては、例えば、フタロシアニンブルー、フタロシ
アニングリーン、ジオキサジンバイオレット、キナクリ
ドンレッド等が挙げられる。
【0108】可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレ
ート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、リ
ン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、リン酸トリクレ
ジル、リン酸トリ(2−クロロエチル)、クエン酸トリ
ブチル等が挙げられる。更に公知の安定性向上剤とし
て、例えば、リン酸、亜リン酸、シュウ酸、酒石酸、リ
ンゴ酸、クエン酸、ジピコリン酸、ポリアクリル酸、ベ
ンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸なども併用する
ことができる。これら各種の添加剤の添加量は、その目
的によって異なるが、一般に、感光性樹脂組成物の固形
分の0〜30重量%の範囲が好ましい。
【0109】(2) に使用する光架橋型樹脂としては、水
性アルカリ現像液に対して親和性を持つ光架橋型樹脂が
好ましく、例えば、特公昭54−15711号公報に記
載の桂皮酸基とカルボキシル基を有する共重合体;特開
昭60−165646号公報に記載のフェニレンジアク
リル酸残基とカルボキシル基を有するポリエステル樹
脂;特開昭60−203630号に記載のフェニレンジ
アクリル酸残基とフェノール性水酸基を有するポリエス
テル樹脂;特公昭57−42858号に記載のフェニレ
ンジアクリル酸残基とナトリウムイミノジスルホニル基
を有するポリエステル樹脂;特開昭59−208552
号に記載の側鎖にアジド基とカルボキシル基を有する重
合体、特開平7−295212号に記載の側鎖にマレイ
ミド基を有する重合体等が使用できる。
【0110】(3) に使用するアルカリ可溶バインダー、
酸発生剤は先に述べたキノンジアジド、または酸分解性
基で保護されたアルカリ可溶性基を有する化合物を用い
たポジ型PS版で使用した材料と同じものを使用すること
ができる。酸(熱)架橋性化合物とは、酸の存在下で架
橋する化合物を指し、例えば、ヒドロキシメチル基、ア
セトキシメチル基、若しくはアルコキシメチル基でポリ
置換されている芳香族化合物及び複素環化合物が挙げら
れるが、その中でも好ましい例として、フェノール類と
アルデヒド類を塩基性条件下で縮合させた化合物が挙げ
られる。前記の化合物のうち好ましいものとしては、例
えば、フェノールとホルムアルデヒドを前記のように塩
基性条件下で縮合させた化合物、同様にして、m−クレ
ゾールとホルムアルデヒドから得られる化合物、ビスフ
ェノールAとホルムアルデヒドから得られる化合物、
4,4′−ビスフェノールとホルムアルデヒドから得ら
れる化合物、その他、GB第2,082,339号にレ
ゾール樹脂として開示された化合物等が挙げられる。
【0111】これらの酸架橋性化合物は、重量平均分子
量が500〜100,000で数平均分子量が200〜
50,000のものが好ましい。他の好ましい例として
は、EP−A第0,212,482号に開示されている
アルコキシメチル又はオキシラニルメチル基で置換され
た芳香族化合物、EP−A第0,133,216号、D
E−A第3,634,671号、DE第3,711,2
64号に開示された単量体及びオリゴマーメラミン−ホ
ルムアルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮
合物、EP−A第0,212,482号に開示されたア
ルコキシ置換化合物等がある。さらに他の好ましい例
は、例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチ
ル、N−アルコキシメチル又はN−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体である。
このなかでは、N−アルコキシメチル誘導体が特に好ま
しい。
【0112】また、低分子量又はオリゴマーシラノール
は、ケイ素含有架橋剤として使用できる。これらの例
は、ジメチル−及びジフェニル−シランジオール、並び
に既に予備縮合され且つこれらの単位を含有するオリゴ
マーであり、例えば、EP−A第0,377,155号
に開示されたものを使用できる。アルコキシメチル基で
ポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のなかで
は、ヒドロキシル基に隣接する位置にアルコキシメチル
基を有し、且つそのアルコキシメチル基のアルコキシ基
が炭素数18以下の化合物を好ましい例として挙げるこ
とができ、特に好ましい例として、下記一般式(B)〜
(E)の化合物を挙げることができる。
【0113】
【化16】
【0114】
【化17】
【0115】式中L1 〜L8 は同じであっても異なって
いてもよく、メトキシメチル、エトキシメチル等のよう
に炭素数18以下のアルコキシ基で置換された、アルコ
キシメチル基を示す。これらは架橋効率が高く、耐刷性
を向上させることができる点で好ましい。上記の熱によ
り架橋する化合物は、1種類のみで使用してもよいし、
2種類以上を組み合わせて使用してもよい。本発明に使
用される酸架橋性化合物は、平版印刷版材料の全固形分
中、5〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、特
に好ましくは20〜70重量%の添加量で用いられる。
酸架橋性化合物の添加量が5重量%未満であると得られ
る平版印刷版材料の感光層の耐久性が悪化し、また、8
0重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。
【0116】(4) に使用するアルカリ可溶バインダーは
先に述べたキノンジアジドを用いたポジ型PS版で使用し
た材料と同じものを使用することができる。熱分解性で
ありかつ分解しない状態では該アルカリ可溶性バインダ
ーの溶解性を実質的に低下させる物質としては、種々の
オニウム塩、キノンジアジド化合物類等が、アルカリ可
溶性バインダーの溶解性を低下させることに優れてお
り、好適に用いられる。オニウム塩としてはジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
等を挙げることができる。
【0117】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば、S.I.Schle
singer,Photogr.Sci.Eng.,1
8,387(1974)、T.S.Bal et a
l.,Polymer,21,423(1980)、特
開平5−158230号公報等に記載のジアゾニウム
塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,
056号、特開平3−140140号等に記載のアンモ
ニウム塩、D.C.Necker et al.,Ma
cromolecules,17,2468(198
4)、 C.S.Wen et al.,Teh,Pr
oc.Conf.Rad.Curing ASIA,p
478,Tokyo,Oct(1988)、米国特許第
4,069,055号、同4,069,056号等に記
載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et
al.,Macromolecules,10
(6),1307(1977)、Chem.& En
g.News,Nov.28,p31(1988)、欧
州特許第104,143号、米国特許第339,049
号、同第410,201号、特開平2-150848号、特開平
2-296514号等に記載のヨードニウム塩、
【0118】J.V.Crivello et al., Polymer J. 17, 73
(1985)、J.V.Crivello et al., J.Org. Chem., 43,3055
(1978)、W.R.Watt et al., J.Polymer Sci., Polymer C
hem. Ed., 22, 1789(1984)、J.V.Crivello et al., Pol
ymer Bull., 14,279(1985)、J.V.Crivello et al., Mac
romolecules, 14(5), 1141(1981)、J.V.Crivello et a
l., J.Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17,2877(197
9) 、欧州特許第370,693号、米国特許第3,902,114号、
欧州特許第233,567 号、同297,443 号、同297,442 号、
米国特許第4,933,377 号、同410,201 号、同339,049
号、同4,760,013 号、同4,734,444 号、同2,833,827
号、独国特許第2,904,626 号、同3,604,580 号、同3,60
4,581 号等に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et
al., Macromolecules, 10(6), 1307(1977)、J.V.Crivel
lo et al., J.Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17,1
047(1979) 等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et a
l., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478, Toky
o, Oct(1988) 等に記載のアルソニウム塩等が挙げられ
る。
【0119】本発明においては、これらのうち特にジア
ゾニウム塩が好ましい。また、特に好適なジアゾニウム
塩としては、特開平5−158230号公報に記載のも
のが挙げられる。好適なキノンジアジド化合物類として
は、o−キノンジアジド化合物を挙げることができる。
【0120】本発明に用いられるo−キノンジアジド化
合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有す
る化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すもので
あり、種々の構造の化合物を用いることができる。つま
り、o−キノンジアジドは熱分解によりアルカリ可溶性
バインダーの溶解抑制能を失うことと、o−キノンジア
ジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方
の効果により、感材系の溶解性を助ける。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J
. コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」
(John Wiley & Sons. Inc. ) 第339〜352頁に記
載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒド
ロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させた
o−キノンジアジドのスルホン酸エステルまたはスルホ
ン酸アミドが好適である。また、特公昭43−2840
3号公報に記載されているようなベンゾキノン−(1,
2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキノ
ン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライド
とピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許
第3,046,120 号および同第3,188,210 号等に記載されて
いるベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸ク
ロライドまたはナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデ
ヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【0121】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の
有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特
許関連の文献に報告があり知られている。例えば、特開
昭47-5303 号、特開昭48-63802号、特開昭48-63803号、
特開昭48-96575号、特開昭49-38701号、特開昭48-13354
号、特公昭41-11222号、特公昭45-9610 号、特公昭49-1
7481号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、
同第3,554,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,277,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号等の各文献
(明細書) 中に記載されているものを挙げることができ
る。
【0122】本発明で使用されるo−キノンジアジド化
合物の添加量は、好ましくは平版印刷版材料の全固形分
に対して1〜50重量%、さらに好ましくは5〜30重
量%、特に好ましくは10〜30重量%の範囲である。
これらの化合物は単独で使用することができるが、数種
の混合物として使用してもよい。o−キノンジアジド化
合物の添加量が1重量%未満であると画像の記録性が悪
化し、一方、50重量%を超えると画像部の耐久性が劣
化したり感度が低下したりする。
【0123】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、およびパラトルエンスルホン酸等を挙げることが
できる。これらの中でも特に、六フッ化リン酸、トリイ
ソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸の如きアルキル芳香族スルホン酸が好
適である。o−キノンジアジド化合物以外の上記化合物
の添加量は、好ましくは平版印刷版材料の全固形分に対
して1〜50重量%、さらに好ましくは5〜30重量
%、特に好ましくは10〜30重量%の範囲である。
【0124】その他本発明の組成物中には、画像のイン
キ着肉性を向上させるための、疎水基を有する各種樹
脂、例えばオクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹
脂、t−ブチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、t
−ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変
性ノボラック樹脂、及びこれら変性ノボラック樹脂のo
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル等;塗膜の
可撓性を改良するための可塑剤、例えばフタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジオクチル、ブチルグリコレート、リン酸
トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等、種々の目的に
応じて各種添加剤を加えることができる。これらの添加
量は組成物全重量に対して、0.01〜30重量%の範
囲が好ましい。
【0125】更にこれらの組成物中には、皮膜の耐摩耗
性を更に向上させるための公知の樹脂を添加できる。こ
れらの樹脂としては、例えばポリビニルアセタール樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹
脂、ナイロン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等があ
り、単独または混合して使用することができる。添加量
は組成物全重量に対して、2〜40重量%の範囲が好ま
しい。
【0126】また、本発明における感光性樹脂組成物中
には、現像のラチチュードを広げるために、特開昭62
−251740号公報や、特開平4−68355号公報
に記載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテ
ート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリ
セリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げ
られ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、アモーゲンK(商品名、第一工業製薬
(株)製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、
2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシ
エチルイミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品
名、三洋化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)など
が挙げられる。上記非イオン性界面活性剤、両性界面活
性剤の感光性樹脂組成物中に占める割合は0.05〜1
5重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量
%である。
【0127】塗布面質の向上;本発明における感光性樹
脂組成物中には、塗布面質を向上するための界面活性
剤、例えば、特開昭62−170950号公報に記載さ
れているようなフッ素系界面活性剤を添加することがで
きる。好ましい添加量は、全感光性樹脂組成物の0.0
01〜1.0重量%であり、更に好ましくは0.005
〜0.5重量%である。
【0128】また本発明における感光性樹脂組成物中に
は黄色系染料、好ましくは417nmの吸光度が436nmの吸光
度の70%以上ある黄色系染料を添加することができる。
本発明のフッ素系ポリマーを含んだ感光性樹脂組成物か
ら平版印刷版用感光材料を得る場合には、まずそれが適
当な支持体上に設けられる。本発明のフッ素系ポリマー
を含んだ感光性樹脂組成物は、下記の有機溶剤の単独あ
るいは混合したものに溶解または分散され、支持体に塗
布され乾燥される。有機溶剤としては、公知慣用のもの
がいずれも使用できるが、沸点40℃〜200℃、特に
60℃〜160℃の範囲のものが、乾燥の際における有
利さから選択される。勿論、本発明の界面活性剤が溶解
するものを選択するのが良い。
【0129】有機溶剤としては、例えばメチルアルコー
ル、エチルアルコール、n−またはイソ−プロピルアル
コール、n−またはイソ−ブチルアルコール、ジアセト
ンアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケト
ン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエ
チルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、
メトキシベンゼン等の炭化水素類、エチルアセテート、
n−またはイソ−プロピルアセテート、n−またはイソ
−ブチルアセテート、エチルブチルアセテート、ヘキシ
ルアセテート等の酢酸エステル類、メチレンジクロライ
ド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン等のハ
ロゲン化物、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテ
ル、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、
【0130】エチレングリコール、メチルセロソルブ、
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、ジエ
チルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブアセテート、メトキシメトキシ
エタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノール等
の多価アルコールとその誘導体、ジメチルスルホキシ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド等の特殊溶剤などが
単独あるいは混合して好適に使用される。そして、塗布
する組成物中の固形分の濃度は、2〜50重量%とする
のが適当である。
【0131】本発明の組成物の塗布方法としては、例え
ばロールコーティング、ディップコーティング、エアナ
イフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオ
フセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレー
ドコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレ
ーコーティング等の方法が用いられ、乾燥後の重量にし
て0.3〜4.0g/m2が好ましい。塗布量が小さくな
るにつれて画像を得るための露光量は小さくて済むが、
膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつれ、露光量
を必要とするが感光膜は強くなり、例えば、印刷版とし
て用いた場合、印刷可能枚数の高い(高耐刷の)印刷版
が得られる。
【0132】支持体上に塗布された感光性樹脂組成物の
乾燥は、通常加熱された空気によって行われる。加熱は
30℃〜200℃特に、40℃〜140℃の範囲が好適
である。乾燥の温度は乾燥中一定に保たれる方法だけで
なく段階的に上昇させる方法も実施し得る。また、乾燥
風は除湿することによって好結果が得られる場合もあ
る。加熱された空気は、塗布面に対し0.1m/秒〜3
0m/秒、特に0.5m/秒〜20m/秒の割合で供給
するのが好適である。
【0133】マット層;上記のようにして設けられた感
光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真
空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マッ
ト層を設けることが好ましい。具体的には、特開昭50
−125805号、特公昭57−6582号、同61−
28986号の各公報に記載されているようなマット層
を設ける方法、特公昭62−62337号公報に記載さ
れているような固体粉末を熱融着させる方法などが挙げ
られる。
【0134】感光性平版印刷版等に使用される支持体
は、寸度的に安定な板状物であり、これ迄印刷版の支持
体として使用されたものが含まれ、好適に使用すること
ができる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス
(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン
など)がラミネートされた紙、例えばアルミニウム(ア
ルミニウム合金も含む)、亜鉛、鉄、銅などのような金
属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプ
ラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネー
トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム
などが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。ア
ルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属
とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物
は、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得
る程度の量の不純物をも含むものである。
【0135】支持体は、必要に応じて表面処理される。
例えば感光性平版印刷版の場合には、支持体の表面に、
親水化処理が施される。また金属、特にアルミニウムの
表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸
ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水
溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処
理がなされていることが好ましい。また、米国特許第
2,714,066号明細書に記載されているように、
砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬処理し
たアルミニウム板、米国特許第3,181,461号明
細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化
処理を行った後にアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬
処理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理
は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機
酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上
を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として
電流を流すことにより実施される。
【0136】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為に施される以外に、その上に設けられる感光性樹脂
組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を
向上させる為に施されるものである。アルミニウム板を
砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を
除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるた
めにその表面の前処理を施しても良い。前者のために
は、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられてい
る。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行わ
れている。
【0137】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭54−31187号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭55−137993号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.0μm
となるような範囲で施されることが好ましい。このよう
にして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水
洗および化学的にエッチングされる。
【0138】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等の
エッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用
するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間1
分あたり0.3グラムから40g/m2になる様に行なわ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。
【0139】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が0.5
〜10g/m2の範囲となるように処理されることが好ま
しい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度
が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望
ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デス
マット処理される。デスマット処理に使用される酸は、
硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水
素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミニウ
ム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化
は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうこ
とができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シ
ュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるい
はそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液
中でアルミニウムに直流または交流の電流を流すと、ア
ルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させること
ができる。
【0140】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70
℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜10
0V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法および米国特許第3,511,
661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化さ
れ、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応
じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米
国特許第2,714,066号及び同第3,181,4
61号に開示されているようなアルカリ金属シリケー
ト、例えばケイ酸ナトリウム水溶液または特公昭36−
22063号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸
カリウムおよび米国特許第4,153,461号明細書
に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理す
る方法がある。
【0141】有機下塗層;本発明の感光性平版印刷版に
は感光層を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画
像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる有機下
塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキ
シメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2
−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホス
ホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、
ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホ
スホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホス
ホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフ
ェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸および
グリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよ
いフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アル
キルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有
機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ
酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒド
ロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれる
が、二種以上混合して用いてもよい。
【0142】その他ポリ(p−ビニル安息香酸)など下
記一般式(F)で示される構造単位を分子中に有する高
分子化合物群の中から選ばれる少なくとも1種の化合物
を用いることができる。
【0143】
【化18】
【0144】前記一般式(F)において、R1は水素原
子、ハロゲン原子またはアルキル基を表すが、好ましく
は、水素原子、塩素原子、または炭素数1〜4個のアル
キル基を表す。特に好ましくは水素原子またはメチル基
を表す。R2とR3は各々独立して、水素原子、水酸基、
ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族
基、置換芳香族基、−OR4、−COOR5、−CONH
6、−COR7もしくは−CNを表すか、またはR2
3が結合して環を形成しても良い。ここでR4〜R7
各々アルキル基または芳香族基を表す。より好ましいR
2とR3は、各々独立して、水素原子、水酸基、塩素原
子、炭素数1〜4個のアルキル基、フェニル基、−OR
4、−COOR5、−CONHR6、−COR7、−CNで
あり、ここでR4〜R7は炭素数1〜4個のアルキル基ま
たはフェニル基である。特に好ましいR2とR3は、各々
独立して、水素原子、水酸基、メチル基またはメトキシ
基である。
【0145】Xは水素原子、金属原子、NR8910
11を表し、ここで、R8〜R11は、各々独立して、水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族基、置換芳
香族基を表すか、またはR8とR9が結合して環を形成し
ても良い。より好ましいXは、水素原子、一価の金属原
子、NR891011であり、ここで、R8〜R11は、
各々独立して、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基
またはフェニル基である。特に好ましいXは、水素原
子、ナトリウム、カリウムまたはNR8910 11を表
し、ここで、R8〜R11は、各々独立して、水素原子、
メチル基、エチル基を表す。nは1〜3の整数を表す
が、好ましくは1または2を表し、より好ましくは1を
表す。
【0146】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05
〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましく
は25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、
好ましくは2秒〜1分である。
【0147】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1
〜12の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。さらにこの溶液には、下記一般式(a)
で示される化合物を添加することもできる。 一般式(a) (HO)m −R1 −(COOH)n 但し、R1 は置換基を有してもよい炭素数14以下のア
リーレン基を表し、m,nは独立して1から3の整数を
表す。上記一般式(a)で示される化合物の具体的な例
として、3−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息
香酸、サリチル酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、
2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−3
−ナフトエ酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、10−
ヒドロキシ−9−アントラセンカルボン酸などが挙げら
れる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、1〜100mg/
m2が適当であり、好ましくは2〜70mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2より少ないと十分な耐刷性能が得
られない。また、100mg/m2より大きくても同様であ
る。
【0148】バックコート;支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平5−45885号公報記載の有機高分子
化合物および特開平6−35174号公報記載の有機ま
たは無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得ら
れる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC25)
4、Si(OC37)4、Si(OC49)4などのケイ素のア
ルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる
金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好まし
い。
【0149】上記のようにして作成された平版印刷版
は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光に用い
られる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、
X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg線、
i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レ
ーザービーム)も使用される。レーザービームとしては
ヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプ
トンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrF
エキシマレーザー等が挙げられる。またレーザー直描型
印刷版においては近赤外から赤外領域に発光波長を持つ
光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ま
しい。
【0150】本発明の感光性樹脂組成物を用いる平版印
刷版の現像液として好ましいものは、(a)非還元糖か
ら選ばれる少なくとも一種の糖類および(b)少なくと
も一種の塩基を含有し、pHが9.0〜13.5の範囲
にある現像液である。以下この現像液について詳しく説
明する。なお、本明細書中において、特にことわりのな
い限り、現像液とは現像開始液(狭義の現像液)と現像
補充液とを意味する。
【0151】この現像液は、その主成分が、非還元糖か
ら選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種
の塩基からなり、液のpHが9.0〜13.5の範囲で
あることが好ましい。かかる非還元糖とは、遊離のアル
デヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類で
あり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖
類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素
添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適
に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロー
スやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配
糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げら
れる。また糖アルコールとしてはD,L−アラビット、
リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−
マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズ
リシットおよびアロズルシットなどが挙げられる。更に
二糖類の水素添加で得られるマルチトールおよびオリゴ
糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)が好適に
用いられる。これらの中で特に好ましい非還元糖は糖ア
ルコールとサッカロースであり、特にD−ソルビット、
サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に緩衝作用
があることと、低価格であることで好ましい。
【0152】これらの非還元糖は、単独もしくは二種以
上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める
割合は0.1〜30重量%が好ましく、更に好ましく
は、1〜20重量%である。この範囲以下では十分な緩
衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃
縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。尚、還
元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐色
に変色し、pHも徐々に下がり、よって現像性が低下す
るという問題点がある。
【0153】非還元糖に組み合わせる塩基としては従来
より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リ
ン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモ
ニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン
酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸
カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が
挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。
【0154】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいの
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである、その理由
は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより
広いpH領域でpH調整が可能となるためである。ま
た、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用がある
ので好ましい。これらのアルカリ剤は現像液のpHを
9.0〜13.5の範囲になるように添加され、その添
加量は所望のpH、非還元糖の種類と添加量によって決
められるが、より好ましいpH範囲は10.0〜13.
2である。
【0155】現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基
からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液
として用いられる弱酸としては、解離定数(pKa)が
10.0〜13.2のものが好ましい。このような弱酸
としては、Pergamon Press社発行のIONISATION CONSTAN
TS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記載
されているものから選ばれ、例えば2,2,3,3−テ
トラフルオロプロパノール−1(PKa12.74)、
トリフルオロエタノール(同12.37)、トリクロロ
エタノール(同12.24)などのアルコール類、ピリ
ジン−2−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4
−アルデヒド(同12.05)などのアルデヒド類、サ
リチル酸(同13.0)、3−ヒドロキシ−2−ナフト
エ酸(同12.84)、カテコール(同12.6)、没
食子酸(同12.4)、スルホサリチル酸(同11.
7)、3,4−ジヒドロキシスルホン酸(同12.
2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同11.9
4)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン(同11.
82)、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロー
ル(同11.34)、o−クレゾール(同10.3
3)、レゾルシノール(同11.27)、p−クレゾー
ル(同10.27)、m−クレゾール(同10.09)
などのフェノール性水酸基を有する化合物、
【0156】2−ブタノンオキシム(同12.45)、
アセトキシム(同12.42)、1,2−シクロヘプタ
ンジオンジオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグ
リオキシム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム
(同11.37)、アセトフェノンオキシム(同11.
35)などのオキシム類、アデノシン(同12.5
6)、イノシン(同12.5)、グアニン(同12.
3)、シトシン(同12.2)、ヒポキサンチン(同1
2.1)、キサンチン(同11.9)などの核酸関連物
質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸(同12.
32)、1−アミノ−3,3,3−トリフルオロ安息香
酸(同12.29)、イソプロピリデンジホスホン酸
(同12.10)、1,1−エチリデンジホスホン酸
(同11.54)、1,1−エチリデンジホスホン酸1
−ヒドロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾール
(同12.86)、チオベンズアミド(同12.8)、
ピコリンチオアミド(同12.55)、バルビツル酸
(同12.5)などの弱酸が挙げられる。
【0157】これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホ
サリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合
わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わ
せて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組
み合わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用さ
れる。
【0158】現像液には、現像性の促進や現像カスの分
散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要
に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ま
しい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノ
ニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。
【0159】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、
【0160】脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキ
シアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、
ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム
塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム
塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキ
ルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エス
テル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、
【0161】ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物
類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テ
トラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウ
ム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリ
エチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性
剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スル
ホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類
などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活
性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキ
シメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレ
ンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもで
き、それらの界面活性剤もまた包含される。
【0162】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に0.001〜10重量
%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加さ
れる。
【0163】現像液には、種々の現像安定化剤を用いる
ことができる。それらの好ましい例として、特開平6−
282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレン
グリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキ
シドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチ
ルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩および
ジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム
塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭50
−51324号公報記載のアニオン界面活性剤または両
性界面活性剤、また特開昭55−95946号公報記載
の水溶性カチオニックポリマー、特開昭56−1425
28号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質
を挙げることができる。
【0164】更に、特開昭59−84241号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載
の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公
報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
【0165】現像液には更に必要により有機溶剤が加え
られる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が
約10重量%以下のものが適しており、好ましくは5重
量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエ
タノール、2−フェニルエタノール、3−フェニル−1
−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノール、4−
フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1−ブタノ
ール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシ
エタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メ
トキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアル
コール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2
−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサ
ノールおよび4−メチルシクロヘキサノール、N−フェ
ニルエタノールアミンおよびN−フェニルジエタノール
アミンなどを挙げることができる。有機溶剤の含有量は
使用液の総重量に対して0.1〜5重量%である。その
使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機
溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させるこ
とが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶
剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従っ
て、良好な現像性の確保が期待できなくなるからであ
る。
【0166】現像液には更に還元剤を加えることができ
る。これは印刷版の汚れを防止するものであり、特に感
光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型感光性平版印刷
版を現像する際に有効である、好ましい有機還元剤とし
ては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メ
トキシキノン、レゾルシン、2−メチルレゾルシンなど
のフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒ
ドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好まし
い無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リ
ン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸お
よび亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。これ
らの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜
硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対し
て好ましくは、0.05〜5重量%の範囲で含有され
る。
【0167】現像液には更に有機カルボン酸を加えるこ
ともできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜
20の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸であ
る。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン
酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチ
ン酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特
に好ましいのは炭素数8〜12のアルカン酸である。ま
た炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分
かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸とし
てはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などに
カルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、o
−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキ
シ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o−アミノ安息
香酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロシ安息香
酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−
ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有
効である。
【0168】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、0.1重量%より低いと効果が十分でなく、また1
0重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
0.1〜10重量%であり、より好ましくは0.5〜4
重量%である。
【0169】現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、
着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤などを含有さ
せることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリ
ン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモ
ニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレント
リアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニト
リロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ
酢酸および1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ
酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリ
ウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ
(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メ
チレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メ
チレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ
(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリ(メチレンホスホン酸)および1−ヒドロキ
シタエン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナトリウム
塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げることがで
きる。
【0170】このような硬水軟化剤はそのキレート化と
使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値が
変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液
に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.
5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量では
所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より
多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてく
る。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時
よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用
時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利であ
る。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさ
ない程度が適当である。
【0171】本発明の感光性樹脂組成物を用いる平版印
刷版の現像液としてはまた、特開平6−282079号
公報記載の現像液も使用できる。これは、SiO2/M2
O(Mはアルカリ金属を示す)のモル比が0.5〜2.
0の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を4以上有する糖ア
ルコールに5モル以上のエチレンオキシドを付加して得
られる水溶性エチレンオキシド付加化合物を含有する現
像液である。糖アルコールは糖のアルデヒド基およびケ
トン基を還元してそれぞれ第一、第二アルコール基とし
たものに相当する多価アルコールである。糖アルコール
の貝体的な例としては、D,L−トレイット、エリトリ
ット、D,L−アラビット、リビット、キシリット、
D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イ
ジット、D,L−タリット、ズルシット、アロズルシッ
トなどであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、
テトラ、ペンタおよびヘキサグリセリンなども挙げられ
る。上記水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖ア
ルコール1モルに対し5モル以上のエチレンオキシドを
付加することにより得られる。さらにエチレンオキシド
付加化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解
性が許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。こ
れらのエチレンオキシド付加化合物は単独もしくは二種
以上を組み合わせて用いてもよい。これらの水溶性エチ
レンオキシド付加化合物の添加量は現像液(使用液)に
対して0.001〜5重量%が適しており、より好まし
くは0.001〜2重量%である。
【0172】この現像液にはさらに、現像性の促進や現
像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める
目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。
【0173】かかる組成の現像液で現像処理されたPS
版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや
保護ガム液で後処理を施される。本発明のPS版の後処
理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることがで
きる。
【0174】近年、型版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、PS版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、PS版を搬送する装置と、各処理液槽お
よびスプレー装置からなり、露光済みのPS版を水平に
搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレー
ノズルから吹き付けて現像および後処理するものであ
る。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中
ガイドロールなどによってPS版を浸漬搬送させて現像
処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に
供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで
再利用する方法も知られている。
【0175】このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼動時間等に応じてそれぞれの補充液を補充
しながら処理することができる。また、実質的に未使用
の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用で
きる。このような処理によって得られた平版印刷版はオ
フセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられ
る。
【0176】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に説明す
る。ただし本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。 合成例1 2−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート1
5.5g、N−(4−クロロ−2−カルボキシフェニ
ル)メタクリルアミド9.58g、ラウリルメタアクリ
レート7.62gおよびテトラヒドロフラン63.14
gを300mlの3口フラスコに取り窒素気流下攪拌しな
がら65℃に保った。2,2′−アゾビス(2,4−ジ
メチルバレロニトリル)を1.44g加え攪拌を続け
た。4時間後68℃まで昇温し1時間保った。反応終了
後、室温にまで冷却し、反応液を400ml中のメタノー
ル中に注いだ。析出した固体をろ取し、乾燥した。収量
22g、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー)によりこの固体は重量平均分子量1.8万の高分
子化合物であった。
【0177】合成例2〜5 合成例1と同様の方法にして第1表に示したポリマーを
合成した。また比較例の化合物(ポリマー)も同様の方
法にて合成した。
【0178】
【表1】
【0179】〔実施例1〜4、比較例1〜2〕(下記実
施例におけるパーセントは、他に指定のない限り、すべ
て重量%である。) 厚さ0.24mmのJIS A 1050アルミニウム板
を、平均粒径約2.1μのパミストンと水の懸濁液をア
ルミニウム表面に供給しながら、以下に示す回転ナイロ
ンブラシにより、ブラシグレイニング処理した。第1ブ
ラシは毛長100mm、毛径0.95mm、植毛密度70本
/cm2であり、第2ブラシは毛長80mm、毛径0.295
mm、植毛密度670本/cm2であった。ブラシロールの回
転はいずれも250rpmであった。ブラシグレイニング
にひき続きよく水洗した後、10%水酸化ナトリウムに
60℃で25秒間浸漬してエッチングし、さらに流水で
水洗後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これらを、V
A=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用い
て、1%硝酸水溶液中で160クローン/dm2の陽極時電
気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定し
たところ、0.79μm(Ra表示)であった。引き続
いて、1%水酸化ナトリウム水溶液に40℃、30秒間
浸漬後、30%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40
秒間デスマット処理した後、20%硫酸水溶液中、電流
密度2A/dm2において1.6g/m2の酸化皮膜重量にな
るように直流で陽極酸化し、基板を調整した。
【0180】このように処理された基板の表面に下記組
成の下塗り液(A)を塗布し80℃、30秒間乾燥し
た。乾燥後の被覆量は10mg/m2であった。 下塗り液(A) β−アラニン 0.10 g メタノール 40 g 純 水 60 g このようにして基板(I)を作製した。次にこの基板
(I)の上に、次の第2表に示す感光液をロッドコーテ
ィングで12ml/m2塗設し、100℃で1分間乾燥して
ポジ型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は1.
15g/m2であった。さらに真空密着時間を短縮させる
ため、特公昭61−28986号公報記載のようにして
マット層を形成させた。
【0181】
【表2】
【0182】このようにして作成した感光性平版印刷版
を以下の方法で評価した。感度は富士写真フィルム
(株)製ステップウエッジ(各段の濃度差が0.15)
を通して、1mの距離から3kWのメタルハライドラン
プにより1分間露光を行ったのち、富士写真フィルム
(株)製PSプロッセッサー900Vを用いて、30℃
12秒間、SiO2 /K2 Oのモル比が1.16、Si
2 濃度が1.4%の水溶液で現像し、クリアーの段数
で表わした。この段数が高い程感度が高いことを示す。
階調は、上述の感度評価したサンプルのクリアー段数と
ベタ段数の差を表わした。この値が低い程硬調であるこ
とを示す。現像許容性は、上述の現像液を基準にして、
pHを上下に0.2増減させた液を用いた以外は上述の
感度と同一な露光、現像を行い、pHによるベタ段数の
変化を表わした。この値が小さい程現像許容性は良好で
あることを示す。これらの結果を第4表に示す。
【0183】
【表3】
【0184】
【表4】
【0185】第4表からも分かるように、実施例1〜4
は、感度を低下させることなく、硬調化し、かつ現像許
容性も良好である。
【0186】〔実施例5〜9、比較例3〕厚さ0.30
mmの材質1Sのアルミニウム板を8号ナイロンブラシ
と800メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その
表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングし
た後、流水で水洗後、20%HNO3 で中和洗浄、水洗
した。これをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で300クーロン/d
m2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ0.45μm(Ra表示)であ
った。ひきつづいて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬
し、55℃で2分間デスマットした後、33℃、20%
2 SO4 水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置し
て、電流密度5A/dm2 において50秒間陽極酸化した
ところ厚さが2.7g/m2 であった。
【0187】更に3号ケイ酸ソーダ(SiO2 =28〜
30%、Na2 O=9〜10%、Fe=0.02%以
下)の2.5重量%、pH=11.2、70℃の水溶液
に13秒浸漬し、続いて水洗させた。その時のシリケー
ト量は10mg/m2 であった。測定は、ケイ光X線分
析でSi元素量を求めた。次に下記の手順によりSG法
の液状組成物(ゾル液)を調整した。ビーカーに下記組
成物を秤量し、25℃で20分間撹拌した。 Si(OC2 5 ) 4 38 g 3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 13 g 85%リン酸水溶液 12 g イオン交換水 15 g メタノール 100 g
【0188】その溶液を三口フラスコに移し、還流冷却
器を取り付け三口フラスコを室温のオイルバスに浸し
た。三口フラスコの内容物をマグネティックスターラー
で撹拌しながら、30分間で50℃まで上昇させた。浴
温を50℃に保ったまま、更に1時間反応させ液組成物
(ゾル液)を得た。このゾル液をメタノール/エチレン
グリコール=20/1(重量比)で0.5重量%になる
ように希釈して基板にホイラー塗布し、100℃1分乾
燥させた。その時の塗布量は4mg/m2 であった。こ
の塗布量もケイ光X線分析法によりSi元素量を求め、
それを塗布量とした。このように処理されたアルミニウ
ム板上に、下記組成の高感度光重合性組成物1を乾燥塗
布重量が1.5g/m2 となるように塗布し、100℃
で1分間乾燥させ、感光層を形成した。
【0189】 〔光重合性組成物1〕 テトラメチロールメタンテトラアクリレート 1.5 g 線状有機高分子重合体(B1) 2.0 g アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比 80/20) 増感剤(C1) 0.15 g
【0190】
【化19】
【0191】 (λmax THF479nm,ε=6.9×104 ) 光重合開始剤(D1) 0.2 g
【0192】
【化20】
【0193】 IRGACURE907(E1)(Ciba-Geigy社製) 0.4 g 第5表に示すフッ素系ポリマー(P) 0.2 g ε−フタロシアニン/(B1)分散物 0.2 g フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF177 0.03 g (大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 9.0 g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 7.5 g トルエン 11.0 g
【0194】この感光層上に、酸素遮断性保護層として
ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度5
00)の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2.5g/
m2となるように塗布し、120℃で3分間乾燥させ、光
重合性平版印刷版を得た。これらの版をオプトロニクス
社製XLP4000(Arレーザー75mW、488n
m)を用い0.15mJ/cm2 で、4000dpi、
175線/インチの条件で、1%きざみで1〜99%を
それぞれ2箇所づつ露光した。その後120℃に20秒
間さらすことにより後加熱処理を施した。
【0195】現像は、下記の現像液に25℃で、30秒
間浸漬して行った。 (現像液) 1Kケイ酸カリウム 30g 水酸化カリウム 15g 水 1000g
【0196】次にGU−7(富士写真フイルム(株)
製)ガム液を水で2倍に希釈し版面を処理した。400
0dpi、175線/インチの条件で、1%が再現する
版面エネルギー量をそのサンプルの感度として求めた。
耐刷性測定には印刷機としてハイデルベルグ社製SOR
KZを使用し、インキとしては、大日本インキ社製クラ
フG(N)を使用した。プレートクリーナーとしては、
酸性のPSプレートクリーナーCL−2(富士写真フイ
ルム(株)製)を用いた。
【0197】各サンプルを60℃に3日間保存後同様に
露光現像し印刷し、非画像部の汚れ性も目視評価し経時
安定性を評価した。印刷スタートから5000枚目にP
SプレートクリーナーCL−2を印刷用スポンジにしみ
こませ、網点部をふき版面のインキを洗浄した。その後
10,000枚毎に145,000枚目まで同様にPS
プレートクリーナーCL−2で版面のインキを洗浄し、
150、000枚印刷した。10,000枚毎に印刷物
を抜き取り、PSプレートクリーナーCL−2で版面を
洗浄した網点と洗浄しない網点を評価した結果を第5表
に示す。
【0198】なおベタ耐刷性とは、ベタ印刷部に素抜け
が等がおこることなく正常に印刷できる枚数を示し、ハ
イライト耐刷性は175線/インチの2%の網点が印刷
物上で再現する印刷枚数を示すものである。階調は、上
述の感度評価したサンプルのクリアー段数とベタ段数の
差を表した。この値が低い程硬調であることを示す。
【0199】
【表5】
【0200】以上の結果から、本発明の感光性平版印刷
版において、感光性樹脂組成物に本発明の特有のフッ素
系ポリマーを使用することにより、印刷版の耐刷性を保
ったまま、印刷版の画像を硬調化することができた。
【0201】次に、熱架橋型平版印刷版の実施例につい
て示す。 <架橋剤〔KZ−1〕の構造>
【0202】
【化21】
【0203】<架橋剤〔KZ−2〕の構造>
【0204】
【化22】
【0205】<バインダーポリマー〔BP−1〕の入手
>丸善石油化学(株)製のポリ(p−ヒドロキシスチレ
ン)、マルカ リンカーM S−4P(商品名)を入手
し、〔BP−1〕とした。
【0206】〔実施例10〜13〕厚さ0.30mmの
アルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン
洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュ
のパミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、
よく水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナト
リウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗
後、さらに2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。
この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2
あった。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電
流密度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜
を設けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に
下記下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾
燥後の被覆量は10mg/m2 であった。
【0207】 下塗り液 β−アラニン 0.1 g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40 g 純水 60 g
【0208】次に、下記溶液〔G〕を調製し、この溶液
を、上記の下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、10
0℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材〔G−1〕
〜〔G−4〕を得た。乾燥後の被覆量は1.5g/m2
であった。
【0209】 溶液〔G〕 フッ素系ポリマー 0.05g 酸発生剤〔SH−1〕 0.3 g 架橋剤 0.5 g バインダーポリマー〔BP−1〕 1.5 g 赤外線吸収剤〔IK−1〕 0.07g AIZEN SPILON BLUE C−RH 0.035g (保土ヶ谷化学(株)製) メガファックスF−177 0.01g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 12 g メチルアルコール 10 g 1−メトキシ−2−プロパノール 8 g
【0210】溶液〔G−1〕〜〔G−4〕に用いたフッ
素系ポリマー、及び架橋剤を第6表に示す。また、酸発
生剤〔SH−1〕及び赤外線吸収剤〔IK−1〕の構造
を以下に示す。
【0211】
【表6】
【0212】
【化23】
【0213】得られたネガ型平版印刷用版材〔G−1〕
〜〔G−4〕の表面を素手で触り、その後、波長820
〜850nm程度の赤外線を発する半導体レーザで走査
露光した。露光後、パネルヒーターにて、110℃で3
0秒間加熱処理した後、富士写真フイルム(株)製現像
液、DP−4(1:8の水希釈液)にて現像した。画像
形成後、素手で触った部分の画像が抜けているかどうか
を、目視で判断したが、ネガ型平版印刷用版材〔G−
1〕〜〔G−4〕おいては、明確な画像抜けは生じてい
なかった。
【0214】〔比較例4〕実施例10で用いた溶液
〔G〕において、フッ素系ポリマーの代わりに前記高分
子化合物〔R−1〕を使用した以外は、実施例10と同
様にして、溶液を調製した。この溶液を、実施例10で
用いた下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃
で1分間乾燥してネガ型平版印刷用版材〔Q−1〕を得
た。乾燥後の重量は1.5g/m2 であった。得られた
平版印刷用版材〔Q−1〕を、実施例10と同様の操作
で画像形成した。画像形成後、素手で触った部分の画像
が抜けているかどうかを、目視で判断したが、ネガ型平
版印刷用版材〔Q−1〕おいては、明確な画像抜けが生
じていた。
【0215】次に、サーマルポジ型平版印刷版の実施例
について示す。 〔共重合体1の作成〕攪拌機、冷却管及び滴下ロートを
備えた20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノス
ルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.
0192モル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.
0258モル)、アクリロニトリル0.80g(0.0
15モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを
入れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌
した。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61
g、メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル
0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及び「V−
65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルに
この水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの特定の共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。
【0216】〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ストン−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよ
く洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム
水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さ
らに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の
砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であった。
次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/
dm2で3g/m2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水
洗し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を
90℃で1分乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10m
g/m2 であった。
【0217】 下塗り液 β−アラニン 0.5g メタノール 95 g 水 5 g
【0218】さらに、ケイ酸ナトリウム2.5重量%水
溶液で30℃で10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、
塗膜を80℃で15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗
膜の被覆量は15mg/m2 であった。
【0219】 下塗り液 下記化合物 0.3g メタノール 100 g 水 1 g
【0220】
【化24】
【0221】〔実施例14〕以下の感光液1を調製し
た。得られた基板に、この感光液1を塗布量が1.8g
/m2 になるよう塗布し、平版印刷版を得た。
【0222】 感光液1 フッ素系ポリマー P−1 0.03g 上記共重合体1 0.75g m,p−クレゾールノボラック(m,p 比=6/4、 0.25g 重量平均分子量3,500 、未反応クレゾール 0.5重量%含有) p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g シアニン染料(下記構造) 0.017g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.015g 1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 メガファックF−177 0.05g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) γ−ブチルラクトン 10g メチルエチルケトン 10g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g
【0223】
【化25】
【0224】得られた平版印刷版について、外傷に対す
る現像安定性を評価した。評価結果を第7表に示す。
【0225】(外傷に対する現像安定性)得られた平版
印刷版を、出力500mW、波長830nm、ビーム径
17μm(l/e2 )の半導体レーザを用いて主走査速
度5m/秒にて露光した後、連続荷重式引掻強度試験器
「SB62型」(新東科学(株)製)を用い、引掻治具
の版上に当たる1cm角の正方形平面部分にアドバンテ
ック東洋社製の「No.5C」濾紙を張り付けて、10
0gの荷重を載せて、6cm/秒の速度で引っ掻き、富
士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8)で
30秒間現像した。評価は以下の基準により行った。 引掻いた部分の感光膜が完全に溶解している場合;× 引掻いた部分の感光膜が部分的に溶解している場合;△ 引掻いた部分の感光膜が全く溶解していない場合;○
【0226】
【表7】
【0227】〔実施例15、16、比較例5〕フッ素系
ポリマーP−1の代わりにそれぞれフッ素系ポリマーP
−2、P−5を使用した以外は実施例14と同様にし
て、平版印刷版を得た。また、本発明のフッ素系ポリマ
ーを含ませないものを比較例5とした。得られた平版印
刷版について、実施例14と同様に外傷に対する現像安
定性を評価した。評価結果を第7表に示す。第7表か
ら、特定のフッ素系ポリマーの添加により、現像前の状
態において、外傷に対する安定性が顕著に向上している
ことが分かる。
【0228】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は、特定のフ
ッ素系ポリマーを含有することにより、その感度が低下
することなく、硬調な画像形成性を示し、かつ、焼きぼ
け、白灯安全性、および現像許容性の広い満足するべき
ものとなった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AC01 AD03 CB14 CB41 CB43 2H096 AA06 BA09 CA20 2H114 AA04 AA23 DA48 DA52 DA53 DA60

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくともa.フルオロ脂肪族基、b.
    式 −L−P(Lは高分子化合物骨格に連結する2価の
    有機基を表し、Pはオルト位にカルボキシル基を有する
    芳香族基を表す。)で示される基を有する高分子化合物
    を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
JP17896698A 1998-04-06 1998-06-25 感光性樹脂組成物 Expired - Fee Related JP3813742B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17896698A JP3813742B2 (ja) 1998-06-25 1998-06-25 感光性樹脂組成物
DE69941227T DE69941227D1 (de) 1998-04-06 1999-04-06 Photoempfindliche Harzzusammensetzung
US09/287,568 US6423467B1 (en) 1998-04-06 1999-04-06 Photosensitive resin composition
EP02028009A EP1314552B1 (en) 1998-04-06 1999-04-06 Photosensitive resin composition
EP99106132A EP0949539B1 (en) 1998-04-06 1999-04-06 Photosensitive resin composition
EP02007384A EP1225478B1 (en) 1998-04-06 1999-04-06 Photosensitive resin composition
DE69905959T DE69905959T2 (de) 1998-04-06 1999-04-06 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
US09/862,497 US6746812B2 (en) 1998-04-06 2001-05-23 Photosensitive resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17896698A JP3813742B2 (ja) 1998-06-25 1998-06-25 感光性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000010281A true JP2000010281A (ja) 2000-01-14
JP3813742B2 JP3813742B2 (ja) 2006-08-23

Family

ID=16057790

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17896698A Expired - Fee Related JP3813742B2 (ja) 1998-04-06 1998-06-25 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3813742B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006483A (ja) * 2000-06-20 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd フォトレジスト組成物
JP2002244277A (ja) * 2001-02-15 2002-08-30 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性平版印刷版及び画像形成方法
JP2006343667A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Fujifilm Holdings Corp 平版印刷版原版
JP2009037253A (ja) * 2008-09-29 2009-02-19 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
KR101161051B1 (ko) 2008-12-08 2012-06-28 에버라이트 유에스에이, 인코오포레이티드 현상제 조성물
JP2019528578A (ja) * 2016-08-27 2019-10-10 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルの側面抑制を有するレチクルポッド

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006483A (ja) * 2000-06-20 2002-01-09 Sumitomo Chem Co Ltd フォトレジスト組成物
JP2002244277A (ja) * 2001-02-15 2002-08-30 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性平版印刷版及び画像形成方法
JP4680399B2 (ja) * 2001-02-15 2011-05-11 コダック株式会社 感光性平版印刷版及び画像形成方法
JP2006343667A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Fujifilm Holdings Corp 平版印刷版原版
JP2009037253A (ja) * 2008-09-29 2009-02-19 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP4689712B2 (ja) * 2008-09-29 2011-05-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
KR101161051B1 (ko) 2008-12-08 2012-06-28 에버라이트 유에스에이, 인코오포레이티드 현상제 조성물
JP2019528578A (ja) * 2016-08-27 2019-10-10 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルの側面抑制を有するレチクルポッド
US11594437B2 (en) 2016-08-27 2023-02-28 Entegris, Inc. Reticle pod having side containment of reticle

Also Published As

Publication number Publication date
JP3813742B2 (ja) 2006-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0949539B1 (en) Photosensitive resin composition
JP4141120B2 (ja) 平版印刷版用原版
US6780562B2 (en) Lithographic printing plate precursor
EP1235106B1 (en) Lithographic printing plate precursor
US20040013968A1 (en) Non-alkaline aqueous development of thermosensitive lithographic printing plates
JP3856298B2 (ja) 平版印刷版原版
JP4216494B2 (ja) 平版印刷版原版
US6495310B2 (en) Lithographic plate having conformal overcoat and photosensitive layer on a rough substrate
JP2002296774A (ja) 平版印刷版用原版
JP4054237B2 (ja) 平版印刷版用原版
JP2000019724A (ja) 感光性樹脂組成物
JP3813742B2 (ja) 感光性樹脂組成物
EP1013469A1 (en) Process for the preparation of photosensitive lithographic printing plate
JP2003228164A (ja) 平版印刷版用原版
JPH11327129A (ja) 感光性組成物
JP2000003032A (ja) 感光性組成物
JP2000003040A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2000275818A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2004109887A (ja) 平版印刷版用原版
JPH11327142A (ja) 感光性組成物
JP3832788B2 (ja) ポジ型感光性組成物
JPH11327131A (ja) 感光性組成物
JPH11119418A (ja) 赤外線レーザー用ポジ型感光性組成物
JP2000238455A (ja) 感光性平版印刷版の製造方法
JP2000066409A (ja) 感光性平版印刷版

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040224

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060324

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060524

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060601

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130609

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees