JP2000010105A - 液晶表示素子 - Google Patents

液晶表示素子

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JP2000010105A
JP2000010105A JP17000098A JP17000098A JP2000010105A JP 2000010105 A JP2000010105 A JP 2000010105A JP 17000098 A JP17000098 A JP 17000098A JP 17000098 A JP17000098 A JP 17000098A JP 2000010105 A JP2000010105 A JP 2000010105A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
crystal molecules
crystal display
voltage
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JP17000098A
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English (en)
Inventor
Akio Murayama
昭夫 村山
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】従来の液晶表示素子のTNモードは、見る角度
により光り特性が異なり、視野角の依存性が発生してい
た。またlPSモードは優れた視野特性が得られるが応
答速度が遅いという欠点がある。 【解決手段】本発明は、基板に平行な横電界で駆動する
液晶表示素子であって、2枚の基板12と基板13との
間に、横電界の方向と略同じ方向で5°以上のプルチル
ト角の誘電率異方性が負の液晶分子を配列して電圧無印
可時に明状態、電圧印可時に液晶分子が立ち上がること
により暗状態をとる液晶15が注入され、立ち上がった
液晶分子の光学異方性を補償する一軸性の負の特性を有
する光学補償板14と、前記基板12,13の基板の外
側面に、前記液晶分子の配列方向に対して、共に逆方向
の略45度の角度をなして直交配置された偏光板10,
11とを備え、応答速度が速い液晶表示素子である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関
し、特に横電界を用いるアクティブマトリクス型液晶表
示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】一般的な液晶表示素子の表示モードとし
て、TN(Twisted Nematic )モードが知られている。
このTNモードは、2枚のガラス基板間にネマティック
液晶を90°捻って配列させた液晶セルであり、偏光板
を用い、電界の印加による液晶の施光性を用いて光変調
するモードである。
【0003】このTNモードの特徴として、他のものに
比べて駆動電圧が低く、極めて高い抵抗であるため消費
電力が少ない。また、コントラスト比が100以上と高
く、高画質化が可能であるため、アクティブマトリック
スに用いられている。しかし、透過率の低い偏光板を用
いており、特に、ガラス基板に対して垂直方向の縦電界
で液晶分子を動かしているため、液晶分子が斜めに立ち
上がった状態では、見る角度により光り特性が異なり、
視野角の依存性が発生していた。
【0004】これらの問題を解決する1つの手法とし
て、横電界を液晶分子にかけて、液晶分子を横方向に回
転させて、優れた視野特性が得られるIPS(In-Plane
Switing)モードが着目されている。このlPSモード
は、従来のTNモードに比べてPEP数減、対抗基板側
のITO電極不要なことからコスト的に有利である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、lPSモード
には、大きな問題点として、応答速度が遅いという欠点
を有している。この応答速度は、通常、液晶分子の動作
速度に規定されており、電界を発生させるための電圧を
印加してから液晶分子が動作し、光の透過量が変化する
までの「立ち上がり時間」と、電圧の印加を停止してか
ら元の状態に戻るまでの「立ち下がり時間」とで表され
る。理想的には、1フィールド期間内(30ms)で応答
すればよい。
【0006】しかし、応答速度が遅くなると、動画の表
示画面のような速い動きには追従できない。そこで本発
明は、IPSモードと同等のコストで、TNモード並の
応答速度を得る液晶表示素子を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、電圧印加により発生させた横電界で駆動す
る液晶表示素子において、2枚の基板が液晶を挟み構成
される液晶セルと、記液晶セルを挟み、液晶分子配列に
対して前記基板面内方向で略45度の角度をなすそれぞ
れの偏光軸が直交するように配置される2枚の偏光板と
を備えて、前記液晶が負の誘電異方性を有し、液晶分子
が電圧無印加時には液晶分子の長軸が前記透明基板と略
平行し、液晶分子が電圧印加時には液晶分子の長軸が液
晶セルの厚さ方向とほぼ平行に立ち上がる液晶表示素子
を提供する。
【0008】以上のような構成の液晶表示素子は、配向
規制力に対して垂直な面の方向に液晶分子が立ち上がる
ため、配向規制力の影響の受け方が弱く、従来のIPS
モードよりも応答速度が速くなる。前記液晶分子は、I
PSモードのように基板と平行する様な回転が生じない
ように、比較的高いプレチルト角を与える必要があり、
その角度は、5°以上で、好ましくは10°以上に設定
され、一軸性の負の特性を有する光学補償板により視野
角が広角化される。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について詳細に説明する。まず、図1を参照し
て、本発明に係る横電界を用いるアクティブマトリック
ス型液晶表示素子の概念について説明する。
【0010】図1(a)及び(b)は、液晶セルの断面
構成を示す。この液晶セルは、2つのガラス基板1,2
間に誘電率異方性が負の液晶3が注入され、一方の基板
1には、横電界を発生させるための金属電極4が形成さ
れている。そして図1(a)は、電界を発生させるため
の電圧の無印加時の液晶分子5の状態を示している。こ
の時、液晶分子5は、配向膜面を水平面(θ=0°)と
して、ポリイミド系樹脂等の有機高分子膜からなる配向
膜と、例えば10°のプレチルト角で一端が持ち上がっ
て縦方向に一列に積層して配列し、光を透過する明状態
である。
【0011】そして、図1(b)に示すように金属電極
4に電圧を印加して、横電界6を発生させると、液晶分
子5は立ち上がり、縦方向に並び配列して光を遮光する
暗状態となる。
【0012】また、図1(c)及び(d)は、液晶セル
を縦方向から(上から)見た概略図を示している。図1
(c)は、同図(a)の上方向から見た状態を示してお
り、横電界が加わらないときには、液晶分子5の長軸方
向は、金属電極4間に向かうように配列している。図1
(d)は、同図(b)の上方向から見た状態を示してお
り、横電界が加わったときには、液晶分子5は、立ち上
がる。
【0013】次に図2には、本発明による第1の実施形
態に係る液晶表示素子の概略的な構成例を示し説明す
る。図2(a)は、液晶表示素子を上から見た平面図、
同図(b)は、概略的な断面構造を示す断面図である。
【0014】この液晶表示装素子は、対向して配置され
るガラス等からなるアレイ基板12と対向基板13との
間に液晶層15が保持されて形成される液晶セル16
と、この液晶セル16を駆動するための駆動回路部17
とで構成される。前記アレイ基板12と対向基板13の
外側面には、偏光板10,11がそれぞれ配置されてい
る。対向電極13と偏光板11との間には、光学補償板
14が配置されている。
【0015】この液晶表示装素子は、カラー表示が可能
な対角15インチサイズの有効表示領域18を備えてお
り、例えば、(1024×3)×786の表示画素がマ
トリクス状に配列される。
【0016】次に図3を参照して、液晶表示素子の構造
について詳細に説明する。図3(a)は、液晶表示素子
を上から見た平面図、同図(b)は、断面構造を示す断
面図である。
【0017】前記アレイ基板12は、表面が研磨された
厚さ0.7mm程度の透明なガラス基板19上に(102
4×3)本のモリブデン/アルミニウム/モリブデンが
積層された信号線20と、786本のモリブデン−タン
グステン合金(MoW合金)からなる走査線21とが、
互いに直交して配置され、各交差部近傍には、薄膜トラ
ンジスタ(TFT)22が配置される。
【0018】更に詳しくは、TFT22は、走査線21
自体をゲート電極とし、シリコン窒化膜(SiNx)か
らなるゲート絶縁膜23を介して水素化非晶質シリコン
半導体層(a−Si:H)24が形成される。
【0019】この上層に、シリコン窒化膜からなるチャ
ネル保護膜25が形成され、リソドープされた低抵抗水
素化非晶質シリコン半導体層(n+a−Si:H)2
6,27を介して、a−Si:H24と電気的に接続さ
れるソース28及びドレイン電極29が配置されてい
る。
【0020】ドレイン電極29は、信号線20と一体的
に構成され、ソース電極28は、信号線20と同様にモ
リブデン/アルミニウム/モリブデンの積層構造からな
り、画素電極30を構成するようにストライプ状に信号
線20に沿って延在している。
【0021】その画素電極30の端部は、補助容量Cs
を構成するための第1補助容量電極部31を形成してい
る。そして走査線21と同様にMoW合金により形成さ
れ、走査線21と略平行した対向電極32が配置され
る。
【0022】この対向電極32は、画素電極30と略平
行に配線される第1及び第2電極部33,34と、第1
補助容量電極部31とゲート絶縁膜23を介して重複す
る第2補助容量電極部35とを含む。
【0023】このようにアレイ基板12は、画素電極3
0と第1電極部33との間に発生させた横電界と、画素
電極30と第2電極部34との間に発生させた横電界と
に応じて、それぞれ液晶分子が制御される。更に上層に
は、配向膜36が形成される。
【0024】一方、前記対向基板13は、表面が研磨さ
れた厚さ0.7mm程度の透明なガラス基板37上に、ア
レイ基板12の信号線20と対向電極32との間、走査
線21と対向電極32との間からの漏れ光、TFT22
上に照射される不所望な光を遮るために、樹脂製の遮光
膜38がマトリクス状に配置されている。
【0025】そして、この遮光膜38間には、カラー表
示を実現するために、赤(R),青(B),緑(G)の
カラーフィルタ39がそれぞれ配置される。更に、この
上層に透明樹脂から成る表面平滑層40を介して配向膜
41が配置されている。
【0026】さらに、アレイ基板12と対向基板13と
の間で、図示しないが微少ポリマが分散され、その基板
間隙が3.5μm に維持される。この基板間隙には、図
1に示したプルチルト角10°で、誘電率異方性が負の
液晶層15が注入される。
【0027】電界方向とラビング方向とがなすラビング
角度は0°で、図4に示すように、電界方向となる液晶
分子配列の方向に対して、ほぼ45°の角度をなす偏光
板10,11が直交配置される。これらの偏光板10,
11としては、例えばG1220DU(日東電工社製)
を用いる。そして、対向基板13と偏光板11との間に
電圧印加時の液晶層の厚さ方向の液晶分子の光学異方性
を補償するための一軸性の負の光学補償板14を設け
る。
【0028】本実施形態の液晶表示素子は、横電界を加
えない時(無電圧印加時)は、液晶分子は動かず、光を
透過する明状態となり、横電界を加えた時(電圧印加
時)には、液晶分子が立ち上がり、光を遮断する暗状態
となる。
【0029】本実施形態と比較をするために前述したと
同等の画素構造で、同一の誘電率異方性が負の液晶を用
いて、プレチルト角を1°、ラビング角度を20°とし
て、従来のIPSモードで形成した液晶表示素子と比較
した場合に、本実施形態の液晶表示素子の応答速度とし
て、50msが得られ、従来のIPSモードの液晶表示素
子は、80msが得られている。但し、コントラストは、
本実施形態では「100」、従来のIPSモードでは
「200」の値が得られており、従来のIPSモードの
方が高いコントラスト値が得られる。
【0030】このように本実施形態の液晶表示素子は、
従来のIPSモードよりも応答速度が改善される。この
応答速度の違いは、IPSモードでは横電界により液晶
分子を液晶配列面内で回転(基板に平行に回転)させる
ことから配向規制力の影響を強く受けるのに対して、本
実施形態の液晶表示素子では、配向規制力に対して垂直
な面の方向に液晶分子が立ち上がるため、その影響の受
け方が弱いためと考えられる。
【0031】本実施形態の液晶分子は、IPSモードの
ように基板と平行する様な回転が生じないように、比較
的高いプレチルト角を与える必要があり、その角度は、
5°以上であって、好ましくは10°以上がよい。
【0032】また、本実施形態の液晶表示素子に設けた
光学補償板は、IPSモードに比べて視野角が狭くなる
ため用いており、垂直配向型LCDに用いられるような
一軸性の負のものを適用する。
【0033】次に、図5には第2の実施形態に係る液晶
表示素子の構成例を示し説明する。本実施形態で第1の
実施形態と同等の部位には、同じ参照符号を付してその
説明を省略する。
【0034】前述した第1の実施形態の液晶層におい
て、界面近傍の液晶分子は、配向規制力により立ち上が
りきらないため、液晶分子配列方向にリタデーションが
残存し、コントラストの低下を引き起こす可能性があ
る。そこで第2の実施形態では、これを改善するために
例えば、150nm以下の位相差板を液晶分子配列方向と
直交する方向に挿入する。
【0035】図5に示すように、アレイ基板12と対向
基板13のそれぞれの外表面に、例えば、リタデーショ
ン値が25nmのトリアセチルセルロース製の光学位相差
板42,43を配置する。
【0036】この光学位相差板42,43を配置したこ
とにより、第1の実施形態では「100」であったコン
トラストが「180」まで向上させることができる。
尚、この光学位相差板42,43は、第1の実施形態に
追加するだけではなく、光学補償板14に換わって、設
けてもよい。
【0037】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、I
PSモードと同等のコストで、TNモード並の応答速度
を得る液晶表示素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る横電界を用いるアクティブマトリ
ックス型液晶表示素子の概念を示す図である。
【図2】第1の実施形態に係る液晶表示素子の概略的な
構成例を示す図である。
【図3】第1の実施形態に係る液晶表示素子の断面構造
を詳細に示す図である。
【図4】第1の実施形態における電界方向(液晶分子配
列の方向)と偏光板に偏向について説明するための図で
ある。
【図5】は第2の実施形態に係る液晶表示素子の断面構
造を詳細に示す図である。
【符号の説明】
1,2…ガラス基板 3…液晶 4…金属電極 5…液晶分子 6…横電界 10,11…偏光板 12…アレイ基板 13…対向基板 14…光学補償板 15…液晶層 16…液晶セル

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電圧印加により発生させた横電界で駆動
    する液晶表示素子において、 2枚の基板が液晶を挟み構成される液晶セルと、前記液
    晶セルを挟み、液晶分子配列に対して、前記基板面内方
    向で略45度の角度をなすそれぞれの偏光軸が直交する
    ように配置される2枚の偏光板と、を具備し、 前記液晶が負の誘電異方性を有し、液晶分子が電圧無印
    加時には液晶分子の長軸が前記透明基板と略平行し、液
    晶分子が電圧印加時には液晶分子の長軸が液晶セルの厚
    さ方向とほぼ平行に立ち上がることを特徴とする液晶表
    示素子。
  2. 【請求項2】 前記液晶表示素子において、 電圧印加時の液晶セルの厚さ方向の液晶分子の光学異方
    性を補償する一軸性の負の光学補償板を前記透明基板と
    前記液晶との間に配置することを特徴とする請求項1に
    記載の液晶表示素子。
  3. 【請求項3】 前記液晶表示素子において、 電圧印加時の基板の界面近傍の液晶分子の位相差を補償
    する位相差板を前記偏光板と前記液晶セル間に配置する
    ことを特徴とする請求項1若しくは請求項2に記載の液
    晶表示素子。
  4. 【請求項4】 前記位相差板の位相差が150nm以下で
    あることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示素子。
  5. 【請求項5】 前記液晶表示素子において、 前記液晶分子の電圧無印加時のプレチルト角が5度以上
    であることを請求項1に記載の液晶表示素子。
  6. 【請求項6】 横電界を用いる液晶表示素子において、 透明基板からなり、薄膜トランジスタを含む駆動回路が
    形成された第1の基板と、 透明基板からなり前記第1の基板と対向して配置され、
    カラーフィルタが形成された第2の基板と、 前記駆動回路により発生する横電界の方向と略同じ方位
    でプルチルト角10°の誘電率異方性が負の液晶分子を
    配列し、電圧無印可時に明状態、電圧印可時に液晶分子
    が立ち上がることにより暗状態をとる液晶層と、 前記液晶層と前記第2の基板との間に挟まれ設けられ、
    電圧印加時に立ち上がった液晶分子の光学異方性を補償
    する一軸性の負の特性を有する光学補償板と、 前記第1の基板及び前記第2の基板の外側面に、前記液
    晶分子の配列方向に対して、共に逆方向の略45度の角
    度をなして直交配置された偏光板と、を具備することを
    特徴とする液晶表示素子。
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