FR2988323A1 - Dispositif et procede de formation d'un revetement microstructure sur un substrat tel qu'un element d'aeronef - Google Patents

Abstract

Dispositif pour former un revêtement microstructuré sur un substrat, comprenant une bande (18) microstructurée déplaçable en roulant sans glissement sur le substrat en contournant des organes d'appui principaux (12, 14) montés sur un châssis, ainsi que des organes d'appui secondaires (28) montés sur le châssis de manière à être au contact d'une face intérieure (29) de la bande dans une zone (26) d'un brin (24) de celle-ci délimité entre lesdits organes d'appui principaux (12, 14), laquelle zone (26) est exposée à l'action de moyens de durcissement (22) permettant l'accélération du durcissement d'un matériau durcissable destiné à former ledit revêtement. Procédé pour former un revêtement microstructuré au moyen du dispositif précité.

Description

SP 51691 MM 1 DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN REVÊTEMENT MICROSTRUCTURE SUR UN SUBSTRAT TEL QU'UN ÉLÉMENT D'AÉRONEF DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE La présente invention concerne la formation de microstructures sur les substrats, en particulier mais non exclusivement sur les éléments de voilure ou de fuselage des aéronefs, afin d'obtenir un revêtement microstructuré du type couramment dénommé « riblet » ou revêtement « en peau de requin ». ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE La demande de brevet US 2007/0257400 Al décrit en sa figure 3 un dispositif comprenant une bande élastique sans fin montée sur un ensemble de trois rouleaux globalement agencés en triangle et eux- mêmes montés rotatifs par rapport à un châssis (non représenté). Le dispositif comporte en outre une source de rayonnement UV solidaire du châssis et orientée vers un brin du dispositif délimité par deux des rouleaux, ci-après dénommé brin applicateur.

Ce dispositif fonctionne de la manière suivante : on enduit la face extérieure de la bande au moyen d'une résine photodurcissable, puis on applique le dispositif sur la surface d'un substrat que l'on souhaite recouvrir d'un revêtement microstructuré, en appliquant les deux rouleaux précités sur cette surface de manière à mettre en contact la face extérieure du brin applicateur de la bande avec le substrat, et on SP 51691 MM 2 déplace le dispositif en translation sur ce substrat de manière à faire rouler la bande sans glissement sur celui-ci. Au cours de ce déplacement du dispositif, la source de rayonnement UV éclaire une partie au moins du brin applicateur et provoque le durcissement de la résine appliquée sur le substrat par cette partie du brin applicateur. La résine durcie se détache ensuite de la bande en adhérant au substrat, lorsque la partie correspondante de la bande contourne le rouleau situé à l'arrière par rapport au sens de translation du dispositif. A mesure que le dispositif est déplacé sur le substrat, on obtient ainsi sur ce substrat une couche de résine durcie présentant les microstructures souhaitées.

Les variantes décrites sur les figures 1 et 2 du document précité comprennent respectivement un et deux rouleaux seulement, tandis que celles décrites sur les figures 4 et 5 comprennent une bande ouverte. L'ensemble de ces dispositifs présente toutefois l'inconvénient que la pression avec laquelle la résine durcissable est appliquée sur le substrat n'est pas contrôlée avec suffisamment de précision et n'est pas suffisamment homogène. Ce problème est particulièrement marqué lors de l'utilisation de ces dispositifs pour appliquer un revêtement sur une surface orientée vers le bas, c'est-à-dire lorsque la pression d'application du dispositif sur le substrat est orientée du bas vers le haut, en raison de l'élasticité de la bande et du fait que le poids de son brin inférieur recouvert de résine SP 51691 MM 3 agit alors en sens opposé à ladite pression d'application. EXPOSÉ DE L'INVENTION L'invention a notamment pour but d'apporter une solution simple, économique et efficace à ces problèmes. Elle propose à cet effet un dispositif pour former un revêtement microstructuré sur une surface d'un substrat, comprenant : - deux organes d'appui principaux portés par un châssis du dispositif et écartés l'un de l'autre ; une bande dont une face, ci-après dénommée face intérieure, est appliquée sur les organes d'appui principaux de sorte que ces derniers délimitent entre eux un brin de la bande, ci-après dénommé brin applicateur, destiné à l'application sur le substrat d'un matériau durcissable destiné à constituer ledit revêtement après durcissement, l'autre face de la bande, dite face extérieure, présentant des microstructures formant le négatif des microstructures du revêtement à former ; et - des moyens de durcissement destinés à l'accélération du durcissement du matériau durcissable, conçus pour agir dans une région prédéterminée dudit brin applicateur, ci-après dénommée zone de durcissement. Le dispositif est configuré de sorte que la bande se déplace en roulant sans glissement sur le substrat et en contournant les organes d'appui principaux lorsque le dispositif est déplacé sur ce 30 substrat selon une direction longitudinale du brin SP 51691 MM 4 applicateur de la bande en appliquant ce brin sur le substrat. Selon l'invention, le dispositif comprend des organes d'appui secondaires montés sur le châssis de manière à être au contact de la face intérieure de la bande dans ladite zone de durcissement de son brin applicateur. Les organes d'appui secondaires permettent ainsi d'améliorer l'homogénéité et la maîtrise de la pression que le brin applicateur exerce sur la couche de matériau durcissable qu'il dépose sur le substrat, et cela durant le durcissement de ce matériau lorsque ce dernier est exposé auxdits moyens de durcissement. D'une manière connue en soi, la bande est 15 de préférence fermée et agencée de manière à se déplacer autour des organes d'appui principaux à la manière d'une bande sans fin. En variante, cette bande peut être ouverte. D'une manière également connue en soi, les 20 organes d'appui principaux sont de préférence montés rotatifs par rapport audit châssis de manière à rouler sur la bande au cours d'un déplacement de cette dernière sur le substrat. A cet effet, ces organes d'appui principaux sont par exemple constitués de 25 rouleaux. Le dispositif peut notamment être de l'un des quatre types décrits sur les figures 2 à 5 du document US 2007/0257400 Al précité. Dans un mode de réalisation préféré de 30 l'invention, les organes d'appui secondaires sollicitent le brin applicateur dans une direction SP 51691 MM allant de la face intérieure vers la face extérieure de celui-ci. La pression exercée par les organes d'appui secondaires est ainsi contrôlée au mieux. 5 Cette caractéristique permet en outre d'assurer une mise en tension satisfaisante de la bande même lorsque cette dernière présente des variations d'élasticité dans le temps ou en fonction des régions considérées de cette bande.

A cet effet, le dispositif comprend avantageusement des moyens élastiques qui sollicitent chaque organe d'appui secondaire en appui sur le brin applicateur. Ces moyens élastiques sont avantageusement constitués de ressorts montés fixement sur le châssis du dispositif. En variante ou de manière complémentaire, les organes d'appui secondaires peuvent être réalisés en un matériau élastique compressible.

Dans le mode de réalisation préféré de l'invention, les organes d'appui secondaires sont agencés en quinconce. Une telle configuration permet d'optimiser l'homogénéité de la pression appliquée sur le brin applicateur par les organes d'appui secondaires. De préférence, les organes d'appui secondaires les plus proches de chaque bord de ladite zone de durcissement ont chacun au moins un point d'appui sur ledit brin applicateur, dont l'écartement au bord correspondant de ladite zone de durcissement SP 51691 MM 6 est inférieur à 10%, et préférentiellement inférieur à 5%, de l'étendue transversale de la bande. De cette manière, les organes d'appui secondaires couvrent l'ensemble de la zone de 5 durcissement. D'une manière générale, le dispositif comprend avantageusement au moins un axe transversal monté sur ledit châssis et portant une pluralité desdits organes d'appui secondaires répartis le long 10 dudit axe. Les organes d'appui secondaires portés par ledit axe transversal sont de préférence répartis des deux côtés de l'axe de manière à former deux rangées transversales. 15 De plus, le dispositif comprend de préférence au moins deux axes transversaux du type décrit ci-dessus. Dans le mode de réalisation préféré de l'invention, chacun des organes d'appui secondaires 20 prend la forme d'un galet monté rotatif par rapport au châssis de manière à rouler sans glissement au contact de ladite bande lors du déplacement de celle-ci sur le substrat. D'une manière connue en soi, lesdits moyens 25 de durcissement comprennent de préférence une source de rayonnement ultraviolet montée fixe par rapport au châssis et configurée pour émettre en direction dudit brin applicateur. Dans ce cas, les organes d'appui 30 secondaires, ainsi que l'ensemble des moyens qui assurent le montage de ceux-ci sur le châssis, sont SP 51691 MM 7 avantageusement réalisés en un ou plusieurs matériau(x) au moins partiellement transparent(s) vis-à-vis du rayonnement émis par ladite source de rayonnement ultraviolet.

Ce ou ces matériau(x) présente(nt) avantageusement une transmittance supérieure à 25% vis-à-vis dudit rayonnement, et de préférence supérieure à 50%, voir à 75%. Plus cette transmittance est élevée, plus 10 le durcissement du matériau durcissable peut être rapide, et homogène sur l'ensemble de la zone de durcissement. Dans le mode de réalisation préféré de l'invention, les organes d'appui secondaires sont 15 répartis selon au moins quatre rangées transversales configurées de sorte que : - dans chaque rangée, les organes d'appui sont disposés à intervalle régulier ; - les organes d'appui, qui sont disposés 20 respectivement aux deux extrémités de chaque rangée, s'étendent chacun jusqu'à l'extrémité correspondante de la bande ; - dans chaque couple de rangées consécutives, les organes d'appui de l'une desdites rangées sont 25 décalés transversalement par rapport aux organes d'appui de l'autre rangée, d'une distance sensiblement égale à la moitié de l'intervalle suivant lequel les organes d'appui sont agencés ; chaque organe d'appui présente sensiblement la même 30 étendue, selon la direction longitudinale de la SP 51691 MM 8 bande, que les moyens permettant le montage de cet organe sur l'axe transversal correspondant ; - dans chaque rangée, l'écartement entre deux ensembles consécutifs, formés chacun par un organe d'appui et par les moyens permettant le montage de celui-ci sur l'axe transversal correspondant, est sensiblement égal à l'étendue transversale de chacun de ces ensembles. De plus, l'écartement entre chaque organe d'appui secondaire et les moyens permettant le montage de cet organe sur l'axe transversal correspondant est de préférence choisi de manière à empêcher tout passage de rayonnement UV émis par ladite source UV entre l'organe d'appui et lesdits moyens de montage.

Ainsi, tous les points de la bande, ou presque, sont exposés directement à la source UV pendant la même durée cumulée au cours du déplacement de la bande. On entend par exposition directe la situation où la source UV n'est pas masquée par un organe d'appui secondaire ou par les moyens de montage de celui-ci vis-à-vis du point considéré de la bande. Ainsi, l'homogénéité du durcissement du matériau durcissable en chaque point de la zone de durcissement est optimisée, quelle que soit la transmittance des organes d'appui secondaires et de leurs moyens de montage à l'égard du rayonnement émis par la source UV. D'une manière générale, le dispositif comprend en outre avantageusement des moyens d'enduction de la face extérieure de la bande avec le matériau durcissable.

SP 51691 MM 9 En variante, l'enduction de la bande peut être assurée manuellement par un opérateur utilisant le dispositif. En variante ou de manière complémentaire, 5 la bande peut être préalablement enduite dudit matériau durcissable. L'invention concerne également un procédé de formation d'un revêtement microstructuré sur une 10 surface d'un substrat, tel qu'un élément de voilure ou de fuselage d'aéronef, au moyen d'un dispositif du type décrit ci-dessus, dans lequel : on enduit la face extérieure de la bande d'un matériau susceptible de durcir sous l'effet des 15 moyens de durcissement ; on applique les organes d'appui principaux du dispositif sur la surface du substrat ; on déplace le dispositif de manière à provoquer un roulement de la face extérieure de la bande sur le 20 substrat, ainsi qu'un roulement des organes d'appui sur la face intérieure de la bande, le déplacement s'effectuant à une vitesse permettant l'adhérence du matériau durcissable déposé sur le substrat au terme de son exposition à l'action des moyens de 25 durcissement. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS L'invention sera mieux comprise, et d'autres détails, avantages et caractéristiques de celle-ci apparaîtront à la lecture de la description 30 suivante faite à titre d'exemple non limitatif et en référence aux dessins annexés dans lesquels : SP 51691 MM 10 la figure 1 est une vue schématique partielle de côté d'un dispositif selon un mode de réalisation préféré de l'invention, dont le châssis n'est pas représenté pour des raisons de clarté ; la figure 2 est une vue schématique partielle de dessous du dispositif de la figure 1, dont la bande n'est pas représentée pour des raisons de clarté ; la figure 3 est une vue schématique de dessus du détail III de la figure 1 ; la figure 4 est une vue schématique éclatée de dessus de certains éléments de montage d'un galet visible sur la figure 3 ; la figure 5 est une vue schématique éclatée de côté des éléments illustrés sur la figure 4.

EXPOSÉ DÉTAILLÉ DUN MODE DE RÉALISATION PRÉFÉRÉ La figure 1 illustre un dispositif 10 selon un mode de réalisation préféré de l'invention permettant l'apposition d'un revêtement microstructuré sur la surface d'un substrat.

Ce dispositif comporte deux organes d'appui principaux 12 et 14 prenant la forme de rouleaux, ainsi qu'un rouleau de guidage 16. Ces trois rouleaux sont agencés en triangle et montés rotatifs sur un châssis non représenté sur la figure 1.

Le dispositif comporte en outre une bande élastique 18 fermée appliquée sur les trois rouleaux 12, 14, 16 précités. Ces derniers permettent d'assurer la mise en tension de la bande 18 et autorisent un déplacement de celle-ci autour de ces trois rouleaux à la manière d'une bande sans fin.

SP 51691 MM 11 La bande 18 comporte sur sa face extérieure 20 des microstructures, qui sont de préférence formées sur toute la longueur de la bande 18. La bande 18 est en un matériau présentant 5 une élasticité choisie en fonction de la précision géométrique souhaitée pour les microstructures, dans chaque application particulière. Le document US 2007/0257400 Al précité donne un exemple détaillé de procédé de fabrication 10 d'une telle bande (voir paragraphes 80 à 90 dudit document). Le dispositif comporte en outre une source de rayonnement ultraviolet 22 montée fixe par rapport au châssis du dispositif, de manière à émettre en 15 direction d'un brin 24 de la bande 18 défini entre les deux rouleaux d'appui principaux 12 et 14. Ce brin 24, dénommé brin applicateur, est destiné à appliquer sur un substrat une résine susceptible de durcir sous l'effet du rayonnement émis par la source 22 de manière 20 à former le revêtement microstructuré. De préférence, le dispositif comporte des moyens d'enduction de la face extérieure 20 de la bande 18 au moyen de cette résine, ces moyens n'étant pas représentés sur les figures. Ces moyens sont par 25 exemple conçus pour prélever la résine dans un réservoir solidaire du châssis du dispositif. La conception de tels moyens est indépendante de la présente invention de sorte que ces moyens ne seront pas décrits en détail dans ce qui suit. L'enduction de 30 la bande 18 par la résine peut également être effectuée manuellement.

SP 51691 MM 12 En variante, le substrat peut être préalablement recouvert par une couche d'une telle résine. Un exemple détaillé de source UV et de 5 résine photodurcissable adaptée peut être trouvé dans les paragraphes 91 à 109 du document US 2007/0257400 Al précité. La source UV 22 est en forme générale de parallélépipède rectangle et éclaire une région 26 du 10 brin applicateur 24 de forme sensiblement rectangulaire, dénommée zone de durcissement dans la terminologie de la présente invention. Cette zone est bien entendu fixe par rapport à la source UV 22 et donc par rapport au châssis du dispositif. 15 Selon une particularité de la présente invention, le dispositif 10 comprend un ensemble de galets 28 appliqués sur la face intérieure 29 de la bande 18 au niveau de la zone de durcissement 26, et formant des organes d'appui secondaires dans la 20 terminologie de la présente invention. Ces galets sont répartis en quinconce selon quatre rangées transversales 28a, 28b, 28c et 28d, c'est-à-dire orthogonales à la direction longitudinale de la bande 18 correspondant à la flèche 30 de la figure 1. 25 La figure 2 illustre le dispositif 10 vu de dessous, sans la bande 18, de sorte que l'on peut voir les galets 28 et la source UV 22. Cette figure montre également deux platines latérales 32 qui font partie du châssis du dispositif et qui portent les axes de 30 rotation respectifs des trois rouleaux 12, 14 et 16. Le SP 51691 MM 13 rouleau de guidage 16 n'est pas représenté sur cette figure 2 pour des raisons de clarté. Comme cela apparaît sur les figures 1 et 2, le dispositif 10 comporte deux axes transversaux 34 montés fixement sur les platines 32 et portant chacun deux des quatre rangées de galets 28. Ces deux axes 34 sont agencés à distance des rouleaux d'appui principaux 12 et 14, de manière symétrique par rapport à un plan transversal médian P de la source UV 22 (figure 1).

Les galets 28 sont agencés de manière à couvrir l'ensemble de la zone de durcissement 26 du brin applicateur 24. A cet effet, les galets 28z les plus proches des bords de cette zone 26 sont agencés de manière à être en contact avec des parties du brin applicateur 24 situées à une distance de ses bords inférieure à 10%, et de préférence inférieure à 5%, de l'étendue transversale de la bande 18. De cette manière, la pression exercée sur le brin applicateur 24 par les galets 28 est répartie au mieux sur l'ensemble de la zone de durcissement 26. Les figures 3 à 5 illustrent plus précisément le montage de chaque galet 28 sur l'axe transversal 34 correspondant, essentiellement au moyen d'une tige 36 formant essieu comprenant à l'une de ses extrémités un orifice 38 dans lequel est monté un axe 39 de rotation du galet 28, et à son autre extrémité une bague de montage 40 montée sur l'axe transversal 34. Afin de maintenir les galets 28 appliqués sur le brin applicateur 24 de la bande 18, une pluralité de ressorts à lame 42 exercent chacun une SP 51691 MM 14 pression sur un galet 28 correspondant en direction du brin applicateur 24. A cet effet, chaque ressort 42 comporte une partie d'extrémité 44 en demi-cylindre fixée autour de 5 deux bagues 46 elles-mêmes montées fixement autour de l'axe transversal 34 correspondant en étant disposées de part et d'autre de la bague de montage 40 de la tige 36 supportant le galet 28 associé. La partie d'extrémité 44 de chaque ressort à lame 42 est ainsi 10 solidaire de l'axe transversal 34 correspondant, et donc solidaire du châssis du dispositif. Depuis ladite partie d'extrémité 44 de chaque ressort 42 s'étend une partie 48 en forme de lame qui prend appui sur la tige 36 de manière à 15 pousser cette dernière, et donc le galet 28 correspondant, vers le brin applicateur 24. Bien que cela ne soit pas visible sur la figure 5, la bague de montage 40 de chaque tige 36 est d'un diamètre externe inférieur à celui des bagues 46 20 disposées de chaque côté de la bague de montage 40 de manière à autoriser la rotation de cette bague de montage 40 et donc du galet 28 autour de l'axe transversal 34. Bien entendu, les ressorts à lame 42 25 peuvent être remplacés par des ressorts de torsion, ou par tout autre type de moyens élastiques adaptés, sans sortir du cadre de la présente invention. Les galets 28 et leurs axes 39, les tiges 36, les ressorts 42, les bagues 46 et les axes 30 transversaux 34 sont de préférence réalisés en un ou plusieurs matériau(x) transparents vis-à-vis du SP 51691 MM 15 rayonnement UV émis par la source UV 22. En particulier, ces éléments présentent chacun une transmittance supérieure à 25%, préférentiellement 50%, et encore plus préférentiellement 75% dans une bande spectrale à laquelle la résine photodurcissable est sensible. Par ailleurs, comme cela apparaît sur la figure 2, les galets 28 de chaque rangée 28a à 28d sont disposés à intervalles réguliers.

Pour chaque couple (28a, 28b), (28b, 28c) et (28c, 28d) de rangées consécutives, les galets 28 de l'une des rangées sont décalés transversalement par rapport aux galets de l'autre rangée, d'une distance d sensiblement égale à la moitié de l'intervalle A suivant lequel les galets sont agencés. Chaque galet 28 présente sensiblement la même étendue 5 selon la direction longitudinale de la bande 18, que la tige 36 permettant le montage de ce galet sur son axe transversal 34.

De plus, dans chaque rangée, l'étendue transversale E de chaque ensemble formé par un galet 28 et par la tige 36 permettant le montage de celui-ci sur son axe transversal 34, est sensiblement égale à la moitié de l'intervalle A suivant lequel les galets sont agencés. Par ailleurs, les galets 28, qui sont disposés respectivement aux deux extrémités de chaque rangée, s'étendent chacun jusqu'à l'extrémité correspondante de la bande.

L'écartement s (figure 3) entre chaque galet 28 et la tige 36 sur laquelle il est monté, qui SP 51691 MM 16 est volontairement exagéré sur la figure 3 pour des raisons de clarté, est en réalité minimisé de manière à empêcher ou au moins à réduire au mieux la quantité de rayonnement UV susceptible de passer entre le galet 28 et sa tige 36. Ainsi, la quasi-totalité des points de la bande est exposée au rayonnement UV de la source UV 22 pendant un temps sensiblement identique pour tous ces points. Plus précisément, au cours du déplacement de la bande 18, les points de celle-ci passant sous deux galets 28 respectifs des rangées 28a et 28c demeurent masqués par ces galets vis-à-vis de la source 22 pendant sensiblement le même laps de temps que les points de la bande passant sous des galets des deux autres rangées 28b et 28d, et que les points de la bande passant sous des tiges 36. Le dispositif décrit ci-dessus peut être utilisé pour former un revêtement microstructuré sur la surface externe d'un substrat, suivant un procédé dans lequel : - on enduit la face extérieure 20 de la bande 18 de résine susceptible de durcir sous l'effet de la source UV 22 ; on applique les rouleaux d'appui principaux 12 et 14 du dispositif sur la surface du substrat ; on déplace le dispositif en translation dans une direction 30 parallèle à la direction longitudinale de la bande 18, de manière à provoquer un roulement de la face extérieure 20 de la bande 18 recouverte de résine sur le substrat, conjointement à un SP 51691 MM 17 roulement de chacun des trois rouleaux 12, 14 et 16 sur la face intérieure 29 de la bande 18. Lors de ce déplacement, la résine présente sur la bande 18 est déposée sur le substrat au niveau du rouleau 12 disposé vers l'avant. Ensuite, la couche de résine déposée se trouve coincée entre le substrat et la bande 18 qui imprime dans cette couche de résine des microstructures de forme conjuguée de celle des microstructures de la bande 18. Le dispositif poursuivant son déplacement, en particulier la source UV 22, la résine déposée entre dans la zone de durcissement 26 éclairée par la source UV 22. Le temps de séjour de la résine dans cette zone, qui dépend de la vitesse de déplacement du dispositif, permet à la résine de durcir au moins en partie et d'adhérer au substrat. Lorsque la résine quitte la zone de durcissement, le dispositif poursuivant son déplacement, le rouleau 14 disposé vers l'arrière passe au-dessus de cette résine et la bande 18 le contourne, de sorte que la résine adhérant au substrat se détache de la bande 18. Le dispositif laisse ainsi derrière lui sur le substrat une bande de revêtement microstructuré composée de la couche de résine durcie. Au cours du déplacement du dispositif, le brin applicateur 24 est sollicité en permanence par les galets 28 et applique de ce fait la résine sur le substrat avec une pression homogène et contrôlée, qui SP 51691 MM 18 dépend des propriétés mécaniques des ressorts 42 et des galets 28. La qualité du revêtement obtenu est ainsi optimale.

De plus, le dispositif peut être utilisé sans problème en orientant les rouleaux d'appui principaux 12 et 14 et le brin applicateur 24 vers le haut pour former un revêtement microstructuré sur la face inférieure d'un substrat.10

Claims (9)

1. REVENDICATIONS1. Dispositif (10) pour former un revêtement microstructuré sur une surface d'un substrat, comprenant : - un châssis, - deux organes d'appui principaux (12, 14) portés par le châssis et écartés l'un de l'autre ; - une bande (18) dont une face (29), ci-après dénommée face intérieure, est appliquée sur lesdits organes d'appui principaux de sorte que ces derniers délimitent entre eux un brin (24) de la bande, ci-après dénommé brin applicateur, destiné à l'application sur le substrat d'un matériau durcissable destiné à constituer ledit revêtement après durcissement, l'autre face (20) de la bande, dite face extérieure, présentant des microstructures correspondant au négatif des microstructures du revêtement à former ; - des moyens (22) de durcissement destinés à l'accélération du durcissement du matériau durcissable, conçus pour agir dans une région (26) prédéterminée dudit brin applicateur (24), ci-après dénommée zone de durcissement ; le dispositif étant configuré de sorte que ladite bande (18) se déplace en roulant sans glissement sur le substrat et en contournant lesdits organes d'appui principaux (12, 14) lorsque le dispositif est déplacé selon une direction longitudinale (30) du brin applicateur (24) de la bande en appliquant ce brin sur le substrat, etSP 51691 MM 20 le dispositif étant caractérisé en ce qu'il comprend des organes d'appui secondaires (28) montés sur ledit châssis de manière à être au contact de ladite face intérieure (29) de la bande dans ladite zone de durcissement (26) de son brin applicateur (24).
2. 2. Dispositif selon la revendication 1, dans lequel lesdits organes d'appui secondaires (28) sollicitent ledit brin applicateur (24) dans une direction allant de la face intérieure (29) vers la face extérieure (20) de celui-ci.
3. 3. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, dans lequel lesdits organes d'appui secondaires (28) sont agencés en quinconce de sorte que les organes d'appui secondaires (28z) les plus proches de chaque bord de ladite zone de durcissement (26) ont chacun au moins un point d'appui sur ledit brin applicateur (24), dont l'écartement au bord correspondant de ladite zone de durcissement (26) est inférieur à 10%, et de préférence 5%, de l'étendue transversale de la bande.
4. 4. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, comprenant au moins un axe transversal (34) monté sur ledit châssis et portant une pluralité desdits organes d'appui secondaires (28) répartis le long dudit axe, de préférence de part et d'autre de l'axe.
5. 5. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel chacun desdits organes d'appui secondaires (28) prend la forme d'unSP 51691 MM 21 galet monté rotatif par rapport audit châssis de manière à rouler sans glissement au contact de ladite bande (18) lors du déplacement de celle-ci sur le substrat.
6. 6. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel lesdits moyens de durcissement comprennent une source de rayonnement ultraviolet (22) montée fixe par rapport audit châssis et configurée pour émettre en direction dudit brin applicateur (24).
7. 7. Dispositif selon la revendication 6, dans lequel lesdits organes d'appui secondaires (28), ainsi que l'ensemble des moyens (34, 36, 42, 46) qui assurent le montage desdits organes sur ledit châssis, sont réalisés en un matériau au moins partiellement transparent vis-à-vis du rayonnement émis par ladite source de rayonnement ultraviolet (22).
8. 8. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, comprenant en outre des moyens d'enduction de ladite face extérieure (20) de la bande avec le matériau durcissable.
9. 9. Procédé de formation d'un revêtement microstructuré sur une surface d'un substrat, tel qu'un élément de voilure ou de fuselage d'aéronef, au moyen d'un dispositif (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel :SP 51691 MM 22 on enduit la face extérieure (20) de la bande (18) d'un matériau susceptible de durcir sous l'effet des moyens de durcissement (22) ; on applique les organes d'appui principaux (12, 14) du dispositif sur la surface du substrat ; on déplace le dispositif de manière à provoquer un roulement de la face extérieure (20) de la bande (18) sur le substrat, ainsi qu'un roulement des organes d'appui (12, 14) sur la face intérieure (29) de la bande (18), le déplacement s'effectuant à une vitesse permettant l'adhérence du matériau durcissable déposé sur le substrat au terme de son exposition à l'action des moyens de durcissement (22).15