FR2689655A1 - Electrochromic-electrolyte cell for coating large surfaces e.g. vehicle or building window variable absorption filter - has electrode which ensures even distribution of resistance from connection point of external power supply using conductive grid or layer having resistance values related to distance from point. - Google Patents
Electrochromic-electrolyte cell for coating large surfaces e.g. vehicle or building window variable absorption filter - has electrode which ensures even distribution of resistance from connection point of external power supply using conductive grid or layer having resistance values related to distance from point. Download PDFInfo
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Abstract
Description
CELLULE ELECTROCHROME A COLORATION HOMOGENE ET
RAPIDE
L'invention concerne une cellule électrochrome dont la bonne homogénéité de couleur permet d'envisager des applications sur des grandes surfaces (fenêtres par exemple).ELECTROCHROME CELL WITH HOMOGENEOUS COLORING AND
QUICK
The invention relates to an electrochromic cell whose good color homogeneity makes it possible to envisage applications on large surfaces (windows for example).
De telles cellules sont capables de passer d'un état transparent à un état coloré et donc absorbant sous l'action d'un champ électrique, et revêtent un intérêt particulier dans les applications de confort comme les vitrages destinés à l'automobile (rétroviseur anti.éblouissement) ou au bâtiment. Ainsi le changement de transmission et de réflectivité du matériau peut être exploité dans des dispositifs d'affichage et pour des vitres "intelligentes" qui adaptent la transmission à l'intensité de la lumière du jour. Plus précisément, le changement d'état peut s'opérer typiquement par insertions simultanées d'électrons et de cations ou par désinsertions d'électrons et d'anions dans le matériau électrochrome, les ions étant fournis par un électrolyte présent dans la cellule. Such cells are able to pass from a transparent state to a colored state and therefore absorbing under the action of an electric field, and are of particular interest in comfort applications such as windows for the automobile (anti-mirror glare) or the building. Thus the change of transmission and reflectivity of the material can be exploited in display devices and for "smart" windows that adapt the transmission to the intensity of daylight. More precisely, the change of state may be carried out typically by simultaneous insertion of electrons and cations or by electron and anion disinsertion in the electrochromic material, the ions being supplied by an electrolyte present in the cell.
Néanmoins, la fabrication de cellules de grande taille se heurte actuellement à un problème d'uniformité de couleur et de vitesse de réponse due à la résistivité des électrodes employées. Nevertheless, the manufacture of large cells currently faces a problem of uniformity of color and speed of response due to the resistivity of the electrodes employed.
En effet, une cellule électrochrome est constituée d'une couche de matériau électrochrome couplée à une couche d'électrolyte, l'ensemble des deux couches étant inséré entre deux électrodes de commande. Ces électrodes sont généralement réalisées par dépôt d'oxyde d'indium et d'étain (ITO) sur lame de verre permettant de disposer d'électrodes transparentes. Ces électrodes présentent cependant l'inconvénient majeur d'avoir une résistivité suffisamment élevée et une épaisseur suffisamment faible pour conserver la transparence de la lame de verre, conduisant à une résistance de l'ordre de quelques dizaines d'ohms. Indeed, an electrochromic cell consists of a layer of electrochromic material coupled to an electrolyte layer, all of the two layers being inserted between two control electrodes. These electrodes are generally made by deposition of indium oxide and tin (ITO) on a glass slide for disposing transparent electrodes. These electrodes, however, have the major disadvantage of having a sufficiently high resistivity and a sufficiently small thickness to maintain the transparency of the glass slide, leading to a resistance of the order of a few tens of ohms.
Une telle résistance crée une chute de tension le long de l'électrode, ayant pour conséquence une faible densité de courant dans les zones éloignées des bornes d'adressage et donc une inhomogénéité de couleur et un temps de réponse élevé. De plus, il n'est pas possible de compenser la résistance élevée de l'ITO par l'application d'une tension d'alimentation élevée sous peine de détruire l'électrolyte. Pour pallier ce problème on pourrait envisager d'utiliser des électrodes adressées tête bêche comme l'illustre la figure 1, cherchant à compenser entre les deux électrodes (F1) et (F2) les chutes de tension au sein desdites électrodes, cependant un tel dispositif ne parvient pas à réaliser une cellule bien homogène en couleur. On s'est aperçu que ceci est du aux résistances respectives des électrodes et de la couche d'électrolyte (E) couplée à la couche d'électrochrome (M). Such a resistor creates a voltage drop along the electrode, resulting in low current density in areas far from the address terminals and thus color inhomogeneity and high response time. In addition, it is not possible to compensate for the high resistance of the ITO by the application of a high supply voltage under penalty of destroying the electrolyte. To overcome this problem, it would be possible to envisage using electrodes addressed head-to-tail as illustrated in FIG. 1, seeking to compensate between the two electrodes (F1) and (F2) the voltage drops within said electrodes, however such a device fails to achieve a homogeneous cell in color. It has been found that this is due to the respective resistances of the electrodes and the electrolyte layer (E) coupled to the electrochromic layer (M).
Typiquement les résistivités de 1'ITO et de l'électrolyte sont respectivement PITO et rE et sont les suivantes: = = 4.10-4 W.cm
P(E) = 15 W.cm
Compte tenu du passage du courant qui circule entre les deux lignes métalliques (P1) et (P2) permettant d'adresser les deux électrodes (F1) et (F2), les résistances RITo et RE sont:
RITO=PITO X L
L x L
Lxd
R,, x a
LxL
Si d est l'épaisseur de la couche d'ITO (de l'ordre de 1,5.10-7cm)
a est l'épaisseur de la couche d'électrolyte (de tordre de 10-2cm)
L étant la dimension de la cellule carrée (de l'ordre de 10cm) on
obtient RITO 30 et R(E) = 15. 10-4#. Typically, the resistivities of the ITO and the electrolyte are respectively PITO and rE and are the following: = = 4.10-4 W.cm
P (E) = 15 W.cm
Given the passage of the current flowing between the two metal lines (P1) and (P2) for addressing the two electrodes (F1) and (F2), the resistors RITo and RE are:
RITO = PITO XL
L x L
lxd
R ,, xa
LxW
If d is the thickness of the ITO layer (of the order of 1.5 × 10 -7 cm)
a is the thickness of the electrolyte layer (to bend 10-2cm)
L being the size of the square cell (of the order of 10 cm)
gets RITO 30 and R (E) = 15. 10-4 #.
Ce qui fait apparaître que la couche d'électrolyte est beaucoup plus conductrice que la couche d'ITO, d'où un écrantage du potentiel appliqué sur (F2) qui rend impossible la compensation de la chute de tension introduite dans l'électrode (F1). Pour obtenir une coloration rapide on cherche à maintenir un potentiel le plus élevé possible à la surface de l'électrode (F1). This makes it appear that the electrolyte layer is much more conductive than the ITO layer, hence a screening of the potential applied to (F2) which makes it impossible to compensate for the voltage drop introduced into the electrode (F1 ). To obtain a fast coloration, it is sought to maintain the highest possible potential on the surface of the electrode (F1).
C'est pourquoi l'invention propose une cellule électrochrome utilisant des moyens permettant d'imposer une tension constante et élevée sur la couche électrochrome (M). Plus précisément, l'invention propose une cellule électrochrome comprenant une couche de matériau électrochrome (M), une couche d'électrolyte (E), une première électrode (F1) d'application de tension au matériau électrochrome et une deuxième électrode (F2) d'application de tension à la couche d'électrolyte, la première électrode étant susceptible d'être raccordée à une source de tension par au moins un point d'alimentation situé à la périphérie de l'électrode, caractérisée en ce que la cellule comporte des moyens pour homogénéiser la valeur de la résistance entre le point d'alimentation et les différents points de la couche de matériau électrochrome. This is why the invention proposes an electrochromic cell using means making it possible to impose a constant and high voltage on the electrochromic layer (M). More precisely, the invention proposes an electrochromic cell comprising a layer of electrochromic material (M), an electrolyte layer (E), a first electrode (F1) for applying voltage to the electrochromic material and a second electrode (F2). for applying voltage to the electrolyte layer, the first electrode being capable of being connected to a voltage source by at least one supply point located at the periphery of the electrode, characterized in that the cell comprises means for homogenizing the value of the resistance between the feed point and the different points of the layer of electrochromic material.
Ces moyens pour homogénéiser peuvent comprendre un réseau de conducteurs déposés contre la première électrode et répartis sur la surface de celle ci. These means for homogenizing may comprise an array of conductors deposited against the first electrode and distributed over the surface thereof.
Ces moyens peuvent aussi comprendre une couche compensatrice (C) présentant une résistance dans le sens perpendiculaire au plan de cette couche, la résistance d'un élément de surface unitaire de la couche étant variable en fonction de la distance entre l'élément de surface et le point d'alimentation. La variation de la résistance peut être obtenue en utilisant une couche compensatrice (C) d'épaisseur variable en fonction de la distance entre l'élément de surface et le point d'alimentation. Pour obtenir une variation de résistance on peut également utiliser un matériau de résistivité variable en fonction de la distance entre l'élément de surface et le point d'alimentation, par exemple un matériau dopé dont le dopage varie localement en fonction de la distance entre l'élément de surface et le point d'alimentation. These means may also comprise a compensating layer (C) having a resistance in the direction perpendicular to the plane of this layer, the resistance of a unit surface element of the layer being variable as a function of the distance between the surface element and the feeding point. The variation of the resistance can be obtained by using a compensating layer (C) of variable thickness as a function of the distance between the surface element and the feed point. To obtain a variation in resistance, it is also possible to use a variable resistivity material as a function of the distance between the surface element and the feed point, for example a doped material whose doping varies locally as a function of the distance between the surface element and the point of supply.
Les électrodes (F1) et (F2) sont de préférence des substrats transparents (S1) et (S2) recouverts de couches d'oxyde d'indium et d'étain (lui) et (ire). The electrodes (F1) and (F2) are preferably transparent substrates (S1) and (S2) coated with layers of indium oxide and tin (him) and (ire).
L'invention est particulièrement intéressante pour réaliser des fenêtres à transparence contrôlée et des filtres à absorption variable. The invention is particularly interesting for producing controlled transparency windows and variable absorption filters.
L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre et des figures annexées parmi lesquelles:
- la figure 1 représente une cellule électrochrome utilisant deux électrodes adressées tête bêche;
- la figure 2 représente un premier exemple de cellule électrochrome selon l'invention, utilisant un réseau de lignes conductrices
- la figure 3 illustre un second exemple de cellule électrochrome selon l'invention, utilisant une couche compensatrice (C) d'épaisseur variable:
la figure 3a montre l'ensemble des différentes couches
constituant cet exemple de cellule
. la figure 3b indique des éléments unitaires résistifs, au sein de
l'électrode (F1) et de la couche compensatrice (C).The invention will be better understood and other advantages will become apparent on reading the description which follows and the appended figures, among which:
FIG. 1 represents an electrochromic cell using two electrodes addressed head to tail;
FIG. 2 represents a first example of an electrochromic cell according to the invention, using a network of conductive lines
FIG. 3 illustrates a second example of an electrochromic cell according to the invention, using a compensating layer (C) of variable thickness:
Figure 3a shows the set of different layers
constituting this cell example
. FIG. 3b indicates resistive unitary elements, within
the electrode (F1) and the compensating layer (C).
Une cellule électrochrome selon l'invention peut typiquement être constituée de deux lames de verre recouvertes d'ITO, d'une couche de matériau électrochrome (M) et d'une couche d'électrolyte (E). L'électrochrome peut typiquement être l'oxyde de tungstène W03, capable de passer d'un état transparent à un état coloré par insertions simultanées d'électrons et de cations tels que les ions H+ ou Li+ fournis par la couche d'électrolyte (E). A titre d'exemple, une couche de 0,3 ssm d'épaisseur d'oxyde de tungstène W03 est capable de passer d'une transmission supérieure à 90% à une transmission inférieure à 10 % lorsque le taux d'insertion est élevé. Parmi les autres oxydes se colorant par insertion de cations on peut citer également les composés V205 ou bien encore TiO2. Les méthodes de réalisation de couches minces de ces oxydes sont les méthodes classiques telles que l'évaporation thermique, la pulvérisation cathodique ou les méthodes sol-gel. De préférence l'électrolyte est un polymère élastomère ou un gel facile à utiliser dans les dimensions imposées par une taille importante de cellule. On peut ainsi utiliser du polyoxyethylène chargé en perchlorate de lithium Licol04. L'épaisseur de l'électrolyte est classiquement voisine d'une centaine de microns. An electrochromic cell according to the invention may typically consist of two ITO coated glass slides, a layer of electrochromic material (M) and an electrolyte layer (E). Electrochromic can typically be tungsten oxide W03, capable of passing from a transparent state to a colored state by simultaneous insertions of electrons and cations such as H + or Li + ions provided by the electrolyte layer (E ). For example, a 0.3 ssm thick layer of tungsten oxide W03 is capable of changing from a transmission greater than 90% to a transmission less than 10% when the insertion rate is high. Among the other oxides dyeing by insertion of cations, mention may also be made of compounds V205 or even TiO2. The methods for producing thin layers of these oxides are conventional methods such as thermal evaporation, sputtering or sol-gel methods. Preferably the electrolyte is an elastomeric polymer or an easy-to-use gel in the dimensions imposed by a large cell size. It is thus possible to use polyoxyethylene which is charged with lithium perchlorate LicolO4. The thickness of the electrolyte is conventionally close to a hundred microns.
Les électrodes transparentes utilisées dans la cellule selon l'invention peuvent être deux lames de verre recouvertes d'un dépôt d'oxyde d'indium et d'étain. Typiquement l'épaisseur de la couche d'ITO est voisine de 150nm de manière à conférer une bonne transparence aux électrodes (F1) et (F2) mais conduisant à une résistance suffisamment élevée pour générer une chute de tension le long de cette électrode par rapport au lieu d'application de tension dans le cas où l'application de tension se fait selon une ligne conductrice (psi) représentant un côté de l'électrode (F1). The transparent electrodes used in the cell according to the invention may be two glass slides coated with a deposit of indium oxide and tin. Typically, the thickness of the ITO layer is close to 150 nm in order to give good transparency to the electrodes (F1) and (F2) but leading to a sufficiently high resistance to generate a voltage drop along this electrode relative to instead of applying voltage in the case where the application of voltage is in a conductive line (psi) representing one side of the electrode (F1).
Il est également possible d'appliquer une tension sur (F1) par le pourtour de cette électrode tel que représenté sur la figure 2 qui illustre une configuration possible de cellule électrochrome selon l'invention. Cet exemple de réalisation utilise des lignes conductrices pouvant être déposées selon les méthodes classiques de sérigraphie, d'évaporation ou sputtering au travers d'un masque. Il est nécessaire que ces lignes restent de très fine épaisseur pour ne perturber qu'au minimum la transparence de la cellule. Le dépôt peut être effectué sur le substrat recouvert d'ITO ou bien encore avantageusement directement sur le substrat, l'ensemble étant ensuite recouvert d'une fine couche d'ITO. It is also possible to apply a voltage on (F1) by the periphery of this electrode as shown in FIG. 2 which illustrates a possible electrochromic cell configuration according to the invention. This exemplary embodiment uses conductive lines that can be deposited according to conventional methods of screen printing, evaporation or sputtering through a mask. It is necessary that these lines remain very thin to disturb only the transparency of the cell. The deposition can be carried out on the ITO-coated substrate or even advantageously directly on the substrate, the assembly then being covered with a thin layer of ITO.
Cela permet de conserver une très bonne stabilité chimique de la cellule. This makes it possible to maintain a very good chemical stability of the cell.
En effet lorsque sous tension les ions de l'électrolyte diffusent dans le matériau électrochrome, il est préférable qu'ils n' arrivent pas directement en contact avec les lignes conductrices. Dans cet exemple la résistance totale de l'électrode (F1) peut être considérée comme un réseau de petites électrodes, chaque chute de tension générée au sein d'une résistance élémentaire étant beaucoup plus faible et permettant d'homogénéiser fortement la tension appliquée sur la couche électrochrome et par là même la coloration de la cellule. Les moyens employés dans cet exemple présentent l'intérêt d'être très simples de réalisation.Indeed when under tension the electrolyte ions diffuse into the electrochromic material, it is preferable that they do not come into direct contact with the conductive lines. In this example, the total resistance of the electrode (F1) can be considered as a network of small electrodes, each voltage drop generated within an elementary resistor being much smaller and making it possible to strongly homogenize the voltage applied to the electrode. electrochromic layer and thereby the coloring of the cell. The means employed in this example have the advantage of being very simple to implement.
n est également possible d'homogénéiser la tension appliquée sur la cellule électrochrome en introduisant entre l'électrode (F1) et la couche de matériau électrochrome (M) une couche compensatrice (C). Cette couche compensatrice (C) peut être telle que la résistance résultante égale à la somme de la résistance de l'électrode (F1) et de la résistance de la couche compensatrice (C) soit constante pour tout élément de surface unitaire en contact avec la couche de matériau électrochrome (M). L'exemple suivant concerne une couche (C) compensatrice d'épaisseur variable le long d'un axe Y comme l'illustre la figure 3b. Dans le cas présent, l'électrode (F1) est mise sous tension par l'intermédiaire d'une ligne métallique (P1) et l'axe Y est perpendiculaire à ladite ligne (Pi). It is also possible to homogenize the voltage applied to the electrochromic cell by introducing between the electrode (F1) and the layer of electrochromic material (M) a compensating layer (C). This compensating layer (C) may be such that the resulting resistance equal to the sum of the resistance of the electrode (F1) and the resistance of the compensating layer (C) is constant for any unitary surface element in contact with the layer of electrochromic material (M). The following example relates to a compensating layer (C) of variable thickness along a Y axis as illustrated in FIG. 3b. In this case, the electrode (F1) is energized via a metal line (P1) and the Y axis is perpendicular to said line (Pi).
Dans cet exemple la résistance de la couche d'lTO le long de l'axe Y est la suivante: R ITO(Y) = P ITO
Lxd Lxd
La couche compensatrice introduite référencée (C) sur le schéma de Ia figure 3 doit avoir une résistance Rc(y) le long de l'axe Y telle que la résistance résultante soit constante le long de cet axe. Ainsi la tension appliquée du côté de la couche électrochrome (M) peut également être constante suivant y, il en est de même pour la tension appliquée du côté de la couche d'électrolyte (E) comme il a été explicité précédemment, c'est pourquoi une telle configuration permet d'obtenir une différence de potentiel homogène entre (F1) et l'électrolyte, créant par la même une coloration uniforme et rapide au sein de la cellule électrochrome. De préférence on cherche à réaliser la condition R ITo(Y) + RC(Y) = R ITO(L) (soit encore
Lxd Lxd
The compensating layer introduced referenced (C) in the diagram of Figure 3 must have a resistance Rc (y) along the Y axis such that the resulting resistance is constant along this axis. Thus the voltage applied on the electrochromic layer side (M) can also be constant along y, the same is true for the voltage applied on the side of the electrolyte layer (E) as it was explained above, it is why such a configuration makes it possible to obtain a homogeneous potential difference between (F1) and the electrolyte, thereby creating a uniform and rapid coloration within the electrochromic cell. Preferably, the condition R ITo (Y) + RC (Y) = R ITO (L)
De préférence il s'agit d'un "coin" c'est-à-dire d'une couche dont l'épaisseur en y = L est nulle. Cette couche peut être en verre de résistivité rc allant d'environ 108Q.cm à 101lQ.cm. Typiquement pour une cellule carrée de côté L = 30 cm on peut prendre une couche (C) de verre dont l'épaisseur maximale est de l'ordre du micromètre ou même moins, par exemple 100 nm. Une telle couche en coin d'épaisseur variable peut être obtenue par évaporation ou sputtering en utilisant un cache qui défile à vitesse constante devant l'échantillon. On peut aussi effectuer le dépôt par trempage (sol/gel) avec une vitesse d'étirement variable. Preferably it is a "corner" that is to say a layer whose thickness y = L is zero. This layer may be of resistivity glass rc ranging from about 108Ω.cm to 101lQ.cm. Typically for a square cell with a side L = 30 cm, it is possible to take a layer (C) of glass whose maximum thickness is of the order of one micrometer or even less, for example 100 nm. Such a wedge layer of variable thickness can be obtained by evaporation or sputtering using a cache that scrolls at a constant speed in front of the sample. Soaking deposit (soil / gel) can also be performed with a variable stretching speed.
L'épaisseur maximale de la couche à l'extrémité du coin est en première 2R1 .L Ri étant la résistance par carré de la couche d'lTO (F1). The maximum thickness of the layer at the end of the wedge is first 2R1 .L Ri being the resistance per square of the layer of lTO (F1).
approximation e- , Pc
Le tableau suivant donne à titre d'exemple des valeurs approximatives de résistivité de la couche de compensation pour diverses hypothèses d'épaisseur maximale e de cette couche et de résistance par carré Ri de la couche d'ITO. La longueur de la cellule est choisie par exemple égale à 30 cm.approximation e-, Pc
The following table gives as an example approximate values of resistivity of the compensation layer for various assumptions of maximum thickness e of this layer and resistance per square Ri of the ITO layer. The length of the cell is chosen for example equal to 30 cm.
Pc [fl .cmj
<tb> <SEP> e <SEP> Ri <SEP> = <SEP> 10# <SEP> <SEP> 30# <SEP> <SEP> l00fl <SEP> 1000# <SEP>
<tb> <SEP> 1 <SEP> pLm <SEP> 1,8.108 <SEP> fl.cm <SEP> 5,4.108 <SEP> A.cm <SEP> 1,8.109 <SEP> #.cm <SEP> <SEP> 1,8.1010 <SEP> fl.cm <SEP>
<tb> 100 <SEP> nm <SEP> 1,8.109 <SEP> Q.cm <SEP> 5,4.109 <SEP> #.cm <SEP> <SEP> 1,8.1010 <SEP> Q.cm <SEP> 1,8.1011 <SEP> Q.cm <SEP>
<tb>
Un dispositif électrochrome muni d'une couche de compensation selon l'invention permet d'utiliser des plaques revêtues d'ITO de résistivité plus élevée qui sont moins chères et qui de plus ont une meilleure transmission dans le visible et dans l'infrarouge.<tb><SEP> e <SEP> Ri <SEP> = <SEP> 10 # <SEP><SEP> 30 # <SEP><SEP> l00fl <SEP> 1000 # <SEP>
<tb><SEP> 1 <SEP> pLm <SEP> 1.8.108 <SEP> fl.cm <SEP> 5.4.108 <SEP> A.cm <SEP> 1.8.109 <SEP># .cm <SEP><SEP> 1.8.1010 <SEP> fl.cm <SEP>
<tb> 100 <SEP> nm <SEP> 1.8.109 <SEP> Q.cm <SEP> 5.4.109 <SEP># .cm <SEP><SEP> 1.8.1010 <SEP> Q.cm <SEP> 1.8.1011 <SEP> Q.cm <SEP>
<Tb>
An electrochromic device provided with a compensation layer according to the invention makes it possible to use plates coated with ITO of higher resistivity which are less expensive and which moreover have a better transmission in the visible and in the infrared.
Pour compenser les éventuels défauts de la couche compensatrice (C) créant localement une résistance plus faible, il est possible d'intercaler entre la couche (C) et la couche électrochrome (M) une couche de photoconducteur (Pc). En effet aux endroits où il y a diminution de résistance, l'électrochrome en regard est plus coloré, écrantant partiellement le photoconducteur rendu moins conducteur. En ces endroits les électrons sont repoussés vers des régions moins colorées ; on obtient ainsi une compensation de la chute de résistance locale qui permet de parfaire l'homogénéité de couleur de la cellule électrochrome. To compensate for any defects of the compensating layer (C) locally creating a lower resistance, it is possible to insert between the layer (C) and the electrochromic layer (M) a photoconductor layer (Pc). Indeed, in places where there is a decrease in resistance, the electrochrome opposite is more colorful, partially blocking the photoconductor made less conductive. In these places the electrons are pushed back to less colored regions; thus obtaining a compensation of the local resistance drop which makes it possible to perfect the homogeneity of color of the electrochromic cell.
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9203999A FR2689655A1 (en) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | Electrochromic-electrolyte cell for coating large surfaces e.g. vehicle or building window variable absorption filter - has electrode which ensures even distribution of resistance from connection point of external power supply using conductive grid or layer having resistance values related to distance from point. |
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| FR9203999A Withdrawn FR2689655A1 (en) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | Electrochromic-electrolyte cell for coating large surfaces e.g. vehicle or building window variable absorption filter - has electrode which ensures even distribution of resistance from connection point of external power supply using conductive grid or layer having resistance values related to distance from point. |
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