FR2501362A1 - Electromechanical strain gauge and mfg. method - has minimal thickness dielectric layer deposited on sensitive component and grid engraved in resistive sheet glued on dielectric - Google Patents

Electromechanical strain gauge and mfg. method - has minimal thickness dielectric layer deposited on sensitive component and grid engraved in resistive sheet glued on dielectric Download PDF

Info

Publication number
FR2501362A1
FR2501362A1 FR8104369A FR8104369A FR2501362A1 FR 2501362 A1 FR2501362 A1 FR 2501362A1 FR 8104369 A FR8104369 A FR 8104369A FR 8104369 A FR8104369 A FR 8104369A FR 2501362 A1 FR2501362 A1 FR 2501362A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
sep
dielectric
resistive
strip
sensitive element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
FR8104369A
Other languages
French (fr)
Other versions
FR2501362B1 (en
Inventor
Jean-Paul Navarro
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Societe Europeenne de Propulsion SEP SA
Original Assignee
Societe Europeenne de Propulsion SEP SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Societe Europeenne de Propulsion SEP SA filed Critical Societe Europeenne de Propulsion SEP SA
Priority to FR8104369A priority Critical patent/FR2501362A1/en
Publication of FR2501362A1 publication Critical patent/FR2501362A1/en
Application granted granted Critical
Publication of FR2501362B1 publication Critical patent/FR2501362B1/fr
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L1/00—Measuring force or stress, in general
    • G01L1/20—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress
    • G01L1/22—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
    • G01L1/2287—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges constructional details of the strain gauges
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/16—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. by resistance strain gauge
    • G01B7/18—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. by resistance strain gauge using change in resistance

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Abstract

The strain gauge is formed by a resistive grid (9) which is fixed on a sensitive component (1). On this sensitive component (1), a dielectric (8) is deposited under vacuum. The thickness of the dielectric (8) is the miminum compatible with the insulation voltages required. A sheet of resistive material is glued on the dielectric (8) and the grid (9) is engraved 'in situ' on this resistive material. The sensitive component (1) is polished before the dielectric (8) is applied. The sensitive component (1) may be made from a metal, a metallic alloy, or a carbon, vitreous carbon, polycrystal graphite, carbon-carbon, ceramic or polymer based material. The dielectric (8) is made from silica, alumina etc. The grid (9) is made from a metal, metallic alloy or conductive mineral. 6+6A.

Description

Jauge d'extensemtrie et procédé de fabrication.Extensibility gauge and method of manufacture.

La présente invention concerne une jauge d'ex tensométrie du type formé par une grille résistive établie sur un élément sensible, ainsi qu'un procédé de fabrication d'une telle jauge. The present invention relates to a tensometric gauge of the type formed by a resistive gate established on a sensitive element, as well as a method of manufacturing such a gauge.

On sait qu'une jauge d'extensométrie est un produit pour mesurer les contraintes mécaniques à la surface d'un objet par ailleurs appelé élément sensible. It is known that an extensometry gauge is a product for measuring the mechanical stresses on the surface of an object which is also called a sensitive element.

L'élément sensible est équipé d'une ou plusieurs jauges d' extensométrie dont la variation de résistance électrique est en relation connue avec la déformation que subit l'élément sensible sous l'action d'une force, d'une pression, d'un déplacement ou d'une température. The sensitive element is equipped with one or more strain gauges whose electrical resistance variation is in known relation to the deformation which the sensitive element undergoes under the action of a force, a pressure, a a displacement or a temperature.

L'élément sensible se déforme sous l'action de la grandeur physique à mesurer d'une manière connue il en résulte que la variation de la résistance électrique permet de mesurer la grandeur physique étudiée. The sensitive element is deformed under the action of the physical quantity to be measured in a known manner, it follows that the variation of the electrical resistance makes it possible to measure the physical quantity studied.

L'élément sensible, équipé d'une ou plusieurs jauges sert, incorporé à un capteur ou placé isolément dans un système, à mesurer une grandeur physique telle que pression, effort, déplacement, température, etc. The sensing element, equipped with one or more gauges serves, incorporated in a sensor or placed in isolation in a system, to measure a physical quantity such as pressure, effort, displacement, temperature, etc.

L'élément sensible équipé peut servir également à piloter tout procédé de régulation ou de contrôle automatique de processus techniques. The sensing element equipped can also be used to control any method of regulation or automatic control of technical processes.

I1 existe actuellement divers produits pour réaliser la mème fonction, et notamment : les jauges extensométriues à coller, les jauges métalliques déposées sous vide et les jauges métalliques diffusées sous vide. There are currently various products for performing the same function, and in particular: strain gauges to be bonded, vacuum deposited metal gauges and vacuum-diffused metal gauges.

Tous ces produits présentent des avantages et des inconvénients qui limitent leur emploi dans des domaines généralement différents de température, de régime vibratoire, d'ambiance chimique et également différents d'étendues de mesure.  All these products have advantages and disadvantages that limit their use in areas that are generally different from temperature, vibration regime, chemical environment and also different ranges of measurement.

Ainsi, pour les jauges extensométriques à coller , on est confronté aux inconvénients suivants
- fluage dû au joint de colle entre élément sensible et jauge a coller
- fluage du support de jauge qui se traduit par un manque de stabilité à long terme
- réduction de performances liée à l'épais- seur du support de jauge qui éloigne la grille résistive de la surface de l'élément sensible
Pour les jauges métalliques déposées sous vide, on assiste à un manque de stabilité à long terme car l'alliage déposé n'est pas homogène dans sa composition et donc n'est pas isotrope.Si les jauges sont gravées par procedé photochimique, dont la neutralisation est difficile, il apparat des derives à long terme dont l'incidence relative est d'autant plus grande que les grilles resistives sont d'épaisseur plus faible que le dixième de micron.Thus, for the strain gauges to be bonded, the following drawbacks are encountered
- creep due to the glue joint between sensitive element and stick gage
- creep of the gauge support which results in a lack of long-term stability
- reduction in performance due to the thickness of the gauge support which moves the resistive grid away from the surface of the sensitive element
For metal gauges deposited under vacuum, there is a lack of long-term stability because the deposited alloy is not homogeneous in its composition and therefore is not isotropic. If the gauges are etched by a photochemical process, whose Neutralization is difficult, it appears long-term derivatives whose relative impact is even greater than the resistive grids are of thickness less than one-tenth of a micron.

Le but de l'invention est de proposer une jauge d'extensométrie qui ne présente pas les inconvénients précités. I1 est notamment de proposer une jauge d'ex tensometriequi conserve les performances de l'alliage métalliques des jauges extensométriques à coller, mais évite que ces performances ne soient masquées par les défauts inhérents au support plastique genre époxyde ou polyimide inevitable pour l'utilisation de la plupart des jauges extensometriques à coller, ou au support silicium ou équivalent des jauges metalliques diffusées sous vide. The object of the invention is to provide an extensometry gauge which does not have the aforementioned drawbacks. It is in particular to propose a gauge of ex tensometry which retains the performance of the metal alloy of the strain gauges to be glued, but avoids that these performances are masked by the defects inherent to the plastic support type epoxy or polyimide inevitable for the use of most of the strain gages to stick, or the support silicon or equivalent of the gauges diffused under vacuum.

Ce but est atteint selon l'invention par le fait que la jauge d'extensométrie comporte, appliqué sur l'élément sensible, un diélectrique d'épaisseur minimale compatible avec les tensions d'isolement requises, et, appliqué sur le dielectriquewun feuillard de matériau résistif de composition homogène connue, dans lequel est gravée, in situ, la grille résistive. This object is achieved according to the invention in that the strain gauge comprises, applied to the sensitive element, a dielectric of minimum thickness compatible with the required insulation voltages, and, applied to the dielectric material sheet of material resistive of known homogeneous composition, in which is engraved, in situ, the resistive gate.

La grille résistive étant ainsi rapprochée au maximum compatible avec les tensions d'isolement requises de la surface de l'élément sensible où se développent les contraintes à mesurer, la mesure est beaucoup plus précise qu'avec les jauges connues. The resistive gate is thus brought closer to the maximum compatible with the insulation voltages required of the surface of the sensitive element where the stresses to be measured develop, the measurement is much more accurate than with the known gauges.

D'autre part, l'utilisation,pour la grille résistive, d'un matériau homogène parfaitement connu dans sa composition et ses caractéristiques mécaniques et électriques ainsi que dans leur évolution à court terme et à long terme conduit à un produit stable et de fabrication répétitive, donc à des mesures de grandeurs physiques plus précises en particulier à long terme. On the other hand, the use, for the resistive grid, of a homogeneous material perfectly known in its composition and its mechanical and electrical characteristics as well as in their short-term and long-term evolution leads to a stable and manufacturing product. repetitive, therefore to measurements of more precise physical quantities, particularly in the long term.

En outre, l'épaisseur de la grille résistive rend d'ordre mineur l'incidence de la difficulté de neutralisation après gravure photochimique sur la stabilité à long terme, si on utilise ce mode de gravure. In addition, the thickness of the resistive gate makes the impact of the problem of neutralization after photochemical etching on the long-term stability of minor importance, if one uses this mode of etching.

L'élément sensible, sur lequel on applique la
jauge d'extensométrie conforme à l'invention, est un matériau dont les caractéristiques mécaniques (module d'yOUNG et coefficient de POISSON) sont parfaitement connues. C'est avantageusement un métal ou alliage métallique, un matériau à base de carbone tel que les carbones vitreux, le graphite polycristallin ou le carbone carbone, un matériau céramique, ou un matériau polymère.The sensitive element, on which the
strain gage according to the invention, is a material whose mechanical characteristics (yOUNG modulus and FISH coefficient) are perfectly known. It is advantageously a metal or metal alloy, a carbon-based material such as vitreous carbons, polycrystalline graphite or carbon carbon, a ceramic material, or a polymer material.

A sa surface, qu'on aura éventuellement polie, on applique une très faible épaisseur - quelques millièmes de millimètre- d'un diélectrique constitué d'un corps minéral
tel que la silice, l'alumine ou equivalent, par pulvérisation catho
dique réactive ou non ou encore par évaporation simple ou multiple, réactive ou non, ou par un procédé dérivé des précédents sous vide, tel que la déposition ionique
("ion-plating") ou le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). At its surface, which may have been polished, a very small thickness (a few thousandths of a millimeter) of a dielectric consisting of a mineral body is applied.
such as silica, alumina or equivalent, by cathodic sputtering
reactive or not reactive or even by simple or multiple evaporation, reactive or not, or by a process derived from previous vacuum, such as ion deposition
("ion-plating") or chemical vapor deposition (CVD).

Le feuillard de matériau résistif, en métal, alliage metallique de composition connue, ou corps minéral conducteur, est placé en épaisseur suffisante (par exemple 4 à 6,pm) sur le diélectrique par collage ou tout procédé d'adhérisation qui solidarise parfaitement le feuillard et"le diélectrique. The sheet of resistive material, metal, metal alloy of known composition, or conductive inorganic body, is placed in sufficient thickness (for example 4 to 6, pm) on the dielectric by bonding or any bonding process which perfectly secures the strip and "the dielectric.

Le feuillard est gravé photo-ioniquement ou photochimiquement. The strip is etched photo-ionically or photochemically.

Suivant le mode d'utilisation, on peut appliquer et graver par le même.procédé, en parallèle ou en série avec chacune des jauges, une ou plusieurs résistances d'ajustage pouvant ensuite servir, par exemple, a équilibrer un pont de Wheatstone de quatre jauges gravées sur le même élément sensible ou à corriger des dérives en température. Depending on the mode of use, it is possible to apply and engrave by the same method, in parallel or in series with each of the gauges, one or more adjustment resistors which can then be used, for example, to balance a Wheatstone bridge of four gauges engraved on the same sensitive element or to correct drifts in temperature.

Chaque jauge et chaque résistance peut être gravée séparément ou simultanément par groupe suivant des dispositions qui conviennent à l'utilisation exacte qu'on veut en faire. Each gauge and each resistor can be engraved separately or simultaneously in groups according to arrangements that are appropriate for the exact use to be made of them.

Afin de pouvoir établir des comparaisons avec les jauges connues, on a fabriqué une jauge d'extensométrie conforme à l'invention selon les étapes suivantes
- polissage de l'élément sensible en acier inoxydable à hautes caractéristiques mécaniques,
- dépôt sous vide par pulverisation cathodique d'un diélectrique du type silice
- collage d'un feuillard d'alliage Nickel
Chrome d'épaisseur 5 pm. In order to make comparisons with known gauges, an extensometry gauge according to the invention has been manufactured according to the following steps:
polishing of the stainless steel sensitive element with high mechanical characteristics,
vacuum deposition by cathodic sputtering of a silica-type dielectric
- bonding a Nickel alloy strip
Chrome of thickness 5 pm.

- gravure photochimique du feuillard. - photochemical etching of the strip.

Les résultats de la comparaison sont rassemblés dans le tableau suivant TABLEAU

Figure img00050001
The results of the comparison are summarized in the following table TABLE
Figure img00050001

<SEP> Jauge <SEP> Jauge <SEP> Jauge <SEP> Jauge
<tb> <SEP> conforme <SEP> à <SEP> extenso- <SEP> métallique <SEP> métallique
<tb> <SEP> l'invention <SEP> métrique <SEP> à <SEP> déposée <SEP> diffusés
<tb> <SEP> coller <SEP> sous <SEP> vide <SEP> sous <SEP> vide
<tb> Chocs <SEP> thermiques <SEP> - <SEP> 200 <SEP> à <SEP> + <SEP> 400 <SEP> - <SEP> 55 <SEP> à <SEP> + <SEP> 125 <SEP> - <SEP> 200 <SEP> à <SEP> + <SEP> 400 <SEP> - <SEP> 55 <SEP> á <SEP> + <SEP> 125
<tb> acceptables <SEP> C
<tb> Flusge <SEP> á <SEP> 120 C <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 1 <SEP> 10-4 <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 2 <SEP> 10-3 <SEP> 1 <SEP> á <SEP> 2 <SEP> 10-4 <SEP> 1 <SEP> à <SEP> 2 <SEP> 10-4
<tb> ramens <SEP> à <SEP> l'étendue <SEP> de <SEP> mesure
<tb> Finage <SEP> á <SEP> 200 C <SEP> 4 <SEP> à <SEP> 5 <SEP> 10-4 <SEP> très <SEP> important <SEP> 4 <SEP> á <SEP> 5 <SEP> 10-4 <SEP> important
<tb> ramené <SEP> á <SEP> l'átendue <SEP> de <SEP> mesure
<tb> Stabillé <SEP> á <SEP> long <SEP> terme <SEP> ramenée <SEP> 10-4 <SEP> 10-3 <SEP> 10-3 <SEP> 10-3
<tb> á <SEP> l'étendue <SEP> de <SEP> mesure
<tb> Echauffement <SEP> parasite <SEP> de <SEP> 2 <SEP> ou <SEP> 3 C <SEP> 10 <SEP> à <SEP> 20 C <SEP> 2 <SEP> ou <SEP> 3 C <SEP> 2 <SEP> ou <SEP> 3 C
<tb> la <SEP> jauge <SEP> (effet <SEP> Joule)
<tb> Limitation <SEP> d'emploi <SEP> dans <SEP> sans <SEP> sans <SEP> sans <SEP> - <SEP> hautes <SEP> étenles <SEP> domaines <SEP> dues <SEP> de
<tb> <SEP> mesure
<tb> <SEP> - <SEP> chimiques
<tb> <SEP> - <SEP> vibratoires
<tb>
Les avantages et caractéristiques de l'invention seront mieux compris grâce à la description qui va suivre, faite en référence aux figures annexées, sur lesquelles
- la figure 1 est une vue en coupe d'un premier type de jauge de l'art antérieur;
- la figure 2 est une vue en coupe d'un second type de jauge de l'art antérieur;
- La figure 3 est une vue en coupe d'une jauge conforme à l'invention;
- la figure 4 est une vue en perspective partiellement arrachée d'une jauge conforme à l'invention pendant la première étape de sa fabrication;
- la figure 5 est une vue analogue a celle de la figure 4 pendant la deuxième étape de la fabrication;
- la figure 6 est une vue analogue a celles des figures 4 et 5 pendant la troisième étape de sa fabrication;
- la figure 6A représente un agrandissement du détail
A de la figure 6.<SEP> Gauge <SEP> Gauge <SEP> Gauge <SEP> Gauge
<tb><SEP> Metallic <SEP> Compliant <SEP><SEP> Metallic <SEP> Compliant
<tb><SEP> the invention <SEP> metric <SEP> to <SEP> filed <SEP> broadcast
<tb><SEP> paste <SEP> under <SEP> empty <SEP> under <SEP> empty
<tb> Thermal <SEP> Shocks <SEP> - <SEP> 200 <SEP> to <SEP> + <SEP> 400 <SEP> - <SEP> 55 <SEP> to <SEP> + <SEP> 125 <SEP > - <SEP> 200 <SEP> to <SEP> + <SEP> 400 <SEP> - <SEP> 55 <SEP> to <SEP> + <SEP> 125
<tb> acceptable <SEP> C
<tb> Flusing <SEP> at <SEP> 120 C <SEP> 1 <SEP> at <SEP> 1 <SEP> 10-4 <SEP> 1 <SEP> at <SEP> 2 <SEP> 10-3 <SEP> 1 <SEP> to <SEP> 2 <SEP> 10-4 <SEP> 1 <SEP> to <SEP> 2 <SEP> 10-4
<tb> ramens <SEP> to <SEP> the <SEP> extent of <SEP> metric
<tb> Finishing <SEP> to <SEP> 200 C <SEP> 4 <SEP> to <SEP> 5 <SEP> 10-4 <SEP> Very <SEP> Important <SEP> 4 <SEP> to <SEP> 5 <SEP> 10-4 <SEP> important
<tb> reduced <SEP> to <SEP> the range <SEP> of <SEP> metric
<tb> Stabily <SEP> to <SEP> long <SEP> term <SEP> brought back <SEP> 10-4 <SEP> 10-3 <SEP> 10-3 <SEP> 10-3
<tb> á <SEP> The <SEP> Scope of <SEP> Measure
<tb> Warm-up <SEP> parasite <SEP> of <SEP> 2 <SEP> or <SEP> 3 C <SEP> 10 <SEP> to <SEP> 20 C <SEP> 2 <SEP> or <SEP> 3 C <SEP> 2 <SEP> or <SEP> 3 C
<tb> the <SEP> gauge <SEP>(<SEP> Joule effect)
<tb> Limitation <SEP> of use <SEP> in <SEP> without <SEP> without <SEP> without <SEP> - <SEP> high <SEP> ranges <SEP><SEP> domains due <SEP> of
<tb><SEP> measure
<tb><SEP> - <SEP> Chemicals
<tb><SEP> - <SEP> vibratory
<Tb>
The advantages and characteristics of the invention will be better understood from the description which follows, with reference to the appended figures, in which
- Figure 1 is a sectional view of a first type of gauge of the prior art;
- Figure 2 is a sectional view of a second type of gauge of the prior art;
- Figure 3 is a sectional view of a gauge according to the invention;
- Figure 4 is a partially cutaway perspective view of a gauge according to the invention during the first step of its manufacture;
- Figure 5 is a view similar to that of Figure 4 during the second stage of manufacture;
- Figure 6 is a view similar to those of Figures 4 and 5 during the third stage of its manufacture;
FIG. 6A shows an enlargement of the detail
A of Figure 6.

On voit, sur la figure 1, un exemple de jauge collée sur un élément sensible métallique 1. La grille résistive 2, d'une épaisseur de 4 à 6 m, adhère par un joint de colle 3 d'une épaisseur de 2)um sur un support 4 plastique époxyde d'environ 25,um colle à l'élément sensible 1 par un joint 5 d'environ 1 à 21u.  FIG. 1 shows an example of a gauge bonded to a metallic sensitive element 1. The resistive grid 2, with a thickness of 4 to 6 m, adheres by a glue joint 3 having a thickness of 2 μm. on an epoxy plastic support of approximately 25 μm glue to the sensitive element 1 by a seal 5 of approximately 1 to 21 μm.

La figure 2 montre un exemple de jauge déposée sous vide, avec son diélectrique 6 déposé sous vide et d'une épaisseur d'environ 2um et la grille résistive 7 de faible épaisseur (O,lpm).  FIG. 2 shows an example of a gauge deposited under vacuum, with its dielectric 6 deposited under vacuum and of a thickness of about 2 μm and the resistive gate 7 of small thickness (O, lpm).

Comme le montre la figure 3, la jauge d'architecture nouvelle conforme a l'invention comporte, appliqués sur l'élément sensible 1, un diélectrique 8 déposé sous vide d'une épaisseur de l'ordre de 1 à 5pm compatible avec les tensions d'isolement requises,, et une grille résistive 9 gravée in situ dans un feuillard d'une épaisseur de l'ordre de 4 à 6pm collée par un joint de colle 10 de 1 à 2pm d'épaisseur sur le diélectrique 8,
Selon le procédé de fabrication conforme à l'invention, on commence (figure 4) par déposer sous vide sur l'élément sensible 1 le diélectrique 8, puis on colle (figure 5) par un joint de colle 10 un feuillard 11 de matériau résistif qu'on grave ensuite in situ afin d'obtenir (figures 6 et 6A) la grille résistive 9 de la jauge.As shown in Figure 3, the new architecture gauge according to the invention comprises, applied to the sensitive element 1, a dielectric 8 deposited under vacuum with a thickness of the order of 1 to 5 pm compatible with the voltages. required isolation, and a resistive grid 9 etched in situ in a strip of a thickness of the order of 4 to 6 pm glued by an adhesive seal 10 1 to 2 pm thick on the dielectric 8,
According to the manufacturing method according to the invention, it starts (Figure 4) by vacuum deposit on the sensitive element 1 the dielectric 8, then glue (Figure 5) by a glue joint 10 a strip 11 of resistive material it is then etched in situ in order to obtain (FIGS. 6 and 6A) the resistive gate 9 of the gauge.

Naturellement, l'invention n'est pas limitée b ce mode particulier de réalisation, mais elle englobe au contraire l'ensemble des réalisations dont la portée est définie par les revendications annexés.  Naturally, the invention is not limited to this particular embodiment, but on the contrary it encompasses all the embodiments whose scope is defined by the appended claims.

Claims (13)

REVENDICATIONS 1 - Jauge d'extensométriedu type formé par une grille résistive (9) solidaire d'un élément sensible (1), caractérisée en ce qu'elle comporte, appliqués successivement sur l'élément sensible (1), un diélectrique (8) déposé sous vide d'épaisseur minimale compatible avec les tensions d'isolement requises et une zorille résistive (9) gravée in situ dans un feuillard (11) de matériau résistif collé sur le diélectrique (8). 1 - Extensometric gauge of the type formed by a resistive gate (9) integral with a sensitive element (1), characterized in that it comprises, successively applied to the sensitive element (1), a dielectric (8) deposited under vacuum of minimum thickness compatible with the required isolation voltages and a resistive zorilla (9) etched in situ in a strip (11) of resistive material bonded to the dielectric (8). 2 - Jauge d'extensométrie selon la revendication 1, caractérisée en ce que le matériau constitutif de l'élément sensible (1) est un métal ou un alliage métallique ou un matériau à base de carbone, carbone vitreux, graphite polycristallin, carbonecarbone, ou à base de matériau céramique ou de polymères. 2 - strain gauge according to claim 1, characterized in that the material constituting the sensitive element (1) is a metal or a metal alloy or a material based on carbon, glassy carbon, polycrystalline graphite, carbonecarbon, or based on ceramic material or polymers. 3 - Jauge d'extensométrie selon les revendications 1 et-2, caractérisée en ce que le matériau diélectrique (8) placé sur l'élément sensible (1) est un corps minéral tel que silice, alumine. 3 - strain gauge according to claims 1 and 2, characterized in that the dielectric material (8) placed on the sensitive element (1) is a mineral body such as silica, alumina. 4 - Jauge d'extensométrie selon les revendications 1, 2 et 3, caractérisée en ce que le matériau résistif du feuillard (11) est un métal ou un alliage métallique ou un corps minéral conducteur. 4 - strain gauge according to claims 1, 2 and 3, characterized in that the resistive material of the strip (11) is a metal or a metal alloy or a conductive inorganic body. 5 - Procédé de fabrication d'une jauge d'extensométrie selon la revendication 1, caractérisé en ce que - on dépose sous vide, sur l'élément sensible (1), un diélectrique (8) 5 - A method of manufacturing an extensometry gauge according to claim 1, characterized in that - is deposited under vacuum on the sensitive element (1), a dielectric (8) d'épaisseur minimale compatible avec les tensions d'isolement minimum thickness compatible with isolation voltages requises; - on colle ensuite sur le diélectrique (8) un feuillard (11) de mate-  required; - Then sticks on the dielectric (8) a strip (11) matte riau résistif; - on grave in situ dans le feuillard (11) la grille résistive (9) de resistive material; - in situ in the strip (11) is etched the resistive grid (9) of la jauge. the gauge. 6 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que, préalablement à l'application du diélectrique (8), on procède à un polissage de la surface de l'élément sensible (1). 6 - Process according to claim 5, characterized in that, prior to the application of the dielectric (8), the surface of the sensitive element (1) is polished. 7 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'on dépose le diélectrique (8) par pulvérisation cathodique sous vide réactive ou non.  7 - Process according to claim 5, characterized in that the dielectric (8) is deposited by sputtering under a reactive vacuum or not. 8 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'on dépose le diélectrique (8) par évaporation sous vide, simple ou multiple, réactive ou non. 8 - Process according to claim 5, characterized in that the dielectric (8) is deposited by vacuum evaporation, single or multiple, reactive or not. 9 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'on dépose le diélectrique (8) par déposition ionique sous vide. 9 - Process according to claim 5, characterized in that the dielectric (8) deposited by ion deposition under vacuum. 10 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'on applique le diélectrique (8) par dépit chimique en phase vapeur. 10 - Process according to claim 5, characterized in that the dielectric (8) is applied by chemical vapor phase resistance. 11 - Procéde selon la revendication 5, caractérisé en ce que la grille (9) est gravée dans le feuillard (11) par procédé photo-ionique. 11 - Process according to claim 5, characterized in that the grid (9) is etched in the strip (11) by photo-ionic process. 12 - Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que la grille (9) est gravée dans le feuillard (11) par procédé photochimique. 12 - Process according to claim 5, characterized in that the grid (9) is etched in the strip (11) by photochemical process. 13 - Procédé selon l'une quelconque des revendications 5 à 12, caractérisé en ce qu'on grave dans le feuillard (11) une ou plusieurs grilles résistives (9) et simultanément ou séparégent une ou plusieurs résistances d'ajustage.  13 - Process according to any one of claims 5 to 12, characterized in that engraved in the strip (11) one or more resistive grids (9) and simultaneously or separate one or more adjustment resistors.
FR8104369A 1981-03-04 1981-03-04 Electromechanical strain gauge and mfg. method - has minimal thickness dielectric layer deposited on sensitive component and grid engraved in resistive sheet glued on dielectric Granted FR2501362A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8104369A FR2501362A1 (en) 1981-03-04 1981-03-04 Electromechanical strain gauge and mfg. method - has minimal thickness dielectric layer deposited on sensitive component and grid engraved in resistive sheet glued on dielectric

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8104369A FR2501362A1 (en) 1981-03-04 1981-03-04 Electromechanical strain gauge and mfg. method - has minimal thickness dielectric layer deposited on sensitive component and grid engraved in resistive sheet glued on dielectric

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FR2501362A1 true FR2501362A1 (en) 1982-09-10
FR2501362B1 FR2501362B1 (en) 1985-04-26

Family

ID=9255869

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR8104369A Granted FR2501362A1 (en) 1981-03-04 1981-03-04 Electromechanical strain gauge and mfg. method - has minimal thickness dielectric layer deposited on sensitive component and grid engraved in resistive sheet glued on dielectric

Country Status (1)

Country Link
FR (1) FR2501362A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0205044A1 (en) * 1985-06-10 1986-12-17 INTERATOM Gesellschaft mit beschränkter Haftung High temperature resistant ceramic material extensometering systems
WO1995011433A1 (en) * 1993-10-21 1995-04-27 John David Barnett Manufacturing of strain gauged sensors

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1408617A (en) * 1964-09-23 1965-08-13 Philips Nv Strain gauge or similar device
FR2365101A1 (en) * 1976-09-15 1978-04-14 Gen Electric DEFORMATION GAUGE AND ITS MANUFACTURING PROCESS

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1408617A (en) * 1964-09-23 1965-08-13 Philips Nv Strain gauge or similar device
FR2365101A1 (en) * 1976-09-15 1978-04-14 Gen Electric DEFORMATION GAUGE AND ITS MANUFACTURING PROCESS

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
EXBK/72 *
EXRV/80 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0205044A1 (en) * 1985-06-10 1986-12-17 INTERATOM Gesellschaft mit beschränkter Haftung High temperature resistant ceramic material extensometering systems
US4699010A (en) * 1985-06-10 1987-10-13 Interatom Gmbh High-temperature resistant elongation measuring system formed of ceramic materials
WO1995011433A1 (en) * 1993-10-21 1995-04-27 John David Barnett Manufacturing of strain gauged sensors

Also Published As

Publication number Publication date
FR2501362B1 (en) 1985-04-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0604628B1 (en) Strain gage disposed on a flexible support and probe fitted with said gage
US5165283A (en) High temperature transducers and methods of fabricating the same employing silicon carbide
EP1101087B1 (en) Flexible silicon strain gage
JPS5855732A (en) Electrostatic capacity type pressure sensor
FR3012604A1 (en) PRESSURE SENSOR COMPRISING A STRUCTURE FOR CONTROLLING AN ADHESIVE LAYER RESISTANT TO TEMPERATURE VARIATIONS
JPS60181602A (en) Thin-film strain gage device and manufacture thereof
EP3769160A1 (en) Method for manufacturing a silicon hairspring
US6691581B2 (en) Pressure transducer fabricated from beta silicon carbide
FR2977886A1 (en) MINIATURIZED SENSOR WITH HEATING ELEMENT AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME.
FR2650389A1 (en) MEASURING DEVICE FOR DEFORMING A MEMBRANE
KR100432465B1 (en) Thin film piezoresistive sensor and method of making the same
FR2501362A1 (en) Electromechanical strain gauge and mfg. method - has minimal thickness dielectric layer deposited on sensitive component and grid engraved in resistive sheet glued on dielectric
US6453748B1 (en) Boron nitride piezoresistive device
EP2561369B1 (en) Hot-wire sensor of submillimeter size and associated method of production
FR2494437A1 (en) MEASURING DEVICE COMPRISING A STRAIN GAUGE WITH A THIN GLASS HOLDER
JP2001057358A (en) Method of fabricating sensor with thin film
GB2034970A (en) Semiconductor pressure transducer
EP3455637B1 (en) Prestrained vibrating accelerometer
FR2496871A1 (en) Measurement of narrow gap between two hot metal workpieces - by determn. of capacitance between surface of one piece and metal sensor located on other piece
FR2838522A1 (en) INERTIAL SENSOR WITH INTEGRATED TEMPERATURE SENSOR
JP2838361B2 (en) Pressure sensor integrated pressure sensor
JPS59141273A (en) Thin-film device
CH714815A2 (en) Process for manufacturing a silicon spiral for watchmaking
FR2654210A1 (en) MEASURING DEVICE FOR DETERMINING A PHYSICAL QUANTITY.
JP2748077B2 (en) Pressure sensor

Legal Events

Date Code Title Description
ST Notification of lapse