FI97647C - Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi - Google Patents

Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi Download PDF

Info

Publication number
FI97647C
FI97647C FI945364A FI945364A FI97647C FI 97647 C FI97647 C FI 97647C FI 945364 A FI945364 A FI 945364A FI 945364 A FI945364 A FI 945364A FI 97647 C FI97647 C FI 97647C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
sample mass
radiation
content
detector
correction coefficient
Prior art date
Application number
FI945364A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI97647B (fi
FI945364A0 (fi
FI945364A (fi
Inventor
Jukka Raatikainen
Original Assignee
Ima Engineering Ltd Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ima Engineering Ltd Oy filed Critical Ima Engineering Ltd Oy
Publication of FI945364A0 publication Critical patent/FI945364A0/fi
Priority to FI945364A priority Critical patent/FI97647C/fi
Priority to ES95937904T priority patent/ES2200007T3/es
Priority to PCT/FI1995/000621 priority patent/WO1996015442A1/en
Priority to CA002204848A priority patent/CA2204848C/en
Priority to AU38730/95A priority patent/AU693950B2/en
Priority to DE69530858T priority patent/DE69530858T2/de
Priority to KR1019970703202A priority patent/KR100385375B1/ko
Priority to AT95937904T priority patent/ATE241136T1/de
Priority to EP95937904A priority patent/EP0792453B1/en
Priority to CN95196218A priority patent/CN1098457C/zh
Priority to US08/817,883 priority patent/US5721759A/en
Publication of FI945364A publication Critical patent/FI945364A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI97647B publication Critical patent/FI97647B/fi
Publication of FI97647C publication Critical patent/FI97647C/fi

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/06Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
    • G01N23/12Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the material being a flowing fluid or a flowing granular solid
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence

Landscapes

  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Networks Using Active Elements (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)

Description

97647
Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi Tämän keksinnön kohteena on menetelmä alkuaineen 5 pitoisuuden määrittämiseksi virtaavasta näytemassasta röntgenfluoresenssia hyväksikäyttäen, jossa menetelmässä säteilytetään näytemassaa röntgen- tai gammasäteilyllä, ilmaistaan näytemassan emittoima säteily, 10 määritetään näytemassan emittoiman säteilyn ener- giadispersiivinen säteilyspektri, ja määritetään alkuaineen pitoisuus mitatusta sätei-lyspektristä tälle alkuaineelle karakteristisen säteilyspektri -ikkunan intensiteetin perusteella.
15 Röntgenfluoresenssia hyväksikäyttävässä mittalait- teistossa ilmaisimen havaitsemista fotoneista muodostuu energiadispersiivinen säteilyspektri (intensiteetti) aallonpituuden tai energian funktiona, josta valitaan elektroniikan ja/tai ohjelmiston avulla kutakin alkuainetta 20 edustavat jaksot, joita kutsutaan energiaikkunoiksi eli kanaviksi. Kanaviin kerättyjä pulsseja (intensiteettejä) käytetään analyysilaskennassa. Spektristä valitaan myös useita eri energia-alueella olevia nk. taustakanavia eli — sirontakanavia, joiden avulla saadaan tietoa mitattavan 25 massan kokonaismäärästä ja etäisyydestä ilmaisimiin nähden.
Röntgenfluoresenssiin pohjautuvia analyysimenetelmiä voidaan soveltaa teollisuusprosessissa virtaavan näytemassan alkuainepitoisuuksien määrittämiseen. Menetelmän 30 avulla voidaan mitataan alkuaineita suoraan massavirrasta, jonka määrä alustalla voi vaihdella. Tyypillinen sovellus on murskatun malmin alkuaineiden mittaus suoraan kuljettimen yläpuolelta. Erilaisilla mineraalirikastamoilla, louhoksilla, sementtiteollisuudessa ja muuallakin kemianteol-35 lisuudessa on tarvetta juuri tällaiseen alkuaineiden mit- 2 97647 taamiseen suoraan prosessivirrasta. Tavoitteena on tällöin yleensä suorittaa mittaus sellaisella tarkkuudella ja nopeudella, että prosessia voidaan saadun mittaustuloksen perusteella ohjata ja säätää reaaliaikaisesti.
5 Röntgenf luoresenssiin perustuvat alkuaineanalysaat- torit ovat laajassa käytössä laboratorioissa. Hienonnetun näytteen mittaamiseen käytetään yhä enenevässä määrin myös prosessianalysaattoreita, joilla ei kuitenkaan voida mitata materiaalia, jonka raekoko on tyypillisesti suurempi 10 kuin 1 mm.
Suoraan hihnan päältä tai hihnan läpi massavirrasta alkuaineita mittaavia, röntgenfluoresenssiin perustuvia laitteita ja menetelmiä on myös nykyisin käytössä. Esimerkiksi Ima Engineering Ltd. Oy, Espoo, Suomi, valmistaa ja 15 myy Beltcon 100 ja Beltcon 200 analysaattoreita ylläkuvattuihin käyttötarkoituksiin. Näiden molempien laitteiden ongelmana on erityisesti mittaustuloksen epätarkkuus vaih-televissa ympäristöolosuhteissa. Erityisesti kevyiden alkuaineiden, kuten kalsiumin mittaaminen tällaisella kiin-20 teästi asennetulla mittalaitteella on osoittautunut ongel malliseksi, koska karakteristisen röntgensäteilyn intensiteetti vaimenee etäisyyden neliöön verrannollisena. Täten mittausetäisyyden tulisi olla mahdollisimman pieni mitattaessa kevyitä alkuaineita, kuten Ca, K, Si ja Ai.
25 Esillä olevan keksinnön tavoitteena on mitata ja analysoida murskatun ja/tai hienonnetun malmin alkuainepitoisuuksia röntgenfluoresenssiperiaatteella reaaliajassa suoraan kuljettimen päältä tarkasti siten, että prosessin reaaliaikainen säätö alkuainepitoisuuksien perusteella on 30 mahdollista.
Keksinnön tavoitteena on kompensoida massan ja mittalaitteen etäisyyden sekä mittausympäristön olosuhteiden vaihtelut automaattisesti.
Keksinnön tavoitteena on myös vakiinnuttaa mitta-35 laitteen suorituskyky sekä hetkellisiä että pitkäaikaisia
II
3 97647 vaihteluita vastaan.
Keksinnön tavoitteena on mitata myös kevyitä alkuaineita luotettavasti ja tarkasti.
Keksinnön tavoitteena on myös esittää menetelmä ja 5 laitteisto, jonka avulla voidaan mitata ja analysoida alkuainepitoisuudet röntgenfluoresenssiperiaatteella massa-virrasta, joka voi olla kiinteää ainetta, lietettä tai nestemäistä ainetta.
Edellä mainittujen ongelmien ratkaisemiseksi ja 10 lueteltujen tavoitteiden saavuttamiseksi keksinnön mukai nen menetelmä käsittää lisävaiheet, joissa mitataan ilman lämpötila näytemassan ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien välisessä ilmatilassa, määritetään mitatusta ilman lämpötilasta riippuvai-15 nen ensimmäinen korjauskerroin ja korjataan alkuaineen määritettyä pitoisuutta mainitulla ensimmäisellä korjauskertoimella näytemassan ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien välisessä ilmassa tapahtuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimi-20 seksi.
Edelleen on havaittu, että myös ilman kosteus, ilmanpaine, pölypitoisuus ja jonkin tietyn osakaasupitoisuu-den muutokset vaikuttavat mittaustuloksen tarkkuuteen. Keksinnön mukaisesti myös nämä suureet voidaan tarvittaes-25 sa mitata ja määrittää niitä vastaavat korjauskertoimet, joiden avulla mittaustulosta edelleen korjataan lämpötila-korjauksen lisäksi.
Jotta kyettäisiin kompensoimaan myös näytemassan ja ilmaisimen tai ilmaisimien välisen etäisyyden muutokset 30 aikaisempaa tarkemmin ja jotta toisaalta kyettäisiin yllä pitämään mahdollisimman pientä etäisyyttä näytemassan ja ilmaisimien välillä, keksinnön mukainen menetelmä käsittää lisävaiheen, jossa oleellisesti vakioidaan näytemassan ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien välinen etäisyys vir-35 taavan näytemassan pintaa tasaamalla ja/tai mittaamalla 4 97647 mainittu etäisyys ja asettelemalla säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien etäisyyttä näytemassasta mainitun mittaustuloksen perusteella.
Keksinnön mukaisen menetelmän ja laitteiston avulla 5 kyetään ottamaan huomioon lämpötilavaihtelut ja muut ympäristöolosuhteiden vaihtelut mittaustilassa. Tämä on osoittautunut erittäin merkittäväksi, koska kevyiden alkuaineiden intensiteetit vaimenevat eksponentiaalisesti lämpötilan ja pölypitoisuuden funktioina.
10 Vaikka keksinnön mukainen menetelmä ja laitteisto soveltuu erityisen hyvin murskatun ja hienonnetun malmin alkuaineiden nopeaan mittaamiseen suoraan kuljettimen päältä, menetelmää ja laitteistoa voidaan käyttää laajemminkin erilaisissa massateollisuuden sovelluksissa, joissa 15 näytteiden ottaminen on hankalaa, hidasta ja kallista, näytteiden osakomponentit ovat epähomogeenisia alkuainepitoisuuksiltaan ja massan määrä kuljettimella vaihtelee.
Seuraavassa keksinnön mukaista ja laitteistoa kuvataan yksityiskohtaisemmin viitaten oheiseen piirustukseen, 20 jossa kuvio 1 esittää kaaviokuvana mittalaitteiston me kaanista sijoittelua mitattavan massavirran suhteen, kuvio 2 esittää kaaviokuvan mittalaitteistosta ja . kompensointiin käytettävistä antureista, 25 kuvio 3 esittää kaaviokuvan etäisyyden vakiointi- järjestelyn ensimmäisestä suoritusmuodosta ja kuvio 4 esittää kaaviokuvan etäisyyden vakiointi-järjestelyn toisesta suoritusmuodosta.
Kuviossa 1 esitetty mittalaitteisto, jota on ylei-30 sesti merkitty viitenumerolla 3, on asennettu alustalla 2 olevan massan 1 välittömään läheisyyteen. Massa voi olla murskattua ja/tai hienonnettua mineraalia ja alusta 2 voi olla esimerkiksi hihnakuljetin. Tyypillisesti joko massa tai alusta ovat liikkeessä, jolloin on kyse massavirrasta. 35 Keksinnön mukaisen menetelmän ja laitteiston kannalta on 5 97647 myös mahdollista, että massan virtaus mittauksen ajaksi keskeytetään, mutta tällainen pysäyttäminen ei useinkaan tule kysymykseen pelkästään jo kuljettimellä olevien suurten massamäärien johdosta, eikä se myöskään ole keksinnön 5 mukaisen menetelmän ja laitteiston toiminnan kannalta tarpeellista .
Kuviossa 1 liikkeen suuntaa on merkitty suuntanuo-lella A. Massa 1 voi olla kiinteää ainetta, lietettä tai nestemäistä ainetta. Massan alkuainekoostumus voi vaihdelle» la suuresti. Myös mitattavan massavirran määrä voi vaihdella suuresti ja se voi sisältää partikkeleita, kuten lohkareita, joiden koko vaihtelee lohkareesta toiseen. Myös lohkareiden alkuainekoostumus voi vaihdella lohkareesta toiseen. Kun massan määrä alustalla voi vaihdella, 15 myös etäisyys D massan pinnasta mittalaitteeseen voi vaihdella.
Mittalaitteistoon 3 kuuluu yksi tai useampia röntgen- tai gammasäteilylähteitä 4 ja yksi tai useampia sä-teilynilmaisimia 5, jotka on sijoitettu edulliselle etäi-20 syydelle D mitattavasta massavirrasta. Säteilylähde voi olla esimerkiksi röntgenputki tai radioaktiivinen isotoop-pisäteilijä. Säteilynilmaisin 5 voi puolestaan olla tuike-aine, verrannollisuuslaskuri tai puolijohdeilmaisin. Jos ilmaisimia on useampia, voi jokin niistä olla herkempi 25 kevyiden ja jokin toinen raskaiden alkuaineiden karakteristiselle röntgensäteilylle. Useampia säteilylähteitä ja/tai ilmaisimia käytetään, kun yhdellä säteilylähteellä ja/tai ilmaisimella ei voida virittää ja havaita riittävän tehokkaasti kaikkia mitattavia alkuaineita tai, kun mita-30 taan karkeita massarakeita, jolloin mittaus ja säteilyttä-' ‘ " minen useammasta suunnasta antaa luotettavamman mittaustu loksen.
Mittalaitteistoon 3 kuuluu myös säteilyn havaitsemiseen tarvittava elektroniikka 23, tietokone ja ohjelmis-35 tot 27 tulosten laskemiseksi, sisäisen lämpötilan mitta- 6 97647 anturi 6a ja ilmastointilaite 6b sisälämpötilan vakioimi-seksi, tarvittaessa pursotuskaasun syöttölaite 7a ja varastosäiliö 7b mittausta häiritsevän kaasukomponentin huuhtelemiseksi, kosteusanturi 8 mittalaitteiston sisällä 5 olevan ilman kosteuden mittaamiseksi, turva-, mittaus- ja ohjauselektroniikka 24, mekaaninen runko ja tiivis kotelo 25, säteilyä helposti läpäisevät ikkunat 26 säteilylähteiden 4 ja ilmaisimien 5 edessä joko runkoon, koteloon tai kyseessä olevaan komponenttiin kiinnitettyinä. Mittalait-10 teiston 3 sisäiset anturit ja toimilaitteet on liitetty sähköisesti turva-, mittaus- ja ohjauselektroniikkaan 24, joka puolestaan on liitetty sähköisesti ja ohjelmallisesti tietokoneeseen 27. Säteilyn havaitsemiseen käytetty elektroniikka 23 liittyy sähköisesti ja ohjelmallisesti tieto-15 koneeseen 27.
Keksinnön mukaisesti mittauslaitteistoon kuuluu myös välineet ulkoisten olosuhteiden mittaamiseksi näyte-massan 1 ja ilmaisimien 5 välisessä ilmatilassa. Nämä mittarit ovat ulkoisen lämpötilan mitta-anturi 9, ulkoisen 20 ilmanpaineen mitta-anturi 10, ulkoisen kosteuden mitta-anturi 11, ulkoisen pölypitoisuuden mitta-anturi 12 ja ulkoisen häiritsevän osakaasun komponentin mitta-anturi 13. Edellä mainitut mitta-anturit on sijoitettu mittauspisteen välittömään läheisyyteen siten, että ne antavat 25 oikean kuvan mittauspisteessä vallitsevista olosuhteista, jolloin niiden antamaa mittaustietoa voidaan käyttää näytteistä mitattujen karakterististen röntgensäteilyintensi-teettien korjaamiseen laskennallisia kaavoja käyttäen. Ulkoiset mitta-anturit 9-13 on liitetty yhden tai useamman 30 signaalien käsittely-yksikön 28 kautta tietokoneeseen 27.
Keksinnön mukaisesti mitattuja ulkoisia olosuhteita kuvaavia mittaussuureita, jotka kertovat ympäristöolosuhteista mitattavan näytteen ja mittalaitteiston 3 välisessä tilassa, käytetään erilaisten korjauskertoimien laskemi-35 seen, joiden avulla kyetään kompensoimaan näiden ulkoisten 7 97647 suureiden vaikutus määritettyihin röntgensäteilyintensi-teetteihin eri alkuaineille. Lähtökohtana on tällöin, että mitattavan näytteen 1 ja ilmaisinvälineiden 5 välinen ilma vaimentaa näytteen emittoimaa säteilyä riippuen niistä 5 olosuhteista, joissa tämä ilma on. Käytännössä on havaittu, että näillä ympäristötekijöillä ja erityisesti ilman lämpötilalla on kevyitä alkuaineita mitattaessa merkittävä vaikutus mittaustulokseen. Kevyiden alkuaineiden yhteydessä mittaustuloksena saatavat intensiteetit jäävät 10 hyvin alhaisiksi, jolloin absoluuttitasoltaan vähäinenkin vaimeneminen saattaa vääristää mittaustulosta merkittävästi .
Oleellisin keksinnön mukainen korjaus on lämpötila-korjaus. Lämpötilakorjauksen yhteydessä lasketaan ensin 15 lämpötilasta riippuvainen vaimennuskerroin μ1 kaavalla
Mi = KE/T, missä KE on ainekohtaisesti laskettu vakio ja T on lämpötila. Lämpötilakorjattu intensiteetti IE voidaan tällöin laskea kaavalla 20 IE= Ne * βμιΧ, missä Ne on normioitu intensiteetti ja x on etäisyys (cm).
Jos ilman tiheyden ja toisaalta mittausetäisyyden oletetaan pysyvän vakioina ja ainoastaan ilman lämpötilan . muuttuvan arvosta 20 °C arvoon 30 °C, muuttuu intensiteet- 25 ti 4,3 %. Tällainen 10 asteen lämpötilan muutos on hyvinkin pieni kun ajatellaan kaivosolosuhteita ja toisaalta mittaustuloksen muutos 4,3 % on jo erittäin merkittävä.
Edellä kuvatun kaltaiset yhtälöt voidaan johtaa myös muille kompensoinnissa mahdollisesti huomioon otetta-30 ville suureille, jotka vaikuttavat röntgensäteilyn vaimenemiseen näytemassan ja säteilynilmaisimen välisessä ilmassa. Käytännössä näiden mitattujen suureiden vaikutus vaimenemiseen voidaan määrittää korjauskertoimena, joita lasketaan lohkossa 28 käytettäväksi saatujen intensiteet-35 timittaustulosten korjaamiseen. Kuten edellä on jo todet- 8 97647 tu, kaikkein merkittävimmin mittaustulokseen vaikuttaa ilman lämpötila. Seuraavaksi merkittävimpinä ovat kosteus ja ilmanpaine. Luonnollisesti myös oleellinen pölypitoi-suus saattaa vaikuttaa ilmatien vaimennukseen erittäinkin 5 merkittävästi.
Ilmatien vaimennuksen määrään vaikuttaa luonnollisesti merkittävästi myös se etäisyys, jolla ilmaisin on näytteestä. Tämän johdosta pyritään kevyitä alkuaineita mitattaessa minimoimaan mainittu etäisyys, jota kuvioissa 10 1-4 on merkitty viitteellä D. Jotta tämä etäisyys saatai siin mahdollisimman pieneksi ja myös mahdollisimman vakioksi on kuvioissa 3 ja 4 esitetty kaksi erilaista keksinnön suoritusmuotoa, joiden avulla kyseinen etäisyys saadaan oleellisesti vakioitua.
15 Kuviossa 3 on esitetty ratkaisu, jossa näytemassan 1 pinta tasataan tasaimella 16 siten, että pinta saadaan vakioetäisyydelle mittalaitteistosta 3 . Tällainen tasaimen käyttö tulee erityisesti kysymykseen silloin, kun näyte-massa 1 on suhteellisen hienojakoista. Kovinkaan karkeiden 20 rakeiden tai jopa lohkareiden tapauksessa tasainta 16 ei voida soveltaa, koska tällöin näytemassan 1 kautta hihnaan 2 kohdistuvat voimat kasvaisivat kohtuuttoman suuriksi. Luonnollisesti tasaimen 16 käyttö edellyttää myös suhteel- , lisen tasaista näytemassavirtaa. Jos nimittäin näytemassa- 25 virran määrä ajallisesti vaihtelee suuresti, tarvitaan niin suuri tasausvaikutus, että se ei ole enää käytännössä toteutettavissa.
Kuviossa 4 onkin esitetty toinen ratkaisu mittaus-etäisyyden vakioimiseksi, joka tulee kysymykseen myös sil-30 loin, kun mitattava näytemassa on lohkareista tai karkeajakoista tai kun sen määrä ajallisesti vaihtelee suuresti. Tässä kuvion 4 mukaisessa ratkaisussa mitataan anturilla 15a näytemassan etäisyys mitta-anturista jonkin matkaa mittalaitteiston 3 etupuolella. Tämän mittaustiedon perus-35 teella mittalaitteiston 3 etäisyyttä kuljetushihnasta 2 9 97647 sitten asetellaan käyttäen hyväksi esimerkiksi hydrauli-sylinteriä 15b siten, että mittalaitteiston 3 etäisyys näytemassan 1 pinnasta pysyy mahdollisimman vakiona. Tässä yhteydessä tulee muistaa, että tavanomaisesti mittalait-5 teiston 3 mittauksen aikana suoritetaan koko energiadis-persiivisen säteilyspektrin mittaus ja tästä spektristä kyetään myös määrittämään taustasäteilyn perusteella se etäisyys, jolla mittalaitteisto on näytemassasta 1. Tämän mittauksen perusteella kyetään mittaustuloksia myös kor-10 jaamaan. Kevyiden alkuaineiden kyseessä ollen tämä korjaus ei kuitenkaan ole mahdollinen ellei itse mittausetäisyys ole niin pieni, että kyetään saamaan mielekäs mittaustulos eri vaimentavista tekijöistä huolimatta.
Luotettavan tuloksen saamiseksi massan liikkuessa 15 mittaustapahtuma on järjestettävä pieniin mittajaksoihin jaksotettuna, joista lasketaan esimerkiksi keskiarvotuloksia. Useasta suunnasta tehdyillä samanaikaisilla mittauksilla eli käyttäen useampia ilmaisimia, jotka mittaavat näytemassasta eri suunnalta tulevia säteilyjä, parannetaan 20 mittauksen tilastollista luotettavuutta samalla kun mitataan suurempi tilavuus näytteestä.
Kuten edellä todettiin, säteilyspektristä valitaan etsittyjen alkuaineiden karakterististen energiaikkunoiden lisäksi myös nk. taustakanavia, eli sirontakanavia. Itse 25 analyysilaskenta perustuu laskentakaavoihin, joissa on mukana kyseisen alkuaineen mitattu intensiteetti sekä si-rontaintensiteetit. Laskentakaava saadaan kalibrointimit-tausten avulla käyttämällä regressioanalyysissa tunnettujen näytteiden alkuaineiden ja sirontataustan mitattuja 30 intensiteettejä ja pitoisuuksia. Karkeita näytteitä mitattaessa havaitsimia voi olla useampia ja ne voivat olla sijoitettuina eri mittauskulmiin siten, että myös rakeisesta näytemassasta saadaan edustavat mittausintensitee-tit. Useampia säteilylähteitä voidaan käyttää myös samasta 35 syystä. Mitattaessa sekä kevyitä että raskaita alkuaineita 10 97647 voidaan käyttää useampaa säteilylähdettä tai yhtä säädettävää säteilylähdettä, josta saadaan siis useampia erilaisia viritysenergioita. Mittausmenetelmässä laitteen sisäiset lyhytkestoiset tai pitkäaikaiset muutokset kompensoi-5 daan vakioimalla varsinaisen mittalaitteiston sisäiset olosuhteet, kuten edellä on jo esitetty, ja mittaamalla ulkoinen ja/tai sisäinen referenssinäyte. Referenssimit-taus kompensoi sisäisen elektroniikan ryöminnän ja ulkopuolisen kosteuden ja pölyn vaikutuksen. Referenssimit-10 tauksen intensiteettiä verrataan alkuperäisiin kalibroinnin ajankohtana mitattuihin referenssi-intensiteetteihin ja näin saatua tietoa käytetään korjauskertoimien laskemiseen mitatuille intensiteeteille.
Edellä keksinnön mukaista menetelmää ja laitteistoa 15 on havainnollistettu joidenkin esimerkinomaisten suoritusmuotojen avulla ja on ymmärrettävää, että niihin voidaan tehdä joitakin muutoksia poikkeamatta kuitenkaan oheisten patenttivaatimusten määrittelemästä suojapiiristä.
li

Claims (14)

11 97647
1. Menetelmä alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi virtaavasta näytemassasta (1) röntgenfluoresenssia hyväk-5 sikäyttäen, jossa menetelmässä säteilytetään näytemassaa (1) röntgen- tai gammasäteilyllä, ilmaistaan näytemassan emittoima säteily, määritetään näytemassan emittoiman säteilyn ener-10 giadispersiivinen säteilyspektri, ja määritetään alkuaineen pitoisuus mitatusta sätei-lyspektristä tälle alkuaineelle karakteristisen säteilyspektri -ikkunan intensiteetin perusteella, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää vaiheet, joissa 15 mitataan ilman lämpötila näytemassan (1) ja sätei lyn ilmaisimen tai ilmaisimien (5) välisessä ilmatilassa, määritetään mitatusta ilman lämpötilasta riippuvainen ensimmäinen korjauskerroin ja korjataan alkuaineen määritettyä pitoisuutta maini- 20 tulla ensimmäisellä korjauskertoimella näytemassan (1) ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien (5) välisessä ilmassa tapahtuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimiseksi . : 2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, 25 tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää vaiheet, joissa mitataan ilman kosteus näytemassan (1) ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien (5) välisessä ilmatilassa, määritetään mitatusta ilman kosteudesta riippuvai-30 nen toinen korjauskerroin ja korjataan alkuaineen määritettyä pitoisuutta mainitulla toisella korjauskertoimella näytemassan (1) ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien (5) välisessä ilmassa tapahtuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompen-35 soimiseksi. 12 97647
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää vaiheet, joissa mitataan ilmanpaine näytemassan (1) ja säteilyn 5 ilmaisimen tai ilmaisimien (5) välisessä ilmatilassa, määritetään mitatusta ilmanpaineesta riippuvainen kolmas korjauskerroin ja korjataan alkuaineen määritettyä pitoisuutta mainitulla kolmannella korjauskertoimella näytemassan ja sätei- 10 lyn ilmaisimen tai ilmaisimien välisessä ilmassa tapahtu neen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimiseksi .
4. Patenttivaatimuksen 1, 2 tai 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää vai- 15 heet, joissa mitataan pölypitoisuus näytemassan (1) ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien (5) välisessä ilmatilassa, määritetään mitatusta pölypitoisuudesta riippuvainen neljäs korjauskerroin ja 20 korjataan alkuaineen määritettyä pitoisuutta maini tulla neljännellä korjauskertoimella näytemassan ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien välisessä ilmassa tapahtuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimisek-si.
5. Patenttivaatimuksen 1, 2, 3 tai 4 mukainen mene telmä, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää vaiheet, joissa mitataan tietty osakaasupitoisuus näytemassan (1) ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien (5) välisessä ilma-; 30 tilassa, määritetään mitatusta osakaasupitoisuudesta riippuvainen viides korjauskerroin ja korjataan alkuaineen määritettyä pitoisuutta mainitulla viidennellä korjauskertoimella näytemassan ja sätei- 35 lyn ilmaisimen tai ilmaisimien välisessä ilmassa tapahtu- II 13 97647 neen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimiseksi .
6. Jonkin patenttivaatimuksen 1-5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää vai- 5 heen, jossa oleellisesti vakioidaan näytemassan (1) ja säteilyn ilmaisimen tai ilmaisimien (4) välinen etäisyys (D) vir-taavan näytemassan pintaa tasaamalla ja/tai mittaamalla mainittu etäisyys ja asettelemalla säteilyn ilmaisimen tai 10 ilmaisimien (5) etäisyyttä näytemassasta mainitun mittaus tuloksen perusteella.
7. Laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi virtaavasta näytemassasta röntgenfluoresenssia hyväksikäyttäen, joka laitteisto käsittää 15 ainakin yhden röntgen- tai gammasäteilylähteen (4) näytemassan (1) säteilyttämiseksi, ilmaisinvälineet (5) näytemassan emittoiman säteilyn ilmaisemiseksi ja välineet (27) näytemassan emittoiman säteilyn ener-20 giadispersiivisen säteilyspektrin määrittämiseksi ja alku aineen pitoisuuden määrittämiseksi tästä säteilyspektristä tälle alkuaineelle karakteristisen säteilyspektri-ikkunan intensiteetin perusteella, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää 25 välineet (9) ilman lämpötilan mittaamiseksi näyte- massan ja ilmaisinvälineiden (5) välisessä ilmatilassa, välineet (28) mitatusta ilman lämpötilasta riippuvaisen ensimmäisen korjauskertoimen määrittämiseksi ja välineet (27) alkuaineen määritetyn pitoisuuden ! 30 korjaamiseksi mainitulla ensimmäisellä korjauskertoimella näytemassan (1) ja ilmaisinvälineiden (5) välisessä ilmassa tapahtuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimiseksi .
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen laitteisto, 35 tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää 14 97647 välineet (11) ilman kosteuden mittaamiseksi näyte-massan (1) ja ilmaisinvälineiden (5) välisessä ilmatilassa, välineet (28) mitatusta ilman kosteudesta riippu-5 vaisen toisen korjauskertoimen määrittämiseksi ja välineet (27) alkuaineen määritetyn pitoisuuden korjaamiseksi mainitulla toisella korjauskertoimella näy- temassan ja ilmaisinvälineiden välisessä ilmassa tapahtuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimisek-10 si.
9. Patenttivaatimuksen 7 tai 8 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää välineet (10) ilmanpaineen mittaamiseksi näytemas-san (1) ja ilmaisinvälineiden välisessä ilmatilassa, 15 välineet (28) mitatusta ilmanpaineesta riippuvaisen kolmannen korjauskertoimen määrittämiseksi ja välineet (27) alkuaineen määritetyn pitoisuuden korjaamiseksi mainitulla kolmannella korjauskertoimella näytemassan ja ilmaisinvälineiden välisessä ilmassa tapah-20 tuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimi seksi .
10. Patenttivaatimuksen 7, 8 tai 9 mukainen lait teisto, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää välineet (12) pölypitoisuuden mittaamiseksi näyte-25 massan (1) ja ilmaisinvälineiden (5) välisessä ilmatilas sa , välineet (28) mitatusta pölypitoisuudesta riippuvaisen neljännen korjauskertoimen määrittämiseksi ja välineet (27) alkuaineen määritetyn pitoisuuden ( 30 korjaamiseksi mainitulla neljännellä korjauskertoimella näytemassan ja ilmaisinvälineiden välisessä ilmassa tapahtuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimiseksi .
11. Patenttivaatimuksen 7, 8, 9 tai 10 mukainen 35 laitteisto, tunnettu siitä, että se lisäksi kä- II 15 97647 sittää välineet (13) tietyn osakaasupitoisuuden määrittämiseksi näytemassan ja ilmaisinvälineiden välisessä ilmatilassa, 5 välineet (28) mitatusta osakaasupitoisuudesta riip puvaisen viidennen korjauskertoimen määrittämiseksi ja välineet (27) alkuaineen määritetyn pitoisuuden korjaamiseksi mainitulla viidennellä korjauskertoimella näytemassan ja ilmaisinvälineiden välisessä ilmassa tapah- 10 tuneen karakteristisen säteilyn vaimenemisen kompensoimiseksi .
12. Jonkin patenttivaatimuksen 7-11 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että se lisäksi käsittää välineet näytemassan (1) ja ilmaisinvälineiden (5) 15 välisen etäisyyden (D) oleelliseksi vakioimiseksi.
13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että välineet näytemassan ja ilmaisinvälineiden välisen etäisyyden (D) oleelliseksi vakioimiseksi käsittävät välineet (16) virtaavan näytemassan 20 pinnan tasaamiseksi.
14. Patenttivaatimuksen 12 tai 13 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että välineet näytemassan ja ilmaisinvälineiden välisen etäisyyden oleelliseksi vakioimiseksi käsittävät välineet (15a) näytemassan (1) ja 25 ilmaisinvälineiden välisen etäisyyden mittaamiseksi ja välineet (15b) ilmaisinvälineiden etäisyyden (D) asettele-miseksi näytemassasta (1) mainitun mittaustuloksen perusteella . 30 16 97647
FI945364A 1994-11-14 1994-11-14 Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi FI97647C (fi)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI945364A FI97647C (fi) 1994-11-14 1994-11-14 Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi
KR1019970703202A KR100385375B1 (ko) 1994-11-14 1995-11-13 원소함량을결정하기위한방법및장치
EP95937904A EP0792453B1 (en) 1994-11-14 1995-11-13 Method and equipment for determining the content of an element
CA002204848A CA2204848C (en) 1994-11-14 1995-11-13 Method and equipment for determining the content of an element
AU38730/95A AU693950B2 (en) 1994-11-14 1995-11-13 Method and equipment for determining the content of an element
DE69530858T DE69530858T2 (de) 1994-11-14 1995-11-13 Verfahren und vorrichtung zur bestimmung des gehalts eines elements
ES95937904T ES2200007T3 (es) 1994-11-14 1995-11-13 Procedimiento y dispositivo para determinar el contenido de un elemento.
AT95937904T ATE241136T1 (de) 1994-11-14 1995-11-13 Verfahren und vorrichtung zur bestimmung des gehalts eines elements
PCT/FI1995/000621 WO1996015442A1 (en) 1994-11-14 1995-11-13 Method and equipment for determining the content of an element
CN95196218A CN1098457C (zh) 1994-11-14 1995-11-13 确定元素含量的方法与设备
US08/817,883 US5721759A (en) 1994-11-14 1995-11-13 Method and equipment for determining the content of an element

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI945364 1994-11-14
FI945364A FI97647C (fi) 1994-11-14 1994-11-14 Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI945364A0 FI945364A0 (fi) 1994-11-14
FI945364A FI945364A (fi) 1996-05-15
FI97647B FI97647B (fi) 1996-10-15
FI97647C true FI97647C (fi) 1997-01-27

Family

ID=8541801

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI945364A FI97647C (fi) 1994-11-14 1994-11-14 Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi

Country Status (11)

Country Link
US (1) US5721759A (fi)
EP (1) EP0792453B1 (fi)
KR (1) KR100385375B1 (fi)
CN (1) CN1098457C (fi)
AT (1) ATE241136T1 (fi)
AU (1) AU693950B2 (fi)
CA (1) CA2204848C (fi)
DE (1) DE69530858T2 (fi)
ES (1) ES2200007T3 (fi)
FI (1) FI97647C (fi)
WO (1) WO1996015442A1 (fi)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19710420C2 (de) * 1997-03-13 2001-07-12 Helmut Fischer Gmbh & Co Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicken dünner Schichten mittels Röntgenfluoreszenz
DE19810306A1 (de) * 1998-03-10 1999-10-14 Aumund Foerdererbau Verfahren zur kontinuierlichen Bestimmung der Zusammensetzung eines Materialstromes und dafür geeignete Vorrichtung
JP3062685B2 (ja) * 1998-07-23 2000-07-12 セイコーインスツルメンツ株式会社 蛍光x線分析計
FR2785052B1 (fr) * 1998-10-27 2000-12-01 Commissariat Energie Atomique Dispositif de determination de la concentration d'une substance melangee a un fluorophore et procede de mise en oeuvre de ce dispositif
JP2002529699A (ja) 1998-10-29 2002-09-10 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ X線光学基準チャネルを有するx線回折装置
AUPQ109499A0 (en) * 1999-06-21 1999-07-15 Adelaide Brighton Management Limited Sample presentation for x-ray diffraction
EP1232388A2 (en) 1999-11-19 2002-08-21 Battelle Memorial Institute An apparatus for machine fluid analysis
JP2002031522A (ja) * 2000-07-18 2002-01-31 Seiko Instruments Inc 蛍光x線膜厚計
US6662091B2 (en) * 2001-06-29 2003-12-09 Battelle Memorial Institute Diagnostics/prognostics using wireless links
US6668039B2 (en) 2002-01-07 2003-12-23 Battelle Memorial Institute Compact X-ray fluorescence spectrometer and method for fluid analysis
DE10230990A1 (de) * 2002-07-10 2004-02-05 Elisabeth Katz Vorrichtung zur Durchführung einer Online-Elementanalyse
US7064337B2 (en) * 2002-11-19 2006-06-20 The Regents Of The University Of California Radiation detection system for portable gamma-ray spectroscopy
US6859517B2 (en) * 2003-04-22 2005-02-22 Battelle Memorial Institute Dual x-ray fluorescence spectrometer and method for fluid analysis
DE102004012704B4 (de) * 2004-03-16 2008-01-03 Katz, Elisabeth Vorrichtung zur online-Analyse und Verwendung einer solchen Vorrichtung
DE102004019030A1 (de) * 2004-04-17 2005-11-03 Katz, Elisabeth Vorrichtung für die Elementanalyse
US7847260B2 (en) 2005-02-04 2010-12-07 Dan Inbar Nuclear threat detection
US7820977B2 (en) * 2005-02-04 2010-10-26 Steve Beer Methods and apparatus for improved gamma spectra generation
US8173970B2 (en) * 2005-02-04 2012-05-08 Dan Inbar Detection of nuclear materials
DE102005020567A1 (de) * 2005-04-30 2006-11-09 Katz, Elisabeth Verfahren und Vorrichtung zur Online-Bestimmung des Aschegehalts einer auf einem Födermittel geförderten Substanz und Vorrichtung zur Durchführung einer Online-Analyse
JP4247559B2 (ja) * 2005-06-07 2009-04-02 株式会社リガク 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム
US7409037B2 (en) * 2006-05-05 2008-08-05 Oxford Instruments Analytical Oy X-ray fluorescence analyzer having means for producing lowered pressure, and an X-ray fluorescence measurement method using lowered pressure
EP2096431A1 (en) * 2008-02-27 2009-09-02 Oxford Instruments Analytical Oy Portable X-ray fluorescence analyzer
CN102257111B (zh) 2008-12-25 2014-06-11 陶氏环球技术有限责任公司 具有宽pH稳定性的表面活性剂组合物
US20120236989A1 (en) * 2011-03-16 2012-09-20 Peter John Hardman Portable XRF analyzer for low atomic number elements
DE102012021709B4 (de) * 2011-11-22 2014-09-11 Technische Universität Dresden Verfahren zur qualitativen und quantitativen Bestimmung von Zuschlagstoffen in Papier und papierähnlichen Materialien mit Zellulosematerial
JP6026936B2 (ja) * 2013-03-28 2016-11-16 株式会社日立ハイテクサイエンス 異物検出装置
US20140301531A1 (en) * 2013-04-08 2014-10-09 James L. Failla, JR. Protective shield for x-ray fluorescence (xrf) system
US20140301530A1 (en) * 2013-04-08 2014-10-09 James L. Failla, JR. Protective shield for x-ray fluorescence (xrf) system
CN103278485A (zh) * 2013-05-16 2013-09-04 清华大学 一种固体物料中硫成分的快速检测方法及其检测装置
JP6325338B2 (ja) * 2014-05-20 2018-05-16 株式会社堀場製作所 分析装置及び校正方法
CN105092624B (zh) * 2014-05-20 2019-08-27 株式会社堀场制作所 分析装置和校正方法
JP6412340B2 (ja) * 2014-05-20 2018-10-24 株式会社堀場製作所 分析装置及び校正方法
JP6528279B2 (ja) * 2015-09-25 2019-06-12 清水建設株式会社 コンクリート中の微量元素の分析方法および分析装置
EP3249394B1 (en) * 2016-05-26 2018-09-12 Malvern Panalytical B.V. X-ray analysis of drilling fluid
JP6423048B1 (ja) * 2017-06-16 2018-11-14 マルバーン パナリティカル ビー ヴィ 掘削流体のx線分析
WO2019019042A1 (en) * 2017-07-26 2019-01-31 Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. INTEGRATED X-RAY SOURCE
CN110082816B (zh) * 2018-01-25 2022-12-09 中国辐射防护研究院 一种基于poe的水下伽马谱仪的温度补偿装置和方法
KR102039137B1 (ko) * 2018-03-13 2019-11-26 한국원자력연구원 중성자가 발생되는 시설의 건설 폐기물 자체처리 가부 평가방법 및 중성자가 발생되는 시설의 건설을 위한 자재의 인증방법
WO2019218051A1 (en) * 2018-05-18 2019-11-21 Enersoft Inc. Systems, devices, and methods for analysis of geological samples
CN108680592B (zh) * 2018-06-11 2019-09-27 南京航空航天大学 一种钾盐成分在线检测方法
CN109580326A (zh) * 2018-12-05 2019-04-05 西王金属科技有限公司 一种除尘灰中氧化锌及碱金属的测定方法
CN109632854B (zh) * 2019-01-14 2022-10-11 东华理工大学 一种双探测结构的块状铀矿多元素在线x荧光分析仪
CN110427705B (zh) * 2019-08-05 2023-04-07 核工业航测遥感中心 航空放射性测量主标准器单元素模型的设计方法
CN113640859A (zh) * 2021-07-22 2021-11-12 中国原子能科学研究院 一种用于辐射剂量仪环境适应性测试的多参数测量***
GB2617858A (en) * 2022-04-22 2023-10-25 Anglo American Technical & Sustainability Services Ltd System and method for treating mined material

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA741707B (en) * 1974-03-15 1975-07-30 Chamber Of Mines Services Ltd Determining heavy element concentration in ores
GB1494549A (en) * 1975-03-14 1977-12-07 Coal Ind Determining the concentration of sulphur in coal
FI51872C (fi) * 1975-08-12 1977-04-12 Outokumpu Oy Laite liikkeellä olevan kiinteän tai jauhemaisen aineen analysoimiseks i röntgenfluoresenssiperiaatteella.
SU823993A1 (ru) * 1979-07-02 1981-04-23 Предприятие П/Я А-7629 Рентгенофлуоресцентный датчик
JPS58204357A (ja) * 1982-05-24 1983-11-29 Idemitsu Kosan Co Ltd 螢光x線分析方法およびその装置
JPS6061649A (ja) * 1983-09-16 1985-04-09 Rigaku Denki Kogyo Kk 螢光x線分析の補正方法

Also Published As

Publication number Publication date
ATE241136T1 (de) 2003-06-15
DE69530858D1 (de) 2003-06-26
EP0792453B1 (en) 2003-05-21
CN1098457C (zh) 2003-01-08
AU693950B2 (en) 1998-07-09
KR100385375B1 (ko) 2003-08-19
CA2204848A1 (en) 1996-05-23
KR970707435A (ko) 1997-12-01
AU3873095A (en) 1996-06-06
CN1163663A (zh) 1997-10-29
CA2204848C (en) 2008-01-29
DE69530858T2 (de) 2004-03-11
WO1996015442A1 (en) 1996-05-23
EP0792453A1 (en) 1997-09-03
FI97647B (fi) 1996-10-15
FI945364A0 (fi) 1994-11-14
US5721759A (en) 1998-02-24
ES2200007T3 (es) 2004-03-01
FI945364A (fi) 1996-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI97647C (fi) Menetelmä ja laitteisto alkuaineen pitoisuuden määrittämiseksi
AU759426B2 (en) X-ray fluorescence elemental analyzer
US7006919B2 (en) Real time continuous elemental measurement of bulk material
US8712700B2 (en) Method and apparatus for detection of the remote origin fraction of radon present in a measuring site
CA2713383A1 (en) Apparatus and method for x-ray fluorescence analysis of a mineral sample
CN110274925A (zh) 基于能量色散x射线荧光光谱法测定矿石中的金的方法
FI70750C (fi) Anordning foer maetning av koncentrationen foer ett foersta oc andra tillsatsaemne
US4016419A (en) Non-dispersive X-ray fluorescence analyzer
Sokolov et al. On‐line analysis of chrome–iron ores on a conveyor belt using x‐ray fluorescence analysis
US7253414B2 (en) Multi-energy gamma attenuation for real time continuous measurement of bulk material
CN110927193B (zh) 一种基于深度学习的煤质在线检测分析***及方法
AU2018226434B2 (en) XRF detector and source calibration apparatus
RU2196979C2 (ru) Способ автоматической коррекции градуировки датчиков и датчик рентгенофлуоресцентного контроля химсостава сырья в транспортном потоке
Kondratjevs et al. Performance improvement of on-line XRF analysis of minerals on a conveyor belt
FI128182B (fi) XRF puikkoanturi ja menetelmä
Hołyńska et al. Empirical method of matrix effect elimination for samples of ‘intermediate’thickness in EDXRF analysis
JPS5932731B2 (ja) 放射線分析装置
Peyvandi et al. Influence of temperature on the performance of gamma densitometer
SU958933A1 (ru) Способ флуоресцентного рентгенорадиометрического анализа
Procoptchuk et al. On the perfection and application of the ‘scintillation method’for spectral analysis of disperse substances

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application
MA Patent expired