FI93371B - Peittausmenetelmä happokylvyssä metallisille tuotteille, jotka sisältävät titaania tai vähintään yhtä titaaniryhmän kemiallista alkuainetta - Google Patents
Peittausmenetelmä happokylvyssä metallisille tuotteille, jotka sisältävät titaania tai vähintään yhtä titaaniryhmän kemiallista alkuainetta Download PDFInfo
- Publication number
- FI93371B FI93371B FI911398A FI911398A FI93371B FI 93371 B FI93371 B FI 93371B FI 911398 A FI911398 A FI 911398A FI 911398 A FI911398 A FI 911398A FI 93371 B FI93371 B FI 93371B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- titanium
- acid
- process according
- pickling
- oxidizing agent
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/10—Other heavy metals
- C23G1/106—Other heavy metals refractory metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Description
93371
Peittausmenetelmä happokylvyssä metallisille tuotteille, jotka sisältävät titaania tai vähintään yhtä titaaniryhmän kemiallista alkuainetta 5 Keksintö kohdistuu menetelmään tuottaa peittaus me talliselle tuotteelle, joka sisältää titaania tai vähintään yhtä titaaniryhmän kemiallista alkuainetta happokylvyssä.
Metallurgian alalla on tunnettua, että tuottamisen 10 aikana takomisvaiheisiin tai lämpökäsittelyyn alistetut metalliset tuotteet tai metalliseokset tulevat pinnoitetuiksi hilsekerroksella. Lopputuotteen hyvän pinnan laadun tuottamisen tärkeyden kannalta koko muodostunut hilseker-ros täytyy vuorostaan poistaa peittausmenetelmillä.
15 Tunnetun menetelmän mukaisesti peittausmenetelmä sisältää lopputuotteen upottamisen peittauskylpyyn, joka muodostuu typpihaposta HN03 ja vetyfluoridihaposta HF pitoisuuksilla 6 - 16 % HN03:a litrassa ja 1 - 5 S HF:a litrassa, työskentelylämpötilan ollessa alueella 40 - 60 °C. 20 Eräs yleisimmin käytetty peittauskylpy titaanin peittaamiseksi perustuu typpihappoon, happoon, joka aiheuttaa erityisen myrkyllisten N02 höyryjen ja nitrattujen tuotteiden (nitraattien ja nitriittien) muodostumisen eff-luentteihin. Vaikka muodostettu suurin nitraattipitoisuus 25 on suhteellisen korkea, muodostettu nitriittipitoisuus on paljon pienempi, koska nitriitit aiheuttavat nitrosaminien muodostumisen, jotka ovat haitallisia yhdisteitä.
Titaanipohjäisille metallurgisille tuotteille tunnetaan myös peittausmenetelmiä, jotka sisältävät kylvyn 30 käytön, joka sisältää seoksen halogenoituja happoja sisältäen pääasiassa vetykloridihappoa HC1 ja vetyfluoridihap-poa HF.
Tämän menetelmän haittana on, että liuetessaan titaani hapettuu valensille III ja muodostaa haihtuvia yh-35 disteitä.
2 93371
Esimerkiksi liuotettuna vetykloridihappoon titaani muuttuu TiCl3:ksi, joka alkaa sublimoitua 80 °C:ssa. Ennen sublimoitumista TiCl3 hajaantuu TiCl4+TiCl2:ksi seuraavan yhtälön mukaisesti: 5 2 TiCl3 - TiCl4 + TiCl2 (I)
TiCl4 on erityisen haihtuva, sen höyrynpaine 50 °C on 42 mm Hg.
10 Keksinnön kohde on peittausmenetelmä happamassa vä liaineessa metallisille tuotteille, jotka sisältävät titaania tai vähintään yhtä titaaniryhmään kuuluvaa kemiallista alkuainetta, menetelmään, jolla hapetin tuodaan happokylpyyn, joka poistaa edellä esitettyjen peittausmentel-15 mien haitat, jossa peittauksen kinetiikan lisäämiseksi, - muodostetaan vähintään yksi peroksidoitu johdannainen peitattavassa tuotteessa olevasta titaanista tai vähintään yhdestä titaaniryhmän alkuaineesta, metallien ionisoituessa korkeammalle valenssille, 20 - peroksidoidun yhdistymisen muodostumista valvo taan määrittämällä redoxpotentiaalia, ja - hapettimen määrä on rajoitettu pitämään hapetus-pelkistys potentiaalin pienempänä kuin metallisen tuotteen passivoitumispotentiaali.
25 Tällainen menetelmä perustuu siihen tosiasiaan, että kun metallin oksidoidut johdannaiset on ionisoitu korkeammalle valenssille, ne tulevat aggressiivisiksi metallille ja sen oksideille, jotka on ionisoitu matalammille valensseille. Ionisoinnilla korkeammille vakansseille 30 tarkoitetaan erityisesti ioneja, kuten titanaatti, vana-daatti, zirkonaatti, niobaatti, tantalaatti ja uranaatti.
Peittaushappokylpy on edullisesti kylpy, joka sisältää olennaisesti hapon, joka on valittu vetyfluoridiha-posta, rikkihaposta, kloorivetyhaposta, fosforihaposta ja 35 muurahaishaposta, mutta voidaan käyttää toista happoa, joka on kykenevä peittaamaan hapettuneen titaanin tai miner aalihappoj en seosta kuten HF-H2S04.
3 93371
Jotta saataisiin peittauskinetiikka alkamaan lisätään happokylpyyn voimakasta hapetinta, joka aiheuttaa vähintään peroksidoidun johdannaisen muodostumisen metallista.
5 Tulisi huomata, että titaani ja titaaniryhmän alku aineet muodostavat hapettuneita johdannaisia hapettimien kanssa. Riippuen saavutetusta hapettumisasteesta seuraavan tyyppisiä yhdisteitä havaitaan.
10 0 O = M j jossa M on titaani tai yksi titaaniryhmän alkuaine. 15 Tällaiset yhdisteet ovat persuoloja, erityisen voimakkaita hapetinaineita.
Hapetin valitaan edullisesti vetyperoksidista, ureaperoksidista tai kaasusta kuten otsoni tai happi.
Vetyperoksidi lisätään suoraan happokylpyyn määrä-20 nä, joka on vähemmän 0,5 % painosta; se voidaan myös lisätä persuolana tai perhappona, yhdisteenä joka tuottaa vetyperoksidia hajaantumalla happamassa väliaineessa. Urea-peroksidia voidaan käyttää määränä, joka on pienempi kuin 1,2 % painosta.
25 Seuraava kuvaus tekee helpommaksi ymmärtää keksin töä.
Tämän keksinnön mukainen menetelmä kohdistuu peit-tausmenetelmään happokylvyssä metallituotteelle tai metalliseokselle, joka sisältää titaania tai vähintään yhtä 30 titaaniryhmän kemiallista alkuainetta, erityisesti vanadiinia, zirkoniumia, niobiumia, tantaalia ja uraania.
Peittausreaktion mekanismi on samanlainen mainituille eri metalleille ja seoksille.
Kuvauksena esittelemme titaanin peittausmenetelmän 35 yksityiskohdat.
4 93371
Tavallinen happokylpy on edullisesti vetyfluoridi-hapon kylpy pitoisuudella, joka on alueella 0,2 - 10 pai-no-%. Muita happoja voidaan käyttää kuten esimerkiksi rikkihappoa, edellyttäen, että ne sisältävät peroksidoidun 5 muodon titaaniryhmän metallisesta alkuaineesta peitattavassa tuotteessa.
Titaanin peittauksen tapauksessa laboratoriokokeet ovat osoittaneet, ett' vetyfluorihappo hyökkää hapettuneeseen titaaniin reaktion 10 2Ti + 6HF - 2TiF3 + 3H2 (II) mukaisesti.
Titaanitrifluoridi muuttuu tetrafluoridiksi HF yli-15 määrän läsnäollessa.
Jotta nopeutettaisiin peittauskinetiikka, tämän keksinnön mukainen menetelmä sisältää vähintään yhden metallin hapettuneen johdannaisen ionisoituneena korkeammalle valenssille, ja titaanipeittauksen tapauksessa titaanin 20 peroksidoidun johdannaisen, pertitanaatin, muodostumisen, joka on erityisen aggressiivinen titaania ja sen oksideja kohtaan.
Ti4* + Hj02 + 2H20 - Tioj' + 6H* (III) 25 2Ti04* + Ti + 16H* - 3Ti4* + 8H20 (IV)
Reaktiossa (IV) ei ole enää jäljellä ylimäärin H*:aa vaan sen sijaan H20:n muodostuminen, mikä pienentää lisätyn H*:n vaikutusta peitattavan metallin tai seoksen kideverk-30 koon ja näin pienentää peitattavan tuotteen haurautta.
Pertitanaatti voidaan tuottaa myös ureaperoksidin vaikutuksella, mikä hajaantuessaan lisää vetyperoksidia. Tämä yhdiste on kiinteä ja voidaan siten liikutella helpommin .
35 Vaihtoehtoisesti pertitanaatin muodostuminen voi daan saada aikaan puhaltamalla otsonia kylpyyn. Pertita- 93371 5 naatin muodostumiseen johtavat reaktiot ovat tällöin:
Ti4* + 03 + H20 - TiO*' + H2* (V) 2TiO*' + Ti + 16 H* 3Ti4* + 8H20 (VI) 5
Otsoni voidaan korvata hapella.
On tunnettua että persuolojen lisääminen happamaan väliaineeseen tuottaa vetyperoksidia hajaantumalla. Per-suolat joita voidaan käyttää ovat erityisesti permanga-10 naatteja, persulfaatteja, pertitanaatteja, pervanadaatte-ja, perboraatteja,...
Perhappoja, jotka myös hajaantuvat H202:ksi happamassa väliaineessa, voidaan myös käyttää. Erityisesti voidaan mainita: perboorihappo, pertitaanihappo, peretikka-15 happo, perrikkihappo, jotka ovat suurimmalta osalta muilla teollisuuden aloilla käytettyjä happoja.
TiO<' muodostumista valvotaan määrittämällä hape-tuspelkistyspotentiaali peittauskylvystä. REDOX potentiaali on korroosiota kestävän elektrodin (esimerkiksi plati-20 na) ja vertailuelektrodin väliltä mitattu potentiaaliero, molempien näiden elektrodien ollessa upotettuna tutkittavaan kylpyyn. Määritetty arvo tekee mahdolliseksi toisaalta määrittää peittauskylvyn hapetusvoima ja toisaalta hallita kylpyä kemiallisia yhdisteitä lisäämällä, jotta säi-25 lytettäisiin määrätty kylvyn hapetuskyky. Titaanin tai titaaniyhdisteen peittaamiselle hapetus-pelkistyspoten-tiaali on pidetty erityisesti välillä (+150, -350) mV/Ag/AgCl.
Tämän keksinnön mukainen menetelmä parantaa peit-30 tauksen tehokkuutta titaanille ja sen seoksille, titaani- ryhmän kemiallisille alkuaineille ja niiden seoksille ja tekee niin standardikylvyn käytön edullisesti sisältäen vain yksinkertaista happoa, hapettavan kylvyn, jonka pe-rushapetin on peroksidoitu yhdiste titaanista tai titaani-35 ryhmän alkuaineesta.
93371 6 Tämän keksinnön menetelmän mukaisesti suoritetussa titaanin peittausesimerkissä painohäviö tasomaiselle tuotteelle on 40 - 80 g/m2. Saatu pinnan laatu on verrattavissa typpi-vetyfluori-menetelmällä saatuun. Ylipeittausvaiku-5 tuksia ei muodostunut. Vetyperoksidin käyttö antoi käsitellyn, valkaistun pinnan esteettisesti mieluisella ulkomuodolla.
Tämän keksinnön mukaisen menetelmän arvo aiheutuu erityisesti siitä tosiasiasta, että hapetin valmistetaan 10 "in situ" ilman myrkyllisten tai saastuttavien yhdisteiden lisäämistä.
Koska peittausreaktio suoritetaan periaatteessa pertitanaatilla ja/tai titaaniryhmän alkuaineiden peroksi-deilla vetyfluorihapon syöte on pienentynyt.
15 Tämä menetelmä ei aiheuta ilmansaasteita; edelleen, liuokset voidaan käsitellä ja kierrättää ja tämä pidentää peittauskylvyn käyttökelpoista ikää.
Peroksidoitujen yhdisteiden (pertitanaattien, per-zirkonaattien, pertantalaattien, perniobaattien, perura-20 naattien, pervanadaattien) muodostuminen vaatii H202:n lisäämistä, erityisen kiinnostavan yhdisteen ekologiselta kannalta, koska se hajaantuu H20:ksi ja 02:ksi, edullinen piirre biogeneesille.
Tämän keksinnön mukainen menetelmä johtaa näin ol-25 Ien myrkyllisten yhdisteiden vähenemiseen ja jopa poistumiseen ilma- ja vesijätteissä.
Kun katsotaan liuoksia ja käytettyjä kylpyjä, käsittely sopeutuu hallinnollisiin määräyksiin teollistuneissa maissa. Esimerkiksi käsittely kalkkimaidolla johtaa 30 metallihydroksidien saostumiseen ilman myrkyllisten anio-nisten muotojen erottamista, mitä ei tapahdu nitraatilla, jotka kaikki ovat vesiliukoisia. Tämän keksinnön mukainen menetelmä on puhdas ja ekologinen menetelmä.
Hapettavan kylvyn käyttö ilman vety-ylimäärää estää 35 vedyn diffuusion peitatun kappaleen metalliverkkoon, kuten tapahtuu pelkistävässä kylvyssä. Tällä tavoin peitatun tuotteen hauraus vähenee.
• I i iti , JIII II**·
Claims (12)
1. Peittausmenetelmä happokylvyssä metallituotteelle tai metalliseostuotteelle, joka sisältää titaania tai 5 vähintään yhtä titaaniryhmän kemiallista alkuainetta, missä hapetin laitetaan happokylpyyn, tunnettu siitä, että peittauksen kinetiikan nopeuttamiseksi, - vähintään yhtä peroksidoitua johdannaista titaanista tai vähintään yhdestä titaaniryhmän alkuaineesta, 10 joka on pinnattavassa tuotteessa mukana, muodostuu metallin ionisoituessa korkeammalle valenssille, - peroksidoidun yhdisteen muodostumista seurataan määrittämällä redokspotentiaali, ja - hapettimen määrä on rajoitettu siten, että hape-15 tuspelkistyspotentiaali säilyy pienempänä kuin metallisen tuotteen passivoitumispotentiaali.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että happokylpy on kylpy sisältäen happoa, joka on valittu fluorivetyhaposta, rikkihaposta, 20 kloorivetyhaposta, fosforihaposta ja muurahaishaposta.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että hapetin on kaasu valittuna hapesta ja otsonista.
4. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, 25 tunnettu siitä, että hapetin on valittu vetyperok sidista ja ureaperoksidista.
5. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että hapetus-pelkistyspotentiaali titaanin tai titaaniyhdisteen peittämiseksi on sisällytettynä 30 alueeseen: (+150 - 350) mV/Ag/AgCl.
6. Patenttivaatimuksen 4 mukainen menetelmä, t u n-35 n e t t u siitä, että happokylpyyn lisätyn vetyperoksidin määrä vähemmän kuin 0,5 paino-%. 93371
7. Patenttivaatimuksen 4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että happokylpyyn lisätyn ureaperoksidin määrä on vähemmän kuin 1,2 paino-%.
8. Patenttivaatimuksista 1 tai 2 mukainen menetel-5 mä, tunnettu siitä, että hapetin on persuola.
9. Patenttivaatimuksen 8 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että hapetin on peitattavassa tuotteessa olevan titaanin tai vähintään yhden titaaniryhmän kemiallisen alkuaineen persuola.
10. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että hapetin on perhappo.
11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että hapetin on peitattavassa tuotteessa olevan titaanin tai vähintään yhden titaaniryh- 15 män kemiallisen alkuaineen perhappo.
12. Jokin patenttivaatimuksen 1-11 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että titaaniryhmän kemiallinen alkuaine on vanadiini, zirkonium, niobium, tantaali tai uraani. 93371
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8910093A FR2650303B1 (fr) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | Procede de decapage en bain acide de produits metalliques contenant du titane ou au moins un element chimique de la famille du titane |
FR8910093 | 1989-07-26 | ||
PCT/FR1990/000564 WO1991002109A1 (fr) | 1989-07-26 | 1990-07-25 | Procede de decapage en bain acide de produits metalliques contenant du titane ou au moins un element chimique de la famille du titane |
FR9000564 | 1990-07-25 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI911398A0 FI911398A0 (fi) | 1991-03-22 |
FI93371B true FI93371B (fi) | 1994-12-15 |
FI93371C FI93371C (fi) | 1995-03-27 |
Family
ID=9384174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI911398A FI93371C (fi) | 1989-07-26 | 1991-03-22 | Peittausmenetelmä happokylvyssä metallisille tuotteille, jotka sisältävät titaania tai vähintään yhtä titaaniryhmän kemiallista alkuainetta |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0415807B1 (fi) |
JP (1) | JP2945136B2 (fi) |
KR (1) | KR100191864B1 (fi) |
AT (1) | ATE113080T1 (fi) |
AU (1) | AU634277B2 (fi) |
CA (1) | CA2037893C (fi) |
DE (1) | DE69013447T2 (fi) |
ES (1) | ES2064686T3 (fi) |
FI (1) | FI93371C (fi) |
FR (1) | FR2650303B1 (fi) |
RU (1) | RU2168560C2 (fi) |
WO (1) | WO1991002109A1 (fi) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1255855B (it) * | 1992-10-12 | 1995-11-17 | Cesare Pedrazzini | Processo di decapaggio e di passivazione per lamiere di titanio in nastro, senza impiego di acido nitrico. |
JP3751324B2 (ja) * | 1993-12-10 | 2006-03-01 | 忠弘 大見 | 基体の表面洗浄方法及び表面洗浄剤 |
IT1288407B1 (it) * | 1996-12-09 | 1998-09-22 | Sviluppo Materiali Spa | Metodo per il decapaggio di prodotti in lega metallica contenente ferro e di titanio e sue leghe |
IT1290947B1 (it) * | 1997-02-25 | 1998-12-14 | Sviluppo Materiali Spa | Metodo e dispositivo per il decapaggio di prodotti in lega metallica in assenza di acido nitrico e per il recupero di soluzioni esauste |
RU2496819C1 (ru) * | 2012-05-30 | 2013-10-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" | Травитель для титана |
KR101669718B1 (ko) | 2014-07-01 | 2016-10-27 | 김동회 | 입체 전란각을 갖는 부화기 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB360126A (en) * | 1929-10-19 | 1931-11-05 | Hirsch Kupfer & Messingwerke | Method of pickling oxidised metals |
US3258429A (en) * | 1963-09-19 | 1966-06-28 | Ronald D Weed | Decontamination solution and method |
JPS526853B2 (fi) * | 1972-12-22 | 1977-02-25 | ||
DE2358683A1 (de) * | 1973-11-24 | 1975-06-05 | Kalman Von Dipl Phys Soos | Verfahren zum beizen und aetzen von metallen |
JPS549120A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-23 | Tokai Electro Chemical Co | Method of controlling acid cleaning liquid for stainless steel |
SU992179A1 (ru) * | 1981-09-17 | 1983-01-30 | Фрунзенский политехнический институт | Машина ударного действи |
FR2587369B1 (fr) * | 1985-09-19 | 1993-01-29 | Ugine Gueugnon Sa | Procede de decapage acide de produits en acier inoxydable |
JPS6277489A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-09 | Nippon Mining Co Ltd | 金属材料の酸洗法 |
JPS62109998A (ja) * | 1985-11-07 | 1987-05-21 | Kobe Steel Ltd | 弁金属の陽極酸化前処理方法 |
EP0259533A1 (en) * | 1986-09-11 | 1988-03-16 | Eka Nobel Aktiebolag | Method of reducing the emission of nitrogen oxides from a liquid containing nitric acid |
-
1989
- 1989-07-26 FR FR8910093A patent/FR2650303B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-07-25 CA CA002037893A patent/CA2037893C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-25 EP EP90402144A patent/EP0415807B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-25 WO PCT/FR1990/000564 patent/WO1991002109A1/fr active IP Right Grant
- 1990-07-25 ES ES90402144T patent/ES2064686T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-25 DE DE69013447T patent/DE69013447T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-25 KR KR1019910700229A patent/KR100191864B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-07-25 AT AT90402144T patent/ATE113080T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-07-25 JP JP2511471A patent/JP2945136B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-25 AU AU61684/90A patent/AU634277B2/en not_active Ceased
- 1990-07-25 RU SU4895068/12A patent/RU2168560C2/ru not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-03-22 FI FI911398A patent/FI93371C/fi active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU634277B2 (en) | 1993-02-18 |
FI93371C (fi) | 1995-03-27 |
FR2650303A1 (fr) | 1991-02-01 |
DE69013447T2 (de) | 1995-02-23 |
FI911398A0 (fi) | 1991-03-22 |
KR920701524A (ko) | 1992-08-11 |
ATE113080T1 (de) | 1994-11-15 |
KR100191864B1 (ko) | 1999-06-15 |
JP2945136B2 (ja) | 1999-09-06 |
EP0415807B1 (fr) | 1994-10-19 |
DE69013447D1 (de) | 1994-11-24 |
WO1991002109A1 (fr) | 1991-02-21 |
ES2064686T3 (es) | 1995-02-01 |
CA2037893A1 (en) | 1991-01-27 |
CA2037893C (en) | 2001-07-24 |
EP0415807A3 (en) | 1991-03-20 |
JPH04501139A (ja) | 1992-02-27 |
RU2168560C2 (ru) | 2001-06-10 |
FR2650303B1 (fr) | 1993-12-10 |
EP0415807A2 (fr) | 1991-03-06 |
AU6168490A (en) | 1991-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Pędziwiatr | Decomposition of hydrogen peroxide-kinetics and review of chosen catalysts | |
US5338367A (en) | Pickling process in an acid bath of metallic products containing titanium or at least one chemical element of the titanium family | |
RU2072397C1 (ru) | Раствор и способ травления нержавеющей стали | |
KR100777171B1 (ko) | 강 및 스테인레스강을 위한 산세 또는 광택/부동태화 용액및 방법 | |
FI93371B (fi) | Peittausmenetelmä happokylvyssä metallisille tuotteille, jotka sisältävät titaania tai vähintään yhtä titaaniryhmän kemiallista alkuainetta | |
EP1787953A2 (en) | Generation of chlorine dioxide | |
PT1050605E (pt) | Processo de decapagem de aco inoxidavel na ausencia de acido nitrico e na presenca de ioes cloreto | |
ES2217621T3 (es) | Procedimiento para el decapado y el pasivado de acero especial. | |
US5332446A (en) | Method for continuous pickling of steel materials on a treatment line | |
US4051229A (en) | Process for manufacturing chlorine dioxide | |
US7229506B2 (en) | Process for pickling martensitic or ferritic stainless steel | |
Venault et al. | Kinetics of hydrazinium nitrate decomposition in nitric acid solutions under the effect of power ultrasound | |
JP2001269674A (ja) | シアン含有排水の処理方法 | |
US5124009A (en) | Consumption of hypochlorite values contained in chlorate solutions of electrolysis | |
US5942202A (en) | Stabilized aqueous solution of hydrogen peroxide | |
KR101429976B1 (ko) | 은 첨착 활성탄의 제조방법 | |
JP3314410B2 (ja) | シアン化合物の処理方法 | |
JP3105971B2 (ja) | 化学溶解処理液 | |
Bourke et al. | Redox reactions of superoxotitanium (IV) in acidic perchlorate solution | |
Vladimirova | Mathematical modelling of radiation-chemical processes in HClO4 | |
TH43909A (th) | ของเหลวบำบัดสังกะสีฟอสเฟต และวิธีการบำบัดสังกะสีฟอสเฟต | |
JPH1171104A (ja) | 安定化された過酸化水素水溶液 | |
JP2005154818A (ja) | 耐食材及びその製造方法 | |
Singh et al. | Comparison of Kinetics and Mechanism for oxidation of 2, 6-Diphenyl-Piperidine-4-one and 3-Methyl 2, 6-Diphenyl-Piperidine-4-one by Mn (IV) and Mn (VII) Ion | |
JPH04362184A (ja) | アルミニウム表面洗浄浴の再生方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BB | Publication of examined application |