FI66697C - Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt - Google Patents

Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt Download PDF

Info

Publication number
FI66697C
FI66697C FI810955A FI810955A FI66697C FI 66697 C FI66697 C FI 66697C FI 810955 A FI810955 A FI 810955A FI 810955 A FI810955 A FI 810955A FI 66697 C FI66697 C FI 66697C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
water
insoluble
development
formula
compound
Prior art date
Application number
FI810955A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI66697B (fi
FI810955L (fi
Inventor
Loni Schell
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of FI810955L publication Critical patent/FI810955L/fi
Publication of FI66697B publication Critical patent/FI66697B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI66697C publication Critical patent/FI66697C/fi

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Medical Uses (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Media Introduction/Drainage Providing Device (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Undergarments, Swaddling Clothes, Handkerchiefs Or Underwear Materials (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Description

66697
Menetelmä ja kehiteliuos valotettujen, negatiivisesti toimivien diatsoniumsuolakalvojen kehittämiseksi
Keksintö koskee kehiteliuosta, joka soveltuu nega-5 tiivisesti toimivien valotettujen kopiointimateriaalien kehittämiseen, joiden perustana ovat diatsoniumsuola-polykon-densaatiotuotteet.
Mainituntyyppisiä kopiointimateriaaleja käytetään edullisesti painolevyjen, mutta myös valoherkkien päällystei-10 den valmistukseen ja ne koostuvat kalvon kantajarakenteesta ja negatiivisesti toimivasta valonherkästä kopiokalvosta.
Kalvon kantajarakenteena käytetään metalleja, kuten sinkkiä, kromia, kuparia, messinkiä, terästä tai alumiinia, muovikalvoja, paperia tai vastaavia, mahdollisesti tarkoi-i5 tukseen soveltuvan esikäsittelyn jälkeen.
Kopiokalvoina käytetään sellaisia, joiden perustana ovat veteenliukenemattomat diatsoniumsuola-polykondensaa-tiotuotteet ja veteenliukenemattomat hartsit sideaineena, erityisesti hartsit, jotka eivät liukene heikosti happamiin 20 tai emäksisiin vesipitoisiin liuoksiin.
Tämäntyyppisiin valotettuihin kopiokalvoihin käytettävät kehitteet vaativat normaalisti orgaanisten liuottimien lisäystä.
Mutta myöskään silloin ei yleensä saada aikaan käy-25 tettäessä kehitteitä, jotka sisältävät vähemmän kuin 50 paino-% orgaanista liuotinta, valottamattomien kalvoalu-eiden varsinaista liukenemista, vaan ainoastaan irtautuminen kantajarakenteesta enemmän tai vähemmän suurina hiutaleina. Käsin kehitettäessä voidaan yleensä saada käyttä-30 mällä riittävää ylimäärää kehitintä siististi kehitetty kopio. Toisaalta on kalliin, orgaanista liuotinta sisältävän kehitteen kulutus suuri, ja sen poistaminen tai edel-leenkäsittely aiheuttaa lisää vaivaa ja kustannuksia.
Erityisesti kehitettäessä mainituntyyppisiä suurte-35 hopainolaattoja, on ilmennyt vaikeuksia, jos kehityksen pitäisi tapahtua automaattisessa läpikulkulaitteessa, koska tällöin suhteellisen lyhyen ajan kuluttua kehitteeseen 2 66697 dispergoitunut, liukenematon kalvoaine erottui laitteessa ja mahdollisesti myös kehitettävillä laatoilla ja teki nämä käyttökelvottomiksi.
Tämän johdosta käytettiin mainituntyyppisten jäljen-5 nöskalvojen kehittämiseen kehitteitä, jotka sisälsivät enemmän (esimerkiksi 50 % tai enemmän) orgaanisia liuottimia (saksalainen hakemusjulkaisu nro 20 24 244, esimerkki 57). Myös käytettäessä tätä orgaanisten liuottimien korkeaa pitoisuutta, jää jäljelle kalvoissa, jotka sisältävät suuria 10 määriä veteen liukenemeattomia sideaineita, jäännös ei- liuennutta kiinteää kalvoainetta kehitteeseen dispergoitu-neena. Tosin on voitu saavuttaa lisäämällä suhteellisen suuria määriä kostutusaineita kehitteeseen, täydellinen ja stabiili dispersio ja siisti kehitys, mutta kuitenkaan ei 15 ole mahdollista työstää mainitussa esimerkissä ilmoitetun tyyppisiä kehitteitä automaattisissa kehityslaitteissa, koska nämä kehitteet vaahtoavat liian voimakkaasti.
Toisentyyppisille kalvoille kuvattiin myös kehite-liuoksia, jotka sisältävät vähän tai jopa ei ollenkaan vet-20 tä (saksalainen hakemusjulkaisu nro 20 12 390). Myös nämä kehitteet sisältävät kostutusaineita ja ovat yleensä liian aggressiivisia edellä ilmoitetun koostumuksen omaavien painolaattojen kehittämiseen.
Lopuksi tunnetaan kanadalaisesta patenttijulkaisus-25 ta nro 1 057 105 myös kehitteet keksinnön mukaisesti käsiteltäviä painolaattoja varten ja ne sisältävät korkeintaan 95 % orgaanisia liuottimia, esim. glykoleja tai glykoli-eettereitä, ja kostutusaineita. Kehitteitä käytetään 60-110°C:seen välisessä lämpötilassa (sivu 9, rivit 6-7 ja 30 17-18). Näissä lämpötiloissa kehitteillä on voimakas taipu mus vaahtoamiseen, jos niitä käytetään automaattisissa työs-tölaitteissa.
Keksinnön tehtävänä on asettaa käyttöön kehiteliuos valonherkkiä kalvoja varten, joiden perustana ovat veteen-35 liukenemattomat diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotteet ja veteenliukenemattomat sideaineet, ja joka takaa valottamat-tomien kalvoalueiden täydellisen liukenemisen ja joka soveltuu käytettäväksi automaattisissa kehityslaitteissa.
3 66697
Keksintö lähtee kehiteliuoksesta, jota käytetään valotettujen, valonherkkien jäijennösmateriaalien kehittämiseen, jotka sisältävät veteeniiukenematonta sideainetta ja veteenliukenematonta diatsoniumsuola-polykondensaatio-5 tuotetta, jolloin liuos sisältää pääasiallisina aineosina glykolieettereitä, glykoliestereitä ja vettä.
Keksinnön mukainen kehiteliuos on tunnettu siitä, että se sisältää 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava, 10 H-(0-CH-CHo-) OC H0 , 2 n m 2m+l ch3 jossa n = 1-4 ja ra - 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava, 15 R1-0-CH-CH -OR2 ' 3 1
RJ
1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 20 c-atomia tai toinen molemmista tähteistä on vetyatomi ja 3 R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-dioksolan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 25 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liu kenevaa suolaa ja 5-45 % vettä.
Prosenttiluvut tarkoittavat painoprosentteja.
Jäijennösmateriaaleja, jotka voidaan kehittää kek-30 sinnön mukaisilla kehiteliuoksilla, on kuvattu esimerkiksi saksalaisessa patenttijulkaisussa nro 20 24 244 = US-patent-tijulkaisussa nro 3 867 147.
Keksinnön mukaisilla kehitteillä on pitkä käyttöaika kehityskoneissa, koska ne liuottavat käytännöllisesti 35 katsoen täydellisesti kehitettäessä poistetut kalvon aineosat ja koska ne eivät sisällä mitään alhaalla kiehuvia aineosia. Edullisesti on kehitteen orgaanisten aineosien kiehumispiste yli 100°C, erityisesti yli 150°C.
4 66697
Keksinnön mukaisen kehitteen pääaineosana on yhdiste, jolla on kaava H- (0-CH-CH2-) nOCinH2m+ j 5 CH3 jossa symboleilla n ja m on edellä ilmoitettu merkitys. Edullisesti n on 1-3 ja m on 1-3, erityisesti 1. Glykoli-eetterin määrä on yleensä 30-80, edullisesti 45-60 paino-% liuoksesta.
10 Muuna välttämättömänä aineosana sisältää liuos gly- koliesteriä, jolla on kaava R1-0-CH-CH,-0R2 R3 15 . 12 3 jossa symboleilla R , R ja R on edellä ilmoitettu merkitys .
Sopivia esimerkkejä ovat etyleeniglykolimono- ja -diasetaatti, -propionaatti tai propaanidiolimonoasetaatti.
20 Etyleeniglykolimono- ja -diasetaattia pidetään edullisena. Liuos voi sisältää glykoliesteriä määrässä, joka on 3-30, edullisesti 10-20 paino-%.
Muina lisäaineina voi liuos sisältää dioksolaani-johdannaisia, kuten 1,3-dioksolan-2-onia ja 4-metyyli-l,3-25 dioksolan-2-onia määrässä, joka on korkeintaan 15, edullisesti korkeintaan 8 paino-%.
Edelleen soveltuvat lisäliuottimiksi korkeammat alkoholit ja glykolieetterit, esim. tetrahydrofurfuryylial-koholi, bentsyylialkoholi, 3-metoksi-butanoli, diasetoni-30 alkoholi, dietyleeniglykolimonoetyylieetteri, etyleenigly-kolimonofenyylieetteri ja dietyleeniglykolidimetyylieette-ri.
Myös voidaan lisätä moniarvoisia alkoholeja, joilla on pehmentävä vaikutus, esim. glyseriiniä, etyieeniglykolia 35 tai propyleeniglykolia määrässä, joka on 0-20, edullisesti 3-15 paino-%.
5 66697
Kehiteliuos voi sisältää edelleen epäorgaanisia tai orgaanisia suoloja, esim. ammoniumbentsoaattia tai natrium-tartraattia, iitiumnitraattia, strontiumnitraattia tai magnesiumsulfaattia määrässä, joka on yhteensä 0-10 paino-%.
5 Keksinnön mukaisen kehitteen pH-arvo on yleensä 2-12, edullisesti noin 6-8. Tällöin säädetään emäksinen alue jollakin edellä ilmoitetuista suoloista ja hapan alue edullisesti orgaanisella hapolla.
Keksinnön mukainen kehite ei sisällä mitään alhaalla-10 kiehuvia aineosia. Normaalisti on vesi, jota liuos sisältää määrässä 5-45, edullisesti 15-28 paino-%, alhaisimpana kiehuva aineosa.
Kehite muuttaa tämän vuoksi koostumustaan käytön aikana ainoastaan epäoleellisesti ja sillä on suhteellisen 15 pitkä käyttöaika koneessa.
Erityisenä etuna on edelleen pidettävä sitä, että kehite ei tarvitse mitään kostutusainelisäyksiä. Se on täysin tehokas huoneen lämpötilassa, mutta sitä voidaan mahdollisesti käyttää myös vähän kohotetussa lämpötilassa, esi-20 merkiksi 40°C:ssa, ilman että se tulee aggressiiviseksi.
Tavanomaisissa käyttölämpötiloissa on hajurasitus vähäinen.
Seuraavat esimerkit selventävät keksinnön mukaisen kehitteen eduliisenapidettyjä suoritustapoja. Prosenttiar-25 vot ja määräsuhteet tarkoittavat painoyksiköltä, jos ei toisin ole ilmoitettu.
Esimerkki 1
Alumiinifolio, joka oli karhennettu harjaamalla hion-ta-ainesuspensiolla, upotettiin yhden minuutin ajaksi 30 60C 5C:seen hauteeseen, jossa oli 0,3 % polyvinyylifosfoni- happoa vedessä ja kuivattiin. Se kerrostettiin sitten liuoksella, jossa oli 0,7 paino-osaa polykondensaatiotuotetta, valmistettu 1 moolista 3-metoksi-difenyyliamiini-4-diatsoniumsulfaat-35 tia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksimetyyli-difenyylieette-riä 85-%:isessa fosforihapossa, eristetty mesityleenisul-fonaattina, 6 66697 3,4 paino-osaa 85-%:ista fosforihappoa ja 3.0 paino-osaa epoksidihartsin, - jonka sulamispiste on 70°C ja epoksidi-ekvivalenttipaino 459 - ja suolahapon reaktiotuotetta etyleeniglykolimonometyylieetterissä (vrt.
5 saksalainen patenttijulkaisu nro 20 34 654) 60.0 paino-osassa etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 20.0 paino-osassa tetrahydrofuraania, 10.0 paino-osassa dimetyyliformamidia ja 10.0 paino-osassa butyyliasetaattia 10 ja kuivattiin. Valonherkkä materiaali valotettiin kuvanmu-kaisesti ja kehitettiin liuoksella, jossa oli 60 paino-osaa propyleeniglykolimonometyylieetteriä, 10 paino-osaa glyseriiniä, 5 paino-osaa etyleeniglykoliasetaattia (seos, jossa 15 on 50 % mono- ja 50 % diasetaattia), 5 paino-osaa natriumbentsoaattia ja 20 paino-osaa vettä.
Saatiin moitteeton kuva.
Esimerkki 2 20 Elektrolyyttisesti karhennettu ja anodisesti hapetet tu alumiinifolio, joka oli käsitelty, kuten esimerkissä 1, kuvattiin polyvinyylifosfonihapolla, kerrostettiin liuoksella, jossa oli 1,6 paino-osaa polyvinyyliformaalia, 25 0,5 paino-osaa polykondensaatiotuotetta, saatu 1 moo lista 3-metoksi-difenyyliamiini-4-diatsoniumsulfaattia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksimetyylidifenyylieetteriä, valmistettu 85-%:isessa fosforihapossa 40°C:ssa ja eristetty mesityleenisulfonaattina, 30 0,05 paino-osaa fosforihappoa ja 0,3 paino-osaa ^Hostapermsinistä 57 paino-osassa etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 30 paino-osassa tetrahydrofuraania ja 8 paino-osassa butyyliasetaattia 35 ja kuivattiin. Saatu laakapainolaatta valotettiin alkuperäiskappaleen alla ja kehitettiin liuoksella, joka koostui 7 66697 50 paino-osasta propyleeniglykolimonometyylieetteriä, 15 paino-osasta etyleeniglykoliasetaattia (mono- ja diase-taatin seos 1:1), 0,5 paino-osasta 1,3-dioksolan-2-onia, 5 1 paino-osasta ammoniumbentsoaattia, 10 paino-osasta glyseriiniä ja 23,5 paino-osasta vettä.
Kuva kehittyi siististi ja virheettömästi ja liukenemattomista kalvonosista ei muodostunut mitään kokkareita.

Claims (6)

1. Kehiteliuos, jota käytetään veteenliukenematon-ta sideainetta ja veteenliukenematonta diatsoniumsuoia-po-5 lykondensaatiotuotetta sisältävien, valotettujen ja valon-herkkien jäijennöskalvojen kehittämiseen, jolloin liuos sisältää pääasiallisina aineosina glykolieettereitä, glykoli-estereitä ja vettä, tunnettu siitä, että se sisältää 10 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava H-lO-CH-CHj-^O'yW CBj 15 jossa n = 1-4 ja m = 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava R1-0-CH-CH -OR2 R3 20 1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 C-atomia tai toinen molemmista tähteistä merkitsee vetyato-3 mia, ja R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-diokso-25 lan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liukenevaa suolaa ja 5-45 % vettä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteliuos, tunnettu siitä, että sen pH-arvo on 12-2.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteliuos, tunnettu siitä, että se sisältää 0,5 - 8 % orgaanisen hapon alkali- tai ammoniumsuolaa.
4. Menetelmä negatiivisesti toimivien jäijennöskalvo jen kehittämiseksi joiden perustana ovat veteeniiukenemättomat diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotteet ja veteen ja laimennet- 66697 9 tuihin vesipitoisiin emäksiin liukenemattomat sideaineet, jolloin valotettua jäijennöskalvoa käsitellään liuoksella, joka koostuu glykolieettereistä, glykoliestereistä, vedestä ja mahdollisesti moniarvoisista alkoholeista ja suoloista 5 valottamattomien kalvoalueiden liuottamiseksi, tunnettu siitä, että kalvoa käsitellään liuoksella, joka sisältää 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava
10 H-(°-?H-CH2->n°SnH2,n+l CH3 jossa n = 1-4 ja m = 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava 15 R-0-CH-CH,-0R2 R3 1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 3
20 C-atomia tai toinen tähteistä merkitsee vetyatomia/ja R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-diok-solan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 25 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liukenevaa suolaa ja 5-45 % vettä. 66697 10
FI810955A 1980-03-31 1981-03-27 Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt FI66697C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803012522 DE3012522A1 (de) 1980-03-31 1980-03-31 Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
DE3012522 1980-03-31

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI810955L FI810955L (fi) 1981-10-01
FI66697B FI66697B (fi) 1984-07-31
FI66697C true FI66697C (fi) 1984-11-12

Family

ID=6098913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI810955A FI66697C (fi) 1980-03-31 1981-03-27 Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4416976A (fi)
EP (1) EP0037060B1 (fi)
JP (1) JPS56153341A (fi)
AT (1) ATE6703T1 (fi)
AU (1) AU539890B2 (fi)
BR (1) BR8101905A (fi)
CA (1) CA1168500A (fi)
DE (2) DE3012522A1 (fi)
FI (1) FI66697C (fi)
MX (1) MX159691A (fi)
ZA (1) ZA812100B (fi)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4786580A (en) * 1983-12-27 1988-11-22 Hoechst Celanese Corporation Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition
EP0164083B1 (de) * 1984-06-07 1991-05-02 Hoechst Aktiengesellschaft Positiv arbeitende strahlungsempfindliche Beschichtungslösung
US5143814A (en) * 1984-06-11 1992-09-01 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate
US5066561A (en) * 1984-06-11 1991-11-19 Hoechst Celanese Corporation Method for producing and using a positive photoresist with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate
US4550069A (en) * 1984-06-11 1985-10-29 American Hoechst Corporation Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate
US4948697A (en) * 1985-10-28 1990-08-14 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist with a solvent mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate
US4806458A (en) * 1985-10-28 1989-02-21 Hoechst Celanese Corporation Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate
US5039594A (en) * 1985-10-28 1991-08-13 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist containing a mixture of propylene glycol alkyl ethers and propylene glycol alkyl ether acetate
US4692398A (en) * 1985-10-28 1987-09-08 American Hoechst Corporation Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate
US4983490A (en) * 1985-10-28 1991-01-08 Hoechst Celanese Corporation Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate
ZA87922B (en) * 1986-02-28 1987-09-30 Macdermid Inc Photoresist stripper composition
US4714670A (en) * 1986-06-09 1987-12-22 Imperial Metal & Chemical Company Developer including an aliphatic cyclic carbonate in the oil phase emulsion
US4755451A (en) * 1986-08-28 1988-07-05 Sage Technology Developer for color proofing film with an alkyl glycol derivative of cyclohexane
DE3715792A1 (de) * 1987-05-12 1988-11-24 Hoechst Ag Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten
US4822723A (en) * 1987-11-30 1989-04-18 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
JPH02253265A (ja) * 1989-03-28 1990-10-12 Nippon Zeon Co Ltd レジスト剥離剤
JPH035756A (ja) * 1989-06-01 1991-01-11 Fuji Photo Film Co Ltd 水なしps版用現像液
US5290665A (en) * 1989-06-01 1994-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for developing PS plate requiring no dampening water wherein the developer comprises, water, a solubilizer and an ethylene glycol mono(alkyl C6 -C8) ether derivative
JPH0785947B2 (ja) * 1989-08-05 1995-09-20 東洋インキ製造株式会社 平版印刷用湿し水
JPH0418564A (ja) * 1990-01-22 1992-01-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性エラストマー組成物用現像剤
EP0539881B1 (en) * 1991-10-29 1995-08-02 E.I. Du Pont De Nemours And Company Single-phase developers for lithographic printing elements
JPH10186680A (ja) * 1996-12-26 1998-07-14 Clariant Internatl Ltd リンス液

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
GB1220808A (en) * 1967-05-18 1971-01-27 Howson Algraphy Ltd Processing of presensitized photolithographic printing plate
NL6918761A (fi) 1968-12-30 1970-07-02
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3867147A (en) * 1969-05-20 1975-02-18 Hoechst Co American Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same
US3682641A (en) * 1970-03-23 1972-08-08 Du Pont Photoresist developer extender baths containing polyoxyalkylene ethers and esters and process of use
US3996054A (en) * 1971-09-24 1976-12-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Color photographic developing solution
JPS5027728B2 (fi) * 1971-11-04 1975-09-10
US3891439A (en) * 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
GB1418433A (en) * 1973-02-10 1975-12-17 Ricoh Kk Developers for two-component diazotype materials
CA1057105A (en) * 1974-10-08 1979-06-26 Ferdinand J. Gajewski Developing and stripping of binder-containing presensitized coatings
JPS5217901A (en) * 1975-07-31 1977-02-10 Mitsubishi Chem Ind Developer for lithographic press plate
US4055515A (en) * 1975-12-31 1977-10-25 Borden, Inc. Developer for printing plates
JPS5587151A (en) * 1978-12-25 1980-07-01 Mitsubishi Chem Ind Ltd Developing solution composition for lithographic printing plate
US4308340A (en) * 1980-08-08 1981-12-29 American Hoechst Corporation Aqueous 2-propoxyethanol containing processing composition for lithographic printing plates

Also Published As

Publication number Publication date
FI66697B (fi) 1984-07-31
DE3162577D1 (en) 1984-04-19
CA1168500A (en) 1984-06-05
JPS6367178B2 (fi) 1988-12-23
AU6883181A (en) 1981-10-08
MX159691A (es) 1989-08-07
US4416976A (en) 1983-11-22
ATE6703T1 (de) 1984-03-15
ZA812100B (en) 1982-04-28
AU539890B2 (en) 1984-10-18
DE3012522A1 (de) 1981-10-08
EP0037060B1 (de) 1984-03-14
EP0037060A1 (de) 1981-10-07
BR8101905A (pt) 1981-10-06
FI810955L (fi) 1981-10-01
JPS56153341A (en) 1981-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI66697C (fi) Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt
JPS5935010B2 (ja) ポジ用フオトレジスト組成物
CA1140787A (en) Developer compositon for lithographic plates including ethylene glycol monophenyl ether, and acid and less than 10 weight percent water
TW200731016A (en) Composition for forming upper film and method for forming photoresist pattern
FI71024C (fi) Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt
US3652274A (en) Photographic etching resist and preparation thereof
EP0539881B1 (en) Single-phase developers for lithographic printing elements
US10248025B2 (en) Concentrated and working strength aqueous flexographic developers
DE2316089A1 (de) Entwicklerzusammensetzung und verfahren zum entwickeln von kontrastreichen photographischen diffusionsuebertragungsmaterialien
US2126305A (en) Dispersion of gelatin
US4786580A (en) Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition
JPS63202742A (ja) 有機溶剤不含の現像剤組成物及び写真素子を処理する方法
US2940854A (en) Gelatin silver halide emulsion plasticized with dicarboxylic acid esters
EP0365988B1 (de) Entwicklungslösemittel für durch Photopolymerisation vernetzbare Schichten sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefformen
JPS5936256B2 (ja) 現像液組成物
US20180136562A1 (en) Methods of forming flexographic printing members
US1494473A (en) Cellulose-ether solvent and composition
JP2017521285A (ja) スクリーン印刷用ステンシルの補強剤及びそれを用いる補強処理法
JPS5669628A (en) Developer composition for lithographic plate
JPS60153047A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料用現像液
DE10259769A1 (de) Verfahren zur Herstellung negativ arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit einer Diazoharz enthaltenden Beschichtung
JPH04147150A (ja) 印刷版用修正剤

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT