FI124523B

FI124523B - Beläggning på ett metallsubstrat och belagd metallisk produkt

Info

Publication number: FI124523B
Application number: FI20075139A
Authority: FI
Inventors: Jari Ruuttu; Reijo Lappalainen; Lasse Pulli; Vesa Myllymäki; Juha Mäkitalo
Original assignee: Picodeon Ltd Oy
Priority date: 2006-02-23
Filing date: 2007-02-23
Publication date: 2014-09-30
Also published as: FI20075139A; FI20075139A0

Claims

1. Ett förfarande för att belägga en bestämd yta pä en metallprodukt genom laserdeponering, kännetecknat av att den sammanhängande arean som beläggs omfattar 5 ätminstone 0,2 dm2, och beläggningen utförs genom att mot ett strälmäl rikta laserpulser som är tillräckligt korta för att orsaka kryoablation i strälmälet, vid vilket pulsfrekvensen är minst 1 MHz och vid vilket skannas en pulserad lasersträle med hjälp av en roterbar optisk skanner, vilken skanner innefattar minst en spegel för att reflektera nämnda lasersträle. 10

2. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area omfattar ätminstone 0,5 dm2.

3. Förfarande enligt kraven 1-2, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area omfattar ätminstone 1,0 dm2. 15

4. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att nämnda laserdeponering utförs vid ett tryck som är 10'7 Pa -10 kPa.

5. Förfarande enligt krav 4, kännetecknat av att nämnda laserdeponering utförs vid 20 ett tryck som är lOPa - 10 kPa.

6. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att avständet mellan strälmälsmaterialet och nämnda sammanhängande area som beläggs är under 25 cm, lämpligen under 15 cm och speciellt under 10 cm. 25

7. Förfarande enligt nägot av föregäende patentkrav, kännetecknat av att nämnda ^ strälmäls ablaterade yta kan ablateras upprepade ganger för att producera en felfri ° beläggning. |A cp g 30

8. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att den producerade beläggningens x genomsnittliga ytgrovhet inom nämnda sammanhängande area vid en skanning med ett X AFM-mikroskop (Atomic Force Microscope) pä ett omräde av 1 μηι2 är under 100 nm. O) co rC

9. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att den producerade beläggningens optiska o ° 35 transmission inom nämnda sammanhängande area är minst 88 %, lämpligen minst 90 % och speciellt minst 92 %.

10. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att i nämnda beläggning inom nämnda sammanhängande area finns färre än ett mikrohäl per 1 mm2, lämpligen färre än ett mikrohäl per 1 cm2 och speciellt inga mikrohäl inom nämnda sammanhängande area.

11. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area 5 beläggs pä sa sätt att den första 50 % av beläggningen inom nämnda sammanhängande area inte innehaller partiklar vilkas diameter överskrider 1000 nm, lämpligen 100 nm och speciellt 30 nm.

12. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area pä 10 metallprodukten beläggs med metall, metalloxid, metallnitrid, metallkarbid eller en blandning av dessa.

13. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area pa metallprodukten beläggs med kolmaterial som innehaller över 90 atomprocent koi varav 15 över 70 % är sp3-bundet.

14. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area pä metallprodukten beläggs med material som innehaller koi, kväve och/eller bor. 20

15. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area pä metallprodukten beläggs med organiskt polymermaterial.

16. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av att nämnda sammanhängande area beläggs med oorganiskt material. 25

^ 17. Förfarande enligt nägot av föregäende krav, kännetecknat av att nämnda o ^ sammanhängande yta pä metallprodukten beläggs med en flerskiktsbeläggning. rk cp 3

18. Förfarande enligt nägot av föregäende patentkrav, kännetecknat av att nämnda g 30 beläggnings tjocklek inom den sammanhängande ytan pä metallprodukten är mellan 20 nm CL och 20 pm, företrädesvis mellan 100 nm och 5 pm. <T) CO LO

^ 19. En metallprodukt med en bestämd, genom laserdeponering belagd yta, ° kännetecknad av att den belagda sammanhängande arean omfattar ätminstone 0,2 dm2, att 35 nämnda sammanhängande area är belagd med kolmaterial som innehäller över 90 atomprocent koi varav over 70 % sp3-bundet, och av att beläggningen har utförts enligt det i patentkrav 1 angivna förfarandet.

20. Metallprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda sammanhängande area 5 omfattar ätminstone 0,5 dm2.

21. Metallprodukt enligt kraven 19 - 20, kännetecknad av att nämnda sammanhängande area omfattar ätminstone 1,0 dm2.

22. Metallprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att den producerade beläggningens genomsnittliga ytgrovhet inom nämnda sammanhängande area vid en skanning med ett AFM-mikroskop (Atomic Force Microscope) pä ett omräde av 1 pm2 är under 100 nm.

23. Metallprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att den producerade beläggningens optiska transmission inom nämnda sammanhängande area är minst 88 %, lämpligen minst 15 90 % och speciellt minst 92 %.

24. Metallprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att i nämnda beläggning inom nämnda sammanhängande area finns färre än ett mikrohäl per 1 mm2, lämpligen färre än ett mikrohäl per 1 cm2 och speciellt inga mikrohäl inom nämnda sammanhängande area.

25. Metallprodukt enligt krav 19, kännetecknad av att nämnda sammanhängande area 20 är sä belagd att den första 50 % av beläggningen inom nämnda sammanhängande area inte innehäller partiklar vilkas diameter överskrider 1000 nm, lämpligen 100 nm och speciellt 30 nm.

26. Metallprodukt enligt nägot av de fbregäende kraven 19-25, kännetecknad av att c\i ^ 25 nämnda sammanhängande yta pä metallprodukten är belagd med en flerskiktsbeläggning. cp

° 27. Metallprodukt enligt nägot av de fbregäende patentkraven 19-25, kännetecknad av att nämnda beläggnings tjocklek inom den sammanhängande ytan pä metallprodukten är (j, mellan 20 nm och 20 pm, fbreträdesvis mellan 100 nm och 5 pm. co S 30 1^ o o CM