ES2927003T3

ES2927003T3 - Artículos recubiertos compatibles de baja E que tienen una capa semilla dopada por debajo de plata, y métodos correspondientes

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Publication number: ES2927003T3
Application number: ES19772854T
Authority: ES
Inventors: Yongli Xu; Brent Boyce; Salah Boussaad; Philip J Lingle; Jingyu Lao; Richard Vernhes
Original assignee: Guardian Glass LLC
Current assignee: Guardian Glass LLC
Priority date: 2018-07-16
Filing date: 2019-07-16
Publication date: 2022-10-31
Anticipated expiration: 2039-07-16
Also published as: US20200255331A1; CN112218834A; RU2764973C1; JP7005791B2; EP3793959A1; BR112020024669B1; EP3793959B1; US10301215B1; MX2021000565A; BR112020024669A2; JP2021525692A; AU2019304221A1; WO2020016762A9; KR20210031634A; US20200017402A1; AU2019304221B2; PL3793959T3; US10570057B2; WO2020016762A1; US10752540B1

Abstract

Un revestimiento de baja emisividad tiene una buena estabilidad de color (un valor bajo de ΔE*) tras el tratamiento térmico (HT). La provisión de una capa cristalina o sustancialmente cristalina depositada de o que incluye óxido de zinc, dopada con al menos un dopante (p. ej., Sn), inmediatamente debajo de una capa reflectante de infrarrojos (IR) de o que incluye plata en un recubrimiento de baja emisividad tiene efecto de mejorar significativamente la estabilidad térmica del revestimiento (es decir, reducir el valor de ΔE*). Una o más de tales capas cristalinas, o sustancialmente cristalinas, pueden proporcionarse bajo una o más capas reflectantes de IR correspondientes que comprenden plata. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)

Description

DESCRIPCIÓN

Artículos recubiertos compatibles de baja E que tienen una capa semilla dopada por debajo de plata, y métodos correspondientes

Esta invención se refiere a artículos recubiertos de baja E que tienen aproximadamente las mismas características de color que se observan a simple vista tanto antes como después del tratamiento térmico (por ejemplo, templado térmico) y métodos correspondientes. Tales artículos pueden combinar en determinadas realizaciones de ejemplo: (1) características de alta transmisión visible cuando se desee, (2) buena durabilidad antes y/o después del tratamiento térmico, y/o (3) un bajo valor de AE* que es indicativo de estabilidad del color tras el tratamiento térmico (HT). Tales artículos recubiertos pueden usarse de manera monolítica para ventanas, en unidades de ventana de vidrio aislante (IG), unidades de ventana laminadas, parabrisas de vehículos y/u otras aplicaciones de ventanas de vehículos o residenciales o arquitectónicas.

Antecedentes de la invención

Se conocen en la técnica sistemas de recubrimiento de baja emisividad (baja E). Por ejemplo, la patente estadounidense de titularidad común n.° 5.376.455 da a conocer vidrio/Si³N⁴/NiCr/Ag/NiCr/Si³N⁴. Desgraciadamente, el sistema de recubrimiento de baja E de la patente '455 no es lo suficientemente compatible en cuanto al color después del tratamiento térmico (HT) con su equivalente no sometido a tratamiento térmico.

Se conoce la necesidad de compatibilidad sustancial (antes del tratamiento térmico frente a después del tratamiento térmico). Los sustratos de vidrio a menudo se producen en grandes cantidades y se cortan al tamaño requerido para satisfacer las necesidades de una situación particular, tal como un nuevo edificio de oficinas con múltiples ventanas y puertas, necesidades de ventanas de vehículos, etc. A menudo es deseable en tales aplicaciones que algunas de las ventanas y/o puertas se sometan a tratamiento térmico (es decir, templado, reforzamiento térmico o curvado térmico) mientras que en otras no es necesario. Los edificios de oficinas a menudo emplean unidades de IG y/o materiales laminados por motivos de seguridad y/o control térmico. Es deseable que las unidades y/o materiales laminados que se someten a tratamiento térmico (HT) sean compatibles sustancialmente con sus equivalentes no sometidos a tratamiento térmico (por ejemplo, con respecto al color, la reflectancia y/o similares, al menos en el lado que se observa desde el exterior del edificio) con fines arquitectónicos y/o estéticos.

La patente estadounidense de titularidad común n.° 5.688.585 da a conocer un artículo recubierto de control solar que incluye: vidrio/Si³N⁴/NiCr/Si³N⁴. Un objeto de la patente '585 es proporcionar un sistema de capas recubiertas por pulverización catódica que, después del tratamiento térmico (HT), es compatible en color con su equivalente no sometido a tratamiento térmico. Aunque los sistemas de recubrimiento de la patente '585 son excelentes para los fines a los que se destinan, adolecen de determinadas desventajas. En particular, tienden a tener valores de emisividad y/o resistencia laminar bastante altos (por ejemplo, porque no se da a conocer ninguna capa de plata (Ag) en la patente '585).

En la técnica anterior, ha sido posible conseguir compatibilidad en sistemas distintos de los de la patente '585 mencionada anteriormente, entre dos sistemas de capas diferentes, uno de los cuales se ha sometido a tratamiento térmico y el otro no. La necesidad de desarrollar y usar dos sistemas de capas diferentes para lograr la compatibilidad crea gastos de fabricación adicionales y necesidades de inventario que no son deseables.

Las patentes estadounidenses n.^os6.014.872 y.5.800.933 (véase el ejemplo B) dan a conocer un sistema de capas de baja E que puede someterse a tratamiento térmico que incluye: vidrio/TiÜ²/Si³N⁴/NiCr/Ag/NiCr/Si³N⁴. Desgraciadamente, cuando se somete a tratamiento térmico, este sistema de capas de baja E no es aproximadamente compatible en cuanto al color con su equivalente no sometido a tratamiento térmico (tal como se observa desde el lado de vidrio). Esto se debe a que este sistema de capas de baja E tiene un valor de AE* (lado de vidrio) mayor de 4,1 (es decir, para el ejemplo B, Aa*^Ges de 1,49, Ab*^Ges de 3,81 y AL* (lado de vidrio) no se mide; usando la ecuación (1) a continuación, entonces AE* en el lado de vidrio debe ser necesariamente mayor de 4,1 y probablemente sea mucho mayor que eso).

La patente estadounidense n.° 5.563.734 da a conocer un sistema de recubrimiento de baja E que incluye: sustrato/TiÜ²/NiCrN^x/Ag/NiCrN^x/Si³N⁴. Desgraciadamente, se ha encontrado que cuando se usan altas velocidades de flujo de nitrógeno (N) cuando se forman las capas de NiCrN^x(véase la alta velocidad de flujo de N de 143 sccm en la tabla 1 de la patente '734; que se traduce en aproximadamente de 22 sccm/kW), los artículos recubiertos resultantes no tienen un color estable con el tratamiento térmico (es decir, tienden a tener altos valores de AE* (lado de vidrio) mayores de 6,0). Dicho de otro modo, si se somete a HT, el sistema de capas de baja E de la patente '734 no sería aproximadamente compatible en cuanto al color con su equivalente no sometido a tratamiento térmico (observado desde el lado de vidrio).

El documento US 2008/311389 da a conocer una estructura de laminación de parasol de múltiples capas que comprende un primer recubrimiento dieléctrico formado por dos capas de óxido. La primera capa de óxido se forma a partir de un cátodo de una aleación de cinc-estaño con el 52% (% en peso) de cinc y el 48% (% en peso) de estaño para formar Zn2SnO4, que contiene aproximadamente el 37,9% (% en peso) de estaño. La segunda capa de óxido está formada por objetivos de una aleación cinc-estaño con el 90% en peso de cinc y el 10% en peso de estaño.

El documento US 2006/121290 se refiere a un artículo recubierto con características de bloqueo de UV mejoradas. Además, a veces es deseable que un artículo recubierto tenga características de alta transmisión visible y/o buena durabilidad (mecánica y/o química). Desgraciadamente, determinadas etapas conocidas que se realizan para mejorar las características de transmisión visible y/o la durabilidad antes del HT tienden a degradar la durabilidad y la estabilidad térmica posteriores al HT. Por tanto, a menudo es difícil obtener una combinación de alta transmisión visible, estabilidad térmica del color y buena durabilidad.

En vista de lo anterior, resultará evidente para los expertos en la técnica que existe la necesidad de un sistema de capas o recubrimiento de baja E que, después de HT, sea compatible sustancialmente en cuanto al color y/o la reflexión (tal como se observa a simple vista) con su equivalente no sometido a tratamiento térmico. Dicho de otro modo, existe la necesidad en la técnica de un sistema de capas o recubrimiento compatible de baja E. También existe la necesidad en la técnica de un sistema que pueda someterse a tratamiento térmico que pueda combinar uno o más de: (1) características de alta transmisión visible, (2) buena durabilidad antes y/o después del tratamiento térmico y/o (3) un bajo valor de AE* que es indicativo de la estabilidad del color tras el tratamiento térmico.

Una finalidad de esta invención es satisfacer una o más de las necesidades enumeradas anteriormente y/u otras necesidades que resultarán más evidentes para el experto en la técnica una vez facilitada la siguiente divulgación.

Sumario

Un objeto de ejemplo de esta invención es proporcionar un sistema de capas o recubrimiento de baja E que tenga buena estabilidad del color (un valor de AE* bajo) tras el tratamiento térmico (HT). Otro objeto de ejemplo de esta invención es proporcionar un sistema de capas o recubrimiento compatible de baja E.

Por consiguiente la invención proporciona un artículo recubierto según la reivindicación 1. Las realizaciones de ejemplo se refieren a artículos recubiertos de baja E que tienen aproximadamente las mismas características de color que se observan a simple vista tanto antes como después del tratamiento térmico (por ejemplo, templado térmico), y a métodos correspondientes. Tales artículos pueden combinar en determinadas realizaciones de ejemplo: (1) características de alta transmisión visible cuando se desee, (2) buena durabilidad antes y/o después del tratamiento térmico, y/o (3) un bajo valor de AE* que es indicativo de estabilidad del color tras el tratamiento térmico (HT).

De manera sorprendente e inesperada, se ha encontrado que proporcionar una capa cristalina o sustancialmente cristalina tal como se deposita (por ejemplo, cristalina en al menos el 50%, más preferiblemente cristalina en al menos el 60%) de o que incluye óxido de cinc, dopado con al menos un dopante (por ejemplo, Sn), inmediatamente por debajo de una capa reflectante de infrarrojo (IR) de o que incluye plata en un recubrimiento de baja E tiene el efecto de mejorar significativamente la estabilidad térmica del recubrimiento (es decir, disminución del valor de AE*). Una o más de tales capas cristalinas, o sustancialmente cristalinas (por ejemplo, cristalinas en al menos el 50%, más preferiblemente cristalinas en al menos el 60%), pueden proporcionarse por debajo de una o más capas reflectantes de IR correspondientes que comprenden plata, en diversas realizaciones de esta invención. Por tanto, la capa cristalina o sustancialmente cristalina de o que incluye óxido de cinc, dopado con al menos un dopante (por ejemplo, Sn), inmediatamente por debajo de una capa reflectante de infrarrojo (IR) de o que incluye plata puede usarse en recubrimientos de plata de baja E individuales, recubrimientos de plata de baja E dobles o recubrimientos de plata de baja E triples en diversas realizaciones de esta invención. En determinadas realizaciones de ejemplo, la capa cristalina o sustancialmente cristalina de o que incluye óxido de cinc está dopada con desde aproximadamente el 1-30% de Sn, de manera más preferible desde aproximadamente el 1-20% de Sn, de manera más preferible desde aproximadamente el 5-15% de Sn, siendo un ejemplo aproximadamente el 10% de Sn (en lo que se refiere al % en peso). El óxido de cinc, dopado con Sn, en una fase cristalizada o sustancialmente cristalizada (en contraposición a amorfa o nanocristalina) tal como se deposita, tal como a través de técnicas de deposición por pulverización catódica desde al menos un objetivo(s) de pulverización catódica de o que incluye Zn y Sn. La fase cristalizada de la capa a base de óxido de cinc dopado tal como se deposita, combinada con la(s) capa(s) entre la plata y el vidrio, permite que el artículo recubierto obtenga estabilidad térmica mejorada tras HT opcional (disminución del valor de AE*). Se cree que la fase cristalizada de la capa a base de óxido de cinc dopado tal como se deposita (por ejemplo, cristalina en al menos el 50%, más preferiblemente cristalina en al menos el 60%), combinada con la(s) capa(s) entre la plata y el vidrio, permite que la plata depositada encima tenga una estructura cristalina mejorada con textura pero con algún grano orientado aleatoriamente de modo que su índice de refracción (n) cambie menos tras el HT opcional, permitiendo de ese modo que se obtenga una estabilidad térmica mejorada. En determinadas realizaciones de ejemplo, medido de manera monolítica, el artículo recubierto se configura para obtener uno o más de: (i) un valor de AE* transmisivo (donde se mide las características ópticas transmisivas) no mayor de 3,0 (más preferiblemente no mayor de 2,5, y lo más preferiblemente no mayor de 2,3) tras HT durante 8, 12 y/o 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio (donde se mide las características ópticas reflectantes de lado de vidrio) no mayor de 3,0 (más preferiblemente no mayor de 2,0, y lo más preferiblemente no mayor de 1,0) tras HT durante 8, 12 y/o 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y/o (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película (donde se mide las características ópticas reflectantes de lado de película) no mayor de 3,5 (más preferiblemente no mayor de 3,0, y lo más preferiblemente no mayor de 2,0) tras HT durante 8, 12 y/o 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C. En determinadas realizaciones de ejemplo, medido de manera monolítica, el artículo recubierto está configurado para tener una transmisión visible (T^viso Y), antes o después de cualquier HT opcional, de al menos aproximadamente el 50%, más preferiblemente de al menos aproximadamente el 60%, y lo más preferiblemente de al menos aproximadamente el 68% o el 70%. En determinadas realizaciones de ejemplo, medido de manera monolítica, el artículo recubierto está configurado para tener una reflexión visible de lado de vidrio (R^gY), medido de manera monolítica, antes o después de cualquier Ht opcional, no mayor del 16%, más preferiblemente no mayor del 15%, y lo más preferiblemente no mayor del 14%.

Tales artículos recubiertos pueden usarse de manera monolítica para ventanas, en unidades de ventana de vidrio aislante (IG) (por ejemplo, sobre la superficie n.° 2 o la superficie n.° 3 en aplicaciones de unidades de ventana de IG), unidades de ventana laminadas, parabrisas de vehículos y/u otras aplicaciones de ventanas de vehículos o arquitectónicas o residenciales.

Esta invención se describirá ahora con respecto a determinadas realizaciones de la misma tal como se ilustra en los dibujos siguientes, en los que:

En los dibujos

Las figuras 1(a), 1(b), 1(c) y 1(d) son vistas en sección transversal de artículos recubiertos según las realizaciones de ejemplo. Las figuras 1(a), 1(c) y 1(d) no son según la reivindicación 1 y la figura 1(b) es según la reivindicación 1. Los ejemplos 1-10 no son según la reivindicación 1 y los ejemplos 11-18 son según la reivindicación 1.

La figura 2 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 1 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 3 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 2 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 4 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo 1: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) y después de 24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 5 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo 2: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) y después de 24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 6 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 3 sobre un sustrato de vidrio de 3,1 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 7 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 4 sobre un sustrato de vidrio de 3,1 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 8 es una tabla que ilustra las características ópticas de los ejemplos 3-4: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 8 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 12 minutos de HT a 650 grados C (HTX) y después de 20 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 9 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 5 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 10 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo 5: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (^hT^x) y después de 24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 11 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 6 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 12 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo 6: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HT^x) y después de 24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 13 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 7 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 14 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo 7: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HT^x) y después de 24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 15 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 8 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 16 es un gráfico de la longitud de onda (nM) frente al índice de refracción (n) que ilustra el cambio en el índice de refracción de la capa de plata del ejemplo 8 desde el estado recubierto (AC) hasta el estado sometido a tratamiento térmico (HT).

La figura 17 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 9 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(a).

La figura 18 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo 9: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT) y después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) en la columna de datos más a la derecha. La figura 19 es una vista en sección transversal de un primer a artículo recubierto de ejemplo comparativo.

La figura 20 es una vista en sección transversal de un artículo recubierto según una realización de esta invención, que ilustra los recubrimientos de los ejemplos 1-10.

La figura 21 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 10 sobre un sustrato de vidrio de 3,1 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en las figuras 1(a) y 10.

La figura 22 es un gráfico de XRD Lin (Cps) frente a escala 2-Theta que ilustra, para el ejemplo 10, el cambio relativo pequeño del 66% en la altura de pico de Ag (111) debido al HT.

La figura 23 es un gráfico de XRD Lin (Cps) frente a escala 2-Theta que ilustra, para el primer ejemplo comparativo (CE), el cambio relativo grande del 166% en la altura de pico de Ag (111) debido al HT.

La figura 24 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 11 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(b).

La figura 25 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 12 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(b).

La figura 26 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 13 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(b).

La figura 27 es una tabla que ilustra las características ópticas de los ejemplos 11-13: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda de cada uno, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) y después de

24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha de cada uno.

La figura 28 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo 14 sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor, donde el recubrimiento de baja E se ilustra en general en la figura 1(b).

La figura 29 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo 14: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a

650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) y después de 24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 30 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica de los recubrimientos de baja E de los ejemplos 15 y 16 sobre sustratos de vidrio de 6 mm de grosor, donde los recubrimientos de baja E de estos ejemplos se ilustran en general en la figura 1(b) con la capa dieléctrica más inferior de ZrO2.

La figura 31 es una tabla que ilustra las características ópticas de los ejemplos 15 y 16: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT) y después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 32 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica de los recubrimientos de baja E de los ejemplos 17 y 18 sobre sustratos de vidrio de 6 mm de grosor, donde los recubrimientos de baja E de estos ejemplos se ilustran en general en la figura 1(b) con la capa dieléctrica más inferior de SiO2 dopada con aproximadamente el 8% de Al (% en peso)

La figura 33 es una tabla que ilustra las características ópticas de los ejemplos 17 y 18: tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT) y después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) en la columna de datos más a la derecha.

La figura 34 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo comparativo 2 (CE 2) sobre un sustrato de vidrio de

6 mm de grosor.

La figura 35 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo comparativo 2 (CE 2): tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX) y después de

24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha.

Descripción detallada de determinadas realizaciones a modo de ejemplo de la invención

Haciendo referencia ahora más particularmente a los dibujos adjuntos en los que los números de referencia indican partes/capas/materiales similares a lo largo de las diversas vistas.

Determinadas realizaciones de esta invención proporcionan un sistema de capas o recubrimiento que puede usarse en artículos recubiertos que pueden usarse de manera monolítica para ventanas, en unidades de ventana de vidrio aislante (IG) (por ejemplo, sobre la superficie n.° 2 o la superficie n.° 3 en aplicaciones de unidades de ventana de

IG), unidades de ventana laminadas, parabrisas de vehículos, y/u otras aplicaciones de ventanas de vehículos o arquitectónicas o residenciales. Determinadas realizaciones de esta invención proporcionan un sistema de capas que combina una o más de alta transmisión visible, buena durabilidad (mecánica y/o química) antes y/o después de

Ht , y buena estabilidad del color tras el tratamiento térmico. Se mostrará en el presente documento cómo determinados apilamientos de capas permite sorprendentemente esta combinación única.

Con respecto a la estabilidad del color, determinadas realizaciones de esta invención tienen excelente estabilidad del color (es decir, un valor de AE*; donde A es indicativo del cambio en vista de tratamiento térmico) con tratamiento térmico (por ejemplo, templado térmico o curvado térmico) de manera monolítica y/o en el contexto de entornos de doble panel tales como unidades de IG o parabrisas. Tales tratamientos térmicos (HT) a menudo necesitan calentar el sustrato recubierto hasta temperaturas de al menos aproximadamente 593°C (1100°F) y hasta 788°C (1450°F) [de manera más preferible desde aproximadamente 593°C hasta 649°C (desde 1100 hasta 1200 grados F), y lo más preferiblemente desde 621°C hasta 649°C (desde 1150 hasta 1200 grados F)] durante un periodo de tiempo suficiente para garantizar el resultado final (por ejemplo, templado, curvado y/o endurecimiento térmico).

Determinadas realizaciones de esta invención combinan uno o más de (i) estabilidad del color con tratamiento térmico, y (ii) el uso de una capa que incluye plata para la reflexión selectiva de IR.

Las realizaciones de ejemplo de esta invención se refieren a artículos recubiertos de baja E que tienen aproximadamente las mismas características de color que se observan a simple vista tanto antes como después del tratamiento térmico (por ejemplo, templado térmico), y a métodos correspondientes. Tales artículos pueden combinar en determinadas realizaciones de ejemplo uno o más de: (1) características de alta transmisión visible cuando se desee, (2) buena durabilidad antes y/o después del tratamiento térmico, y/o (3) un bajo valor de AE* que es indicativo de estabilidad del color tras el tratamiento térmico (HT).

De manera sorprendente e inesperada, se ha encontrado que proporcionar una capa 3 (y/o 13) cristalina o sustancialmente cristalina tal como se deposita (por ejemplo, cristalina en al menos el 50%, más preferiblemente cristalina en al menos el 60%) de o que incluye óxido de cinc, dopado con al menos un dopante (por ejemplo, Sn), inmediatamente por debajo de y directamente en contacto con una capa 7 (y/o 19) reflectante de infrarrojo (IR) de o que incluye plata en un recubrimiento 30 de baja E tiene el efecto de mejorar significativamente la estabilidad térmica del recubrimiento (es decir, disminución del valor de AE*). “Sustancialmente cristalina” tal como se usa en el presente documento significa cristalina en al menos el 50%, más preferiblemente cristalina en al menos el 60%, y lo más preferiblemente cristalina en al menos el 70%. Una o más de tales capas 3, 13 cristalinas, o sustancialmente cristalina, pueden proporcionarse por debajo de una o más capas 7, 19 reflectantes de IR correspondientes que comprenden plata, en diversas realizaciones de ejemplo de esta invención. Por tanto, la capa 3 y/o 13 cristalina o sustancialmente cristalina de o que incluye óxido de cinc, dopado con al menos un dopante (por ejemplo, Sn), inmediatamente por debajo de una capa 7 y/o 19 reflectante de infrarrojo (IR) de o que incluye plata puede usarse en recubrimientos de plata de baja E individuales, recubrimientos de plata de baja E dobles (por ejemplo, tal como se muestra en la figura 1 o la figura 20), o recubrimientos de plata de baja E triples en diversas realizaciones de esta invención. En determinadas realizaciones de ejemplo, la capa 3 y/o 13 cristalina o sustancialmente cristalina de o que incluye óxido de cinc está dopada con desde aproximadamente el 1-30% de Sn, de manera más preferible desde aproximadamente el 1-20% de Sn, de manera más preferible desde aproximadamente el 5-15% de Sn, siendo un ejemplo aproximadamente el 10% de Sn (en lo que se refiere al % en peso). El óxido de cinc, dopado con Sn, en una fase cristalizada o sustancialmente cristalizada (en contraposición a amorfa o nanocristalina) en la capa 3 y/o 13 tal como se deposita, tal como a través de técnicas de deposición por pulverización catódica desde al menos un objetivo(s) de pulverización catódica de o que incluye Zn y Sn. La fase cristalizada de la capa 3 y/o 13 a base de óxido de cinc dopado tal como se deposita, combinada con la(s) capa(s) entre la plata 7 y/o 19 y el vidrio 1, permite que el artículo recubierto obtenga estabilidad térmica mejorada tras HT opcional (disminución del valor de AE*). Se cree que la fase cristalizada de la capa 3 y/o 13 a base de óxido de cinc dopado tal como se deposita, combinada con la(s) capa(s) entre la plata y el vidrio, permite que la plata 7 y/o 19 depositada encima tenga una estructura cristalina mejorada con textura pero con algún grano orientado aleatoriamente de modo que su índice de refracción (n) cambie menos tras el HT opcional, permitiendo de ese modo que se obtenga una estabilidad térmica mejorada.

En determinadas realizaciones de ejemplo, también se ha encontrado de manera sorprendente e inesperada que proporcionar una capa 2 dieléctrica de o que incluye óxido de circonio y silicio y/u oxinitruro de circonio y silicio (por ejemplo, SiZrOx, ZrO²y/o SiZrO^xN^y) por debajo de y directamente en contacto con la capa 3 a base de óxido de cinc dopado, tal como se muestra en las figuras 1(b)-1(d) por ejemplo, proporciona estabilidad térmica mejorada adicional del artículo recubierto, y por tanto valores de AE* incluso más bajos tras el tratamiento térmico (HT) tal como templado térmico. La capa 2 dieléctrica de o que incluye óxido de circonio y silicio y/u oxinitruro de circonio y silicio (por ejemplo, SiZrO^xy/o SiZrO^xN^y) puede proporcionarse directamente por debajo de y en contacto con la capa 3 a base de óxido de cinc dopado más inferior en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invención.

También se ha encontrado de manera sorprendente e inesperada que no proporcionar una capa a base de nitruro de silicio (por ejemplo, Si³N⁴, opcionalmente dopado con el 1-10% Al o similar) directamente por debajo de y en contacto con la capa 3 a base de óxido de cinc dopado más inferior entre el sustrato 1 de vidrio y la capa 7 a base de plata más inferior, en combinación con la fase cristalizada o sustancialmente cristalizada de la capa 3 a base de óxido de cinc dopado tal como se deposita, permite que se obtenga una estabilidad térmica mejorada tras el tratamiento térmico (valores de AE* inferiores). Por ejemplo, véanse los recubrimientos de las figuras 1(a)-1(d). Además, en determinadas realizaciones de ejemplo, no hay una capa amorfa o sustancialmente amorfa ubicada entre el sustrato 1 de vidrio y la primera capa 7 reflectante de IR que comprende plata.

En determinadas realizaciones de ejemplo, también se ha encontrado de manera sorprendente e inesperada que proporcionar una capa 42 de elemento de absorción (por ejemplo, NiCr, NiCrNx, NbZr y/o NbZrNx) entre el sustrato de vidrio y la capa 2 dieléctrica de o que incluye óxido de circonio y silicio y/u oxinitruro de circonio y silicio (por ejemplo, SiZrO^xy/o SiZrO^xN^y) reduce ventajosamente la reflexión visible de lado de vidrio (R^gY) del artículo recubierto de manera deseable y permite que la transmisión visible se ajuste de manera deseable. La capa 42 de elemento de absorción puede proporcionarse entre y en contacto con un par de capas 41 y 43 a base de nitruro de silicio (por ejemplo, de o que incluyen Si³N⁴, opcionalmente dopado con el 1-10% de Al o similar, y que incluye opcionalmente desde el 0-10% de oxígeno) en determinadas realizaciones de ejemplo, tal como se muestra en la figura 1 (d) por ejemplo.

En determinadas realizaciones de ejemplo, medido de manera monolítica, en vista de la estructura anterior (por ejemplo, véanse las figuras 1(a)-1(d)), el artículo recubierto se configura para obtener uno o más de: (i) un valor de AE* transmisivo (donde se mide las características ópticas transmisivas) no mayor de 3,0 (más preferiblemente no mayor de 2,5, y lo más preferiblemente no mayor de 2,3) tras HT durante 8, 12 y/o 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio (donde se mide las características ópticas reflectantes de lado de vidrio) no mayor de 3,0 (más preferiblemente no mayor de 2,0, y lo más preferiblemente no mayor de 1,0) tras HT durante 8, 12 y/o 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y/o (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película (donde se mide las características ópticas reflectantes de lado de película) no mayor de 3,5 (más preferiblemente no mayor de 3,0, y lo más preferiblemente no mayor de 2,0) tras HT durante 8, 12 y/o 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En determinadas realizaciones de ejemplo, medido de manera monolítica, el artículo recubierto está configurado para tener una transmisión visible (Tvis o Y), antes o después de cualquier HT opcional, de al menos aproximadamente el 50%, más preferiblemente de al menos aproximadamente el 60%, y lo más preferiblemente de al menos aproximadamente el 68% o el 70%. En determinadas realizaciones de ejemplo, el recubrimiento de baja E tiene una resistencia laminar (SR o Rs) no mayor de 20 ohms/cuadrado, más preferiblemente no mayor de 10 ohms/cuadrado, y lo más preferiblemente no mayor de 2,2 ohms/cuadrado, antes y/o después del tratamiento térmico opcional. En determinadas realizaciones de ejemplo, el recubrimiento de baja E tiene una emisividad/emitancia hemisférica (Eh) no mayor de 0,08, más preferiblemente no mayor de 0,05, y lo más preferiblemente no mayor de 0,04.

El valor AE* es importante para determinar si tras el tratamiento térmico (HT) hay o no adaptabilidad, o adaptabilidad sustancial, en el contexto de esta invención. El color en el presente documento se describe haciendo referencia a los valores de a*, b* convencionales, que en determinadas realizaciones de esta invención son ambos negativos con el fin de proporcionar color en la gama de color sustancialmente neutra deseada que tiende al cuadrante de azul-verde. Para fines de ejemplo, el término Aa* es simplemente indicativo de cuánto valor de color de a* cambia debido al tratamiento térmico.

El término AE* (y AE) se entenderá bien en la técnica y se notifica, junto con diversas técnicas para determinarlo, en la norma ASTM 2244-93 así como también se notifica en Hunter et. al., The Measurement of Appearance, 2a Ed. cap. 9, página 162 y siguientes [John Wiley & Sons, 1987]. Tal como se usa en la técnica, AE* (y AE) es un modo de expresar adecuadamente el cambio (o la falta del mismo) en la reflectancia y/o la transmitancia (y por tanto también en la aparición de color) en un artículo después de o debido al tratamiento térmico. AE puede calcularse mediante la técnica “ab”, o mediante la técnica de Hunter (designada empleando un subíndice “H”). AE corresponde a la escala e Hunter Lab L, a, b (o Lh, ah, bh). De manera similar, AE* corresponde a la escala de CIE LAB L*, a*, b*. Ambas se consideran útiles y equivalentes para los fines de esta invención. Por ejemplo, tal como se notifica en Hunter et. al. al que se ha hecho referencia anteriormente, puede usarse la técnica de escala/coordenada rectangular (CIE LAB 1976) conocida como la escala L*, a*, b*, en la que:

L* es (CIE 1976) unidades de luminosidad;

a* es (CIE 1976) unidades de rojo-verde;

b* es (CIE 1976) unidades de amarillo-azul;

y la distancia AE* entre L*o a*o b*o y L*1 a*1 b*1 es:

AE* = [(AL*)2 (Aa*)2 (Ab*)2²]^-11/2 _{( 1)}

donde:

AL* = L * i-L *0 (2)

Aa* = a*i- a*0 (3)

Ab*= b*i - b*0 (4)

donde el subíndice “o” representa el artículo recubierto antes del tratamiento térmico y el subíndice “1” representa el artículo recubierto después del tratamiento térmico; y los números empleados (por ejemplo, a*, b*, L*) son los calculados mediante la técnica de coordenadas L*, a*, b* (CIE LAB 1976) mencionada anteriormente. De manera similar, AE puede calcularse usando la ecuación (1) reemplazando a*, b*, L* por los valores de Hunter Lab ah, bh, Lh. También están dentro del alcance de esta invención y la cuantificación de AE* los números equivalentes si se convierten en los calculados mediante cualquier otra técnica que emplee el mismo concepto de AE* tal como se definió anteriormente.

En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invención, el recubrimiento 30 de baja E incluye un apilamiento de plata doble (por ejemplo, véanse las figuras 1(a)-1(d)), aunque esta invención no está tan limitada en todos los casos (por ejemplo, pueden usarse tres capas a base de plata en determinados casos, o alternativamente puede usarse un solo apilamiento de plata). Se reconocerá que los artículos recubiertos de las figuras 1(a)-1(d) se ilustran en forma monolítica. Sin embargo, estos artículos recubiertos también pueden usarse en unidades de ventana de IG por ejemplo.

Debido a la estabilidad de los materiales, la cocción a alta temperatura (por ejemplo, 580-650 grados C) provoca cambios en las composiciones química, la cristalinidad y las microestructuras o incluso en las fases de los materiales de la capa dieléctrica. La alta temperatura también provoca la difusión de interfase o incluso una reacción, como consecuencia de cambios en la composición, la rugosidad y el índica en ubicaciones de interfase. Como resultado, las propiedades ópticas como el índice n/k y el grosor óptico cambian tras el tratamiento térmico. Los materiales de IR, por ejemplo la Ag, también experimentan cambios. Normalmente, los materiales de Ag pasan por cristalización, crecimiento de grano o incluso cambios de orientación tras el tratamiento térmico. Estos cambios a menudo provocan cambios en la conductividad y, en particular, en el índice n/k, que tienen un gran impacto en las propiedades ópticas y térmicas de un recubrimiento de baja E. Además, el material dieléctrico y el cambio de materiales dieléctricos también tienen un impacto significativo en las capas reflectantes de IR, tales como la plata que se somete a tratamiento térmico. Además, la plata puede tener más cambios en un apilamiento de capas que en otros simplemente debido a los materiales y a los apilamientos de capas en sí. Si los cambios de la plata superan algún límite, entonces puede que no sean aceptables estéticamente después del tratamiento térmico. Se ha descubierto que para obtener la estabilidad térmica de un recubrimiento de baja E, pueden usarse materiales cristalizados de óxido de cinc dopado sobre vidrio, o bien directa o bien indirectamente, con una capa o capas de modificación delgada(s) por debajo de la plata. Se ha encontrado que el óxido de cinc dopado cristalino o sustancialmente cristalino en estas ubicaciones cambia menos durante el tratamiento térmico y da como resultado cambios de plata más pequeños con respecto a propiedades tales como índices (por ejemplo, n y/o k) y, por tanto, menos cambio de color general tras el tratamiento térmico.

La figura 1(a) es una vista en sección transversal lateral de un artículo recubierto según una realización no limitativa de ejemplo de esta invención, donde el recubrimiento 30 de baja E tiene dos capas 7 y 19 reflectantes de IR a base de plata. El artículo recubierto incluye el sustrato 1 (por ejemplo, sustrato de vidrio transparente, verde, bronce o azul verdoso de desde aproximadamente 1,0 hasta 10,0 mm de grosor, de manera más preferible desde aproximadamente 3,0 mm hasta 8,0 mm de grosor), y recubrimiento (o sistema de capas) 30 de baja E proporcionado sobre el sustrato 1 o bien directa o bien indirectamente. El recubrimiento (o sistema de capas) 30 incluye, en la figura 1(a) por ejemplo: una capa 3 dieléctrica de o que incluye óxido de cinc, dopado con al menos un dopante metálico (por ejemplo, Sn y/o Al), que es cristalina o sustancialmente cristalina tal como se deposita; una capa 7 reflectante de infrarrojo (IR) de o que incluye plata ubicada por encima de y directamente en contacto con la capa 3; una capa 9 de contacto de o que incluye Ni y/o Cr (por ejemplo, NiCr, NiCrOx, NiCrNx, NiCrON, NiCrM, NiCrMoOx, etc.), Ti, u otro material adecuado, por encima de y directamente en contacto con la capa 7 reflectante de IR; una capa 11 dieléctrica de o que incluye estannato de cinc (por ejemplo, ZnSnO, Zn²SnO⁴, u otra estequiometría adecuada) u otro material adecuado, que puede ser amorfa o sustancialmente amorfa tal como se deposita; otra capa 13 dieléctrica de o que incluye óxido de cinc, dopado con al menos un dopante (por ejemplo, Sn), que es cristalina o sustancialmente cristalina tal como se deposita; otra capa 19 reflectante de infrarrojo (IR) de o que incluye plata ubicada por encima de y directamente en contacto con la capa 13; otra capa 21 de contacto de o que incluye Ni y/o Cr (por ejemplo, NiCr, NiCrOx, NiCrNx, NiCrON, NiCrM, NiCrMoOx, etc.), Ti, u otro material adecuado, por encima de y directamente en contacto con la capa 19 reflectante de IR; otra capa 23 dieléctrica de o que incluye estannato de cinc (por ejemplo, ZnSnO, Zn²SnO⁴, u otra estequiometría adecuada) u otro material adecuado tal como óxido de estaño, que puede ser amorfa o sustancialmente amorfa tal como se deposita; y una capa 25 dieléctrica amorfa o sustancialmente amorfa de o que incluye nitruro de silicio (por ejemplo, Si³N⁴, u otra estequiometría adecuada) que puede estar dopada opcionalmente con Al y/o O. Las capas mostradas en la figura 1(a) pueden depositarse mediante deposición por pulverización catódica o de cualquier otra manera adecuada.

Tal como se explica en el presente documento, se ha encontrado que la presencia de la capa 3 y/o 13 cristalina o sustancialmente cristalina tal como se deposita, de o que incluye óxido de cinc, dopado con al menos un dopante (por ejemplo, Sn), inmediatamente por debajo de y directamente en contacto con una capa 7 y/o 19 reflectante de infrarrojo (IR) de o que incluye plata en un recubrimiento 30 de baja E tiene el efecto de mejorar significativamente la estabilidad térmica del recubrimiento (es decir, disminución del valor de AE*). En determinadas realizaciones de ejemplo, la capa 3 y/o 13 cristalina o sustancialmente cristalina de o que incluye óxido de cinc está dopada con desde aproximadamente el 1-30% de Sn, de manera más preferible desde aproximadamente el 1-20% de Sn, de manera más preferible desde aproximadamente el 5-15% de Sn, siendo un ejemplo aproximadamente el 10% de Sn (en lo que se refiere al % en peso).

En determinadas realizaciones de ejemplo, las capas 11 y 23 dieléctricas a base de estannato de cinc (por ejemplo, ZnSnO, Zn²SnO⁴, o similares) pueden depositarse en un estado amorfo o sustancialmente amorfo (puede(n) volverse cristalina(s) o sustancialmente cristalina(s) tras el tratamiento térmico). Se ha encontrado que tener cantidades similares de Zn y Sn en la capa, o más Sn que Zn en la capa, ayuda a garantizar que la capa se deposita en un estado amorfo o sustancialmente amorfo. Por ejemplo, el contenido en metal de las capas 11 y 23 a base de estannato de cinc amorfas puede incluir desde aproximadamente el 30-70% de Zn y desde aproximadamente el 30-70% de Sn, de manera más preferible desde aproximadamente el 40-60% de Zn y desde aproximadamente el 40-60% de Sn, siendo ejemplos aproximadamente el 52% de Zn y aproximadamente el 48% de Sn, o aproximadamente el 50% de Zn y el 50% de Sn (% en peso, además del oxígeno en la capa) en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invención. Por tanto, por ejemplo, las capas 11 y/o 23 a base de estannato de cinc amorfas o sustancialmente amorfas pueden depositarse por pulverización catódica usando un objetivo de metal que comprende aproximadamente 52% de Zn y aproximadamente 48% de Sn, o aproximadamente el 50% de Zn y aproximadamente el 50% de Sn, en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invención. Opcionalmente, las capas 11 y 23 a base de estannato de cinc pueden estar dopadas con otros metales tales como Al o similar. Se ha encontrado que depositar las capas 11 y 23 en un estado amorfo, o sustancialmente amorfo, mientras se depositan las capas 3 y 13 en un estado cristalino, o sustancialmente cristalino, permite ventajosamente que se obtenga una estabilidad térmica mejorada en combinación con buenas características ópticas, tales como transmisión, color y reflexión aceptables. Se observa que las capas 11 y/o 23 de estannato de cinc pueden reemplazarse por capa(s) respectiva(s) de otro(s) material(es) tal como el óxido de estaño, o similar.

La capa 25 dieléctrica, que puede ser un sobrerrecubrimiento, puede ser de o incluir nitruro de silicio (por ejemplo, Si3N4, u otra estequiometría adecuada) en determinadas realizaciones de esta invención, con el fin de mejorar la capacidad de tratamiento térmico y/o la durabilidad del artículo recubierto. El nitruro de silicio puede doparse opcionalmente con Al y/o O en determinadas realizaciones de ejemplo, y también puede reemplazarse por otro material tal como óxido de silicio u óxido de circonio en determinadas realizaciones de ejemplo.

Las capa(s) 7 y 19 reflectante(s) de infrarrojo (IR) son de manera preferible sustancial o completamente metálicas y/o conductoras, y pueden comprender o consistir esencialmente en plata (Ag), oro, o cualquier otro material reflectante de IR adecuado. Las capas 7 y 19 reflectantes de IR ayudan a permitir que el recubrimiento tenga baja E y/o buenas características de control solar. Sin embargo, las capas reflectantes de IR pueden, estar ligeramente oxidadas en determinadas realizaciones de esta invención.

También puede(n) proporcionarse otra(s) capa(s) por debajo o por encima del recubrimiento ilustrado en la figura 1. Por tanto, aunque el sistema de capas o recubrimiento está “sobre” o “soportado por” el sustrato 1 (directa o indirectamente), puede(n) proporcionarse otra(s) capa(s) entre los mismos. Por tanto, por ejemplo, puede considerarse que el recubrimiento de la figura 1(a) está “sobre” y “soportado por” el sustrato 1 aunque se proporcione(n) otra(s) capa(s) entre la capa 3 y el sustrato 1. Además, determinadas capas del recubrimiento ilustrado pueden eliminarse en determinadas realizaciones, mientras que puede(n) añadirse otra(s) capa(s) entre las diversas capas o la(s) diversa(s) capa(s) puede(n) dividirse con otra(s) capa(s) añadida(s) entre las secciones divididas en otras realizaciones de esta invención sin alejarse del espíritu global de determinadas realizaciones de esta invención.

Aunque pueden usarse diversos grosores y materiales en las capas en diferentes realizaciones de esta invención, grosores y materiales de ejemplo para las respectivas capas sobre el sustrato 1 de vidrio en la realización de la figura 1(a) son los siguientes, desde el sustrato de vidrio hacia fuera:

Tabla 1. Materiales/grosores de ejemplo: realización de la figura 1(a)

Capa Intervalo preferido (Á) Más preferido (Á) Ejemplo

Vidrio

ZnO dopado con Sn (capa 3) 20-900 (o 100-900) Á 350-550 Á 470 A

Ag (capa 7) 60-260 Á 110-170 Á 151 A

NiCrOx (capa 9) 10-100 Á 20-45 Á 41 A

ZnSnO (capa 11) 200-1200 A 500-900 A 736 A

ZnO dopado con Sn (capa 13) 60-900 Á 120-400 Á 177 A

Ag (capa 19) 80-280 Á 150-250 Á 232 A

NiCrO^x(capa 21) 10-100 Á 20-45 Á 41 A

ZnSnO (capa 23) 10-750 A 70-200 A 108 A

Si³N⁴(capa 25) 10-750 Á 100-240 Á 191 A

La realización de la figura 1(b) es igual que la realización de la figura 1(a) comentada anteriormente y en otra parte en el presente documento, excepto en que el recubrimiento 30 de baja E en la realización de la figura 1(b) también incluye una capa 2 dieléctrica sustancialmente transparente de o que incluye óxido de circonio y silicio, óxido de circonio, óxido de silicio y/u oxinitruro de circonio y silicio (por ejemplo, SiZrO^x, ZrO², SiO², SiAlO²y/o SiZrO^xN^y) por debajo de y directamente en contacto con la capa 3 a base de óxido de cinc dopado. Se ha encontrado que esta capa 2 adicional proporciona estabilidad térmica mejorada adicional del artículo recubierto, y por tanto un valor de AE* incluso inferior (por ejemplo, un valor de AE* reflectante de lado de vidrio inferior) tras el tratamiento térmico (HT) tal como templado térmico. La capa 2 dieléctrica de o que incluye óxido de circonio y silicio, óxido de circonio, óxido de silicio y/u oxinitruro de circonio y silicio (por ejemplo, SiZrO^x, ZrO², SiO², SiAlO²y/o SiZrO^xN^y) puede proporcionarse directamente por debajo de y en contacto con la capa 3 a base de óxido de cinc dopado más inferior en determinadas realizaciones de ejemplo de esta invención, tal como se muestra en la figura 1(b). En determinadas realizaciones de ejemplo de esta invención, la capa 2 dieléctrica de o que incluye óxido de circonio y silicio, óxido de circonio, óxido de silicio y/u oxinitruro de circonio y silicio (por ejemplo, SiZrO^x, ZrO², SiO², SiAlO²y/o SiZrO^xN^y) puede tener un grosor de desde aproximadamente 20-600 A, de manera más preferible un grosor de desde aproximadamente 40-400 A, y lo más preferible un grosor de desde aproximadamente 50-300 A. Los grosores anteriores para la realización de la figura 1(a) también pueden aplicarse a las figuras 1(b)-1(d).

Cuando la capa 2 es de o incluye SiZrO^xy/o SiZrO^xN^y, se ha encontrado que proporcionar más Si que Zr en esa capa resulta ventajoso desde un punto de vista óptico con un índice de refracción (n) bajo y antirreflexión y otras características ópticas mejoradas. Por ejemplo, en determinadas realizaciones de ejemplo, cuando la capa 2 es de o incluye SiZrO^xy/o SiZrO^xN^y, el contenido en metal de la capa puede comprender desde el 51-99% de Si, más preferiblemente desde el 70-97% de Si, y lo más preferiblemente desde el 80-90% de Si, y desde el 1-49% de Zr, más preferiblemente desde el 3-30% de Zr, y lo más preferiblemente desde el 10-20% Zr (% atómico). En las realizaciones de ejemplo, la capa 2 dieléctrica transparente de o que incluye SiZrO^xy/o SiZrO^xN^ypuede tener un índice de refracción (n), medido a 550 nm, de desde aproximadamente 1,48 hasta 1,68, de manera más preferible desde aproximadamente 1,50 hasta 1,65, y lo más preferible desde aproximadamente 1,50 hasta 1,62.

La realización de la figura 1(c) es igual que la realización de la figura 1(b) comentada anteriormente y en otra parte en el presente documento, excepto en que el recubrimiento 30 de baja E en la realización de la figura 1(c) también incluye una capa 2' dieléctrica sustancialmente transparente de o que incluye nitruro de silicio (por ejemplo, Si³N⁴, opcionalmente dopado con el 1-10% de Al o similar, y que incluye opcionalmente desde el 0-10% de oxígeno, u otra estequiometría adecuada) y/u oxinitruro de circonio y silicio, ubicada entre y en contacto con el sustrato 1 de vidrio y la capa 2 dieléctrica.

La realización de la figura 1(d) es igual que la realización de la figura 1(b) comentada anteriormente y en otra parte en el presente documento, excepto en que el recubrimiento 30 de baja E en la realización de la figura 1(d) también incluye una capa 42 de elemento de absorción metálica o sustancialmente metálica intercalada entre y en contacto con las capas 41 y 43 a base de nitruro de silicio (por ejemplo, Si³N⁴, opcionalmente dopado con el 1-10% de Al o similar, y que incluye opcionalmente desde el 0-10% de oxígeno). La capa 42 de elemento de absorción puede ser de o incluir NiCr, NbZr, Nb, Zr, o nitruros de los mismos, en las realizaciones de ejemplo de esta invención. La capa 42 de elemento de absorción contiene preferiblemente desde el 0-10% de oxígeno (% atómico), más preferiblemente desde el 0-5% de oxígeno. En determinadas realizaciones de ejemplo, se ha encontrado de manera sorprendente e inesperada que proporcionar una capa 42 de elemento de absorción (por ejemplo, NiCr, NiCrN^x, NbZr y/o NbZrN^x) entre el sustrato de vidrio y la capa 2 dieléctrica de o que incluye óxido de circonio y silicio, óxido de circonio, óxido de silicio y/u oxinitruro de circonio y silicio (por ejemplo, SiZrO^x, ZrO², SiO², SiAlO²y/o SiZrO^xN^y) reduce ventajosamente la reflexión visible de lado de vidrio (R^gY) del artículo recubierto de manera deseable, y permite que la transmisión visible se ajuste de manera deseable. En determinadas realizaciones de ejemplo, la capa 42 de elemento de absorción puede tener un grosor de desde aproximadamente 10-150 A, de manera más preferible un grosor de desde aproximadamente 30-80 A. En determinadas realizaciones de ejemplo, las capas 41 y 43 a base de nitruro de silicio pueden tener un grosor de desde aproximadamente 50-300 A, de manera más preferible un grosor de desde aproximadamente 70-140 A.

En referencia a las figuras 1(a)-1(d), puede proporcionarse otra capa dieléctrica transparente (no mostrada) de o que incluye ZrO², SiZrO^xy/o SiZrO^xN^yentre las capas 11 y 13. En determinadas realizaciones de ejemplo, puede la capa 11 que incluye estannato de cinc, o puede reemplazarse por otra capa dieléctrica transparente de o que incluye ZrO², SiZrO^xy/o SiZrO^xN^y. También es posible que la capa 13 de óxido de cinc dopado se divida con otra capa dieléctrica transparente de este tipo de o que incluya ZrO², SiZrO^xy/o SiZrO^xN^y. Por ejemplo, en determinadas realizaciones de ejemplo, cuando una capa adicional de este tipo es de o incluye SiZrO^xy/o SiZrO^xN^y, el contenido en metal de la capa puede comprender desde el 51-99% de Si, más preferiblemente desde el 70-97% de Si, y lo más preferiblemente desde el 80-90% de Si, y desde el 1-49% de Zr, más preferiblemente desde el 3-30% de Zr, y lo más preferiblemente desde el 10-20% de Zr (% atómico), y puede contener desde el 0-20% de nitrógeno, más preferiblemente desde el 0-10% de nitrógeno, y lo más preferiblemente desde el 0-5% de nitrógeno (% atómico).

Tal como se explicó anteriormente y se muestra en las figuras, el artículo recubierto puede incluir una capa o capas 2 dieléctrica(s) tal como se muestra en las figuras 1(b)-(d), ubicada por debajo de y directamente en contacto con la primera capa 3 cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn. La(s) capa(s) 2 dieléctrica(s) puede(n) comprender uno o más de ZrO², SiO²que puede estar dopado opcionalmente con desde el 1-10% de Al, y/o un óxido de silicio y circonio. La capa 2 dieléctrica puede estar en contacto directo con el sustrato 1 de vidrio. La(s) capa(s) 2 dieléctrica(s) puede(n) tener un grosor físico de desde aproximadamente 40-400 A, de manera más preferible desde aproximadamente 50-300 A, y lo más preferible desde aproximadamente 50-200 A. La(s) capa(s) 2 dieléctrica(s) es/son preferiblemente una capa dieléctrica a base de óxido, y contiene preferiblemente poco o nada de nitrógeno. Por ejemplo, la(s) capa(s) 2 dieléctrica(s) (tanto la capa 2 ilustrada como la posible capa adicional comentada anteriormente) puede(n) comprender desde el 0-20% de nitrógeno, más preferiblemente desde el 0-10% de nitrógeno, y lo más preferiblemente desde el 0-5% de nitrógeno (% atómico).

En determinadas realizaciones de esta invención, los sistemas de capas en el presente documento (por ejemplo, véanse las figuras 1(a)-(d)) proporcionados sobre sustratos de vidrio monolítico transparente (por ejemplo, sustratos de vidrio de 6 mm de grosor para fines de referencia de ejemplo) tienen el color siguiente antes del tratamiento térmico, tal como se observa desde el lado de vidrio del artículo recubierto (% de RG) (Ill. C, observador de 2 grados):

Tabla 2: Reflexión/color (R^g) antes y/o después del tratamiento térmico

General Preferido

RgY (%) 7-18% 8-14%

ag* De -5,0 a 4,0 De -3,0 a 2,0

bg* De -16,0 a 0,0 De -14,0 a -5,0

EJEMPLO COMPARATIVOS 1 Y 2

La figura 19 es una vista en sección transversal de un artículo recubierto del primer ejemplo comparativo (CE), y la figura 23 es un gráfico de XRD Lin (Cps) frente a escala 2-Theta que ilustra, para el primer ejemplo comparativo (CE), el cambio relativo grande del 166% en la altura de pico de Ag (111) debido al tratamiento térmico.

La diferencia entre el recubrimiento del primer ejemplo comparativo (véase la figura 19), y los ejemplos 1-18 a continuación, es que el apilamiento dieléctrico más inferior del recubrimiento en el primer ejemplo comparativo está compuesto por una capa de Zn2SnO4, y una capa a base de óxido de cinc que está dopado con aluminio. El contenido en metal de la capa de estannato de cinc (Zn2SnO4 es una forma de estannato de cinc) es de aproximadamente el 50% de Zn y aproximadamente el 50% de Sn (% en peso); y por tanto la capa de estannato de cinc se deposita por pulverización catódica en forma amorfa. El grosor global del apilamiento dieléctrico más inferior en el primer CE fue de aproximadamente 400-500 angstroms, constituyendo la capa de estannato de cinc la mayoría de ese grosor. La figura 23 ilustra, para el primer ejemplo comparativo (CE), el cambio relativo grande del 166% en la altura de pico de Ag (111) debido al tratamiento térmico a aproximadamente 650 grados C que es indicativo de un cambio significativo en la estructura de las capas de plata durante el tratamiento térmico, y que concuerda con los valores de AE* por encima de 4,0 obtenidos por el ejemplo comparativo. Por tanto, el primer CE no fue deseable debido a los cambios significativos en el pico de Ag (111), y la altura de los valores de AE* por encima de 4,0, debido al tratamiento térmico.

Un segundo ejemplo comparativo (CE 2) se muestra en las figuras 34-35. La figura 34 es una tabla que ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica para la deposición por pulverización catódica del recubrimiento de baja E del ejemplo comparativo 2 (CE 2) sobre un sustrato de vidrio de 6 mm de grosor. El apilamiento de capas del CE 2 es igual que el mostrado en la figura 1(b) de la presente solicitud, excepto en que la capa dieléctrica más inferior en el CE 2 está compuesta por nitruro de silicio (dopado con aproximadamente el 8% de aluminio) en lugar del SiZrOx mostrado en la figura 1(b). Por tanto, el apilamiento dieléctrico inferior en el CE 2 está compuesto sólo por esta capa a base de nitruro de silicio y una capa 3 de óxido de cinc dopado con aproximadamente el 10% de Sn. Los grosores de las capas del recubrimiento del CE 2 se encuentran en la columna más a la derecha de la figura 34. Por ejemplo, la capa inferior a base de nitruro de silicio dopado con Al (sometida a pulverización catódica desde un objetivo de SiAl en una atmósfera de gas Ar y N²), tiene un grosor de 10,5 nm en el CE 2, la capa 3 de óxido de cinc dopado con aproximadamente el 10% de Sn directamente por debajo de la plata inferior tiene un grosor de 32,6 nm en el CE 2, etc.

Puede observarse en la figura 35 que el CE 2 adolece de valores de AE* reflectante de lado de vidrio relativamente altos AE* Rg) y valores de AE* reflectante de lado de película (AE* Rf) por encima de 4,0, debido al tratamiento térmico de 12, 16 y 24 minutos. Por ejemplo, la figura 35 muestra que el CE tiene un valor de AE* reflectante de lado de vidrio (AE* Rg) relativamente alto de 4,9 y un valor de AE* reflectante de lado de película (AE Rf) relativamente alto de 5,5 debido al tratamiento térmico durante 12 minutos. La figura 35 es una tabla que ilustra las características ópticas del ejemplo comparativo 2 (CE 2): tal como se recubre (recocido) antes del tratamiento térmico en la columna de datos más a la izquierda, después de 12 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HT), después de 16 minutos de HT a 650 grados C (HTX), y después de 24 minutos de tratamiento térmico a 650 grados C (HTXXX) en la columna de datos más a la derecha. Los valores de AE* relativamente altos del CE 2 no son deseables.

Por consiguiente, el ejemplo comparativo 2 (CE 2) en las figuras 34-35 demuestra que se obtienen valores de AE* altos de manera no deseable, incluso cuando se proporciona una capa 3 de óxido de cinc cristalina o sustancialmente cristalina dopada con aproximadamente el 10% de Sn directamente por debajo de la capa 7 de plata inferior, cuando la única capa entre esta capa 3 y el sustrato 1 de vidrio es una capa a base de nitruro de silicio. La diferencia entre el recubrimiento del CE 2, y los ejemplos 1-18 a continuación, es que los ejemplos 1-18 a continuación pudieron obtener de manera sorprendente e inesperada valores de AE* muy mejorados (inferiores) usando la capa 3 de óxido de cinc cristalina o sustancialmente cristalina dopada con aproximadamente el 10% de Sn, pero sin tener una capa a base de nitruro de silicio ubicada directamente por debajo y en contacto con la capa 3 de óxido de cinc cristalina o sustancialmente cristalina dopada con aproximadamente el 10% de Sn.

EJEMPLOS 1-18

Los ejemplos 1-10 no son según la reivindicación 1 y los ejemplos 11-18 son según la reivindicación 1.

De manera sorprendente e inesperada, se encontró que cuando el apilamiento 5, 6 dieléctrico más bajo del ejemplo comparativo (CE) (compuesto principalmente por la capa de estannato de cinc que es amorfa tal como se deposita) en la figura 19 se reemplazó por una capa 3 de óxido de cinc dopado con Sn cristalina o sustancialmente cristalina de grosor similar (el resto del apilamiento permaneció sustancialmente igual) en contacto con la capa a base de plata, con ninguna capa a base de nitruro de silicio directamente por debajo de y en contacto con la capa 3 cristalina o sustancialmente cristalina, el resultado fue un producto mucho más estable térmicamente con valores de AE* significativamente inferiores y un cambio mucho más pequeño en la altura de pico de Ag (111) debido al tratamiento térmico a aproximadamente 650 grados C. El contenido en metal de la capa 3 de óxido de cinc dopado con Sn cristalina o sustancialmente cristalina en los ejemplos 1-18 fue de aproximadamente el 90% de Zn y el 10% de Sn (% en peso), lo que ayudó a permitir que las capas de óxido de cinc dopado con Sn en los ejemplos 1-18 se depositaran por pulverización catódica en forma cristalina o sustancialmente cristalina (a diferencia de la forma amorfa en el CE). Por ejemplo, la figura 20 ilustra el apilamiento de capas del ejemplo 10, la figura 21 ilustra las condiciones de deposición por pulverización catódica y los grosores de capa del ejemplo 10, y la figura 22 ilustra el cambio del 66% mucho más pequeño en la altura de pico de Ag (111) debido al tratamiento térmico a aproximadamente 650 grados C para el ejemplo 10 que concuerda con los valores de AE* mucho menores obtenidos por los ejemplos 1-18. La figura 16 también ilustra el cambio de índice de refracción (n) relativamente pequeño, tras el tratamiento térmico, por ejemplo 8.

Los artículos recubiertos de ejemplo (cada uno recocido y sometido a tratamiento térmico), ejemplos 1-18, se obtuvieron según determinadas realizaciones de ejemplo de esta invención. Los recubrimientos 30 de ejemplo indicados se depositaron por pulverización catódica a través de las condiciones de pulverización catódica (por ejemplo, flujos de gas, tensión y potencia), objetivos de pulverización catódica, y los grosores de capa (nm) mostrados en las figuras 2, 3, 6, 7, 9, 11, 13, 15, 21, 24-26, 28, 30 y 32. Por ejemplo, la figura 2 muestra las condiciones de pulverización catódica, los objetivos de pulverización catódica usados para la deposición por pulverización catódica y los grosores de capa para el recubrimiento del ejemplo 1, la figura 3 muestra las condiciones de pulverización catódica, los objetivos de pulverización catódica usados para la deposición por pulverización catódica y los grosores de capa para el recubrimiento del ejemplo 2, la figura 6 muestra las condiciones de pulverización catódica, los objetivos de pulverización catódica usados para la deposición por pulverización catódica y los grosores de capa para el recubrimiento del ejemplo 3, la figura 7 muestra las condiciones de pulverización catódica, los objetivos de pulverización catódica usados para la deposición por pulverización catódica y los grosores de capa para el recubrimiento del ejemplo 4, etc. Mientras tanto, los datos para los ejemplos indicados, incluyendo transmisión visible (TY o Tvis), reflectancia visible de lado de vidrio (RgY), reflectancia visible de lado de película (RfY), valores de color de a* y b*, valores de L*s, y resistencia laminar (SR o Rs) se muestran en las figuras 4, 5, 8, 10, 12, 14, 18, 27, 29, 31 y 33. Tal como se explicó anteriormente, los valores de AE* se calculan usando los valores de L*, a* y b*, tomados antes y después del tratamiento térmico, para un ejemplo dado. Por ejemplo, un valor de AE* reflectante de lado de vidrio (AE* Rg) se calcula usando los valores L*, a* y b* reflectante de lado de vidrio calculados usando los valores reflectantes de lado de vidrio, tomados antes y después del tratamiento térmico, para un ejemplo dado.

Para los ejemplos que tienen sustratos de vidrio de aproximadamente 3 mm de grosor, en las figuras 4, 5, 8, 10, 12, 14, y 18, “HT” se refiere a tratamiento térmico a 650 grados durante aproximadamente 8 minutos, “HTX” se refiere a tratamiento térmico a 650 grados durante aproximadamente 12 minutos, y “HTXXX” se refiere a tratamiento térmico a 650 grados durante aproximadamente 20 minutos. Y para los ejemplos que tienen sustratos de vidrio de aproximadamente 6 mm de grosor, en las figuras 4, 5, 8, 10, 12, 14, 18, 27, 29, 31 y 33, “HT” se refiere a tratamiento térmico a 650 grados durante aproximadamente 12 minutos, “HTX” se refiere a tratamiento térmico a 650 grados durante aproximadamente 16 minutos, y “HTXXX” se refiere a tratamiento térmico a 650 grados durante aproximadamente 24 minutos. Las temperaturas y los tiempos del tratamiento térmico son solo para fines de referencia (por ejemplo, para simular ejemplos de diferentes procedimientos de templado y/o curvado térmico).

Las figuras 4 y 5, por ejemplo, se ilustran los valores de AE* para los ejemplos 1 y 2, respectivamente. Los datos para el ejemplo 1 se explican en detalle a continuación, para fines de ejemplo y explicación, y esta descripción también se aplica a los datos para los ejemplos 2-18.

Tal como se muestra en la figura 4, el ejemplo 1 tal como se recubre (antes del tratamiento térmico) tenía una transmisión visible (TY o Tvis) del 74,7%, un valor de L* transmisivo de 89,3, un valor de color de a* transmisivo de -4,7, un valor de color de b* transmisivo de 5,8, una reflectancia de lado de vidrio (RgY) del 9,6%, un valor de L* reflectante de lado de vidrio de 37,1, un valor de color de a* reflectante de lado de vidrio de -1,1, un valor de color de b* reflectante de lado de vidrio de -10,1, una reflectancia de lado de película (RfY) del 9,9%, un valor de L* reflectante de lado de película de 37,7, un valor de color de a* reflectante de lado de película - 1,5, un valor de color de b* reflectante de lado de película de -5,7, y una resistencia laminar (SR) de 2,09 ohms/cuadrado. La figura 2 muestra los grosores de las capas en el ejemplo 1. En particular, la figura 2 muestra que los grosores de capa para el ejemplo 1 fueron los siguientes: vidrio/ZnO cristalino dopado con Sn (47,0 nm)/Ag (15,1 nm)/NiCrO^x(4,1 nm)/estannato de cinc amorfo (73,6 nm)/ZnO cristalino dopado con Sn (17,7 nm)/Ag (23,2 nm)/NiCrO^x(4,1 nm)/estannato de cinc amorfo (10,8 nm)/nitruro de silicio dopado con aluminio (19,1 nm).

Entonces se sometió a tratamiento térmico el artículo recubierto del ejemplo 1, que tenía un sustrato 1 de vidrio de 6 mm de grosor. Tal como se muestra en la figura 4, el ejemplo 1 después del tratamiento térmico a 650 grados C durante aproximadamente 12 minutos tenía una transmisión visible (TY o T^vis) del 77,0%, un valor de L* transmisivo de 90,3, un valor de color de a* transmisivo de -3,5, un valor de color de b* transmisivo de 4,9, una reflectancia de lado de vidrio (R^gY) del 9,8%, un valor de L* reflectante de lado de vidrio de 37,5, un valor de color de a* reflectante de lado de vidrio de -0,7, un valor de color de b* reflectante de lado de vidrio de -10,5, una reflectancia de lado de película (R^fY) del 10,2%, un valor de L* reflectante de lado de película de 38,1, un valor de color de a* reflectante de lado de película de -1,4, un valor de color de b* reflectante de lado de película de -8,0, una resistencia laminar (SR) de 1,75, un valor de AE* transmisivo de 1,8, un valor de AE* reflectante de lado de vidrio 0,7, y un valor de AE* reflectante de lado de película de 2,4.

Se apreciará que estos valores de AE* para el ejemplo 1 (y también los de los ejemplos 2-18) están muy mejorados (significativamente inferiores) que los de la técnica anterior comentados en los antecedentes y comparados con los valores por encima de 4,0 para los ejemplos comparativos (CE) comentados anteriormente. Por tanto, los datos de los ejemplos demuestran que cuando los apilamientos dieléctricos más bajos de los ejemplos comparativos se reemplazaron por al menos una capa de óxido de cinc dopado con Sn, cristalina o sustancialmente cristalina, de grosor similar (el resto del apilamiento permaneció sustancialmente igual), con ninguna capa a base de nitruro de silicio directamente por debajo de y en contacto con la capa 3 de óxido de cinc dopado con Sn cristalina o sustancialmente cristalina, el resultado fue un producto mucho más estable térmicamente con valores de AE* significativamente inferiores y un cambio mucho más pequeño en la altura de pico de Ag (111) debido al tratamiento térmico.

Los otros ejemplos muestran estos mismos resultados inesperados, en comparación con el ejemplo comparativo. Por ejemplo, los ejemplos 1-10 tenían los apilamientos de capas mostrados en general en la figura 1(a) donde la única capa dieléctrica debajo de la plata inferior era la capa 3 de óxido de cinc dopado con Sn cristalina o sustancialmente cristalina con un contenido en metal de aproximadamente el 90% de Zn y el 10% de Sn (% en peso); en los ejemplos 11-14, el contenido en metal de la capa 3 de óxido de cinc dopado con Sn cristalina o sustancialmente cristalina fue de aproximadamente el 90% de Zn y el 10% de Sn (% en peso), directamente por encima de una capa 2 de SiZrO^xen la que el contenido en metal de la capa 2 fue de aproximadamente el 85% de Si y el 15% Zr (% atómico); en los ejemplos 15-16, el contenido en metal de la capa 3 de óxido de cinc dopado con Sn cristalina o sustancialmente cristalina fue de aproximadamente el 90% de Zn y el 10% de Sn (% en peso), directamente por encima de una capa 2 de ZrO²; y en los ejemplos 17-18, el contenido en metal de la capa 3 de óxido de cinc dopado con Sn cristalina o sustancialmente cristalina fue de aproximadamente el 90% de Zn y el 10% de Sn (% en peso), directamente por encima de una capa 2 de SiO²dopado con aproximadamente el 8% de Al (% atómico). Estos ejemplos obtuvieron de manera sorprendente e inesperada valores de AE* muy mejorados en comparación con los ejemplos comparativos.

Determinados términos se usan predominantemente en la técnica de recubrimiento de vidrio, en particular cuando se definen las propiedades y las características de gestión solar del vidrio recubierto. Tales términos se usan en el presente documento según su significado bien conocido. Por ejemplo, tal como se usa en el presente documento:

La intensidad de la luz de longitud de onda visible reflejada, es decir, la “reflectancia” se define por su porcentaje y se notifica como R^xY o R^x(es decir, el valor de Y citado a continuación en la norma ASTM E-308-85), donde “X” es o bien “G” para el lado de vidrio o bien “F” para el lado de película. “Lado de vidrio” (por ejemplo, “G” o “g”) significa, tal como se observa desde el lado del sustrato de vidrio opuesto a donde reside el recubrimiento, mientras que “lado de película” (es decir, “F” o “f”) significa, tal como se observa desde el lado del sustrato de vidrio sobre el que reside el recubrimiento.

Las características de color se miden y se notifican en el presente documento usando la escala y las coordenadas a*, b* de CIE LAB (es decir, el diagrama de a*b* de CIE, Ill. CIE-C, observador de 2 grados). Pueden usarse otras coordenadas similares de manera equivalente, tal como el subíndice “h” para indicar el uso convencional de la escala Hunter Lab, o Ill. CIE-C, observador de 10°, o CIE LUV coordenadas u*v* Estas escalas se definen aquí de acuerdo con la norma ASTM D-2244-93 “Standard Test Method for Calculation of Color Differences From Instrumentally Measured Color Coordinates” 15/09/93, ampliado por la norma ASTM E-308-85, Annual Book of ASTM Standards, Vol. 06.01 “Standard Method for Computing the Colors of Objects by 10 Using the CIE System” y/o tal como se notifica en IES LIGHTING HANDBOOK 1981 Reference Volume.

La transmitancia visible puede medirse usando técnicas convencionales conocidas. Por ejemplo, mediante el uso de un espectrofotómetro, tal como un dispositivo Perkin Elmer Lambda 900 o Hitachi U4001, se obtiene una curva espectral de transmisión. La transmisión visible se calcula entonces usando la metodología de la norma ASTM 308/2244-93 mencionada anteriormente. Si se desea, puede emplearse un número menor de puntos de longitud de onda que el prescrito. Otra técnica para medir la transmitancia visible es emplear un espectrómetro tal como un espectrofotómetro Spectrogard disponible comercialmente fabricado por Pacific Scientific Corporation. Este dispositivo mide y notifica la transmitancia visible directamente. Tal como se notifica y se mide en el presente, la transmitancia visible (es decir, el valor de Y en el sistema triestímulo CIE, norma ASTM E-308-85), así como los valores de a*, b* y L*, y los valores de reflectancia de lado de vidrio/película, usan en el presente documento la norma III. C, observador de 2 grados.

Otro término empleado en el presente documento es “resistencia de hoja”. Resistencia de lámina (R^s) es un término bien conocido en la técnica y se usa en el presente documento según su significado bien conocido. En este caso se expresa en ohmios por unidades cuadradas. En términos generales, este término se refiere a la resistencia en ohmios de cualquier cuadrado de un sistema de capas sobre un sustrato de vidrio a una corriente eléctrica que pasa a través del sistema de capas. La resistencia laminar es una indicación de lo bien que la capa o el sistema de capas refleja la energía infrarroja y, por tanto, a menudo se usa junto con la emitancia como una medida de esta característica. La “resistencia laminar” puede medirse convenientemente, por ejemplo, usando un ohmímetro de sonda de 4 puntos, como una sonda de resistividad de 4 puntos prescindible con un cabezal de Magnetron Instruments Corp., Modelo M-800 producido por Signatone Corp. de Santa Clara, California.

Los términos “tratamiento térmico” y “someter a tratamiento térmico” tal como se usan en el presente documento significan calentar el artículo hasta una temperatura suficiente para lograr el templado térmico, curvado térmico y/o endurecimiento térmico del artículo recubierto que incluye vidrio. Esta definición incluye, por ejemplo, calentar un artículo recubierto en un horno o caldera a una temperatura de al menos aproximadamente 580 grados C, más preferiblemente al menos aproximadamente 600 grados C, incluyendo 650 grados C, durante un periodo suficiente para permitir el templado, curvado y/o endurecimiento térmico. En determinados casos, el tratamiento térmico puede realizarse durante al menos aproximadamente 8 minutos o más tal como se comenta en el presente documento. En una realización de ejemplo de esta invención, se proporciona un artículo recubierto que incluye un recubrimiento sobre un sustrato de vidrio, en el que el recubrimiento comprende: una primera capa cristalina o sustancialmente cristalina (por ejemplo, cristalina en al menos el 50%, más preferiblemente cristalina en al menos el 60%) que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn (% en peso), proporcionado sobre el sustrato de vidrio; una primera capa reflectante de infrarrojos (IR) que comprende plata ubicada sobre el sustrato de vidrio y directamente por encima de y en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn; en el que ninguna capa a base de nitruro de silicio (que no incluye una capa a base de oxinitruro de silicio) está ubicada directamente por debajo de y en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn entre el sustrato de vidrio y la primera capa reflectante de IR que comprende plata; y en el que el artículo recubierto está configurado para tener, medido de manera monolítica, uno, dos, o los tres de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,0 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C (por ejemplo, sobre un sustrato de vidrio de referencia de 3 mm de grosor), (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C (por ejemplo, sobre un sustrato de vidrio de referencia de 3 mm de grosor), y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,5 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C (por ejemplo, sobre un sustrato de vidrio de referencia de 3 mm de grosor).

En el artículo recubierto del párrafo inmediatamente anterior, la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc puede estar dopada con desde aproximadamente el 1-20% de Sn (% en peso), más preferiblemente con desde aproximadamente el 5-15% de Sn (% en peso), y lo más preferiblemente con aproximadamente el 10% de Sn (% en peso).

En el artículo recubierto de cualquiera de los dos párrafos anteriores, la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con Sn puede ser cristalina o sustancialmente cristalina tal como se deposita por pulverización catódica.

En el artículo recubierto de cualquiera de los tres párrafos anteriores, pudiendo estar configurado el artículo recubierto para tener, medido de manera monolítica, al menos dos de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,5 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En el artículo recubierto de cualquiera de los cuatro párrafos anteriores, el artículo recubierto puede estar configurado para tener, medido de manera monolítica, la totalidad de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,5 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En el artículo recubierto de cualquiera de los cinco párrafos anteriores, el artículo recubierto puede estar configurado para tener, medido de manera monolítica, al menos dos de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 2,5 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 2,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En el artículo recubierto de cualquiera de los seis párrafos anteriores, el artículo recubierto puede estar configurado para tener, medido de manera monolítica, la totalidad de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 2,5 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 2,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En el artículo recubierto de cualquiera de los siete párrafos anteriores, el artículo recubierto puede estar configurado para tener, medido de manera monolítica, al menos uno de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 2,3 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 1,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 2,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En el artículo recubierto de cualquiera de los ocho párrafos anteriores, el recubrimiento puede tener una resistencia laminar (Rs) no mayor de 20 ohms/cuadrado, más preferiblemente no mayor de 10 ohms/cuadrado, y lo más preferiblemente no mayor de 2,2 ohms/cuadrado, antes y/o después del tratamiento térmico.

En el artículo recubierto de cualquiera de los nueve párrafos anteriores, el artículo recubierto puede tener una transmisión visible de al menos el 50%, más preferiblemente de al menos el 60%, y lo más preferiblemente de al menos el 70% (por ejemplo, medido de manera monolítica).

En el artículo recubierto de cualquiera de los diez párrafos anteriores, la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con Sn puede estar ubicada entre y directamente en contacto con el sustrato de vidrio y la primera capa reflectante de IR que comprende plata.

En el artículo recubierto de cualquiera de los once párrafos anteriores, el recubrimiento puede comprender además una primera capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc ubicada sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la primera capa reflectante de IR que comprende plata. La primera capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc puede tener un contenido en metal de desde aproximadamente el 40-60% de Zn y desde aproximadamente el 40-60% de Sn (% en peso).

En el artículo recubierto de cualquiera de los doce párrafos anteriores, el recubrimiento puede comprender además una capa de contacto ubicada por encima de y directamente en contacto con la primera capa reflectante de IR que comprende plata. La capa de contacto puede comprender por ejemplo uno o más de Ni, Cr, Ni y/o Cr, NiCr, Ti, NiCrMo, y/u óxidos y/o nitruros de los mismos.

En el artículo recubierto de cualquiera de los trece párrafos anteriores, el recubrimiento puede comprender además: una segunda capa reflectante de IR que comprende plata ubicada sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la primera capa reflectante de IR que comprende plata, una segunda capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn (% en peso), ubicada por debajo de y directamente en contacto con la segunda capa reflectante de IR que comprende plata. Opcionalmente, ninguna capa a base de nitruro de silicio está ubicada entre el sustrato de vidrio y la segunda capa reflectante de IR que comprende plata. El recubrimiento también puede comprender adicionalmente una capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc ubicada sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la segunda capa reflectante de IR que comprende plata, donde la capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc puede tener un contenido en metal de desde aproximadamente el 40-60% de Zn y desde aproximadamente el 40-60% de Sn (% en peso). El recubrimiento puede comprender además una capa que comprende nitruro de silicio ubicada por encima de al menos la capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc. El recubrimiento puede comprender además una capa de contacto (por ejemplo, véanse los materiales de capa de contacto de ejemplo anteriormente) ubicada por encima de y directamente en contacto con la segunda capa reflectante de IR que comprende plata.

En el artículo recubierto de cualquiera de los catorce párrafos anteriores, el artículo recubierto puede templarse térmicamente.

En el artículo recubierto de cualquiera de los quince párrafos anteriores, el artículo recubierto puede estar configurado para tener, medido de manera monolítica, cada uno de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,5 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 1,8 debido al tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En el artículo recubierto de cualquiera de los dieciséis párrafos anteriores, el artículo recubierto puede comprender además una capa que comprende óxido de circonio ubicada por debajo de y directamente en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn.

En el artículo recubierto de cualquiera de los diecisiete párrafos anteriores, el artículo recubierto puede comprender una capa que comprende un óxido y/o nitruro de silicio y circonio ubicada por debajo de y directamente en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn.

En el artículo recubierto de cualquiera de los dieciocho párrafos anteriores, el artículo recubierto puede comprender una capa que comprende un óxido de silicio y circonio ubicada por debajo de y directamente en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn. El artículo recubierto puede comprender además una capa de elemento de absorción metálica o sustancialmente metálica (por ejemplo, NiCr, NiCrN^x, NbCr o NbCrN^x) ubicada entre el sustrato de vidrio y la capa que comprende un óxido de silicio y circonio. La capa de elemento de absorción puede estar intercalada entre y en contacto con las capas primera y segunda que comprenden nitruro de silicio.

En el artículo recubierto de cualquiera de los diecinueve párrafos anteriores, el artículo recubierto puede comprender una capa que comprende un óxido de silicio y circonio ubicada entre al menos el sustrato de vidrio y la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn.

En determinadas realizaciones de ejemplo, se proporciona un artículo recubierto que incluye un recubrimiento sobre un sustrato de vidrio, en el que el recubrimiento comprende: una capa que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn (de manera más preferible desde aproximadamente el 5-15%) (% en peso), proporcionado sobre el sustrato de vidrio; una primera capa reflectante de infrarrojos (IR) que comprende plata ubicada sobre el sustrato de vidrio y directamente por encima de y en contacto con la primera capa que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn; al menos una capa dieléctrica sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la primera capa reflectante de IR que comprende plata y la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc; y en el que ninguna capa a base de nitruro de silicio está ubicada directamente por debajo de y en contacto con la capa que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn; y en el que el artículo recubierto está configurado para tener, medido de manera monolítica, al menos uno de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,0 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,5 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de aproximadamente 650 grados C.

En el artículo recubierto de cualquiera de los veintiún párrafos anteriores, el artículo recubierto puede comprender además una capa dieléctrica (por ejemplo, véase la capa 2 en las figuras 1(b)-(d)) ubicada por debajo de y directamente en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn. La capa dieléctrica puede comprender uno o más de ZrO², SO ²que puede estar dopado opcionalmente con desde el 1-10% Al, y/o un óxido de silicio y circonio. La capa dieléctrica puede estar be en contacto directo con el sustrato de vidrio. La capa dieléctrica puede tener un grosor físico de desde aproximadamente 40-400 A, de manera más preferible desde aproximadamente 50-300 A, y lo más preferible desde aproximadamente 50-200 A. La capa dieléctrica contiene preferiblemente poco o nada de nitrógeno. Por ejemplo, la capa dieléctrica puede comprender desde el 0-20% de nitrógeno, más preferiblemente desde el 0-10% nitrógeno, y lo más preferiblemente desde el 0-5% nitrógeno (% atómico).

En el artículo recubierto de cualquiera de los veintidós párrafos anteriores, el recubrimiento puede comprender además una segunda capa reflectante de IR que comprende plata ubicada sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la primera capa reflectante de IR que comprende plata; una segunda capa que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn (% en peso), ubicada por debajo de y directamente en contacto con la segunda capa reflectante de IR que comprende plata; y una capa que comprende estannato de cinc ubicada entre la primera capa reflectante de IR y la segunda capa que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn. Puede proporcionarse una capa que comprende un óxido de silicio y circonio ubicada entre al menos el sustrato de vidrio y la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn. El artículo recubierto puede incluir además una capa dieléctrica que comprende óxido de circonio (por ejemplo, ZrO²), y/o un óxido de silicio y circonio, ubicada entre la capa 11 que comprende estannato de cinc y la segunda capa 13 que comprende óxido de cinc dopado con desde aproximadamente el 1-30% de Sn.

Una vez facilitada la divulgación anterior muchas otras características, modificaciones y mejoras resultarán evidentes para el experto en la técnica. Tales otras características, modificaciones y mejoras se consideran por tanto parte de esta invención, cuyo alcance se determinará por las reivindicaciones siguientes:

Claims

REIVINDICACIONES

i. Artículo recubierto que incluye un recubrimiento sobre un sustrato (1) de vidrio, en el que el recubrimiento (30) comprende:

- una primera capa (3) cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn (% en peso), ubicada sobre el sustrato de vidrio;

- una primera capa (7) reflectante de infrarrojos (IR) que comprende plata ubicada sobre el sustrato de vidrio y directamente por encima de y en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn;

- una capa (2) que comprende un óxido de silicio y circonio ubicada por debajo de y directamente en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn,

de modo que ninguna capa a base de nitruro de silicio está ubicada directamente por debajo de y en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn; y

en el que el artículo recubierto está configurado para tener, medido de manera monolítica, al menos uno de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,0 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,5 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de 650 grados C.
2. Artículo recubierto según la reivindicación 1, en el que la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc está dopada con desde el 1-20% de Sn (% en peso), preferiblemente desde el 5-15% de Sn (% en peso), más preferiblemente con el 10% de Sn (% en peso), y/o en el que la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con Sn es cristalina o sustancialmente cristalina tal como se deposita por pulverización catódica.
3. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el artículo recubierto está configurado para tener, medido de manera monolítica, al menos dos de, preferiblemente todos de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,5 debido al tratamiento térmico de referencia durante 8 minutos a una temperatura de 650 grados C, preferiblemente en el que el artículo recubierto está configurado para tener, medido de manera monolítica, al menos dos de, preferiblemente todos de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 2,5 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 2,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de 650 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 3,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 12 minutos a una temperatura de 650 grados C, más preferiblemente en el que el artículo recubierto está configurado para tener, medido de manera monolítica, al menos uno de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 2,3 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de 650 grados C, (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 1,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de al menos 593 grados C, y (iii) un valor de AE* reflectante de lado de película no mayor de 2,0 debido al tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de 650 grados C.
4. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que dicho recubrimiento tiene una resistencia laminar (Rs) no mayor de 20 ohms/cuadrado, preferiblemente no mayor de 10 ohms/cuadrado, más preferiblemente no mayor de 2,2 ohms/cuadrado, y/o en el que dicho artículo recubierto, medido de manera monolítica, tiene una transmisión visible de al menos el 50%, preferiblemente de al menos el 68%.
5. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que la capa que comprende un óxido de silicio y circonio está ubicada entre y directamente en contacto con la primera capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con Sn y el vidrio.
6. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el recubrimiento tal como se deposita comprende además una primera capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc ubicada sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la primera capa reflectante de IR que comprende plata, preferiblemente en el que la primera capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc tiene un contenido en metal de desde el 40-60% de Zn y desde el 40-60% de Sn (% en peso).
7. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el recubrimiento comprende además una capa de contacto ubicada por encima de y directamente en contacto con la primera capa reflectante de IR que comprende plata, preferiblemente en el que la capa de contacto comprende Ni y Cr.
8. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el recubrimiento comprende además:

una segunda capa reflectante de IR que comprende plata ubicada sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la primera capa reflectante de IR que comprende plata,

una segunda capa cristalina o sustancialmente cristalina que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn (% en peso), ubicada por debajo de y directamente en contacto con la segunda capa reflectante de IR que comprende plata; y

en el que ninguna capa a base de nitruro de silicio está ubicada entre el sustrato de vidrio y la segunda capa reflectante de IR que comprende plata, preferiblemente en el que el recubrimiento comprende además una capa amorfa o sustancialmente amorfa, tal como se deposita, que comprende estannato de cinc ubicada en el sustrato de vidrio por encima de al menos la segunda capa reflectante de IR que comprende plata, más preferiblemente en el que la capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc, que es amorfa o sustancialmente amorfa tal como se deposita, tiene un contenido en metal de desde el 40-60% de Zn y desde el 40-60% de Sn (% en peso).
9. Artículo recubierto según la reivindicación 8, en el que el recubrimiento comprende además una capa que comprende nitruro de silicio ubicada por encima de al menos la capa amorfa o sustancialmente amorfa que comprende estannato de cinc.
10. Artículo recubierto según la reivindicación 8 ó 9, en el que el recubrimiento comprende además una capa de contacto que comprende Ni y/o Cr ubicada por encima de y directamente en contacto con la segunda capa reflectante de IR que comprende plata.
11. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el artículo recubierto está templado térmicamente.
12. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el artículo recubierto está configurado para tener, medido de manera monolítica, cada uno de: (i) un valor de AE* transmisivo no mayor de 3,5 debido a un tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de 650 grados C, y (ii) un valor de AE* reflectante de lado de vidrio no mayor de 1,8 debido al tratamiento térmico de referencia durante 16 minutos a una temperatura de 650 grados C.
13. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el artículo recubierto comprende además una capa (42) de elemento de absorción metálica o sustancialmente metálica ubicada o bien: entre el sustrato de vidrio y la capa que comprende un óxido de silicio y circonio, o bien entre el sustrato de vidrio y la capa que comprende un óxido de circonio, preferiblemente en el que la capa de elemento de absorción está intercalada entre y en contacto con las capas primera y segunda que comprenden nitruro de silicio, y/o en el que la capa de elemento de absorción comprende Ni y Cr.
14. Artículo recubierto según cualquier reivindicación anterior, en el que el recubrimiento comprende además:

- una segunda capa reflectante de IR que comprende plata ubicada sobre el sustrato de vidrio por encima de al menos la primera capa reflectante de IR que comprende plata;

- una segunda capa que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn (% en peso), ubicada por debajo de y directamente en contacto con la segunda capa reflectante de IR que comprende plata; y - una capa que comprende estannato de cinc ubicada entre la primera capa reflectante de IR y la segunda capa que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn,

preferiblemente en el que el artículo recubierto comprende además una capa que comprende un óxido de circonio, y/u otra capa que comprende un óxido de silicio y circonio, ubicada entre la capa que comprende estannato de cinc y la segunda capa que comprende óxido de cinc dopado con desde el 1-30% de Sn.