ES2639817T3 - Filtro de EPTFE para su uso farmacéutico aséptico y método de uso - Google Patents
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Abstract
Una configuración de ensayo de exposición para una instalación farmacéutica in situ de un medio (50) de filtración de ePTFE, que comprende: un medio (50) de filtración plegado que tiene una pluralidad de pliegues (62), en el que dicho medio (50) de filtración plegado está posicionado dentro de una corriente de aire de una unidad de tratamiento de aire en un sistema de tratamiento de la corriente de aire farmacéutico aséptico, incluyendo dicho medio (50) de filtración una malla (30) de soporte corriente arriba y una malla (10) de soporte corriente abajo y una membrana de ePTFE (20) interpuesta entre dicha malla (30) de soporte corriente arriba y dicha malla (10) de soporte corriente abajo; en el que dicha malla (30) de soporte corriente arriba y dicha malla (10) de soporte corriente abajo son de un material de dos componentes y dicha membrana de ePTFE (20) se lamina entre las mismas; un separador de poli-alfa-olefina (51, 56) entre cada uno de dicha pluralidad de pliegues (62) de dicho medio (50) de filtración plegado; un generador de aerosol de bajo volumen corriente arriba combinado con un dispositivo de dilución de aerosol que proporcionan menos de 0,3 μg de aerosol/l de aire y hasta 0,01 μg de aerosol/l de aire y por debajo para concentraciones de aerosoles ultra bajas en dicha corriente de aire de dicha unidad de tratamiento de aire; un explorador (208) corriente arriba para la detección de las concentraciones de aerosol para volúmenes ultrabajos en dicha malla (30) de soporte corriente arriba de dicho medio de filtración (50); un explorador (209) corriente abajo con una sonda de exploración insertado dentro de dicha unidad de tratamiento de aire corriente abajo de dicho medio (50) de filtración plegado y frente a dicha malla (10) de soporte corriente abajo, insertándose dicha sonda de exploración a través de un puerto de acceso en dicha unidad de tratamiento de aire de dicho sistema de tratamiento de la corriente de aire farmacéutico para la detección de las concentraciones de aerosol para volúmenes ultra bajos que pasan a través de dicha malla (30) de soporte corriente abajo de hasta el 0,01 por ciento de las concentraciones de aerosol para volúmenes ultra bajos detectados en dicho explorador (208).
Description
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DESCRIPCION
Filtro de EPTFE para su uso farmaceutico aseptico y metodo de uso Referencia cruzada a solicitud relacionada
La presente solicitud de patente internacional reivindica la prioridad para la Solicitud de Patente Provisional de los EE.UU. Numero de Serie 61/411.279, presentada el 8 de noviembre de 2010.
Campo tecnico
La presente invencion se refiere a medios de filtracion de aire HEPA de ePTFE utilizados en una aplicacion farmaceutica aseptica y un sistema de tratamiento del cabello y al ensayo de los mismos con concentraciones ultra bajas de un aerosol que supone una prueba.
Antecedentes
En la mayona de salas limpias farmaceuticas asepticas, la etapa final de la retirada de las partfculas transmitidas por el aire se produce en un filtro HEPA o ULPA que entrega aire a un espacio controlado. Si la sala limpia alcanza y mantiene su clase de limpieza proyectada depende en gran medida del rendimiento de estos filtros. Por tanto, es una habitual y buena practica someter a ensayo el rendimiento de todos los filtros instalados en salas limpias para asegurar que cumplen con la especificacion proyectada. Normalmente, los filtros se someten a ensayo a medida que se fabrican para determinar su eficiencia global y detectar fugas. En algunas salas limpias dentro de las industrias reguladas, tales como la industria farmaceutica, tambien es necesario que estos filtros se certifiquen periodicamente para garantizar un rendimiento aceptable durante su vida util. Diversas organizaciones publican practicas recomendadas para la certificacion de los filtros de tipo HEPA y ULPA, para ensayos de fugas de filtros y directrices para someter a ensayo y clasificar dichos filtros.
En los medios de microvidrio de filtracion de aire HEPA actuales, la norma utilizada en la industria farmaceutica en el procesamiento aseptico tiene problemas graves debido a que los medios son fragiles dando como resultado danos en la manipulacion, la presion, la sobrecarga y similares. Dicho dano puede dar como resultado fugas del medio de filtracion comprometiendo de este modo su funcionalidad. Las fugas y los danos de los medios de filtracion de microvidrio dentro del entorno de la sala limpia farmaceutica son significativos de manera que la Administracion de Alimentos y Farmacos de los EE.UU. ha publicado directrices que garantizan la eficacia de la filtracion de los filtros HEPA de microvidrio mediante el ensayo regular. El ensayo de dichos filtros HEPA de microvidrio en dicho entorno aseptico se completa usando aerosoles a base de aceite de alta concentracion tales como DOP (dioctilftalato), PAO (poli-alfa olefina), DEHS y otros compuestos similares medidos mediante fotometros tradicionales capaces de medir dichas concentraciones corriente arriba y corriente abajo. Los aerosoles utilizados para dichos ensayos de fugas de los filtros y la exposicion de estos filtros deben cumplir las especificaciones para los atributos fisicoqmmicos cnticos tales como la viscosidad. Las tasas de umbral de fuga del 0,01 % o mas de la concentracion corriente arriba de estos compuestos son normalmente el lfmite del ensayo al que la instalacion farmaceutica y el area de procesamiento o bien remplazanan el filtro o reparanan el mismo. La concentracion corriente arriba debena medirse siempre al comienzo y al final del ensayo.
El metodo DOP/PAO para la aplicacion y el ensayo de la filtracion en la sala farmaceutica aseptica data de la decada de 1960. Dicho ensayo de los filtros en la filtracion de la sala aseptica es requerido por la regulacion al menos cada 6-12 meses mediante la exposicion de los medios de filtracion con un aerosol definido. La exposicion requerida al aerosol se mantiene a una alta concentracion de aproximadamente 20 |jg de PAO/l de aire. Una medicion de 15 jg de PAO/litro corresponde a aproximadamente 20 gramos de PAO/filtro de 800 cfm (22,65 m3/min)/hora. Para los medios de filtracion de microvidrio normales o convencionales, un compuesto de exposicion a base de aceite de una sola vez puede no influir negativamente en la vida del filtro de los medios, pero puede afectar a otras estructuras del filtro. Sin embargo, mediante el ensayo a dichas concentraciones regularmente, la vida del filtro convencional, incluyendo el ensayo de exposicion regular, puede limitar a menos de cinco anos el ciclo de vida para la filtracion HEPA de microvidrio.
En dicha metodologfa de exposicion convencional para aplicaciones e instalaciones farmaceuticas, un compuesto de exposicion predefinido tal como PAO se proporciona corriente arriba de los medios de filtracion en su lugar. La PAO se inyecta en la corriente de aire justo antes de los medios in situ mediante una boquilla u otro dispositivo conocido y calibrado a dichos altos niveles de concentracion para determinar correctamente la eficacia de la filtracion. Dicho dispositivo de inyeccion crea un aerosol polidispersado compuesto de partfculas con diametros medios de gotitas por dispersion de luz en el intervalo de tamano submicrometrico. Una concentracion de exposicion, como se ha mencionado, se proporciona en hasta aproximadamente 20 jg/l que se introduce de forma continua corriente arriba del filtro durante aproximadamente tres a cuatro horas para la certificacion apropiada. Se utiliza un puerto de exposicion corriente arriba en la carcasa del filtro para el analisis fotometrico. La cara del filtro se explora en el lado corriente abajo con la sonda del fotometro y se calcula como un porcentaje de la exposicion corriente arriba. La exploracion se realiza en toda la cara del filtro para generar un analisis adecuado de las fugas. Una lectura de la
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sonda de aproximadamente el 0,01 % como criterio de fuga sena indicativo de una fuga importante, pero requieren, como se observa, concentraciones bastante altas de PAO corriente arriba que pueden tener efectos nocivos sobre los medios de filtracion y el rendimiento del HEPA.
Tambien surgen problemas significativos en el uso de compuestos de exposicion de PAO. Puede producirse una obstruccion importante de los medios de filtracion a lo largo de una pluralidad de ciclos de exposicion. Ademas, se ha demostrado que la PAO provoca un aceitado excesivo de los medios de filtracion de microvidrio que puede dar como resultado una infiltracion del compuesto de exposicion. Ademas, dicha exposicion excesiva puede provocar que los medios de filtracion sean menos eficientes, presentando mas que una cafda de presion y mayores costes de energfa correspondientes. Adicionalmente, se ha demostrado que el compuesto de exposicion PAO provoca dano a los sellos de gel de filtracion y a las juntas dando como resultado puntos potenciales de fuga. La PAO puede provocar la licuacion adicional de los geles a base de silicio o puede endurecer o reducir de otro modo la eficacia de los sellos de gel a base de uretano.
Disenos de filtros farmaceuticas asepticos alternativos han incluido el uso de requisitos de prefiltro adicionales que funcionan para proteger los medios de filtracion primaria durante la carga normal de tratamiento de aire y durante la exposicion. Dichos prefiltros se obstruyen antes en el ciclo de vida del filtro lo que requiere un reemplazo periodico y el aumento de los costes de mantenimiento. Dicho prefiltrado es indeseable porque se requieren, por tanto, medios de filtracion adicionales, duplicando el mantenimiento y se esperan requisitos de manipulacion y una falta de eficiencia y un resultado de mayor cafda de la presion.
Otros problemas asociados a los filtros HEPA tradicionales de microfibra de vidrio son que son un medio de filtracion relativamente fragil que no reacciona bien a la manipulacion, el contacto en el lugar, la vibracion, la humedad o la exposicion qmmica. Dichos medios de microfibra de vidrio pueden danarse facilmente a traves de la manipulacion normal y tambien tienen una vida util razonablemente corta. Los danos resultantes de estos diversos factores pueden provocar fugas y que el aire sin filtrar pase a traves de los medios. Ademas, el filtro puede no lograr secuencias de exposicion normales como resultado de dichos danos a los medios. Por tanto, es deseable proporcionar un medio de filtracion que cumpla con los requisitos de filtracion HEPA completos, que pueda utilizarse en el entorno aseptico de la industria farmaceutica, que es mas resistente para la manipulacion y mas fiable en cuanto a permanecer completamente funcional despues de secuencias de exposicion requeridas y durante el curso normal de las operaciones. Sin embargo, cuando se somete a ensayo un filtro ULPA de ePTFE con 15 mg/m3 (|jg/l) de PAO, se produjo un aumento de la cafda de la presion del 96 % en aproximadamente 5,25 horas a 650 cfm (18,41 m3/min) (2). El estudio mostro claramente que la exposicion a PAO del orden de 15 mg/m3 (jg/l) fue perjudicial para los filtros ULPA de ePTFE debido al aumento drastico de la resistencia del filtro (cafda de presion) con el tiempo. Esto es debido a la carga y la oclusion de los poros en el ePTFE.
Ademas de la carga del filtro, cuando se considera el ensayo de los filtros de ePTFE con el uso convencional de PAO como un aerosol de exposicion, la infiltracion tambien se identifico como un problema potencial. El problema de la infiltracion puede producirse cuando se usa PAO generada termicamente para someter a ensayo filtros de ePTFE. Esto se debe al aerosol generado termicamente que tiene un diametro medio de masa de 0,10-0,45 que se parece mas al TPMP del filtro. Esto crea un problema con un fotometro que mide una concentracion y busca fugas iguales o superiores al 0,01 %. La infiltracion podna manifestarse erroneamente como una fuga artificialmente grande o en algunos casos una fuga continua a traves del filtro que mide una tasa de fugas del 0,025 % o menos. Se desvelan ejemplos de metodos y dispositivos para el ensayo de un medio de filtracion que comprende una pelfcula de ePTFE, por ejemplo, por los documentos US6416562 o US5507847.
Por tanto, es deseable proporcionar un medio de filtracion HEPA completamente funcional que cumpla todos los requisitos, que sea relativamente duradero, que pueda exponerse apropiadamente para determinar la eficacia de filtracion y las fugas y que cumpla adicionalmente todas las normas de filtracion aseptica requeridas. Ademas, es deseable proporcionar dichos medios de filtracion sin requisitos de prefiltro adicionales y con la metodologfa apropiada para determinar la funcionalidad completa de los medios y determinar posibles puntos de fuga sin provocar la obstruccion de los filtros in situ.
Por tanto, existe una necesidad en la tecnica de proporcionar un medio de filtro farmaceutico aseptico completamente funcional que tenga asociada una metodologfa de ensayo completa, sea duradero, mantenga la eficiencia de la filtracion HEPA y que tenga una vida de filtracion larga en su lugar.
Sumario
Debe apreciarse que todas las combinaciones de los conceptos anteriores y los conceptos adicionales que se analizan en mayor detalle a continuacion (a condicion de que dichos conceptos no sean mutuamente incompatibles) se consideran parte de la materia objeto de la invencion desvelada en el presente documento. En particular, todas las combinaciones de la materia objeto reivindicada que figura al final de la presente divulgacion se consideran parte de la materia objeto de la invencion desvelada. Tambien debe apreciarse que a la terminologfa empleada explfcitamente en el presente documento que tambien puede aparecer en cualquier divulgacion incorporada por referencia debe otorgarsele un significado mas coherente con los conceptos particulares desvelados en el presente
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documento.
Es por tanto un aspecto de la presente invencion proporcionar un material de reemplazo y ensayos de certificacion para determinar el tamano de las fugas y la deteccion de medios de filtracion de salas limpias asepticas que usan un medio de resistencia significativamente inferior, reduciendo de este modo sustancialmente los costes de energfa.
Ademas, es deseable proporcionar un metodo para la certificacion y el ensayo de medios en dichas condiciones usando concentraciones ultrabajas de PAO y un medio para la deteccion de dichas concentraciones ultrabajas corriente abajo del filtro para determinar el tamano de las fugas y la condicion del filtro.
En otro aspecto de la presente invencion, es deseable proporcionar una alternativa mas eficiente a los medios de filtracion de microfibra de vidrio en un entorno de este tipo.
Es, por tanto, un aspecto de la presente invencion integrar el ensayo de PAO de nivel ultrabajo y la exposicion de medios de filtracion HEPA de ePTFE en un entorno de sala limpia aseptica. Es un aspecto adicional de la presente invencion proporcionar un medio de filtracion de dos componentes de ePTFE que pueda someterse a ensayo apropiadamente y certificarse regularmente para la eficiencia y la fuga con un aerosol sin obstruccion de la membrana de ePTFE o el medio de filtro.
En algunas realizaciones, el sistema y los medios de filtro del sistema descrito en el presente documento incluye un medio de capa dual de dos componentes de material unido por hilado, siendo el material de dos componentes una combinacion de PET y PE con un peso total de aproximadamente 80 GSM (gramos por metro cuadrado) para ambas capas y una rigidez combinada de aproximadamente al menos 400 Gurley.
En diversas realizaciones, la capa dual de material de dos componentes puede incluir una densidad de aproximadamente 8 PPI (3,15 pixel/cm) con una altura de pliegue promedio de aproximadamente 25 a aproximadamente 55 mm. De manera optima, en muchas realizaciones, la altura de pliegue sera de aproximadamente 35 mm.
En algunos filtros, los separadores de pliegue pueden ser un reborde separador de poli-alfa olefina transparente aplicado entre cada pliegue para asegurar la separacion y el espaciamiento de los pliegues. En otros filtros y realizaciones, los pliegues pueden formarse por estampacion de un patron en los medios, que asegura la separacion y el espaciamiento de los pliegues.
En otros aspectos, la membrana de ePTFE especialmente formulada puede ser de aproximadamente 8 a aproximadamente 15 micrometres y preferentemente de aproximadamente 10 micrometres.
En algunos aspectos, el material de filtro de dos componentes puede laminarse con la membrana de ePTFE a aproximadamente 160 grados C.
En diversos aspectos, el material resultante puede enrollarse y despues plegarse como se expone para la insercion en ensamblajes de filtro de aire que pueden incluir tipos de bastidor de metal, sello de gel, neopreno o borde de cuchillo.
Tras la insercion del filtro HEPA de ePTFE en una instalacion, algunos aspectos que se exponen en el presente documento pueden incluir la certificacion regular y el ensayo de fugas mediante el uso de un aerosol de exposicion de PAO ultra baja en hasta aproximadamente 0,010 |jg de PAO/l de aire y hasta aproximadamente 6,0 |jg/l. Mas en particular y como alternativa, una concentracion ultra baja de aproximadamente 0,3 jg/l de PAO a aproximadamente 0,5 ug/l con una combinacion de tamanos de partreula de aproximadamente 0,3 um a aproximadamente 0,5 um de tamano de recuento de partfculas. De forma correspondiente, un contador de partreulas individuales puede combinarse con el generador de aerosol para el ensayo de exposicion y fuga, en diversas realizaciones, que puede incluir un contador capaz de someter a ensayo a un tamano de canal de 0,5 um a aproximadamente 0,3 jm o menos jm.
En otras realizaciones, pueden generarse microesferas (latex de poliestireno) como un material de exposicion y lectura en el lado corriente abajo de la membrana de filtracion usando un contador de partreulas para determinar de forma similar fugas y la eficacia del filtro. En diversos ejemplos, pueden utilizarse microesferas de tamano desde 0,12 y hasta 0,30 jm. Concentraciones de ensayo y de exposicion similares pueden incluir asimismo mediciones de exposicion de 20 * 106 partreulas > 0,3 jm por ft3 (30,48 cm3) de PAO a aproximadamente 7 * 106 partreulas > 0,5 um por ft3 (30,48 cm3) de PAO.
En general, en los diversos ejemplos y realizaciones proporcionados, se proporciona un filtro y una metodologfa de ensayo en los que un filtro HEPA de ePTFE especializado puede utilizarse y exponerse apropiadamente con fines de certificacion manteniendo al mismo tiempo la eficiencia y la eficacia de los medios de filtracion. El uso de las diversas realizaciones descritas en el presente documento proporciona una metodologfa de ensayo y de certificacion alternativa para la aplicacion en salas limpias de medios de filtracion de ePTFE sin los inconvenientes significativos
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de los ensayos con aerosol de PAO de alto volumen observados anteriormente en la tecnica.
Es, por tanto, un aspecto de la presente invencion proporcionar un sistema para la instalacion y el ensayo de PAO de exposicion de concentracion ultra baja u otro tipo de aerosol corriente arriba de un filtro HEPA de ePTFE para su uso en salas limpias farmaceuticas asepticas en las que las concentraciones de exposicion de la PAO u otro aerosol es menos de aproximadamente 1,0|jg/l de aire de aerosol de exposicion con un explorador corriente arriba de concentracion baja o ultra baja asociado, en conjunto con un detector de partfculas de concentracion ultra baja corriente abajo u otro explorador para la determinacion de la concentracion corriente abajo del aerosol de exposicion. Para medir una tasa de fuga del 0,01 % basada en una concentracion de aerosol de exposicion corriente arriba de 1,0 jg/l a aproximadamente 0,3 jg/l e incluso de hasta aproximadamente 0,1 jg/l y menos, un fotometro o detector corriente abajo debe ser sensible y preciso para la medicion de una tasa de fuga del 0,01 % corriente arriba de concentraciones de exposicion de PAO o una concentracion corriente abajo de menos de 0,001, 0,00003 e incluso hasta aproximadamente 0,00001 ug/l y concentraciones mas bajas. Por tanto, dichas concentraciones de exposicion bajas dan como resultado una vida de exposicion significativamente ampliada de los medios de filtracion, es decir, el tiempo de exposicion total de los medios de ePTFE al aerosol de exposicion de PAO, a base de aceite o de otro tipo. Dicha exposicion de concentraciones bajas prolonga significativamente la vida de ensayo e instalacion de una instalacion de medios de filtro de ePTFE que requiere la certificacion de fugas regular.
El metodo incluye adicionalmente la instalacion de un filtro a base de ePTFE en una instalacion farmaceutica aseptica, la introduccion de una concentracion de exposicion ultra baja de un aerosol de exposicion, la medicion de la concentracion baja corriente arriba en la cara del filtro corriente arriba del aerosol, la deteccion de las concentraciones ultra bajas de aerosol en la cara corriente abajo del filtro de ePTFE mediante la utilizacion de un contador de partfculas individuales o un fotometro y el calculo de la tasa de fugas ultra baja total del aerosol de exposicion en la cara corriente abajo del filtro.
En otras realizaciones, el metodo incorpora adicionalmente ensayos de instalacion y fugas de medios de filtracion de ePTFE en un entorno de filtracion aseptica incluyendo la instalacion de un medio de filtracion que tiene un material de malla unido por hilado corriente arriba y un material de malla unido por hilado corriente abajo, la interposicion de una membrana de ePTFE entre el material de malla corriente arriba y el material de malla corriente abajo, la inyeccion en el aire corriente arriba de una concentracion baja o ultra baja de aerosol de exposicion de o inferior a 1,0 jg de aerosol/l de aire hasta aproximadamente 0,10 jg de aerosol/l de aire o inferior, la medicion de la concentracion del aerosol de exposicion en el material de malla unido por hilado corriente arriba, permitir que el aerosol de exposicion penetre a traves de la membrana de ePTFE, la medicion de la concentracion de dicho aerosol de exposicion mediante la deteccion de partfculas en el material de malla unido por hilado corriente abajo a un valor tan bajo como de 0,3 a 0,1 jg de aerosol/l de aire o inferior a 0,01 ug/l, el calculo de una deteccion de fugas del aerosol de exposicion a valores por debajo de una tasa de umbral de fuga de aproximadamente el 0,01 % de la concentracion de exposicion corriente arriba.
El metodo puede incluir adicionalmente la instalacion de un explorador de partfculas corriente abajo para la medicion de las concentraciones en el material de malla unido por hilado corriente abajo. El explorador puede ser un explorador de partfculas individuales. En otras variaciones, el metodo puede comprender adicionalmente la transmision de las mediciones de concentracion del explorador corriente arriba a un ordenador, la transmision de las mediciones de concentracion del explorador corriente abajo a un ordenador, el calculo de un porcentaje de fugas del aerosol de exposicion a traves del medio de filtracion de ePTFE a lo largo de un penodo de tiempo predeterminado.
Como alternativa, el metodo puede incluir adicionalmente la instalacion de un enlace de comunicacion entre un explorador corriente arriba y un explorador corriente abajo, la transmision de las mediciones de concentracion del explorador corriente arriba a un dispositivo de lectura, la transmision de las mediciones de concentracion del explorador corriente abajo al dispositivo de lectura, el calculo de un porcentaje de fuga del aerosol de exposicion a traves del medio de ePTFE mediante un procesador y la presentacion del porcentaje calculado a un usuario.
Se describen adicionalmente en el presente documento estas y otras variaciones del sistema y el metodo para la deteccion de fugas en un medio de filtro de ePTFE para su uso en un entorno farmaceutico aseptico.
Breve descripcion de los dibujos
En los dibujos, los caracteres de referencia iguales se refieren generalmente a las mismas partes en todas las diferentes vistas. Ademas, los dibujos no estan necesariamente a escala, en su lugar el enfasis generalmente se da a la ilustracion de los principios de la invencion.
La Figura 1 es una vista lateral de una realizacion para la maquinaria que fabrica los medios de filtro descritos en
el presente documento;
la Figura 2 es una vista en seccion de los medios de filtro utilizados en la presente invencion;
la Figura 3 es una vista lateral de cerca de los medios de filtro utilizados en la presente invencion;
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la Figura 4 es una maquina de plegado de ejemplo utilizada en la fabricacion del filtro plegado utilizado en la presente invencion;
la Figura 5A es una vista en perspectiva de una lamina de muestra de los medios de filtro plegado con una realizacion de un espaciador como se expone en el presente documento;
la Figura 5B es una vista en perspectiva de una lamina de muestra de los medios de filtro plegado con una realizacion alternativa de un espaciador como se expone en el presente documento;
la Figura 5C es una vista en perspectiva de una lamina de muestra de los medios de filtro plegado con una realizacion alternativa adicional de un espaciador como se expone en el presente documento;
la Figura 6A es una vista en perspectiva superior de una lamina de muestra de los medios de filtro plegado que tienen materiales espaciadores individuales insertados en los pliegues del filtro como se describe en el presente documento;
la Figura 6B es una vista lateral de la lamina de muestra de la Figura 6A;
la Figura 7 es una vista lateral de una realizacion para la maquinaria que pliega los medios de filtro descritos en el presente documento;
las Figuras 8 y 9 son vistas en perspectiva de los medios de filtro plegado preparados para la insercion en un bastidor y una vista de un bastidor de ejemplo para mantener los medios de filtro plegado descritos en el presente documento;
la Figura 10 es una vista en perspectiva de los medios de filtracion ensamblados y el bastidor combinados para su uso en la presente invencion;
la Figura 11 es una vista en seccion lateral de una instalacion farmaceutica aseptica usando un filtro de ePTFE y que tiene un explorador de ensayo para la cara corriente arriba de los medios de filtro, un explorador de ensayo para la cara corriente abajo de los medios de filtro y un generador de aerosol posicionado en el flujo de aire corriente arriba para la exposicion y la deteccion de fugas de los medios;
la Figura 12 es un diagrama de flujo que detalla la maquinaria y las etapas implicadas en la creacion de medios de filtracion de ePTFE que tienen una malla corriente arriba, una malla corriente abajo y una membrana de ePTFE laminada entre ellas;
la Figura 13 es una maquina de ensayo para la determinacion de concentraciones ultra bajas de aerosol de exposicion usando el sistema y el metodo de la presente invencion.
Descripcion detallada
En la siguiente descripcion detallada, para propositos de explicacion y no de limitacion, se exponen realizaciones representativas que desvelan detalles espedficos con el fin de proporcionar una comprension completa de la invencion reivindicada. Sin embargo, sera evidente para un experto habitual en la materia que haya tenido el beneficio de la presente divulgacion que otras realizaciones de acuerdo con los presentes contenidos que se apartan de los detalles espedficos desvelados en el presente documento permanecen dentro del alcance de las reivindicaciones adjuntas. Ademas, pueden omitirse descripciones de aparatos y metodos bien conocidos de manera de no oscurecer la descripcion de las realizaciones representativas. Dichos metodos y aparatos estan claramente dentro del alcance de la invencion reivindicada. Por ejemplo, los aspectos de un sistema de filtracion de fluido desvelado en el presente documento se describen en conjunto con una pluralidad de estructuras de filtro que estan dispuestos de una manera espedfica y que interaction con otros componentes estructurales del sistema de filtracion de fluido de una manera espedfica. Sin embargo, pueden implementarse uno o mas aspectos de un sistema de filtracion de fluido descrito en el presente documento con estructuras de filtro dispuestas en configuraciones alternativas y/o con estructuras de filtro que interaction con otros componentes estructurales del sistema de filtracion de fluido en formas alternativas. Ademas, por ejemplo, como se describe con detalle adicional en el presente documento, las estructuras de filtro desveladas en el presente documento pueden variar en uno o mas aspectos de aquellas representadas espedficamente en el presente documento. La implementacion de estas y otras variaciones se contempla sin desviarse del alcance o el esprntu de la invencion reivindicada.
De la Figura 1 a la Figura 10 se representan diversos aspectos de una estructura 118 de filtro de ejemplo. En las diversas figuras, se muestran varias realizaciones para la produccion y el ensamblaje de los medios de filtro y el sistema descritos en el presente documento. En otras figuras, tambien se representan realizaciones de la maquinaria para la fabricacion del filtro HEPA de multiples capas. Por ultimo, en otras figuras y realizaciones, tambien se muestran y se representan multiples aspectos de un separador utilizado para la separacion de los
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pliegues de filtracion. Todas estas realizaciones y variaciones se utilizan en combinacion con el ensayo y la metodologfa de exposicion descritos en el presente documento para asegurar la integridad del filtro y el sello. Dicha metodolog^a de ensayo proporciona la capacidad de exponer un filtro HEPA de ePTFE con volumen bajo o volumen ultra bajo de PAO o PSL en diversas cantidades y concentraciones mientras que tambien detecta posibles fugas o danos de los medios de filtracion. Dicha metodologfa de exposicion de concentracion y volumen bajo o ultra bajo combinada con un filtro de HEPA de ePTFE garantiza una exposicion a baja concentracion de PAO del lado corriente arriba de los medios de filtracion de ePTFE mediante una boquilla controlable selectivamente o PSL. Ademas, las concentraciones y la determinacion de fugas pueden calcularse mediante un contador de partfculas posicionado para explorar la superficie del medio de filtracion en el lado corriente abajo del medio.
Por concentraciones bajas y ultra bajas de aerosol de exposicion, se entiende que las concentraciones son de aproximadamente 1,0 |jg de aerosol/l de aire hasta aproximadamente 0,01 |jg de aerosol/l de aire y por debajo para volumenes ultra bajos, asf como la deteccion de concentraciones a valores ultra bajos en un factor de 100 (0,01 %) que indica una concentracion detectable de hasta aproximadamente 0,000001 jg de aerosol/l de aire. Por tanto, se requiere la deteccion de partfculas ultra bajas corriente abajo para ser capaz de detectar dichas concentraciones bajas de materiales de exposicion usando, entre otros dispositivos, un contador de partfculas individuales.
Como se expone en el presente documento, se proporciona un metodo para el uso y el ensayo de un medio de filtracion de ePTFE. El filtro HEPA de ePTFE es adecuado para su uso en un entorno farmaceutico aseptico y se combina con una exposicion de ensayo sistematica que asegura la integridad del filtro. Como se resume en el presente documento, varias realizaciones del filtro y de la metodologfa de ensayo incluyen un filtro HEPA que tiene una malla de dos componentes, en el que una membrana de ePTFE esta laminada entre una capa de dos componentes superior y una inferior. El material de filtracion HEPA ePTFE puede utilizarse con un regimen de ensayo y exposicion de PAO correspondiente que incluye la exposicion de PAO a baja concentracion a la corriente de aire con el filtro HEPA ePTFE en su lugar mientras se utiliza un contador de partfculas para determinar el paso correspondiente a traves del material de exposicion PAO. La deteccion de incluso las partfculas diminutas de PAO por el contador de partfculas puede indicar danos en el filtro que despues puede repararse o reemplazarse correspondientemente segun sea necesario. Mediante la utilizacion de un emparejamiento de un filtro de ePTFE con una exposicion a PAO de concentracion ultra baja y un detector de partfculas, se consigue el uso de HEPA ePTFE sin obstruccion de la membrana por el PAO.
Como se muestra en la figura 1, se muestra una maquina de ejemplo para la combinacion de las capas 10 y 30 de dos componentes que se mueven por las correas 11 y 31 con la membrana 20 de ePTFE. La correa 21 alimenta la membrana 20 formada especialmente intercalada entre dos capas 10 y 30 no tejidas de dos componentes unidas por hilado de 40 gsm (g/m2). Las capas 30 y 10 superior e inferior, respectivamente, pueden ser de diversos tipos de medios de filtracion para la laminacion con membranas de ePTFE que son conocidas en la industria y los tipos espedficos de los medios utilizados en el presente documento no han de considerarse limitantes. Un filtro HEPA ePTFE de dos componentes como se describe en el presente documento puede presentar un valor de resistencia de al flujo de aire inicial que sea un 50 % inferior a un filtro de medios de vidrio HEPA convencional utilizado normalmente en dicho entorno. Dicho filtro puede someterse a ensayo para su certificacion en algunas realizaciones usando la metodologfa descrita en el presente documento utilizando concentraciones ultra bajas de PAO o microesferas junto con un contador de partfculas individuales para determinar el tamano de las fugas y la filtracion es indicativo del dano de los medios de filtracion.
Las dos capas 10 y 30 unidas por hilado pueden seleccionarse para proporcionar un peso total de aproximadamente 80 gsm (g/m2) combinadas de manera que cada capa individual pueda ser mas o menos que la capa de 40 gsm (g/m2) de ejemplo, segun sea necesario para la aplicacion espedfica y para proporcionar una buena superficie de laminacion para la union con la membrana 20 de ePTFE. Las capas de dos componentes tambien pueden seleccionarse para proporcionar una rigidez combinada de al menos aproximadamente 400 Gurley. Estos materiales de dos componentes pueden seleccionarse entre muchos miembros conocidos pero, en diversas realizaciones, el polietileno y el PET pueden combinarse para formar el material de dos componentes unido por hilado. Como se indica, una especificacion de ejemplo para la malla puede ser una malla unida por hilado de dos componentes de PE/PET con fines de laminacion. En diversas realizaciones, cada capa puede tener un peso base de 40 ± 3 g/m2 y un espesor de 0,25 ± 0,05 mm. Una permeabilidad al aire de ejemplo es mayor de aproximadamente 350 cfm (9,9 m3/min) con una resistencia a la traccion de DM > 100 N/5 cm y DC> 30.
Volviendo a la Figura 1, las capas 10 y 30 de dos componentes se alimentan mediante las correas 11 y 31 a una estacion de laminado o area de combinacion 45, en la que la membrana 20 de ePTFE se alimenta mediante la correa 21. La capa 50 de medios de filtracion combinados, que se muestra en las Figuras 1, 2, 3 y 5A, representa las capas de dos componentes laminadas a la membrana 20 de ePTFE. Como se ve en la Figura 1, la estacion de laminacion 45 une la membrana a las capas 10 y 30 a una temperatura de aproximadamente 165 °C a aproximadamente 175 °C a una velocidad de aproximadamente 20 a 30 m/min. Tambien se proporcionan rodillos de presion 52 para asegurar la laminacion adecuada de las dos capas 10, 30 con la membrana 20 despues de la aplicacion del calor de laminacion. De forma similar, la Figura 2, aunque no se muestra a escala, representa la capa de membrana 20, que se alimenta desde un rollo despues de ser mezclada y formada previamente, entre las capas 10 y 30 de malla inferior y superior respectivamente. Una vez tratada con calor y laminada correctamente por la
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estacion de laminacion 45 y los rodillos 52, los medios 50 de filtracion de ePTFE combinados se representan en la Figura 3 con las capas 30, 10 superior e inferior colocadas opuestas entre sf y laminadas/unidas por calor con la membrana 20.
En la presente realizacion, los medios 50 de filtracion combinados son una malla de filtro HEPA que tiene diametros de fibra de entre 0,5 y 2,0 micrometros. Como es sabido, los filtros HEPA retiran al menos el 99,97 % de las partfculas transmitidas por el aire de 0,3 pm (micrometros) de diametro. Aunque las capas de malla unida por hilado no proporcionan filtracion por atrapamiento de tipo membrana, se combinan con una capa 20 de membrana real en la que las partfculas son en realidad atrapadas por los zarcillos del material de la membrana de ePTFE. La membrana 20 de ePTFE, representada en el presente documento, proporciona caractensticas unicas en combinacion con las capas de malla, asf como la metodologfa de ensayo y exposicion espedfica usando concentraciones de PAO ultra bajas evitando la obstruccion de la membrana por la PAO y el mantenimiento de la eficiencia del filtro incluso despues de multiples exposiciones de certificacion.
La membrana 20 de ePTFE especializada utilizada en el presente documento se crea a partir de un material de PTFE en polvo fino, por ejemplo un polvo de Daikin denominado Polyflon PTFE F-135. El polvo fino utilizado tiene una gravedad espedfica patron de aproximadamente 2,149 a aproximadamente 2,165 y una densidad aparente de aproximadamente 0,42 a aproximadamente 0,54 g/ml. El polvo fino tiene ademas una distribucion de tamano de partfcula de 400-650 pm.
Despues, el polvo fino de PTFE fino se mezcla con un aceite en una relacion de aproximadamente el 33 % en un tocho pastoso. El aceite de mezcla puede ser Disolvente IP 2028 con una viscosidad de 3,01 m.Pa.s/a 20 grados C y una densidad de 213 a aproximadamente 262 g/cm3 a aproximadamente 15 grados C. Esta mezcla se lleva a un punto de ebullicion a de aproximadamente 213 a aproximadamente 262 °C con un tiempo de mezcla de aproximadamente 10 minutos. Una vez que el material se mezcla minuciosamente, puede estirarse en una membrana o pelfcula a traves de estiramiento tanto ODT como ODM. Inicialmente, se realiza un estiramiento ODM en una relacion 5:1 y a una temperatura de aproximadamente 50 grados C. Se utilizan tres rodillos en el estiramiento ODM, cada rodillo se calento a aproximadamente 250 grados C. Despues de la terminacion del estiramiento ODM, se realiza un estiramiento ODT en una relacion de aproximadamente 30-50 a 1. La membrana se precalienta a una temperatura de aproximadamente 200/200 grados C, una temperatura de estiramiento de 300/300 grados C y una temperatura de ajuste de calor de aproximadamente 370/500 grados C. Una vez que se forma la membrana, esta puede enrollarse para su uso y combinacion posterior dentro de una capa de malla para la formacion de un material de filtro de ePTFE.
Un proceso de ejemplo para la creacion de la membrana de ePTFE para su uso en los medios de filtro y las etapas del metodo analizadas en el presente documento se muestra en la Figura 12. Como puede observarse, el disolvente en polvo fino se mezcla con aceite de mezcla y se mezclan finamente. Despues, la pasta se preforma y despues se extruye a traves de una extrusora para calandrado a un rollo de membrana a aproximadamente 220 pm. Una vez que se calandra, se forma un rollo de membrana de ePTFE que despues puede enviarse a un secador para el secado adecuado de manera que la membrana pueda estirarse como sea necesario para prepararla para la laminacion en un espesor apropiado. El estiramiento de variante ODT/ODM puede transmitirse a la membrana de PTFEe de manera que despues de la laminacion del material de malla, incluso en las realizaciones diferentes de una malla de dos componentes analizada en el presente documento, los medios combinados presentan la cafda de presion necesaria y deseada y la eficiencia adecuada para la aplicacion deseada.
Despues de la terminacion del estiramiento TD como se representa en la Figura 12, la membrana 20 tiene un espesor de entre aproximadamente 6 a 10 pm antes de combinarse con las capas 10, 30 superior e inferior de la malla de dos componentes como se muestra. El HEPA ePTFE combinado presenta un espesor total de aproximadamente 0,40 mm con un intervalo de entre 0,25 y 0,55 mm. Ademas, se demuestra que el peso base, en realizaciones diferentes, es de aproximadamente 81 g/m2 con un intervalo de entre aproximadamente 76 y aproximadamente 86 g/m2. Ademas, la cafda de presion promedio de los medios combinados producidos con la membrana de ePTFE fabricada y aplicada como se establece en el presente documento es de aproximadamente 11,73 mm de H2O (115,03 Pa) con un intervalo de aproximadamente 10,20 (100,03 Pa) a aproximadamente 13,26 mm de H2O (130,04 Pa).
Haciendo referencia de nuevo a la Figura 1 se muestra un ejemplo de una realizacion alternativa y una maquina disenada para la combinacion de las capas de malla duales y la membrana 20 de ePTFE. Despues de combinar las multiples capas juntas, el material 50 de filtracion combinado puede alimentarse a una maquina de laminacion 45 como se analiza en el presente documento. La velocidad de laminacion para la union de la membrana a las capas 10, 30 de dos componentes es de aproximadamente 20-30 m/min y da como resultado un medio de filtracion HEPA ePTFE combinado que tiene una cafda de presion de aproximadamente 100-150 Pa y una eficiencia relacionada de mas del 99,94 %. Dichas calificaciones se presentan con una condicion de ensayo de velocidad de la corriente de aire de 0,053 m/s con un aerosol de sflice.
En algunas realizaciones, la membrana de ePTFE puede ser una unica o incluir multiples capas con un espesor mmimo de aproximadamente 5 micrometros y preferentemente de aproximadamente 10 micrometros de espesor.
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Sin embargo, tanto la porosidad como la ca^da de presion pueden equilibrarse en la membrana para mantener la eficiencia de energia deseada de manera que puedan utilizarse diversos grosores de forma similar para crear la eficiencia energetica similar. Como se forma en el presente documento, la membrana de ePTFE se llena con un numero de nodos grandes y fibrillas finas que permiten la tolerancia de bajas concentraciones de PAO, DOP, DEHS u otros aerosoles de ensayo. A traves de la utilization de nodos mas grandes en la membrana, se cree que las fibrillas y los nodos de mayor diametro son mas resistentes a la infiltracion del material de exposition tal como PAO ya que las fibrillas de diametro mas grande se ven relativamente menos afectadas por volumenes equivalentes del aerosol de aceite.
Como se muestra en los siguientes grafico 1 y grafico 2, la membrana y el material de malla de ePTFE combinados presentan caracteristicas de caida de la presion y eficiencia beneficiosas significativas en comparacion con otros medios de filtration HEPA ePTFE conocidos:
En los que la lmea de puntos triangulares representa una tecnica anterior medios de filtracion HEPA H13 Ningbo (fabricante chino) y la lmea de puntos cuadrados representa la realization descrita actualmente de material de malla de capa dual HEPA ePTFE descrito en el presente documento.
Volviendo a las Figuras, como se representa en la Figura 4, el medio 50 laminado combinado se prepara para el plegamiento mediante el desenrollamiento inicial del medio combinado y la alimentation a una correa para el transporte a un aparato de plegado 60. Como se entiende, el plegado se realiza a traves de muchos procesos y el representado solo se proporciona como un medio para describir uno de una serie de procesos para plegar, corrugar y doblar los medios de filtro plegado de ePTFE. Ademas, la representation que se muestra en las figuras es con
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fines descriptivos y explicativos. Antes del plegado del medio 50, una boquilla 53 del inyector proporciona rebordes de material separador 51 sobre los medios de filtro que se usan para asegurar la separacion adecuada de los pliegues adyacentes formados a partir de los medios mediante la maquina de plegado. El fracaso al separar suficientemente los pliegues puede provocar que los pliegues se colapsen bajo la presion del flujo de aire activo. Al proporcionar separadores espaciados, el mantenimiento de la estructura de pliegue se asegura para permitir un area de superficie adecuada de los medios de filtracion, el posicionamiento de los pliegues y la eficacia.
Los separadores 51, representados en varias realizaciones de las Figuras 4, 5B, 5C, 6A y 6B, pueden ser de muchos tipos de construccion. Esto incluye rebordes simples, secciones, estructuras de pajarita, lmeas alargadas 54 u otras configuraciones. Pueden utilizarse muchas variaciones de la construccion separadora con el fin de asegurar la posicion y la separacion adecuadas de los pliegues, incluyendo el estampado en relieve de los medios e incluso el uso de la fusion en caliente para asegurar los medios en su lugar. Los separadores tambien pueden incluir separadores y espaciadores mecanicos, asf como separadores de tipo reborde. La divulgacion del presente documento de los multiples separadores se proporciona con fines de ejemplo y no se ha de interpretar ninguna limitacion innecesaria de dicha divulgacion ya que se considera que los contenidos del presente documento incluyen la estructura equivalente para la funcionalidad de separador.
Los separadores 56 de tipo reborde, que se muestran en la Figura 6A y 6B, se colocan a lo largo de lmeas 57 de doblez opuestas para asegurar el correcto posicionamiento del pliegue. Los separadores son de una qmmica y una cantidad preseleccionadas de acuerdo con la geometna y la composicion del material de los medios de filtro, es decir, tamano, peso, profundidad y amplitud. Dichos separadores se colocan de manera que las caras de los pliegues opuestos que forman los valles de los pliegues se extienden y mantienen una posicion preseleccionada con los valles sin restricciones para el flujo libre de la corriente de fluido a traves de los medios plegados.
En muchas realizaciones, el material separador puede ser un material transparente que no interacciones con el PAO u otro aerosol de exposicion utilizado en las etapas de exposicion de la certificacion descritas en el presente documento. Por ejemplo, el material separador puede ser poli-alfa olefina que es transparente y que no decolora los medios de ePTFE adyacentes cuando se exponen a un aerosol de aceite PAO.
Volviendo a las Figuras 4, 5B, 5C, 6A y 6B, el material se dobla mediante un aparato 60 de plegado a traves de muchos mecanismos conocidos, tales como el uso de rodillos de ranurado y de corrugado tal como se conocen. Una pluralidad de pliegues 62 se crea y la placa posterior 64 mantiene la presion de compresion sobre los medios de filtracion recien plegados. Un transportador de plegado 63 hace avanzar el material plegado hacia la placa posterior mientras que la placa se expande para aceptar medios de filtracion adicionales en sentido contrario.
Como se muestra a modo de ejemplo en la Figura 7, los rodillos de presion 72 pueden combinarse con los rodillos de ranurado 74 y los rodillos de plegado 76 para formar apropiadamente la pluralidad de pliegues 62 descritos. Una boquilla 78 puede proporcionarse como se representa para posicionar una lmea continua de material separador 59 en la porcion de la punta de cada pliegue con el fin de mantener la separacion de pliegues apropiada. Como se ha indicado, el material separador puede ser una poli-alfa olefina transparente que no lixivie los colores o no decolore los medios de filtracion de color blanco cuando se exponen a la PAO durante el proceso de exposicion.
Una vez que el medio esta adecuadamente plegado, puede cortarse y prepararse para la insercion en un material 110 del bastidor, como se muestra en la Figura 9. El bastidor del filtro puede ser de aluminio extruido anodizado, por ejemplo. En algunas aplicaciones, el bastidor del filtro, ya se utilizando aluminio o una alternativa viable como se conocen, puede formar un canal continuo que se llena con un gel que no fluye. Un canto o borde 101 pueden estar incrustado en el sellador de gel para efectuar un sello a prueba de fugas entre el entorno de la instalacion del filtro. Como alternativa, puede utilizarse un sistema de sello de la junta en el que se implementa una pestana plana en el lado corriente abajo del bastidor del filtro. Pueden utilizarse otras estructuras y juntas para bastidores conocidas en las diversas realizaciones desveladas. Tambien pueden utilizarse sellos de gel que, en diversas instalaciones, pueden incluir un elastomero.
Se muestra una unica unidad 100 del filtro en la Figura 8 antes de su insercion en una estructura 110 de bastidor. Los bordes 101 pueden corrugarse para su retencion dentro de la estructura del bastidor, quedando todo el filtro retenido dentro de la estructura mediante el metodo y las estructuras disponibles conocidos. Como ejemplo representado en la Figura 10, el filtro completado 118 incluye tiras 115 de soporte de ejemplo con una pluralidad de pliegues 120 que se muestran y que estan debidamente apoyados por diversas estructuras separadoras como se han descrito.
Despues de la instalacion en una instalacion farmaceutica aseptica, debe realizarse una certificacion en el lugar. Como se ha analizado en el presente documento, dicha exposicion con frecuencia incluye una exposicion con un aerosol a base de aceite tal como PAO con el fin de determinar el tamano de las fugas y la continuidad estructural del filtro. En combinacion con los medios de filtracion de ePTFE establecidos, se proporciona un proceso para la exposicion a concentraciones ultra bajas de medios de filtracion en un entorno farmaceutico aseptico. En general y en diversas realizaciones descritas en el presente documento, pueden utilizarse una o mas realizaciones de filtro de ePTFE descritas en el presente documento en una etapa de exposicion a una concentracion de aerosol ultra baja en
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la que el flujo de aire corriente arriba es arrastrado con un compuesto de exposicion. En general y en diversos aspectos establecidos, el aerosol de PAO puede introducirse corriente arriba con el fin de determinar el dano a la estructura o el sello del filtro. Se requiere dicha determinacion y examen habituales y periodicos de fugas en dichas aplicaciones y a traves del uso de la metodologfa de concentracion ultra baja en combinacion con el filtro de ePTFE, la vida del filtro puede mejorarse significativamente hasta e incluyendo la vida util de la instalacion.
En general y como se representa por ejemplo solamente en la Figura 11, un filtro 210 de ePTFE se coloca dentro de una corriente de aire dentro del conducto o de otro sistema 200 de transporte de aire. Durante la exposicion del medio de ePTFE, una fuente de concentracion ultra baja de PAO u otro aerosol se coloca corriente arriba del filtro 210. En esta realizacion, una boquilla Laskin 202 modificada que tiene un suministro 201 puede ser operativa como un emisor de volumen bajo o ultra bajo de aerosol de exposicion. En la certificacion de dichos filtros, las fugas se determinan por comparacion de las concentraciones de exposicion en el lado corriente arriba frente al lado corriente abajo. Si hay presente una fuga u otra imperfeccion estructural en el medio de filtracion y en el sello del filtro, las concentraciones corriente abajo de mas que aproximadamente el 0,01 % lo indica. De este modo, las concentraciones corriente arriba y corriente abajo del material de exposicion deben determinarse y debe calcularse una concentracion. Puede conseguirse la generacion de aerosol alternativa tal como el generador de aerosol de tipo condensacion termica u otros sistemas conocidos que estan disponibles para dicha generacion de aerosol de concentracion. Estos sistemas pueden utilizarse con el fin de implementar el metodo de penetracion de filtro descrito en el presente documento.
En algunas de las realizaciones descritas, puede utilizarse un material de exposicion tal como el aerosol de PAO. Como resultado de la instalacion de un medio de filtracion HEPA ePTFE en un ejemplo, pueden introducirse concentraciones ultra bajas de PAO usando un generador y dispositivo de dilucion de de aerosol que pueden estar combinados, como se representa con fines de ejemplo en la Figura 13, o pueden estar separados dentro del suministro y el conducto de aire de la mezcla de exposicion, segun sea necesario. Se sugiere que estas concentraciones bajas y ultra bajas vanan en el intervalo entre aproximadamente 1,0|jg/l y aproximadamente 0,01 jg/l. La deteccion de concentraciones significativamente mas pequenas de dicho aerosol de exposicion, como concentraciones indicadas del 0,01 % de las concentraciones introducidas. Dichas pequenas concentraciones en el lado corriente abajo de un medio de filtrado de ePTFE requieren mediciones de partfculas individuales. De este modo, puede utilizarse un contador 209 de partfculas individuales para medir con precision dichas concentraciones ultra bajas del material de exposicion. Como se muestra, un contador 209 de partfculas puede combinarse con una sonda de exploracion de mano u otro dispositivo 207 de medicion individual que puede alimentarse en el flujo de aire corriente abajo adyacente al lado corriente abajo del filtro 210 a traves de un puerto de acceso 205 para tomar las medidas apropiadas.
Las mediciones de concentracion corriente abajo mediante el contador 209 de partfculas pueden compararse con las concentraciones corriente arriba calculadas por el explorador 208 corriente arriba con el fin de determinar las concentraciones de penetracion de PAO. Como se ha indicado, las concentraciones corriente abajo de mas de aproximadamente el 0,01 % de las concentraciones corriente arriba indicanan problemas de integridad del filtro. Ademas, como resultado de la presente realizacion del uso de un medio HEPA ePTFE, solo pueden utilizarse concentraciones ultra bajas del aerosol de PAO de exposicion con el fin de evitar la obstruccion del medio o de lo contrario se produce como resultado una cafda significativa de la eficiencia y la capacidad de filtracion. Como tal, deben utilizarse protocolos y equipos especializados de medicion de concentracion ultra baja para determinar las concentraciones corriente abajo y el porcentaje de fugas.
Como se ha indicado, es significativamente deseable usar las diversas realizaciones de medios de filtracion desveladas en el presente documento en comparacion con el microvidrio tradicional. Como resultado, debe utilizarse dicha metodologfa utilizando generadores de concentracion ultra baja de aerosol en combinacion con el equipo de deteccion de dichas concentraciones, tanto en el lado corriente arriba como corriente abajo de los medios 210. Un explorador 208 corriente arriba puede combinarse con el explorador 209 corriente abajo como se muestra. Pueden utilizarse sistemas automatizados que incluyen un microprocesador y software para leer las mediciones de los dos dispositivos de exploracion con el fin de determinar rapidamente y con precision las concentraciones corriente abajo. Dicho microprocesador puede incorporarse con dicho explorador corriente arriba, el explorador corriente abajo o, en algunas realizaciones, puede combinar ambas estructuras y funcionalidad para calcular el porcentaje de fugas corriente abajo. Como alternativa, en otras realizaciones, pueden hacerse mediciones corriente abajo y despues pueden determinarse determinaciones de concentraciones ultra bajas corriente abajo.
Las concentraciones corriente arriba, incluso cuando estan en valores ultra bajos, como se especifica en el presente documento, pueden ser tan grandes que puede sobrepasarse un contador de partfculas individuales corriente arriba puede. Por tanto, en algunas realizaciones, puede utilizarse una combinacion de un explorador fotometrico corriente arriba con un contador de partfculas individuales corriente abajo con el fin de calcular la concentracion en porcentaje de penetracion corriente abajo apropiada del aerosol de exposicion. En general, un fotometro de aerosol corriente arriba con un cabezal 208 de exploracion del filtro asociado pueden usarse para determinar concentraciones ultra bajas corriente arriba. Asociado al fotometro de aerosol corriente arriba y al cabezal 208 de exploracion puede haber una boquilla Laskin 202 modificada que genera concentraciones ultra bajas de la PAO de exposicion para el ensayo y la certificacion del filtro. El generador de boquilla Laskin puede usarse en combinacion con un reductor de aerosol
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tal como un eliminador de bruma de aceite con una derivacion capilar de calibre 18. El generador de aerosol Laskin modificado puede modificarse de manera que el control finito y la salida de las concentraciones de PAO de exposicion puedan mantenerse a concentraciones tan bajas como para no afectar sustancialmente a la eficiencia y a la eficacia del medio de filtracion 210 HEPA ePTFE representado. Dichas concentraciones incluyen las emisiones controlables de desde aproximadamente 1,0 ug/l hasta aproximadamente 0,01 |jg de PAO/l o menos que pueden incluir la determinacion de las concentraciones de hasta aproximadamente 0,3 jm/pie cubico (0,028 metros cubicos) o aproximadamente 6 millones de partmulas por pie cubico (0,028 metros cubicos) o menos. Por supuesto, el detector 208 corriente arriba puede ser cualquier tipo de detector de ultra baja concentracion capaz de medir con precision las concentraciones de PAO en el flujo de aire y la cara del filtro corriente arriba de manera que pueda hacerse un calculo exacto del porcentaje de concentracion corriente abajo.
Asociado a la boquilla 202 Laskin modificada y al reductor de aerosol y el detector 208 corriente arriba hay un detector corriente abajo que debe ser capaz de mediciones de tan poco como el 0,01 % de las concentraciones corriente arriba ultra bajas. Por tanto, puede utilizarse un contador 209 de partmulas laser de ejemplo con una sonda de exploracion de mano rectangular, como un ejemplo de realizacion, con el fin de escanear las esquinas del filtro y que tenga un tamano detectable mmimo de partmulas de 0,3 jm o inferior y concentraciones y una sonda de exploracion de mano rectangular para cumplir con las condiciones de flujo aproximadamente isocineticas.
Por ejemplo, en algunas realizaciones, puede usarse un sistema de flujo a traves con flujo de envoltura, multi-LED y/o diodo de laser para la excitacion. Dicha electronica asociada utilizara la dispersion para la deteccion y debena ser capaz de la deteccion de tamanos de partmulas de hasta 0,1 1 jm y la concentracion de masa de aproximadamente 1 jg/l hasta 0,01 jg/l o menos para el uso de un fotodiodo o detector de partmulas individuales. Ademas, para concentraciones muy bajas, la deteccion del contador de partmulas cercanas puede utilizarse con aerosol en masa a un mmimo de 0,1 jm y mas grande (es decir, contador de partmulas/fotometro con la capacidad de medir la penetracion del 0,01 % cuando la concentracion corriente arriba es de 0,01 ug/l y superior). Como se ha indicado, puede haber un procesador integrado en la interfaz para autocalcular el recuento de partmulas en la penetracion de los medios de filtracion para la determinacion de fugas.
Una vez que se calculan las concentraciones corriente arriba y corriente abajo conocidas, puede completarse un calculo de la tasa de fugas en el que la concentracion corriente arriba se divide en la concentracion corriente abajo para determinar la tasa de fuga. Los calculos tan bajos como un valor igual o mayor que concentraciones de exposicion corriente abajo del 0,01 % indicanan una fuga dentro de la estructura de filtro o el sello. El calculo de fugas automatizado puede implementarse conectando electronicamente el explorador 208 corriente arriba y el explorador 209 corriente abajo de manera que las tasas de fuga que comparan las dos exploraciones puedan determinarse. Dicha conexion electronica pueden ser lmeas de comunicacion convencionales entre los dispositivos, lmeas de comunicacion electronicas entre un ordenador centralizado que lee los datos de cada dispositivo y proporciona el calculo de fugas automatizado o un dispositivo de exploracion integrado que es capaz de hacer mediciones corriente arriba y corriente abajo interconectadas y que, despues de un penodo de tiempo de exposicion especificado, calcula las concentraciones corriente abajo apropiadas y los valores de fuga.
Ejemplos
Se realizo un ensayo de medicion de ejemplo sobre los efectos del ensayo de concentracion de PAO ultra baja (< 0,3 mg/m3 (jg/l)) de filtros de ePTFE. El estudio demostro la equivalencia y la eficacia de los filtros de ePTFE sometidos a ensayo con concentraciones habituales de la industria (10mg/m3 (jg/l) o mayor) y concentraciones ultra bajas de PAO para detectar fugas y determinar sus tamanos.
El metodo de ensayo convencional de usar un fotometro y una exposicion de PAO > 10mg/m3 (jg/l) se empleo como un medio para dimensionar defectos creados en un filtro de ePTFE. Los resultados se compararon directamente con un metodo de ensayo alternativo que estaba compuesto por el uso de un contador de partmulas individuales (CPI) con concentraciones de exposicion de PAO reducidas ultra bajas (< 0,3 mg/m3 (jg/l)). El ensayo se realizo mediante la creacion de doce defectos en un filtro HEPA de una CFL (campana de flujo laminar). Despues, se tomaron datos de ensayo comparativos usando los dos metodos. La construccion del ensayo se muestra en la Figura 13.
Se coloco un dispositivo de posicionamiento de la sonda de muestra que lleva el eje linear XY frente a la CFL como un medio para eliminar la variacion de muestreo debida a la colocacion de la sonda. Esta unidad consistfa en una base fijada en el suelo, con ejes horizontales y verticales moviles para el posicionamiento exacto de la sonda.
El ejemplo se realizo usando una CFL horizontal de 610 mm x 1220 mm (2 pies * 4 pies) como se muestra y se representa en la Figura 13. Un filtro HEPA utilizado para el estudio era un filtro de ePTFE desvelado en el presente documento clasificado para un flujo nominal de 630 cfm (17,84 m3/min) con un mdice de eficiencia del 99,95 % en el TPMP (tamano de partmula mas penetrante). La CFL se sometio a ensayo para determinar la velocidad de flujo de aire, las fugas y el flujo unidireccional antes de comenzar el estudio. La determinacion de la uniformidad de la exposicion al aerosol se consiguio mediante la fabricacion y la instalacion de una grna de acero inoxidable corriente arriba del filtro. Despues, se inserto un tubo de muestreo en la grna y se posiciono de manera que la abertura del
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tubo de muestra se situara en el extremo de la gma. Se fijo un conducto flexible (diametro de 30,5 cm (12 pulg) x 5,5 m (18 pies)) a la entrada de la campana para conseguir una mezcla corriente arriba adecuada.
El equipo de medicion y ensayo utilizado para determinar las concentraciones de exposicion de aerosol corriente arriba del filtro de ePTFE HEPA ensayo fue un fotometro TSI 2-G y un contador de partfculas laser Lighthouse Solair modelo 3100 en combinacion con un dispositivo de dilucion de de aerosoles Milholland & Associates modelo 450ADS como se enumera en la tabla a continuacion en la Tabla 1. La combinacion contador de partfculas e instrumento de dilucion se uso para determinar el numero real de partfculas de exposicion para los ensayos de PAO de nivel ultra bajo (< 0,3 mg/m3 (|jg/l) que corresponde a las condiciones 1 y 2 expuestas en la Tabla 1.
Condiciones de estudio
Tres condiciones evaluadas derivaron de una combinacion de los tamanos de partfcula (0,3 y 0,5 jm), el fotometro y el equipo de ensayo CPI y las concentraciones de exposicion de aerosol seleccionadas (PAO). La siguiente tabla Tabla 1 define los instrumentos de ensayo, las concentraciones y los tamanos de partfcula sometidos a ensayo. Un aerosol de PAO producido por una boquilla Laskin de 38 millones de partfculas > 0,3 jm es equivalente a aproximadamente 0,1 mg/m3 (jg/l).
TABLA 1
- Metodo
- Condicion Instrumento Mediciones de exposicion reportadas
- PAO ultra baja
- 1 Contador de partfculas individuales ~ 20 * 106 partfculas > 0,3 jm por ft3 (30,48 cm3) de PAO
- 2
- Contador de partfculas individuales ~ 7 * 106 partfculas > 0,5 jm por ft3 (30,48 cm3) de PAO
- PAO convencional
- 3 Fotometro de aerosol > 11 mg/m3 (jg/l)
El equipo y los materiales utilizados en este ensayo de muestra incluyeron lo siguiente:
• Contador de partfculas individuales
• Generador de aerosol autocontenido portatil
• Poli-alfa-olefina (PAO)
• Fotometro
• Campana de flujo laminar horizontal 2' * 4'
• Dispositivo de dilucion de de aerosol
• Dispositivo de posicionamiento de eje X - Y
• Conducto flexible 12" * 18'
• Multfmetro de datos de aire
• Anemometro ultrasonico manual
En el filtro de ePTFE, se hicieron defectos que consistfan en doce agujeros en el medio de ePTFE mediante la insercion de una aguja hipodermica de calibre 30 en el medio dos veces en cada sitio de defecto. La velocidad frontal promedio de 104 fpm (192 m/seg) se determino usando el anemometro ultrasonico. El area frontal del filtro era de 6,52 ft2 (0,61 m2). El flujo volumetrico a traves del filtro se calculo que era de 675 cfm (19,11 m3/min). La cafda de presion a traves del filtro se midio que fue de 0,158" wc (39,36 Pa). Se observo que esto era aproximadamente el 25 % de la cafda de presion de un filtro de microvidrio tendido en humedo comparable (0,58" wc (144,5 Pa) a 650 cfm (18,406 m3/min) operando al 90 % del volumen de flujo de aire de ePTFE.
La mezcla corriente arriba se verifico usando un contador de partfculas con concentraciones ultra bajas de PAO como la exposicion. Las mediciones se realizaron en seis ubicaciones corriente arriba del filtro ePTFE. Las ubicaciones de las muestras cayeron entre las dos filas en las que se crearon los defectos, lo que es aproximadamente cuatro pulgadas (10,16 cm) por debajo y por encima de la primera y segunda filas respectivamente. La varianza de lectura de la muestra de PAO para las seis ubicaciones fue de menos de aproximadamente el 1 %.
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Tabla 2 - Recuentos de particulas corriente arriba en los puntos de deteccion de fugas
- Ubicacion de la muestra
- recuentos/ft3 (recuentos/30,48 cm3) recuentos/ft3 (recuentos/30,48 cm3)
- particulas de > 0,3 micrometros
- particulas de > 0,5 micrometros
- 1
- 37890 11224
- 2
- 39732 12038
- 3
- 39726 12018
- 4
- 39484 11868
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- 39624 12114
- 6
- 38626 11810
El generador de boquilla Laskin de tamano un cuarto se uso en combinacion con un reductor de aerosol (eliminador de bruma de aceite con una derivacion capilar de calibre 18) para proporcionar la exposicion corriente arriba. Se tomaron muestras de treinta segundos (0,5 ft3 (0,014 m3)) en cada una de las seis ubicaciones y los recuentos por pie cubico (30,48 cm3) se han mostrado anteriormente. La presion diferencial del dispositivo de dilucion se midio a 4,89" wc (1218 Pa) que correspondfa a un factor de dilucion de 966. El generador de boquilla Laskin con el reductor de aerosol crearon una exposicion de filtro de aproximadamente 20 millones de particulas a > 0,3 um y aproximadamente 7 millones de particulas a > 0,5 micrones por pie cubico (30,48 cm3) de aire. El dimensionamiento se repitio 10 veces para ganar significacion estadfstica.
Exposicion a PAO ultra baja < 0,3 mg/m3 (pg/l) usando un contador de particulas individuales (Condiciones 1 y 2)
El filtro de ePTFE se expuso a un nivel ultra bajo de PAO en el intervalo de 0,3 mg/m3 (|jg/l), como se determino por el fotometro. Los tamanos de defectos se midieron en orden, comenzando con el defecto 1 y continuando secuencialmente hasta el defecto 12. Despues de completar el dimensionamiento de defectos, se midio una nueva exposicion corriente arriba y el dimensionamiento de defectos se repitio para un total de 10 ejecuciones para proporcionar numeros estadfsticamente validos.
Al principio y al final de cada ejecucion se registro la exploracion corriente arriba. Al final de la ejecucion 8 se observo que la exposicion corriente arriba estaba aumentando a un ritmo significativo. Se teorizo que el aumento estaba relacionado con la carga del eliminador de bruma de aceite utilizado para reducir la salida del generador de aerosol. Las ejecuciones 9 y 10 se excluyeron del analisis debido a las concentraciones de exposicion que aumentaron abruptamente. Las concentraciones crecientes afectan a la dilucion y por tanto los recuentos corriente abajo del contador de particulas, independientemente del material que se esta sometiendo a ensayo por lo que se determino que era un fallo mecanico.
Exposicion a PAO convencional 10,0 mg/m3 (pg/l) usando un fotometro de aerosol (Condicion 3)
La tercera condicion consistia en la utilizacion del metodo aerosol de PAO/fotometro tradicional para dimensionar los defectos creados en el filtro de ePTFE. El filtro de ePTFE se expuso a aproximadamente 10,7 mg/m3 (jg/l) (corriente arriba promedio de 10 ejecuciones) de PAO usando el generador de boquilla TEC 1,5 Laskin operando a 20 psi (137,90 kPa). Los tamanos de defectos se midieron con un fotometro en orden, comenzando por el defecto n.° 1 y continuando secuencialmente hasta el defecto n.° 12. Despues de completar el dimensionamiento de los 12 defectos, se midio una nueva exposicion corriente arriba y se repitio el dimensionamiento de defectos para un total de 10 ejecuciones. El tamano de defecto medio (mas de 10 ejecuciones) se muestra a continuacion para cada defecto 1-12.
Sumario
El rendimiento del ePTFE no se vio afectado durante el ensayo. Los datos mostraron que el filtro de ePTFE no se vio afectado por el ensayo, ya que mantuvo su eficiencia de al menos el 99,99 % y una cafda de presion de 0,1578" H2O (39,31 Pa). Esto se compara con una eficiencia de captura del 99,99 % y una cafda de presion de 0,6" H2O (149,5 Pa) a traves del filtro de vidrio al 90 % del flujo de aire.
Los tamanos promedio de las fugas para las tres condiciones de ensayo se muestran en la Tabla 3 a continuacion. Una comparacion directa del metodo de ensayo revela que el contador de particulas en promedio dimensiono el tamano de las fugas ligeramente mas pequenas que el fotometro para las condiciones de distribucion de tamano de particula tanto de > 0,3 jm como de > 0,5 jm. Se observo que el contador de particulas en promedio dimensiono las fugas ligeramente mas grandes que el fotometro. Para comprender mejor la repetibilidad y la reproducibilidad del equipo de medicion y ensayo utilizado en este ejemplo, se realizo una comparacion del tamano de las fugas de
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cabezal a cabezal usando 10 fotometros. La misma comparacion se realizo mas tarde usando 7 contadores de partfculas. Los resultados del estudio demostraron que no hubo diferencia estad^stica entre los tamanos de las fugas obtenidos para la alta concentracion convencional y las concentraciones ultra bajas y los metodos de ensayo presentados.
Variacion del tamano de las fugas por instrumento
ss PAO ultra baja-DPC
0«-
ss PAO ultra baja-DPC
■'v V -J
Fotometro
Numero de defecto
GRAFICO 3
Se observo que el contador de partfculas en promedio dimensiono las fugas ligeramente mas grandes que el fotometro. Para comprender mejor la repetibilidad y la reproducibilidad del equipo de medicion y de ensayo utilizado en el estudio, se realizo una comparacion del tamano de las fugas de cabezal a cabezal usando 10 fotometros. La misma comparacion se realizo mas tarde usando 7 contadores de partfculas. Los resultados del estudio demostraron que no hubo diferencia estadfstica entre los tamanos de las fugas obtenidos para los metodos de concentracion tradicional y ultra baja.
Se emplearon dos metodos de ensayo para dimensionar los defectos en un filtro de ePTFE.
Exposicion a PAO de nivel ultra bajo (~ 0,3 pg/l) con un contador de partfculas individuales
Exposicion a PAO de nivel convencional (-10 pg/l) con un fotometro.
Los resultados indican que los defectos en el filtro de ePTFE pueden dimensionarse con precision usando exposiciones a PAO de nivel ultra bajo y un contador de partfculas. Bajo los metodos de ensayo mencionados anteriormente, las dos opciones de ensayo de CPI (dimensionamiento de defectos de conteos de partfculas de > 0,3 pm y > 0,5 pm) tuvieron un rendimiento adecuado en comparacion con el fotometro.
La variacion de dimensionamiento de las fugas con un contador de partfculas individuales como se establece en el metodo del presente documento cae dentro de la variacion del fotometro individual sometido a ensayo. Los resultados proporcionan validez a la utilizacion de concentraciones bajas de PAO y CPI para determinar el tamano de las fugas en los filtros de ePTFE. Utilizando esta metodologfa, la carga del filtro llevara 150-300 veces mas tiempo sobre la base de los ensayos anteriores.
Los artfculos indefinidos "un" y "una" como se usan en el presente documento en la memoria descriptiva y en las reivindicaciones, a menos que se indique claramente lo contrario, deben entenderse que significan "al menos uno".
La frase "y/o", como se usa en el presente documento en la memoria descriptiva y en las reivindicaciones, debe entenderse que significa "uno de los dos o ambos" de los elementos unidos de este modo, es decir, elementos que estan presentes conjuntivamente en algunos casos y presentes disyuntivamente en otros casos. Multiples elementos enumerados con "y/o" deben interpretarse de la misma manera, es decir, "uno o mas" de los elementos unidos de este modo. Pueden estar presentes opcionalmente otros elementos distintos de los elementos identificados espedficamente por la clausula "y/o", ya sea relacionados o no relacionados con los elementos identificados espedficamente. Por tanto, como ejemplo no limitante, una referencia a "A y/o B", cuando se usa en conjuncion con una expresion de composicion abierta tal como "que comprende" puede referirse, en una realizacion, a A solamente (que incluye opcionalmente elementos distintos de B); en otra realizacion, a B solamente (que incluye opcionalmente elementos distintos de A); en otra realizacion mas, para ambos A y B (que incluyen opcionalmente otros elementos); etc.
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Como se usa en el presente documento en la memoria descriptiva y en las reivindicaciones, debe entenderse que "o" tiene el mismo significado que "y/o" como se ha definido anteriormente. Por ejemplo, cuando separan elementos de una lista, "o" o "y/o" deberan interpretarse como inclusivos, es decir, la inclusion de al menos uno, pero incluyendo tambien mas de uno, de un numero o una lista de elementos, y, opcionalmente, elementos no enumerados adicionales. Solamente los terminos que indican claramente lo contrario, como "solo uno de" o "exactamente uno de", o, cuando se usa en las reivindicaciones, "que consiste en", se referiran a la inclusion de exactamente un elemento de un numero o lista de elementos. En general, el termino "o" como se usa en el presente documento debera interpretarse solamente como una indicacion de alternativas exclusivas (es decir, "uno o el otro, pero no ambos") cuando va precedido de terminos de exclusividad, tales como "uno de los dos", "uno de", "solo uno de " o "exactamente uno de". "Que consiste esencialmente en", cuando se usa en las reivindicaciones, tendra su significado habitual como se usa en el campo de la ley de patentes.
Como se usa en el presente documento en la memoria descriptiva y en las reivindicaciones, debe entenderse que la frase "al menos uno", en referencia a una lista de uno o mas elementos, significa al menos un elemento seleccionado entre uno cualquiera o mas de los elementos de la lista de elementos, pero sin incluir necesariamente al menos uno de uno y cada uno de los elementos enumerados espedficamente dentro de la lista de elementos y sin excluir ninguna combinacion de elementos de la lista de elementos. Esta definicion tambien permite que pueda haber presentes opcionalmente elementos distintos de los elementos identificados espedficamente dentro de la lista de elementos a los que se refiere la frase "al menos uno", ya sea relacionados o no relacionados con los elementos identificados espedficamente. Por tanto, como ejemplo no limitativo, "al menos uno de Ay B" (o, de manera equivalente, "al menos uno de A o B", o, de manera equivalente "al menos uno de A y/o B") puede referirse, en una realizacion, a al menos uno, incluyendo opcionalmente mas de uno, A, sin B presente (e incluyendo opcionalmente elementos distintos de B); en otra realizacion, al menos uno, incluyendo opcionalmente mas de uno, B, sin A presente (e incluyendo opcionalmente elementos distintos de A); en otra realizacion mas, a al menos uno, incluyendo opcionalmente mas de uno, A y al menos uno, incluyendo opcionalmente mas de uno, B (e incluyendo opcionalmente otros elementos); etc.
Tambien debe entenderse que, a menos que se indique claramente lo contrario, en cualquiera de los metodos reivindicados en la presente memoria que incluyen mas de una etapa o acto, el orden de las etapas o actos del metodo no se limita necesariamente al orden en el que se recitan la etapas o actos del metodo.
En las reivindicaciones, asf como en la memoria descriptiva anterior, ha de entenderse que todas las frases de transicion, tales como "que comprende", "que incluye", "que lleva", "que tiene", "que contiene", "que implica", "que mantiene", "compuesto de" y similares son de composicion abierta, es decir, que significan incluyendo, pero no limitado a. Solo las frases de transicion "que consiste en" y "que consiste esencialmente en" deberan ser frases de transicion cerradas o semicerradas, respectivamente, como se establece en el Manual de la Oficina de Patentes de los EE.UU. de Procedimientos de Examen de Patentes, Seccion 2111.03.
Claims (12)
- 5101520253035404550556065REIVINDICACIONES1. Una configuracion de ensayo de exposicion para una instalacion farmaceutica in situ de un medio (50) de filtracion de ePTFE, que comprende:un medio (50) de filtracion plegado que tiene una pluralidad de pliegues (62), en el que dicho medio (50) de filtracion plegado esta posicionado dentro de una corriente de aire de una unidad de tratamiento de aire en un sistema de tratamiento de la corriente de aire farmaceutico aseptico, incluyendo dicho medio (50) de filtracion una malla (30) de soporte corriente arriba y una malla (10) de soporte corriente abajo y una membrana de ePTFE (20) interpuesta entre dicha malla (30) de soporte corriente arriba y dicha malla (10) de soporte corriente abajo; en el que dicha malla (30) de soporte corriente arriba y dicha malla (10) de soporte corriente abajo son de un material de dos componentes y dicha membrana de ePTFE (20) se lamina entre las mismas; un separador de poli-alfa-olefina (51, 56) entre cada uno de dicha pluralidad de pliegues (62) de dicho medio (50) de filtracion plegado;un generador de aerosol de bajo volumen corriente arriba combinado con un dispositivo de dilucion de aerosol que proporcionan menos de 0,3 |jg de aerosol/l de aire y hasta 0,01 |jg de aerosol/l de aire y por debajo para concentraciones de aerosoles ultra bajas en dicha corriente de aire de dicha unidad de tratamiento de aire; un explorador (208) corriente arriba para la deteccion de las concentraciones de aerosol para volumenes ultrabajos en dicha malla (30) de soporte corriente arriba de dicho medio de filtracion (50); un explorador (209) corriente abajo con una sonda de exploracion insertado dentro de dicha unidad de tratamiento de aire corriente abajo de dicho medio (50) de filtracion plegado y frente a dicha malla (10) de soporte corriente abajo, insertandose dicha sonda de exploracion a traves de un puerto de acceso en dicha unidad de tratamiento de aire de dicho sistema de tratamiento de la corriente de aire farmaceutico para la deteccion de las concentraciones de aerosol para volumenes ultra bajos que pasan a traves de dicha malla (30) de soporte corriente abajo de hasta el 0,01 por ciento de las concentraciones de aerosol para volumenes ultra bajos detectados en dicho explorador (208).
- 2. La configuracion de la reivindicacion 1 en la que dicho explorador (209) corriente abajo es operable para detectar las concentraciones de aerosol para volumenes ultra bajos que pasan a traves de dicha malla (10) de soporte corriente abajo tan bajas como 0,000001 jg de aerosol/l de aire.
- 3. La configuracion de la reivindicacion 2 en la que dicho explorador (209) corriente abajo es un explorador de partfculas individuales.
- 4. La configuracion de la reivindicacion 1 en la que dicho generador de aerosol de bajo volumen corriente arriba es un generador de boquilla Laskin modificado en combinacion con dicho dispositivo de dilucion de aerosol que es un eliminador de bruma de aceite que tiene una derivacion capilar de calibre 18 creando un factor de dilucion de 960.
- 5. La configuracion de la reivindicacion 1 que comprende adicionalmente una comunicacion electrica entre dicho explorador (208) corriente arriba y dicho explorador (209) corriente abajo.
- 6. La configuracion de la reivindicacion 5 que incluye adicionalmente un microprocesador en relacion de comunicacion con ambos dicho explorador (208) corriente arriba y dicho explorador (209) corriente abajo.
- 7. La configuracion de la reivindicacion 1 en la que dicho medio (50) de filtro plegado es un filtro HEPA.
- 8. Un metodo para la instalacion y el ensayo de fugas del medio (50) de filtracion de ePTFE en un entorno de filtracion farmaceutica aseptica, que comprende:la instalacion de un medio de filtracion (50) que tiene un material (30) de malla unido por hilado corriente arriba y un material (10) de malla unido por hilado corriente abajo;la interposicion de una membrana de ePTFE (20) entre dicho material (30) de malla unido por hilado corriente arriba y dicho material (10) de malla unido por hilado corriente abajo;la inyeccion corriente arriba de dicho medio de filtracion (50) de una concentracion ultra baja de aerosol a base de aceite por debajo de 0,05 jg de aerosol/l de aire;la dilucion de dicho aerosol con un dispositivo de dilucion de aerosol a un factor de dilucion de entre 750 y 1000; la creacion de una concentracion de exposicion de filtro ultra baja de 700 partfculas a mas de o igual a 0,3 jm y 250 partfculas a mas de o igual a 0,5 jm por centimetro cubico de aire;la medicion de una concentracion corriente arriba de dicho aerosol a base de aceite en dicho material (30) de malla unido por hilado corriente arriba;permitir que dicho aerosol a base de aceite penetre a traves de dicha membrana de ePTFE (20); la medicion de una concentracion corriente abajo de dicho aerosol a base de aceite mediante la deteccion de partfculas en dicho material (10) de malla unido por hilado corriente abajo a un valor al menos tan bajo como del 0,01 por ciento de dicha concentracion corriente arriba en dicho material (30) de malla unido por hilado corriente arriba;el calculo de una deteccion de fugas de dicho aerosol a base de aceite.51015202530
- 9. El metodo para la instalacion y el ensayo de fugas del medio (50) de filtracion de ePTFE de la reivindicacion 8 en el que dicho metodo comprende adicionalmente la instalacion de un explorador (208) corriente arriba para dicha medicion de dicha concentracion corriente arriba de dicho aerosol a base de aceite en dicho material (30) de malla unido por hilado corriente arriba;la instalacion de un explorador (209) de partfculas corriente abajo para dicha medicion de dichas concentraciones corriente abajo de dicho aerosol a base de aceite en dicho material (10) de malla unido por hilado corriente abajo.
- 10. El metodo para la instalacion y el ensayo de fugas del medio (50) de filtracion de ePTFE de la reivindicacion 9 que comprende adicionalmente la transmision de dichas mediciones de concentracion corriente arriba de dicho explorador (208) corriente arriba a un ordenador; la transmision de dicha concentracion corriente abajo de las mediciones de dicho explorador (209) corriente abajo a un ordenador; el calculo de un porcentaje de fuga de dicho aerosol a base de aceite traves de dicho medio (50) de filtracion de ePTFE durante un penodo de tiempo predeterminado.
- 11. El metodo para la instalacion y el ensayo de fugas del medio (50) de filtracion de ePTFE de la reivindicacion 8 que comprende adicionalmente:la instalacion de un enlace de comunicacion entre un explorador (208) corriente arriba y un explorador (209) corriente abajo;la transmision de dichas mediciones de concentracion corriente arriba de dicho explorador (208) corriente arriba a un dispositivo de lectura;la transmision de dichas mediciones de concentracion corriente abajo de dicho explorador (209) corriente abajo a dicho dispositivo de lectura;el calculo de un porcentaje de fuga de dicho aerosol a base de aceite a traves de dicho medio (50) de ePTFE mediante un procesador;la presentacion de dicho porcentaje calculado a un usuario.
- 12. El metodo para la instalacion y el ensayo de fugas del medio (50) de filtracion de ePTFE de la reivindicacion 8 en el que dicho metodo comprende adicionalmente la instalacion de un explorador (208) fotometrico corriente arriba para la medicion de dicha concentracion corriente arriba de dicho aerosol a base de aceite en dicho material (30) de malla unido por hilado corriente arriba y la instalacion de un explorador (209) de deteccion de partfculas corriente abajo para la medicion de dicha concentracion corriente abajo de dicho aerosol a base de aceite en dicho material (10) de malla unido por hilado corriente abajo.
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