ES2627415T3

ES2627415T3 - Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials

Info

Publication number: ES2627415T3
Application number: ES04758328.1T
Authority: ES
Inventors: James J. Finley
Original assignee: Vitro SAB de CV
Current assignee: Vitro SAB de CV
Priority date: 2003-03-28
Filing date: 2004-03-25
Publication date: 2017-07-28
Anticipated expiration: 2024-03-25
Also published as: CN1777690A; AU2004225545B2; EP1611265A2; US8597474B2; EP1611265B1; WO2004087985A2; RU2335576C2; WO2004087985A3; US20070231501A1; CA2519651C; RU2005133184A; MXPA05010170A; BRPI0408851A; CN1777690B; AU2004225545A1; CA2519651A1; US20040241490A1

Abstract

Un artículo recubierto (40), que comprende: un sustrato (14); un recubrimiento funcional (42) depositado sobre al menos una parte del sustrato (14), en el que el recubrimiento funcional (42) comprende: una capa base (44); una primera capa metálica reflectante de infrarrojos (46) sobre la capa base (44); una primera capa de imprimación (48) sobre la primera capa metálica reflectante de infrarrojos (46); una primera capa dieléctrica (50) sobre la primera capa de imprimación (48); una segunda capa metálica reflectante de infrarrojos (52) sobre la capa dieléctrica (50); una segunda capa de imprimación (54) sobre la segunda capa metálica reflectante de infrarrojos (52); un segundo dieléctrico (56) o una capa antirreflectante (56) sobre la segunda capa de imprimación (54); y una capa protectora (16) sobre el recubrimiento funcional (42); siendo una o las dos capas de imprimación (48, 54) una capa de Ti-Al que comprende titanio y aluminio, en la que el aluminio está presente en el intervalo del 40 al 60 por ciento en porcentaje atómico de aluminio.A coated article (40), comprising: a substrate (14); a functional coating (42) deposited on at least a part of the substrate (14), wherein the functional coating (42) comprises: a base layer (44); a first infrared reflective metallic layer (46) on the base layer (44); a first primer layer (48) over the first infrared reflective metallic layer (46); a first dielectric layer (50) over the first primer layer (48); a second infrared reflective metallic layer (52) over the dielectric layer (50); a second primer layer (54) over the second infrared reflective metallic layer (52); a second dielectric (56) or an anti-reflective layer (56) over the second primer layer (54); and a protective layer (16) on the functional coating (42); one or both of the primer layers (48, 54) being a Ti-Al layer comprising titanium and aluminum, in which aluminum is present in the range of 40 to 60 atomic percent aluminum.

Description

Sustratos recubiertos con mezclas de materiales de titanio y aluminio Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials

5 Antecedentes de la invención 5 Background of the invention

1. one.: Campo de la invención Field of the Invention

La presente invención se refiere en general a recubrimientos que comprenden titanio y aluminio sobre sustratos, a métodos para el recubrimiento de dichas mezclas y a materiales que contienen titanio y aluminio como objetivos de metalizado por bombardeo atómico The present invention relates in general to coatings comprising titanium and aluminum on substrates, to methods for coating said mixtures and to materials containing titanium and aluminum as metallized targets by atomic bombardment

2. 2.: Descripción de consideraciones técnicas Description of technical considerations

15 La tecnología para depositar tipos específicos de recubrimientos metálicos o que contienen óxido metálicos sobre sustratos de área mayor incluye diversos métodos, tales como deposición de vapor, como deposición química de vapor; pirólisis por pulverización; sol-gel; y metalizado por bombardeo atómico, tal como deposición de vapor por metalizado por bombardeo atómico ("MSVD", del inglés magnetic sputtering vapor deposition). Los sustratos de área mayor, de aproximadamente 1 pie cuadrado (30 centimetros cuadrados) y mas grandes, presentan desafios en la producción económicamente coherente de sustratos recubiertos de calidad por virtud del tamaño del sustrato que se recubre. La coherencia en la uniformidad del recubrimiento y la reducción de defectos en el recubrimiento de areas mayores requiere un equipo que sea capaz de manejar los sustratos mayores y los volúmenes de material de recubrimiento y la fabricación del sustrato recubierto. Dicho equipo en general es mas caro de adquirir y de operar; haciendo el funcionamiento eficiente del equipo, por tanto, imprescindible para la producción rentable The technology for depositing specific types of metal coatings or containing metal oxide on larger area substrates includes various methods, such as vapor deposition, such as chemical vapor deposition; spray pyrolysis; sol-gel; and metallized by atomic bombardment, such as vapor deposition by metallized by atomic bombardment ("MSVD", of the English magnetic sputtering vapor deposition). Substrates of greater area, approximately 1 square foot (30 square centimeters) and larger, present challenges in the economically coherent production of quality coated substrates by virtue of the size of the substrate being coated. Consistency in the uniformity of the coating and the reduction of defects in the coating of larger areas requires equipment that is capable of handling the larger substrates and volumes of coating material and the manufacture of the coated substrate. Such equipment in general is more expensive to acquire and operate; making the efficient operation of the equipment, therefore, essential for profitable production

25 Los recubrimientos metálicos (que contengan metales y/u óxido metálico) específicos sobre sustratos pueden estar presentes como recubrimientos de múltiples capas en los que cada capa esta compuesta de los mismos o diferentes materiales de una o más aplicaciones de los materiales o precursores de recubrimiento. Además, una capa del recubrimiento puede tener una o mas películas de mas de una aplicación de los mismos o diferentes materiales. Son ejemplos de recubrimientos de múltiples capas sobre un sustrato los recubrimientos de baja emisividad a base de plata convencionales que se depositan sobre sustratos tanto de vidrio como de plástico, en general mediante metalizado por bombardeo atómico 25 Metal coatings (containing metals and / or metal oxide) specific on substrates may be present as multi-layer coatings in which each layer is composed of the same or different materials of one or more applications of the coating materials or precursors . In addition, a coating layer may have one or more films of more than one application of the same or different materials. Examples of multilayer coatings on a substrate are conventional silver-based low emissivity coatings that are deposited on both glass and plastic substrates, generally by metallizing by atomic bombardment

En el metalizado por bombardeo atómico para depositar metales y óxidos metálicos sobre sustratos de área mayor, In metallized by atomic bombardment to deposit metals and metal oxides on substrates of greater area,

35 como láminas o paneles de materiales que transmiten la luz, como el plástico o el vidrio, se han utilizado objetivos de cátodo del metal específico para la deposición como el metal u óxido metálico sobre el sustrato. Para sustratos de plastico y de vidrio de area mayor, tales como vidrio flotado con un area superficial de al menos 1 pie cuadrado (30 centímetros cuadrados), se han utilizado objetivos de cátodo alargados. Los objetivos se alargan a una longitud que es sustancialmente la longitud o el ancho del sustrato que se ha de recubrir. Por ejemplo, las Patentes de los EE.UU. N.O 4.990.234 Y 5.170.291 de Szczyrbowski et al. y 5.417.827 de Finley desvelan sílice y siliciuros de metalizado por bombardeo atómico, tales como siliciuro de metal de transición (NiSi2), en una atmósfera oxidante para depositar películas de óxido dieléctricas. As sheets or panels of materials that transmit light, such as plastic or glass, cathode targets of the specific metal have been used for deposition such as metal or metal oxide on the substrate. For plastic and larger area glass substrates, such as float glass with a surface area of at least 1 square foot (30 square centimeters), elongated cathode targets have been used. The targets are lengthened to a length that is substantially the length or width of the substrate to be coated. For example, US Pat. No. 4,990,234 and 5,170,291 of Szczyrbowski et al. and 5,417,827 of Finley disclose silica and silicide metallides by atomic bombardment, such as transition metal silicide (NiSi2), in an oxidizing atmosphere to deposit dielectric oxide films.

La Patente de los EE.UU N.O 5.320.729 de Narizuka et al. desvela un objetivo de metalizado por bombardeo atómico U.S. Patent No. 5,320,729 to Narizuka et al. unveils an objective of metallized by atomic bombing

45 con el que puede producirse una película delgada de alta resistividad que consiste en silicio, titanio y aluminio, y oxígeno. El objetivo se forma seleccionando el tamaño de grano del polvo de silicio y del polvo de dióxido de aluminio y titanio, secando los polvos por calentamiento y mezclando los polvos secos para obtener un polvo mixto que contiene del 20 al 80 por ciento en peso de silicio, por ejemplo del 50 al 80 por ciento, siendo el resto dióxido de titanio y aluminio, compactando el polvo mezclado en un troquel y sinterizando el polvo compactado por prensado en caliente para producir un objetivo que tiene una estructura mixta de dos fases. El objetivo de metalizado por bombardeo atómico se usa para la fabricación de resistencias de película delgada y circuitos eléctricos 45 with which a thin film of high resistivity can be produced consisting of silicon, titanium and aluminum, and oxygen. The objective is formed by selecting the grain size of the silicon powder and the aluminum and titanium dioxide powder, drying the powders by heating and mixing the dried powders to obtain a mixed powder containing 20 to 80 percent by weight of silicon , for example 50 to 80 percent, the remainder being titanium dioxide and aluminum, compacting the powder mixed in a die and sintering the powder compacted by hot pressing to produce a target having a mixed structure of two phases. The target of atomic bombing metallization is used for the manufacture of thin film resistors and electrical circuits

Los objetivos de cátodo de metalizado por bombardeo atómico de diversos materiales metálicos son útiles en las pilas de recubrimiento de baja emisividad CE baja") depositadas al vacío que por lo general tienen la siguiente 55 secuencia de capas general: S/(Dl /M/P/D2)';¡ en la que: Atomic bombardment metal cathode targets of various metallic materials are useful in low EC low emissivity coating piles ") vacuum deposited which generally have the following general layer sequence: S / (Dl / M / P / D2) '; in which:

S es un sustrato, tal como un sustrato transparente como el vidrio; DI es una primera capa dieléctrica transparente, por lo general un óxido metálico, y puede incluir una o más películas dieléctricas transparentes; M es una capa reflectante de infrarrojos, por lo general de plata u otro metal noble; P es una capa de imprimación para proteger la capa reflectante de infrarrojos subyacente; D2 es una segunda película dieléctrica transparente similar a DI; y R es un número entero igualo mayor que uno y es el número de repeticiones de las capas anteriores. S is a substrate, such as a transparent substrate such as glass; DI is a first transparent dielectric layer, usually a metal oxide, and may include one or more transparent dielectric films; M is an infrared reflective layer, usually of silver or other noble metal; P is a primer layer to protect the underlying infrared reflective layer; D2 is a second transparent dielectric film similar to DI; Y R is an integer equal to or greater than one and is the number of repetitions of the previous layers.

65 Las capas dieléctricas, DI y D2, ajustan las propiedades ópticas de la pila de recubrimiento. Estas capas también proporcionan cierta protección física y química a la capa o capas reflectantes de infrarrojos frágiles. Por desgracia, muchos materiales dieléctricos beneficiosos para el proceso y rentables son a menudo susceptibles a la abrasión asi como a la corrosión. Por ejemplo, el óxido de cinc, por ejemplo, como se describe en la Patente de los EE.UU. N.o 5.296.302, que por lo general forma una película cristalina, es susceptible al ataque por ácidos y bases; el óxido de bismuto, que por lo general forma una película amorfa, es soluble en ciertos ácidos; el óxido de estaño, que por lo 65 The dielectric layers, DI and D2, adjust the optical properties of the coating stack. These layers also provide some physical and chemical protection to the fragile infrared reflective layer or layers. Unfortunately, many process-beneficial and cost-effective dielectric materials are often susceptible to abrasion as well as corrosion. For example, zinc oxide, for example, as described in US Pat. No. 5,296,302, which generally forms a crystalline film, is susceptible to attack by acids and bases; Bismuth oxide, which usually forms an amorphous film, is soluble in certain acids; tin oxide, so

5 general foona una pelicula amorfa, es susceptible al ataque en ciertos entornos basicos 5 general foona an amorphous movie, is susceptible to attack in certain basic environments

Las capas de imprimación o bloqueante P, como se conocen en la técnica, se incorporan en dichos recubrimientos de baja emisividad para proteger la capa o pelicula M de la oxidación durante el proceso de metalizado por bombardeo atómico. La capa M, como la plata, es susceptible a la degradación durante la deposición de la capa o película dieléctrica subyacente si la relación de oxígeno a gas reactivo es alla, por ejemplo, mayor del 20 por ciento del volumen de gas. Las capas de imprimación, que puede estar compuestas de capas de metal puro o capas de cerámica, actúan como capas de protección oxidándose preferentemente para proteger la capa de plata o película subyacente. Generalmente son necesarios capas de imprimación más gruesas si el recubrimiento de baja emisividad ha de sobrevivir a la alta temperatura de un proceso de fabricación de vidrio (hasta 650 oC o 1202 °F), Primer or blocker layers P, as are known in the art, are incorporated into said low emissivity coatings to protect the layer or film M from oxidation during the process of metallizing by atomic bombardment. Layer M, like silver, is susceptible to degradation during deposition of the underlying dielectric layer or film if the ratio of oxygen to reactive gas is there, for example, greater than 20 percent of the volume of gas. The primer layers, which may be composed of layers of pure metal or ceramic layers, act as protective layers by oxidizing preferably to protect the underlying layer of silver or film. Thicker primer layers are generally necessary if the low emissivity coating is to survive the high temperature of a glass manufacturing process (up to 650 oC or 1202 ° F),

15 por ejemplo, el doblado y el templado del vidrio de sosa-cal. 15 for example, the bending and tempering of soda-lime glass.

Para reducir la corrosión, algunas pilas de recubrimiento de baja E tienen un recubrimiento exterior protector subyacente de una capa dieléctrica químicamente resistente. Esta capa tiene propiedades ópticas deseables, caracteristicas de deposición por metalizado por bombardeo atómico manejables y es compatible con otros materiales de la pila de recubrimiento. Las peliculas de dióxido de titanio desveladas en las Patentes de los EE.UU To reduce corrosion, some low E coating batteries have an underlying protective outer coating of a chemically resistant dielectric layer. This layer has desirable optical properties, manageable atomic bombardment deposition characteristics and is compatible with other materials in the coating stack. The titanium dioxide films disclosed in US Pat.

N.o 4.716.086 Y 4.786.563 son peliculas protectoras que tienen las cualidades anteriores. Existen otros materiales químicamente resistentes que tienen limitaciones, por ejemplo, dan más problemas en el metalizado por bombardeo atómico. El óxido de silicio desvelado en la Patente Canadiense N.o 2.156.571, el óxido de aluminio y el nitruro de silicio desvelados en las Patentes de los EE.UU. N.o 5.425.861; 5.344.718; 5.376.455; 5.584.902; Y 5.532.180 Y en la No. 4,716,086 and 4,786,563 are protective films that have the above qualities. There are other chemically resistant materials that have limitations, for example, give more problems in metallizing by atomic bombardment. The silicon oxide disclosed in Canadian Patent No. 2,156,571, the aluminum oxide and silicon nitride disclosed in US Pat. No. 5,425,861; 5,344,718; 5,376,455; 5,584,902; And 5,532,180 And in the

25 Publicación Internacional PCT N.o WO 95/29883 son ejemplos de dichos materiales. Los recubrimientos de baja emisividad a base de plata de múltiples capas metalizados por bombardeo atómico y el vidrio con estos recubrimientos se usan en aplicaciones de acristalamiento de vehiculos y ventanas 25 PCT International Publication No. WO 95/29883 are examples of such materials. Low-emissive silver-based coatings of multiple layers metallized by atomic bombing and glass with these coatings are used in vehicle and window glazing applications

Se sabe que la capa de imprimación continúa oxidándose durante el procesamiento a alta temperatura y es deseable que la oxidación continúe hasta su finalización con el fin de reducir la absorción de la luz visible de la capa de imprimación. Este efecto se usa mejor para los metales que forman óxidos metálicos con coeficientes de absorción bajos, por ejemplo, titanio y aluminio. Para el rendimiento de aplicaciones de acristalamiento, esto conduce a una mayor relación de transmisión de luz visible a transmitancia de infrarrojos. Si la oxidación continúa más allá del consumo de la capa de imprimación hasta la oxidación completa, el recubrimiento puede degradarse y It is known that the primer layer continues to oxidize during high temperature processing and it is desirable that the oxidation continue until its completion in order to reduce the absorption of visible light from the primer layer. This effect is best used for metals that form metal oxides with low absorption coefficients, for example, titanium and aluminum. For the performance of glazing applications, this leads to a higher ratio of visible light transmission to infrared transmittance. If the oxidation continues beyond the consumption of the primer layer until complete oxidation, the coating may degrade and

35 el rendimiento puede resentirse. Los iones metalicos en las capas dieléctricas pueden inter-difundir con la capa de plata y la superficie de contacto bien definida puede volverse difusa. Esto puede conducir a una pérdida de la conducta antirreflectante y a la pérdida de una capa de plata continua. El grado de oxidación de la imprimación se relaciona con varios factores, incluyendo la reactividad del metal (energia libre de Gibbs), la densidad del óxido formado durante el calentamiento y la difusión o la disolución de oxígeno en el óxido o metal. Por ejemplo, un metal, tal como el titanio, en una pelicula delgada de menos de aproximadamente 20 Angstroms pasará por varios estados de oxidación antes de llegar a la fase térmicamente estable de Ti02. El titanio ha sido una elección preferida de material para capas de imprimación en recubrimientos de baja emisividad de múltiples capas. 35 performance may suffer. The metal ions in the dielectric layers can inter-diffuse with the silver layer and the well-defined contact surface can become diffuse. This can lead to a loss of anti-reflective behavior and the loss of a layer of continuous silver. The degree of oxidation of the primer is related to several factors, including the reactivity of the metal (Gibbs free energy), the density of the oxide formed during heating and the diffusion or dissolution of oxygen in the oxide or metal. For example, a metal, such as titanium, in a thin film of less than about 20 Angstroms will go through several oxidation states before reaching the thermally stable phase of Ti02. Titanium has been a preferred choice of material for primer layers in multi-layer low emissivity coatings.

La tecnología de los recubrimientos de metal y metálicos y los recubrimientos de múltiples capas avanzaría The technology of metal and metal coatings and multilayer coatings would advance

45 mediante un recubrimiento mas quimicamente y/o mecanicamente duradero que pudiera usarse como un recubrimiento protector para el sustrato o el sustrato recubierto por múltiples capas o también fuera útil como una capa dieléctrica o de imprimación en recubrimientos de múltiples capas sobre sustratos 45 by a more chemically and / or mechanically durable coating that could be used as a protective coating for the substrate or the multi-layer coated substrate or was also useful as a dielectric or primer layer in multi-layer coatings on substrates

Sumario de la invención Summary of the invention

La presente invención implica recubrimientos de al menos mezclas de materiales que contienen Iltanio y aluminio en sustratos planos y/o curvos que pueden ser mayores de por lo menos 1 pie cuadrado (30 centímetros cuadrados). La invención se define por la materia objeto de la reivindicación 1. Las realizaciones preferidas se definen en las reivindicaciones 2 y 3. En una realización no limitante de la invención, los recubrimientos que contienen titanio y The present invention involves coatings of at least mixtures of materials containing Iltanium and aluminum on flat and / or curved substrates that may be greater than at least 1 square foot (30 square centimeters). The invention is defined by the subject matter of claim 1. Preferred embodiments are defined in claims 2 and 3. In a non-limiting embodiment of the invention, coatings containing titanium and

55 aluminio ("recubrimiento Ti-Al") tienen una relación de peso de materiales que contienen titanio a materiales que contienen aluminio, respectivamente, en el intervalo de aproximadamente 99:1 a 1 :99 para la mezcla de materiales que contienen titanio y aluminio {"materiales que contienen Ti-Al"), tales como de 40 a 80 de titanio a de 20 a 60 de aluminio, tal como de 50 a 80 de titanio a de 20 a 50 de aluminio, tal como de 50 a 70 de titanio a de 30 a 50 de aluminio, tal como de 60 a 70 de titanio a de 30 a 40 de aluminio. La aplicación de los materiales que contienen Ti-Al puede ser a través de varias técnicas de recubrimiento bien conocidas en la técnica, tales como, pero no limitadas a la deposición de vapor, la pirólisis por pulverización, métodos de sol gel y/o de metalizado por bombardeo atómico Los sustratos planos o curvos pueden ser, pero no se limitan a, sustratos de base sin recubrir no metálicos, plásticos, PET, vidrio, sustratos que transmiten la luz y variaciones ya recubiertas de estos sustratos y similares en forma de sustratos planos, curvos o contorneados Aluminum ("Ti-Al coating") has a weight ratio of materials containing titanium to materials containing aluminum, respectively, in the range of about 99: 1 to 1: 99 for mixing materials containing titanium and aluminum {"Ti-Al-containing materials"), such as 40 to 80 of titanium to 20 to 60 of aluminum, such as 50 to 80 of titanium to 20 to 50 of aluminum, such as 50 to 70 of titanium 30 to 50 aluminum, such as 60 to 70 titanium 30 to 40 aluminum. The application of Ti-Al-containing materials may be through various coating techniques well known in the art, such as, but not limited to vapor deposition, spray pyrolysis, sol gel methods and / or metallized by atomic bombardment Flat or curved substrates can be, but are not limited to, non-coated non-metallic base substrates, plastics, PET, glass, light-transmitting substrates and already coated variations of these substrates and the like in the form of substrates flat, curved or contoured

En una realización no limitante de la presente invención, el recubrimiento de Ti-Al se deposita mediante metalizado In a non-limiting embodiment of the present invention, the Ti-Al coating is deposited by metallizing.

por bombardeo atómico de materiales que contienen Ti-Al de objetivos de cátodo. Estos objetivos pueden ser objetivos alargados planos o cilíndricos compuestos de al menos mezclas o aleaciones de titanio y aluminio. Los objetivos también pueden tener otros materiales, tales como metales de transición, como el silicio, silicio-metal de transición o metal de transición y/o silicio. Los objetivos también pueden tener otros materiales para afectar a la 5 conductividad del objetivo de catodo. Los objetivos de mezclas de titanio y aluminio pueden ser metalizados por bombardeo atómico en una atmósfera que comprenda gas inerte, nitrógeno, oxigeno y/o mezclas de los mismos para producir recubrimientos que contengan metales de titanio y aluminio, incluyendo óxidos, nitruros y oxinitruros, asi como películas metálicas sobre sustratos. Las composiciones de objetivo de cátodo metalico de titanio y aluminio de la presente invención comprenden suficiente metal para proporcionar la estabilidad del objetivo y una velocidad by atomic bombardment of materials containing Ti-Al of cathode targets. These lenses can be elongated flat or cylindrical lenses composed of at least mixtures or alloys of titanium and aluminum. The lenses may also have other materials, such as transition metals, such as silicon, silicon-transition metal or transition metal and / or silicon. The objectives may also have other materials to affect the conductivity of the cathode objective. The objectives of titanium and aluminum mixtures can be metallized by atomic bombardment in an atmosphere comprising inert gas, nitrogen, oxygen and / or mixtures thereof to produce coatings containing titanium and aluminum metals, including oxides, nitrides and oxynitrides, as well as metal films on substrates. The titanium and aluminum metal cathode objective compositions of the present invention comprise sufficient metal to provide objective stability and speed.

10 de metalizado por bombardeo atómico deseable. 10 metallized by desirable atomic bombardment.

Los objetivos que contienen titanio y aluminio, que como materiales de óxidos, nitruros y/o oxinitruros son muy duros y químicamente resistentes, producen recubrimientos de compuestos de mezcla o aleación de titanio y aluminio mecanicamente y/o quimicamente duraderos y metalizados por bombardeo atómico. Cuando las mezclas de Ti-Al se Lenses containing titanium and aluminum, which, as oxides, nitrides and / or oxinitrides materials are very hard and chemically resistant, produce coatings of mechanically and / or chemically durable titanium-aluminum mixture or alloy compounds and chemically durable and metallized by atomic bombardment. When Ti-Al mixtures are

15 metalizan por bombardeo atómico en argón puro o en una mezcla de gas oxigeno y argón, el recubrimiento de mezcla de titanio y aluminio resultante es químicamente más resistente que el titanio y el aluminio solos y más duro que el óxido de titanio solo 15 metallize by atom bombardment in pure argon or in a mixture of oxygen and argon gas, the resulting titanium-aluminum mixture coating is chemically stronger than titanium and aluminum alone and harder than titanium oxide alone

Un propósito de estas mezclas de titanio y de aluminio es proporcionar materiales de objetivo que se metalicen por One purpose of these titanium and aluminum mixtures is to provide target materials that are metallized by

20 bombardeo atómico fácilmente en gas inerte, gas reactivo o mezclas de gas, para producir recubrimientos extremadamente duraderos con propiedades ópticas variables. Cada combinación de material de objetivo puede producir recubrimientos con diferentes constantes ópticas, es decir, índice de refracción y coeficiente de absorción. Cuando se metaliza por bombardeo atómico reactivamente, cada combinación de material de objetivo también puede producir recubrimientos con un intervalo de constantes ópticas, que en general aumentan a medida que la 20 atomic bombardment easily in inert gas, reactive gas or gas mixtures, to produce extremely durable coatings with variable optical properties. Each combination of target material can produce coatings with different optical constants, that is, refractive index and absorption coefficient. When reactively atomized metallizing, each combination of target material can also produce coatings with a range of optical constants, which generally increase as the

25 mezcla de gas reactivo, con o sin gas inerte, tal como argón, varía del oxígeno a combinaciones de oxígeno y nitrógeno con proporciones crecientes de nitrógeno, a nitrógeno. The mixture of reactive gas, with or without inert gas, such as argon, varies from oxygen to combinations of oxygen and nitrogen with increasing proportions of nitrogen, to nitrogen.

En una realización de la presente invención, los recubrimientos con mezclas de Ti-Al permiten una ampliación del intervalo de la oxidación de las capas de imprimación y un mejor control del procesamiento ténnico de los 30 recubrimientos de baja emisividad . In one embodiment of the present invention, coatings with Ti-Al mixtures allow an extension of the oxidation range of the primer layers and a better control of the technical processing of the 30 low emissivity coatings.

Breve descripción de los dibujos Brief description of the drawings

La Figura 1 es una vista en sección (no a escala) de un artículo recubierto que incorpora características de la Figure 1 is a sectional view (not to scale) of a coated article incorporating features of the

35 invención; La Figura 2 es un gráfico de una composición de recubrimiento frente a la posición para una placa de vidrio recubierto; La Figura 3 es un gráfico de la resistencia laminar frente al porcentaje en peso de óxido de titanio para un artículo recubierto que incorpora características de la invención; Invention; Figure 2 is a graph of a coating composition versus position for a coated glass plate; Figure 3 is a graph of the sheet resistance versus weight percentage of titanium oxide for a coated article incorporating features of the invention;

40 Las Figuras 4 y 5 son graficos de la reHectancia frente al tiempo para los articulas recubiertos de la invención; La Figura 6 es un grafico de la reflectancia frente al tiempo para un artículo recubierto de la invención; La Figura 7 es un gráfico de la reflectancia frente al tiempo para un artículo recubierto de la invención; La Figura 8 es un gráfico del espesor frente al porcentaje atómico de aluminio para un recubrimiento de la invención; Figures 4 and 5 are graphs of rehectance versus time for coated articles of the invention; Figure 6 is a graph of the reflectance versus time for a coated article of the invention; Figure 7 is a graph of the reflectance versus time for a coated article of the invention; Figure 8 is a graph of thickness versus atomic percentage of aluminum for a coating of the invention;

45 La Figura 9 es un grafico de la resistencia laminar frente a la posición para una placa de vidrio recubierto; La Figura 10 es un gráfico de la resistencia laminar frente al porcentaje en peso de aluminio para un artículo recubierto de la invención; La Figura 11 es un gráfico de la resistencia laminar frente al porcentaje de titanio para un recubrimiento de la invención; Figure 9 is a graph of the sheet resistance versus position for a coated glass plate; Figure 10 is a graph of sheet resistance versus weight percentage of aluminum for a coated article of the invention; Figure 11 is a graph of the sheet resistance versus the percentage of titanium for a coating of the invention;

50 La Figura 12 es un gráfico de la resistencia laminar frente al porcentaje de aluminio para un recubrimiento de la invención; Las Figuras 13 y 14 son gráficos de la resistencia laminar frente al espesor de los recubrimientos de la invención antes y después del calentamiento; Las Figuras 15 y 16 son gráficos de la transmitancia frente al espesor de los recubrimientos de la invención antes Figure 12 is a graph of the sheet resistance versus the percentage of aluminum for a coating of the invention; Figures 13 and 14 are graphs of the sheet resistance against the thickness of the coatings of the invention before and after heating; Figures 15 and 16 are graphs of the transmittance against the thickness of the coatings of the invention before

55 y después del calentamiento; La Figura 17 es un gráfico del porcentaje de recubrimiento retirado frente al tiempo para diversos recubrimientos de la invención; La Figura 18 es un gráfico del tiempo hasta la retirada del 80 por ciento del recubrimiento frente al porcentaje atómico de aluminio para un recubrimiento de la invención; 55 and after heating; Figure 17 is a graph of the percentage of coating removed versus time for various coatings of the invention; Figure 18 is a graph of the time to removal of 80 percent of the coating versus the atomic percentage of aluminum for a coating of the invention;

60 La Figura 19 es un grafico del porcentaje de recubrimiento retirado frente al tiempo para diversos recubrimientos de la invención; y La Figura 20 es un gráfico del índice de refracción y del coeficiente de extinción frente al porcentaje atómico de aluminio y al porcentaje en peso de aluminio para recubrimientos de la invención. Figure 19 is a graph of the percentage of coating removed versus time for various coatings of the invention; and Figure 20 is a graph of the index of refraction and the extinction coefficient against the atomic percentage of aluminum and the percentage by weight of aluminum for coatings of the invention.

Descripción de la invención Description of the invention

La presente invención se refiere a películas o capas que contienen titanio y aluminio que puede usarse como capas The present invention relates to films or layers containing titanium and aluminum that can be used as layers

o películas dieléctricas, de imprimación y/o protectoras que pueden proteger todas o algunas capas o películas or dielectric, primer and / or protective films that can protect all or some layers or films

5 seleccionadas de recubrimiento subyacentes de una pila de recubrimiento del desgaste mecánico yfo el ataque quimico. En el siguiente análisis, las realizaciones de la invención pueden proteger capas o peliculas subyacentes de melal reflectantes al infrarrojo como parte de una película o capa funcional y capas de óxido metálico del tipo presente en cualquier tipo convencional de pila de recubrimiento. 5 selected underlying coating of a mechanical wear coating stack and the chemical attack. In the following analysis, the embodiments of the invention can protect infrared reflective melal underlying layers or films as part of a functional film or layer and metal oxide layers of the type present in any conventional type of coating stack.

Las películas o capas que contienen titanio y aluminio de la presente invención pueden formarse o depositarse sobre sustratos mediante diversos métodos, tales como, pero no limitados a, sol gel, deposición de vapor y metalizado por bombardeo atómico. The films or layers containing titanium and aluminum of the present invention can be formed or deposited on substrates by various methods, such as, but not limited to, sol gel, vapor deposition and metallization by atomic bombardment.

Tanto para los métodos de evo (del inglés chemícal vapor deposítíon) como de pirólisis por pulverización del For both the evo (chemistry vapor deposition) and the pyrolysis methods by spraying the

15 recubrimiento de los materiales de titanio y aluminio de la presente invención, la temperatura del sustrato durante la formación del recubrimiento sobre el mismo debe estar dentro del intervalo que provocará que el precursor que contiene metal se degrade y forme un recubrimiento. eomo se apreciará, el limite inferior de este intervalo de temperaturas se ve afectado en gran medida por la temperatura de degradación del precursor seleccionado que contiene metal. Para los precursores que contienen titanio, como los de la Patente de los EE.UU. 6.027.766 (Greenberg et aL) y otros bien conocidos en la técnica, la temperatura minima del sustrato que proporcionará una degradación suficiente del precursor está noonalmente dentro del intervalo de temperatura de 400 oC (752 °F) a 500 0 e (932 °F). El límite superior de este intervalo de temperatura puede verse afectado por el sustrato que se ha de recubrir. Por ejemplo, cuando el sustrato es una cinta de vidrio flotado y el recubrimiento se aplica a la cinta flotada durante la fabricación de la cinta flotada, el vidrio flotado puede alcanzar temperaturas en exceso de 1000 OC In coating the titanium and aluminum materials of the present invention, the temperature of the substrate during the formation of the coating thereon must be within the range that will cause the metal-containing precursor to degrade and form a coating. As will be appreciated, the lower limit of this temperature range is greatly affected by the degradation temperature of the selected metal-containing precursor. For precursors containing titanium, such as those in US Pat. 6,027,766 (Greenberg et al.) And others well known in the art, the minimum substrate temperature that will provide sufficient degradation of the precursor is notonally within the temperature range of 400 oC (752 ° F) to 500 0 e (932 ° F). The upper limit of this temperature range may be affected by the substrate to be coated. For example, when the substrate is a float glass tape and the coating is applied to the float tape during the manufacture of the float tape, the float glass can reach temperatures in excess of 1000 OC

25 (1832 °F). La cinta de vidrio flotado por lo general se atenúa o se dimensiona (por ejemplo, se estira o se comprime) a temperaturas superiores a 800 0 e (1472 °F). Si el recubrimiento se aplica al vidrio flotado antes o durante la atenuación, el recubrimiento puede agrietarse o arrugarse a medida que la cinta flotada se estira o se comprime, respectivamente. Por tanto, en una práctica de la invención, el recubrimiento se aplica cuando la cinta flotada es dimensionalmente estable, por ejemplo, por debajo de 800 OC (1472 °F) para el vidrio de sosa-cal-silice y la cinta flotada está a una temperatura para degradar el precursor que contiene metal, por ejemplo, por encima de 400 OC (752 °F). La formación de un recubrimiento mediante métodos de evo o pirólisis por pulverización está particularmente bien adaptada para la práctica durante la fabricación de la cinta de vidrio flotado. En general, una cinta de vidrio flotado se fabrica fundiendo materiales del lote de vidrio en un horno y entregando el vidrio fundido refinado a un baño de estaño fundido. Se tira del vidrio fundido sobre el baño a través del baño de estaño en forma 25 (1832 ° F). Float glass tape is usually attenuated or sized (for example, stretched or compressed) at temperatures above 800 0 e (1472 ° F). If the coating is applied to float glass before or during attenuation, the coating may crack or wrinkle as the float tape is stretched or compressed, respectively. Therefore, in one practice of the invention, the coating is applied when the float belt is dimensionally stable, for example, below 800 OC (1472 ° F) for the soda-lime-silica glass and the float tape is at a temperature to degrade the metal-containing precursor, for example, above 400 OC (752 ° F). The formation of a coating by means of evo or spray pyrolysis methods is particularly well suited for practice during the manufacture of the float glass tape. In general, a float glass ribbon is manufactured by melting glass batch materials in an oven and delivering the refined molten glass to a molten tin bath. The molten glass is pulled over the bathroom through the tin-shaped bath

35 de una cinta de vidrio continua, mientras se dimensiona y se enfría de foona controlable para formar una cinta de vidrio flotado dimensionalmente estable. La cinta flotada se retira del baño de estaño y se traslada mediante rodillos de transporte a través de un horno de recocido para recocer la cinta flotada. La cinta flotada recocida se mueve después a través de estaciones de corte sobre rodillos transportadores donde la cinta se corta en láminas de vidrio de la longitud y el ancho deseados. Las Patentes de los EE.UU. N.o 4.466.562 y 4.671.155 proporcionan un análisis del proceso de vidrio flotado. 35 of a continuous glass tape, while sizing and cooling of controllable foon to form a dimensionally stable float glass tape. The float belt is removed from the tin bath and moved by transport rollers through an annealing oven to anneal the float tape. The annealed float belt is then moved through cutting stations on conveyor rollers where the tape is cut into glass sheets of the desired length and width. U.S. Pat. No. 4,466,562 and 4,671,155 provide an analysis of the float glass process.

Las temperaturas de la cinta flotada en el baño de estaño en general varían de 1093 OC (2000 °F) en el extremo de entrega del baño a 538 °e (1000 °F) en el extremo de salida del baño. La temperatura de la cinta flotada entre el baño de estaño y el horno de recocido está en general en el intervalo de 480 OC (896°F) a 580 °e (1076 °F); las The temperatures of the tape floated in the tin bath generally vary from 1093 OC (2000 ° F) at the delivery end of the bath to 538 ° e (1000 ° F) at the exit end of the bath. The temperature of the floating belt between the tin bath and the annealing oven is generally in the range of 480 OC (896 ° F) at 580 ° e (1076 ° F); the

45 temperaturas de la cinta flotada en el horno de recocido en general varian de 204 °e (400 0 F) a 557 OC (1035 °F) máximo. 45 temperatures of the tape floated in the annealing furnace generally range from 204 ° e (400 0 F) to 557 OC (1035 ° F) maximum.

Las Patentes de los EE.UU N.o 4.853.257; 4.971.843; 5.464.657 Y 5.599.387 describen aparatos y métodos de recubrimiento por evo que pueden usarse en la práctica de la invención para recubrir la cinta flotada durante la fabricación de la misma. Debido a que el método de evo puede recubrir una cinta flotada móvil incluso resistiendo a los ambientes severos asociados a la fabricación de la cinta flotada, el método de evo es muy adecuado para proporcionar el recubrimiento de la cinta flotada. U.S. Patent Nos. 4,853,257; 4,971,843; 5,464,657 and 5,599,387 describe apparatus and evo coating methods that can be used in the practice of the invention to coat the float tape during its manufacture. Because the evo method can cover a mobile floating belt even withstanding the harsh environments associated with the manufacture of the floated tape, the evo method is very suitable for providing the floating tape coating.

El aparato de recubrimiento por evo puede emplearse en varios puntos en el proceso de fabricación de la cinta The evo coating apparatus can be used at various points in the tape manufacturing process

55 flotada. Por ejemplo, puede emplearse un aparato de recubrimiento por evo a medida que la cinta flotada se desplaza a través del baño de estaño después de que sale del baño de estaño, antes de que entre en el horno de recocido, a medida que se desplaza a través del horno de recocido o después de que sale del horno de recocido. 55 floated. For example, an evo coating apparatus may be employed as the float belt travels through the tin bath after it leaves the tin bath, before it enters the annealing oven, as it travels to through the annealing oven or after it leaves the annealing oven.

eomo puede apreciarse por los expertos en la materia, la concentración del precursor que contiene metal en el gas transportador, el caudal del gas transportador, la velocidad de la cinta flotada (la "velocidad de la línea"), el área superticial del aparato de recubrimiento por evo con respecto al área superticial de la cinta flotada, las áreas de superticie y el caudal del gas transportador de escape a través de conductos de ventilación de escape del aparato de recubrimiento por evo, más en particular, la relación de la velocidad de escape a través de los conductos de ventilación de escape frente a la velocidad de entrada de gas transportador a través de la unidad de recubrimiento 65 por evo, conocida como la "relación de emparejamiento de escape" y la temperatura de la cinta flotada están entre los parámetros que afectarán al espesor final y a la morfología del recubrimiento foonado sobre la cinta flotada As can be seen by those skilled in the art, the concentration of the metal-containing precursor in the transport gas, the flow rate of the transport gas, the speed of the float belt (the "line speed"), the super-area of the apparatus Evo coating with respect to the float belt super-area, the superture areas and the flow of the exhaust conveying gas through the exhaust ventilation ducts of the evo coating apparatus, more particularly, the speed ratio of Exhaust through the exhaust ventilation ducts versus the inlet velocity of the transporting gas through the coating unit 65 by evo, known as the "exhaust pairing ratio" and the temperature of the float belt are between parameters that will affect the final thickness and the morphology of the foonated coating on the floating belt

mediante el proceso por CVO through the CVO process

Las Palenles de los EE.UU. N.O4.719.126; 4.719.127; 4.111 .150 Y 3.660.061 describen un aparato y mélodos de pirólisis por pulverización que pueden usarse con el proceso de fabricación de cinta flotada. Aunque el método de The Palenles of the USA No. 4,719,126; 4,719,127; 4,111 .150 and 3,660,061 describe a spray pyrolysis apparatus and methods that can be used with the float belt manufacturing process. Although the method of

5 pirólisis por pulverización, como el método de CVO, es muy adecuado para el recubrimiento de una cinta de vidrio flotado en movimiento, la pirólisis por pulverización tiene un equipo mas complejo que el equipo de CVO y por lo general se emplea entre el extremo de salida del baño de estaño y el extremo de entrada del horno de recocido. 5 spray pyrolysis, like the CVO method, is very suitable for coating a float glass band in motion, spray pyrolysis has a more complex equipment than CVO equipment and is usually used between the end of exit of the tin bath and the inlet end of the annealing oven.

Como puede apreciarse por los expertos en la materia, los constituyentes y la concentración de la suspensión acuosa pulverizada pirolíticamente, la velocidad de línea de la cinta flotada, el número de pistolas de pulverización pirolílica, la presión o el volumen de pulverización, el patrón de pulverización y la temperatura de la cinta flotada en el momento de la deposición están entre los parámetros que afectarán al espesor final y a la morfología del recubrimiento foonado sobre la cinta flotada por pirólisis por pulverización. As can be appreciated by those skilled in the art, the constituents and the concentration of the aqueous suspension pyrolytically sprayed, the line speed of the float belt, the number of pyrolylic spray guns, the pressure or the spray volume, the pattern of Spraying and the temperature of the float tape at the time of deposition are among the parameters that will affect the final thickness and morphology of the fooled coating on the float tape by spray pyrolysis.

15 Como es sabido por los expertos en la materia, la superficie de la cinta de vidrio flotado sobre el estaño fundido (habitualmente denominada el "lado del estaño") tiene estaño esparcido en la superficie que proporciona aliado del estaño un patrón de absorción de estaño que es diferente del de la superficie opuesta no en contacto con el estaño fundido (habitualmente denominada "el lado al aire"). Esta característica se analiza en Chemícal Characteristícs of Float Glass Surlaces, Seiger, J., JOURNAL OF NON-CRYSTALLlNE SOLIOS, Vol. 19, págs. 213-220 (1975); Penetratíon of Tín ín The Boltom Surface of Floal Glass: A Synthesís, Columbin L. et al., JOURNAL OF NONCRYSTALLlNE SOLIOS, Vol. 38 Y 39, páginas. 551-556 (1980); Y Tin Oxídatíon State, Oepth Profiles of S-i 2+--and SnA -+ and oxygen Oiffusivity in Float Glass by Mossbauer Spectroscop, Williams, K. F. E. et al., JOURNAL OF NONCRYSTALLlNE SOLIOS, Vol. 211 , págs. 164-172 (1997). Como puede apreciarse por los expertos en la materia, puede foonarse un recubrimiento sobre el lado al aire de la cinta flotada mientras esta soportada sobre el baño de 15 As is known to those skilled in the art, the surface of the float glass tape on the molten tin (usually called the "tin side") has tin scattered on the surface that provides the tin ally with a tin absorption pattern which is different from that of the opposite surface not in contact with the molten tin (usually called "the air side"). This feature is analyzed in Chemícal Characteristícs of Float Glass Surlaces, Seiger, J., JOURNAL OF NON-CRYSTALLlNE SOLIOS, Vol. 19, p. 213-220 (1975); Penetration of Tín ín The Boltom Surface of Floal Glass: A Synthesís, Columbin L. et al., JOURNAL OF NONCRYSTALLlNE SOLIOS, Vol. 38 and 39, pages. 551-556 (1980); And Tin Oxídatíon State, Oepth Profiles of S-i 2 + - and SnA - + and oxygen Oiffusivity in Float Glass by Mossbauer Spectroscop, Williams, K. F. E. et al., JOURNAL OF NONCRYSTALLlNE SOLIOS, Vol. 211, p. 164-172 (1997). As can be appreciated by those skilled in the art, a coating can be foamed on the air side of the float tape while it is supported on the bath of

25 estaño (mediante el método de CVO); sobre el lado al aire de la cinta flotada después de que sale del baño de estaño mediante cualquiera de los métodos de CVO o pirólisis por pulverización y sobre el lado del estaño de la cinta flotada después de que sale del baño de estaño mediante el método CVO 25 tin (using the CVO method); on the air side of the float tape after it leaves the tin bath by any of the CVO or spray pyrolysis methods and on the tin side of the float tape after it leaves the tin bath by the CVO method

Las Patentes de los EE.UU. N.O 4.379.040; 4.861 .669; 4.900.633; 4.920.006; 4.938.857; 5.328.768; Y 5.492.750 describen aparatos y métodos de MSVO para aplicar como recubrimiento mediante metalizado por bombardeo atómico películas de óxido metálico sobre un sustrato, incluyendo un sustrato de vidrio. El proceso de MSVD no es compatible en general con la provisión de un recubrimiento sobre una cinta de vidrio flotado durante su fabricación, ya que, entre otras cosas, el proceso de MSVO requiere presión negativa durante la operación de metalizado por bombardeo atómico, que es difícil de formar sobre una cinta flotada en movimiento continuo. Sin embargo, el método U.S. Pat. No. 4,379,040; 4,861,666; 4,900,633; 4,920,006; 4,938,857; 5,328,768; And 5,492,750 describe MSVO apparatus and methods for applying metal oxide films as a coating by atomic bombardment, including a glass substrate. The MSVD process is not generally compatible with the provision of a coating on a float glass tape during its manufacture, since, among other things, the MSVO process requires negative pressure during the operation of metallized by atomic bombing, which is difficult to form on a floating belt in continuous motion. However, the method

35 de MSVO es aceptable para depositar el recubrimiento sobre el sustrato, por ejemplo, una lámina de vidrio. Como puede apreciarse por los expertos en la materia, el sustrato puede calentarse a temperaturas en el intervalo de 400 oC (750 0 F) a 500 oC (932 °F) de manera que el recubrimiento metalizado por bombardeo atómico por MSVO sobre el sustrato se cristalice durante proceso de deposición, eliminando de este modo una operación de calenta miento posterior. MSVO 35 is acceptable for depositing the coating on the substrate, for example, a glass sheet. As can be appreciated by those skilled in the art, the substrate can be heated to temperatures in the range of 400 oC (750 0 F) to 500 oC (932 ° F) so that the coating metallized by atomic bombardment by MSVO on the substrate is crystallize during the deposition process, thereby eliminating a subsequent heating operation.

El sustrato recubierto puede calentarse durante la operación de metalizado por bombardeo atómico El recubrim iento por metalizado por bombardeo atómico puede cristalizarse en el aparato de recubrimiento por MSVO directamente y sin tratamiento térmico posterior mediante el uso de plasma de alta energía y/o el bombardeo de iones. The coated substrate can be heated during the atomic bombing metallization operation The atomic bombing metallization coating can be crystallized in the MSVO coating apparatus directly and without subsequent heat treatment by the use of high energy plasma and / or the bombardment of ions

45 Un método para proporcionar un recubrimiento utilizando el método de MSVO es metalizar por bombardeo atómico un recubrimiento sobre el sustrato, retirar el sustrato recubierto del aparato de recubrimiento por MSVD y posteriormente tratar térmicamente o tratar mediante el uso de plasmas atmosféricos sobre el sustrato recubierto para cristalizar el recubrimiento por metalizado por bombardeo atómico. Por ejemplo, pero sin limitar la invención, con el método de MSVO, un objetivo de titanio metálico y aluminio metálico metalizado por bombardeo atómico en una atmósfera de argón/oxígeno que tiene del 40 al 100 % de oxígeno, el resto mezcla de gas argón, por ejemplo del 50 al 80 por ciento de oxigeno, el resto mezcla de gas argón, a una presión de 0,67-1,33 Pa (5-10 militorr) para depositar por metalizado por bombardeo atómico un recubrimiento de óxido de titanio y aluminio al espesor deseado sobre el sustrato. El recubrimiento depositado no puede cristalizarse. El sustrato recubierto puede retirarse del aparato de recubrimiento y calentarse a una temperatura en el intervalo de 400 oC (752 °F) a 600 oC (1112 °F) One method of providing a coating using the MSVO method is to metallize a coating on the substrate by atomic bombardment, remove the coated substrate from the MSVD coating apparatus and subsequently heat treat or treat by using atmospheric plasmas on the coated substrate to crystallize the coating by metallizing by atomic bombardment. For example, but without limiting the invention, with the MSVO method, an objective of metallic titanium and metallic aluminum metallized by atomic bombardment in an argon / oxygen atmosphere having 40 to 100% oxygen, the rest argon gas mixture , for example 50 to 80 percent oxygen, the rest argon gas mixture, at a pressure of 0.67-1.33 Pa (5-10 millitorr) to deposit a titanium oxide coating by atomic bombing and aluminum to the desired thickness on the substrate. The deposited coating cannot crystallize. The coated substrate can be removed from the coating apparatus and heated to a temperature in the range of 400 oC (752 ° F) to 600 oC (1112 ° F)

55 durante un periodo de tiempo suficiente para promover la formación de las formas cristalinas del óxido de titanio y aluminio y mezclas y compuestos de óxido de titanio y aluminio. Cuando el sustrato es una lámina de vidrio cortada de una cinta de vidrio flotado, el recubrimiento puede depositarse por metalizado por bombardeo atómico sobre el lado al aire y/o el lado del estaño. 55 for a period of time sufficient to promote the formation of the crystalline forms of titanium oxide and aluminum and mixtures and compounds of titanium oxide and aluminum. When the substrate is a sheet of glass cut from a float glass tape, the coating can be deposited by metallizing by atomic bombardment on the air side and / or the tin side.

En un aspecto de la presente invención, pueden metalizarse por bombardeo atómico óxidos, nitruros y oxinitruros que comprenden titanio y aluminio, titanio y aluminio-silicio, titanio y aluminio-silicio-metal de transición usando magnetrón de metalizado por bombardeo atómico de corriente continua. Para este fin, pueden usarse titanio y aluminio, con o sin otros materiales tales como silicio o metales de transición, para los objetivos de metalizado por bombardeo atómico. La transmitancia y la refleclancia del recubrimiento se miden como un indicador de las 65 propiedades ópticas de indice de refracción y coeficiente de absorción. La resistencia laminar eléctrica en ohmios por cuadrado se mide como un indicador de la emisividad y el rendimiento solar, es decir, la energía solar In one aspect of the present invention, oxides, nitrides and oxynitrides comprising titanium and aluminum, titanium and aluminum-silicon, titanium and aluminum-silicon-transition metal can be metallized by atomic bombing using atomic current bombing magnetron. For this purpose, titanium and aluminum, with or without other materials such as silicon or transition metals, can be used for the purposes of metallizing by atomic bombardment. The transmittance and reflectance of the coating are measured as an indicator of the 65 optical properties of refractive index and absorption coefficient. The electrical laminar resistance in ohms per square is measured as an indicator of solar emissivity and efficiency, that is, solar energy

transmitida y reflejada. Una disminución en la resistencia laminar indica una mejora en estas propiedades transmitted and reflected. A decrease in sheet resistance indicates an improvement in these properties

En una realización no limitante de la invención, los objetivos de cátodo de mezcla o aleación de titanio y aluminio y de titanio aluminio-silicio pueden tener una relación de peso de materiales que contienen titanio a materiales que 5 contienen aluminio que varia del 1 al 99 por ciento en peso de aluminio y del 99 al 1 por ciento en peso de titanio, por ejemplo del 10 al 95 por ciento en peso de aluminio o del 20 al 80 por ciento en peso de aluminio o del 20 al 60 por ciento en peso de aluminio, tal como del 20 al 50 por ciento en peso de aluminio, tal como del 20 al 40 por ciento en peso de aluminio, tal como del 30 al 40 por ciento en peso de aluminio. Los metales de titanio, aluminio con o sin silicio pueden metalizarse por bombardeo atómico en una atmósfera de argón, nitrógeno y/u oxigeno; por ejemplo en una mezcla de gases argón-oxigeno con hasta el 100 por ciento de oxigeno o en una mezcla de gases nitrógenooxígeno que contiene hasta el 95 por ciento de oxígeno. Los objetivos de cátodo de aleación de titanio-aluminiosilicio pueden tener algo del silicio sustituido con metal de transición. En una realización no limitante de la invención, la cantidad de metal de transición está por debajo del 15 por ciento en peso basado en el peso combinado del titanio y el aluminio, el silicio y el metal de transición, por ejemplo en el intervalo del 5 al15 por ciento, con al menos el 5 In a non-limiting embodiment of the invention, the objectives of the mixture or alloy cathode of titanium and aluminum and of titanium aluminum-silicon can have a weight ratio of materials containing titanium to materials containing aluminum ranging from 1 to 99 percent by weight of aluminum and 99 to 1 percent by weight of titanium, for example 10 to 95 percent by weight of aluminum or 20 to 80 percent by weight of aluminum or 20 to 60 percent by weight of aluminum, such as 20 to 50 percent by weight of aluminum, such as 20 to 40 percent by weight of aluminum, such as 30 to 40 percent by weight of aluminum. Titanium, aluminum metals with or without silicon can be metallized by atomic bombardment in an atmosphere of argon, nitrogen and / or oxygen; for example in a mixture of argon-oxygen gases with up to 100 percent oxygen or in a mixture of nitrogen gases containing up to 95 percent oxygen. Titanium aluminum aluminium silicon alloy cathode targets may have some of the transition metal substituted silicon. In a non-limiting embodiment of the invention, the amount of transition metal is below 15 percent by weight based on the combined weight of titanium and aluminum, silicon and transition metal, for example in the range of at 15 percent, with at least 5

15 por ciento de silicio basado en el peso total del titanio y el aluminio, el silicio y el metal de transición. 15 percent silicon based on the total weight of titanium and aluminum, silicon and transition metal.

Los objetivos de cátodo de aleación de titanio y aluminio-silicio-metal de transición con del 5 al 15 por ciento en peso de metal de transición y del 5 al65 por ciento en peso de silicio, por ejemplo del 5 al10 por ciento en peso de metal de transición y del 5 al 40 por ciento en peso de silicio, pueden metalizarse por bombardeo atómico, por ejemplo, en un gas inerte tal como argón, en el 100 % de oxígeno, en mezclas de gases argón-oxígeno o en mezclas de gases nitrógeno-oxígeno que contienen hasta el 95 por ciento de oxígeno. En una realización no limitante de la invención, los objetivos de cátodo de aleación de titanio y aluminio-metal de transición pueden contener hasta el 20 por ciento en peso de metal de transición basado en el peso combinado de titanio y aluminio, pero puede contener más metal de transición u otro metal de transición sujeto a la limitación de que la aleación pennanece no magnética para el The cathode targets titanium alloy and aluminum-silicon-transition metal with 5 to 15 percent by weight of transition metal and 5 to 65 percent by weight of silicon, for example 5 to 10 percent by weight of transition metal and 5 to 40 percent by weight of silicon, can be metallized by atomic bombardment, for example, in an inert gas such as argon, in 100% oxygen, in mixtures of argon-oxygen gases or in mixtures of nitrogen-oxygen gases that contain up to 95 percent oxygen. In a non-limiting embodiment of the invention, the titanium alloy and aluminum-transition metal cathode targets may contain up to 20 percent by weight transition metal based on the combined weight of titanium and aluminum, but may contain more transition metal or other transition metal subject to the limitation that the alloy is non-magnetic for the

25 magnetrón de metalizado por bombardeo atómico. 25 magnetron of metallized by atomic bombing.

Las composiciones de objetivo de cátodo de titanio y aluminio, titanio aluminio-silicio, titanio-aluminio-silicio-metal de transición y titanio y aluminio-metal de transición de la presente invención pueden determinarse mediante análisis químico a partir de piezas de material de objetivo para determinar el porcentaje en peso de silicio o metal de transición. Las composiciones de recubrimiento pueden medirse usando fluorescencia de rayos X para determinar el porcentaje en peso de titanio, aluminio, silicio o metal de transición. The target compositions of titanium and aluminum cathode, aluminum-silicon titanium, titanium-aluminum-silicon-transition metal and titanium and aluminum-transition metal of the present invention can be determined by chemical analysis from parts of target material to determine the percentage by weight of silicon or transition metal. The coating compositions can be measured using X-ray fluorescence to determine the percentage by weight of titanium, aluminum, silicon or transition metal.

Los objetivos en general pueden alargarse teniendo una longitud mayor que su ancho y varían desde 30 hasta 100 centímetros o más. En una realización de la presente invención, los recubrimientos pueden producirse en un 35 dispositivo de magnetrón de metalizado por bombardeo atómico a gran escala capaz de recubrir vidrio de hasta 100 x 144 pulgadas (2,54 x 3,66 metros). The objectives in general can be lengthened having a length greater than its width and vary from 30 to 100 centimeters or more. In one embodiment of the present invention, the coatings can be produced in a large-scale atomic bombardment magnetron device capable of coating glass up to 100 x 144 inches (2.54 x 3.66 meters).

El artículo que tiene al menos una película o capa de materiales de titanio y aluminio de la presente invención en un recubrimiento puede ser un artículo que tiene una pila de recubrimiento de baja E metalizada por bombardeo atómico sobre un sustrato. El recubrimiento que contiene material de titanio y aluminio puede ser una capa protectora sobre la pila de recubrimiento. El sustrato puede estar hecho de cualquier material, por ejemplo, plástico, vidrio, metal o cerámica. En una realización no limitante de la invención, el sustrato es transparente, por ejemplo, una lámina nylon, vidrio o de plástico Mylar®. En el siguiente análisis, el sustrato es vidrio. El vidrio puede ser de cualquier composición que tenga cualesquiera propiedades ópticas, por ejemplo, cualquier valor de transmitancia The article having at least one film or layer of titanium and aluminum materials of the present invention in a coating may be an article having a low E coating cell metallized by atomic bombardment on a substrate. The coating containing titanium and aluminum material can be a protective layer on the coating stack. The substrate can be made of any material, for example, plastic, glass, metal or ceramic. In a non-limiting embodiment of the invention, the substrate is transparent, for example, a nylon, glass or Mylar® plastic sheet. In the following analysis, the substrate is glass. The glass can be of any composition that has any optical properties, for example, any transmittance value

45 visible, transmisión ultravioleta, transmisión infrarroja y/o transmisión total de energía solar. Se desvelan tipos de vidrios que pueden usarse en la práctica de la invención, pero no se limitan a los mismos, en la Patente de los EE.UU_ N.o 4.746.347; 4.792.536; 5.240_886; 5.385.872; Y 5.393.593 45 visible, ultraviolet transmission, infrared transmission and / or total solar energy transmission. Glass types that can be used in the practice of the invention are disclosed, but not limited thereto, in US Patent No. 4,746,347; 4,792,536; 5.240_886; 5,385,872; And 5,393,593

La pila de recubrimiento metalizada por bombardeo atómico puede tener cualquier disposición incluyendo, pero no limitada a, una capa de base también denominada una capa dieléctrica, una capa de emparejamiento de fases o una capa antirrefleclante; una capa de metal reflectante de infrarrojos, tal como una película de plata o cualquier metal noble; una capa de imprimación o protectora, que puede ser, pero no se limita a, una película de acero inoxidable depositado, una película de niobio, una película de cobre depositado o una película de titanio depositado y una segunda capa dieléctrica o capa antirreflectante. Se desvelan pilas de recubrimiento que son pilas de recubrimiento The atomic bombardment metallized stack can have any arrangement including, but not limited to, a base layer also referred to as a dielectric layer, a phase matching layer or an anti-reflective layer; an infrared reflective metal layer, such as a silver film or any noble metal; a primer or protective layer, which may be, but is not limited to, a deposited stainless steel film, a niobium film, a deposited copper film or a deposited titanium film and a second dielectric layer or anti-reflective layer. Coating piles that are coating piles are disclosed

55 de película de plata individual que pueden usarse en la práctica de la invención, pero que no limitan la invención, en las Patentes de los EE.UU. N° 4.320.155; 4.512.863; 4.594.137; Y 4.610.771 55 of individual silver film which can be used in the practice of the invention, but which do not limit the invention, in US Pat. No. 4,320,155; 4,512,863; 4,594,137; And 4,610,771

Para un vidrio recubierto específico, las capas dieléctricas pueden tener estannato de cinc; la capa de imprimación puede depositarse como cobre metálico y la capa de IR puede ser de plata. Aunque no es necesario, la capa de base puede deposítarse sobre la superficíe al aíre de una lámína de vídrío cortada de una cínta de vídrío flotado. La superticie al aire es la superficie opuesta a la superticie de la cinta flotada soportada sobre el conjunto fundido de metal, por ejemplo, como se desvela en la Patente de los EE.UU. N.O:> 4.055.407. Una pila de recubrimiento de ejemplo como se ha descrito anteriormente se desvela en las Patentes de los EE.UU. N.O:> 4.610.771 Y 4.786.563 anterionnente mencionadas For a specific coated glass, the dielectric layers may have zinc stannate; The primer layer can be deposited as metallic copper and the IR layer can be silver. Although not necessary, the base layer can be deposited on the air surface of a glass sheet cut from a float of water glass. The air super-surface is the surface opposite to the surface of the floating belt supported on the molten metal assembly, for example, as disclosed in US Pat. N.O:> 4.055.407. An example coating stack as described above is disclosed in US Pat. N.O .:> 4,610,771 and 4,786,563 mentioned above

La capa que contiene titanio y aluminio, por ejemplo, la capa protectora, de la presente invención se analiza a continuación en combinación con una configuración no limitante de una pila de recubrimiento funcional, pero debe apreciarse que la capa protectora puede usarse con muchos tipos diferentes de recubrimientos de funcionales conocidos por los expertos en la materia The titanium and aluminum-containing layer, for example, the protective layer, of the present invention is discussed below in combination with a non-limiting configuration of a functional coating stack, but it should be appreciated that the protective layer can be used with many different types of functional coatings known to those skilled in the art

5 Con referencia a la Figura 1, se muestra un articulo recubierto 40 que tiene una pila de recubrimiento funcional 42 de un tipo que se encuentra normalmente en articulos recubiertos por metalizado por bombardeo atómico de baja E que tienen dos capas de metal reflectante de infrarrojos. La pila de recubrimiento 42 se lleva sobre un sustrato 14. En general, la pila de recubrimiento 42 incluye una capa de base 44 que puede incluir una o más peliculas de diferentes materiales dieléctricos o materiales anlirrefleclantes o materiales de emparejamiento de fases, una primera capa metálica reflectante de infrarrojos 46, una capa de imprimación 48 para evitar la degradación de la capa metálica 46 durante el metalizado por bombardeo atómico de una capa dieléctrica o capa antirrefleclante o capa de emparejamiento de fases 50. La capa 50 puede tener una o más películas. Una segunda capa metálica reflectante de infrarrojos 52 se deposita sobre la capa 50. Una segunda capa de imprimación 54 se deposita sobre la segunda capa metálica refleclante de infrarrojos 52 y una capa dieléctrica o una capa antirreflectante 56 se deposita sobre la 5 With reference to Figure 1, a coated article 40 is shown having a functional coating stack 42 of a type normally found in articles coated by metallization by low E atomic bombardment having two layers of infrared reflective metal. The coating stack 42 is carried on a substrate 14. In general, the coating stack 42 includes a base layer 44 that may include one or more films of different dielectric materials or anti-reflective materials or phase matching materials, a first layer infrared reflective metal 46, a primer layer 48 to prevent degradation of the metal layer 46 during metallization by atomic bombardment of a dielectric layer or anti-reflective layer or phase matching layer 50. The layer 50 may have one or more films . A second infrared reflective metal layer 52 is deposited on the layer 50. A second primer layer 54 is deposited on the second infrared reflective metal layer 52 and a dielectric layer or an anti-reflective layer 56 is deposited on the

15 segunda capa de imprimación 54. 15 second layer of primer 54.

En una realización no limitante de la invención y con referencia continuada a la Figura 1, una pila de recubrimiento 42 reflectante de doble capa metálica que puede usarse en la práctica de la invención incluye una capa de base 44 que comprende una pelicula de estannato de cinc 58 sobre la superficie al aire de un sustrato de vidrio 14 cortado de una cinta de vidrio flotado y una película de óxido de cinc 60 sobre la pelicula de estannato de cinc 58; una primera capa metálica refleclante de infrarrojos 46 que comprende una pelicula de plata sobre la pelicula de óxido de cinc 60; una primera capa de imprimación 48 que comprende una película metálica de titanio metalizada por bombardeo atómico sobre la película de plata 46, en la que el titanio metálico se oxida a la pelicula de dióxido de titanio 48 durante el metalizado por bombardeo atómico de la siguiente película dieléctrica; una capa dieléctrica 50 In a non-limiting embodiment of the invention and with continued reference to Figure 1, a metallic double layer reflective coating stack 42 that can be used in the practice of the invention includes a base layer 44 comprising a zinc stannate film. 58 on the air surface of a glass substrate 14 cut from a float glass tape and a zinc oxide film 60 on the zinc stannate film 58; a first infrared reflective metal layer 46 comprising a silver film on the zinc oxide film 60; a first primer layer 48 comprising a metallic film of titanium metallized by atomic bombardment on the silver film 46, in which the metallic titanium is oxidized to the titanium dioxide film 48 during metallization by atomic bombing of the next film dielectric; a dielectric layer 50

25 que comprende una película de óxido de cinc 62 sobre la capa de imprimación 48, una pelicula de estannato de cinc 64 sobre la película de óxido de cinc 62 y una película de óxido de cinc 66 sobre la película de estannato de cinc 64; una segunda capa reflectante de infrarrojos 52 que comprende una segunda película de plata sobre la pelicula de óxido de cinc 66; una segunda capa de imprimación 54 que comprende una segunda película de titanio metálico depositada sobre la película de plata 52, en la que el titanio se oxida a dióxido de titanio como se ha analizado anteriormente; una capa dieléctrica 56 que comprende una pelicula de óxido de cinc 68 sobre la película de óxido de titanio 54 y una pelicula de estannato de cinc 70 sobre la pelicula de óxido de cinc 68. La pila de recubrimiento 42 es del tipo desvelado en la Solicitud EPO Publicada N.O O 803 481 basada en la Solicitud de Patente de los EE.UU. N.O de serie 08f807.352 presentada el 27 de febrero de 1997, en los nombres de Mehran Arbab, Russell C. Criss y Larry 25 comprising a zinc oxide film 62 on the primer layer 48, a zinc stannate film 64 on the zinc oxide film 62 and a zinc oxide film 66 on the zinc stannate film 64; a second infrared reflective layer 52 comprising a second silver film on the zinc oxide film 66; a second primer layer 54 comprising a second metallic titanium film deposited on the silver film 52, in which the titanium is oxidized to titanium dioxide as discussed above; a dielectric layer 56 comprising a zinc oxide film 68 on the titanium oxide film 54 and a zinc stannate film 70 on the zinc oxide film 68. The coating stack 42 is of the type disclosed in the Application Published EPO NO O 803 481 based on US Patent Application. Serial No. 08f807.352 filed on February 27, 1997, in the names of Mehran Arbab, Russell C. Criss and Larry

A. Miller para "Coated Articles" y en los productos comercializados por PPG Industries, Inc., con su vidrio recubierto A. Miller for "Coated Articles" and products marketed by PPG Industries, Inc., with its coated glass

35 de marca comercial SUNGATE® 1000 y el vidrio recubierto SOLARBAN® 60, o como se desvela en el documento WO 03/020656 A. 35 of SUNGATE® 1000 trademark and SOLARBAN® 60 coated glass, or as disclosed in WO 03/020656 A.

La capa o película protectora 16 de la presente invención que se analiza con mas detalle a continuación se deposita sobre la pila de recubrimiento 42. La deposición del recubrimiento funcional 42 no es limitante de la invención y puede depositarse mediante cualquier método, por ejemplo, por deposición mediante metalizado por bombardeo atómico, deposición metalica sin corriente eléclrica yfo deposición pirolitica. Como alternativa, el recubrimiento funcional puede comprender uno o más nitruros metálicos conductores, por ejemplo, nitruro de titanio y aleaciones de níquel y cromo. The protective layer or film 16 of the present invention discussed in more detail below is deposited on the coating stack 42. The deposition of the functional coating 42 is not limiting of the invention and can be deposited by any method, for example, by deposition by metallization by atomic bombardment, metal deposition without electric current and pyrolytic deposition. Alternatively, the functional coating may comprise one or more conductive metal nitrides, for example, titanium nitride and nickel and chromium alloys.

45 Ha de entenderse que la invención no se limita a la realización mostrada en la Figura 1. Por ejemplo, la capa que contiene titanio y aluminio (por ejemplo, la capa protectora) de la invención puede utilizarse como una capa de recubrimiento exterior 16 como se muestra en la Figura 1 Sin embargo, la capa de la invención que contiene titanio y aluminio también se podría utilizar como una o las dos capas de imprimadón 48 yfo 54, o como una capa adicional, o en lugar de una o más de las capas dieléctricas 44, 50, 56. It is to be understood that the invention is not limited to the embodiment shown in Figure 1. For example, the titanium and aluminum-containing layer (for example, the protective layer) of the invention can be used as an outer covering layer 16 as shown in Figure 1 However, the layer of the invention containing titanium and aluminum could also be used as one or both layers of primer 48 and p.54, or as an additional layer, or instead of one or more of the dielectric layers 44, 50, 56.

La capa protectora 16 de la presente invención puede ser la última capa depositada sobre la pila de recubrimiento o puede ser una capa subyacente a la capa más externa. Por ejemplo, la capa protectora de Ti-Al 16 de la presente invención puede depositarse como la última película de recubrimiento funcional para proporcionar una protección contra el ataque mecánico y químico al menos igual a la de las pelíCUlas protectoras conocidas y utilizadas The protective layer 16 of the present invention may be the last layer deposited on the coating stack or it may be a layer underlying the outermost layer. For example, the Ti-Al 16 protective layer of the present invention can be deposited as the last functional coating film to provide protection against mechanical and chemical attack at least equal to that of known and used protective films.

55 actualmente. Como alternativa, la capa de Ti-Al 16 puede utilizarse como una o más de las capas, por ejemplo, las capas de imprimación o las capas dieléctricas, de la pila de recubrimiento 55 currently. Alternatively, the Ti-Al layer 16 can be used as one or more of the layers, for example, the primer layers or the dielectric layers, of the coating stack

En una realización no limitante de la invención, la capa protectora 16 comprende adicionalmente silicio. Esto puede conseguirse mediante la adición de silicio al objetivo de titanio-aluminio. Cuando se usa un objetivo de catodo de titanio-aluminio-silicio para metalizar por bombardeo atómico un recubrimiento en una atmósfera inerte, el material depositado puede incluir titanio, aluminio, silicio, titanio-aluminio, titanio-silicio, aluminio-silicio, titanio-aluminio-silicio y combinaciones de los mismos. Cuando se usa un objetivo de cátodo de titanio-aluminio-silicio para metalizar por bombardeo atómico un recubrimiento en una atmósfera de oxígeno, el material depositado puede incluir óxido de titanio, óxido de aluminio, óxido de silicio, óxido de (titanio-aluminio), óxido de (titanio-silicio), óxido de (aluminio 65 silicio), óxido de (titanio-aluminio-silicio) y combinaciones de los mismos. Cuando se usa un objetivo de catado de titanio-aluminio-silicio para metalizar por bombardeo atómico un recubrimiento en atmósfera de nitrógeno, el material In a non-limiting embodiment of the invention, the protective layer 16 further comprises silicon. This can be achieved by adding silicon to the titanium aluminum target. When a titanium-aluminum-silicon cathode objective is used to metallize a coating in an inert atmosphere by atomic bombardment, the deposited material may include titanium, aluminum, silicon, titanium-aluminum, titanium-silicon, aluminum-silicon, titanium- aluminum-silicon and combinations thereof. When a titanium-aluminum-silicon cathode target is used to metallize a coating in an oxygen atmosphere by atomic bombardment, the deposited material may include titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, (titanium-aluminum) oxide , oxide of (titanium-silicon), oxide of (aluminum 65 silicon), oxide of (titanium-aluminum-silicon) and combinations thereof. When a titanium-aluminum-silicon tasting target is used to metallize a nitrogen atmosphere coating, the material

depositado puede incluir nitruro de titanio, nitruro de aluminio, nitruro de silicio, nitruro de (titanio-aluminio), nitruro de (titanio-silicio), nitruro (aluminio-silicio), nitruro de (titanio-aluminio-silicio) y combinaciones de los mismos. Cuando se usa un objetivo de cátodo de titanio-aluminio-silicio para metalizar por bombardeo atómico un recubrimiento al aire, el material depositado puede incluir óxido de titanio, óxido de aluminio, óxido de silicio, óxido de (titanio-aluminio), Deposited may include titanium nitride, aluminum nitride, silicon nitride, (titanium-aluminum) nitride, (titanium-silicon) nitride, nitride (aluminum-silicon), nitride (titanium-aluminum-silicon) and combinations of the same. When a titanium-aluminum-silicon cathode target is used to metallize an air coating by atomic bombardment, the deposited material may include titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, (titanium-aluminum) oxide,

5 óxido de (titanio de silicio), óxido de (aluminio-silicio), óxido de (titanio-aluminio-silicio), nitruro de titanio, nitruro de aluminio, nitruro de silicio, nitruro de (titanio-aluminio), nitruro de (titanio-silicio), nitruro de (aluminio-silicio), nitrufo de (titanio-aluminio-silicio), oxinitruro de titanio, oxinitruro de aluminio, oxinitruro de silicio, oxinitruro de (titanioaluminio), oxinitruro de (titanio-silicio), oxinitruro de (aluminio-silicio), oxinitruro de (titanio-aluminio-silicio) y combinaciones de los mismos 5 (silicon titanium) oxide, (aluminum-silicon) oxide, (titanium-aluminum-silicon) oxide, titanium nitride, aluminum nitride, silicon nitride, (titanium-aluminum) nitride, ( titanium-silicon), (aluminum-silicon) nitride, (titanium-aluminum-silicon) nitride, titanium oxynitride, aluminum oxynitride, silicon oxynitride, (titanium aluminum) oxynitride, (titanium-silicon) oxynitride, oxynitride of (aluminum-silicon), oxynitride of (titanium-aluminum-silicon) and combinations thereof

10 En la práctica de la invención, puede usarse silicio con combinaciones de óxidos, nitruros y oxinitruros para proporcionar la película de la presente invención. Como se analiza a continuación, el óxido, nitruro o combinaciones de óxido, nitruro u oxinitruro de titanio, aluminio, como capas dieléctricas y/o protectoras ofrecen recubrimientos duraderos con una flexibilidad mejorada en la elección del color y la reflectancia In the practice of the invention, silicon with combinations of oxides, nitrides and oxynitrides can be used to provide the film of the present invention. As discussed below, the oxide, nitride or combinations of oxide, nitride or oxynitride of titanium, aluminum, as dielectric and / or protective layers offer durable coatings with improved flexibility in the choice of color and reflectance

La capa dieléctrica y/o protectora de la presente invención puede ser "homogénea", "graduada" o "no homogénea". The dielectric and / or protective layer of the present invention can be "homogeneous", "graduated" or "non-homogeneous".

En los siguientes ejemplos, a menos que se indique lo contrario, los recubrimientos se depositaron a una escala más pequeña, usando cátodos de magnetrón plano que tienen objetivos de titanio-aluminio y tilanio-aluminio-silicio de 5 x 20 17 pulgadas (12,7 x 43,2 centímetros). La presión de base estaba en el intervalo bajo de 10-5 a 10·6torr. Los recubrimientos se hicieron admitiendo primero el gas de metalizado por bombardeo atómico a una presión que variaba de 3 a 4 militorr y después fijando el cátodo a una potencia constante. En cada ejemplo, se hicieron pasar sustratos de vidrio flotado transparentes bajo el objetivo sobre un rodillo transportador a una velocidad de 120 pulgadas (3,OS metros) por minuto. La transmitancia se monitorizó durante el proceso de metalizado por bombardeo In the following examples, unless otherwise indicated, the coatings were deposited on a smaller scale, using flat magnetron cathodes having titanium-aluminum and 5-20-inch 17-inch titanium-aluminum-silicon targets (12, 7 x 43.2 centimeters). The base pressure was in the low range of 10-5 to 10 · 6torr. The coatings were made by first admitting the metal gas by atomic bombardment at a pressure that varied from 3 to 4 millitorr and then fixing the cathode at a constant power. In each example, transparent float glass substrates were passed under the objective on a conveyor roller at a speed of 120 inches (3, OS meters) per minute. The transmittance was monitored during the bombing metallization process

25 atómico a una longitud de onda de 550 nanómetros usando un monitor óptico Dyn-Optics 580D. 25 atomic at a wavelength of 550 nanometers using a Dyn-Optics 580D optical monitor.

Después de que se depositara el recubrimiento, la transmitancia y la reflectancia tanto de la superticie de vidrio como de la recubierta se midieron en el intervalo de long itud de onda de 380 a 720 nanómetros usando un espectrofotómetro TCS fabricado por BYK Gardner en Columbia, MD. Estos datos se usaron con un programa de After the coating was deposited, the transmittance and reflectance of both the glass and the coated surface were measured in the wavelength range of 380 to 720 nanometers using a TCS spectrophotometer manufactured by BYK Gardner in Columbia, MD . This data was used with a program of

30 software disponible en el mercado para calcular el índ ice de refracción del recubrimiento (n) y el coeficiente de absorción (k), la transmitancia integrada y la reflectancia. Los espesores de los recubrim ientos se midieron usando un perfilador de exploración larga Tencor P-1 30 software available in the market to calculate the refractive index of the coating (n) and the absorption coefficient (k), the integrated transmittance and the reflectance. The thicknesses of the coatings were measured using a Tencor P-1 long scan profiler.

Ejemplos Examples

Se descubrió que las películas que contenían una combinación de Ti y Al produjeron varias características sorprendentes. Las gamas de la mezcla de metales mostraron una oxidación preferencial, en relación con cualquiera de las peliculas de metales puros de titanio o de aluminio. Independientemente de esto, se produjo una potenciación del recubrimiento de baja emisividad cuando se incorporó la mezcla de metales como una capa de imprimación. Se 40 observó una mejora drástica en la exposición a largo plazo al entorno de un recubrimiento procesado ténnicamente. Una gama de la imprimación metálica mixta no mostró ninguna degradación, en comparación con las imprimaciones de melal puro después de más de 1,5 años de exposición en el entorno del laboratorio. Además, la resistencia laminar de la capa de baja emisividad fue menor para una gama de la mezcla de metales que para cualquiera de las imprimaciones de metal puro. Ambos beneficios indican claramente una mejora sobre las imprimaciones de metal It was discovered that films containing a combination of Ti and Al produced several surprising features. The ranges of the metal mixture showed preferential oxidation, in relation to any of the pure titanium or aluminum metal films. Regardless of this, there was an enhancement of the low emissivity coating when the metal mixture was incorporated as a primer layer. A dramatic improvement in long-term exposure to the environment of a technically processed coating was observed. A range of mixed metal primer showed no degradation, compared to pure melal primers after more than 1.5 years of exposure in the laboratory environment. In addition, the sheet resistance of the low emissivity layer was lower for a range of the metal mixture than for any of the pure metal primers. Both benefits clearly indicate an improvement over metal primers

45 puro de la técnica 45 pure technique

Los recubrimientos de óxido y nitruro de titanio-aluminio mostraron una durabilidad quimica muy potenciada en comparación con un recubrimiento de dióxido de titanio, como se indica mediante la exposición al ensayo de humedad de condensación. The titanium-aluminum oxide and nitride coatings showed a highly enhanced chemical durability compared to a titanium dioxide coating, as indicated by exposure to the condensation moisture test.

Para producir muestras de película delgadas compuestas de una mezcla de metales, un objetivo de cátodo plano, es decir, una placa de melal puro sólido de S" x 14" (12,5 cm x 35 cm), era ya sea un objetivo sólido compuesto de la mezcla o aleación de metal específica o un objetivo dividido, dividido en dos placas de los dos metales una al lado de la otra de S" x 7" (2,5 cm x 17,5 cm). Se usaron aleaciones específicas de Ti-Al para los objetivos sólidos y se 55 fabricaron mediante de prensado isostático caliente (HIP, del inglés Hot Isostatic Pressing) de los polvos de la aleación, o fusión en horno crisol de inducción plana de vacío (VIM, del inglés Vacuum planar Inductíon skull Meltíng) y el moldeo de un objetivo en lingote a partir de los polvos de metal o el plasma pulverizado. Se usó el análisis químico de la aleación de objetivo para determinar el porcentaje en peso de los metales individuales. Tanto los objetivos divididos como los de aleación especifica se atornillaron a una placa de respaldo y después al montaje del To produce thin film samples composed of a mixture of metals, a flat cathode target, that is, a solid pure melal plate of S "x 14" (12.5 cm x 35 cm), was either a solid target compound of the specific metal mixture or alloy or a divided objective, divided into two plates of the two metals side by side of S "x 7" (2.5 cm x 17.5 cm). Specific Ti-Al alloys were used for the solid targets and were manufactured by hot isostatic pressing (HIP) of the alloy powders, or melting in a flat vacuum induction crucible furnace (VIM, of the English Vacuum planar Induction skull Meltíng) and the molding of an ingot target from metal powders or powdered plasma. The chemical analysis of the target alloy was used to determine the percentage by weight of the individual metals. Both the divided and specific alloy objectives were screwed to a backing plate and then to the assembly of the

60 cátodo. 60 cathode

Los ejemplos se disponen en dos áreas generales: Los Ejemplos 1-4 describen los recubrimientos de Ti-Al metalizados por bombardeo atómico sobre vidrio; los Ejemplos 5-7 describen capas de Ti-Al como parte de una pila de recubrimiento de bajo emisividad The examples are arranged in two general areas: Examples 1-4 describe Ti-Al coatings metallized by atomic bombardment on glass; Examples 5-7 describe Ti-Al layers as part of a low emissivity coating stack

Ejemplo 1 Example 1

Metal mixto o aleaciones metalizados por bombardeo atómico a partir de un objetivo dividido de Al y Ti puros Mixed metal or alloys metallized by atomic bombardment from a pure objective of pure Al and Ti

Muestras G1 Y G2 G1 and G2 samples

El objetivo dividido produjo recubrimientos compuestos por una mezcla de Al-Ti en una sola ejecución. Esta mezcla tenia una composición de gradiente (no lineal) a lo largo del ancho de la lamina de vidrio y una composición 10 constante en la dirección del desplazamiento. Las muestras de gradiente (G1 ) (G2) se produjeron sobre vidrio flotado transparente de 12" x 12" (30 cm x 30 cm) -2,3 mm en una camara Airco ILS. La presión basal en la cámara antes del metalizado por bombardeo atómico era de 1,0 x 10-5 torf. El objetivo de Al-Ti se metalizó por bombardeo atómico a una presión de 3 micrómetros en una atmósfera de gas argón al100 %. La potencia del objetivo de cátodo para la muestra G1 fue de 1 kilovatio dando como resultado una tensión de 395 voltios y una corriente de 2,52 15 amperios. El objetivo se hizo pasar bajo el objetivo del 3 veces a una velocidad de 120 pulgadas (304,8 cm) por minuto hasta que la transmisión se redujo al 20,9 %. La muestra G2 se depositó a una potencia de 5 kilovatios, dando como resultado una tensión de 509 voltios y una corriente de 9,72 amperios. Después de 5 pases bajo el objetivo, la transmisión se redujo al 0,1 %. La transmisión en el aparato de recubrimiento ILS se lee en el centro de la placa, por tanto, la lectura de la transmisión es aproximadamente la del centro de la capa de gradiente Los The divided objective produced coatings composed of a mixture of Al-Ti in a single execution. This mixture had a gradient (non-linear) composition along the width of the glass sheet and a constant composition in the direction of travel. Gradient samples (G1) (G2) were produced on 12 "x 12" transparent float glass (30 cm x 30 cm) -2.3 mm in an Airco ILS camera. The basal pressure in the chamber before metallizing by atomic bombardment was 1.0 x 10-5 torf. The Al-Ti target was metallized by atomic bombardment at a pressure of 3 micrometers in an atmosphere of 100% argon gas. The power of the cathode target for sample G1 was 1 kilowatt resulting in a voltage of 395 volts and a current of 2.52 15 amps. The target was passed under the target 3 times at a speed of 120 inches (304.8 cm) per minute until the transmission was reduced to 20.9%. Sample G2 was deposited at a power of 5 kilowatts, resulting in a voltage of 509 volts and a current of 9.72 amps. After 5 passes under the target, the transmission was reduced to 0.1%. The transmission in the ILS coating apparatus is read in the center of the plate, therefore, the transmission reading is approximately that of the center of the gradient layer.

20 valores de los parámetros de funcionamiento para cada muestra se muestran en la Tabla A a continuación 20 values of the operating parameters for each sample are shown in Table A below.

Después de la deposición usando el objetivo dividido, se cortó una tira de 1,375 pulgadas (3,5 cm) perpendicular a la dirección del desplazamiento (a lo largo del gradiente) en ocho cuadrados de 1,375 pulgadas (3,5 cm) para el análisis por fluorescencia de rayos X (XRF). La cantidad promedio de titanio y aluminio en cada muestra individual After deposition using the divided target, a strip of 1,375 inches (3.5 cm) perpendicular to the direction of travel (along the gradient) was cut into eight 1,375 inches (3.5 cm) squares for analysis by X-ray fluorescence (XRF). The average amount of titanium and aluminum in each individual sample

25 en térm inos de microgramos/cm 2 (mg /cm ) se calculó a partir de estas mediciones. El porcentaje en peso de Al y Ti se calculó después a partir de la cantidad de IJg /cm2 para cada muestra. Por ejemplo, el centro de la muestra de XRF G1, situado a 3,438 pulgadas (8,7 cm) del borde de la primera muestra, contiene un peso promedio del 90,1 % de titan io. En lugar de convertir la posición central de cada muestra de XRF a pulgadas o centímetros, se creó una plantilla marcando la posición central de cada muestra de XRF a lo largo del ancho de la placa de muestra. Por 25 in terms of micrograms / cm 2 (mg / cm) was calculated from these measurements. The weight percentage of Al and Ti was then calculated from the amount of IJg / cm2 for each sample. For example, the center of the XRF G1 sample, located 3,438 inches (8.7 cm) from the edge of the first sample, contains an average weight of 90.1% titanium io. Instead of converting the central position of each XRF sample to inches or centimeters, a template was created by marking the central position of each XRF sample along the width of the sample plate. By

30 tanto, G1 tiene el valor de 3 unidades en la plantilla con un 90,1 % en peso de titanio. Las posiciones entre los centros de cada muestra se encuentran en una parte fraccionaria de la distancia entre las posiciones en la plantilla. La composición promedio de los metales mixtos se determinó promediando el porcentaje en peso de ambas muestras (G1 y G2) para cada posición a lo largo del ancho de la placa. Los microgramosfcm 2 y el porcentaje en peso para Al y Ti en cada posición para cada muestra se muestran en la Tabla B, junto con el promedio de las Therefore, G1 has the value of 3 units in the template with 90.1% by weight of titanium. The positions between the centers of each sample are in a fractional part of the distance between the positions in the template. The average composition of the mixed metals was determined by averaging the percentage by weight of both samples (G1 and G2) for each position along the plate width. The microgramsfcm 2 and the percentage by weight for Al and Ti in each position for each sample are shown in Table B, together with the average of the

35 muestras en cada posición. Se usó un ajuste de 5 parametros sigmoideo para ajustar los datos. El porcentaje de Ti y Al para cada posición a lo largo del ancho de la placa y el ajuste calculado a los datos se muestran en la Figura 2. 35 samples in each position. A setting of 5 sigmoid parameters was used to adjust the data. The percentage of Ti and Al for each position along the plate width and the calculated fit to the data are shown in Figure 2.

La ecuación para el ajuste de datos es· The equation for data adjustment is ·

40 % en peso = yo+a/(1+exp«1+exp(-(x-Xo)Ib)¡C 40% by weight = I + a / (1 + exp «1 + exp (- (x-Xo) Ib) ¡C

donde a = 0,9485 where a = 0.9485

b = 0,743 b = 0.743

c=1 ,2513 c = 1, 2513

Xo = 4,3454 Xo = 4.3454

50 yo = 0,0226 50 yo = 0.0226

Tabla A Table A

N.O de Ejemplo Example No.: Tensión Corriente Potencia (kW Número de pases Transmitancia Tension Stream Power (kW Number of passes Transmittance

1 one: 395 2,52 1,0 3 20 ,9 395 2.52 1.0 3 20, 9

G2 G2: 509 9,72 5,0 5 0, 1 509 9.72 5.0 5 0, 1

Tabla B Table B

Posición de la muestra Sample Position: G1 G2 Promedio de G1 , G2 G1 G2 Average of G1, G2

microgrfcm microgrfcm: % en peso microgrfcm r'fo en peso % en peso promedio % in weigh microgrfcm r'fo in weight % by weight average

Al To the: Ti Al Ti Al Ti Al Ti Al Ti You To the You To the You To the You To the You

1 one: 0,09 4,78 1,8 98 ,2 0,96 37 ,35 2 ,5 97 ,5 2,2 97 ,8 0.09 4.78 1.8 98, 2 0.96 37, 35 2, 5 97, 5 2.2 97, 8

2 2: 0,2 4,79 4,0 96 ,0 1,9 37,32 4,8 95,2 4,4 95,6 0.2 4.79 4.0 96.0 1.9 37.32 4.8 95.2 4.4 95.6

3 3: 0,5 4,53 9,9 90, 1 4,48 35 ,33 11 ,3 88 ,7 10,6 89,4 0.5 4.53 9.9 90, 1 4.48 35, 33 11, 3 88, 7 10.6 89.4

4 4: 1,5 3,6 29,4 70 ,6 13,12 28,18 31 ,8 68,2 30,6 69,4 1.5 3.6 29.4 70, 6 13.12 28.18 31, 8 68.2 30.6 69.4

5 5: 3,35 1,94 63,3 36 ,7 28,13 14,94 65 ,3 34,7 64 ,3 35,7 3.35 1.94 63.3 36, 7 28.13 14.94 65, 3 34.7 64, 3 35.7

6 6: 4,32 0,82 84 ,0 16,0 36,7 5,74 86,5 13,5 85,3 14,7 4.32 0.82 84.0 16.0 36.7 5.74 86.5 13.5 85.3 14.7

7 7: 4,56 0,35 92 ,9 7,1 38 ,91 2,33 94,4 5,6 93 ,6 6,4 4.56 0.35 92, 9 7.1 38, 91 2.33 94.4 5.6 93, 6 6.4

8 8: 4,54 0,18 96,2 3,8 38,86 1,15 97,1 2,9 96,7 3,3 4.54 0.18 96.2 3.8 38.86 1.15 97.1 2.9 96.7 3.3

Res ultados de la oxidación por calentamiento de metal mixto o aleaciones metalizados por bombardeo atómico a partir de un cátodo dividido Results of oxidation by heating of mixed metal or alloys metallized by atomic bombardment from a divided cathode

5 Después de que la placa descrita anteriormente se calentara hasta el punto de curvado del vidrio de sosa y cal, se observó que una sección de la placa de mezcla de metales se habia oxidado, mientras que el metal puro no. Para la mezcla de Ti-Al, esto ocurrió en una posición entre 3,5 y 4,0 unidades en la plantilla como se indica en la Tabla B y la Figura 2. Esto corresponde a un porcentaje en peso de titanio del 85 al 68 por ciento en peso, respectivamente, como se muestra en la Tabla B y la Figura 3. El intervalo será mayor para los recubrimientos más delgados y más 5 After the plate described above was heated to the point of bending of the soda and lime glass, it was observed that a section of the metal mixing plate had oxidized, while the pure metal did not. For the Ti-Al mixture, this occurred in a position between 3.5 and 4.0 units in the template as indicated in Table B and Figure 2. This corresponds to a percentage by weight of titanium from 85 to 68 percent by weight, respectively, as shown in Table B and Figure 3. The interval will be longer for thinner and longer coatings.

10 estrecho para recubrimientos más gruesos 10 narrow for thicker coatings

La oxidación de la mezcla de metales hace que sea posible la aplicación de composiciones más gruesas de metal Ti-Al, por ejemplo, en foona de una capa de recubrimiento de metal para la oxidación posterior durante el procesamiento térmico. La capa de mezcla de metales podria también oxidarse mediante otros métodos que The oxidation of the metal mixture makes it possible to apply thicker Ti-Al metal compositions, for example, in foona of a metal coating layer for subsequent oxidation during thermal processing. The metal mixing layer could also be oxidized by other methods that

15 conducen la temperatura del recubrimiento al punto de oxidación. 15 lead the coating temperature to the oxidation point.

La mezcla de metales puede segregarse después del calentamiento, produciendo una capa más rica en un metal que en el otro. The metal mixture can be segregated after heating, producing a layer richer in one metal than in the other.

20 La mezcla de metales también puede metalizarse por bombardeo atómico en una mezcla de gas con un pequeño porcentaje de un gas reactivo (02o N2), por debajo del punto de conmutación The metal mixture can also be metallized by atomic bombardment in a gas mixture with a small percentage of a reactive gas (02o N2), below the switching point

El objetivo compuesto de la mezcla de metal, un compuesto o aleación de los metales puede metalizarse por bombardeo atómico en un gas inerte, reactivo o una mezcla de gas inerte-reactivo, lal como argón, 0 2, N2 o 25 combinaciones The target composed of the mixture of metal, a compound or alloy of metals can be metallized by atomic bombardment in an inert gas, reagent or a mixture of inert-reactive gas, such as argon, 0 2, N2 or 25 combinations

Ejemplo 2 Example 2

Películas de óxido y nitruro de Ti-Al metalizadas por bombardeo atóm ico a partir de objetivos de aleación Ti30 50AI Y Ti-30AI Ti-Al oxide and nitride films metallized by atom bombardment from Ti30 50AI and Ti-30AI alloy targets

Los recubrimientos de películas delgadas de aleaciones de óxido y nilruro de Ti-Al han mostrado resultados sorprendentes en el ensayo de la Cámara de Condensación de Cleveland (CCC) (el Aparato de Ensayo de Condensación de Cleveland Q-T-C es fabricado por The Q-Panel Company de Cleveland, Ohio). En comparación, 35 los recubrimientos de óxido y nitruro de aluminio metalizados por bombardeo atómico a temperatura ambiente se retiran por completo en una hora o menos cuando se exponen en la cámara de ensayo cec. El dióxido de titanio (Patentes de los EE.UU. N.o 4.716.086 y 4.786.563), el nitruro y los oxinitruros de titanio, por otro lado, tienen buena durabilidad química y resisten días de exposición en la camara de ensayo ece antes de deteriorarse. Se descubrió que las películas delgadas de aleaciones de óxido y nitruro de Ti-Al y superan con mucho el rendimiento del dióxido Thin film coatings of Ti-Al oxide and nylon alloys have shown surprising results in the Cleveland Condensation Chamber (CCC) test (the Cleveland QTC Condensation Test Apparatus is manufactured by The Q-Panel Company from Cleveland, Ohio). In comparison, the aluminum oxide and nitride coatings metallized by atomic bombing at room temperature are completely removed within an hour or less when exposed in the test chamber cec. Titanium dioxide (US Patent No. 4,716,086 and 4,786,563), nitride and titanium oxynitrides, on the other hand, have good chemical durability and resist days of exposure in the test chamber as before of deteriorating It was found that thin films of Ti-Al oxide and nitride alloys far outperform the dioxide yield

40 de titanio en la camara de ensayo cec 40 titanium in the cec test chamber

Los recubrimientos se depositaron en un aparato de recubrimiento Airco ILS 1600 sobre sustratos de vidrio flotado transparentes cuadrados de 12" x 12" (30 cm x 30 cm) por 2,3 mm de espesor a temperatura ambiente. El sustrato se transportó a una velocidad lineal de 120 pulgadas (304 ,8 cm) por minuto. La presión de base estaba en el The coatings were deposited in an Airco ILS 1600 coating apparatus on 12 "x 12" square transparent float glass substrates (30 cm x 30 cm) per 2.3 mm thick at room temperature. The substrate was transported at a linear speed of 120 inches (304.8 cm) per minute. The base pressure was in the

45 intervalo bajo de 10-5 torr y la presión de funcionamiento fue de 4 micrómetros (mTorr). El sustrato estaba a temperatura ambiente durante la deposición. Se fabricaron objetivos planos de Ti-30AI y Ti-50AI, en los que la cantidad de aluminio se expresa en porcentaje atómico, por prensado isostático en caliente (HIP) de los polvos de la aleación (excepto cuando se indique) Las películas de óxido de las aleaciones se depositaron en una atmósfera del 50 % de argón y el 50 % de oxígeno 45 low range of 10-5 torr and the operating pressure was 4 micrometers (mTorr). The substrate was at room temperature during deposition. Flat targets of Ti-30AI and Ti-50AI were manufactured, in which the amount of aluminum is expressed in atomic percentage, by hot isostatic pressing (HIP) of the alloy powders (except when indicated) Oxide films of the alloys were deposited in an atmosphere of 50% argon and 50% oxygen

MuestraE1 Sample E1

Una muestra de óxido de Ti-50AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 432 voltios y una corriente de 6,98 amperios Después de 10 pases, la transmisión fue del 91 ,2 % Y el espesor fue de 55 114 Angstroms . A sample of Ti-50AI oxide was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 432 volts and a current of 6.98 amps. After 10 passes, the transmission was 91.2% Y the thickness was 55 114 Angstroms.

Muestra E2 Sample E2

Una segunda muestra de óxido de Ti-50AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4,0 kilovatios con una tensión de 494 voltios y una corriente de 8,14 amperios La transmisión fue del 87,5% después de 10 pases y el espesor fue de 274 Angstroms. A second sample of Ti-50AI oxide was operated at a power setting of 4.0 kilowatts with a voltage of 494 volts and a current of 8.14 amps. The transmission was 87.5% after 10 passes and the thickness was 274 Angstroms.

Muestra E3 Sample E3

Una muestra de óxido de Ti-30AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios con una tensión de 490 voltios y una corriente de 6,14 amperios. La transmisión fue del 91 ,3 % después de 10 pases y el espesor fue de 89 Angstroms. A sample of Ti-30AI oxide was operated at a power setting of 3.0 kilowatts with a voltage of 490 volts and a current of 6.14 amps. The transmission was 91.3% after 10 passes and the thickness was 89 Angstroms.

10 Muestra deE4 10 Sample of E4

Una muestra de nitruro de Ti-50AI se hizo funcionar en una atmósfera del 100 % de nitrógeno a una potencia de 3,0 kilovatios con un tensión de 640 voltios y una corriente de 4,72 amperios. La transmisión fue del 30,5 % después de 15 pases y el espesor fue de 713 Angstroms A sample of Ti-50AI nitride was operated in an atmosphere of 100% nitrogen at a power of 3.0 kilowatts with a voltage of 640 volts and a current of 4.72 amps. The transmission was 30.5% after 15 passes and the thickness was 713 Angstroms

Muestra Comparativa CE1 Comparative Sample CE1

La muestra de dióxido de titanio, que se muestra para la comparación, se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4,0 kilovatios con una tensión de 451 voltios y una corriente de 8,86 amperios. La transmisión fue del 88,2 % 20 después de 10 pases y el espesor fue de 92 Angstroms The titanium dioxide sample, shown for comparison, was operated at a power setting of 4.0 kilowatts with a voltage of 451 volts and a current of 8.86 amps. The transmission was 88.2% 20 after 10 passes and the thickness was 92 Angstroms

La Tabla C resume el material de objetivo, el ajuste del aparato de recubrimiento y el recubrimiento resultante. Table C summarizes the target material, the adjustment of the coating apparatus and the resulting coating.

Resultados del ensayo de exposición a la cámara de condensación de Cleveland (CeC) para las muestras E1 25 a E4 y CE1 Results of the Cleveland Condensation Chamber (CeC) exposure test for samples E1 25 to E4 and CE1

Las películas delgadas de óxido de Ti-30AI y 50AI no mostraron ningún deterioro después de semanas de exposición en la cámara de ensayo de CCC. Este fue un resultado inesperado para estos óxidos de aleación, teniendo en cuenta el mal comportamiento del óxido de aluminio en el ensayo de cce; seria de esperar que la Thin films of Ti-30AI and 50AI oxide showed no deterioration after weeks of exposure in the CCC test chamber. This was an unexpected result for these alloy oxides, taking into account the poor behavior of aluminum oxide in the cce test; would be expected that the

30 adición de óxido de aluminio disminuya la resistencia a la corrosión de la aleación. Más bien, la presencia de aluminio potencia la resistencia a la corrosión por encima de la del óxido de titanio. El ensayo a más largo plazo de los óxidos de aleación muestra que el óxido de Ti-50AI es aún más resistente a la corrosión que el óxido de Ti-30AI Este es un resultado aún mas sorprendente dada la mayor concentración de alumin io en el recubrimiento The addition of aluminum oxide decreases the corrosion resistance of the alloy. Rather, the presence of aluminum enhances the corrosion resistance above that of titanium oxide. The longer-term test of alloy oxides shows that Ti-50AI oxide is even more resistant to corrosion than Ti-30AI oxide. This is an even more surprising result given the higher concentration of aluminum in the coating.

35 La Figura 4 (que es la misma que la Figura 5 pero con una escala expandida) muestra el cambio en la renectancia integrada (Y(R1)) de la superficie recubierta como una función del tiempo de exposición en horas en la CCC. La pelicula de TiOz se muestra para la comparación. Después de al menos 350 horas de exposición no hay ningún cambio significativo en la reflectancia del recubrimiento. El TiOz muestra un pequeño cambio después de 28 horas seguido de una rápida disminución de la retlectancia que indica una rapida degradación del recubrimiento. Después Figure 4 (which is the same as Figure 5 but with an expanded scale) shows the change in the integrated renectance (Y (R1)) of the coated surface as a function of the exposure time in hours at the CCC. The TiOz movie is shown for comparison. After at least 350 hours of exposure there is no significant change in the reflectance of the coating. The TiOz shows a small change after 28 hours followed by a rapid decrease in retlectance indicating rapid degradation of the coating. After

40 de 200 horas, el recubrimiento es de aproximadamente el 8 %, que es la reflectancia del sustrato de vidrio sin recubrir. Esto indica que el recubrimiento se ha retirado por completo. Las Figuras 4 y 5 muestran el comportamiento a largo plazo de los recubrimientos de óxido de Ti-Al en la cámara de ensayo CCC. El recubrimiento de óxido de Ti50AI muestra una disminución más lenta en la retlectancia que la de los recubrimientos de óxido de Ti-30AI lo que indica la degradación más lenta del recubrimiento. Como se ha señalado anteriormente, esto es sorprendente 40 of 200 hours, the coating is approximately 8%, which is the reflectance of the uncoated glass substrate. This indicates that the coating has been completely removed. Figures 4 and 5 show the long-term behavior of Ti-Al oxide coatings in the CCC test chamber. The Ti50AI oxide coating shows a slower decrease in retlectance than that of Ti-30AI oxide coatings indicating the slower degradation of the coating. As noted above, this is surprising.

45 teniendo en cuenta la mayor cantidad de aluminio en el recubrimiento. La Figura 6 muestra el recubrimiento de óxido de Ti-50AI de 274 Angstrom. El comportamiento es similar a la película más delgada con una disminución lenta, en lugar de rapida, de la reflectancia, como se muestra por la pelicula de TiOz 45 taking into account the greater amount of aluminum in the coating. Figure 6 shows the Ti-50AI oxide coating of 274 Angstrom. The behavior is similar to the thinnest film with a slow, rather than rapid, decrease in reflectance, as shown by the TiOz movie

Una película delgada de nitruro de Ti-50AI ha mostrado resultados similares o mejores en la exposición a la cámara A thin film of Ti-50AI nitride has shown similar or better results on camera exposure

50 de ensayo CCC. De nuevo, esto es sorprendente teniendo en cuenta la alta susceptibilidad del nitruro de aluminio a la corrosión del agua. La Figura 7 muestra la reflectancia integrada (Y(R1» de la superficie recubierta como una función del tiempo de exposición en horas en la cámara CCC. Hay menos de un 1 % de cambio en la reflectancia después de casi 2000 horas de expos ición. La inspección visual de la pelicula de nitruro de Ti-50AI no mostró ninguna degradación apreciable en comparación con la sección no expuesta del recubrimiento. 50 CCC trial. Again, this is surprising considering the high susceptibility of aluminum nitride to water corrosion. Figure 7 shows the integrated reflectance (Y (R1 "of the coated surface as a function of the exposure time in hours in the CCC chamber. There is less than 1% change in reflectance after almost 2000 hours of exposure. Visual inspection of the Ti-50AI nitride film showed no appreciable degradation compared to the unexposed section of the coating.

TablaC TablaC

N.ode muestra Sample No.: Aleación de objetivo Configuraaón del aparato de recubrimiento ILS KW Pases Voltios Amperios 0/0 de T de lLS Gas Espesor (a) XRF (ug/cm') Al Ti %en peso Al Ti Target alloy ILS KW Coating Device Configuration Passes Volts Amps 0/0 of T of lLS Gas Thickness (a) XRF (ug / cm ') Al Ti % by weight Al Ti

E1 E1: TI-50AI 3,0 10 432 6,98 91 ,2 50 %de 02-Ar 114 0,58 1,19 33,9 66,1 TI-50AI 3.0 10 432 6.98 91, 2 50% of 02-Ar 114 0.58 1.19 33.9 66.1

E2 E2: TI-50AI 4,0 20 494 8,14 87,5 50 % de 02-Ar 274 TI-50AI 4.0 twenty 494 8.14 87.5 50% of 02-Ar 274

E3 E3: TI-30AI 3,0 10 490 6,14 91 ,3 50 % de 02-Ar 89 0,26 1,19 18,7 81,3 TI-30AI 3.0 10 490 6.14 91, 3 50% of 02-Ar 89 0.26 1.19 18.7 81.3

E4 E4: TI-50AI 3,0 15 640 4,72 30,5 100 % deN2 713 TI-50AI 3.0 fifteen 640 4.72 30.5 100% of N2 713

CE1 CE1: Ti 4,0 10 451 8,66 88,2 50 %de 02-Ar 92 0,00 1,89 0,0 100 You 4.0 10 451 8.66 88.2 50% of 02-Ar 92 0.00 1.89 0.0 100

~ ~

W W

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m~ m ~

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NOONOO

OW Ow

~N ~OO ~ N ~ OO

Ejemplo 3 Example 3

Películas de óxido de Ti-Al metalizadas por bombardeo atómico a partir de objetivos de aleación de Ti-90AI y Ti -10AI Ti-Al oxide films metallized by atomic bombardment from Ti-90AI and Ti-10AI alloy targets

Se depositaron peliculas metálicas de Ti-Al en un aparato de recubrimiento Airco ILS 1600 sobre sustratos de vidrio flotado transparentes cuadrados de 12" x 12" (30 cm x 30 cm) por 2,3 mm de espesor a temperatura ambiente. El sustrato se transportó a una velocidad lineal de 120 pulgadas (304,8 cm) por minuto. La presión de base estaba en el intervalo bajo de 10-6 torr y la presión de funcionamiento fue de 4 micrómetros (mTorr). Se usaron objetivos planos 10 de Ti-10AI y Ti-gOAl, donde la cantidad de aluminio se expresa en porcentaje atómico, para depositar los recubrimientos. El objetivo de Ti-10AI se fabricó mediante prensado isostatico en caliente (HIP) del polvo de aleación. El análisis del material de objetivo indicó un 5,85 por ciento en peso de aluminio siendo el resto titanio. El objetivo de Ti-gOAl se fabricó mediante fusión en hamo crisol de inducción de vacio y el moldeo un objetivo en lingote de los polvos metálicos. El análisis del material de objetivo indicó un 16,3 por ciento en peso de titanio siendo Ti-Al metal films were deposited in an Airco ILS 1600 coating apparatus on 12 "x 12" square transparent float glass substrates (30 cm x 30 cm) per 2.3 mm thick at room temperature. The substrate was transported at a linear speed of 120 inches (304.8 cm) per minute. The base pressure was in the low range of 10-6 torr and the operating pressure was 4 micrometers (mTorr). Flat targets 10 of Ti-10AI and Ti-gOAl were used, where the amount of aluminum is expressed in atomic percentage, to deposit the coatings. The Ti-10AI objective was manufactured by hot isostatic pressing (HIP) of the alloy powder. The analysis of the target material indicated 5.85 percent by weight of aluminum with the remainder being titanium. The Ti-gOAl objective was manufactured by melting in a vacuum induction crucible hamo and molding an ingot target of the metal powders. The analysis of the target material indicated 16.3 percent by weight of titanium being

15 el resto aluminio. Las películas de aleación se depositaron en una atmósfera de mezcla de gases de argón al80 % y oxígeno al 20 %. 15 the rest aluminum. The alloy films were deposited in an atmosphere of a mixture of 80% argon gases and 20% oxygen.

Muestra E6 Sample E6

20 Una muestra de pelicula metalica de Ti-gOAl se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4 kilovatios, con una tensión de 419 voltios y una corriente de 9,5 amperios. La transmisión fue del 90,1 % después de 10 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 166 Angstroms. 20 A sample of Ti-gOAl metal film was operated at a power setting of 4 kilowatts, with a voltage of 419 volts and a current of 9.5 amps. The transmission was 90.1% after 10 passes below the target and the thickness was measured at 166 Angstroms.

Muestra E7 Sample E7

Una muestra de película metálica de Ti-90AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4,0 kilovatios, con una tensión de 404 voltios y una corriente de 9,5 amperios. La transmisión fue del 88,7 % después de 20 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 365 Angstroms. A sample of Ti-90AI metal film was operated at a power setting of 4.0 kilowatts, with a voltage of 404 volts and a current of 9.5 amps. The transmission was 88.7% after 20 passes below the target and the thickness was measured at 365 Angstroms.

30 Muestra E8 30 Sample E8

Una muestra de pelicula metálica de Ti-90AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4 kilovatios, con una tensión de 400 voltios y una corriente de 9,95 amperios. La transmisión fue del 87,1 % después de 30 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 583 Angstroms. A sample of Ti-90AI metal film was operated at a power setting of 4 kilowatts, with a voltage of 400 volts and a current of 9.95 amps. The transmission was 87.1% after 30 passes below the target and the thickness was measured at 583 Angstroms.

Muestra E9 Sample E9

Una muestra de pelicula metálica de Ti-10AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4 kilovatios, con una tensión de 534 voltios y una corriente de 7,45 amperios. La transmisión fue del 88,0 % después de 10 pases por 40 debajo del objetivo y el espesor se midió a 135 Angstroms. A sample of Ti-10AI metal film was operated at a power setting of 4 kilowatts, with a voltage of 534 volts and a current of 7.45 amps. The transmission was 88.0% after 10 passes by 40 below the target and the thickness was measured at 135 Angstroms.

Muestra E10 Sample E10

Una muestra de película metálica de Ti-10AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4,0 kilovatios, con una 45 tensión de 536 voltios y una corriente de 7,4 amperios. La transmisión fue del 81 ,5% después de 20 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 278 Angstroms. A sample of Ti-10AI metal film was operated at a power setting of 4.0 kilowatts, with a voltage of 536 volts and a current of 7.4 amps. The transmission was 81.5% after 20 passes below the target and the thickness was measured at 278 Angstroms.

Muestra E11 Sample E11

50 Una muestra de película metalica de Ti-10AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 4,0 kilovatios, con una tensión de 532 voltios y una corriente de 7,45 amperios. La transmisión fue del 75,2 % después de 30 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 407 Angstroms. 50 A sample of Ti-10AI metal film was operated at a power setting of 4.0 kilowatts, with a voltage of 532 volts and a current of 7.45 amps. The transmission was 75.2% after 30 passes below the target and the thickness was measured at 407 Angstroms.

La Tabla D resume el material de objetivo, la configuración del aparato de recubrimiento y el recubrimiento 55 resultante. Table D summarizes the target material, the configuration of the coating apparatus and the resulting coating.

La Tabla E ilustra la velocidad de metalizado por bombardeo atómico para diversas combinaciones de material de objetivo (basadas en el porcentaje atómico de cada componente) en términos de Angstroms por kilovatio-pase. Table E illustrates the speed of metallized by atomic bombardment for various combinations of target material (based on the atomic percentage of each component) in terms of Angstroms per kilowatt-pass.

60 La Figura 8 representa la velocidad de metalizado por bombardeo atómico para los diferentes objetlvos que se muestran en la Tabla E. 60 Figure 8 depicts the speed of metallization by atomic bombardment for the different objects shown in Table E.

Tabla O Table O

Configuración del aparato de recubrimiento IL~ IL ~ Coating Device Configuration

XRF (ug/cm> XRF (ug / cm>

%en %in

pesoweight

N.G de muestr Aleación de objetivo Sample N.G Alloy Objective

Gas Gas

Espesor (AThickness (A

I<YV Pases I <YV Passes

Voltios Amperios Volts Amps

%deTde lL % of T l

Al To the

Ti You

Al To the

TI YOU

Ti-90AI Ti-90AI

90,1 90.1

80 % de OVAl 80% OVAl

1,84 1.84

0,44 0.44

80,7% 80.7%

19,3 % 19.3%

E6 E6

9,5 9.5

TI-90AI TI-90AI

9,5 9.5

88,7 88.7

80 % de Ü2lAJ 80% of Ü2lAJ

3,73 3.73

0,87 0.87

81 ,1 % 18,9 GIí81, 1% 18.9 GIí

E7 E7

E8 TI-90AI E8 TI-90AI

9,95 9.95

87,1 87.1

80 % de Ü2lAJ 80% of Ü2lAJ

5,75 5.75

1,28 1.28

81 ,8 % 18,2 GIí 81.8% 18.2 GIí

Ti-10AI Ti-10AI

7,45 7.45

80 % de Ü2lAJ 80% of Ü2lAJ

0,15 0.15

2,34 2.34

94,0%94.0%

E9 E9

6,0% 6.0%

E10 TI-10AI E10 TI-10AI

7,4 7.4

81 ,5 81.5

80 %de Ü2lAJ 80% of Ü2lAJ

0,29 0.29

4,96 4.96

5,5% 5.5%

94,5% 94.5%

E1 1 E1 1

TI-10AI TI-10AI

7,45 7.45

75,2 75.2

80 % de OVAl 80% OVAl

0,41 0.41

7,28 7.28

5,3% 5.3%

94,7% 94.7%

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Tabla E Table E

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Velocidad de metalizado por bombardeo atómico (Angstroms por kilovatios-pase) para de recubrimientos de óxido Ti-Al de objetivo de Ti-AI en mezcla de gases 80 % de O'lJAr Atomic bombing metallic speed (Angstroms per kilowatt-pass) for Ti-Al oxide coatings of Ti-AI target in 80% O'lJAr gas mixture

N.O de la muestra N.O of the sample: Material de objetivo Presió " N.O de pases "" ""'pase (kwp) Tensió~ (vollios Corriente (amperios % deTde ILS Espeso< (A) % en peso de Al promedio ~{ajuste de mínimos cuadrados) R' Target material He pressed " No. of passes "" "" 'pass (kwp) Tensioned ~ (Volts Current (amps % of ILS Thick <(A) % by weight of average ~ {least squares adjustment) R '

CE2 CE3 CE4 CE2 CE3 CE4: Al Al Al 4 4 4 120 80 40 1 1 1 120 80 40 283 289 285 3,44 3,36 3,48 89,4 89,5 89,9 422 284 140 0,00 3,54 O, 99~ Al Al Al 4 4 4 120 80 40 1 1 1 120 80 40 283 289 285 3.44 3.36 3.48 89.4 89.5 89.9 422 284 140 0.00 3.54 O, 99 ~

CE5 CE6 CE7 CE5 CE6 CE7: Tí Tí Tí 4 4 4 30 20 10 4 4 4 120 80 40 493 490 506 8,06 7,94 7,9 74,6 82,5 88,2 358 239 136 1,00 3,01 O,99( You, you, you 4 4 4 30 20 10 4 4 4 120 80 40 493 490 506 8.06 7.94 7.9 74.6 82.5 88.2 358 239 136 1.00 3.01 O, 99 (

E11 E11: Ti-l OA! 4 30 4 120 532 7,45 75,2 407 Ti-l OA! 4 30 4 120 532 7.45 75.2 407

E10 E10: Ti-l0Al 4 20 4 80 536 7,4 81 ,5 278 Ti-l0Al 4 twenty 4 80 536 7.4 81.5 278

E9 E9: Ti-l0Al 4 10 4 40 534 7,45 88 135 Ti-l0Al 4 10 4 40 534 7.45 88 135

E12 E12: Ti-lOA! 4 30 4 120 514 7,6 74 396 Ti-lOA! 4 30 4 120 514 7.6 74 396

E13 E13: Ti-l 0Al 4 20 4 80 539 7,36 81,8 274 Ti-l 0Al 4 twenty 4 80 539 7.36 81.8 274

E14 E14: Ti-l 0Al 4 10 4 40 548 7,27 88 121 Ti-l 0Al 4 10 4 40 548 7.27 88 121

E15 E15: Ti-lOA! 4 5 4 20 545 7,31 89,5 101 0,06 3,38 O,98~ Ti-lOA! 4 5 4 twenty 545 7.31 89.5 101 0.06 3.38 O, 98 ~

E16 E16: Ti-30Al 4 30 4 120 509 7,8 81,2 358 Ti-30Al 4 30 4 120 509 7.8 81.2 358

EH HEY: Ti-30Al 4 20 4 SO 544 7,3 85,9 210 Ti-30Al 4 twenty 4 SW 544 7.3 85.9 210

E18 E18: Ti-30Al 4 10 4 40 553 7,2 88,9 123 Ti-30Al 4 10 4 40 553 7.2 88.9 123

E19 E19: Ti-30Al 4 30 4 120 601 6,66 80,7 379 Ti-30Al 4 30 4 120 601 6.66 80.7 379

E20 E20: Ti-30Al 4 20 4 80 602 6,65 85,2 256 Ti-30Al 4 twenty 4 80 602 6.65 85.2 256

E21 E21: Ti-30Al 4 10 4 40 603 6,63 88,9 141 0,17 3,04 O,96j Ti-30Al 4 10 4 40 603 6.63 88.9 141 0.17 3.04 O, 96j

E22 E22: Ti-50AI 5 30 4 120 423 9,42 84,2 384 Ti-50AI 5 30 4 120 423 9.42 84.2 384

E23 E23: Ti-50AI 5 20 4 80 460 8,65 87,5 258 Ti-50AI 5 twenty 4 80 460 8.65 87.5 258

E24 E24: Ti-50AI 5 10 4 40 459 8,67 89,5 91 Ti-50AI 5 10 4 40 459 8.67 89.5 91

E25 E25: Ti-5QAI 4 30 4 120 460 8,73 83,6 409 Ti-5QAI 4 30 4 120 460 8.73 83.6 409

E26 E26: Ti-50AI 4 20 4 80 479 8,35 86,4 314 Ti-50AI 4 twenty 4 80 479 8.35 86.4 314

E27 E27: Ti-50AI 4 10 4 40 477 8,36 89,1 128 0,33 3,34 O,94f Ti-50AI 4 10 4 40 477 8.36 89.1 128 0.33 3.34 O, 94f

E8 E8: Ti-90AI 4 30 4 120 400 9,95 87, 1 583 Ti-90AI 4 30 4 120 400 9.95 87, 1 583

E7 E7: Ti-90AI 4 20 4 80 404 9,5 88,7 365 Ti-90AI 4 twenty 4 80 404 9.5 88.7 365

E6 E6: Ti-90AI 4 10 4 40 419 9,5 90,1 166 Ti-90AI 4 10 4 40 419 9.5 90.1 166

E28 E28: Ti-90AI 4 30 4 120 392 9,65 86,8 600 Ti-90AI 4 30 4 120 392 9.65 86.8 600

E29 E29: Ti-90AI 4 20 4 80 395 9,7 1 66 452 Ti-90AI 4 twenty 4 80 395 9.7 1 66 452

E30 E30: Ti-90AI 4 10 4 40 408 9,56 88,4 210 O,SO 4,96 O,96j Ti-90AI 4 10 4 40 408 9.56 88.4 210 BEAR 4.96 O, 96j

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Ejemplo 4 Example 4

Películas metálicas de Ti-Al metalizadas por bombardeo atómico a partir de objetivos metálicos de Ti-Al Ti-Al metal films metallized by atomic bombardment from Ti-Al metal targets

5 Se depositaron peliculas metalicas de Ti-al en un aparato de recubrimiento Airco ILS 1600 en sustratos de vidrio flotado transparente cuadrados de 12" x 12" (30 cm x 30 cm) por 2,3 mm de espesor a temperatura ambiente. El sustrato se transportó a una velocidad lineal de 120 pulgadas por minuto (304,8 cm). La presión de base estaba en el intervalo bajo 10·5torr y la presión de funcionamiento fue de 4 micrómetros. Se fabricaron objetivos planos de Ti30AI Y Ti-50AI, donde la cantidad de aluminio se expresa en porcentaje atómico, mediante prensado isostático en caliente (HIP) de los polvos de la aleación. Un objetivo plano de Ti-90AI, donde la cantidad de aluminio se expresa en porcentaje atómico, se fabricó mediante fusión en horno crisol de inducción de vacío (VIM) y moldeo de un objetivo de lingote a partir de los polvos metálicos. Las películas de aleación se depositaron en una atmósfera de gas argón al 100 %. 5 Ti-al metal films were deposited in an Airco ILS 1600 coating apparatus on 12 "x 12" square transparent float glass substrates (30 cm x 30 cm) per 2.3 mm thick at room temperature. The substrate was transported at a linear speed of 120 inches per minute (304.8 cm). The base pressure was in the range under 10 · 5torr and the operating pressure was 4 micrometers. Flat targets of Ti30AI and Ti-50AI were manufactured, where the amount of aluminum is expressed in atomic percentage, by hot isostatic pressing (HIP) of the alloy powders. A flat Ti-90AI target, where the amount of aluminum is expressed as an atomic percentage, was manufactured by melting in a vacuum induction crucible furnace (VIM) and molding an ingot target from metal powders. The alloy films were deposited in an atmosphere of 100% argon gas.

15 Muestra 01 15 Sample 01

Una muestra de película metalica de Ti-30AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 529 voltios y una corriente de 5,72 amperios. La transmisión fue del 21 ,3% después de 1 pase por debajo del objetivo y el espesor se midió a 161 Angstroms A sample of Ti-30AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 529 volts and a current of 5.72 amps. The transmission was 21.3% after 1 pass below the target and the thickness was measured at 161 Angstroms

Muestra D2 Sample D2

Una muestra de película metalica de Ti-30AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 529 voltios y una corriente de 5,7 amperios La transmisión fue del 8,5 % después de 2 pases por debajo 25 del objetivo y el espesor se midió a 270 Angstroms. A sample of Ti-30AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 529 volts and a current of 5.7 amps. Transmission was 8.5% after 2 passes per below 25 of the target and the thickness was measured at 270 Angstroms.

Muestra D3 Sample D3

Una muestra de película metalica de Ti-30AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 529 voltios y una corriente de 5,72 amperios. La transmisión fue del O % después de 5 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 704 Angstroms. A sample of Ti-30AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 529 volts and a current of 5.72 amps. The transmission was O% after 5 passes below the target and the thickness was measured at 704 Angstroms.

Muestra D4 Sample D4

35 Una muestra de película metalica de Ti-30AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 528 voltios y una corriente de 5,70 amperios. La transmisión fue del O % después de 10 pases por debajo del objetivo y el espesor se mid ió a 1306 Angstroms 35 A sample of Ti-30AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 528 volts and a current of 5.70 amps. The transmission was O% after 10 passes below the target and the thickness was measured at 1306 Angstroms

Muestra 05 Sample 05

Una muestra de película metalica de Ti-50AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 610 voltios y una corriente de 4,94 amperios. La transmisión fue del 19,1 % después de 1 pase por debajo del objetivo y el espesor se midió a 169 Angstroms . A sample of Ti-50AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 610 volts and a current of 4.94 amps. The transmission was 19.1% after 1 pass below the target and the thickness was measured at 169 Angstroms.

45 Muestra D6 45 Sample D6

Una muestra de película metalica de Ti-50AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 609 voltios y una corriente de 4,96 amperios_ La transmisión fue del 7,4 % después de 2 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 312 Angstroms. A sample of Ti-50AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 609 volts and a current of 4.96 amps. Transmission was 7.4% after 2 passes per Below the target and the thickness was measured at 312 Angstroms.

Muestra D7 Sample D7

Una muestra de película metalica de Ti-50AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 605 voltios y una corriente de 5,0 amperios. La transmisión fue del O % después de 5 pases por debajo 55 del objetivo y el espesor se midió a 756 Angstroms. A sample of Ti-50AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 605 volts and a current of 5.0 amps. The transmission was O% after 5 passes below 55 of the target and the thickness was measured at 756 Angstroms.

Muestra 08 Sample 08

Una muestra de película metalica de Ti-50AI se hizo funcionar a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensíón de 603 voltíos y una corriente de 5,0 amperios La transmisíón fue del O % después de 10 pases por debajo del objetivo y el espesor se midió a 1500 Angstroms A sample of Ti-50AI metal film was operated at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 603 volts and a current of 5.0 amps. Transmission was O% after 10 passes below target and thickness was measured at 1500 Angstroms

Muestra 09 Sample 09

65 Una película metálica de Ti-90AI se depositó a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 827 voltios y una corriente de 3,18 amperios. La transmisión fue del 8,8 % después de 1 pase por debajo del objetivo y el espesor se midió a 162 Angstroms 65 A Ti-90AI metal film was deposited at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 827 volts and a current of 3.18 amps. The transmission was 8.8% after 1 pass below the target and the thickness was measured at 162 Angstroms

Muestra 010 Sample 010

5 Una pelicula metálica de Ti-gOAl se depositó a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 827 voltios y una corriente de 3,13 amperios La transmisión fue del 2,1 % después de 1 pase por debajo del objetivo y el espesor se midió a 311 Angstroms. 5 A Ti-gOAl metal film was deposited at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 827 volts and a current of 3.13 amps The transmission was 2.1% after 1 pass below target and thickness was measured at 311 Angstroms.

Muestra D11 Sample D11

10 Una pelicula metálica de Ti-gOAl se depositó a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 827 voltios y una corriente de 3,15 amperios. La transmisión fue del 0,0 % después de 1 pase por debajo del objetivo y el espesor se midió a 756 Angstroms. 10 A Ti-gOAl metal film was deposited at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 827 volts and a current of 3.15 amps. The transmission was 0.0% after 1 pass below the target and the thickness was measured at 756 Angstroms.

15 Muestra D12 15 Sample D12

Una pelicula metálica de Ti-gOAl se depositó a un ajuste de potencia de 3,0 kilovatios, con una tensión de 827 voltios y una corriente de 1,13 amperios. La transmisión fue del 0,0 % después de 1 pase por debajo del objetivo y el espesor se midió a 1505 Angstroms A Ti-gOAl metal film was deposited at a power setting of 3.0 kilowatts, with a voltage of 827 volts and a current of 1.13 amps. The transmission was 0.0% after 1 pass below the target and the thickness was measured at 1505 Angstroms

20 La Tabla F resume el material de objetivo, la configuración del aparato de recubrimiento y el recubrimiento resultante. 20 Table F summarizes the target material, the configuration of the coating apparatus and the resulting coating.

Tabla F Table F

N.O de muestra Aleación de objetiv Sample No. Objective Alloy: Configuración del aparato de recubrimiento ILS %de T de ILSKW Pases Tensión Corriente Gas Espesor (A) XRF (ug/cm' Al Ti %en pese Al Ti ILS% T ILSKW Coating Device Configuration Passes Current Voltage Gas Thickness (A) XRF (ug / cm 'Al Ti% in spite of Ti

DI GAVE: Ti-30AI 3,0 1 529 5,72 21 ,3 Ar 161 0,88 4,13 17,3 82,7 Ti-30AI 3.0 one 529 5.72 21, 3 Ar 161 0.88 4.13 17.3 82.7

D2 D2: Ti-30AI 3,0 2 529 5,70 8,5 Ar 270 1,76 8,48 17,1 82,9 Ti-30AI 3.0 2 529 5.70 8.5 Ar 270 1.76 8.48 17.1 82.9

D3 D3: Ti-30AI 3,0 5 529 5,72 0,0 Ar 704 4,31 21,31 16,8 83,2 Ti-30AI 3.0 5 529 5.72 0.0 Ar 704 4.31 21.31 16.8 83.2

D4 D4: Ti-30AI 3,0 10 528 5,70 0,0 Ar 1306 8,24 42,29 16,3 83,7 Ti-30AI 3.0 10 528 5.70 0.0 Ar 1306 8.24 42.29 16.3 83.7

D5 D5: Ti-50AI 3,0 1 610 4,94 19,1 Ar 169 1,81 3,56 33,6 66,4 Ti-50AI 3.0 one 610 4.94 19.1 Ar 169 1.81 3.56 33.6 66.4

D6 D6: Ti-50AI 3,0 2 609 4,96 7,4 Ar 312 3,49 6,83 33,8 66,2 Ti-50AI 3.0 2 609 4.96 7.4 Ar 312 3.49 6.83 33.8 66.2

D7 D7: Ti-50AI 3,0 5 605 5,00 0,0 Ar 756 8,66 17,80 32,7 67,3 Ti-50AI 3.0 5 605 5.00 0.0 Ar 756 8.66 17.80 32.7 67.3

D8 D8: Ti-50AI 3,0 10 603 5,00 0,0 Ar 1500 16,58 35,17 32 ,0 68,0 Ti-50AI 3.0 10 603 5.00 0.0 Ar 1500 16.58 35.17 32.0 68.0

D9 D9: Ti-90AI 3,0 1 827 3,18 8,8 Ar 162 3,26 0,87 78,9 21,1 Ti-90AI 3.0 one 827 3.18 8.8 Ar 162 3.26 0.87 78.9 21.1

DIO IT GAVE: Ti-90AI 3,0 2 827 3,13 2,1 Ar 311 6,44 1,69 79,2 20,8 Ti-90AI 3.0 2 827 3.13 2.1 Ar 311 6.44 1.69 79.2 20.8

Dl1 Dl1: Ti-90AI 3,0 5 827 3,15 0,0 Ar 756 15,99 4,13 79,5 20,5 Ti-90AI 3.0 5 827 3.15 0.0 Ar 756 15.99 4.13 79.5 20.5

D12 D12: Ti-90AI 3,0 10 827 3,13 0,0 Ar 1505 31 ,02 7,85 79,8 20,2 Ti-90AI 3.0 10 827 3.13 0.0 Ar 1505 31, 02 7.85 79.8 20.2

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Ejemplo 5 Example 5

Capas de imprimación de Ti-Al metalizadas por bombardeo atómico a partir de un objetivo dividido de Al y Ti Ti-Al primer layers metallized by atomic bombardment from a split Al and Ti target

5 Muestra G3 5 Sample G3

Un sustrato de vidrio de sosa-cal de 12x12 pulgadas (30 cm x 30 cm) se colocó en un aparato de recubrimiento Airco ILS con una pres ión base de 1,1x10-Storr. La secuencia de capas para el recubrimiento de baja emisividad era; A 12x12 inch (30 cm x 30 cm) soda-lime glass substrate was placed in an Airco ILS coating apparatus with a base pressure of 1.1x10-Storr. The sequence of layers for the low emissivity coating was;

Vidriofestannato de cinc/imprimación de AI-Ti/platafimprimación de A1-Tifestannato de cinc Zinc Vidriofestannato / AI-Ti primer / Zinc A1-Typhostannate primer

La primera capa de una aleación de cinc y estaño del 48 % de estaño y el 52 % de cinc en peso se depositó a una presión de 4 micrómetros en una atmósfera de mezcla 50 %/50 % en flujo de argón y oxígeno. La potencia al 15 objetivo de cátodo se fijó en 1,7 kilovatios dando como resultado una tensión de 395 voltios y una corriente de 4,30 amperios. El vidrio se hizo pasar bajo el cátodo 4 veces hasta que la transmisión alcanzó el 81 ,9 %. La segunda capa se depositó usando el catado gradiente descrito anteriormente. La presión en la camara era de 3 micrómetros en una atmósfera de gas argón al 100 %. La potencia al cátodo se fijó en 0,4 kilovatios, dando como resultado una tensión de 348 voltios y una corriente de 1,14 amperios. El vidrio se hizo pasar bajo el catado 1 vez, dando como resultado una transmisión del 66,7 %. La tercera capa se depositó usando un cátodo de plata. La presión en la camara era de 3 micrómetros en una atmósfera de gas argón al 100 %. La potencia al catado se fijó en 0,6 kilovatios, dando como resultado una tensión de 394 voltios y una corriente de 1,52 amperios. El vidrio se hizo pasar bajo el cátodo 1 vez, dando como resultado una transmisión del 50,9 %. La cuarta capa se depositó en las mismas condiciones que la segunda capa. La transmisión después de esta capa fue del 41 ,0 %. La quinta y última capa se The first layer of a zinc and tin alloy of 48% tin and 52% zinc by weight was deposited at a pressure of 4 micrometers in a 50% / 50% mixture atmosphere in argon and oxygen flow. The power to the cathode target was set at 1.7 kilowatts resulting in a voltage of 395 volts and a current of 4.30 amps. The glass was passed under the cathode 4 times until the transmission reached 81.9%. The second layer was deposited using the gradient tasting described above. The pressure in the chamber was 3 micrometers in an atmosphere of 100% argon gas. The cathode power was set at 0.4 kilowatts, resulting in a voltage of 348 volts and a current of 1.14 amps. The glass was passed under the tasting 1 time, resulting in a transmission of 66.7%. The third layer was deposited using a silver cathode. The pressure in the chamber was 3 micrometers in an atmosphere of 100% argon gas. The power at the test was set at 0.6 kilowatts, resulting in a voltage of 394 volts and a current of 1.52 amps. The glass was passed under the cathode 1 time, resulting in a 50.9% transmission. The fourth layer was deposited under the same conditions as the second layer. The transmission after this layer was 41.0%. The fifth and last layer is

25 depositaron en las mismas condiciones que la primera capa. La transmisión final fue del 72,0 %. La velocidad del transportador fue de 120 pulgadas (304,8 cm) (304,8 cm) por minuto. Después, el recubrimiento se calentó por encima del punto de curvado del vidrio 25 deposited under the same conditions as the first layer. The final transmission was 72.0%. The conveyor speed was 120 inches (304.8 cm) (304.8 cm) per minute. Then, the coating was heated above the bending point of the glass

La muestra se mantuvo en el entorno abierto del laboratorio durante mas de 1,5 años y después se volvió a evaluar Se descubrió que un recubrimiento se había degradado en un patrón que siguió el gradiente de TilAI como se muestra en la Tabla B y la Figura 3. El extremo de aluminio de la muestra mostró grandes áreas de recubrimiento que se habían degradado por completo; el extremo de titanio mostró áreas irregulares de degradación del recubrimiento, típicas del recubrimiento que ha estado en un ambiente desprotegido durante un período prolongado de tiempo. Sorprendentemente, había un área del recubrimiento que claramente no mostró ninguna degradación en The sample was kept in the open laboratory environment for more than 1.5 years and then reassessed. It was discovered that a coating had degraded into a pattern that followed the TilAI gradient as shown in Table B and Figure 3. The aluminum end of the sample showed large areas of coating that had completely degraded; the titanium end showed irregular areas of coating degradation, typical of the coating that has been in an unprotected environment for a prolonged period of time. Surprisingly, there was an area of the coating that clearly showed no degradation in

35 la región donde el aluminio y el titanio estaban mezdados. Puesto que la resistencia laminar del recubrimiento tiende a aumentar a medida que se degrada el recubrimiento, se hicieron mediciones a lo largo del gradiente del recubrimiento. Aunque los valores de resistencia no se hicieron inicialmente, los valores mas bajos de la resistencia laminar correspondían a la sección del recubrimiento que no mostró ninguna degradación durante el período de tiempo. 35 the region where aluminum and titanium were mixed. Since the sheet resistance of the coating tends to increase as the coating degrades, measurements were made along the gradient of the coating. Although the resistance values were not made initially, the lowest values of the sheet resistance corresponded to the section of the coating that showed no degradation during the period of time.

Todas las áreas medidas se seleccionaron a lo largo del ancho de la muestra de regiones en las que el recubrimiento aún no se había degradado. Se usó una sonda de 4 puntos Allessi con un mullímetro digital Kiethley System para hacer las mediciones de resistencia laminar. Cuando fue posible, se realizaron varias mediciones, en cada lugar a lo largo del gradiente y se calculó la desviación típica. En algunos lugares en los que había una gran All the measured areas were selected along the sample width of regions in which the coating had not yet degraded. An Allessi 4-point probe with a Kiethley System digital mullimeter was used to make laminar resistance measurements. When possible, several measurements were made, at each location along the gradient and the standard deviation was calculated. In some places where there was a large

45 cantidad de degradación solo fue posible hacer una medición. Se usó la plantilla calibrada para detenninar el porcentaje de titanio y aluminio en cada punto a lo largo del ancho de la muestra en la que se hicieron las mediciones de resistencia laminar. La resistencia laminar para el recubrimiento de baja emisividad para cada posición a lo largo de la plantilla se muestra en la Figura 9. Las barras de error denotan +1-una desviación típica The amount of degradation was only possible to make a measurement. The calibrated template was used to determine the percentage of titanium and aluminum at each point along the width of the sample in which the sheet resistance measurements were made. The sheet resistance for the low emissivity coating for each position along the template is shown in Figure 9. Error bars denote + 1-a typical deviation

Las Figuras 3 y 10 muestran la resistencia laminar como una función del porcentaje en peso de titanio y aluminio, respectivamente, en las capas de imprimación de la capa de baja emisividad. El gráfico muestra que para valores de % en peso de titanio mayores del 10 % y menores del 80 % la resistencia del recubrimiento es menor que la del metal puro o la mezcla de bajo porcentaje. Existe un fuerte aumento de la resistencia para los recubrimientos de menos del 10 % de aluminio lo que ind ica que la imprimación de aluminio, incluso después del calentamiento, es Figures 3 and 10 show the sheet resistance as a function of the percentage by weight of titanium and aluminum, respectively, in the primer layers of the low emissivity layer. The graph shows that for values of% by weight of titanium greater than 10% and less than 80%, the strength of the coating is lower than that of pure metal or the low percentage mixture. There is a strong increase in strength for coatings of less than 10% aluminum, which indicates that the aluminum primer, even after heating, is

55 inestable después de la exposición en un ambiente desprotegido. Para valores de titanio mayores del 80 % existe una nivelación en el valor de la resistencia, lo que indica el comportamiento normal de los recubrimientos habituales en la técnica hoy en día. El recubrimiento en el intervalo del 10 al 80 por ciento en peso de titanio y el resto de aluminio, no solo tiene una menor resistencia laminar, sino que también tiene una estabilidad aumentada cuando se deja sin protección Los pesos atómicos correspondientes se muestran en las Figuras 11 y 12 55 unstable after exposure in an unprotected environment. For titanium values greater than 80% there is a leveling in the resistance value, which indicates the normal behavior of the coatings common in the art today. The coating in the range of 10 to 80 percent by weight of titanium and the rest of aluminum, not only has a lower sheet resistance, but also has an increased stability when left unprotected The corresponding atomic weights are shown in the Figures 11 and 12

Ejemplo 6 Example 6

Capas de ímprimación de Tí-Al metalízadas por bombardeo atómico a partir de objetívos de aleación de Ti50AI Y Ti-30AI Tí-Al priming layers metallized by atomic bombardment from Ti50AI and Ti-30AI alloy targets

Se usaron capas de imprimación utilizando objetivos de aleación de Ti-Al para fabricar muestras de recubrimientos Primer layers were used using Ti-Al alloy targets to make coat samples

de baja emisividad teniendo el recubrimiento la secuencia de capas· low emissivity having the coating sequence of layers ·

Vidriofestannato de cind platafAI-Tifestannato de cinc. Cind platafAI-Zinc Typhostannate Vidriofestannato.

5 La configuración del recubrimiento difiere de la configuración del objetivo de gradiente (muestra G3) con la omisión de la capa de aleación por debajo de la capa de plata. Los siguientes ejemplos ilustran la funcionalidad de la capa de aleación en comparación con una capa de titanio, que se usa en la técnica. (Patentes de los EE.UU. N.o 5 The coating configuration differs from the gradient target configuration (sample G3) with the omission of the alloy layer below the silver layer. The following examples illustrate the functionality of the alloy layer compared to a titanium layer, which is used in the art. (U.S. Patent No.

4.898.789 y 4.898.790) 4,898,789 and 4,898,790)

Los objetivos planos utilizados para la capa de imprimación encima de la de plata fueron Ti-30AI y Ti-50AI, en los que la cantidad de aluminio se expresa en porcentaje atómico, que se fabricaron mediante prensado isostatico caliente (HIP) de los polvos de la aleación. El análisis del material de objetivo de Ti-30AI indicó el 19,19 por ciento en peso de aluminio con el resto de titanio. El analisis del material de objetivo de Ti-50 indicó el 36,48 por ciento en peso de aluminio con el resto de titanio. Se usó un objetivo de titanio puro para producir muestras de imprimaciones The flat targets used for the primer layer over that of silver were Ti-30AI and Ti-50AI, in which the amount of aluminum is expressed in atomic percentage, which were manufactured by hot isostatic pressing (HIP) of the powders the alloy Analysis of the Ti-30AI target material indicated 19.19 percent by weight of aluminum with the rest of titanium. Analysis of the Ti-50 target material indicated 36.48 percent by weight of aluminum with the rest of titanium. A pure titanium lens was used to produce primer samples

15 para la comparación con las imprimaciones de aleación. 15 for comparison with alloy primers.

Muestra 81 Sample 81

Un sustrato de vidrio flotado transparente de 12 pulgadas x 12 pulgadas (30 cm x 30 cm) por 2,3 mm de espesor se colocó en un aparato de recubrimiento Airco ILS con una presión base en el intervalo bajo de 10.5Torr. La primera capa de una aleación de cinc y estaño del 48 % de estaño y el 52 % de cinc en peso se depositó a una presión de 4,0 micrómetros en una atmósfera de mezcla de gas de argón al 80 % Y gas de oxígeno al 20 % como se fija en el controlador de flujo. La potencia al objetivo de cátodo se fijó en 2,2 kilovatios dando como resultado una tensión de 360 voltios y una corriente de 6,12 amperios. El vidrio se hizo pasar por debajo del catado 5 veces a una velocidad 25 de transporte de 120 pulgadas por minuto (3,05 metros por minuto) hasta que la transmisión alcanzó el 81 ,2 %. El espesor de la primera capa fue de 312 Angstroms. La segunda capa se depositó usando un cátodo de plata. La presión en la cámara fue de 4,0 micrómetros en una atmósfera de gas argón al 100 %. La potencia al cátodo se fijó en 0,6 kilovatios, dando como resultado una tensión de 458 voltios y una corriente de 1,32 amperios. El vidrio se hizo pasar por debajo del cátodo 1 vez, que dio como resultado una transmisión del 64,2 %. El espesor de la segunda capa fue de 111 Angstroms. La tercera capa se depositó usando el objetivo de Ti-30AI a un ajuste de potencia de 0,3 kilovatios, con una tensión de 354 voltios y una corriente de 0,86 amperios. Se calculó que el espesor de la capa de imprimación de Ti-Al era de 13 Angstroms, después de 1 pase la transmisión fue 55,60 %. La cuarta y última capa se depositó en las mismas condiciones que la primera capa, dando como resultado una transmisión final del recubrimiento del 87,0 %. La resistencia laminar después del recubrimiento era de 5,96 ohmios A transparent float glass substrate of 12 inches x 12 inches (30 cm x 30 cm) by 2.3 mm thickness was placed in an Airco ILS coating apparatus with a base pressure in the low range of 10.5Torr. The first layer of a zinc and tin alloy of 48% tin and 52% zinc by weight was deposited at a pressure of 4.0 microns in an atmosphere of mixing 80% argon gas and oxygen gas at 20% as set in the flow controller. The power to the cathode target was set at 2.2 kilowatts resulting in a voltage of 360 volts and a current of 6.12 amps. The glass was passed under the tasting 5 times at a transport speed of 120 inches per minute (3.05 meters per minute) until the transmission reached 81.2%. The thickness of the first layer was 312 Angstroms. The second layer was deposited using a silver cathode. The pressure in the chamber was 4.0 micrometers in an atmosphere of 100% argon gas. The cathode power was set at 0.6 kilowatts, resulting in a voltage of 458 volts and a current of 1.32 amps. The glass was passed under the cathode 1 time, which resulted in a transmission of 64.2%. The thickness of the second layer was 111 Angstroms. The third layer was deposited using the Ti-30AI target at a power setting of 0.3 kilowatts, with a voltage of 354 volts and a current of 0.86 amps. It was estimated that the thickness of the Ti-Al primer layer was 13 Angstroms, after 1 pass the transmission was 55.60%. The fourth and last layer was deposited under the same conditions as the first layer, resulting in a final transmission of the coating of 87.0%. The sheet resistance after coating was 5.96 ohms

35 por cuadrado. Después, el sustrato de vidrio recubierto se calentó durante 5 minutos a 704 oC (1300 °F), dando como resultado una temperatura del sustrato de 649 oC (1200 °F). La resistencia laminar eléctrica fue infinito y la transmitancia fue del 77,4 % después del calentamiento 35 per square. Then, the coated glass substrate was heated for 5 minutes at 704 ° C (1300 ° F), resulting in a substrate temperature of 649 ° C (1200 ° F). The electrical sheet resistance was infinite and the transmittance was 77.4% after heating

Muestra 82 Sample 82

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 . La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti-30AI a un ajuste de potencia de 0,6 kilovatios, con una tensión de 390 voltios y una corriente de 1,56 amperios. La transmisión fue del 47,1 % después de la deposición de The first and fourth layers were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample 81. The third layer was deposited by passing the glass once below the Ti-30AI target at a power setting of 0.6 kilowatts, with a voltage of 390 volts and a current of 1.56 amps. The transmission was 47.1% after the deposition of

45 la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 79,6 % La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 7,85 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 La transmitancia fue del 82,9 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 9,1 ohmios por cuadrado después del calentamiento 45 the third layer. The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 79.6%. The sheet resistance after coating was 7.85 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81. The transmittance was 82.9%. And the electrical sheet resistance was 9.1 ohms per square after heating.

Muestra 83 Sample 83

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti-30AI a un ajuste de potencia de 0,9 kilovatios, con una The first and the fourth layer were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample 81 The third layer was deposited by passing the glass once through below the Ti-30AI target at a power setting of 0.9 kilowatts, with a

55 tensión de 410 voltios y una corriente de 2,20 amperios. La transmisión fue del 40,3 % después de la deposición de la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 68,5 % La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 7,15 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 . La transmitancia fue del 83,5 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 6,6 ohmios por cuadrado después del calentamiento 55 voltage of 410 volts and a current of 2.20 amps. The transmission was 40.3% after the deposition of the third layer. The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 68.5%. The sheet resistance after coating was 7.15 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81. The transmittance was 83.5% and the electrical sheet resistance was 6.6 ohms per square after heating

Muestra 84 Sample 84

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra B 1. La tercera capa se depositó 65 haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti-30AI a un ajuste de potencia de 1,2 kilovatios, con una tensión de 423 voltios y una corriente de 2,84 amperios. La transmisión fue del 47,1 % después de la deposición de The first and the fourth layer were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample B 1. The third layer was deposited by passing the glass once below the Ti-30AI target at a power setting of 1.2 kilowatts, with a voltage of 423 volts and a current of 2.84 amps. The transmission was 47.1% after the deposition of

la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 60,7 % La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 7,66 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 La transmitancia fue del 74,8 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 8,4 ohmios por cuadrado después del calentamiento. The third layer The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 60.7%. The sheet resistance after coating was 7.66 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81 The transmittance was 74.8% and the electrical sheet resistance was 8.4 ohms per square after heating.

Muestra 85 Sample 85

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti-50AI a un ajuste de potencia de 0,3 kilovatios, con una tensión de 380 voltios y una corriente de 0,82 amperios. La transmisión fue del 52,4 % después de la deposición de la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 86,2 %. La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 6,97 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 La transmitancia fue del 84,7 % Y la resistencia laminar The first and the fourth layer were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample 81 The third layer was deposited by passing the glass once through below the Ti-50AI target at a power setting of 0.3 kilowatts, with a voltage of 380 volts and a current of 0.82 amps. The transmission was 52.4% after the deposition of the third layer. The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 86.2%. The sheet resistance after coating was 6.97 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81 The transmittance was 84.7% and the sheet resistance

15 eléctrica fue de 13,6 ohmios por cuadrado después del calentamiento. 15 electric was 13.6 ohms per square after heating.

Muestra 86 Sample 86

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la se9unda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti-50AI a un ajuste de potencia de 0,6 kilovatios, con una tensión de 426 voltios y una corriente de 1,42 amperios. La transmisión fue del 44,1 % después de la deposición de la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 74,3 %. La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 8,46 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se The first and fourth layers were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample 81 The third layer was deposited by passing the glass once through below the Ti-50AI target at a power setting of 0.6 kilowatts, with a voltage of 426 volts and a current of 1.42 amps. The transmission was 44.1% after the deposition of the third layer. The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 74.3%. The sheet resistance after coating was 8.46 ohms per square. Then the coating is

25 calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 . La transmitancia fue del 85,1 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 6,9 ohmios por cuadrado después del calentamiento. 25 heated by the method described for Sample 81. The transmittance was 85.1% and the electrical sheet resistance was 6.9 ohms per square after heating.

Muestra 87 Sample 87

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra B 1. La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti-50AI a un ajuste de potencia de 0,9 kilovatios, con una tensión de 485 voltios y una corriente de 1,98 amperios. La transmisión fue del 37,6 % después de la deposición de la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 63,7 %. The first and the fourth layer were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample B 1. The third layer was deposited by passing the glass a below the Ti-50AI target at a power setting of 0.9 kilowatts, with a voltage of 485 volts and a current of 1.98 amps. The transmission was 37.6% after the deposition of the third layer. The final transmittance of the coating after the deposition of the fourth layer was 63.7%.

35 La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 8,20 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 . La transmitancia fue del 80,6 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 8,9 ohmios por cuadrado después del calentamiento 35 The sheet strength after coating was 8.20 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81. The transmittance was 80.6% and the electrical sheet resistance was 8.9 ohms per square after heating

Muestra 88 Sample 88

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 . La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti-50AI a un ajuste de potencia de 1,2 kilovatios, con una tensión de 482 voltios y una corriente de 2,52 amperios. La transmisión fue del 32,6 % después de la deposición de The first and fourth layers were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample 81. The third layer was deposited by passing the glass once below the Ti-50AI target at a power setting of 1.2 kilowatts, with a voltage of 482 volts and a current of 2.52 amps. The transmission was 32.6% after the deposition of

45 la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 55,5 % La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 8,08 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 La transmitancia fue del 72,9 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 13,1 ohmios por cuadrado después del calentamiento 45 the third layer. The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 55.5% The sheet strength after coating was 8.08 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81. The transmittance was 72.9% and the electrical sheet resistance was 13.1 ohms per square after heating.

Muestra C81 Sample C81

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti a un ajuste de potencia de 0,3 kilovatios, con una The first and the fourth layer were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample 81 The third layer was deposited by passing the glass once through below the Ti target at a power setting of 0.3 kilowatts, with a

55 tensión de 317 voltios y una corriente de 0,96 amperios. La transmisión fue del 54,6 % después de la deposición de la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 87,3 % La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 6,36 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81. La transmitancia fue del 74,6 % Y la resistencia laminar eléctrica fue infinita después del calentamiento 55 voltage of 317 volts and a current of 0.96 amps. The transmission was 54.6% after the deposition of the third layer. The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 87.3%. The sheet resistance after coating was 6.36 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81. The transmittance was 74.6% and the electrical sheet resistance was infinite after heating.

Muestra C82 Sample C82

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del Objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81. La tercera capa se depositó 65 haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti a un ajuste de potencia de 0,6 kilovatios, con una tensión de 340 voltios y una corriente de 1,78 amperios. La transmisión fue del 46,6 % después de la deposición de The first and fourth layers were deposited from the Zinc and Tin Alloy Objective and the second layer was deposited from the silver objective by the same method of Sample 81. The third layer was deposited by passing the glass a below the Ti target at a power setting of 0.6 kilowatts, with a voltage of 340 volts and a current of 1.78 amps. The transmission was 46.6% after the deposition of

la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 80,1 % La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 7,42 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra B1 La transmitancia fue del 82,3 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 7,90 ohmios por cuadrado después del calentamiento. The third layer The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 80.1%. The sheet resistance after coating was 7.42 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample B1. The transmittance was 82.3%. And the electrical sheet resistance was 7.90 ohms per square after heating.

Muestra C83 Sample C83

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 La tercera capa se depositó 10 haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti a un ajuste de potencia de 0,9 kilovatios, con una tensión de 354 voltios y una corriente de 2,56 amperios. La transmisión fue del 39,5 % después de la deposición de la terce ra capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 68,8 %. La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 7,85 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se calentó mediante el método descrito para la Muestra 81 La transmitancia fue del 79,7 % Y la resistencia laminar The first and the fourth layer were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was deposited from the silver target by the same method of Sample 81 The third layer was deposited by passing the glass once below the Ti target at a power setting of 0.9 kilowatts, with a voltage of 354 volts and a current of 2.56 amps. The transmission was 39.5% after the deposition of the third layer. The final transmittance of the coating after deposition of the fourth layer was 68.8%. The sheet resistance after coating was 7.85 ohms per square. Then, the coating was heated by the method described for Sample 81 The transmittance was 79.7% and the sheet resistance

15 eléctrica fue de 6,50 ohmios por cuadrado después del calentamiento. 15 electric was 6.50 ohms per square after heating.

Muestra C84 Sample C84

La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño y la segunda capa se The first and fourth layers were deposited from the zinc and tin alloy target and the second layer was

20 depositó a partir del objetivo de plata mediante el mismo método de la Muestra 81 La tercera capa se depositó haciendo pasar el vidrio una vez por debajo del objetivo de Ti a un ajuste de potencia de 1,2 kilovatios, con una tensión de 364 voltios y una corriente de 3,32 amperios. La transmisión fue del 33,9 % después de la deposición de la tercera capa. La transmitancia final del recubrimiento después de la deposición de la cuarta capa fue del 59,6 %. La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 7,78 ohmios por cuadrado. Después, el recubrimiento se 20 deposited from the silver target by the same method of Sample 81 The third layer was deposited by passing the glass once below the Ti target at a power setting of 1.2 kilowatts, with a voltage of 364 volts and a current of 3.32 amps. The transmission was 33.9% after the deposition of the third layer. The final transmittance of the coating after the deposition of the fourth layer was 59.6%. The sheet resistance after coating was 7.78 ohms per square. Then the coating is

25 calentó mediante el método descrito para la Muestra 81. La transmitancia fue del 74,0 % Y la resistencia laminar eléctrica fue de 8,2 ohmios por cuadrado después del calentamiento. 25 heated by the method described for Sample 81. The transmittance was 74.0% and the electrical sheet resistance was 8.2 ohms per square after heating.

La Tabla G resume el material de objetivo, la configuración del aparato de recubrimiento y los recubrimientos resultantes Table G summarizes the target material, the configuration of the coating apparatus and the resulting coatings

TABLAG TABLAG

Capas de imprimación de Ti-Al Ti-Al primer layers

N.ode muestra Sample No.: Material de objetivo ConfIQuración de aparato de recubrimiento ILS Espesor (Angstroms Resistencia de lámina (ohmios/cuadrado) % de transmitancia Target material ILS coating apparatus configuration Thickness (Angstroms Blade Resistance (Ohm / Square) % transmittance

Palencia (kilovatios) Palencia (kilowatts): Pases Tensión (voltios) Corriente (amperios) antes del calor después del calor ILS antes del TeS después del calor calor Passes Voltage (volts) Current (amps) before the heat after the heat ILS before TeS after heat heat

B1 B1: Ti-30Al 0,3 1 354 1,32 13 5,96 • 87,0 77,04 Ti-30Al 0.3 one 354 1.32 13 5.96 • 87.0 77.04

B2 B2: Ti-30A1 0,6 1 390 1,56 27 7,85 9,1 79,6 82 ,84 Ti-30A1 0.6 one 390 1.56 27 7.85 9.1 79.6 82, 84

B3 B3: Ti-30A1 0,9 1 410 2,20 40 7,51 6,6 68,5 83,49 Ti-30A1 0.9 one 410 2.20 40 7.51 6.6 68.5 83.49

B4 B4: Ti-30A1 1,2 1 423 2,84 53 7,66 8,4 60,7 74 ,83 Ti-30A1 1.2 one 423 2.84 53 7.66 8.4 60.7 74, 83

B5 B5: Ti-50A1 0,3 1 380 0,82 15 6,97 13,6 86,2 84,73 Ti-50A1 0.3 one 380 0.82 fifteen 6.97 13.6 86.2 84.73

B6 B6: Ti-50A1 0,6 1 426 1,42 30 8,46 6,9 74,3 85,16 Ti-50A1 0.6 one 426 1.42 30 8.46 6.9 74.3 85.16

B7 B7: Ti-50Al 0,9 1 458 1,98 45 8,2 8,9 63,7 80,65 Ti-50Al 0.9 one 458 1.98 Four. Five 8.2 8.9 63.7 80.65

B8 B8: Ti-50A1 1,2 1 482 2,52 60 8,08 13,1 55,5 72 ,93 Ti-50A1 1.2 one 482 2.52 60 8.08 13.1 55.5 72, 93

Ca1 Ca1: Ti 0,3 1 317 0,96 13 6,35 . 87,3 74 ,55 You 0.3 one 317 0.96 13 6.35. 87.3 74, 55

ca2 ca2: Ti 0,6 1 340 1,78 25 7,42 7,9 80,t 82 ,28 You 0.6 one 340 1.78 25 7.42 7.9 80, t 82, 28

Ca3 Ca3: Ti 0,9 1 354 2,56 38 7,85 6,5 68,8 79,72 You 0.9 one 354 2.56 38 7.85 6.5 68.8 79.72

Ca4 Ca4: Ti 1,2 1 384 3,32 51 7,78 8,2 59,6 73,96 You 1.2 one 384 3.32 51 7.78 8.2 59.6 73.96

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Resultados -Capas de imprimación de Ti Al Results - Ti Al primer layers

La figura 13 muestra el comportamiento de la resistencia laminar con un espesor de imprimación de las imprimaciones de Ti-30AI y Ti-50AI antes de calentar. La imprimación de Ti se muestra como una comparación con 5 las imprimaciones de aleación. Los imprimaciones se comportan de manera similar a la imprimación de Ti-50AI que tiene una resistencia ligeramente mayor que las imprimaciones de Ti y Ti-30A! Figure 13 shows the behavior of the sheet resistance with a primer thickness of the Ti-30AI and Ti-50AI primers before heating. Ti primer is shown as a comparison with 5 alloy primers. Primers behave similarly to the Ti-50AI primer that has a slightly higher resistance than Ti and Ti-30A primers!

La Figura 14 muestra el comportamiento de la resistencia laminar con un espesor de imprimación de las imprimaciones de Ti-30AI y Ti-50AI después del calentamiento. La imprimación de Ti se muestra como una 10 comparación con las imprimaciones de aleación. La imprimación de Ti-50 todavía es eléctricamente conductora con una capa de imprimación de menos de 20 Angstroms, lo que indica una capa de plata continua después del calentamiento. Las imprimaciones de Ti y Ti-30AI no son conductoras después de calentar con una capa de imprimación de menos de 25 Angstroms y en consecuencia la capa de plata no es continua. Las capas de imprimación alcanzan una resistencia laminar mínima de 6,5 ohmios por cuadrado, pero la imprimación de Ti-50AI Figure 14 shows the behavior of the sheet strength with a primer thickness of the Ti-30AI and Ti-50AI primers after heating. Ti primer is shown as a comparison with alloy primers. The Ti-50 primer is still electrically conductive with a primer layer of less than 20 Angstroms, indicating a continuous layer of silver after heating. The primers of Ti and Ti-30AI are not conductive after heating with a primer layer of less than 25 Angstroms and consequently the silver layer is not continuous. The primer layers reach a minimum sheet resistance of 6.5 ohms per square, but the Ti-50AI primer

15 alcanza la resistencia mínima a un espesor inferior. Todas las capas de imprimación aumentan de forma considerable la resistencia eléctrica más allá de la mínima resistencia. 15 reaches the minimum strength at a lower thickness. All primer layers significantly increase electrical resistance beyond minimum resistance.

La Figura 15 muestra el comportamiento de la transmitancia del recubrimiento en el aparato de recubrim iento ILS con el espesor de imprimación de las imprimaciones del Ti-30AI y el Ti-50AI antes de calentar. La imprimación de Ti Figure 15 shows the behavior of the transmittance of the coating in the ILS coating apparatus with the primer thickness of the Ti-30AI and Ti-50AI primers before heating. Ti primer

20 se muestra como una comparación con las imprimaciones de aleación. La transmitancia del recubrimiento disminuye con el aumento del espesor de las imprimaciones Todas las imprimaciones muestran casi el mismo comportamiento. Esto es debido a la creciente absorción de las capas de imprimación con el aumento del espesor. 20 is shown as a comparison with alloy primers. The transmittance of the coating decreases with increasing thickness of primers. All primers show almost the same behavior. This is due to the increasing absorption of the primer layers with increasing thickness.

La Figura 16 muestra el comportamiento de la transmitancia del recubrimiento, como se mide en el Figure 16 shows the behavior of the transmittance of the coating, as measured in the

25 espectrofotómetro TCS, con el espesor de imprimación de las imprimaciones del Ti-30AI y el Ti-50AI después del calentamiento. La imprimación de Ti se muestra como una comparación con las imprimaciones de aleación. Sorprendentemente, la capa de imprimación de Ti-50AI tiene una transmitancia mas alta que las capas de imprimación de Ti y Ti-30A!. Existe una gama de capas de imprimación delgadas, en las que el gráfico indica una alta transmitancia constante de 15 a 30 Angstroms. Esto es altamente deseable, en particular cuando los requisitos 25 TCS spectrophotometer, with the primer thickness of the primers of Ti-30AI and Ti-50AI after heating. Ti primer is shown as a comparison with alloy primers. Surprisingly, the Ti-50AI primer layer has a higher transmittance than the Ti and Ti-30A! Primer layers. There is a range of thin primer layers, in which the graph indicates a constant high transmittance of 15 to 30 Angstroms. This is highly desirable, particularly when the requirements

30 de transmitancia mínima de la luz imponen limitaciones al rendimiento del recubrimiento, por ejemplo, los requisitos de transmilancia de la luz del 70 % Y el 75 % (iluminante A) para los parabrisas en los EE.UU. y Europa, respectivamente 30 of minimum light transmittance impose limitations on the performance of the coating, for example, the light transmilance requirements of 70% AND 75% (illuminant A) for windshields in the US and Europe, respectively

Ejemplo 7 Example 7

35 Capas de recubrímíento externo de óxido de Tí-Al y Tí-Al metalizadas por bombardeo atómico sobre recubrimientos de baja emisividad 35 Layers of external coating of Ti-Al and Ti-Al oxide metallized by atomic bombardment on low emissivity coatings

Se depositaron recubrimientos de baja emisividad con la secuencia de capas de recubrimiento: Low emissivity coatings were deposited with the sequence of coating layers:

Vidriofestannato de cinclplata/titanio/estannato de cinc/óxido de Ti-Ala Ti-Al Zincplated glass phosphate / titanium / zinc stannate / Ti-Ala oxide Ti-Al

en un aparato de recubrimiento Aireo ILS 1600 sobre sustratos de vidrio flotado transparente cuadrados de 12" x 12" (30,5 cm x 30,5 cm), por 2,3 mm de espesor a temperatura ambiente. El sustrato se transportó a una velocidad lineal 45 de 120 pulgadas por minuto (3,05 m por minuto). La presión de base estaba en el intervalo bajo de 10·6Torr y la presión de funcionamiento fue de micrómetros (m Torr). El sustrato estaba a temperatura ambiente durante la deposición. Se usaron objetivos planos de aleación de Ti-Al, en los que la cantidad de aluminio se expresa en porcentaje atómico, para depositar películas de óxido metálico o metálicas sobre los recubrimientos de baja emisividad, como se indica en la secuencia de capas anterior. Se fabricaron objetivos de aleación de Ti-3D y Ti-50AI 50 mediante el prensado isostatico en caliente (HIP) de polvos de la aleación. El objetivo de aleación de Ti-90AI se fabricó mediante fusión en horno crisol de inducción de vacío (VIM) y mediante moldeo un objetivo de lingote a partir de los polvos metálicos. Se utilizó el análisis químico de la aleación para determinar el porcentaje en peso de los metales individuales. Las películas de óxido de aleación se depositaron en una atmósfera de una mezcla de gases de argón al 20 % Y oxígeno al 80 %. Las películas de aleación se depositaron en gas argón al 100 %. Los in an Aireo ILS 1600 coating apparatus on 12 "x 12" square transparent float glass substrates (30.5 cm x 30.5 cm), 2.3 mm thick at room temperature. The substrate was transported at a linear speed 45 of 120 inches per minute (3.05 m per minute). The base pressure was in the low range of 10 · 6Torr and the operating pressure was micrometers (m Torr). The substrate was at room temperature during deposition. Flat Ti-Al alloy targets, in which the amount of aluminum is expressed in atomic percentage, were used to deposit metal or metal oxide films on the low emissivity coatings, as indicated in the previous layer sequence. Ti-3D and Ti-50AI 50 alloy targets were manufactured by hot isostatic pressing (HIP) of alloy powders. The Ti-90AI alloy target was manufactured by melting in a vacuum induction crucible furnace (VIM) and by molding an ingot target from metal powders. The chemical analysis of the alloy was used to determine the percentage by weight of the individual metals. The alloy oxide films were deposited in an atmosphere of a mixture of 20% argon gases and 80% oxygen. The alloy films were deposited in 100% argon gas. The

55 recubrimientos con recubrimientos exteriores de Ti-Al sobre la baja emisividad se compararon con recubrimientos exteriores de óxido de titanio y sin recubrimientos exteriores sobre el recubrimiento de baja emisividad. Las composiciones de objetivo se muestran en la Tabla H a continuación. 55 coatings with Ti-Al outer coatings on low emissivity were compared with titanium oxide outer coatings and no outer coatings on the low emissivity coating. The target compositions are shown in Table H below.

Se calentaron muestras de vidrio recubierto de 4 pulgadas x 4 pulgadas (10,2 cm x 10,2 cm»){ 2,3 mm de espesor Samples of 4-inch x 4-inch coated glass were heated (10.2 cm x 10.2 cm ») {2.3 mm thick

60 en un horno Thermolyne Type 30400 fijado a 1300 °F (703 oC). Las muestras se colocaron sobre un de hierro de curvado de 3,5 pulgadas x 3,5 pulgadas (8,9 cm x 8,9 cm) y se colocaron en el horno durante 240 segundos. El vidrio recubierto alcanzó una temperatura de 1170 0 F (632 OC) en ese tiempo como se determinó mediante mediciones de termopares de recubrimientos de baja emisividad similares. La resistencia laminar y Iransmitancia del recubrimiento se registraron tanto antes como después del calentamiento en el horno. La transmitancia se leyó en el 60 in a Thermolyne Type 30400 oven set at 1300 ° F (703 oC). The samples were placed on a 3.5-inch x 3.5-inch curved iron (8.9 cm x 8.9 cm) and placed in the oven for 240 seconds. The coated glass reached a temperature of 1170 0 F (632 OC) at that time as determined by thermocouple measurements of similar low emissivity coatings. Laminar resistance and Iransmittance of the coating were recorded both before and after heating in the oven. The transmittance was read in the

65 aparato de recubrimiento ILS antes de calentar y en el medidor de TCS después del calentamiento 65 ILS coating apparatus before heating and in the TCS meter after heating

Tabla H: Comoosición de ob-etivos Table H: As-position of ob-ethives

Análisis de la composición de objetivos de Ti-Al Analysis of the composition of Ti-Al objectives: Método de fabricación de los objetivo Lens manufacturing method

i-a % de Al i-a% of Al: % en peso de Al (resto Ti) % by weight of Al (Ti rest)

Ti-10AI Ti-10AI: 5,85 HIP 5.85 HIP

Ti-30AI Ti-30AI: 19,2 HIP 19.2 HIP

Ti-50AI Ti-50AI: 36,48 HIP 36.48 HIP

Ti-90AI Ti-90AI: 16,31 VIM 16.31 VIM

Ti-75AI Ti-75AI: 63,3 Pulverización de plasma 63.3 Plasma spraying

Muestra F13 Sample F13

5 La primera capa de una aleación de cinc y estaño del 48 % de estaño y el 52 % de cinc en peso se depositó en una atmósfera de mezcla de gas argón al 20 % Y gas oxígeno al 80 % como se fija en el controlador de flujo. La potencia al objetivo de catodo se fijó a 2,14 kilovatios, que da como resultado una tensión de 385 voltios y una corriente de 5,56 amperios. El vidrio se hizo pasar por debajo de cátodo 6 veces a una velocidad de transporte de 120 pulgadas por minuto (3,05 metros por minuto) hasta que la transmisión alcanzó el 80,3 %_El espesor de la primera capa fue 5 The first layer of a zinc and tin alloy of 48% tin and 52% zinc by weight was deposited in an atmosphere of mixing 20% argon gas and 80% oxygen gas as set in the controller. flow. The power to the cathode target was set at 2.14 kilowatts, which results in a voltage of 385 volts and a current of 5.56 amps. The glass was passed under the cathode 6 times at a transport speed of 120 inches per minute (3.05 meters per minute) until the transmission reached 80.3% _The thickness of the first layer was

10 de 426 Angstroms. La segunda capa se depositó usando un cátodo de plata en una atmósfera de gas argón al 100 %_ La potencia al cátodo se fijó en 0,40 kilovatios, dando como resultado una tensión de 437 voltios y una corriente de 0,91 amperios. El vidrio se hizo pasar por debajo del cátodo 1 vez, que dio lugar a una transmisión de del 65,7 %_ El espesor de la segunda capa fue de 95 Angstroms_ La tercera capa se depositó usando un objetivo de titanio a una potencia de 0,42 kilovatios, con una tensión de 322 vollios y una corriente de 1,30 amperios_ El espesor 10 of 426 Angstroms. The second layer was deposited using a silver cathode in a 100% argon gas atmosphere _ The power to the cathode was set at 0.40 kilowatts, resulting in a voltage of 437 volts and a current of 0.91 amps. The glass was passed under the cathode 1 time, which resulted in a transmission of 65.7% _ The thickness of the second layer was 95 Angstroms_ The third layer was deposited using a titanium lens at a power of 0 , 42 kilowatts, with a voltage of 322 volts and a current of 1.30 amps_ Thickness

15 de la capa de imprimación de titanio se calculó que era de 20 Angstroms, después de 1 pase la transmisión fue del 51 ,2 %_ La cuarta capa se depositó en las mismas condiciones que la primera capa, dando como resultado una transmisión del 83,5 %_ La capa de recubrimiento se depositó haciendo pasar el vidrio 3 veces por debajo del objetivo de Ti-90AI, en una atmósfera de mezcla de gas argón al 20 % Y gas oxígeno al 80 %, a una potencia de 3,10 kilovatios, con una tensión de 373 voltios y una corriente de 8,28 amperios. La transmitancia final del 15 of the titanium primer layer was calculated to be 20 Angstroms, after 1 pass the transmission was 51.2% _ The fourth layer was deposited under the same conditions as the first layer, resulting in a transmission of 83 , 5% _ The coating layer was deposited by passing the glass 3 times below the Ti-90AI target, in an atmosphere of mixing 20% argon gas and 80% oxygen gas, at a power of 3.10 kilowatts, with a voltage of 373 volts and a current of 8.28 amps. The final transmittance of

20 recubrimiento después de la deposición de la capa de recubrimiento fue del 82 ,1 % y después del calentamiento fue del 85,9 %_ El grosor del recubrimiento es de 50 Angstroms_ La resistencia laminar después del recubrimiento fue de 9,07 ohmios por cuadrado después de la deposición y de 7,88 ohmios por cuadrado después del calentamiento 20 coating after deposition of the coating layer was 82.1% and after heating it was 85.9% _ The thickness of the coating is 50 Angstroms_ The sheet resistance after coating was 9.07 ohms per square after deposition and 7.88 ohms per square after heating

Muestras F1 -F12 F14 -F22 FC1-5 Samples F1 -F12 F14 -F22 FC1-5

25 La primera y la cuarta capa se depositaron a partir del objetivo de aleación de cinc y estaño, la segunda capa se depositó a partir del objetivo de plata y la tercera capa se depositó a partir del objetivo de titanio de una de manera similar a la Muestra F13. Los espesores de plata y óxido de ZnSn se muestran en la Tabla 1: Capas de recubrimiento exterior de Ti-Al sobre recubrimiento de baja emisividad. La capa de recubrimiento exterior de óxido (F1-F14) se 25 The first and fourth layers were deposited from the zinc and tin alloy target, the second layer was deposited from the silver target and the third layer was deposited from the titanium target in a manner similar to the Sample F13. The silver and ZnSn oxide thicknesses are shown in Table 1: Ti-Al outer coating layers over low emissivity coating. The outer oxide coating layer (F1-F14) is

30 depositó haciendo pasar el vidrio con el recubrimiento de baja emisividad bajo el objetivo de Ti-Al o el objetivo de Ti (FC1), ajustado a una potencia constante en la fuente de alimentación, en una atmósfera de argón al 20 % y oxigeno al 80 %. La capa de recubrimiento exterior metálica (F15-F22) se depositó mediante metalizado por bombardeo atómico en un gas de argón al 100 %_ La tensión y las corrientes para cada ajuste de potencia para los recubrimientos exteriores se muestran en la Tabla 1. El grosor del recubrimiento exterior, la transmitancia final del 30 deposited by passing the glass with the low emissivity coating under the objective of Ti-Al or the objective of Ti (FC1), adjusted to a constant power in the power supply, in an atmosphere of 20% argon and oxygen at 80% The metallic outer coating layer (F15-F22) was deposited by metallizing by atomic bombardment in a 100% argon gas _ The voltage and currents for each power setting for the outer coatings are shown in Table 1. The thickness of the outer coating, the final transmittance of the

35 recubrimiento después de la deposición y después del calentamiento, y la resistencia laminar después de la deposición y después del calentamiento, junto con el porcentaje de cambio de la resistencia laminar se muestran en la Tabla 1. Las muestras sin capa de recubrimiento exterior (FC3-5) se indican mediante el espesor O en la sección de capa de recubrimiento exterior de la Tabla l. 35 coating after deposition and after heating, and sheet resistance after deposition and after heating, together with the percent change of sheet resistance are shown in Table 1. Samples without outer coating layer (FC3 -5) are indicated by the thickness O in the outer coating layer section of Table 1.

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La Tabla J muestra los parámetros de deposición para recubrimientos de óxidos, de nitruros y metálicos para un objetivo que tiene una composición de aleación de titanio con 75 de peso atómico de aluminio. Los resultados de la Tabla J se muestran en las Figuras 17 y 18 que se analizan a continuación Table J shows the deposition parameters for oxide, nitride and metal coatings for a target having a titanium alloy composition with 75 atomic aluminum weight. The results of Table J are shown in Figures 17 and 18, which are analyzed below.

Tabla J J table

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Ejemplo 8 Example 8

Comparación de los tiempos de retirada del recubrimiento para diversos recubrimientos de Ti-Al Comparison of coating removal times for various Ti-Al coatings

5 Las composiciones de objetivos de la Tabla H anterior se aplicaron a muestras de vidrio flotado de 2,3 mm de espesor y después se midió el tiempo de retirada del recubrimiento usando un procedimiento Ensayo de Condensación de Cleveland (CCC) convencional. Se corlaron muestras para ensayo de múltiples muestras de una lámina de vidrio recubierto. Para cada muestra sometida a ensayo, usando el procedimiento de CCC, se midió primero una muestra colindante (control) usando XRF para determinar el número de microgramos por centímetro 5 The objective compositions of Table H above were applied to samples of 2.3 mm thick float glass and then the coating removal time was measured using a conventional Cleveland Condensation Test (CCC) procedure. Samples were screened for testing multiple samples of a coated glass sheet. For each sample tested, using the CCC procedure, an adjacent sample (control) was first measured using XRF to determine the number of micrograms per centimeter

10 cuadrado del recubrimiento. Después, las muestras sometidas a ensayo, se colocaron en el dispositivo de CCC y se retiraron después de periodos de tiempo fijados (véase la Figura 17). Después, una sección de la muestra de ensayo se midió usando XRF para determinar la cantidad de recubrimiento restante, que se calculó dividiendo la XRF medida de la muestra frente a la XFR del control. 10 square of the coating. Then, the samples under test were placed in the CCC device and removed after fixed periods of time (see Figure 17). Then, a section of the test sample was measured using XRF to determine the amount of coating remaining, which was calculated by dividing the measured XRF of the sample against the control XFR.

15 La Figura 17 muestra el porcentaje de recubrimiento retirado frente al tiempo para recubrimientos de titanio y de aluminio puros, así como recubrimientos de titanio y aluminio que tienen el 10, el 30, el 50, el 75 y el 90 por ciento de porcentaje atómico de aluminio. Las muestras se metalizaron por bombardeo atómico de la manera descrita en las Tablas C, D y J. Los espesores de los recubrimientos se muestran en la Tabla K a continuación. 15 Figure 17 shows the percentage of coating removed versus time for pure titanium and aluminum coatings, as well as titanium and aluminum coatings having 10, 30, 50, 75 and 90 percent atomic percentage of aluminum. The samples were metallized by atomic bombardment in the manner described in Tables C, D and J. The thicknesses of the coatings are shown in Table K below.

Tabla K K table

N.Ode muestr N.Ode Sample: Aleación objetiv Configuraciónde aparato de recubrimiento ILS Gas Espesor calculad XRF (ugJcm' % de Al en pese Objective Alloy ILS coating device configuration Gas Thickness Calculated XRF (ugJcm ' % of Al in spite

'r{I/I/ Pases Voltios Amperios 'r {I / I / Passes Volts Amps: %deTde I L~ (Al Al Ti Al % of T I L ~ (To the To the You To the

Kl Kl: TI 3,00 6 541 5,54 33,8 100 %de N2 253 0,00 7,98 0,0 % YOU 3.00 6 541 5.54 33.8 100% of N2 253 0.00 7.98 0.0%

K2 K2: TI-l 0AI 2,83 6 577 4,90 37,8 100 %de N2 245 0,40 7,24 5,24 % TI-l 0AI 2.83 6 577 4.90 37.8 100% of N2 245 0.40 7.24 5.24%

K3 K3: TI-30AI 2,61 5 646 4,03 46,4 100 %de N2 223 1,06 5,13 17,1 % TI-30AI 2.61 5 646 4.03 46.4 100% of N2 223 1.06 5.13 17.1%

K4 K4: TI-SOAI 2,84 4 560 5,06 59,2 100 %de N2 196 1,65 3,38 32,8% TI-SOAI 2.84 4 560 5.06 59.2 100% of N2 196 1.65 3.38 32.8%

K5 K5: TI-75AI 3,00 6 499 6,01 76,7 100 % de N2 197 2,54 1,78 58,8% TI-75AI 3.00 6 499 6.01 76.7 100% of N2 197 2.54 1.78 58.8%

K6 K6: TI-90AI 3,05 5 380 7,90 83,8 100 %de N2 238 3,69 0,71 83,9% TI-90AI 3.05 5 380 7.90 83.8 100% of N2 238 3.69 0.71 83.9%

K7 K7: Al 2,74 5 351 7,82 87 ,3 100 % de N2 186 3,39 0,00 100 % To the 2.74 5 351 7.82 87, 3 100% of N2 186 3.39 0.00 100%

K8 K8: TI 2,96 28 494 5,99 77 ,6 80 % de 02-A 286 0,00 5,71 0,0% YOU 2.96 28 494 5.99 77, 6 80% of 02-A 286 0.00 5.71 0.0%

K9 K9: TI-l 0AI 2,96 25 500 5,89 81 ,8 80 % de 02-A 279 0,22 5,05 4,17 % TI-l 0AI 2.96 25 500 5.89 81, 8 80% of 02-A 279 0.22 5.05 4.17%

Kl0 Kl0: TI-30AI 2,93 28 454 6,45 83,5 80 % de 02-A 318 0,85 4,89 14,8 % TI-30AI 2.93 28 454 6.45 83.5 80% of 02-A 318 0.85 4.89 14.8%

Kl l Kl l: TI-50AI 2,95 20 428 6,90 87 ,5 80 % de 02-A 238 1,07 2,63 28,9% TI-50AI 2.95 20 428 6.90 87, 5 80% of 02-A 238 1.07 2.63 28.9%

K12 K12: TI-75AI 3,00 16 354 8,48 88, 1 80% de 02-A 210 1,69 1,26 57,3% TI-75AI 3.00 16 354 8.48 88, 1 80% of 02-A 210 1.69 1.26 57.3%

K1 3 K1 3: TI-90AI 2,88 17 322 8,89 88,9 80% de 02-A 270 2,57 0,66 79,6 % TI-90AI 2.88 17 322 8.89 88.9 80% of 02-A 270 2.57 0.66 79.6%

K14 K14: Al 2,94 24 305 9,63 88,9 80% de 02-A 288 3,13 0,00 100 % To the 2.94 24 305 9.63 88.9 80% of 02-A 288 3.13 0.00 100%

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En general, los recubrimienlos de tilanio sobreviven más tiempo que los recubrimienlos de aluminio en un Ensayo de Condensación de Cleveland. Por lanlo, se podría prever que la adición de aluminio a un recubrimienlo de litanio degradaría el recubrimiento de titanio. Sin embargo, sorprendentemente, se descubrió que, en una proporción de aproximadamente el 50 por ciento en porcentaje atómico de aluminio, el recubrimiento de titanio y aluminio mostró In general, tilanium coatings survive longer than aluminum coatings in a Cleveland Condensation Test. Therefore, it could be expected that the addition of aluminum to a lithium coating would degrade the titanium coating. However, surprisingly, it was discovered that, at a rate of approximately 50 percent atomic percentage of aluminum, the titanium-aluminum coating showed

5 sorprendentemente mejores resultados (es decir, llevó mas tiempo que se retirase el recubrimiento) 5 surprisingly better results (that is, it took longer for the coating to be removed)

La Figura 18 muestra el tiempo hasta que se retiró aproximadamente el 80 % del recubrimiento frente al porcentaje atómico de aluminio en el recubrimiento. La parte izquierda de la gráfica representa titanio puro y la parte derecha de la gráfica representa aluminio puro. Se podría prever que la adición de aluminio al titanio degradaría gravemente la capacidad del recubrimiento para resistir al ataque mecánico y/o químico. Sin embargo, la Figura 18 muestra, sorprendentemente, que en lugar de degradar el titanio, la presencia de aluminio en el intervalo de aproximadamente el10 al 75 por ciento en porcentaje atómico en realidad mejora el rendimiento del recubrimiento, es decir, lleva más tiempo que se retire el recubrimiento. Pareceria que este efecto es más pronunciado en el intervalo de aproximadamente el 40 al 60 por ciento en porcentaje atómico de aluminio, con un máximo a Figure 18 shows the time until approximately 80% of the coating was removed versus the atomic percentage of aluminum in the coating. The left part of the graph represents pure titanium and the right part of the graph represents pure aluminum. It could be envisioned that the addition of aluminum to titanium would severely degrade the ability of the coating to resist mechanical and / or chemical attack. However, Figure 18 shows, surprisingly, that instead of degrading titanium, the presence of aluminum in the range of about 10 to 75 percent atomic percentage actually improves coating performance, that is, it takes longer than the coating is removed. It seems that this effect is more pronounced in the range of approximately 40 to 60 percent in atomic percentage of aluminum, with a maximum of

15 aproximadamente el 50 por ciento en porcentaje atómico de aluminio. 15 approximately 50 percent atomic percentage of aluminum.

La Figura 19 es similar a la Figura 17 pero muestra los resultados para los recubrimientos de nitruro de la Tabla K Una vez más, un recubrimiento de nitruro de titanio y aluminio con un 50 por ciento en porcentaje atómico de aluminio muestra resultados sorprendentemente inesperados Figure 19 is similar to Figure 17 but shows the results for the nitride coatings in Table K Again, a titanium aluminum nitride coating with 50 percent atomic percentage of aluminum shows surprisingly unexpected results

La Figura 20 muestra el índice de reactivo en) y el coeficiente de extinción (k) para recubrimientos que contienen titanio y aluminio depositados en atmósferas de nitrógeno puro o de oxígeno al 80 % siendo el resto argón. A partir de la Figura 20, un recubrimiento de óx.ido de titanio y aluminio proporciona un índice de refracción menor que un recubrimiento de nitruro en el intervalo de aproximadamente el O al 60 por ciento en porcentaje atómico de aluminio 25 Además, el uso de recubrimientos que contienen titanio y aluminio, por ejemplo, óxidos, oxinitruros, nitruros o metales, en una pila de recubrimiento proporciona una capa que puede proporcionar un intervalo de índices de refracción yfo coeficientes de extinción. Al variar el coeficiente de extinción, se puede variar la absorción en el recubrimiento. El recubrimiento de la invención proporciona una gama de índices de refracción. Como se muestra en la Figura 19, por encima del 75 por ciento en porcentaje atómico de Al existe poca o ninguna absorción para el nitruro de titanio y este material tiene un alto índice de refracción. Al 50 por ciento en porcentaje atómico de Al, existe un coeficiente de extinción de gama media y un índice de refracción alto. Puede imaginarse el uso de combinaciones del material de titanio y aluminio de la invención en foona de óxidos, nitruros, oxinitruros o metales para producir una amplia diversidad de materiales de alto índice y de bajo índice. Un indice de refracción menor permite una capa óptica más gruesa y al mismo tiempo proporciona una resistencia a la corrosión potenciada. Se Figure 20 shows the reagent index in) and the extinction coefficient (k) for coatings containing titanium and aluminum deposited in atmospheres of pure nitrogen or 80% oxygen with the remainder being argon. From Figure 20, a coating of titanium aluminum oxide provides a refractive index less than a nitride coating in the range of about 0 to 60 percent atomic percentage of aluminum 25 In addition, the use of coatings containing titanium and aluminum, for example, oxides, oxynitrides, nitrides or metals, in a coating stack provides a layer that can provide a range of refractive indices and extinction coefficients. By varying the extinction coefficient, the absorption in the coating can be varied. The coating of the invention provides a range of refractive indices. As shown in Figure 19, above 75 percent in atomic percentage of Al there is little or no absorption for titanium nitride and this material has a high refractive index. At 50 percent in atomic percentage of Al, there is a mid-range extinction coefficient and a high refractive index. One can imagine the use of combinations of the titanium and aluminum material of the invention in foxides of oxides, nitrides, oxynitrides or metals to produce a wide variety of high index and low index materials. A lower refractive index allows a thicker optical layer and at the same time provides enhanced corrosion resistance. Be

35 puede proporcionar una mejor coincidencia de índice con materiales de vinilo, tales como PVB. Las capas de absorción más alta proporcionan una menor transmitancia con funcionalidad, por ejemplo, un coeficiente de sombra inferior. Los materiales de mayor absorción contienen cantidades de nitruro de titanio, que se demuestra en los datos de corrosión anteriores que son muy duraderos. Dichos recubrimientos podrían usarse como un primer o segundo recubrimiento de superficie sobre acristalamientos de ventanas, de automoción o decorativos, solo por nombrar unos pocos. 35 can provide a better index match with vinyl materials, such as PVB. Higher absorption layers provide lower transmittance with functionality, for example, a lower shadow coefficient. Higher absorption materials contain amounts of titanium nitride, which is demonstrated in the previous corrosion data that is very durable. Such coatings could be used as a first or second surface coating on window, automotive or decorative glazing, just to name a few.

Los ejemplos anteriores ilustran la presente invención que se refiere al uso de objetivos de cátodo de titanio y aluminio-silicio, de titanio y aluminio-silicio-metal de transición y de titanio y aluminio-metal de transición, metalizados por bombardeo atómico en nitrógeno puro, en mezclas de nitrógeno-oxígeno que varían hasta el 40 por ciento de The above examples illustrate the present invention which relates to the use of titanium-aluminum-silicon, titanium-aluminum-silicon-transition metal and titanium-aluminum-transition metal cathode targets, metallized by atomic bombardment in pure nitrogen , in nitrogen-oxygen mixtures that vary up to 40 percent of

45 oxígeno y en mezclas de argón-oxígeno que comprende hasta el 50 por ciento de oxigeno. Basándose en los datos ilustrados en las figuras, se puede usar un único objetivo de cátodo de aleación de titanio y aluminio que contenga un porcentaje en peso dado de silicio, silicio-metal de transición o metal de transición para el metalizado por bombardeo atómico estable de una gama de composiciones de película, incluyendo óxidos, nitruros y ox.initruros con absorción variable a altas velocidades de metalizado por bombardeo atómico. Oxygen and in argon-oxygen mixtures comprising up to 50 percent oxygen. Based on the data illustrated in the figures, a single titanium aluminum alloy cathode target containing a given weight percentage of silicon, transition metal silicon or transition metal can be used for metallizing by stable atomic bombardment of a range of film compositions, including oxides, nitrides and oxinitrides with variable absorption at high speeds of metallized by atomic bombardment.

Ha de apreciarse que todos los recubrimientos protectores analizados anterioonente pueden usarse dentro de un recubrimiento de baja emisividad, tal como, pero no limitado a los analizados anterioonente e ilustrados en la Figura 1 Más en particular, pueden usarse los óxidos, nitruros y oxinitruros de Ti-Al y Ti-Al-Si Y combinaciones de los mismos, como capas dieléctricas como las capas de óxido de ZnSn o de óxido de Zn (capas 44, 50 Y 56) Y el It should be appreciated that all protective coatings analyzed before can be used within a low emissivity coating, such as, but not limited to those analyzed before and illustrated in Figure 1 More in particular, Ti oxides, nitrides and oxinitrides can be used -Al and Ti-Al-Si and combinations thereof, such as dielectric layers such as ZnSn oxide or Zn oxide layers (layers 44, 50 and 56) and the

55 recubrimiento exterior protector en la Figura 1 (capa 16). 55 protective outer coating in Figure 1 (layer 16).

También ha de apreciarse que los recubrimientos metálicos o de aleación de Ti-Al y Ti-Al-Si pueden usarse como capas de imprimación como se muestra en la Figura 1 (capas 54 y 48) sobre las capas de plata. Los recubrimientos metálicos o de aleación de Ti-Al y Ti-Al-Si también pueden usarse como la capa de recubrimiento exterior protector como se ha descrito anteriormente y se muestra en la Figura 1 (capa 16). El recubrimiento metálico o de aleación puede oxidarse posterioonente para foonar un recubrimiento de óxido metálico o de aleación durante el procesamiento a alta temperatura del vidrio, tal como el templado o el curvado. It should also be appreciated that Ti-Al and Ti-Al-Si metal or alloy coatings can be used as primer layers as shown in Figure 1 (layers 54 and 48) on the silver layers. The Ti-Al and Ti-Al-Si alloy or metal coatings can also be used as the protective outer coating layer as described above and shown in Figure 1 (layer 16). The metal or alloy coating can be oxidized subsequently to foone a metal oxide or alloy coating during high temperature processing of the glass, such as tempering or bending.

Ha de apreciarse adicionalmente, que todos los recubrimientos protectores anteriores como se han descrito 65 anterionnente, cuando se incorporan en o sobre un recubrimiento de baja emisividad, por ejemplo, como se ha descrito anterionnente y se muestra en la Figura 1, pueden procesarse a altas temperaturas , tales como el templado It should be further appreciated that all of the above protective coatings as described above, when incorporated into or on a low emissivity coating, for example, as described above and shown in Figure 1, can be processed at high temperatures, such as tempering

y el curvado del vidrio flotado transparente and curved transparent float glass

Se apreciará fácilmente por los expertos en la materia que pueden hacerse modificaciones a la invención sin apartarse de los conceptos desvelados en la descripción anterior. En consecuencia, las realizaciones particulares descritas en detalle en el presente documento son solo ilustrativas y no son limitantes del alcance de la invención, sino que se proporciona la amplitud completa de las reivindicaciones adjuntas It will be readily appreciated by those skilled in the art that modifications can be made to the invention without departing from the concepts disclosed in the above description. Accordingly, the particular embodiments described in detail herein are illustrative only and are not limiting the scope of the invention, but the full extent of the appended claims is provided.

Claims

REIVINDICACIONES

Un articulo recubierto (40), que comprende A coated article (40), comprising

5 un sustrato (14); un recubrimiento funcional (42) depositado sobre al menos una parte del sustrato (14), 5 a substrate (14); a functional coating (42) deposited on at least a part of the substrate (14),

en el que el recubrimiento funcional (42) comprende: wherein the functional coating (42) comprises:

10 una capa base (44); una primera capa metálica renectante de infrarrojos (46) sobre la capa base (44); una primera capa de imprimación (48) sobre la primera capa metálica renectante de infrarrojos (46); una primera capa dieléctrica (50) sobre la primera capa de imprimación (48); una segunda capa metalica reflectante de infrarrojos (52) sobre la capa dieléctrica (50); 15 una segunda capa de imprimación (54) sobre la segunda capa metálica reflectante de infrarrojos (52); un segundo dieléctrico (56) o una capa antirreflectante (56) sobre la segunda capa de imprimación (54); y una capa protectora (16) sobre el recubrimiento funcional (42); siendo una o las dos capas de imprimación (48, 54) una capa de Ti-Al que comprende titanio y aluminio, en la que el aluminio está presente en el intervalo del 40 al 60 por ciento en porcentaje atómico de aluminio 10 a base layer (44); a first infrared renectant metal layer (46) on the base layer (44); a first primer layer (48) on the first infrared renectant metal layer (46); a first dielectric layer (50) on the first primer layer (48); a second infrared reflective metal layer (52) on the dielectric layer (50); 15 a second primer layer (54) on the second infrared reflective metal layer (52); a second dielectric (56) or an anti-reflective layer (56) on the second primer layer (54); and a protective layer (16) on the functional coating (42); one or both layers of primer (48, 54) being a Ti-Al layer comprising titanium and aluminum, in which aluminum is present in the range of 40 to 60 percent in atomic percentage of aluminum

2 El artículo de la reivindicación 1, en el que el metal renectante de infrarrojos se selecciona entre el grupo que consiste en plata, oro, cobre, acero y combinaciones de los mismos. 2 The article of claim 1, wherein the infrared renectant metal is selected from the group consisting of silver, gold, copper, steel and combinations thereof.

3. El articulo de la reivindicación 1, en el que la capa de Ti-Al (48, 54) comprende peliculas de óxidos y/o nitruros y/o 25 oxinitruros y/o metal que comprenden titanio y aluminio. 3. The article of claim 1, wherein the Ti-Al layer (48, 54) comprises films of oxides and / or nitrides and / or oxynitrides and / or metal comprising titanium and aluminum.