ES2535601T3 - Procedure to produce a printing mold - Google Patents

Abstract

Procedimiento para producir un molde de impresión, en el que - a una primera capa de laca fotosensible (4') sensible a la radiación dispuesta sobre un tamiz (1') de una laca reticulable se aplica mediante recubrimiento por inmersión una capa cobertora (5), en donde la capa cobertora (5) contiene unas finas partículas absorbedoras o reflectoras de luz, que están suspendidas en gelatina o alcohol polivinílico, - la capa cobertora (5) aplicada se estructura después de un paso de secado de forma correspondiente a un modelo, en donde para estructurar la capa cobertora (5), condicionado por el modelo, las partes a extraer de la capa cobertora (5) se desmontan directamente utilizando radiación láser, para formar una máscara de irradiación (5'), y - la primera capa de laca fotosensible (4') sensible a la radiación se irradia y se revela mediante enjuague con agua.Process for producing a printing mold, in which - a first layer of photosensitive lacquer (4 ') sensitive to radiation arranged on a sieve (1') of a crosslinkable lacquer is applied by immersion coating a cover layer (5 ), wherein the cover layer (5) contains fine light-absorbing or reflective particles, which are suspended in gelatin or polyvinyl alcohol, - the applied cover layer (5) is structured after a drying step corresponding to a model, where to structure the cover layer (5), conditioned by the model, the parts to be extracted from the cover layer (5) are disassembled directly using laser radiation, to form an irradiation mask (5 '), and - the First layer of photosensitive lacquer (4 ') sensitive to radiation is irradiated and revealed by rinsing with water.

Description

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DESCRIPCIÓN DESCRIPTION

Procedimiento para producir un molde de impresión Procedure to produce a printing mold

La invención se refiere a un procedimiento para producir un molde de serigrafía. The invention relates to a process for producing a screen printing mold.

En la producción de plantillas de serigrafía es conocido aplicar sobre un tamiz que se usa como soporte del molde In the production of screen printing templates it is known to apply on a sieve that is used as a mold support

o de la matriz a presión una laca fotosensible, para exponer y a continuación revelar, para extraer la capa de laca fotosensible en regiones en las que posteriormente al imprimir se pretende transmitir tinta a través del tamiz. La exposición de la capa de laca fotosensible, condicionado por el modelo, se realiza con ello por ejemplo mediante una película grande colocada encima de la pieza en bruto del molde de impresión o bien, punto por punto, con ayuda de luz láser, en donde toda la capa de laca fotosensible se explora punto por punto y sólo se expone en los puntos en los que debe modificarse, condicionado por el modelo, la estructura química de la laca fotosensible para el revelado posterior. Aparte de esto es conocido hacer evaporar la capa de laca fotosensible con un láser de CO2, conforme al modelo. or from the die matrix, a photosensitive lacquer, to expose and then reveal, to extract the photosensitive lacquer layer in regions where, after printing, it is intended to transmit ink through the sieve. The exposure of the photosensitive lacquer layer, conditioned by the model, is done for example by means of a large film placed on top of the blank of the printing mold or, point by point, with the help of laser light, where The entire photosensitive lacquer layer is explored point by point and is only exposed at the points where the photosensitive lacquer chemical structure for subsequent development should be modified, conditioned by the model. Apart from this it is known to evaporate the photosensitive lacquer layer with a CO2 laser, according to the model.

Tanto la utilización de películas grandes como el uso de láseres, en especial de láseres de CO2, que presentan un consumo de energía muy elevado, encarecen la producción de plantillas de serigrafía. Both the use of large films and the use of lasers, especially CO2 lasers, which have a very high energy consumption, increase the production of screen printing templates.

A la hora de producir un molde de impresión flexográfica en primer lugar se coloca sobre un soporte un material sensible a la radiación o fotosensible, por ejemplo un fotopolímero o fotoelastómero. Después se reticula el polímero mediante irradiación o exposición, condicionado por el modelo, de regiones individuales de la capa. Para la exposición se utiliza de forma preferida radiación ultravioleta. A continuación se lavan en un revelador adecuado las regiones poliméricas no expuestas y con ello no reticuladas. Dado el caso se expone posteriormente la capa de fotopolímero con una fuente de radiación que emite en el margen UV y, de este modo, se reticula más intensamente. When producing a flexographic printing mold, a radiation-sensitive or photosensitive material is first placed on a support, for example a photopolymer or photoelastomer. The polymer is then crosslinked by irradiation or exposure, conditioned by the model, of individual regions of the layer. Ultraviolet radiation is preferably used for exposure. The unexposed and thereby uncrosslinked polymer regions are then washed in a suitable developer. If necessary, the photopolymer layer is subsequently exposed with a radiation source that emits in the UV range and, thus, is more intensely crosslinked.

En los procedimientos conocidos hasta ahora las regiones de la capa sensible a las radiación que no se quieren exponer, es decir en especial la capa de fotoelastómero, se cubren, condicionado por el modelo, o bien como en las plantillas de serigrafía mediante una película completa o mediante una capa pulverizada encima en forma de modelo por medio de toberas. In the procedures known so far the regions of the radiation sensitive layer that do not want to be exposed, that is especially the photoelastomer layer, are covered, conditioned by the model, or as in the screen printing templates by means of a full film or by a layer sprayed on top in the form of a model by means of nozzles.

A la hora de cubrir la capa sensible a la radiación mediante una película completa producida fotográficamente casi nunca puede evitarse, en los moldes de impresión cilíndricos, una soldadura en el modelo. En cualquier caso una película completa de este tipo, que debe presentar el tamaño del molde de impresión y en el caso de moldes de impresión cilíndricos por lo tanto también el tamaño de la superficie del cilindro, encarece la producción de moldes de impresión. When covering the radiation-sensitive layer by means of a photographically produced full film, welding on the model can almost never be avoided in cylindrical printing molds. In any case, a complete film of this type, which must have the size of the printing mold and in the case of cylindrical printing molds, therefore also the size of the cylinder surface, makes the production of printing molds more expensive.

La pulverización sobre una capa sensible a las radiación, condicionado por el modelo, de una capa de tinta que absorba y/o refleje la luz con ayuda de toberas, exige una tintas cobertoras muy puras que se adhieran suficientemente sobre la capa sensible a las radiación y a pesar de ello no obstruyan las toberas utilizadas. Aparte de los elevados requisitos impuestos a las tintas cobertoras, también las toberas utilizadas para la pulverización encima tienen que cumplir unos requisitos elevados, ya que por unidad de tiempo es necesario generar muchas gotas con un tamaño constante. Spraying on a radiation sensitive layer, conditioned by the model, of a layer of ink that absorbs and / or reflects the light with the aid of nozzles, requires a very pure covering inks that adhere sufficiently on the radiation sensitive layer and despite this do not obstruct the nozzles used. Apart from the high requirements imposed on the cover inks, also the nozzles used for spraying above have to meet high requirements, since per unit of time it is necessary to generate many drops with a constant size.

Mediante la pulverización de tinta cobertora conforme al modelo sobre la superficie de un molde de impresión, en especial sobre una superficie de cilindro, aunque se evitan los problemas que se producen durante la manipulación de películas grandes, la técnica de pulverización encima exige sin embargo unas toberas muy precisas, que son complicadas de producir y controlar. By spraying cover ink according to the model on the surface of a printing mold, especially on a cylinder surface, although the problems that occur during the handling of large films are avoided, the spraying technique above however requires some very precise nozzles, which are complicated to produce and control.

El documento DE 195 36 806 A1 describe un procedimiento para producir placas de huecograbado de fotopolímero. En este procedimiento de producción se aplican sobre un soporte dimensionalmente estable, unas sobre otras, una capa reticulable mediante radiación actínica, una capa sensible a la radiación IR, dado el caso una capa de separación dispuesta entre la capa reticulable mediante radiación actínica y la capa sensible a la radiación IR, así como una lámina protectora extraíble aplicada a la capa sensible a la radiación IR. Document DE 195 36 806 A1 describes a process for producing photopolymer gravure plates. In this production process, a crosslinkable layer by means of actinic radiation, a layer sensitive to IR radiation is applied on a dimensionally stable support, if necessary a separation layer arranged between the crosslinkable layer by actinic radiation and the layer sensitive to IR radiation, as well as a removable protective sheet applied to the layer sensitive to IR radiation.

En el caso de la capa formadora de relieve, reticulable mediante radiación actínica, es decir fotoestructurable, se trata de una mezcla formada por al menos un aglutinante polimérico soluble o dispersable en agua y/o mezclas de agua/alcohol, de compuestos orgánicos no saturados copolimerizables compatibles con este aglutinante polimérico, un fotoiniciador o sistema fotoiniciador, así como dado el caso otras sustancias auxiliares o adicionales. Sobre la capa fotoestructurable se encuentra la capa sensible a la radiación IR, que puede someterse a ablación láser así como dado el caso una capa intermedia formada por un polímero permeable al oxígeno soluble o dispersable en revelador. Una capa intermedia de este tipo puede reducir la difusión de monómeros desde la capa sensible a la luz, fotopolimerizable, en la capa sensible a la radiación IR situada encima y proteger In the case of the relief forming layer, crosslinkable by actinic radiation, that is to say phototructurable, it is a mixture formed by at least one polymeric binder soluble or dispersible in water and / or water / alcohol mixtures, of unsaturated organic compounds copolymerizable compatible with this polymeric binder, a photoinitiator or photoinitiator system, as well as other auxiliary or additional substances. The IR radiation sensitive layer, which can be subjected to laser ablation as well as an intermediate layer formed by an oxygen permeable polymer soluble or dispersible in developer, is located on the photorestructible layer. An intermediate layer of this type can reduce the diffusion of monomers from the light-sensitive, light-curing layer in the IR radiation sensitive layer above and protect

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la capa sensible a la luz, fotopolimerizable, contra la acción del rayo láser durante la ablación láser. Además de esto, esta capa intermedia es permeable al oxígeno del aire, de tal modo que durante exposición UV que sigue a la ablación láser puede entrar oxígeno del aire y, de este modo, se consigue un control más exacto de la profundidad de escudilla. the light-sensitive, light-curing layer, against the action of the laser beam during laser ablation. In addition to this, this intermediate layer is permeable to oxygen in the air, such that during UV exposure following laser ablation, oxygen can enter the air and, thus, more precise control of the bowl depth is achieved.

El documento EP 0 785 474 A1 describe un procedimiento y un dispositivo para producir una plantilla de impresión flexográfica. Aquí se coloca encima, en el caso de un tubo metálico, un fotoelatómero en forma de placa todavía totalmente reticulado, sobre el cual se ha tendido una capa fina altamente sensible a la luz. Después de una exposición punto por punto de la capa altamente sensible a la luz mediante un láser, de forma correspondiente a un modelo, se realiza el revelado de la capa fina exterior sensible a la luz, p.ej. mediante la inmersión periférica del molde de impresión en un baño alcalino. En el caso de utilizarse capas de gelatina o alcohol polivinílico, que contienen cristales de halogenuro de plata, el líquido alcalino del revelador contiene además un medio reductor orgánico para reducir el halogenuro de plata expuesto a plata metálica no soluble. Aquí se muestra la exposición de gran superficie del molde de impresión, es decir la exposición de gran superficie de la capa de fotoelastómero, que ahora soporta sobre su superficie la máscara no translúcida. Aquí se extraen del ensamble polimérico por disolución unos puntos del fotoelastómero, que no se reticulan permanentemente mediante radiación UV, en una cubeta de enjuague mediante un segundo líquido de revelador. En el caso de este revelador se trata de una mezcla de butanol y percloroetileno. EP 0 785 474 A1 describes a method and a device for producing a flexographic printing template. Here, in the case of a metal tube, a photoelathomer in the form of a fully crosslinked plate is placed on top of which a thin layer highly sensitive to light has been laid. After a point-by-point exposure of the highly light sensitive layer by means of a laser, corresponding to a model, the development of the light sensitive outer thin layer is carried out, eg by peripheral immersion of the mold Printing in an alkaline bath. In the case of using gelatin or polyvinyl alcohol layers, which contain silver halide crystals, the alkaline liquid of the developer also contains an organic reducing medium to reduce the silver halide exposed to non-soluble metallic silver. The large surface exposure of the printing mold is shown here, ie the large surface exposure of the photoelastomer layer, which now supports the non-translucent mask on its surface. Here, points of the photoelastomer, which are not permanently crosslinked by UV radiation, are removed from the polymer assembly by dissolving in a rinse cell using a second developer liquid. In the case of this developer it is a mixture of butanol and perchlorethylene.

El documento DE 42 03 554 A1 describe un procedimiento para la producción sin película de moldes de impresión flexibles. En este procedimiento se producen moldes de impresión flexibles a partir de placas de impresión, que fundamentalmente se componen de un soporte estable de forma, una capa de registro sensible a la luz y una lámina cobertora entintada. La estructuración de la placa de impresión se realiza sin película, de tal modo que la lámina cobertora entintada, actínica y absorbedora de luz se corta conforme a la imagen, se extraen los puntos de imagen calados y a continuación se expone la placa de impresión. Después de esto se extrae la lámina cobertora entintada y por último se lavan las partes no expuestas de la capa de registro en un baño de revelado adecuado. Los moldes de impresión producidos según este procedimiento son apropiados para la producción de productos de impresión flexográfica y para barnizar productos de impresora offset. Document DE 42 03 554 A1 describes a process for filmless production of flexible printing molds. In this procedure, flexible printing molds are produced from printing plates, which are essentially composed of a stable shape support, a light-sensitive recording layer and an inked cover sheet. The structuring of the printing plate is carried out without film, in such a way that the inked, actinic and light absorbing cover sheet is cut according to the image, the openwork image points are extracted and then the printing plate is exposed. After this, the inked cover sheet is removed and finally the unexposed portions of the registration layer are washed in a suitable developing bath. The printing molds produced according to this procedure are suitable for the production of flexographic printing products and for varnishing offset printer products.

El documento US 5,024,919 A describe un procedimiento para producir un modelo fino en un dispositivo semiconductor. En este procedimiento para formar un modelo fino en un dispositivo semiconductor se configura una capa de polímero superior sobre una capa de laca fotosensible inferior, en donde la capa de polímero superior, después de ser irradiadairradiada con luz ultravioleta, se hace no translúcida para la luz ultravioleta profunda. La capa de laca inferior es fotosensible a la luz ultravioleta. Después de que la capa de polímero superior se ha expuesto a la luz ultravioleta mediante una máscara, se usa la capa de polímero superior como máscara para la capa de laca fotosensible situada debajo, ya que las regiones expuestas son opacas a la luz ultravioleta profunda. Después de extraer la capa de polímero superior y una capa intermedia utilizada dado el caso se revela la capa de laca situada debajo, para formar un modelo. US 5,024,919 A describes a method for producing a fine model in a semiconductor device. In this procedure to form a fine model in a semiconductor device, an upper polymer layer is configured on a lower photosensitive lacquer layer, where the upper polymer layer, after being irradiated with ultraviolet light, becomes non-translucent for light deep ultraviolet The lower lacquer layer is photosensitive to ultraviolet light. After the upper polymer layer has been exposed to ultraviolet light by a mask, the upper polymer layer is used as a mask for the photosensitive lacquer layer below, since the exposed regions are opaque to deep ultraviolet light. After extracting the upper polymer layer and an intermediate layer used if necessary, the lacquer layer below is revealed to form a model.

El documento EP 0 065 760 A2 describe un proceso de fotoexposición. Aquí se transmiten partículas de tóner, que se adhieren a un elemento magnético con una capa soporte de polímero y una capa magnética en unas regiones en las que la capa magnética está magnetizada, a un sustrato con una capa fotosensible situada encima y una capa cobertora transparente. Después de la irradiación del sustrato con la capa fotosensible situada encima y la capa cobertora, las partículas de tóner transmitidas a la capa cobertora actúan como una máscara. Mediante la irradiación de la capa fotosensible las regiones irradiadas se polimerizan y permanecen sobre el sustrato, después de una extracción de la capa cobertora y un proceso de revelado. EP 0 065 760 A2 describes a photo-exposure process. Here toner particles are transmitted, which adhere to a magnetic element with a polymer support layer and a magnetic layer in regions where the magnetic layer is magnetized, to a substrate with a photosensitive layer located above and a transparent cover layer . After irradiation of the substrate with the photosensitive layer located above and the cover layer, the toner particles transmitted to the cover layer act as a mask. By irradiating the photosensitive layer the irradiated regions polymerize and remain on the substrate, after an extraction of the cover layer and a developing process.

El documento DE 43 39 010 A1 describe unas placas de impresión a las que puede transmitirse una imagen con un láser. Aquí se hacen patentes unas placas de impresión flexográficas y un procedimiento para su producción, a las que se transmite una imagen deseada mediante láser. Una fina película de polímero dopada con un absorbedor UV se lamina sobre una capa de fotopolímero. La película se funde desde el fotopolímero mediante la utilización de un láser, que trabaja con una longitud de onda seleccionada, en donde se genera un negativo in situ. El negativo resultante puede someterse a la exposición normal con luz de inundación UV y al revelado. Document DE 43 39 010 A1 describes printing plates to which an image can be transmitted with a laser. Here flexographic printing plates and a process for their production are made patent, to which a desired image is transmitted by laser. A thin polymer film doped with a UV absorber is laminated on a layer of photopolymer. The film is melted from the photopolymer through the use of a laser, which works with a selected wavelength, where a negative is generated in situ. The resulting negative can undergo normal exposure with UV flood light and development.

El documento DE 195 36 805 A1 describe un elemento de registro con varias capas, apropiado para la producción de placas de impresión flexográfica mediante transmisión de información digital. Aquí se disponen sobre un soporte dimensionalmente estable, unas sobre otras, una capa reticulable mediante radiación actínica dado el caso unida al soporte dimensionalmente estable mediante una capa adhesiva, una capa sensible a la radiación IR así como dado el caso una lámina cobertora extraíble. La capa reticulable mediante radiación actínica puede lavarse después de una exposición conforme a la imagen mediante un revelador y se compone fundamentalmente de una mezcla formada por un aglutinante elastomérico, compuestos orgánicos copolimerizables no saturados etilénicamente, un fotoiniciador o sistema fotoiniciador así como dado el caso otras sustancias auxiliares. La capa sensible a la radiación IR es una capa soluble o dispersable en el revelador, que contiene en un aglutinante que Document DE 195 36 805 A1 describes a multi-layered recording element, suitable for the production of flexographic printing plates by means of digital information transmission. Here, a crosslinkable layer by means of actinic radiation is disposed on a dimensionally stable support, on top of each other, if necessary attached to the dimensionally stable support by means of an adhesive layer, an IR radiation sensitive layer as well as, if necessary, a removable cover sheet. The crosslinkable layer by actinic radiation can be washed after an exposure according to the image by means of a developer and is mainly composed of a mixture formed by an elastomeric binder, copolymerizable organic compounds not ethylenically saturated, a photoinitiator or photoinitiator system as well as other cases auxiliary substances The IR radiation sensitive layer is a soluble or dispersible layer in the developer, which contains in a binder that

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forma una película con carácter elastomérico al menos una sustancia finamente distribuida, que tiene una elevada absorción en un margen de longitud de onda de entre 750 y 20.000 nm. Aquí son adecuados como revelador, tanto para la capa reticulable mediante radiación actínica como para la capa sensible a la radiación IR, agua o mezclas de alcohol/agua. an elastomeric film forms at least one finely distributed substance, which has a high absorption in a wavelength range between 750 and 20,000 nm. Here they are suitable as a developer, both for the layer crosslinkable by actinic radiation and for the layer sensitive to IR radiation, water or alcohol / water mixtures.

El documento DE 42 43 750 A1 describe un procedimiento para la producción de un molde de impresión para huecograbado, serigrafía, flexografía o impresión offset. Aquí un cilindro de impresión presenta una capa de fotopolímero y un recubrimiento sensible exterior, en donde la irradiación mediante un láser vaporiza el recubrimiento sensible exterior en regiones en las que incide un rayo láser mediante la acción del calor. En un siguiente paso de procedimiento se expone la capa de fotopolímero mediante otra fuente de radiación, que emite un haz con una mayor intensidad luminosa, atravesando la fotomáscara del recubrimiento. En las regiones translúcidas del recubrimiento el haz penetra en la capa de fotopolímero y produce allí una fotopolimerización. En un paso de procedimiento a continuación se extraen después mediante procesos de revelado o disolución conocidos el recubrimiento por completo y, en las regiones no expuestas, es decir no modificadas químicamente, la capa de fotopolímero, mientras que las regiones expuestas de la capa de fotopolímero, a causa de las características químicas modificadas mediante la exposición, no se extraen en este proceso de revelado o disolución, sino que permanecen sobre la superficie del cilindro. Document DE 42 43 750 A1 describes a process for the production of a printing mold for rotogravure, screen printing, flexography or offset printing. Here a printing cylinder has a photopolymer layer and an outer sensitive coating, where irradiation by a laser vaporizes the outer sensitive coating in regions where a laser beam affects by the action of heat. In a next procedure step, the photopolymer layer is exposed by another radiation source, which emits a beam with a higher light intensity, passing through the photomask of the coating. In the translucent regions of the coating the beam penetrates the photopolymer layer and produces a photopolymerization there. In a subsequent process step, the entire coating is then removed by known development or dissolution processes and, in the unexposed regions, that is to say not chemically modified, the photopolymer layer, while the exposed regions of the photopolymer layer , because of the chemical characteristics modified by exposure, they are not extracted in this development or dissolution process, but remain on the surface of the cylinder.

El documento EP 0 598 926 A1 describe un procedimiento y un dispositivo para la producción de moldes de impresión flexográfica. Aquí una plantilla de impresión se compone de un cilindro cubierto con una capa de fotoelastómero, en donde la capa de fotoelastómero se cubre con un modelo y a continuación se expone, para reticular mediante esta exposición las regiones no cubiertas por el modelo. Después de esto se lavan las regiones no expuestas de la capa de fotoelastómero. Para generar el modelo se aplica un líquido cobertor a la superficie de la capa de fotoelastómero, p.ej. con ayuda de unas toberas electrostáticas. EP 0 598 926 A1 describes a method and a device for the production of flexographic printing molds. Here a print template is composed of a cylinder covered with a photoelastomer layer, where the photoelastomer layer is covered with a model and then exposed, to cross-link through this exposure the regions not covered by the model. After this, the unexposed regions of the photoelastomer layer are washed. To generate the model, a liquid covering is applied to the surface of the photoelastomer layer, eg with the help of electrostatic nozzles.

El documento DE 40 23 586 A1 describe una masa de serigrafía sensible a la luz y su utilización. Aquí una masa de serigrafía sensible a la luz se compone de una mezcla formada por al menos un componente de resina de aglutinante fundamentalmente soluble en agua, un componente sensible del producto de condensación de una 4diazo-difenil amina con formaldehido y al menos un producto de condensación de la 4-diazo-difenil amina con un medio de condensación de la fórmula E(-CHRa-ORb)m y agua. Document DE 40 23 586 A1 describes a mass of light-sensitive screen printing and its use. Here a mass of light-sensitive screen printing consists of a mixture formed by at least one component of binder resin that is essentially water soluble, a sensitive component of the condensation product of a 4-diazo-diphenyl amine with formaldehyde and at least one product of condensation of 4-diazo diphenyl amine with a condensation medium of the formula E (-CHRa-ORb) and water.

Partiendo de aquí la invención se ha impuesto la tarea de proporcionar otro procedimiento para la producción de un molde de impresión, que pueda realizarse de forma sencilla y económica y con ello entregue unos moldes de impresión fieles al modelo. Starting from here the invention has set itself the task of providing another process for the production of a printing mold, which can be carried out in a simple and economical manner and thereby deliver printing molds faithful to the model.

Esta tarea es resuelta mediante el procedimiento según la reivindicación 1. En las reivindicaciones subordinadas se describen configuraciones y variantes ventajosas del procedimiento conforme a la invención. This task is solved by the method according to claim 1. Advantageous configurations and variants of the method according to the invention are described in the dependent claims.

Para la producción del molde de impresión se aplica por lo tanto, sobre una capa sensible a la radiación de una laca reticulable, una capa cobertora estanca a la radiación o a la luz. Mediante una estructuración a continuación de la capa cobertora, de forma correspondiente a un modelo, se configura una máscara de irradiación o exposición directamente sobre la capa sensible a la radiación. A continuación se realiza después, de la forma habitual, la exposición y el revelado de la capa sensible a la radiación. For the production of the printing mold, it is therefore applied, on a radiation sensitive layer of a crosslinkable lacquer, a radiation or light-tight cover layer. By means of a structuring after the covering layer, corresponding to a model, an irradiation or exposure mask is configured directly on the radiation sensitive layer. Subsequently, the exposure and development of the radiation sensitive layer is then carried out in the usual manner.

En el procedimiento conforme a la invención se configura por lo tanto la máscara de exposición, condicionado por el modelo, directamente sobre la capa a exponer, en donde en primer lugar la capa a exponer se cubre por completo con la capa cobertora, para estructura después la misma. A la hora de elegir el material de la capa cobertora sólo tienen que tenerse en cuenta por lo tanto las características de adhesión así como las características de absorción y reflexión de radiación. La capacidad de absorción y/o reflexión de la capa cobertora debe ajustarse con ello a la sensibilidad de radiación de la primera capa sensible a la radiación. Aunque es suficiente con que la capa cobertora bloquee por completo sólo la radiación utilizada para exponer la primera capa sensible a la radiación, es ventajoso que presente también en las regiones de radiación adyacentes una buena capacidad de absorción o reflexión. In the process according to the invention, the exposure mask is therefore configured, conditioned by the model, directly on the layer to be exposed, where firstly the layer to be exposed is completely covered with the cover layer, for structure afterwards the same. When choosing the material of the cover layer, only the adhesion characteristics as well as the radiation absorption and reflection characteristics have to be taken into account. The absorption and / or reflection capacity of the cover layer must therefore be adjusted to the radiation sensitivity of the first radiation sensitive layer. Although it is sufficient that the cover layer completely blocks only the radiation used to expose the first radiation sensitive layer, it is advantageous that a good absorption or reflection capacity is also present in adjacent radiation regions.

El procedimiento conforme a la invención puede usarse para la producción de tamices moldeados por galvanoplastia. Aquí se estampa después la primera capa sensible a la radiación, que está dispuesta sobre una superficie totalmente plana, conductora y en especial metálica, de forma correspondiente al tamiz a producir galvánicamente. The process according to the invention can be used for the production of electroplated sieves. Here the first radiation-sensitive layer is then stamped, which is arranged on a completely flat, conductive and especially metallic surface, corresponding to the sieve to be galvanically produced.

El procedimiento conforme a la invención puede simplificarse ulteriormente, si está previsto que la capa cobertora estructurada conforme al modelo, es decir la máscara de irradiación, se extraiga durante el revelado de la primera capa sensible a la radiación, en donde se usan medios mecánicos y/o químicos. De este modo se evita un paso de mecanización adicional, que complica innecesariamente el procedimiento, para una extracción separada de la capa cobertora después de la exposición. The process according to the invention can be further simplified, if it is provided that the structured cover layer according to the model, ie the irradiation mask, is removed during the development of the first radiation sensitive layer, where mechanical means are used and / or chemicals. This avoids an additional machining step, which unnecessarily complicates the procedure, for a separate extraction of the cover layer after exposure.

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Está previsto convenientemente en el procedimiento conforme a la invención que, condicionado por el modelo, para la estructuración de la capa cobertora las partes de la capa cobertora a extraer se desmonten directamente. It is conveniently provided in the process according to the invention that, conditioned by the model, for the structuring of the cover layer the parts of the cover layer to be removed are disassembled directly.

Para el desmontaje conforme al modelo de la capa cobertora se utiliza radiación láser. La radiación láser tiene la ventaja de que pueden configurarse y manipularse fácilmente, para desmontar la capa cobertora, unas manchas luminosas muy pequeñas con una elevada intensidad. Laser radiation is used for disassembly according to the model of the cover layer. The laser radiation has the advantage that very small light spots with a high intensity can be easily configured and manipulated to remove the cover layer.

Se obtiene un molde de impresión o molde de galvanización para tamices soporte especialmente fiel al modelo si está previsto que la irradiación conforme al modelo de la capa cobertora, respectivamente de la segunda capa sensible a la radiación, se realice punto por punto. Aquí puede reducirse claramente el tiempo para la primera exposición, es decir para la exposición de la segunda capa sensible a la radiación, si durante la irradiación punto por punto se irradian simultáneamente, conforme al modelo, varios puntos de máscara situados unos junto a otros mediante un número correspondiente de puntos de irradiación. A printing mold or galvanizing mold is obtained for support sieves especially faithful to the model if it is provided that irradiation according to the model of the cover layer, respectively of the second radiation sensitive layer, is performed point by point. Here, the time for the first exposure can be clearly reduced, that is to say for the exposure of the second radiation-sensitive layer, if, during the point-by-point irradiation, several mask points located next to each other are irradiated simultaneously according to the model. a corresponding number of irradiation points.

Se consiguen unas características de apantallamiento especialmente buenas si la capa cobertora contiene unas partículas absorbedoras/reflectoras de luz finas, en especial negro de carbono (black carbon) o partículas metálicas finas, pigmentos y/o productos químicos absorbedores de radiación. Especially good shielding characteristics are achieved if the cover layer contains fine light absorbing / reflecting particles, especially carbon black (black carbon) or fine metal particles, pigments and / or radiation absorbing chemicals.

Las partículas absorbedoras o reflectoras de luz finas están suspendidas conforme a la invención en gelatina o alcohol polivinílico. The fine light absorbing or reflecting particles are suspended according to the invention in gelatin or polyvinyl alcohol.

Si se pretende que la capa cobertora contenga como medios absorbedores y reflectores de luz unas partículas metálicas finas, es conveniente que la suspensión de partículas metálicas finas en gelatina se produzca mediante reducción de sales metálicas disueltas en gelatina, en especial halogenuros de plata. De este modo se mejora claramente la seguridad de trabajo en el procedimiento conforme a la invención, ya que las partículas metálicas muy finas se inflaman fácilmente y son altamente explosivas. If the cover layer is intended to contain fine metal particles as absorber and light reflectors, it is convenient that the suspension of fine metal particles in gelatin is produced by reduction of metal salts dissolved in gelatin, especially silver halides. In this way, the safety of work in the process according to the invention is clearly improved, since the very fine metal particles easily ignite and are highly explosive.

La capa cobertora puede aplicarse de forma especialmente sencilla con un procedimiento de recubrimiento por inmersión, en especial si la capa cobertora deseada debe tener un grosor de entre 1 μm y 20 μm, de forma preferida entre 7 μm y 14 μm, en especial de 10 μm. The cover layer can be applied in a particularly simple way with a dip coating process, especially if the desired cover layer must be between 1 μm and 20 μm thick, preferably between 7 μm and 14 μm, especially 10 μm.

En la producción de plantillas de serigrafía o matrices para la producción galvánica de tamices soporte es conveniente que la primera capa sensible a la radiación sea una capa de laca fotosensible, que de forma preferida se aplica al soporte con un procedimiento de recubrimiento por inmersión. Con ello pueden usarse convenientemente tanto lacas fotosensibles sobre la base de gelatina o alcohol polivinílico como lacas fotosensibles sobre base de resina artificial. Para impedir una formación de grietas durante el secado o el endurecimiento de las lacas fotosensibles o durante el uso posterior del molde de impresión acabado, está previsto conforme a la invención que a la capa de laca fotosensible se añadan sustancias para aumentar su elasticidad. En especial si se utilizan lacas fotosensibles sobre gelatina o alcohol polivinílico pueden añadirse a la laca fotosensible unos plastificantes, p.ej. glicerin o glicol. In the production of screen printing templates or matrices for the galvanic production of support sieves it is convenient that the first radiation-sensitive layer is a photosensitive lacquer layer, which is preferably applied to the support with an immersion coating procedure. Thus, both photosensitive lacquers based on gelatin or polyvinyl alcohol and photosensitive lacquers based on artificial resin can be conveniently used. To prevent the formation of cracks during drying or hardening of the photosensitive lacquers or during the subsequent use of the finished printing mold, it is provided according to the invention that substances are added to the photosensitive lacquer layer to increase its elasticity. Especially if photosensitive lacquers on gelatin or polyvinyl alcohol are used, plasticizers, eg glycerin or glycol, can be added to the photosensitive lacquer.

Para plantillas de serigrafía planas o lisas es conveniente que el soporte esté formado con un tejido textil, en especial con un tejido de gasa de seda, que esté reforzado mediante una precipitación química y/o galvánica. Mediante la precipitación metálica no sólo se refuerza mecánicamente el tejido especialmente fino, sino que también se mejora su capacidad de reflexión para radiación, de tal manera que el tejido de tamiz durante el desmontaje de la capa cobertora y la exposición de la primera capa sensible a la radiación no resulte dañado, si la radiación utilizada respectivamente para ello se ha dopado algo excesivamente. For flat or smooth screen printing templates it is convenient that the support is formed with a textile fabric, especially with a silk gauze fabric, which is reinforced by chemical and / or galvanic precipitation. By means of metallic precipitation, not only the especially fine tissue is mechanically reinforced, but also its reflection capacity for radiation is improved, such that the sieve tissue during the dismantling of the cover layer and the exposure of the first sensitive layer to the radiation is not damaged, if the radiation used for this purpose has been doped excessively.

A continuación se explica con más detalle la invención, a modo de ejemplo, con base en el dibujo. Aquí muestran: The invention will be explained in more detail below, by way of example, based on the drawing. Here they show:

la fig. 1 un corte longitudinal paralelo al eje a través de una pieza en bruto cilíndrica para la producción de un molde de impresión, conforme a un ejemplo general para un mejor entendimiento de la invención, fig. 1 a longitudinal section parallel to the axis through a cylindrical blank for the production of a printing mold, according to a general example for a better understanding of the invention,

la fig. 2 una representación en corte de forma correspondiente a la fig. 1 de la pieza en bruto, después de una primera exposición y revelado, fig. 2 a representation in section corresponding to fig. 1 of the blank, after a first exposure and development,

la fig. 3 una representación en corte de la pieza en bruto según la fig. 2, durante una segunda exposición, fig. 3 a sectional representation of the blank according to fig. 2, during a second exposure,

la fig. 4 una representación en corte del molde de impresión cilíndrico acabado, después del último revelado, fig. 4 a cut representation of the finished cylindrical print mold, after the last development,

la fig. 5 un dispositivo para la exposición conforme al modelo de una pieza en bruto para un molde de impresión, fig. 5 a device for exposure according to the model of a blank for a printing mold,

la fig. 6 un dispositivo para el revelado de la pieza en bruto después de la primera exposición, fig. 6 a device for developing the blank after the first exposure,

la fig. 7 un dispositivo para la exposición de gran superficie de la pieza en bruto, fig. 7 a device for exposing the large area of the blank,

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la fig. 8 un dispositivo para el revelado de la pieza en bruto después de la exposición de gran superficie, fig. 8 a device for developing the blank after large area exposure,

la fig. 9 un corte longitudinal paralelo al eje a través de una pieza en bruto cilíndrica para la producción de una plantilla de serigrafía, conforme a un ejemplo de realización de la invención, fig. 9 a longitudinal section parallel to the axis through a cylindrical blank for the production of a screen printing template, according to an embodiment of the invention,

la fig. 10 una representación en corte aumentada del tamiz recubierto de la fig. 1, fig. 10 an enlarged representation of the coated sieve of fig. one,

la fig. 11 una representación en corte aumentada de un tamiz con otro recubrimiento, fig. 11 an enlarged representation of a sieve with another coating,

la fig. 12 una representación del tamiz conforme a la fig. 2, durante el desmontaje de la capa cobertora para estructurar una máscara de irradiación, fig. 12 a representation of the screen according to fig. 2, during disassembly of the cover layer to structure an irradiation mask,

la fig. 13 una representación en corte de la pieza en bruto según la fig. 9 durante una irradiación, fig. 13 a representation in section of the blank according to fig. 9 during irradiation,

la fig. 14 una representación en corte aumentada del tamiz acabado después del revelado, fig. 14 an enlarged representation of the finished sieve after development,

la fig. 15 un dispositivo para el desmontaje conforme al molde de la capa cobertora sobre una pieza en bruto cilíndrica, fig. 15 a device for disassembly according to the mold of the cover layer on a cylindrical blank,

la fig. 16 un dispositivo para la exposición de gran superficie de la pieza en bruto y fig. 16 a device for exposing the large area of the blank and

la fig. 17 un dispositivo para el revelado de la pieza en bruto después de la irradiación. fig. 17 a device for developing the blank after irradiation.

En las diferentes figuras del dibujo las piezas mutuamente correspondientes se han dotado de los mismos símbolos de referencia. In the different figures of the drawing the mutually corresponding pieces have the same reference symbols.

Una pieza en bruto mostrada en la fig. 1 para un molde de impresión, que se designa a continuación como molde de impresión 18 con independencia de la fase de producción, para una mayor sencillez, presenta un tubo soporte 1 en cuyos lados frontales están soldadas o pegadas unas placas cobertoras 2 y unas manguetas axiales 3. Las manguetas axiales 3 se usan con ello para el empotramiento posterior del molde de impresión 18 sobre una máquina de impresión. A blank shown in fig. 1 for a printing mold, which is then referred to as printing mold 18 regardless of the production phase, for simplicity, it has a support tube 1 on whose front sides two cover plates 2 and sleeves are welded or glued axial 3. The axial hoses 3 are used with it for the subsequent embedding of the printing mold 18 on a printing machine.

Al tubo soporte 1 se ha aplicado una primera capa sensible a la radiación, en especial una capa de fotopolímero, de forma preferida una capa de fotoelastómero 4 con un grosor preferiblemente de entre 2 y 5 mm. En general esta capa de fotoelastómero 4 está estructurada con una placa de fotoelastómero, p.ej. Nyloprint, que se arrolla alrededor del tubo soporte 1. El fotoelastómero de esta placa presenta al principio sólo un bajo grado de polimerización y por ello puede deformarse tanto elástica como plásticamente y se pega, en el caso de producirse calor, al tubo soporte 1 y en el punto de empalme a ella misma con temperaturas de unos 120ºC. Aquí todavía no se produce ninguna reacción de reticulado, de tal modo que no se limita la sensibilidad a la radiación o a la luz de la capa de fotoelastómero 4 aplicada al tubo soporte 1. To the support tube 1 a first radiation-sensitive layer has been applied, especially a photopolymer layer, preferably a photoelastomer layer 4 with a thickness preferably between 2 and 5 mm. In general, this photoelastomer layer 4 is structured with a photoelastomer plate, eg Nyloprint, which is wound around the support tube 1. The photoelastomer of this plate initially has only a low degree of polymerization and therefore can be deformed so much elastic as plastically and sticks, in the case of heat, to the support tube 1 and at the point of connection to itself with temperatures of about 120 ° C. There is still no crosslinking reaction here, so that the sensitivity to radiation or light of the photoelastomer layer 4 applied to the support tube 1 is not limited.

En lugar de la capa de fotoelastómero 4 relativamente gruesa con 2 a 5 mm, como la que se usa para moldes de impresión flexográfica, puede preverse también como primera capa sensible a la radiación por ejemplo una fina capa de laca fotosensible, etc., si se pretende producir un molde de serigrafía con el procedimiento conforme a la invención. Con ello debe preverse entonces, en lugar del tubo soporte 1, un cilindro de tamiz correspondiente. Instead of the relatively thick 2 to 5 mm photoelastomer layer 4, such as that used for flexographic printing molds, a thin layer of photosensitive lacquer, etc., can also be provided as a first radiation-sensitive layer, for example. It is intended to produce a screen printing mold with the method according to the invention. Thus, instead of the support tube 1, a corresponding sieve cylinder must be provided.

A la capa de fotoelastómero 4 se aplica a continuación una capa cobertora 5, p.ej. mediante recubrimiento por inmersión. Con ello se aplica por ejemplo una solución acuosa de gelatina o alcohol polivinílico, a la que se añade aprox. un 10% en peso de negro de carbono (black carbon). Sin embargo, también puede utilizarse una gelatina en la que estén suspendidas unas partículas metálicas muy finas. Debido a que las partículas metálicas así de pequeñas son altamente explosivas, la suspensión puede producirse mediante una reducción de partículas metálicas disueltas en gelatina, p.ej. halogenuros de plata. La gelatina que rodea las partículas metálicas muy finas generadas de esta manera impide después su oxidación y con ello una explosión. A cover layer 5 is then applied to the photoelastomer layer 4, eg by immersion coating. This applies, for example, an aqueous solution of gelatin or polyvinyl alcohol, to which approx. 10% by weight of carbon black (black carbon). However, a jelly can also be used in which very fine metal particles are suspended. Because such small metal particles are highly explosive, the suspension can be produced by a reduction of metal particles dissolved in gelatin, eg silver halides. The gelatin that surrounds the very fine metallic particles generated in this way then prevents their oxidation and thereby an explosion.

Durante el recubrimiento por inmersión para aplicar la capa cobertora 5 se arrastra desde arriba hacia abajo un rascador anular (no representado), sobre el molde de impresión 18 dispuesto con eje perpendicular, en donde la solución de gelatina que se ha calentado se encuentra en la cámara anular entre el rascador anular y la capa de fotopolímero 4 y, durante el movimiento descendente, permanece adherida como película fina sobre la superficie de la capa de fotopolímero 4. El grosor de esta película puede variarse mediante la temperatura de la solución de gelatina, mediante el porcentaje de sustancias sólidas, es decir mediante la proporción de negro de carbono o partículas metálicas en la solución de gelatina, la intensidad de una refrigeración que se produce dado el caso simultáneamente mediante una corriente de aire frío y la velocidad del movimiento descendente. During the immersion coating to apply the cover layer 5 an annular scraper (not shown) is dragged from the top down, on the printing mold 18 arranged with perpendicular axis, where the gelatin solution that has been heated is in the annular chamber between the annular scraper and the photopolymer layer 4 and, during the downward movement, remains adhered as a thin film on the surface of the photopolymer layer 4. The thickness of this film can be varied by the temperature of the gelatin solution, by means of the percentage of solid substances, that is to say by the proportion of carbon black or metal particles in the gelatin solution, the intensity of a refrigeration that occurs simultaneously if necessary by means of a cold air current and the speed of the downward movement.

Durante el enfriamiento de la película de gelatina o alcohol polivinílico, que se produce rápidamente, ésta se rigidiza y se libera de su proporción de agua en un subsiguiente proceso de secado intermedio. Mediante la adición During cooling of the rapidly produced gelatin or polyvinyl alcohol film, it is stiffened and released from its proportion of water in a subsequent intermediate drying process. By adding

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de proporciones reducidas de plastificadores, p.ej. glicerina o glicol, la película de gelatina o alcohol polivinílico puede mantenerse elástica incluso después del secado, hasta un punto tal que se impiden formaciones de grietas en la capa que se seca, es decir en la capa cobertora 5 que se forma. Siempre que sea necesario puede realizarse también un curtido de la capa cobertora 5 mediante pulverización con formaldehido o solución aluminosa. Sin embargo, aquí hay que tener en cuenta que la capa cobertora 5 puede extraerse más fácil o rápidamente en un paso de procedimiento posterior, si la gelatina o el alcohol polivinílico no se curte. With reduced proportions of plasticizers, eg glycerin or glycol, the gelatin or polyvinyl alcohol film can remain elastic even after drying, to such an extent that crack formation is prevented in the drying layer, i.e. 5 covering layer that forms. Whenever necessary, a tanning of the cover layer 5 can also be carried out by spraying with formaldehyde or aluminum solution. However, it should be borne in mind here that the cover layer 5 can be removed more easily or quickly in a subsequent procedure step, if the gelatin or polyvinyl alcohol does not tan.

Después de la configuración de la capa cobertora 5 se aplica como tercer paso una segunda capa sensible a la radiación, en especial una capa fotosensible, de forma preferida una capa de laca fotosensible 6. Como laca fotosensible para la capa de laca fotosensible 6 puede utilizarse con ello una laca fotosensible endurecible bajo la luz o descomponible mediante la luz. La aplicación de la capa de laca fotosensible 6 se realiza con ello convenientemente también en un procedimiento de recubrimiento por inmersión. La laca fotosensible para la capa de laca fotosensible 6 se presenta casi siempre en una solución alcohólica o quetónica. Estos disolventes no remojan una capa de gelatina. Sin embargo, también pueden utilizarse emulsiones acuosas de lacas fotosensibles, si después del contacto de la capa cobertora 5 con la emulsión de laca fotosensible, hasta el secado realizado de la capa de laca fotosensible 6, se evita cualquier otro contacto de la superficie de molde de impresión recubierta. After the configuration of the cover layer 5, a second radiation sensitive layer is applied as a third step, especially a photosensitive layer, preferably a photosensitive lacquer layer 6. As a photosensitive lacquer for the photosensitive lacquer layer 6, it can be used with it a photosensitive lacquer hardenable under light or decomposable by light. The application of the photosensitive lacquer layer 6 is conveniently carried out also in a dipping coating process. The photosensitive lacquer for the photosensitive lacquer layer 6 is almost always presented in an alcoholic or ketonic solution. These solvents do not soak a layer of gelatin. However, aqueous emulsions of photosensitive lacquers can also be used, if after contact of the coating layer 5 with the photosensitive lacquer emulsion, until the drying of the photosensitive lacquer layer 6, any other contact of the mold surface is avoided Coated printing.

Después del secado de la capa de laca fotosensible 6 se irradia ésta de forma correspondiente a un modelo a imprimir posteriormente con el molde de impresión 18. Para esto se utiliza una radiación para la que es sensible la segunda capa sensible a la radiación. En el caso de la capa de laca fotosensible 6 aquí descrita la irradiación se realiza por lo tanto con ayuda de un rayo de luz, en especial con ayuda de un rayo láser. Según la laca fotosensible utilizada puede utilizarse como luz para la exposición de la capa de laca fotosensible 6 una luz ultravioleta o visible. Es por ejemplo posible realizar la exposición de la capa de laca fotosensible 6 con ayuda de un láser, cuya luz esté situada en el margen azul o verde UV, en especial con ayuda de un láser de iones de argón, cuya longitud de onda esté situada con 488 nm en el margen azul visible. After drying of the photosensitive lacquer layer 6, it is irradiated correspondingly to a model to be printed later with the printing mold 18. For this a radiation is used for which the second radiation sensitive layer is sensitive. In the case of the photosensitive lacquer layer 6 described herein, the irradiation is therefore carried out with the aid of a light beam, especially with the aid of a laser beam. Depending on the photosensitive lacquer used, an ultraviolet or visible light can be used as a light for the exposure of the photosensitive lacquer layer 6. For example, it is possible to expose the photosensitive lacquer layer 6 with the help of a laser, whose light is located in the blue or UV green margin, especially with the help of an argon ion laser, whose wavelength is located with 488 nm in the visible blue margin.

Una ventaja de la exposición con la citada longitud de onda es que casi no se produce un pre-reticulado de la capa de fotoelastómero 4 situada debajo de la capa de laca fotosensible 6, ya que para un reticulado de esta capa de fotoelastómero 4 se requiere luz con una mayor energía cuántica y de este modo una longitud de onda más corta, es decir luz en el margen espectral ultravioleta. Para poder absorber muy bien la radiación láser utilizada puede ser necesario, en el caso de unas composiciones determinadas de la capa cobertora, que se añada un pigmento adicional. An advantage of the exposure with said wavelength is that there is almost no pre-crosslinking of the photoelastomer layer 4 located below the photosensitive lacquer layer 6, since a crosslink of this photoelastomer layer 4 is required light with greater quantum energy and thus a shorter wavelength, ie light in the ultraviolet spectral range. In order to absorb the laser radiation used very well, it may be necessary, in the case of certain compositions of the cover layer, to add an additional pigment.

El rayo láser 7 se enfoca hacia su punto de incidencia sobre la capa de laca fotosensible 6 del molde de impresión 18 mediante una disposición de lente o una óptica láser 22, con un diámetro de haz de aprox. 20 a 30 μm. La exposición se realiza de forma correspondiente al modelo a imprimir, es decir, el rayo láser 7 se interrumpe mediante una disposición correspondiente con función de blenda en los puntos que no deben exponerse. Por ejemplo puede usarse un interruptor 14 acústico-óptico o electro-óptico para la interrupción del rayo láser 7. En este método del control óptico del rayo láser 7 pueden exponerse por segundo unos 106 puntos de modelo. The laser beam 7 is focused towards its point of incidence on the photosensitive lacquer layer 6 of the printing mold 18 by means of a lens arrangement or a laser optic 22, with a beam diameter of approx. 20 to 30 μm. The exposure is carried out in a manner corresponding to the model to be printed, that is, the laser beam 7 is interrupted by a corresponding arrangement with a full function at the points that should not be exposed. For example, an acoustic-optical or electro-optical switch 14 may be used for the interruption of the laser beam 7. In this method of the optical control of the laser beam 7 about 106 model points can be exposed per second.

Después de la exposición se revela la capa de laca fotosensible 6. En este primer revelado se lava la laca fotosensible no expuesta y de este modo no reticulada en el caso de que se haya utilizado una laca fotosensible endurecible bajo la luz, es decir una laca negativa, para la capa de laca fotosensible 6. Esto se produce habitualmente con un revelador ajustado a la laca fotosensible utilizada. De forma conveniente puede utilizarse un revelador alcalino con aprox. un 20% de carbonato de sodio y dado el caso proporciones reducidas de sosa o potasa cáustica. Durante este revelado, después del lavado de la capa de laca fotosensible no reticulada, también se disuelve y desmonta mediante el revelador alcalino la capa cobertora 5 después ya no cubierta. Las partes de la capa cobertora 5 que tienen que extraerse para su estructuración de forma correspondiente al modelo a imprimir, también se extraen por lo tanto durante el revelado de la capa de laca fotosensible 6. Las partes de la capa de laca fotosensible 6 no desmontadas durante el revelado protegen de esta forma las partes de la capa cobertora 5 que no deben desmontarse y, de esta manera, se usan como máscara de estructuración 6’ para la capa cobertora 5. After exposure, the photosensitive lacquer layer 6 is revealed. In this first development the unexposed photosensitive lacquer is washed and thus not crosslinked in the event that a light-curable photosensitive lacquer has been used, ie a lacquer negative, for the photosensitive lacquer layer 6. This usually occurs with a developer adjusted to the photosensitive lacquer used. Conveniently an alkaline developer with approx. 20% sodium carbonate and, if necessary, reduced proportions of caustic soda or potash. During this development, after washing the non-crosslinked photosensitive lacquer layer, the cover layer 5 is also dissolved and dismantled after it is no longer covered. The parts of the cover layer 5 that have to be removed for structuring in a manner corresponding to the model to be printed, are therefore also removed during the development of the photosensitive lacquer layer 6. The parts of the photosensitive lacquer layer 6 not disassembled during development, they thus protect the parts of the cover layer 5 that should not be disassembled and, thus, are used as a structuring mask 6 'for the cover layer 5.

A la hora de utilizar lacas fotosensibles que se endurecen bajo la luz, que no se tratan con baños de revelado alcalinos, es necesario extraer la capa cobertora 5 cuando es una capa de gelatina, después del revelado de la laca fotosensible con una solución escasamente alcalina, p.ej. una solución de carbonato de sodio, en los puntos que ya no están cubiertos por la capa de laca fotosensible 6. Con ello la laca fotosensible cobertora y endurecida bajo la luz de la capa de laca 6 tiene que presentar naturalmente una resistencia suficiente a la solución alcalina. When using photosensitive lacquers that harden under light, which are not treated with alkaline developer baths, it is necessary to remove the cover layer 5 when it is a gelatin layer, after developing the photosensitive lacquer with a sparsely alkaline solution , eg a solution of sodium carbonate, at the points that are no longer covered by the photosensitive lacquer layer 6. Thus the photosensitive lacquer coated and hardened under the light of the lacquer layer 6 must naturally have a sufficient resistance to alkaline solution.

Como resultado de este proceso de formación de modelo se obtiene el molde de impresión 18 representado en la fig. 2, en el que la primera capa sensible a la radiación, es decir, en el ejemplo de realización la capa de fotoelastómero 4, está cubierta por una máscara de irradiación 5’ y, de esta forma, presenta conforme al modelo unos puntos dejados al descubierto 8, a través de los cuales puede realizarse la exposición de la capa de fotoelastómero 4. Como se ha representado en la fig. 3, la exposición de la capa de fotoelastómero 4 se realiza con As a result of this model formation process, the printing mold 18 shown in fig. 2, in which the first radiation-sensitive layer, that is, in the exemplary embodiment, the photoelastomer layer 4, is covered by an irradiation mask 5 'and, in this way, presents, according to the model, points left to the discovered 8, through which the exposure of the photoelastomer layer 4 can be performed. As shown in fig. 3, the exposure of the photoelastomer layer 4 is performed with

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gran superficie durante varios minutos con una banda de luz 10 generada por una lámpara 9, en especial una lámpara de xenón. En lugar de la lámpara de xenón puede usarse también una lámpara de vapor metal-halógena. Las lámparas de vapor metal-halógenas son con ello ventajosas en cuanto a equilibrio energético, ya que emiten luz sólo en el margen de sensibilidad máxima de los fotopolímeros habituales y casi no emiten radiación térmica, de tal manera que la superficie del molde de impresión 18 no se calienta excesivamente. large area for several minutes with a band of light 10 generated by a lamp 9, especially a xenon lamp. A metal-halogen vapor lamp can also be used instead of the xenon lamp. Metal-halogen vapor lamps are thus advantageous in terms of energy balance, since they emit light only in the maximum sensitivity range of the usual photopolymers and hardly emit thermal radiation, such that the surface of the printing mold 18 It does not overheat.

Los puntos expuestos de la capa de fotoelastómero 4 se reticulan de forma profunda y permanente en el caso de un tiempo de exposición correspondiente largo. Aquí es conveniente exponer la capa de fotoelastómero 4 con la lámpara 9 sólo hasta que el paso al siguiente proceso de revelado en los puntos expuestos 8 es precisamente suficiente, es decir, que los puntos reticulados pueden resistir precisamente lo suficiente la corrosión química y mecánica durante el revelado. Esto tiene la ventaja de que las regiones de la capa de fotoelastómero 4 cubiertas por la capa cobertora 5 permanecen sin reticular, incluso si la cubierta estanca a la luz UV mediante la capa cobertora 5 es posiblemente incompleta, si por lo tanto una pequeña parte de la luz UV que incide en la capa cobertora 5 ha podido penetrar a través de la capa cobertora 5. The exposed points of the photoelastomer layer 4 are deeply and permanently crosslinked in the case of a corresponding long exposure time. Here it is convenient to expose the photoelastomer layer 4 with the lamp 9 only until the step to the next development process at the exposed points 8 is precisely sufficient, that is, that the crosslinked points can precisely resist chemical and mechanical corrosion sufficiently during The revealed. This has the advantage that the regions of the photoelastomer layer 4 covered by the cover layer 5 remain uncrosslinked, even if the UV-sealed cover by the cover layer 5 is possibly incomplete, if therefore a small part of The UV light that affects the cover layer 5 has been able to penetrate through the cover layer 5.

Después de la exposición de la capa de fotoelastómero 4 representada en la fig. 3 se revela el molde de impresión 18, respectivamente la capa de fotoelastómero 4, para obtener el molde de impresión 18 acabado representado en la fig. 4. Para esto se lleva el molde de impresión a un baño de revelado con un revelador a su vez alcalino. Este es ahora tan alcalino que la capa de laca fotosensible 6 relativamente fina, que tiene por ejemplo un grosor de 10 μm, dicho más exactamente las regiones de esta capa de laca fotosensible 6 todavía presentes y endurecidas conforme al modelo, a pesar de su reticulado se corroen y desmontan. Con ello se extrae también la máscara de irradiación 5’ compuesta de gelatina o cera. Incluso si estas dos capas no se corroen mediante el revelador usado para revelar el fotopolímero de la capa de fotopolímero 4, los esfuerzos mecánicos ejercidos durante el proceso de revelado sobre la capa cobertora 5 y la capa de laca fotosensible 6 son tan grandes, que las dos capas relativamente finas pueden desmontarse mecánicamente con mucha rapidez. Después del desmontaje completo de la capa de laca fotosensible 6 y de la máscara de irradiación 5’, el revelador tiene acceso libre a los puntos de la capa de fotoelastómero 4 no expuestos o en todo caso sólo expuestos débilmente y comienza a desmontar el fotopolímero. El revelador químico es apoyado por un cepillado mecánico intenso de la capa de fotoelastómero 4 a revelar en el baño de revelado. After exposure of the photoelastomer layer 4 shown in fig. 3 the printing mold 18, respectively the photoelastomer layer 4, is revealed to obtain the finished printing mold 18 shown in fig. 4. For this the printing mold is taken to a developer bath with an alkaline developer. This is now so alkaline that the relatively thin photosensitive lacquer layer 6, which has for example a thickness of 10 μm, said more precisely the regions of this photosensitive lacquer layer 6 still present and hardened according to the model, despite its cross-linking They corrode and disassemble. This also removes the 5 ’irradiation mask composed of gelatin or wax. Even if these two layers are not corroded by the developer used to reveal the photopolymer of the photopolymer layer 4, the mechanical stresses exerted during the development process on the cover layer 5 and the photosensitive lacquer layer 6 are so large that Two relatively thin layers can be mechanically removed very quickly. After complete disassembly of the photosensitive lacquer layer 6 and the irradiation mask 5 ’, the developer has free access to the points of the unexposed photoelastomer layer 4 or in any case only weakly exposed and begins to disassemble the photopolymer. The chemical developer is supported by an intense mechanical brushing of the photoelastomer layer 4 to be developed in the developer bath.

En el molde de impresión acabado 18 representado en la fig. 4, después del revelado, los puntos elevados 11 se corresponden con las regiones de la capa de fotopolímero 4 reticulados mediante la acción de la luz. In the finished printing mold 18 shown in fig. 4, after development, the raised points 11 correspond to the regions of the cross-linked photopolymer layer 4 by the action of light.

El procedimiento para la producción de moldes de impresión cilíndricos, en especial en la producción de moldes de impresión flexográfica cilíndricos, se lleva a cabo convenientemente con instalaciones de exposición y revelado como las que se describen a continuación. The process for the production of cylindrical printing molds, especially in the production of cylindrical flexographic printing molds, is conveniently carried out with exposure and developing facilities such as those described below.

Aunque la exposición de la segunda capa sensible a la radiación, es decir de la capa de laca fotosensible 6, puede realizarse de cualquier forma conocida con cualquier fuente de radiación o luz ajustada a la sensibilidad de la capa de laca fotosensible 6, esta exposición se lleva a cabo de forma preferida con un dispositivo de exposición 12, como el que se muestra en la figura 5. El dispositivo de exposición 12 presenta un láser 13, en especial un láser de iones de argón que emite el rayo láser 7. El rayo láser 7 posee con ello un diámetro de aproximadamente 1 a 3 mm y un ángulo de divergencia muy pequeño. Sobre un carro 16, que puede trasladarse lentamente en la dirección del eje 17 del molde de impresión 18, está montado un espejo de desviación 19, que dirige el rayo láser 7 sobre la superficie cilíndrica del molde de impresión 18, es decir sobre la capa de laca fotosensible 6 tendida cilíndricamente. Delante del punto de incidencia del rayo láser 7 sobre el molde de impresión 18 está prevista una disposición de lente o una óptica láser 22, que enfoca el rayo láser 7 en la región del punto de incidencia con un diámetro de aprox. 30 μm. Aunque el molde de impresión 18 es prácticamente redondo, en algunos moldes de impresión puede producirse ocasionalmente un error de marcha concéntrica de aprox. 0,1 mm. La óptica láser 22 se realiza convenientemente con una distancia focal de aprox. 50 a 150 mm. En el caso de un láser 13 con un ángulo de divergencia de haz reducido el diámetro de la cintura de haz en la región del foco, en el caso de una desviación de marcha concéntrica del molde de impresión 18 de 0,1 mm, varía un máximo del 1%, de tal manera que puede prescindirse de un seguimiento o de una post-regulación de la óptica láser 22. Although the exposure of the second radiation-sensitive layer, that is to say of the photosensitive lacquer layer 6, can be performed in any known manner with any radiation source or light adjusted to the sensitivity of the photosensitive lacquer layer 6, this exposure is preferably carried out with an exposure device 12, such as the one shown in Figure 5. The exposure device 12 has a laser 13, especially an argon ion laser emitting the laser beam 7. The beam laser 7 thus has a diameter of approximately 1 to 3 mm and a very small divergence angle. On a carriage 16, which can move slowly in the direction of the axis 17 of the printing mold 18, a deflection mirror 19 is mounted, which directs the laser beam 7 on the cylindrical surface of the printing mold 18, that is on the layer of photosensitive lacquer 6 laid cylindrically. In front of the point of incidence of the laser beam 7 on the printing mold 18 there is provided a lens arrangement or a laser optic 22, which focuses the laser beam 7 in the region of the incident point with a diameter of approx. 30 μm Although the printing mold 18 is practically round, some concentric printing errors of approx. 0.1 mm Laser optics 22 is conveniently performed with a focal length of approx. 50 to 150 mm In the case of a laser 13 with a reduced beam divergence angle the diameter of the beam waist in the focus region, in the case of a concentric gait of the printing mold 18 of 0.1 mm, a 1% maximum, so that follow-up or post-regulation of laser optics 22 can be dispensed with.

Durante la exposición de la capa de laca fotosensible 6 conforme al modelo el molde de impresión 18 rota con una velocidad uniforme, de tal manera que la mancha luminosa sobre la capa de laca fotosensible 6, es decir sobre la superficie del molde de impresión 18, describe una línea helicoidal. El movimiento de rotación se transmite con ello al molde de impresión 18 desde un accionamiento alojado en un cabezal de husillo 21, al que está unida la mangueta axial izquierda 3 a través de un mandril de sujeción 23. La mangueta axial derecha 3 del molde de impresión 18 se sujeta con ello mediante un cabezal móvil 24. Por debajo del molde de impresión 18 se encuentra el lecho 25 del dispositivo de exposición 12, que une el cabezal de husillo 21 al cabezal móvil 24, de forma similar a en un banco giratorio. El lecho 25 del dispositivo de exposición 12 conduce con ello el carro 16 durante su movimiento en paralelo al eje 17 del molde de impresión 18. During exposure of the photosensitive lacquer layer 6 according to the model the printing mold 18 rotates with a uniform speed, such that the light spot on the photosensitive lacquer layer 6, that is on the surface of the printing mold 18, describes a helical line. The rotational movement is thus transmitted to the printing mold 18 from an drive housed in a spindle head 21, to which the left axial sleeve 3 is attached through a clamping mandrel 23. The right axial sleeve 3 of the mold print 18 is thus secured by a moving head 24. Below the print mold 18 is the bed 25 of the exposure device 12, which joins the spindle head 21 to the moving head 24, similar to a rotating bench . The bed 25 of the exposure device 12 thus drives the carriage 16 during its movement in parallel to the axis 17 of the printing mold 18.

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Un cono de apoyo 26 sobre el cabezal móvil 24 engrana en el extremo hueco de la mangueta axial derecha 3 y puede ajustarse en fino a diferentes longitudes de molde de impresión mediante un volante 27 sobre el cabezal móvil. Puede realizarse un ajuste grueso adicional mediante el desplazamiento del cabezal móvil 24 en la dirección del eje 17 del molde de impresión 18 sobre el lecho 25. Sobre el cabezal de husillo 21 puede reconocerse además un panel de mando 28. Un interruptor principal 29 se usa para la conexión eléctrica a la red o para la desconexión de la misma. Para el ajuste cómodo de diferentes parámetros de diferentes parámetros de trabajo necesarios como número de revoluciones de la máquina, resolución del modelo, etc. está previsto un teclado de introducción de datos en un cajón extraíble 30. Los datos de entrada, el progreso del trabajo y dado el caso los avisos de avería se emiten a través de un monitor 31. Sobre el monitor 31 puede representarse también el modelo respectivamente a tratar. Para la vigilancia los datos de funcionamiento muy importantes se indican además correlativamente sobre unos instrumentos 32. La fila de interruptores 33 contiene un pulsador de parada de emergencia, pulsadores para la conexión y desconexión del monitor 31 y pulsadores para el desplazamiento controlado manualmente del carro 16 durante la fase de instalación. A bearing cone 26 on the movable head 24 meshes at the hollow end of the right axial sleeve 3 and can be fine-tuned to different lengths of printing mold by means of a handwheel 27 on the movable head. An additional coarse adjustment can be made by moving the moving head 24 in the direction of the axis 17 of the printing mold 18 on the bed 25. A control panel 28 can also be recognized on the spindle head 21. A main switch 29 is used for the electrical connection to the network or for the disconnection of it. For the comfortable setting of different parameters of different working parameters necessary such as machine speed, model resolution, etc. a data entry keypad is provided in a removable drawer 30. The input data, the progress of the work and, if necessary, the fault messages are issued via a monitor 31. The model 31 can also be represented on the monitor 31, respectively. to treat For monitoring, very important operating data are also indicated in a correlative manner on instruments 32. The row of switches 33 contains an emergency stop button, buttons for connection and disconnection of the monitor 31 and buttons for manually controlled movement of the carriage 16 during the installation phase.

El dispositivo de exposición 12 aquí descrito está adaptado a un molde de impresión flexográfica en cuanto a la sujeción y al accionamiento del molde de impresión 18, como se muestra por ejemplo en la fig. 4. Para otros moldes de impresión cilíndricos el montaje del molde de impresión cilíndrico y su accionamiento deben realizarse adecuadamente de la forma correspondiente, y se muestran a modo de ejemplo para cilindros de serigrafía en la figura 15 y se explican más adelante. The exposure device 12 described herein is adapted to a flexographic printing mold in terms of clamping and operating the printing mold 18, as shown for example in fig. 4. For other cylindrical printing molds the assembly of the cylindrical printing mold and its operation must be suitably carried out in the corresponding manner, and are shown by way of example for screen printing cylinders in Figure 15 and are explained below.

En lugar de la exposición helicoidal de la capa de laca fotosensible 6 cilíndrica con una única mancha luminosa, la exposición puede realizarse también simultáneamente con varias manchas luminosas dispuestas unas junto a otras en la dirección longitudinal del eje 17 del molde de impresión 18. Con ello se expone por ejemplo una tira de moldeo cilíndrica durante un giro del molde de impresión 18. Durante el siguiente giro se desplaza después el carro 16 en la anchura de la tira de modelo expuesta, para exponer durante el siguiente giro del molde de impresión 18 una tira de modelo que se conecta a la misma sin soldadura, tras lo cual se realiza a su vez un desplazamiento correspondiente del carro 16. Instead of the helical exposure of the cylindrical photosensitive lacquer layer 6 with a single light spot, the exposure can also be done simultaneously with several light spots arranged next to each other in the longitudinal direction of the axis 17 of the printing mold 18. With this for example, a cylindrical molding strip is exposed during one turn of the printing mold 18. During the next turn the carriage 16 is then moved in the width of the exposed model strip, to expose during the next turn of the print mold 18 a model strip that is connected to it without welding, after which a corresponding displacement of the carriage 16 is made.

Después de la exposición del molde de impresión 18 en el dispositivo de exposición 12 se realiza el revelador de la capa de laca fotosensible 6, con ayuda de un revelador líquido en un dispositivo de revelado 34, como el que se ha representado por ejemplo en la fig. 6. En este dispositivo de revelado el molde de impresión 18 rota solo lentamente mientras que su superficie se sumerge a poca profundidad en una taza plana 35, que contiene el revelador líquido. El molde de impresión 18 es accionado por un accionamiento en el cabezal de husillo 21 a través de un mandril de sujeción 23, que soporta la mangueta axial izquierda 3 del molde de impresión 18. La mangueta axial derecha 3 puede apoyarse sencillamente en una semicoquilla de cojinete 36 abierta a causa del número de revoluciones muy reducido. After exposure of the printing mold 18 in the exposure device 12, the developer of the photosensitive lacquer layer 6 is carried out, with the aid of a liquid developer in a developing device 34, such as that which has been represented, for example, in the fig. 6. In this developing device the printing mold 18 rotates only slowly while its surface is immersed shallowly in a flat cup 35, which contains the liquid developer. The printing mold 18 is driven by a drive in the spindle head 21 through a clamping mandrel 23, which supports the left axial sleeve 3 of the printing mold 18. The right axial sleeve 3 can simply rest on a half-bore of bearing 36 open because of the very low speed.

Mediante un interruptor principal 29 se conecta o desconecta el movimiento giratorio del molde de impresión 18. Para el revelado se necesita un periodo de tiempo de algunos minutos. Una vez terminado el revelado están desmontados los puntos no expuestos o los expuestos de la capa de laca fotosensible 6 según la clase de tipo de laca utilizado, es decir según la laca fotosensible endurecible con luz o descomponible con luz. Durante el revelado del molde de impresión 18, respectivamente de la capa de laca fotosensible 6, se desmonta casi siempre también al mismo tiempo los puntos de la capa cobertora 5 que ya no están cubiertos por la laca fotosensible. Si el revelador para ello no fuese adecuado o estuviese agotado, puede desmontarse también la capa cobertora 5 en el mismo dispositivo de revelador con otro baño. Los últimos restos del revelador o del último baño se extraen mediante enjuague con agua del grifo, una vez terminado el revelado. A rotating switch of the printing mold 18. is switched on or off by means of a main switch 29. For the development a period of time of some minutes is required. Once the development is finished, the unexposed or exposed points of the photosensitive lacquer layer 6 are dismantled according to the type of lacquer type used, that is, according to the light-curable or light-decomposable photosensitive lacquer. During the development of the printing mold 18, respectively of the photosensitive lacquer layer 6, the points of the cover layer 5 that are no longer covered by the photosensitive lacquer are almost always removed at the same time. If the developer for this purpose is not suitable or is used up, the cover layer 5 can also be removed in the same developer device with another bath. The last remains of the developer or the last bath are removed by rinsing with tap water, once the development is finished.

El molde de impresión 18 revelado sobre el dispositivo de revelado 34 mostrado en la fig. 6 presenta la estructura de capas representada en la fig. 2, con una capa de fotoelastómero 4 no tratada y una capa cobertora 5 y una capa de laca fotosensible 6 estructuradas conforme al modelo. The printing mold 18 revealed on the developing device 34 shown in fig. 6 shows the layer structure represented in fig. 2, with an untreated photoelastomer layer 4 and a cover layer 5 and a photosensitive lacquer layer 6 structured according to the model.

El molde de impresión 18 así preparado se expone después con gran superficie por ejemplo en un dispositivo de exposición, como el que se muestra en la fig. 7. Para esto el dispositivo de exposición presenta una lámpara 9, que es por ejemplo una lámpara de vapor metal-halógena. La lámpara 9 tiene con ello convenientemente la forma de una viga de lámpara con sección transversal circular y se extiende a lo largo de todo el molde de impresión 18. En la calidad del grabado tienen una influencia importante la anchura 38 de una carcasa de lámpara 40, según se mira en la dirección perimétrica del molde de impresión 18, y la distancia 39 entre la lámpara 9 y el molde de impresión 18 en dirección radial. La anchura 38 de la carcasa de lámpara 40 no debería superar un tercio del diámetro del molde de impresión 18, ya que en caso contrario a causa de los efectos de la subradiación se reticulan también y con ello se endurecen las regiones marginales de los puntos de la capa de fotoelastómero 4, cubiertos por la capa cobertora 5. Esto no es deseable, ya que de este modo se reduce la agudeza lineal del modelo. The printing mold 18 thus prepared is then exposed with a large surface, for example in an exposure device, such as that shown in fig. 7. For this, the exposure device has a lamp 9, which is, for example, a metal-halogen vapor lamp. The lamp 9 thus conveniently has the shape of a lamp beam with circular cross-section and extends along the entire printing mold 18. The width 38 of a lamp housing 40 has an important influence on the quality of the engraving. , as seen in the perimeter direction of the printing mold 18, and the distance 39 between the lamp 9 and the printing mold 18 in the radial direction. The width 38 of the lamp housing 40 should not exceed one third of the diameter of the printing mold 18, since otherwise due to the effects of subradiation they are also crosslinked and thereby harden the marginal regions of the points of the photoelastomer layer 4, covered by the cover layer 5. This is not desirable, since this reduces the linear sharpness of the model.

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En casos especiales la anchura 38 de la carcasa de lámpara 40 se limita incluso a sólo aprox. el 10% del diámetro del molde de impresión 18. Una mayor distancia 39 y una menor anchura 38 aumentan la precisión de los contornos, pero alarga el tiempo de exposición necesario a causa de la menor superficie expuesta sobre el molde de impresión 18 y la menor intensidad de exposición. Una menor distancia 39 y una mayor anchura 38 producen lo contrario. In special cases the width 38 of the lamp housing 40 is limited even to only approx. 10% of the diameter of the printing mold 18. A greater distance 39 and a smaller width 38 increase the accuracy of the contours, but lengthens the exposure time necessary due to the smaller surface exposed on the printing mold 18 and the smaller exposure intensity A smaller distance 39 and a greater width 38 produce the opposite.

En el cabezal de husillo 21 están previstos en cada caso un interruptor 41 para el accionamiento giratorio del molde de impresión 18 y la lámpara 9. De forma conveniente los interruptores están bloqueados eléctricamente de tal manera, que la lámpara 9 sólo puede conectarse cuando el molde de impresión 18 ya gira. La mangueta axial derecha 3 del molde de impresión 18 está montada con ello de forma giratoria en un cojinete de apoyo 42 rebatible, que puede llevarse sobre una guía 43 a una posición ajustada a la longitud del molde de impresión 18. In the spindle head 21 there is provided in each case a switch 41 for the rotary actuation of the printing mold 18 and the lamp 9. Conveniently the switches are electrically locked in such a way that the lamp 9 can only be connected when the mold Print 18 already rotates. The right axial sleeve 3 of the printing mold 18 is thereby rotatably mounted on a folding support bearing 42, which can be carried on a guide 43 to a position adjusted to the length of the printing mold 18.

Después de la segunda exposición del molde de impresión 18, es decir, después de la exposición de gran superficie de la capa de fotoelastómero 4, el molde de impresión 18 se revela definitivamente en otro dispositivo de revelado. After the second exposure of the printing mold 18, that is, after the large surface exposure of the photoelastomer layer 4, the printing mold 18 is definitely revealed in another developing device.

Como se muestra en la fig. 8 el molde de impresión 18 se monta en una bañera 45 de forma similar a un banco giratorio, de tal manera que puede hacerse girar en un cabezal de husillo 21 mediante un accionamiento giratorio no representado. Mediante el accionamiento de un interruptor 41 se conecta el accionamiento giratorio en el cabezal de husillo 21 y el molde de impresión 18 se hace mover giratoriamente. Aparte de esto se acciona un rodillo de cepillo 44 con un número de revoluciones relativamente alto. El molde de impresión aspira continuamente líquido de revelador desde un depósito de revelador no visible en la bañera 45, mientras que adicionalmente se pulveriza sobre el rodillo de cepillo 44 un líquido de revelador desde una regleta de toberas oculta por la pared delantera de la bañera 45 y por ello no visible. As shown in fig. 8 the printing mold 18 is mounted in a bathtub 45 in a manner similar to a rotating bench, such that it can be rotated in a spindle head 21 by means of a rotary drive not shown. The rotary drive is connected to the spindle head 21 by actuating a switch 41 and the printing mold 18 is rotatably moved. Apart from this, a brush roller 44 with a relatively high speed is driven. The printing mold continuously aspirates developer liquid from a developer tank not visible in the bathtub 45, while additionally a developer liquid is sprayed onto the brush roller 44 from a nozzle strip hidden by the front wall of the bathtub 45 and therefore not visible.

El contacto intenso de la capa de fotoelastómero 4 del molde de impresión 18 con el líquido de revelador y la intensa abrasión mecánica a causa del rodillo de cepillo 44 rotatorio son responsables de un desmontaje o lavado de todas las regiones no reticuladas de la capa de fotoelastómero 4, de la que una vez terminado el revelado sólo permanecen las regiones reticuladas y una fina capa base todavía no reticulada, que es necesaria para la fijación del fotoelastómero al tubo soporte 1. Esta fina capa base 4 no se disuelve ni se lava, para poder fijar de forma fiable al tubo soporte 1 incluso regiones reticuladas más pequeñas del fotoelastómero. The intense contact of the photoelastomer layer 4 of the printing mold 18 with the developer liquid and the intense mechanical abrasion due to the rotating brush roller 44 are responsible for disassembly or washing of all uncrosslinked regions of the photoelastomer layer. 4, of which once the development is finished, only the cross-linked regions and a thin base layer not yet cross-linked remain, which is necessary for fixing the photoelastomer to the support tube 1. This thin base layer 4 does not dissolve or wash, so be able to reliably fix even smaller crosslinked regions of the photoelastomer to the support tube 1.

Por ello el proceso de revelado se interrumpe en un momento predeterminado. Therefore, the development process is interrupted at a predetermined time.

También en el dispositivo de revelado la mangueta axial derecha 3 del molde de impresión 18, alejada del cabezal de husillo 21, se sujeta mediante un cojinete de apoyo 42 sencillo, que está dispuesto de forma desplazable sobre una guía 43 en la dirección del eje 17 del molde de impresión 18, para poder encajar en el dispositivo de revelado moldes de impresión 18 de diferente longitud. Also in the developing device the right axial sleeve 3 of the printing mold 18, away from the spindle head 21, is held by a simple bearing 42, which is movably arranged on a guide 43 in the direction of the axis 17 of the printing mold 18, to be able to fit in the developing device printing molds 18 of different length.

Para encajar y extraer más fácilmente el molde de impresión 18, el cojinete de apoyo 42 está realizado de forma dividida. La mitad superior puede plegarse hacia arriba después del desbloqueo. El rodillo de cepillo 44 está montado de forma giratoria por sus dos extremos en unos casquillos cojinete de deslizamiento 46. Debido a que, durante el proceso de revelado y el cepillado intenso de la superficie del molde de impresión 18 para ello necesario, el líquido de revelado salpica mucho, el dispositivo de revelado presenta convenientemente una tapa abatible 47 que cierra herméticamente la bañera 45. To more easily fit and remove the printing mold 18, the bearing bearing 42 is divided. The upper half can be folded up after unlocking. The brush roller 44 is rotatably mounted at its two ends in sliding bearing bushings 46. Because, during the development process and intense brushing of the surface of the printing mold 18 for this purpose, the liquid developing splashes a lot, the developing device conveniently features a flip top 47 that tightly closes the tub 45.

Un ejemplo de realización de la invención se explica con más detalle con base en la producción de una plantilla de serigrafía, haciendo referencia a las figuras 9 a 17. An embodiment of the invention is explained in more detail based on the production of a screen printing template, referring to figures 9 to 17.

La figura 9 muestra una pieza en bruto para una plantilla de serigrafía 18’, que a continuación para mayor sencillez se designa como tal con independencia de la fase de producción. La plantilla de serigrafía 18’ presenta como soporte un fino cilindro de tamiz 1’, sobre el cual está tendida como primera capa sensible a la radiación una capa de laca fotosensible 4’, que se recubre con una capa cobertora 5. La capa de laca fotosensible 4’ puede estar compuesta de gelatina o alcohol polivinílico, que se mezcla con bicromato potásico. Mediante la acción de una radiación de onda corta en el margen UV, una gelatina así tratada o un alcohol polivinílico así tratado se reticula también en estado seco y la laca se hace de esta forma insoluble en agua y bastante resistente a los ataques químicos, como los que se producen por ejemplo en el caso de actuar un revelador o sustancias químicas de impresión. Figure 9 shows a blank for a screen printing template 18 ’, which for simplicity is designated as such regardless of the production phase. The serigraphy template 18 'has a thin sieve cylinder 1' as support, on which a photosensitive lacquer layer 4 'is laid as the first radiation-sensitive layer, which is coated with a cover layer 5. The lacquer layer 4 'photosensitive may be composed of gelatin or polyvinyl alcohol, which is mixed with potassium bichromate. Through the action of a short wave radiation in the UV range, a gelatin thus treated or a polyvinyl alcohol so treated is also crosslinked in a dry state and the lacquer is thus made insoluble in water and quite resistant to chemical attacks, such as those that are produced, for example, in the case of a developer or printing chemicals.

La gelatina no reticulada o no curtida, al igual que el alcohol polivinílico no curtido, puede lavarse por el contrario muy fácilmente mediante agua caliente o una solución acuosa alcalina. Este proceso recibe el nombre de revelado. Uncrosslinked or non-tanned gelatin, like uncured polyvinyl alcohol, can instead be washed very easily by hot water or an alkaline aqueous solution. This process is called development.

Para la capa de laca fotosensible 4’ puede utilizarse también epoxi-o metil-metacrilato. Estas resinas se diluyen casi siempre con un disolvente alcohólico o quetónico, o se utilizan en forma de una emulsión acuosa de estas For the 4 ’photosensitive lacquer layer, epoxy or methyl methacrylate can also be used. These resins are almost always diluted with an alcoholic or ketonic solvent, or are used in the form of an aqueous emulsion of these

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soluciones y contienen con frecuencia un sensibilizador óptico, para aumentar la sensibilidad a la luz o para desplazar la sensibilidad en un margen luminoso de onda más larga. También las capa de laca fotosensibles así estructuradas se reticulan o endurecen fotosintéticamente mediante la acción de la luz. solutions and often contain an optical sensitizer, to increase sensitivity to light or to shift sensitivity over a longer wavelength range. Also the photosensitive lacquer layers thus structured are crosslinked or hardened photosynthetically by the action of light.

Para la capa cobertora 5 se usan los mismos disolventes, sustancias formadoras de capas y sustancias absorbedoras o reflectantes de UV que en la capa cobertora 5 descrita con base en el ejemplo para un mejor entendimiento de la invención. Aparte de la utilización de pigmentos negros, como p.ej. negro de carbono (black carbon), en las capas cobertoras pueden usarse también colorantes, como por ejemplo Sudan Blue de la empresa BASF o combinaciones de colorantes de colores vivos, como una mezcla entre colorante Sudan Blue y pigmento Novaperm Yellow de la empresa Hoechst. For the cover layer 5 the same solvents, layer forming substances and UV absorbing or reflective substances are used as in the cover layer 5 described based on the example for a better understanding of the invention. Apart from the use of black pigments, such as carbon black (black carbon), dyes can also be used in the cover layers, such as for example Sudan Blue from BASF or combinations of brightly colored dyes, as a mixture between Sudan Blue dye and Novaperm Yellow pigment from Hoechst.

La aplicación de la capa de laca fotosensible 4’ y de la capa cobertora 5 se realiza de forma preferida con el procedimiento de recubrimiento por inmersión descrito anteriormente. Esto tiene la ventaja, en especial para la aplicación de la capa cobertora 5, de que esta capa misma puede aplicarse después con el mismo grosor por toda la plantilla de serigrafía, si la capa de laca fotosensible 4’ como consecuencia de una contracción causada por el secado presenta una superficie ondulada, como se representa por ejemplo en la figura 10. The application of the photosensitive lacquer layer 4 ’and the cover layer 5 is preferably carried out with the immersion coating procedure described above. This has the advantage, especially for the application of the cover layer 5, that this same layer can then be applied with the same thickness throughout the entire screen printing template, if the photosensitive lacquer layer 4 'as a result of a contraction caused by The drying has a wavy surface, as shown for example in Figure 10.

Debe destacarse además que la capa de laca fotosensible 4’ antes de la aplicación de la capa cobertora 5 al igual que la capa cobertora 5 después de su aplicación se secan, si estas capas contienen agua u otros disolventes. El secado se lleva a cabo casi siempre en un horno de aire caliente, en el que el aire de circulación se filtra continuamente. It should also be noted that the photosensitive lacquer layer 4 ’before the application of the cover layer 5 as well as the cover layer 5 after application is dried, if these layers contain water or other solvents. Drying is almost always carried out in a hot air oven, in which the circulating air is filtered continuously.

En la figura 10 puede reconocerse que el cilindro de tamiz 1’ se compone de almas individuales 15, que están estructuradas galvanoplásticamente. En lugar de un cilindro de tamiz 1’ estructurado galvanoplásticamente puede utilizarse también un cilindro de tamiz de un tejido metálico. Aparte de esto es posible, en especial en el caso de plantillas de serigrafía planas, usar tejidos textiles, en especial un tejido fino de gasa de seda, para mejorar todavía más la calidad de impresión que puede alcanzarse con la plantilla de serigrafía terminada. A la hora de utilizar tejidos textiles es conveniente prever un recubrimiento metálico que no perjudique la estructura de tamiz para, al desmontar la capa cobertora 5 y al exponer la capa de laca fotosensible 4’, impedir un daño al tejido de tamiz a causa de la radiación utilizada. In Figure 10 it can be recognized that the sieve cylinder 1 ’is composed of individual souls 15, which are electroplatedly structured. Instead of a 1 'electrically structured sieve cylinder, a metal fabric sieve cylinder can also be used. Apart from this it is possible, especially in the case of flat screen printing templates, to use textile fabrics, especially a silk chiffon fabric, to further improve the print quality that can be achieved with the finished screen printing template. When using textile fabrics, it is advisable to provide a metallic coating that does not damage the sieve structure so that, when disassembling the cover layer 5 and exposing the photosensitive lacquer layer 4 ', preventing damage to the sieve fabric due to the radiation used

La capa de laca fotosensible 4’ representada en la figura 10 muestra una superficie irregular, ya que está estructurada con una laca con un alto contenido de disolvente, con lo que la capa de laca fotosensible 4’ durante el secado está fuertemente contraída a causa de la evaporación del disolvente. La capa de laca fotosensible 4’ en la figura 11 se compone por el contrario de un sistema de laca polimerizado, de tal manera que esta capa se contrae escasamente y de esta forma mantiene una superficie plana o lisa. The photosensitive lacquer layer 4 'shown in Figure 10 shows an irregular surface, since it is structured with a lacquer with a high solvent content, whereby the photosensitive lacquer layer 4' during drying is strongly contracted because of evaporation of the solvent. The photosensitive lacquer layer 4 ’in Figure 11 is instead composed of a polymerized lacquer system, such that this layer shrinks sparingly and thus maintains a flat or smooth surface.

La capa cobertora 5 aplica a la capa de laca fotosensible 4’ según la figura 10 permanece por todas partes igual de gruesa, gracias al procedimiento de recubrimiento por inmersión utilizado. The cover layer 5 applies to the photosensitive lacquer layer 4 'according to Figure 10 remains everywhere thick, thanks to the immersion coating procedure used.

Para obtener una máscara de irradiación 5’ estructurada conforme al modelo se desmonta la capa cobertora 5 conforme al modelo. To obtain an irradiated mask 5 ’structured according to the model, the cover layer 5 according to the model is removed.

Sin embargo, conforme a la invención la capa cobertora se desmonta con ayuda de radiación láser. De forma preferida se utiliza aquí una radiación láser cuya longitud de onda va desde el margen infrarrojo (800 nm a 1 μm si se utilizan diodos láser; 1,06 μm si se utiliza un láser de Nd-YAG) hasta el margen de radiación térmica (10,6 μm con un láser de CO2). El desmontaje de la capa cobertora 5 se realiza con ello mediante evaporización. Sin embargo, también es posible desmontar la capa cobertora 5 mediante fotólisis, en donde después se utilizan también longitudes de onda más cortas situadas en el margen visible. Una radiación en el margen UV y en el margen espectral de onda corta de la luz visible, con longitudes de onda de hasta unos 500 nm, se utiliza evidentemente sólo si la capa de laca fotosensible 4’ situada debajo de la capa cobertora 5 se reticula o endurece bajo la acción de la post-exposición de gran superficie que se realiza posteriormente, es decir, está estructurada con un sistema de resina polimerizador. However, according to the invention the cover layer is removed with the aid of laser radiation. Preferably, a laser radiation is used here whose wavelength ranges from the infrared range (800 nm to 1 μm if laser diodes are used; 1.06 μm if an Nd-YAG laser is used) to the thermal radiation range (10.6 μm with a CO2 laser). The dismantling of the cover layer 5 is carried out by evaporation. However, it is also possible to disassemble the cover layer 5 by photolysis, where later shorter wavelengths located in the visible margin are also used. Radiation in the UV range and in the shortwave spectral range of visible light, with wavelengths of up to about 500 nm, is evidently used only if the photosensitive lacquer layer 4 'below the covering layer 5 is crosslinked or hardens under the action of the large surface post-exposure that is carried out subsequently, that is, it is structured with a polymerizing resin system.

La figura 12 muestra una máscara de irradiación 5’ producida con una capa cobertora 5, que se ha disuelto conforme al modelo de tal modo mediante la acción térmica de un rayo láser 7, que la capa de laca fotosensible 4’ presenta unos puntos 8 dejados al descubierto, condicionado por el modelo, en los que la capa de laca fotosensible 4’ debe deteriorarse fotolíticamente o bien endurecerse durante la siguiente exposición de gran superficie, mostrada en la figura 13. Figure 12 shows an irradiation mask 5 'produced with a cover layer 5, which has been dissolved according to the model in such a way by the thermal action of a laser beam 7, that the photosensitive lacquer layer 4' has points 8 left exposed, conditioned by the model, in which the photosensitive lacquer layer 4 'must deteriorate photolytically or harden during the next large surface exposure, shown in Figure 13.

El rayo láser 7 usado para el desmontaje directo de la capa cobertora 5, condicionado por el modelo, se enfoca de tal manera mediante una óptica láser 22, que en el punto de incidencia presenta un diámetro de entre 20 y 40 μm. El rayo láser 7 utilizado tiene con ello delante de la óptica láser un pequeño ángulo de divergencia de haz, de tal modo que con las distancias focales utilizadas de entre 50 nm y 150 nm, se obtiene una cintura de haz en el foco, The laser beam 7 used for the direct disassembly of the cover layer 5, conditioned by the model, is focused in such a way by means of a laser optic 22, which at the point of incidence has a diameter of between 20 and 40 μm. The laser beam 7 used thus has a small beam divergence angle in front of the laser optics, so that with the focal distances used between 50 nm and 150 nm, a beam waist is obtained at the focus,

10 10

15 fifteen

20 twenty

25 25

30 30

35 35

40 40

45 Four. Five

50 fifty

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es decir en el punto de incidencia, que sólo varía en unos pocos tantos por ciento según se mide en un margen de 0,1 mm perpendicularmente a la superficie del cilindro de tamiz 1’, de tal manera que un error de redondez en un orden de magnitud de 0,1 mm prácticamente no tiene ninguna influencia en la exactitud de contorno del grabado. that is, at the point of incidence, which only varies by a few percentage points as measured in a range of 0.1 mm perpendicular to the surface of the sieve cylinder 1 ', such that a roundness error in one order of magnitude of 0.1 mm has virtually no influence on the accuracy of the contour of the engraving.

Después del desmontaje de la capa cobertora 5 conforme al modelo, llevado a cabo conforme a la invención con un láser, para configurar una máscara de irradiación 5’ la capa de laca fotosensible 4’ se expone en gran superficie con una banda luminosa emitida por una lámpara 9. Como lámpara 9 se utiliza con ello de forma preferida una lámpara metal-halógena. En este tipo de lámpara los valores máximos de la energía de emisión están situados en unas longitudes de onda de entre 290 y 540 nm, de tal manera que la capa de laca fotosensible es irradiada por lo tanto con una radiación UV de alta energía, que acarrea unos intensos efectos fotoquímicos. La capa de laca fotosensible 2 se endurece en los puntos irradiados. En el caso de lacas que se reticulen bajo el efecto de radiación UV, la capa de laca fotosensible 4’ se hace muy resistente químicamente en los puntos irradiados, y los puntos no irradiados de esta capa pueden disolverse del cilindro de tamiz mediante agua templada durante el subsiguiente revelado. La figura 14 muestra en un corte aumentado una plantilla de serigrafía 18’, producida con la utilización de una laca positiva. After disassembly of the cover layer 5 according to the model, carried out according to the invention with a laser, to configure an irradiation mask 5 'the photosensitive lacquer layer 4' is exposed on a large surface with a light band emitted by a Lamp 9. As lamp 9, a metal-halogen lamp is preferably used. In this type of lamp the maximum values of the emission energy are located in wavelengths between 290 and 540 nm, so that the photosensitive lacquer layer is therefore irradiated with a high energy UV radiation, which It carries intense photochemical effects. The photosensitive lacquer layer 2 hardens at the irradiated points. In the case of lacquers that crosslink under the effect of UV radiation, the 4 'photosensitive lacquer layer becomes very chemically resistant at the irradiated points, and the non-irradiated points of this layer can be dissolved from the sieve cylinder by warm water during the subsequent revealed. Figure 14 shows in an enlarged section an 18 'screen printing template, produced with the use of a positive lacquer.

El dispositivo de exposición 12 mostrado en la figura 15, sobre el que se lleva a cabo la disolución óptica de la capa cobertora 5 para configurar una máscara de irradiación 5’ de forma correspondiente a los requisitos del modelo a introducir en la capa de laca fotosensible 4, está estructurado de forma similar a un banco giratorio. Un láser de neodimio-yag 13’ emite un rayo láser 7, que presenta una longitud de onda de 1,06 μm y un diámetro de unos pocos milímetros así como un ángulo de divergencia muy reducido. Dado el caso estas características del rayo láser 7 se aseguran mediante una óptica de ensanchamiento, que puede estar prevista justo detrás de la ventana de salida del láser. The exposure device 12 shown in Figure 15, on which the optical dissolution of the cover layer 5 is carried out to configure an irradiation mask 5 'corresponding to the requirements of the model to be introduced in the photosensitive lacquer layer 4, is structured similarly to a rotating bench. A neodymium-yag laser 13 ’emits a laser beam 7, which has a wavelength of 1.06 μm and a diameter of a few millimeters as well as a very small divergence angle. If necessary, these characteristics of the laser beam 7 are ensured by a widening lens, which can be provided just behind the laser exit window.

En lugar de un láser de Nd-YAG, que se bombea mediante diodos láser, puede usarse también un láser de CO2, que se pulsa mediante la conexión y desconexión de un tramo de descarga eléctrico. En este último caso pueden conseguirse frecuencias de conmutación de entre 10 y 20 kHz, mientras que mediante la conexión y desconexión de los diodos láser en el primer caso pueden alcanzarse unas frecuencias de conmutación de hasta unos 50 kHz. En el caso de que se necesiten unas frecuencias de conmutación todavía más elevadas, el láser puede trabajar también en funcionamiento continuo y el haz puede interrumpirse con un interruptor acústico o electro-óptico. Instead of an Nd-YAG laser, which is pumped by laser diodes, a CO2 laser can also be used, which is pulsed by connecting and disconnecting an electrical discharge section. In the latter case, switching frequencies between 10 and 20 kHz can be achieved, while switching frequencies of up to about 50 kHz can be achieved by connecting and disconnecting the laser diodes in the first case. In case even higher switching frequencies are needed, the laser can also work in continuous operation and the beam can be interrupted with an acoustic or electro-optical switch.

La ventaja de un desmontaje de la capa cobertora 5 con una longitud de onda superior a 800 nm consiste en que no puede realizarse ni un pre-reticulado ni una descomposición fotolítica de la capa de laca fotosensible 4’ situada debajo de la capa cobertora 5, porque para ambos efectos se necesita una luz con mayor energía cuántica y de este modo menor longitud de onda. Como es natural se requiere una dosificación exacta de la energía óptica del haz del rayo láser 7, ya que en caso contrario la capa de laca fotosensible 4’ puede descomponerse térmicamente. The advantage of a disassembly of the cover layer 5 with a wavelength greater than 800 nm is that neither pre-crosslinking nor a photolytic decomposition of the photosensitive lacquer layer 4 'located under the cover layer 5 can be performed, because for both effects a light with greater quantum energy is needed and thus shorter wavelength. Naturally, an exact dosage of the optical energy of the beam of the laser beam 7 is required, since otherwise the photosensitive lacquer layer 4 ’can thermally decompose.

Sobre un carro 16, que se traslada lentamente en la dirección del eje 17 de la plantilla de serigrafía 18’, está montado un espejo de desviación 19 que dirige el rayo láser 7 sobre la superficie de la plantilla de serigrafía 18’. Para enfocar el rayo láser 7 está prevista con ello una óptica láser 22 detrás del espejo de desviación 19. On a carriage 16, which moves slowly in the direction of the axis 17 of the screen printing template 18 ’, a deflection mirror 19 is directed that directs the laser beam 7 on the surface of the screen printing template 18’. A laser optic 22 behind the deflection mirror 19 is provided to focus the laser beam 7.

Durante la exposición la plantilla de serigrafía 18’ rota con velocidad uniforme, de tal modo que la mancha luminosa del rayo láser 7 describe una línea helicoidal sobre la superficie de la plantilla de serigrafía 18’. Este movimiento de rotación se confiere a la plantilla de serigrafía 18’ desde un accionamiento alojado en el cabezal de husillo 21, al que está unido el lado frontal izquierdo de la plantilla de serigrafía 18’ a través de un cono de arrastre During exposure, the screen printing template 18 'rotates with uniform speed, such that the light spot of the laser beam 7 describes a helical line on the surface of the screen printing template 18'. This rotation movement is conferred on the screen printing template 18 ’from a drive housed in the spindle head 21, to which the left front side of the screen printing template 18’ is connected through a drag cone

46. El lado frontal derecho de la plantilla de serigrafía 18’ se sujeta mediante un cono de centrado 47 al cabezal móvil. 46. The right front side of the screen printing template 18 ’is attached by a centering cone 47 to the moving head.

Por debajo de la plantilla de serigrafía 18’ se encuentra el lecho 25 del dispositivo de exposición 12, que une el cabezal de husillo 21 al cabezal móvil 24 y soporta unas guías 20 para el carro 16, que guían éste durante su movimiento de trabajo en paralelo al eje 17 de la plantilla de serigrafía 18’. Below the screen printing template 18 'is the bed 25 of the exposure device 12, which joins the spindle head 21 to the moving head 24 and supports guides 20 for the carriage 16, which guide it during its working movement in parallel to axis 17 of the serigraphy template 18 '.

Para poder mecanizar plantillas de serigrafía 18’ de diferente longitud el cabezal móvil 24 puede graduarse en dirección axial, mientras que el cono de centrado 47, que engrana en el extremo frontal derecho de una plantilla de serigrafía 18’, puede graduarse en fino para el ajuste en fino mediante un volante 27 sobre el cabezal móvil 24. In order to be able to machine screen printing templates 18 'of different length, the moving head 24 can be graduated in the axial direction, while the centering cone 47, which meshes at the right front end of a screen printing template 18', can be fine graduated for fine adjustment by means of a handwheel 27 on the moving head 24.

Sobre el cabezal móvil 24 están dispuestos además las mismas instalaciones de manejo e indicación, como las que están previstas también en el caso del dispositivo de exposición 12 descrito con base en la figura 5. The same handling and indication facilities are also arranged on the moving head 24, such as those also provided in the case of the exposure device 12 described based on Figure 5.

Después del desmontaje conforme al modelo de la capa cobertora 5 mediante radiación láser, para configurar la máscara de irradiación 5’, se realiza la exposición de gran superficie mediante una lámpara 9 sobre un dispositivo de exposición, que se ha representado esquemáticamente en la figura 16. La lámpara 9 tiene con ello la forma de una viga de lámpara con sección transversal circular y se extiende todo a lo largo de la plantilla de serigrafía 18’. Aunque como lámpara 9 puede usarse entre otras también una lámpara de vapor de xenón, una lámpara de vapor After disassembly according to the model of the cover layer 5 by laser radiation, to configure the irradiation mask 5 ', the large area exposure is carried out by means of a lamp 9 on an exposure device, which is schematically represented in Figure 16 The lamp 9 thus has the shape of a lamp beam with circular cross-section and extends all along the screen printing template 18 '. Although as a lamp 9, a xenon steam lamp, a steam lamp, can also be used among others

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metal-halógena es ventajosa en cuanto a su equilibrio energético, si la laca fotosensible utilizada es sensible en el margen UV, ya que su equilibrio energético es mejor, como ya se ha explicado anteriormente. Metal-halogen is advantageous in terms of its energy balance, if the photosensitive lacquer used is sensitive in the UV range, since its energy balance is better, as explained above.

La anchura 38 de la carcasa de lámpara 40 y la distancia 39 entre la lámpara 9 y la superficie de la plantilla de serigrafía 18’ tienen la influencia, ya descrita en la explicación de la instalación de exposición mostrada en la figura The width 38 of the lamp housing 40 and the distance 39 between the lamp 9 and the surface of the screen printing template 18 'have the influence, already described in the explanation of the exposure installation shown in the figure

5 7, en el tiempo de exposición y la precisión de contorno y se eligen de forma correspondiente. Aparte del cono de arrastre 46 y del cono de centrado 47 para el montaje de la plantilla de serigrafía 18’, el dispositivo de exposición según la figura 16 está estructurado igual que el dispositivo de exposición descrito con base en la figura 7, de tal manera que aquí se prescinde de una nueva descripción. 5 7, in exposure time and contour accuracy and are chosen accordingly. Apart from the trailing cone 46 and the centering cone 47 for mounting the screen printing template 18 ', the exposure device according to figure 16 is structured like the exposure device described based on figure 7, in such a way that a new description is dispensed with here.

Después de la exposición de gran superficie se realiza el revelado de la capa de laca fotosensible 4’ sobre un After the large surface exposure, the development of the 4 ’photosensitive lacquer layer is carried out on a

10 dispositivo de revelado 34, que se ha representado en la figura 17, y que se corresponde con el dispositivo de revelado 34 representado en la figura 6 hasta en los cojinetes para la plantilla de serigrafía 18’. 10 development device 34, which is shown in Figure 17, and which corresponds to the development device 34 shown in Figure 6 even in the bearings for the screen printing template 18 ’.

Si para la capa de laca fotosensible 4’ se ha utilizado una laca reticulada, p.ej. sobre base de resina epoxi, gelatina If a cross-linked lacquer has been used for the 4 ’photosensitive lacquer layer, eg based on epoxy resin, gelatin

o alcohol polivinílico, el revelado de la capa de laca fotosensible 4’ se realiza sencillamente mediante enjuague con or polyvinyl alcohol, the development of the 4 ’photosensitive lacquer layer is simply done by rinsing with

agua templada o caliente, en donde la plantilla de serigrafía 18’ se lava con una ducha de mano sobre una pila de 15 recogida para el agua residual mezclada con restos de resina. warm or warm water, where the screen printing template 18 ’is washed with a hand shower on a 15-cell collection for wastewater mixed with resin residues.

Aunque con base en el dibujo sólo se ha mostrado y explicado la producción de moldes de impresión cilíndricos, el procedimiento conforme a la invención también puede aplicarse para placas de impresión planas. Although based on the drawing only the production of cylindrical printing molds has been shown and explained, the process according to the invention can also be applied to flat printing plates.

En el caso de moldes de impresión en forma de placa, la estructuración de la capa cobertora 5, es decir la exposición o irradiación de la segunda capa sensible a la radiación, puede llevarse a cabo con un cabezal de In the case of plate-shaped printing molds, the structuring of the cover layer 5, that is the exposure or irradiation of the second radiation-sensitive layer, can be carried out with a printhead.

20 exposición que puede desplazarse sobre la placa de impresión en dos direcciones, de forma preferida situadas mutuamente en perpendicular. 20 exposure that can be moved on the printing plate in two directions, preferably located mutually perpendicular.

Claims (15)

5 5 10 10 15 fifteen 20 twenty 25 25 30 30 35 35 40 40 REIVINDICACIONES 1.-Procedimiento para producir un molde de impresión, en el que 1.-Procedure to produce a printing mold, in which

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a una primera capa de laca fotosensible (4’) sensible a la radiación dispuesta sobre un tamiz (1’) de una laca reticulable se aplica mediante recubrimiento por inmersión una capa cobertora (5), en donde la capa cobertora (5) contiene unas finas partículas absorbedoras o reflectoras de luz, que están suspendidas en gelatina o alcohol polivinílico, to a first layer of photosensitive lacquer (4 ') sensitive to radiation arranged on a sieve (1') of a crosslinkable lacquer, a cover layer (5) is applied by immersion coating, where the cover layer (5) contains some fine light-absorbing or reflective particles, which are suspended in gelatin or polyvinyl alcohol,

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la capa cobertora (5) aplicada se estructura después de un paso de secado de forma correspondiente a un modelo, en donde para estructurar la capa cobertora (5), condicionado por el modelo, las partes a extraer de la capa cobertora (5) se desmontan directamente utilizando radiación láser, para formar una máscara de irradiación (5’), y the applied cover layer (5) is structured after a drying step corresponding to a model, where to structure the cover layer (5), conditioned by the model, the parts to be extracted from the cover layer (5) are disassemble directly using laser radiation, to form an irradiation mask (5 '), and

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la primera capa de laca fotosensible (4’) sensible a la radiación se irradia y se revela mediante enjuague The first layer of photosensitive lacquer (4 ’) sensitive to radiation is irradiated and revealed by rinsing

con agua. with water.

2.-Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque para la capa de laca fotosensible (4’) se utiliza una laca reticulable sobre base de resina epoxi, gelatina o alcohol polivinílico. 2. Method according to claim 1, characterized in that a crosslinkable lacquer based on epoxy resin, gelatin or polyvinyl alcohol is used for the photosensitive lacquer layer (4 ’). 3.-Procedimiento según la reivindicación 1 ó 2, caracterizado porque la capa de laca fotosensible (4’) se irradia y se revela mediante enjuague con agua templada o caliente. 3. Method according to claim 1 or 2, characterized in that the photosensitive lacquer layer (4 ') is irradiated and revealed by rinsing with warm or hot water. 4.-Procedimiento según la reivindicación 1, 2 ó 3, caracterizado porque la capa cobertora (5) estructurada conforme al modelo, es decir la máscara de irradiación (5’), se extrae durante el revelado de la capa de laca fotosensible (4’). 4. Method according to claim 1, 2 or 3, characterized in that the cover layer (5) structured according to the model, ie the irradiation mask (5 '), is removed during the development of the photosensitive lacquer layer (4 '). 5.-Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque la irradiación conforme al moldeo de la capa cobertora (5) se realiza punto por punto. 5. Method according to one of claims 1 to 4, characterized in that the irradiation according to the molding of the cover layer (5) is performed point by point. 6.-Procedimiento según la reivindicación 5, caracterizado porque para la irradiación punto por punto se irradian simultáneamente, conforme al modelo, varios puntos de moldeo adyacentes mediante un número correspondiente de puntos de irradiación. 6. Method according to claim 5, characterized in that, for point-to-point irradiation, several adjacent molding points are irradiated simultaneously, according to the model, by a corresponding number of irradiation points. 7.-Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la suspensión de finas partículas metálicas en gelatina se produce mediante reducción de sales metálicas disueltas en gelatina, en especial halogenuros de plata. 7. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the suspension of fine metal particles in gelatin is produced by reduction of metal salts dissolved in gelatin, especially silver halides. 8.-Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la capa cobertora (5) tiene un grosor de entre 1 μm y 20 μm, de forma preferida entre 7 μm y 14 μm, en especial de 10 μm. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the cover layer (5) has a thickness between 1 μm and 20 μm, preferably between 7 μm and 14 μm, especially 10 μm. 9.-Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque la capa de laca fotosensible (4’) se aplica al tamiz (1’) con un procedimiento de recubrimiento por inmersión. 9. Method according to one of claims 1 to 4, characterized in that the photosensitive lacquer layer (4 ’) is applied to the sieve (1’) with an immersion coating process. 10.-Procedimiento según la reivindicación 9, caracterizado porque la capa de laca fotosensible (4’) está formada con gelatina o alcohol polivinílico, en donde a la gelatina o al alcohol polivinílico se añade un medio de curtido, por ejemplo bicromato potásico. 10. Method according to claim 9, characterized in that the photosensitive lacquer layer (4 ') is formed with gelatin or polyvinyl alcohol, wherein a tanning medium, for example potassium bichromate, is added to the gelatin or polyvinyl alcohol. 11.-Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque a la capa de laca fotosensible (4’) se añaden sustancias para aumentar su elasticidad, para impedir la formación de grietas. 11. Method according to one of the preceding claims, characterized in that substances are added to the photosensitive lacquer layer (4 ') to increase its elasticity, to prevent the formation of cracks. 12.-Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el tamiz (1’) es metálico. 12. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the sieve (1 ’) is metallic. 13.-Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 11, caracterizado porque el tamiz (1’) está formado con un tejido textil, en especial con un tejido de gasa de seda, que está reforzado de forma preferida mediante una precipitación metálica química y/o galvánica. 13. Method according to one of claims 1 to 11, characterized in that the sieve (1 ') is formed with a textile fabric, especially with a silk gauze fabric, which is preferably reinforced by chemical metal precipitation and / or galvanic. 14.-Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el tamiz (1’) es plano. 14. Method according to one of the preceding claims, characterized in that the sieve (1 ’) is flat. 15.-Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 a 13, caracterizado porque el tamiz (1’) es cilíndrico. 15. Method according to one of claims 1 to 13, characterized in that the sieve (1 ’) is cylindrical. 14 14