ES2281329T3 - Dispositivo de medida de error de posicion relativa. - Google Patents

Dispositivo de medida de error de posicion relativa. Download PDF

Info

Publication number
ES2281329T3
ES2281329T3 ES00402847T ES00402847T ES2281329T3 ES 2281329 T3 ES2281329 T3 ES 2281329T3 ES 00402847 T ES00402847 T ES 00402847T ES 00402847 T ES00402847 T ES 00402847T ES 2281329 T3 ES2281329 T3 ES 2281329T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
laser beam
hole
series
piece
fact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES00402847T
Other languages
English (en)
Inventor
Damien Boureau
David Clavier
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Automa Tech SA
Original Assignee
Automa Tech SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Automa Tech SA filed Critical Automa Tech SA
Application granted granted Critical
Publication of ES2281329T3 publication Critical patent/ES2281329T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0008Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for aligning or positioning of tools relative to the circuit board
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0266Marks, test patterns or identification means
    • H05K1/0269Marks, test patterns or identification means for visual or optical inspection
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09009Substrate related
    • H05K2201/09063Holes or slots in insulating substrate not used for electrical connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/10Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
    • H05K2203/107Using laser light
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means
    • H05K3/0026Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Automatic Control Of Machine Tools (AREA)
  • Numerical Control (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Body Structure For Vehicles (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

Dispositivo de medida de error de posición relativa entre un haz de rayos láser y una pieza, caracterizado por el hecho de que dicha pieza está provista de un orificio circular, que ocupa una posición de referencia con respecto a dicha pieza y por el hecho de que comprende además: unos medios para focalizar el haz de rayos láser en el plano de dicha pieza, - unos medios para tomar una imagen de dicho agujero circular y del haz focalizado en el plano de dicha pieza y - unos medios para calcular las componentes del segmento, que une dicho punto de impacto y el centro de dicho agujero.

Description

Dispositivo de medida de error de posición relativa.
La presente invención tiene por objeto un dispositivo de medida de error de posición relativa entre un haz de rayos láser y una pieza, así como unas aplicaciones de este dispositivo a la realización de una máquina de exposición de placas de circuito impreso.
Se sabe que, para la fabricación de circuitos impresos mediante unos procedimientos clásicos, una de las etapas consiste en recubrir la capa conductora de la placa de circuito impreso de una capa de material de reserva y en insolar esta capa de reserva a través de un cliché, que permite obtener la forma de las pistas conductoras que se quieren obtener sobre el circuito impreso. Después de la insolación de esta capa de reserva, se procede a la eliminación o retirada, de las zonas no insoladas correspondientes a las porciones de la capa conductora, que se quiere quitar o eliminar.
Se sabe igualmente que se desarrolla otra técnica de realización de placas o paneles de circuito impreso, en la cual la capa de reserva se impresiona localmente mediante el impacto de un haz de rayos láser. La posición del impacto del haz de rayos láser sobre la placa se manda, la mayoría de las veces, por un conjunto de barrido o exploración, que comporta un espejo poligonal rotativo combinado a un dispositivo de interrupción mandada del haz de rayos láser, que, la mayoría de las veces, está constituido por un modulador acusto-óptico.
Otras técnicas, que utilizan igualmente un haz de rayos láser, consisten, sea en realizar directamente la ablación de la capa de reserva con la ayuda de un haz de rayos láser, sea en no utilizar una capa de reserva y en realizar directamente la ablación de la capa conductora con un haz de rayos láser.
Desde luego, al ser muy importante el número de puntos de impacto de haces de rayos láser para realizar con la precisión requerida una placa o panel de circuito impreso de gran dimensión, es interesante poder dividir la superficie de la placa de circuito impreso en un cierto número de zonas y de barrer o explorar simultáneamente cada una de estas zonas con la ayuda, de un haz de rayos láser.
En el caso de las máquinas que permiten realizar esta operación y que se llamarán ulteriormente máquinas de exposición, se plantean dos problemas principales de posicionamiento relativo. De una parte, es necesario calibrar con precisión la posición del haz de rayos láser o de cada haz de rayos láser con respecto al bastidor o armazón de la máquina de exposición y, de otra parte, es necesario posicionar con una gran precisión sobre el bastidor de la máquina la placa o panel de circuito impreso destinada a ser insolada mediante haz de rayos láser.
En lo que concierne a la calibración del haz de rayos láser, se comprende que en esta máquina éste es dirigido hacia la placa de circuito impreso a través de un bloque óptico, que comporta un gran número de componentes ópticos. Además, el barrido o exploración de la placa de circuito impreso se consigue, la mayoría de las veces, con la ayuda de un espejo poligonal rotativo, cuya rotación de cada cara define en parte una longitud de barrido. Por otro lado, el diseño, que debe ser realizado con la ayuda del haz de rayos láser, se define a partir de informaciones memorizadas, que dan para cada punto de la placa o panel sea una información de impacto, sea una información de ausencia de impacto.
Se comprende que a la vista de todos estos elementos, cualquiera que sea la precisión de las regulaciones iniciales de estos diferentes componentes, es necesario antes de cada utilización de la máquina verificar la posición real del impacto de un haz de rayos láser con respecto al bastidor o armazón de la máquina.
En lo que se refiere al posicionamiento de la placa o panel con respecto al bastidor de la máquina, se comprende que éste se debe realizar igualmente con una precisión muy grande, especialmente en el caso en que las placas de circuito impreso se destinen a formar los elementos constitutivos de circuito impreso multicapas. Se recuerda que el posicionamiento de las placas de circuito impreso con respecto al bastidor o armazón de la máquina se consigue, la mayoría de las veces, con la ayuda de orificios circulares realizados en ciertos puntos de la placa definidos con precisión.
Un objeto de la presente invención es proveer un dispositivo de medida de error de posición relativa entre un haz de rayos láser y una pieza, que puede ser, por ejemplo, el bastidor de una máquina de exposición o una placa de circuito impreso, que permite, de manera simple, obtener una determinación de error con una precisión muy grande.
Para lograr este objetivo según la invención, el dispositivo de medida de error de posición relativa entre un haz de rayos láser y una pieza se caracteriza por el hecho de que dicha pieza está provista de un orificio circular, que ocupa una posición de referencia con respecto a dicha pieza y por el hecho de que comprende además:
-
Unos medios para focalizar el haz de rayos láser en el plano de dicha pieza,
-
unos medios para tomar una imagen de dicho agujero circular y del haz localizado en el plano de dicha pieza; y
\newpage
-
unos medios para calcular los componentes del segmento, que junta o une dicho punto de impacto y el centro de dicho agujero.
Se comprende que, gracias a la invención, se consigue efectivamente una determinación muy exacta del error especialmente por el hecho de que el posicionamiento de los medios de toma de imagen, por ejemplo una cámara, no tiene necesidad de realizarse con precisión puesto que es suficiente con que permitan obtener simultáneamente la imagen de la periferia del agujero circular y la imagen del impacto del haz de rayos láser.
Otro objeto de la invención es proveer una aplicación del dispositivo definido más arriba a la realización de una máquina de exposición de placas de circuito impreso para realizar el posicionamiento de la placa de circuito impreso con respecto al bastidor o armazón de la máquina.
Esta aplicación se caracteriza por el hecho de que dicha maquina comprende además:
-
unos medios para focalizar dicho haz de rayos láser sucesivamente en dos puntos del bastidor correspondiente, que deberían ser ocupados por los centros de los dos agujeros circulares,
-
unos medios mediante cámara para tomar una imagen de los dos orificios y de los puntos de impacto de haz de rayos láser,
-
unos medios para calcular a partir de cada una de dichas imágenes los componentes del segmento, que une el centro del circulo al punto de impacto del haz, por lo que se logran dos conjuntos de informaciones de error de posición de la placa o panel,
-
unos medios para desplazar dicha placa con respecto al bastidor, al menos, en rotación, y unos medios para mandar los medios de desplazamiento y los medios de focalización del haz de rayos láser en función de los dos conjuntos de informaciones de error de posición de la placa o panel.
Se comprende que en este caso la referencia está constituida por el punto del haz de rayos láser y que el elemento, del cual se quiere corregir el error de posición, es la placa, o panel con sus dos orificios de posicionamiento.
Otro objeto de la invención es aplicar el dispositivo de detección definido más arriba a la calibración del haz de rayos láser de una máquina de exposición de placas de circuito impreso. Esta aplicación se caracteriza por el hecho de que comprende además:
-
al menos una pieza solidaria de dicho bastidor, comportando dicha pieza, al menos, un agujero circular, cuyo centro constituye un punto de referencia del bastidor,
-
unos medios para mandar los medios de deflexión de haz mediante una información de posición correspondiente a la posición del centro de dicho círculo,
-
unos medios mediante cámara para tomar una imagen de dicho agujero circular y del punto de impacto efectivo del haz de rayos láser en dicho agujero,
-
unos medios para calcular los componentes del segmento, que une el centro de dicho agujero al punto de impacto del haz de rayos láser, y unos medios para transmitir a los medios de mando unos medios de deflexión de dichos componentes.
Se comprende que, en este caso, la referencia de posición esta constituida por la pieza provista del orificio circular y el elemento del cual se debe determinar el error de posición, es el punto de impacto del haz de rayos láser.
Otras características y ventajas de la invención se evidenciarán mejor con la lectura de la subsiguiente descripción de varios modos de realización de la invención dados a título de ejemplos no limitativos. La descripción se refiere a las figuras anexas, en las cuales:
- La figura 1A es una vista en proyección de un dispositivo de medida de error relativo;
- La figura 1B es una vista desde arriba parcial del dispositivo de medida de error relativo;
- La figura 2 es una vista simplificada de una máquina de exposición de placas o paneles de circuito impreso, que comporta un dispositivo de posicionamiento de la placa de circuito impreso según la invención;
- La figura 3 es una vista simplificada de una máquina de exposición de placas o paneles de circuito impreso equipada con un dispositivo de calibración del haz de rayos láser de la máquina; y
- La figura 4 es una vista esquemática de una máquina de exposición de placas de circuito impreso a varios haces de rayos láser.
Refiriéndose en primer lugar, a las figuras 1A y 1B, se va a describir el dispositivo de detección y de media de error de posicionamiento relativo de un haz de rayos láser y de una pieza. En estas figuras se han representado una pieza 10 y un sistema óptico 12 para emitir un haz de rayos láser 14 hacia la pieza 10.
La pieza 10 está provista de un orificio circular, 16 de centro O, estando unido el orificio 16 a esta pieza 10, y constituyendo la referencia de posición. El dispositivo de detección comporta asimismo una cámara 17 dispuesta del otro lado de la pieza 10 con respecto al haz de rayos láser 14 y capaz de tomar una imagen de la periferia del agujero 16 y del haz de rayos láser 14. A partir de esta imagen, un circuito de cálculo 18 asociado a la cámara permite calcular las componentes según las direcciones ortogonales X e Y del segmento, que une o junta el centro O del círculo y el punto de impacto A y, por consiguiente, determinar completamente el error de posicionamiento relativo.
Como ya se ha expuesto, este dispositivo permite detectar y medir dos tipos de error de posicionamiento absoluto según que el haz de rayos láser constituya la referencia de posición y que la pieza 10 sea movible o que la pieza 10 constituya la referencia de posición mediante su orificio circular 16, estando, en tal caso, el haz de rayos láser 14 afectado de un error eventual de posición.
Por supuesto, es necesario que la cámara 17 sea capaz de detectar el haz de rayos láser. Se podrá escoger una cámara CCD provista de objetivos adaptados a las longitudes de onda del haz de rayos láser.
En la figura 2 se ha representado la utilización del dispositivo de las figuras 1A y 1B para la calibración del haz de rayos láser con respecto al bastidor de una instalación de exposición. Se ha representado un bloque óptico 30, que dirige un haz de rayos láser 32 hacia una pieza 34 solidaria del bastidor 36 de la máquina. La pieza 34 está constituida, por ejemplo, por una regleta solidaria del bastidor 36 y realizada a base de un material de una gran estabilidad, tal como de acero al níquel. La regleta 34 está equipada o provista de, al menos, dos orificios circulares 38 y 40 de diámetro perfectamente definido. Así pues, los orificios 38 y 40 constituyen unas referencias de posición del bastidor 36. El bloque óptico 30 está asociado a un conjunto de mando 42 para controlar el punto de impacto del haz de rayos láser.
Para efectuar la calibración del haz de rayos láser se envían, con ayuda del circuito de mando 42, hacia el bloque óptico 30 unas instrucciones de posicionamiento del haz de rayos láser correspondiente a la posición exacta del agujero 34. Con la ayuda de una cámara 44 se procede a la toma de imagen del agujero 38 y del haz 32. El circuito 46 asociado a la cámara 44 calcula los errores de posición como queda indicado anteriormente. Por el hecho de que el haz de rayos láser se posiciona en parte con la ayuda de instrucciones memorizadas en sus circuitos de mando, el cálculo de error podría utilizarse para corregir las instrucciones de mando de posicionamiento del haz de rayos láser.
Al deberse desplazar mediante barrido o exploración el haz de rayos láser sobre una cierta distancia con respecto al bastidor, se puede repetir ventajosamente la operación en relación con un segundo agujero de referencia 40 practicado en la regleta 34 y mandando la posición del haz de rayos láser con unas instrucciones correspondientes a la posición de este último agujero 40. Esta determinación de error se puede realizar para varios orificios dispuestos en la regleta 34. Estas diferentes medidas de error para diferentes posiciones localizadas mediante la regleta permiten calcular un polinomio de corrección de errores que permitirá corregir las instrucciones de barrido o exploración mediante el haz para cada posición de barrido o exploración.
Refiriéndose ahora a la figura 3, se va a describir una aplicación del dispositivo de detección de errores relativos al posicionamiento de una placa de circuito impreso 50 en una máquina de insolación mediante haz de rayos láser. En esta figura se ha representado un bastidor 52 de la máquina, sobre el cual se coloca la placa o panel 50. Esta placa 50 está provista de dos orificios de posicionamiento 54 y 56. En esta figura se ha representado igualmente un bloque óptico 58, el cual manda el punto de impacto de un haz de rayos láser 60 en respuesta a las instrucciones transmitidas por un circuito de mando 62.
Para realizar el posicionamiento de la placa o panel 50 con respecto al bastidor 52, se manda el bloque óptico 58 de tal manera que el haz se focalice en un punto del bastidor correspondiente exactamente a la posición que debería ocupar el centro del orificio de posicionamiento 54. Con la ayuda de la cámara 63 se toma una imagen de la periferia del orificio 54 y del impacto del haz de rayos láser 60 y se calculan las coordenadas de este error en el circuito de cálculo 64. Para finalizar la operación de posicionamiento el bloque óptico 58 se manda para que un haz de rayos láser 60' tenga un punto de impacto, que corresponde exactamente a la posición teórica del centro del segundo orificio de posicionamiento 56 de la placa o panel de circuito impreso. Con la ayuda de una segunda cámara 65 se toma una segunda imagen correspondiente al orificio 56 y se transmite este segundo error de posición al circuito de cálculo 64. Estos dos errores de posición permiten determinar errores de posición de placa o panel según dos direcciones ortogonales X e Y y en rotación. El error en rotación puede ser medido mediante el ángulo entre la recta, que une los centros de los orificios 54 y 56 y la recta, que une los dos puntos de impacto de los haces de rayos láser. El error de posición en rotación se transmite al circuito de mando 66 de actuadores 68, que permiten corregir este error. Los errores de posición en X e Y se dirigen directamente a los circuitos de mando 62 del bloque óptico 58.
En la figura 4 se ha representado el caso de una máquina de exposición 70, que comporta varios haces de rayos láser 72_{1}, 72_{2}, 72_{3}, 72_{4} producidos, sin embargo, por bloques ópticos 72_{1}, 72_{2}, 72_{3}, 72_{4}, estando mandado cada bloque óptico por un circuito 76. Para la calibración de los haces de rayos láser el bastidor 78 de la máquina está equipado con una regla de acero al níquel 80, la cual comporta tantas series S_{1}, S_{2}, S_{3}, S_{4} de agujeros 82 de calibración como hay de haces de rayos láser a calibrar. Los orificios de una serie están respectivamente dispuestos enfrente de las zonas Z_{1}, Z_{2}, Z_{3} y Z_{4}, que debe barrer o explorar; cada serie comporta, por ejemplo, 20 orificios.
Con la ayuda de una cámara móvil 84 se toman sucesivamente para cada agujero 82 de cada serie de agujeros, las imágenes de los orificios y del haz de rayos láser y cada serie de orificios. En tal caso el circuito de cálculo 86 elabora, para cada haz de rayos láser, un polinomio de corrección, que se transmite a los circuitos de mando 76 de los bloques ópticos.

Claims (6)

1. Dispositivo de medida de error de posición relativa entre un haz de rayos láser y una pieza, caracterizado por el hecho de que dicha pieza está provista de un orificio circular, que ocupa una posición de referencia con respecto a dicha pieza y por el hecho de que comprende además: unos medios para focalizar el haz de rayos láser en el plano de dicha pieza,
-
unos medios para tomar una imagen de dicho agujero circular y del haz focalizado en el plano de dicha pieza y
-
unos medios para calcular las componentes del segmento, que une dicho punto de impacto y el centro de dicho agujero.
2. Aplicación del dispositivo según la reivindicación 1 a la realización de una máquina de exposición de placas o paneles de circuito impreso, que comprende:
-
un bastidor fijo apto para recibir una placa de circuito impreso, estando provista dicha placa de, al menos, dos orificios circulares de posicionamiento,
-
al menos un rayo láser asociado a unos medios ópticos para focalizar el haz de rayos láser en un punto cualquiera del circuito impreso,
caracterizada por el hecho de que dicha máquina comprende, además:
-
unos medios para focalizar dicho haz de rayos láser sucesivamente en dos puntos del bastidor correspondiente, que deberían estar ocupados por los centros de los dos agujeros circulares,
-
unos medios mediante cámara para tomar una imagen de los dos orificios y de los dos puntos de impacto de los haces de rayos láser,
-
unos medios para calcular a partir de cada una de dichas imágenes las componentes del segmento, que une el centro del círculo al punto de impacto del haz de rayos por lo que se obtienen dos conjuntos de informaciones de error de posición de la placa o panel,
-
unos medios para desplazar dicha placa con respecto al bastidor, al menos, en rotación, y unos medios para mandar los medios de desplazamiento y los medios de focalización del haz de rayos láser en función de los dos conjuntos de informaciones de error de posición de la placa o panel.
3. Aplicación según la reivindicación 2, caracterizada por el hecho de que los medios de cálculo determinan el ángulo entre los segmentos que unen los dos puntos de impacto de los haces de rayos láser y los dos centros de los orificios, lo que da una información de error de posición en rotación del centro de un segundo orificio con respecto al centro del primero, y las componentes según dos direcciones ortogonales del bastidor de error de posición del centro del primer orificio, y por el hecho de que los medios de mando comprenden:
-
unos medios para mandar los medios de desplazamiento en rotación en función del error en rotación calculada, y
-
unos medios pare transmitir a los medios de focalización de dichos haces de rayos láser dichas componentes.
4. Aplicación del dispositivo según la reivindicación 1 a la realización de una máquina de exposición de placas o paneles de circuito impreso, que comprende:
-
un bastidor fijo para recibir dicha placa o panel,
-
una fuente de rayos láser para producir, al menos, un haz de rayos láser y unos medios de mando de deflexión del haz de rayos láser, caracterizándose dicha máquina por el hecho de que comprende, además:
-
al menos una pieza solidaria de dicho bastidor, comportando dicha pieza, al menos, un orificio circular, cuyo centro constituye un punto de referencia del bastidor,
-
unos medios para mandar los medios de deflexión del haz mediante unas informaciones de posición correspondientes a la posición del centro de dicho círculo,
-
unos medios mediante cámara para tomar una imagen de dicho orificio circular y del punto de impacto efectivo del haz de rayos láser dentro de dicho orificio,
-
unos medios para calcular las componentes del segmento, que une el centro de dicho orificio al punto de impacto del haz de rayos láser, y
-
unos medios para transmitir a los medios de mando de los medios de deflexión dichas componentes.
5. Aplicación según la reivindicación 4, caracterizada por el hecho de que:
dicha pieza comporta una serie de orificios circulares, cuyos centros definen una serie de posición de referencia del bastidor, por el hecho de que Ion medios de mando comportan unos medios para mandar sucesivamente los medios de deflexión del haz de rayos láser mediante una serie de informaciones de posición correspondiente a las posiciones de los centros de la serie de orificios,
por el hecho de que los medios mediante cámara toman sucesivamente una serie de imágenes para cada orificio,
por el hecho de que los medios de cálculo determinan dichas componentes para cada imagen de la serie de imágenes y elaboran una función polinómica de corrección de posición del haz de rayos láser a partir de dicha serie de componentes en función de la posición de los centros de la serie de orificios; y por el hecho de que los medios de transmisión transmiten dicha función polinómica de corrección a dichos medios de mando de los medios de deflexión.
6. Aplicación según la reivindicación 5, caracterizada por el hecho de que dicha máquina comprende:
-
unos medios para producir una pluralidad de haces de rayos láser, y
-
una pluralidad de medios de deflexión, estando asociado cada medio de deflexión a un haz de rayos láser; estando asociado cada medio de deflexión a un medio de mando para que cada haz de rayos láser barra o explore una porción de dicha placa o panel de circuito impreso,
por el hecho de que dicha pieza comporta una pluralidad de series de orificios, correspondiendo cada serie de orificios a la porción de circuito impreso barrido o explorado por dicho haz de rayos láser, y por el hecho de que dichos medios de cálculo determinan una función polinómica de corrección de posición para cada serie de imágenes asociada a una serie de orificios.
ES00402847T 1999-11-03 2000-10-16 Dispositivo de medida de error de posicion relativa. Expired - Lifetime ES2281329T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9913725 1999-11-03
FR9913725A FR2800565B1 (fr) 1999-11-03 1999-11-03 Dispositif de mesure d'erreur de position relative

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2281329T3 true ES2281329T3 (es) 2007-10-01

Family

ID=9551646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES00402847T Expired - Lifetime ES2281329T3 (es) 1999-11-03 2000-10-16 Dispositivo de medida de error de posicion relativa.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6683684B1 (es)
EP (1) EP1098556B1 (es)
JP (1) JP2001188007A (es)
KR (1) KR20010060196A (es)
CN (1) CN1220116C (es)
AT (1) ATE353538T1 (es)
CA (1) CA2324913A1 (es)
DE (1) DE60033258T2 (es)
ES (1) ES2281329T3 (es)
FR (1) FR2800565B1 (es)
TW (1) TW556456B (es)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003032085A2 (en) * 2001-10-10 2003-04-17 Accent Optical Technologies, Inc. Determination of center of focus by cross-section analysis
JP4338577B2 (ja) * 2004-04-28 2009-10-07 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP4391545B2 (ja) * 2007-03-30 2009-12-24 日立ビアメカニクス株式会社 ワーク加工機
CN101450788B (zh) * 2007-12-05 2011-04-13 中国科学院微电子研究所 石英晶圆深微孔加工设备及方法
CN102865815B (zh) * 2012-09-24 2015-01-07 上海功源电子科技有限公司 一种新型的单视觉相机对位pcb的定位补偿方法
CN104378916B (zh) * 2013-08-13 2018-04-03 达观科技有限公司 物件校正方法
CN104897070B (zh) * 2014-03-07 2018-04-17 达观科技有限公司 加工物件基础规格的检测方法
JP6483536B2 (ja) * 2015-06-05 2019-03-13 株式会社アドテックエンジニアリング パターン描画装置及びパターン描画方法
CN105043269B (zh) * 2015-07-08 2017-09-29 上海与德通讯技术有限公司 一种物体尺寸的测量方法及电子设备
CN106767556B (zh) * 2016-12-26 2023-06-06 重庆越发机械制造有限公司 高精度变档拨叉同心度检测设备
WO2019048198A1 (en) * 2017-09-11 2019-03-14 Asml Netherlands B.V. LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
CN109209546B (zh) * 2018-09-30 2019-12-27 东风汽车集团有限公司 连续可变气门升程机构的间隙调节装置及调节方法
CN112179286B (zh) * 2020-08-18 2021-12-21 江苏瑞尔隆盛叶轮科技有限公司 一种gom三维光学扫描仪专用夹具
CN111928873A (zh) * 2020-09-28 2020-11-13 快克智能装备股份有限公司 一种标定测高中心与相机中心的方法
CN112857220B (zh) * 2021-01-13 2022-08-09 德阳市产品质量监督检验所 一种发电设备零部件的检测结构
CN113207232A (zh) * 2021-04-30 2021-08-03 东莞市五株电子科技有限公司 一种三维pcb的制作方法及pcb

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE241562C (es) 1909-07-31 1911-12-05
DD241562A1 (de) * 1985-10-10 1986-12-17 Robotron Bueromasch Messtechnische anordnung zur ueberwachung des schneidvorganges beim lasertrennen
US5264869A (en) * 1991-08-19 1993-11-23 Xerox Corporation Electro-optical control apparatus and system for spot position control in an optical output device
FR2703558B1 (fr) * 1993-03-31 1995-06-30 Automa Tech Sa Installation d'exposition à la lumière d'une plaque de circuit imprimé double face à travers les clichés.
US5814826A (en) * 1996-08-26 1998-09-29 Demminer Maschinen Technik Gmbh Method and apparatus for aligning photoprinting plates in a production line

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001188007A (ja) 2001-07-10
CN1295268A (zh) 2001-05-16
EP1098556A1 (fr) 2001-05-09
TW556456B (en) 2003-10-01
US6683684B1 (en) 2004-01-27
FR2800565B1 (fr) 2002-10-25
EP1098556B1 (fr) 2007-02-07
FR2800565A1 (fr) 2001-05-04
CA2324913A1 (en) 2001-05-03
DE60033258T2 (de) 2007-11-22
CN1220116C (zh) 2005-09-21
DE60033258D1 (de) 2007-03-22
KR20010060196A (ko) 2001-07-06
ATE353538T1 (de) 2007-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2281329T3 (es) Dispositivo de medida de error de posicion relativa.
ES2956042T3 (es) Unidad de direccionado con dos ventanas, un elemento óptico y un dispositivo de direccionado XY
AU2005243045B2 (en) Optical inspection of surfaces open to different directions in a piece of material
KR101485437B1 (ko) 기준 위치 측정 장치 및 방법, 및 패턴 형성 장치
US8675077B2 (en) Alignment metrology and resolution measurement system for imaging arrays
ES2360239T3 (es) Procedimiento y sistema para la calibración de un dispositivo para medir la forma de una superficie reflectante.
JP6286148B2 (ja) 画像センサ位置決め装置および方法
KR102471350B1 (ko) 적층 제조 디바이스의 출력 복사선 소스의 헤드 시스템의 교정
US20170167870A1 (en) System of measuring three-dimensional position
CN101821081A (zh) 利用激光扫描反射计的自动几何校准
ES2545218T3 (es) Procedimiento de ablación de una superficie en tres dimensiones gracias a un dispositivo de ablación láser y gracias al uso de una etapa de calibrado; dispositivo de realización de dicho procedimiento
KR20080014992A (ko) 노광 장치
ES2971211T3 (es) Calibración automatizada de un dispositivo para la fabricación aditiva totalmente paralelizada de un componente con áreas de trabajo combinadas
US20170038690A1 (en) Exposure head, exposure apparatus and method of operating an exposure head
JP2021184112A (ja) 感光性の層を露光するための装置および方法
RU2635336C2 (ru) Способ калибровки оптико-электронного аппарата и устройство для его осуществления
KR101759971B1 (ko) 평행광을 이용한 축오차 측정장치
JP6137323B2 (ja) 露光装置
KR20190117542A (ko) 가공 설비
CN110865516A (zh) 曝光装置
CN109544637B (zh) 双目标定验证装置
CN111830667B (zh) 一种镜头对焦装置
JP2005292103A (ja) ポリゴンミラーの角度測定装置
JPH04212120A (ja) 線に沿って面を光学的に走査する走査装置
CN217953421U (zh) 一种基于单轴振镜旋转的线激光自扫描测量装置