ES2245455T3 - Dispositivo de tratamiento superficial de piezas de trabajo. - Google Patents

Abstract

LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO (10) PARA TRATAMIENTO SUPERFICIAL DE PIEZAS DE TRABAJO. PARA PONER A DISPOSICION UN DISPOSITIVO (10), QUE PERMITA CON MEDIOS SENCILLOS LA ELABORACION CON PLASMA DE PIEZAS DE TRABAJO POROSAS CON BUENA CALIDAD PERMANENTE, SE HA PREVISTO DE ACUERDO CON LA INVENCION QUE LAS PIEZAS DE TRABAJO SE COLOQUEN EN UN RECIPIENTE (12) DE VACIO UNA DESPUES DE OTRA Y QUE SE SOMETAN A UN PROCESO DE LIMPIEZA PARA EVAPORACION Y ASPIRACION DE LAS SUSTANCIAS EXTRAÑAS PRESENTES Y QUE DESPUES SEAN SOMETIDAS A UN PROCESO DE TRATAMIENTO DE PLASMA. EL DISPOSITIVO (10) SE CARACTERIZA DE TAL MODO, QUE EN LA CONDUCCION (14) DE ASPIRACION ENTRE EL RECIPIENTE (12) DE VACIO Y LA FUENTE (18) DE ASPIRACION SE DISPONE DE UN SEPARADOR (16), QUE SEPARA LAS SUSTANCIAS EXTRAÑAS DE MEZCLA GASEOSA ASPIRADAS A PARTIR DEL RECIPIENTE (12) DE VACIO.

Description

Dispositivo de tratamiento superficial de piezas de trabajo.

La invención se refiere a un dispositivo de tratamiento superficial en particular de piezas de trabajo porosas.

De entre todos los procedimientos de tratamiento superficial conocidos encuentran cada vez más aplicación como modernos procedimientos de endurecimiento y recubrimiento en particular procedimientos de tratamiento con plasma como p. ej. el procedimiento de deposición física en fase de vapor (PVD) y el procedimiento de deposición química en fase de vapor (CVD), así como en particular la nitruración por plasma y la carburación por plasma.

Para poder ejecutar un procedimiento de elaboración con plasma con buenos resultados en cuanto a la elaboración, es necesario que el proceso de elaboración sea efectuado en una atmósfera gaseosa definida. La atmósfera gaseosa está además enrarecida y presenta una presión que está situada dentro de la gama de valores de un alto vacío.

Los dispositivos conocidos para la realización de tratamientos con plasma presentan por consiguiente un depósito de vacío que sirve para alojar las piezas de trabajo y está en conexión con una fuente de aspiración, para producir una presión subatmosférica en el depósito de vacío.

Básicamente, con los dispositivos conocidos pueden someterse a un tratamiento con plasma también piezas de trabajo porosas. En los poros y cámaras de las piezas de trabajo porosas pueden sin embargo depositarse sustancias extrañas, y en particular hidrocarburos líquidos y sólidos. Sin embargo, las superficies y los poros ensuciados liberan gases a la atmósfera del vacío y trastornan con ello la atmósfera ajustada. Las contaminaciones que no son volátiles, como p. ej. los residuos de calcinación, tienen además la desventaja de que pasivan la superficie de las piezas de trabajo y por consiguiente dificultan o imposibilitan el subsiguiente tratamiento con plasma. Para poder someter a piezas de trabajo porosas a un tratamiento con plasma en un depósito de vacío es por consiguiente en primer lugar necesario someter a las piezas de trabajo porosas a un tratamiento previo con el cual se retiran de los poros y de las cámaras de las piezas de trabajo porosas las sustancias extrañas.

Un proceso de elaboración previa conocido comprende en primer lugar el quemado de los hidrocarburos en una atmósfera gaseosa definida en un horno de calcinación y a continuación una remoción mecánica, p. ej. mediante un chorreado de la superficie.

En lugar de efectuar un tratamiento previo en un dispositivo especial, por la DE 42 28 499 C1 es conocida la técnica de efectuar en un depósito de vacío tanto los tratamientos previos como también un subsiguiente recubrimiento de la pieza de trabajo. Para el tratamiento previo, la pieza de trabajo es limpiada y calentada por ejemplo con ayuda de una descarga por arco voltaico de bajo voltaje. La pieza de trabajo es a continuación recubierta mediante una descarga por arco voltaico en vacío entre un blanco y un electrodo anódico. El dispositivo que se emplea para ello presenta además una conexión de evacuación. Puesto que las partículas vaporizadas deben ser retiradas del depósito de vacío a través de la conexión de evacuación, o sea por medio de una bomba de vacío, la bomba puede resultar dañada. Puede producirse una avería de la bomba en particular cuando deba aspirarse una gran cantidad de sustancias extrañas perturbadoras o cuando deba producirse un vacío muy tenue, puesto que una bomba diseñada con esta finalidad es especialmente sensible.

Por la DE 31 36 515 A1 es además conocido un dispositivo de pulverización para la pulverización de un elemento mediante una fuente de plasma. Este dispositivo presenta una superficie colectora sobre la cual es recogido el material pulverizado, a base de poner por ejemplo a la superficie colectora al potencial anódico. Para poder emplear una superficie colectora de este tipo en un dispositivo en el que deba limpiarse y recubrirse a continuación una pieza de trabajo, la superficie colectora tendría que ser dispuesta lo más cerca posible de la pieza de trabajo, para que no puedan entrar sustancias extrañas en la bomba de vacío, que está en funcionamiento durante la limpieza. Sin embargo, en cuanto una pieza de trabajo deba ser limpiada por todos lados, mediante las correspondientes superficies colectoras no puede asegurarse que no lleguen a la bomba sustancias extrañas y la dañen.

La limpieza previa de las piezas de trabajo porosas es de importancia decisiva para un subsiguiente tratamiento con plasma. Debido a la costosa preparación de las piezas de trabajo y a los equipos que son necesarios para ello, las piezas de trabajo porosas han venido siendo sin embargo sometidos hasta la fecha a una elaboración con plasma tan sólo en casos excepcionales.

Por la US-A-4.655.800 es conocido un dispositivo para el tratamiento con plasma de piezas de trabajo con un depósito de vacío en el cual los gases que se aspiran del depósito de vacío son aportados a un separador de gas que disocia el gas reactivo y lo descarga a la atmósfera, para que no llegue a la fuente de aspiración conectada al equipo y la dañe.

En P.A.J., Vol. 7, Nº 211 (M-243), 17-09-1983 y en la JP-106186 A está descrito un separador de condensado que está en conexión con un dispositivo de elaboración con plasma y contiene hidrógeno líquido. Para efectuar la limpieza del separador se le da salida al hidrógeno y se pasa a través del separador un líquido de limpieza que retira los sedimentos por barrido.

En la DE-C-2 106 850 está descrito un dispositivo de tratamiento superficial. Este dispositivo presenta un depósito de vacío cuya pared sirve de contraelectrodo, mientras que la pieza de trabajo forma el electrodo. Entre la pieza de trabajo y el contraelectrodo se encuentra un electrodo auxiliar que está en forma de un tubo metálico que está abierto en los extremos. La pared del depósito está puesta a potencial de masa, y la pieza de trabajo se pone a potencial negativo. El electrodo auxiliar se deja sin potencial o bien se pone a un potencial que está situado entre el de la pieza de trabajo y el de la pared del depósito. Antes de la realización de una descarga por efluvio se efectúa una operación de puesta en funcionamiento en la que se mantiene al electrodo auxiliar sin conexión alguna con el depósito. Entre la pieza de trabajo y el electrodo auxiliar se forma una descarga por efluvio de relativamente baja energía. En caso de que la energía de descarga no sea suficiente, se pone a un determinado potencial al electrodo auxiliar tubular, que está preferiblemente provisto de una superficie pulimentada en el interior. Tras haber transcurrido un primer periodo de tiempo tiene lugar la conmutación del
electrodo auxiliar al potencial del contraelectrodo.

La invención persigue la finalidad de aportar un dispositivo que con medios sencillos permita la elaboración por plasma de piezas de trabajo porosas con una calidad constantemente buena.

Esta finalidad es alcanzada según la invención con las características de la reivindicación 1.

El dispositivo de tratamiento superficial de piezas de trabajo porosas según la invención se distingue en que en la tubería de aspiración entre el depósito de vacío y la fuente de aspiración está dispuesto un separador que separa las sustancias extrañas de la mezcla gaseosa que se retira del depósito de vacío por aspiración. El separador permite efectuar un proceso de limpieza en el que se retiran por aspiración grandes cantidades de sustancias extrañas perturbadoras sin dañar la fuente de aspiración diseñada para producir un vacío muy tenue. Puesto que las sustancias extrañas retiradas de las piezas de trabajo son separadas en el separador, la corriente gaseosa que es suministrada por la fuente de aspiración puede ser acondicionada y recirculada con poco gasto, o bien puede ser aportada a un punto en el que se proceda a su eliminación controlada.

El dispositivo realizado según la invención para el tratamiento superficial de piezas de trabajo porosas presenta como electrodo auxiliar una estructura que constituye un electrodo, está realizada en forma de una jaula de rejilla y rodea al menos parcialmente a una zona de alojamiento de las piezas de trabajo. Esta estructura que constituye un electrodo y es una rejilla que envuelve a la zona de alojamiento de las piezas de trabajo permite producir un plasma a elección entre la pared del depósito como contraelectrodo y el electrodo auxiliar o bien entre el electrodo auxiliar y las piezas de trabajo. El proceso de limpieza puede ser gracias a ello controlado en correspondencia con su progreso.

El electrodo auxiliar facilita también la configuración de un campo eléctrico estático para la aceleración de iones gaseosos durante la fase de limpieza. Para producir los campos eléctricos que son necesarios en las distintas fases del tratamiento superficial, una fuente de tensión que alimenta a las piezas de trabajo y a los electrodos puede ser conmutada a elección entre un modo de generación de campo, un modo de generación de plasma pulsado y un modo auxiliar.

En el dispositivo según la invención es posible someter en el depósito de vacío a las piezas de trabajo porosas consecutivamente en primer lugar a un proceso de limpieza para la vaporización y aspiración de las sustancias extrañas adheridas y a continuación a un proceso de tratamiento con plasma, sin que entre el proceso de limpieza y el proceso de tratamiento con plasma las piezas de trabajo tengan que ser llevadas de un depósito de limpieza a un depósito de tratamiento con plasma específico. Puesto que el proceso de limpieza y el proceso de tratamiento con plasma son efectuados consecutivamente en el mismo depósito de vacío, una superficie de una pieza de trabajo limpiada en el proceso de limpieza no se ve afectada negativamente por influencias ambientales antes del tratamiento con plasma, por lo que se ve reducido el peligro de que se produzca una pasivación y de que por consiguiente sea obtenido un mal resultado del tratamiento con plasma.

Además se simplifica el ciclo de trabajo y se reduce el gasto que es necesario para contar con los aparatos que se precisan. Se logran además ahorros de tiempo y energía gracias al hecho de que no es necesario enfriar piezas de trabajo calentadas para la vaporización y tampoco es necesario efectuar a continuación un nuevo calentamiento para el proceso de tratamiento con plasma. El vacío producido para la aspiración de las sustancias extrañas durante el proceso de limpieza puede ser aprovechado para producir la atmósfera para el proceso de tratamiento con plasma.

Cuando se produzcan regularmente cantidades particularmente grandes de sustancias extrañas, la fuente de aspiración puede presentar dos bombas de aspiración de las cuales una será insensible a las sustancias extrañas y estará prevista para el proceso de limpieza, mientras que con la otra podrá formarse un alto vacío.

Se dan particularmente problemas cuando las piezas de trabajo porosas son cuerpos sinterizados que están prensados para ser ajustados a una medida determinada. Tales cuerpos sinterizados presentan habitualmente en sus superficies grandes cantidades de aceite, grasa o cera que durante la fabricación de los cuerpos sinterizados protegen a las herramientas contra el desgaste.

Cuando con el dispositivo se elaboran piezas de trabajo muy contaminadas con hidrocarburos, y por ejemplo con aceite, grasa o cera, hay el peligro de que estas sustancias dañen la fuente de aspiración. En una forma de realización preferida del dispositivo el separador es por consiguiente preferiblemente un separador de hidrocarburos con un condensador que está provisto de un dispositivo calentador para la limpieza del condensador. Con el condensador pueden también separarse hidrocarburos en forma de vapor y en forma de gas, con lo que la fuente de aspiración es protegida eficazmente. El dispositivo calentador permite limpiar el condensador cuando la eficacia de éste último se ve perjudicada por la formación de depósitos de hidrocarburos.

Cuando se dan grandes cantidades de cera hay el peligro de que la tubería de aspiración que va desde el depósito de vacío hasta el condensador sea obstruida por depósitos de cera. Para impedir la formación de depósitos de cera, la tubería de aspiración está preferiblemente configurada con pendiente del depósito de vacío al condensador y está provista de una calefacción o de un aislamiento, con lo que no se deposita cera en la pared de la tubería de aspiración.

Adicionales configuraciones y perfeccionamientos ventajosos de la invención se derivan de las reivindicaciones dependientes así como de la descripción en relación con el dibujo, que se refiere a una forma de realización particularmente preferida del dispositivo.

En el dibujo se muestra en sección un dispositivo de tratamiento superficial según la invención.

El dispositivo 10 de tratamiento superficial de piezas de trabajo porosas presenta un depósito de vacío 12 que a través de una tubería de aspiración 14 y de un separador 16 está en conexión con una fuente de aspiración 18.

El depósito de vacío 12 consta de un recipiente estanco al vacío 20 con una pared 21 del depósito. El depósito de vacío 12 puede ser cerrado con una tapa amovible 22. En su extremo del lado frontal inferior el recipiente 20 presenta un cárter de salida 24 en el que está prevista centralmente una tubuladura de salida 26 para establecer la conexión con la tubería de aspiración 14. La tubería de aspiración 14 presenta un aislamiento térmico 27. El recipiente 20 presenta en su extremo superior un aro de apoyo 28 sobre el que está puesta la tapa 22 con interposición de una junta anular 30.

El recipiente 20 está provisto en todos lados de un revestimiento aislante 32. Con un dispositivo calentador 34 aplicado a la pared del depósito y embebido en el revestimiento aislante 32 puede ser calentado el espacio interior 36 del depósito de vacío 12. Un dispositivo refrigerador 38 que está asimismo embebido en el revestimiento aislante 32 permite refrigerar la pared del depósito de vacío 12.

En el espacio interior 36 del depósito de vacío 12 está configurada una zona 40 de alojamiento de las piezas de trabajo en la cual pueden ser posicionadas por cargas piezas de trabajo. La zona 40 de alojamiento de las piezas de trabajo está rodeada por una jaula 42 de rejilla de alambre que está dispuesta a una distancia de la pared 21 del depósito y de la zona 40 de alojamiento de las piezas de trabajo y puede ser conectada como electrodo auxiliar.

Para producir un campo eléctrico o un plasma en el depósito de vacío 12 está prevista una fuente de tensión 44 cuya primera salida 46 está en conexión con un dispositivo de conexión 48 con el que las piezas de trabajo pueden ser conectadas como electrodo. Una segunda salida 50 de la fuente de tensión 44 está en conexión con la jaula 42 de rejilla de alambre, y una tercera salida 52 está conductivamente en conexión con la pared 21 del depósito, que según la conmutación de la fuente de tensión constituye un contraelectrodo. Las boquillas de paso 53 de las líneas que van de la primera salida 46 y de la segunda salida 50 al dispositivo de conexión 48 y respectivamente a la jaula 42 de rejilla de alambre sirven para el paso a través de la tapa 42 del depósito de vacío 12, presentando las boquillas de paso preferiblemente cuerpos aislantes autolimpiantes según el documento DE-PS 39 10 931. La fuente de tensión 44 está preferiblemente conexionada de forma tal que la pared 21 del recipiente de vacío 20 está a potencial de tierra.

El dispositivo 10 descrito puede efectuar un tratamiento superficial en distintas modalidades de funcionamiento. Primeramente se carga y se cierra el depósito de vacío 12.

Entonces se efectúa la limpieza de las piezas de trabajo en el proceso de limpieza, que es anterior al proceso de tratamiento con plasma. Para ello son calentadas las piezas de trabajo que están en el depósito de vacío 12. Debido a ello se vaporizan los hidrocarburos y las demás sustancias extrañas que están adheridos y adheridas a las piezas de trabajo. Las sustancias extrañas desprendidas de las piezas de trabajo son retiradas del depósito de vacío por aspiración.

En el proceso de limpieza la fuente de aspiración 18 extrae por aspiración una corriente gaseosa del espacio interior 36 del depósito de vacío 12. La corriente gaseosa es pasada a través del separador 16, en el cual están dispuestas varias chapas deflectoras 54 mediante las cuales la corriente gaseosa es desviada varias veces. Para hacer que el separador 16 funcione como condensador, para la refrigeración del separador 16 se aporta a un dispositivo refrigerador 56 por una tubería 58 de aportación de refrigerante un refrigerante que es evacuado por una tubería 60 de salida del refrigerante. En las paredes del separador 16 y en las chapas deflectoras 54 se depositan hidrocarburos que salen a través de una placa perforada 62 pasando a una salida de condensado 64. Para evacuar las sustancias extrañas que se depositan en la tubería de aspiración 14, ésta presenta una pendiente descendente hacia la salida de condensado 64. Cuando en la salida de condensado 64 se ha juntado una determinada cantidad de condensado, puede abrirse una válvula de cierre 66, con lo que el condensado puede ser evacuado por una tubería de condensado 68.

Mediante un calentamiento de las piezas de trabajo a una temperatura inferior a la temperatura de descomposición de los residuos hidrocarbúricos se acelera el proceso de limpieza sin que se formen residuos de descomposición, que afectarían negativamente al proceso de tratamiento con plasma.

Manteniendo o intensificando el vacío, las piezas de trabajo que han sido sometidas a un proceso de limpieza de este tipo como tratamiento básico pueden ser a continuación sometidas directamente a un tratamiento con plasma.

Para facilitar la aspiración de las trazas de hidrocarburos vaporizadas en las piezas de trabajo, entre un electrodo auxiliar y un contraelectrodo puede procederse al encendido de un plasma en el cual son convertidos los hidrocarburos. Si además se utiliza como contraelectrodo la pared 21 del depósito, un plasma de este tipo también limpia la pared 21 del depósito.

Si son necesarias unas superficies particularmente limpias, a continuación del tratamiento básico puede intercalarse una fase de limpieza intermedia en la cual las trazas de hidrocarburos son desprendidas de las piezas de trabajo por iones gaseosos acelerados en un campo eléctrico. El campo eléctrico puede ser producido aplicando una tensión entre la pieza de trabajo y un contraelectrodo, como por ejemplo la pared del depósito de vacío o un electrodo auxiliar. Gracias a la aceleración de los iones gaseosos hacia la pieza de trabajo porosa se logra una no agresiva limpieza de los poros y huecos de la pieza de trabajo sin que exista el peligro de que se formen depósitos que se coquicen.

Los iones gaseosos que son empleados en la fase de limpieza intermedia pueden ser producidos en un plasma que es producido entre dos electrodos distanciados de las piezas de trabajo, como por ejemplo la jaula 42 de rejilla de alambre y la pared 21 del depósito. El campo eléctrico que lleva los iones gaseosos a las piezas de trabajo es por lo demás independiente de la generación del plasma y puede estar configurado como un campo débil. Gracias a ello es escaso el calentamiento de las piezas de trabajo, y la temperatura de las piezas de trabajo es en particular inferior a una temperatura a la cual se coquizan los hidrocarburos.

El proceso de limpieza puede ser también efectuado con una fase de limpieza posterior en la que las piezas de trabajo son limpiadas en un plasma que las envuelve. En esta limpieza con plasma, en la que se efectúa asimismo aspiración, las piezas de trabajo están conectadas al menos temporalmente como cátodo. El plasma que es producido para la limpieza con plasma es preferiblemente pulsado, gracias a lo cual se impide una sobrecarga térmica de las piezas de trabajo.

Para impedir la formación de incrustaciones que pueden formarse a base de los residuos de los hidrocarburos, la relación duración/periodo entre el tiempo de duración del impulso y el tiempo de pausa del impulso del plasma está adaptada al progreso del proceso. El tiempo de duración del impulso es preferiblemente prolongado en relación con el tiempo de pausa del impulso en la medida en que progresa la limpieza, puesto que las trazas de hidrocarburos de un espesor de unos pocos nanómetros no forman incrustaciones persistentes. El progreso de la limpieza puede determinarse en particular a base de supervisar la disminución del vacío reinante en el depósito de vacío 12 debido a la formación de gas de las trazas de hidrocarburos. La relación duración/periodo entre el tiempo de duración del impulso y el tiempo de pausa del impulso es entonces preferiblemente controlada en dependencia de los resultados de esta supervisión. Una descarga básica mantenida permanentemente en el depósito de vacío 12 permite en un proceso de limpieza la formación de iones y utilizando un plasma pulsado en la fase de limpieza posterior facilita el nuevo encendido del plasma.

En la fase de limpieza resulta especialmente ventajosa la jaula 42 de rejilla de alambre, puesto que la misma permite controlar por separado el campo que es utilizado para la generación del plasma y el campo que es utilizado para el transporte de los iones a las piezas de trabajo. La tensión entre la jaula 42 de rejilla de alambre y la pared 21 del depósito es preferiblemente alta y pulsada, mientras que por el contrario es pequeña y constante la tensión entre la jaula 42 de rejilla de alambre y las piezas de trabajo. Gracias a ello puede impedirse una formación de sólidos al proceder a la eliminación de los residuos de los hidrocarburos. Cuando los residuos de los hidrocarburos han sido eliminados hasta un espesor del orden de nanómetros, puede también ser encendido entre la jaula 42 de rejilla de alambre y las piezas de trabajo un plasma que limpia las piezas de trabajo.

Para la limpieza del separador 16 puede ser conectado un dispositivo calentador alimentado por una fuente de corriente a través de una línea de conexión 70. Debido a ello devienen fluidos y gotean al interior de la salida de condensado 64 los hidrocarburos adheridos a las paredes y a las chapas deflectoras 54 y solidificados ahí.

Para en un proceso de elaboración con plasma que es efectuado con el dispositivo 10 a continuación de la fase de limpieza poder ajustar una atmósfera deseada, como por ejemplo una atmósfera de nitrógeno para la nitruración, en el depósito de vacío 12 hay un dispositivo de admisión de gases por medio del cual pueden ser introducidos en el espacio interior 36 del depósito de vacío 12 gases de reacción y/o gases inertes. El dispositivo 10 ilustrado es adecuado tanto para el procedimiento de deposición física en fase de vapor como para el procedimiento de deposición química en fase de vapor, y en particular para la nitruración por plasma y la carburación por plasma.

Para poder controlar certeramente el proceso de tratamiento con plasma, está previsto un elemento de medición que determina la temperatura de las piezas de trabajo y está al potencial de las piezas de trabajo. Puesto que también la temperatura del recipiente 20 es supervisada y dado el caso influenciada con el dispositivo calentador 34 o con el dispositivo refrigerador 38, pueden mantenerse siempre en el depósito de vacío 12 unas óptimas condiciones de tratamiento con plasma. Durante el tratamiento con plasma, el dispositivo refrigerador 38 sirve para impedir un sobrecalentamiento del recipiente 20.

Claims (5)

1. Dispositivo de tratamiento superficial de piezas de trabajo porosas, con un depósito de vacío (12) para el alojamiento de las piezas de trabajo, un dispositivo de conexión (48) dispuesto en el depósito de vacío (12), siendo las piezas de trabajo susceptibles de ser conectadas con dicho dispositivo de conexión como electrodos a una fuente de tensión (44), formando la pared del depósito un contraelectrodo (21), una fuente de aspiración (18) que a través de una tubería de aspiración (14) está en conexión con el depósito de vacío (12), y un separador (16) que está dispuesto en la tubería de aspiración (14) entre el depósito de vacío (12) y la fuente de aspiración (18) y separa de la mezcla gaseosa extraída del depósito de vacío (12) por aspiración las sustancias extrañas;

caracterizado por el hecho de que

en el depósito de vacío (12) está dispuesto en forma de una jaula de rejilla un electrodo auxiliar (42) que rodea al menos parcialmente a una zona de alojamiento de las piezas de trabajo, siendo susceptibles de ser controlados por separado el campo eléctrico que es producido entre el electrodo auxiliar (42) y el contraelectrodo (21) para la generación de un plasma y el campo eléctrico que es producido entre la pieza de trabajo (40) y el electrodo auxiliar (42) para el transporte de iones a la pieza de trabajo.

2. Dispositivo según la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que entre el contraelectrodo (21) y el electrodo auxiliar (42) puede ser producido un plasma para la conversión de los hidrocarburos que se desprenden de la pieza de trabajo (40), siendo el campo eléctrico entre el electrodo auxiliar (42) y la pieza de trabajo (40) independiente de la generación del plasma entre el contraelectrodo (21) y el electrodo auxiliar (42).

3. Dispositivo según la reivindicación 1 ó 2, caracterizado por el hecho de que la fuente de tensión (44) puede ser conmutada a elección entre un modo de generación de campo en el cual está aplicado un campo estático entre las piezas de trabajo y el contraelectrodo (21) y un modo de generación de un plasma pulsado.

4. Dispositivo según la reivindicación 3, caracterizado por el hecho de que en el modo de generación de un plasma la relación duración/periodo entre el tiempo de duración del impulso y el tiempo de pausa del impulso del plasma puede ser adaptada al progreso del proceso.

5. Dispositivo según una de las reivindicaciones 1-4, caracterizado por el hecho de que la fuente de tensión (44) puede ser conmutada a elección para que trabaje en un modo auxiliar en el cual durante la generación de un plasma entre la pieza de trabajo (40) y el electrodo auxiliar (42) es producido un plasma adicional entre el contraelectrodo (21) y el electrodo auxiliar (42).