ES2236282T3 - Plancha de impresion litografica digital termica. - Google Patents

Abstract

Un elemento capaz de formar imágenes térmicamente, que comprende, en orden: una capa superior; una capa inferior; y un sustrato hidrófilo; en el que: la capa inferior comprende un primer material polimérico; la capa superior comprende un segundo material polimérico; el segundo material polimérico es separable por un revelador alcalino acuoso, que tiene un pH de al menos 7 a 11, tras exposición térmica; la capa superior está libre de materiales que funcionan como componente supresor de la solubilidad para el segundo material polimérico; la capa superior es receptiva a la tinta.

Description

Plancha de impresión litográfica digital térmica.

La invención se refiere a la impresión litográfica. Más particularmente, la invención se refiere a elementos capaces de formar imágenes térmicamente, útiles como planchas de impresión litográfica, y a un método para formar una imagen usando un elemento capaz de formar imágenes térmicamente.

En la impresión litográfica, se generan áreas receptivas a la tinta, conocidas como áreas de imagen, sobre una superficie hidrófila. Cuando la superficie se humedece con agua y se aplica tinta, las regiones hidrófilas retienen el agua y repelen la tinta, y las áreas receptivas a la tinta aceptan la tinta y repelen el agua. La tinta se transfiere a la superficie de un material sobre el que la imagen va a ser reproducida. Típicamente, la tinta se transfiere primero a una mantilla intermedia, que a su vez transfiere la tinta a la superficie del material sobre el que la imagen va a ser reproducida.

Los precursores de planchas de impresión litográfica comprenden típicamente un revestimiento sensible a la radiación aplicado sobre la superficie hidrófila de un soporte. Si, después de la exposición a la radiación, las regiones impresionadas del revestimiento se hacen solubles o dispersables y son retiradas en el proceso de revelado, revelando la superficie hidrófila subyacente del soporte, la plancha se llama plancha de impresión de funcionamiento en positivo. A la inversa, si las regiones impresionadas de la plancha se hacen insolubles en el revelador, y las regiones no impresionadas son retiradas por el proceso de revelado, la plancha se llama plancha de funcionamiento en negativo. En cada caso, las regiones de la capa sensible a la radiación (es decir, las áreas de imagen) que permanecen son receptivas a la tinta, y las regiones de la superficie hidrófila reveladas por el proceso de revelado aceptan agua, típicamente una solución fuente, y repelen la tinta.

La formación directa de imágenes digitales en precursores de planchas de impresión litográfica, que obvia la necesidad de exposición mediante un negativo, se está haciendo cada vez más importante en la industria de la impresión. Se han desarrollado sistemas capaces de formar imágenes térmicamente en los que se ha sugerido que se forma un complejo térmicamente rompible entre un material polimérico y un componente supresor de la solubilidad que suprime de manera reversible la solubilidad del material polimérico en el revelador. Después de la exposición térmica a la imagen, la velocidad de retirada de las regiones impresionadas, por el revelador, es mayor que la velocidad de retirada de las regiones no impresionadas, con lo que las regiones impresionadas son retiradas por el revelador para formar una imagen. Tales sistemas se describen en, por ejemplo, Parsons, documento WO 97/39894, Nagasaka, documento EP 0 823 327, Miyake, documento EP 0 909 627, West, documento WO 98/42507, y Nguyen, documento WO 99/11458. Sin embargo, en estos sistemas es necesario usar un componente supresor de la solubilidad para el material polimérico en la parte superior. Así, existe una necesidad de un elemento capaz de formar imágenes térmicamente mejorado, útil como miembro de impresión litográfica, que no sufra esta desventaja.

Se describen más elementos formadores de imágenes sensibles al calor en el documento EP 0 960 728.

En una realización, la invención es un método para formar una imagen usando un elemento capaz de formar imágenes térmicamente, que comprende una capa superior que no comprende un compuesto que actúe como componente supresor de la solubilidad. El método comprende las etapas de:

a) exponer térmicamente a una imagen el elemento capaz de formar imágenes térmicamente, y producir regiones impresionadas y no impresionadas en el elemento capaz de formar imágenes térmicamente; y

b) revelar el elemento capaz de formar imágenes térmicamente con un revelador alcalino acuoso y retirar las regiones impresionadas;

en el que:

el elemento capaz de formar imágenes térmicamente comprende, en orden:

una capa superior;

una capa inferior; y

un sustrato hidrófilo;

la capa inferior comprende un primer material polimérico;

la capa superior comprende un segundo material polimérico;

el segundo material polimérico es separable por el revelador alcalino acuoso tras exposición térmica;

la capa superior está libre de materiales que funcionen como un componente supresor de la solubilidad para el segundo material polimérico;

la capa superior es receptiva a la tinta; y

el revelador alcalino acuoso tiene un pH de al menos 7 a alrededor de 11.

En otra realización, la invención es un elemento capaz de formar imágenes térmicamente. En aún otra realización, la invención es un método de impresión que usa un elemento capaz de formar imágenes térmicamente, impresionado y revelado.

La capa superior no requiere un componente que funcione como un componente supresor de la solubilidad para el segundo material polimérico. En consecuencia, la capa superior está libre de materiales que funcionen como un componente supresor de la solubilidad para el segundo material polimérico. Típicamente, el revelador alcalino acuoso tiene un pH de alrededor de 10. En una realización, la capa superior consiste esencialmente en el segundo material polimérico. En una realización preferida, el segundo material polimérico es una resina fenólica o una resina de sulfonamida, más preferiblemente una resina novolaca o una resina resol.

El elemento capaz de formar imágenes térmicamente (a veces denominado precursor para una plancha de impresión litográfica o miembro de impresión litográfica) comprende un sustrato con una superficie hidrófila, una capa inferior que comprende un primer material polimérico, y una capa superior receptiva a la tinta que comprende un segundo material polimérico. La capa inferior está sobre la superficie hidrófila, y la capa superior sobre la capa inferior. La capa superior no comprende un inhibidor de la solubilidad para el segundo material polimérico. Aunque pueden estar presentes otras capas, tales como capas absorbentes de radiaciones, típicamente no están presentes otras capas. El elemento capaz de formar imágenes térmicamente es expuesto térmicamente y revelado con un revelador alcalino acuoso que tiene un pH entre 7 y 11 para retirar las regiones impresionadas, sin retirar las regiones no impresionadas. El elemento con la imagen formada es útil como plancha de impresión litográfica o miembro de impresión litográfica.

Sustrato hidrófilo

El sustrato hidrófilo, es decir, el sustrato que comprende al menos una superficie hidrófila, comprende un soporte, que puede ser cualquier material usado convencionalmente para preparar planchas de impresión litográfica. El soporte es preferiblemente fuerte, estable y flexible. Debe resistir cambios dimensionales bajo las condiciones de uso, para que los registros de color se registren en una imagen a todo color. Típicamente, puede ser cualquier material auto-soportado, incluyendo películas poliméricas, cerámicas, metales, o papeles rígidos, o una laminación de cualquiera de estos materiales. Los soportes de papel están típicamente "saturados" con polímeros para comunicarles resistencia al agua, estabilidad dimensional y resistencia.

Los soportes de metal incluyen aluminio, cinc, titanio, y aleaciones de ellos. Un soporte de metal preferido es una lámina de aluminio. La superficie de la lámina de aluminio se puede tratar por técnicas conocidas en la técnica, que incluyen graneado físico, graneado electroquímico, graneado químico, y anodizado, y después acondicionar por medios químicos, por ejemplo, por tratamiento con agua, una disolución de una sal de fosfato o silicato, o un ácido policarboxílico, para producir la superficie hidrófila.

Si la superficie es rugosa, la rugosidad media Ra está preferiblemente en el intervalo de 0,1 \mum a 0,8 \mum. Se describen sustratos rugosos en los que la superficie tiene una rugosidad superficial de 0,1 \mum a 2 \mum, en Bhambra, documentos WO97/19819, WO98/52769 y WO98/52768.

Las películas poliméricas útiles incluyen películas de poliéster (tales como MYLAR®, película de poli(tereftalato de etileno) comercializada por E.I. du Pont de Nemours and Co., Wilmington, DE, y poli(naftanato de etileno). Una película polimérica preferida es el poli(tereftalato de etileno).

El sustrato puede consistir sólo en el soporte, o puede comprender adicionalmente una o más capas subsecuentes y/o de adhesión. Típicamente, las películas poliméricas contienen un sub-revestimiento en una o ambas superficies, para modificar las características superficiales y potenciar la hidrofilia de la superficie, para mejorar la adhesión a capas subsecuentes, para mejorar la planaridad de sustratos de papel, y similares. La naturaleza de esta capa o capas depende del sustrato y la composición de las capas revestidas subsecuentes. Ejemplos de materiales de capas subsecuentes son materiales que promueven la adhesión, tales como alcoxisilanos, aminopropiltrietoxisilano, glicidoxipropiltrietoxisilano y polímeros epoxifuncionales, así como materiales subsecuentes convencionales usados sobre bases de poliéster en las películas fotográficas.

El lado posterior del sustrato (es decir, el lado opuesto a la superficie hidrófila, a la capa inferior y a la capa superior) se puede revestir con un agente antiestático y/o una capa deslizante o una capa mate para mejorar el manejo y el "tacto" del elemento capaz de formar imágenes.

El soporte debe ser dimensionalmente estable y de suficiente grosor para resistir el desgaste de la impresión, y ser lo suficientemente fino para envolverse alrededor de una forma de impresión. El poli(tereftalato de etileno) o el poli(naftanato de etileno) tienen típicamente un grosor de alrededor de 100 \mum a alrededor de 310 \mum, preferiblemente alrededor de 175 \mum. La lámina de aluminio tiene típicamente un grosor de alrededor de 100 a alrededor de 600 \mum.

Capa inferior

La capa inferior, o primera capa, está sobre la superficie hidrófila del sustrato hidrófilo. Después de la formación de la imagen, es retirada en las regiones donde se ha formado la imagen, junto con la capa superior, por el revelador alcalino acuoso, para exponer la superficie hidrófila subyacente del sustrato. Es, preferiblemente, soluble en el revelador alcalino acuoso, para impedir la formación de suspensiones del revelador. Preferiblemente, es soluble en un revelador totalmente acuoso, es decir, uno que no incluye disolventes orgánicos añadidos.

La capa inferior comprende un primer material polimérico. El primer material polimérico es soluble, preferiblemente, en un revelador alcalino acuoso. Además, el primer material polimérico debe ser insoluble en el disolvente usado para revestir la capa superior, para que la capa superior pueda ser revestida sobre la capa inferior sin disolver la capa inferior.

Los materiales poliméricos útiles como primer material polimérico incluyen los que contienen una funcionalidad ácida y/o fenólica, y mezclas de tales materiales. Los materiales poliméricos útiles incluyen acrílicos carboxifuncionales, co-polímeros de acetato de vinilo/crotonato/neodecanoato de vinilo, co-polímeros de estireno y anhídrido maleico, resinas fenólicas, rosina de madera maleada, y combinaciones de ellos.

Capas inferiores resistentes a disolventes

Se describen capas inferiores resistentes a disolventes en Shimazu, documento WO 01/46318. Unos materiales poliméricos particularmente útiles son los co-polímeros que comprenden maleimidas N-sustituidas, especialmente N-fenilmaleimida; polivinilacetales; metacrilamidas, especialmente metacrilamida; y ácido acrílico y/o metacrílico, especialmente ácido metacrílico. Más preferiblemente, están presentes dos grupos funcionales en el material polimérico, y lo más preferiblemente, están presentes tres grupos funcionales en el material polimérico. Los materiales poliméricos de este tipo preferidos son los co-polímeros de N-fenilmaleimida, metacrilamida, y ácido metacrílico, más preferiblemente los que contienen de alrededor de 25 a alrededor de 75% en moles, preferiblemente de alrededor de 35 a alrededor de 60% en moles, de N-fenilmaleimida; de alrededor de 10 a alrededor de 50% en moles, preferiblemente de alrededor de 15 a alrededor de 40% en moles, de metacrilamida; y de alrededor de 5 a alrededor de 30% en moles, preferiblemente de alrededor de 10 a alrededor de 30% en moles, de ácido metacrílico. Se pueden usar otros monómeros hidrófilos, tales como metacrilato de hidroxietilo, en lugar de parte o toda la metacrilamida. Se pueden usar otros monómeros solubles en medios alcalinos acuosos, tales como el ácido acrílico, en lugar de parte del ácido metacrílico.

Estos materiales poliméricos son solubles en reveladores alcalinos acuosos. Además, son solubles en una mezcla de lactato de metilo/metanol/dioxolano (15:42,5:42,5% en peso), que se puede usar como disolvente de revestimiento para la capa inferior. Sin embargo, son escasamente solubles en disolventes tales como acetona, alcohol isopropílico, acetato de butilo, y butanol, que se pueden usar como disolventes para revestir la capa superior sobre la capa inferior sin disolver la capa inferior. Estos materiales poliméricos son típicamente resistentes a lavados con 80% en peso de diacetona alcohol/30% de agua.

Otro grupo de materiales poliméricos preferidos para el primer material polimérico son unos co-polímeros solubles en el revelador alcalino acuoso que comprenden un monómero que tiene un enlace de urea en su cadena lateral (es decir, un grupo urea colgante), tales se describen en Ishizuka, Pat. U.S. Nº 5.731.127. Estos co-polímeros comprenden de alrededor de 10 a 80% en peso, preferiblemente de alrededor de 20 a 80% en peso, de uno o más monómeros representados por la fórmula general:

CH_{2}=C(R)-CO_{2}-X-NH-CO-NH-Y-Z

en la que R es -H ó -CH_{3}; X es un grupo enlazante bivalente; Y es un grupo aromático bivalente sustituido o sin sustituir; y Z es -OH, -COOH, ó SO_{2}NH_{2}.

R es preferiblemente -CH_{3}. Preferiblemente, X es un grupo alquileno sustituido o sin sustituir, un grupo fenileno [C_{6}H_{4}] sustituido o sin sustituir, o un grupo naftaleno [C_{10}H_{6}] sustituido o sin sustituir; tales como -(CH_{2})_{n}-, en el que n es de 2 a 8; 1,2-, 1,3- ó 1,4-fenileno; y 1,4-, 2,7- y 1,8-naftaleno. Más preferiblemente, X está sin sustituir, e incluso más preferiblemente, n es 2 ó 3; lo más preferiblemente, X es -(CH_{2}CH_{2})-. Preferiblemente, Y es un grupo fenileno sustituido o sin sustituir o un grupo naftaleno sustituido o sin sustituir; tales como 1,2-, 1,3- ó 1,4-fenileno; y 1,4-, 2,7- y 1,8-naftaleno. Más preferiblemente, Y está sin sustituir, lo más preferiblemente es 1,4-fenileno sin sustituir. Z es -OH, -COOH, ó -SO_{2}NH_{2}, preferiblemente -OH. Un monómero preferido es:

CH_{2}=C(CH_{3}) -CO_{2}-CH_{2}CH_{2}-NH-CO-NH-\mathit{p}-C_{6}H_{4}-Z

en el que Z es -OH, -COOH, ó -SO_{2}NH_{2}, preferiblemente -OH.

En la síntesis de un co-polímero, se pueden usar uno o más de los monómeros que contienen grupos urea. Los co-polímeros comprenden también de 20 a 90% en peso de otros monómeros polimerizables, tales como maleimida, ácido acrílico, ácido metacrílico, ésteres acrílicos, ésteres metacrílicos, acrilonitrilo, metacrilonitrilo, acrilamidas, y metacrilamidas. Un co-polímero que comprende un exceso de 60% en moles y no mayor que 90% en moles de acrilonitrilo y/o metacrilonitrilo, además de acrilamida y/o metacrilamida, proporciona unas propiedades físicas superiores. Más preferiblemente, los co-polímeros solubles en medio alcalino comprenden de 30 a 70% en peso del monómero que contiene el grupo urea; de 20 a 60% en peso de acrilonitrilo o metacrilonitrilo, preferiblemente acrilonitrilo; y de 5 a 25% en peso de acrilamida o metacrilamida, preferiblemente metacrilamida. Estos materiales poliméricos son típicamente resistentes a lavados con 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua.

Los materiales poliméricos descritos anteriormente son solubles en reveladores alcalinos acuosos. Además, son solubles en disolventes polares, tales como éter monometílico del etilenglicol, que se puede usar como disolvente de revestimiento para la capa inferior. Sin embargo, son escasamente solubles en disolventes menos polares, tales como 2-butanona (metiletilcetona), que se puede usar como disolvente para revestir la capa superior sobre la capa inferior sin disolver la capa inferior.

Ambos de estos grupos de materiales poliméricos se pueden preparar por métodos, tales como polimerización por radicales libres, bien conocidos por los expertos en la técnica. La síntesis de los co-polímeros solubles en medios alcalinos acuosos que tienen enlaces de urea en sus cadenas laterales se describe, por ejemplo, en Ishikuza, Pat. U.S. Nº 5.731.127.

Pueden ser útiles en la capa inferior otros materiales poliméricos solubles en el revelador alcalino acuoso. Pueden ser útiles los derivados co-poliméricos de éter metilvinílico/anhídrido maleico que contienen un resto de imida cíclica N-sustituida, y los derivados de co-polímeros de estireno/anhídrido maleico que contienen un resto de imida cíclica N-sustituida, si tienen las características de solubilidad requeridas. Estos co-polímeros se pueden preparar por reacción del co-polímero de anhídrido maleico con una amina, tal como p-aminobencenosulfonamida, o p-aminofenol, seguido del cierre del anillo por un ácido.

Otro grupo de materiales poliméricos que son útiles en la capa inferior incluyen co-polímeros solubles en el revelador alcalino acuoso que comprenden de alrededor de 10 a 90% en moles de una unidad monomérica de sulfonamida, especialmente los que comprenden N-(p-aminosulfonilfenil)-metacrilamida, N-(m-aminosulfonilfenil)metacrilamida, N-(o-aminosulfonilfenil)metacrilamida, y/o la correspondiente acrilamida. Se describen unos útiles materiales poliméricos solubles en el revelador alcalino, que comprenden un grupo sulfonamida colgante, su método de preparación, y monómeros útiles para su preparación, en Aoshima, Pat. U.S. Nº 5.141.838. Unos materiales poliméricos particularmente útiles comprenden (1) la unidad monomérica de sulfonamida, especialmente N-(p-aminosulfonilfenil)metacrilamida; (2) acrilonitrilo y/o metacrilonitrilo; y (3) metacrilato de metilo y/o acrilato de metilo. Estos materiales poliméricos son típicamente resistentes a lavados con 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua.

Se pueden usar en la capa inferior combinaciones de materiales poliméricos solubles en el revelador alcalino, para proporcionar una resistencia química mejorada, es decir, resistencia tanto a una solución fuente como a lavados agresivos. Una combinación de un material polimérico que es resistente a 80% en peso de diacetona alcohol/20% en peso de agua, lo que prueba la resistencia a un lavado UV, con un material polimérico que es resistente a 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua, lo que prueba la resistencia a una solución fuente de alcohol, produce, sorprendentemente, una capa que muestra una buena resistencia a ambas mezclas de disolventes. Preferiblemente, el primer material polimérico tiene una pérdida de peso tras empaparlo durante un minuto menor que alrededor de 20%, más preferiblemente menor que alrededor de 10%, y lo más preferiblemente menor que alrededor de 5%, en 80% en peso de diacetona alcohol/20% en peso de agua, y el segundo material polimérico tiene una pérdida de peso tras empaparlo durante un minuto menor que alrededor de 20%, más preferiblemente menor que alrededor de 10%, y lo más preferiblemente menor que alrededor de 10%, en 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua. La pérdida de peso tras empapar durante un minuto se mide revistiendo una capa del material polimérico sobre un sustrato, típicamente a un peso de revestimiento de alrededor de 1,5 g/m^{2}, empapando el sustrato revestido en el disolvente apropiado durante un minuto a temperatura ambiente, secando el sustrato revestido, y midiendo la pérdida de peso como tanto por ciento del peso total del material polimérico presente en el sustrato.

La capacidad de una capa inferior de resistir tanto una solución fuente como lavados agresivos se puede estimar por un parámetro de resistencia química (PRQ), definido como sigue:

PRQ = [(100 - a)(100 - b)]/10^{4}

en el que:

a es el % de pérdida de peso tras empaparla durante un minuto en 80% en peso de diacetona alcohol/20% de agua; y b es el % de pérdida de peso tras empaparla durante un minuto en 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua.

El parámetro de resistencia química debe ser mayor que alrededor de 0,4, preferiblemente mayor que alrededor de 0,5, más preferiblemente mayor que alrededor de 0,6. En casos favorables, se puede obtener un parámetro de resistencia química de al menos alrededor de 0,65. La pérdida de peso tras empapar durante un minuto en cada disolvente debe ser menor que alrededor de 60%, preferiblemente menor que alrededor de 40%, y más preferiblemente menor que alrededor de 35%. Preferiblemente, la pérdida de peso tras empapar durante un minuto debe ser menor que alrededor de 60%, preferiblemente menor que alrededor de 40%, y más preferiblemente menor que alrededor de 35%, en un disolvente, y menor que alrededor de 40%, más preferiblemente menor que alrededor de 30%, y más preferiblemente menor que alrededor de 20%, y lo más preferiblemente menor que alrededor de 10% en el otro disolvente.

La combinación de (1) un co-polímero que comprende maleimidas N-sustituidas, especialmente N-fenilmaleimida; metacrilamidas, especialmente metacrilamida; y ácido acrílico y/o metacrílico, especialmente ácido metacrílico, (2) con un co-polímero soluble en medio alcalino que comprende un grupo urea en su cadena lateral o con un co-polímero soluble en medio alcalino que comprende 10 a 90% en moles de una unidad monomérica de sulfonamida, especialmente una que comprende N-(p-aminosulfonilfenil)metacrilamida, N-(m-aminosulfonilfenil)metacrilamida, N-(o-aminosulfonilfenil)metacrilamida, y/o la correspondiente acrilamida, es especialmente ventajosa. También pueden estar presentes en la combinación otro u otros materiales poliméricos, tales como una resina fenólica. Otros materiales poliméricos preferidos, cuando están presentes, son las resinas novolacas.

Cuando se usa una combinación de materiales poliméricos, la capa inferior comprende típicamente de alrededor de 10% a alrededor de 90% en peso del material polimérico que es resistente a 80% en peso de diacetona alcohol/20% en peso de agua, y de alrededor de 10% a alrededor de 90% en peso del material polimérico que es resistente a 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua, basado en el peso total de estos materiales poliméricos en la capa inferior. Preferiblemente, la capa inferior comprende de alrededor de 40% a alrededor de 85% en peso del material polimérico que es resistente a 80% en peso de diacetona alcohol/20% en peso de agua, y de alrededor de 15% a alrededor de 60% en peso del material polimérico que es resistente a 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua, basado en el peso total del primer y segundo materiales poliméricos en la capa inferior. El primer y segundo materiales poliméricos comprenden típicamente, juntos, al menos alrededor de 50% en peso, preferiblemente, al menos alrededor de 60% en peso, y más preferiblemente, al menos alrededor de 65% en peso, de la capa inferior, basado en el peso total de los materiales en la capa inferior. En la capa inferior pueden estar presentes hasta alrededor de 20% en peso, preferiblemente de alrededor de 1 a alrededor de 20% en peso, de otros materiales poliméricos, basado en la cantidad total de todos los materiales poliméricos en la capa inferior.

Composiciones fotosensibles solubles en bases, de funcionamiento en negativo

La capa inferior puede comprender una composición fotosensible soluble en bases, de funcionamiento en negativo. Tales composiciones se denominan a menudo "composiciones fotoendurecibles" o "composiciones fotoinsolubilizables" porque se hacen insolubles en el revelador bajo irradiación. Típicamente, estas composiciones comprenden materiales que sufren fotorreticulación, fotodimerización, y/o fotopolimerización bajo la exposición a radiación actínica, típicamente luz ultravioleta. Las composiciones fotoendurecibles producen planchas de impresión con una alta vida de prensado y una alta resistencia a productos químicos de imprenta. Se discuten sistemas que funcionan en negativo, por ejemplo, en el Capítulo 2 de Photoreactive Polymers: the Science and Technology of Resists, A. Reiser, Wiley, Nueva York, 1989, págs. 22-64.

La capa inferior puede comprender una composición de funcionamiento en negativo que contiene diazonio. Típicamente, el compuesto que contiene diazonio es un producto de policondensación de diazonio. Los productos de policondensación de diazonio son bien conocidos por los expertos en la técnica. Se pueden preparar, por ejemplo, por condensación de un diazomonómero, tal como se describe en Toyama, Pat. U.S. Nº 4.687.727, con un agente de condensación, tal como formaldehído, acetaldehído, propionaldehído, butiraldehído, isobutiraldehído o benzaldehído. Además, se usan productos de condensación mezclados, que, aparte de las unidades de sal de diazonio, comprenden otras unidades no fotosensibles que se derivan de compuestos condensables, en particular de aminas aromáticas, fenoles, éteres fenólicos, tioéteres aromáticos, hidrocarburos aromáticos, heterociclos aromáticos o amidas de ácidos orgánicos. Ejemplos especialmente ventajosos de productos de policondensación de diazonio son los productos de reacción de sales de difenilamina-4-diazonio, que tienen opcionalmente un grupo metoxilo en el grupo fenilo que lleva el grupo diazo, con formaldehído ó 4,4'-bis-metoximetildifeniléter. Sulfonatos aromáticos, tales como 4-tolilsulfonato o mesitilensulfonato, tetrafluoroborato, hexafluorofosfato, hexafluoroantimoniato y hexafluoroarseniato son particularmente adecuados como aniones de estas diazorresinas. El producto de policondensación de diazonio está presente preferiblemente en las mezclas fotosensibles en una cantidad de 3 a 60% en peso.

Se conocen numerosos aglutinantes. Se describe un sistema tal en Baumann, Pat. U.S. Nº 5.700.619. El aglutinante es un poli(alcohol vinílico) acetalizado, con grupos carboxilo colgantes.

La capa inferior puede comprender una composición fotopolimerizable. Las composiciones fotosensibles preferidas son las composiciones fotopolimerizables que comprenden uno de los monómeros, uno o más aglutinantes, y uno o más sistemas fotoiniciadores. Pueden estar presentes otros componentes añadidos de manera convencional a las composiciones fotopolimerizables, para modificar las propiedades físicas de la película. Tales componentes incluyen, por ejemplo, plastificantes, estabilizadores térmicos, modificadores de la adhesión, auxiliares de revestimiento, y agentes de desprendimiento. Se pueden añadir, por ejemplo, tensioactivos no iónicos a la composición fotopolimerizable como auxiliares de revestimiento. Tales sistemas son bien conocidos en la técnica, y se discuten, por ejemplo, en Photopolymers: Radiation Curable Imaging Systems, B. M. Monroe, en Radiation Curing: Science and Technology, S. P. Pappas, Ed., Plenum, Nueva York, 1992, págs. 399-440.

Las composiciones fotopolimerizables comprenden al menos un compuesto etilénicamente insaturado que sufre una polimerización iniciada por radicales libres, conocido de manera general como un monómero. Los monómeros son típicamente multifuncionales, es decir, comprenden más de un grupo etilénicamente instaurado polimerizable por radicales libres. Los monómeros multifuncionales típicos son ésteres insaturados de alcoholes, preferiblemente ésteres de acrilato y metacrilato de polioles, tales como, triacrilato y trimetacrilato de trimetilolpropano, triacrilato y trimetacrilato de pentaeritritol, tetraacrilato y tetrametacrilato de pentaeritritol, triacrilato y trimetacrilato de trimetilolpropano etoxilado, triacrilato y trimetacrilato de glicerolpropoxilo, diacrilato y dimetacrilato de etilenglicol, diacrilato y dimetacrilato de tripropilenglicol, y diacrilato y dimetacrilato de tetraetilenglicol. También se pueden usar oligómeros y/o prepolímeros, tales como acrilato y metacrilato de uretano, acrilato y metacrilato epoxídico, acrilato y metacrilato de poliéster, acrilato y metacrilato de poliéter o resinas de poliéster insaturadas. Otros numerosos monómeros insaturados, polimerizables por polimerización iniciada por radicales libres, y útiles en las composiciones fotosensibles, son conocidos por los expertos en la técnica.

La composición comprende al menos un material polimérico macromolecular formado previamente, conocido de manera general como aglutinante. En general, el aglutinante debe ser hinchable o, preferiblemente, soluble en el disolvente de revestimiento, y compatible con los otros componentes del sistema fotopolimerizable. Los aglutinantes representativos son el poli(metacrilato de metilo) y co-polímeros de metacrilato de metilo con otros acrilatos alquílicos, metacrilatos alquílicos, ácido metacrílico, y/o ácido acrílico. Numerosos otros aglutinantes útiles en las composiciones fotopolimerizables son bien conocidos por los expertos en la técnica.

Cuando el material es para ser curado por irradiación con radiación ultravioleta o visible, puede estar presente un sistema de iniciación, que genera radicales libres, activable por radiación ultravioleta o visible, conocido como sistema de fotoiniciación, para facilitar la polimerización de los monómeros polimerizables. El sistema fotoiniciador absorbe en las regiones del ultravioleta y/o visible del espectro, es decir, en el intervalo de 300 a 800 nm, preferiblemente en el ultravioleta, es decir, de 300 nm a 400 nm.

El sistema de fotoiniciación puede ser un único compuesto o una mezcla de compuestos. Se describen sistemas de fotoiniciación adecuados en "Phtotoinitiators for Free-Radical-Initiated Photoimaging Systems", por B. M. Monroe y G. C. Weed, Chem. Rev., 93, 435-448 (1993) y en "Free Radical Polymerization", por K. K. Dietliker, en Chemistry and Technology of UV EB Formulation for Coatings, Inks, and Paints, P. K. T. Oldring, ed., SITA Technology Ltd., Londres, 1991, Vol. 3, págs. 59-525. Los compuestos típicos de fotoiniciación por radicales libres incluyen benzofenona, 2-hidroxi-2-metil-1-fenilpropan-1-ona (Darocur® 1173), óxido de 2,4,6-trimetilbenzolildifenil-fosfina (Lucerin® TPO), 2-isopropiltioxantona, 2-clorotioxantona, 2,2-dimetoxi-2-fenil-acetofenona (cetal bencildimetílico, BDC, Irgacure® 651, Lucerin® BDC), 2-metil-1-[4-(metiltio)fenil]-2-morfolinopropanona-1 (Irgacure® 907), 1-hidroxiciclohexilfenilcetona (HCPK, Irgacure® 184), óxido de bis(2,6-dimetoxibenzolil)-2,4,4-trimetil-pentilfosfina, y combinaciones de ellos. Los fotoiniciadores mezclados incluyen una mezcla 50:50 de 2-hidroxi-2-metil-1-fenilpropan-1-ona y óxido de 2,4,6-trimetilbenzolil-difenilfosfina (Darocur® 4265), y una mezcla 25:75 de óxido de bis(2,6-dimetoxibenzolil)-2,4,4-trimetilpentilfosfina y 2-hidroxi-2-metil-1-fenilpropna-1-ona (CGI 1700).

Un sistema híbrido que comprende una combinación de un producto de policondensación de diazonio y un sistema polimerizable por radicales libres puede ser ventajoso para ciertas aplicaciones. Las composiciones de tales sistemas híbridos comprenden, preferiblemente, de 1 a 50% de productos de policondensación de diazonio, de 0,5 a 20% de fotoiniciadores, así como de 5 a 80% de componentes polimerizables por radicales libres.

Los sistemas fotorreticulables comprenden típicamente al menos un aglutinante y un agente reticulante al menos bifuncional fotoactivado, que reticule el aglutinante bajo irradiación. Se han usado azidas orgánicas, que se cree que forman nitrenos bajo irradiación, para reticular aglutinantes. Los diazidocompuestos, tales como el derivado sulfonado del 4,4'-diazidoestilbeno, son azidas preferidas para la fotorreticulación.

Los sistemas fotodimerizables comprenden un aglutinante que forma una reticulación bajo irradiación. Los aglutinantes fotorreticulables incluyen, por ejemplo, los alcoholes polivinílicos funcionalizados con grupos cinamato, tales como los que se describen en Minsk, Pat. U.S. Nos. 2.690.966 y 2.725.372, o con grupos N-alquilestirilpiridinio o N-alquilestirilquinolinio, tales como los que se describen en, por ejemplo, Ichimura, Pat. U.S. Nos. 4.272.620, 4.287.335, 4.339.524, 4.564.580 y 4.777.114. Se describen otros sistemas fotorreticulables en, por ejemplo, Osada, Pat. U.S. Nº 3.804.628, y Aoshima, Pat. U.S. Nº 5.240.808.

Material de conversión fototérmica

Cuando el elemento capaz de formar imágenes térmicamente va a formar una imagen por exposición con radiación infrarroja, el elemento, preferiblemente, absorbe radiación en el intervalo de alrededor de 800 nm a 1200 nm, el intervalo de radiación usado comúnmente para formar una imagen en elementos capaces de formar imágenes térmicamente. Típicamente, está presente un absorbente, denominado a veces "material de conversión fototérmica", en la capa inferior, la capa superior, y/o una capa absorbente separada. Cuando está presente una capa absorbente, está situada típicamente entre la capa superior y la capa inferior. Cuando el material de conversión fototérmica está presente en la capa superior, no puede ser un material que actúe como un componente supresor de la solubilidad. El material de conversión fototérmica está situado preferiblemente en la capa inferior. La capa superior está, preferiblemente, libre de materiales de conversión fototérmica, es decir, la capa superior está sustancialmente libre de materiales de conversión fototérmica.

Los materiales de conversión fototérmica absorben radiación y la convierten en calor. Los materiales de conversión fototérmica pueden absorber radiación ultravioleta, visible y/o infrarroja, y convertirla en calor. Aunque el primer material polimérico puede comprender en sí mismo un resto absorbente, es decir, ser un material de conversión fototérmica, típicamente el material de conversión fototérmica es un compuesto separado.

El absorbente de la radiación que forma la imagen puede ser bien un tinte o bien un pigmento, tal como un tinte o pigmento de las clases escuarilio, merocianina, indolizina, pirilio o ditioleno metálico. Ejemplos de pigmentos absorbentes son el Projet 900, Projet 860 y Projet 830 (todos disponibles en The Zeneca Corporation). También se pueden usar pigmentos de negro de carbón. A causa de sus amplias bandas de absorción, se pueden usar planchas basadas en negro de carbón con dispositivos múltiples formadores de imagen que tienen un amplio intervalo de longitudes de onda de picos de emisión.

Se prefieren los tintes, especialmente tintes con un alto coeficiente de extinción en el intervalo de 750 nm a 120 nm. Los tintes se pueden elegir, por ejemplo, entre tintes de indoanilina, tintes de oxonol, derivados de la porfirina, tintes de antraquinona, tintes de merostirilo, compuestos de pirilio y derivados de escuarilio. Se describen tintes absorbentes en numerosas descripciones y solicitudes de patente en el campo, por ejemplo, Nagasaka, documento EP 0.823.327, Van Damme, documento EP 0.908.397, DeBoer, Pat. U.S. Nº 4.973.572, Jandrue, Pat. U.S. Nº 5.244.771, y Chapman, Pat. U.S. Nº 5.401.618. Ejemplos de tintes absorbentes incluyen ADS-830A Y ADS-1064 (American Dye Source, Montreal, Canada), EC2117 (FEW, Wolfen, Alemasnia), Cyasorb IR 99 y Cyasorb IR 165 (Glendale Protective Technology), Epolite IV-62B y Epolite III-178 (Epoline), PINA-780 (Allied Signal), SpectraIR 830A y SpectraIR 840A (Spectra Colors), y tinte Trump IR (Eastman Kodak, Rochester, NY).

La cantidad de absorbente de radiación formadora de imagen en la capa inferior es, de manera general, suficiente para proporcionar una densidad óptica de al menos 0,05, y, preferiblemente, una densidad óptica de alrededor de 0,5 a alrededor de 2 en la longitud de onda formadora de imagen. Como es bien sabido por los expertos en la técnica, la cantidad de absorbente requerida para producir una densidad óptica particular se puede determinar a partir del grosor de la capa inferior y del coeficiente de extinción del absorbente a la longitud de onda usada para formar una imagen, usando la ley de Beer. Típicamente, la capa inferior comprende al menos alrededor de 0,1% en peso de absorbente de radiación formadora de imagen, y preferiblemente de alrededor de 1 a alrededor de 30% en peso de absorbente.

Capa superior

La capa superior comprende un segundo material polimérico. La capa superior es desprendible de la capa inferior bajo exposición térmica. Aunque sin estar atado a ninguna teoría ni explicación, se cree que la exposición térmica causa que la capa superior se disuelva o disperse más fácilmente en el revelador acuoso, y/o debilita la unión entre la capa superior y la inferior, permitiendo que el revelador penetre en la capa superior y disuelva la capa inferior en las regiones impresionadas. Típicamente, el segundo material polimérico es insoluble en el revelador alcalino acuoso. Es separado y dispersado en el revelador cuando el revelador penetra en la capa superior en las regiones impresionadas y disuelve o dispersa la capa inferior en estas regiones.

Típicamente, el segundo material polimérico comprende grupos hidroxílicos fenólicos o un grupo imida (NH) activo. Los materiales poliméricos que comprenden un grupo imida activo incluyen, por ejemplo, materiales poliméricos que contienen un grupo sulfonamida sustituido (tales como -SO_{2}NHCOR, -SO_{2}NHSO_{2}NR, y -CONHSO_{2}NR), y materiales poliméricos que comprenden un grupo -CONHCO-.

Se prefieren polímeros que contienen grupos hidroxílicos fenólicos, es decir, resinas fenólicas. Preferiblemente, el material polimérico es un material polimérico estable a la luz, insoluble en agua, soluble en reveladores alcalinos acuosos, formador de película, que tiene una multiplicidad de grupos hidroxílicos fenólicos, bien en la cadena principal del polímero o bien en grupos colgantes. Las resinas novolacas, resinas resoles, resinas acrílicas que contienen grupos fenólicos colgantes, y resinas de polivinilfenol son resinas fenólicas preferidas. Las resinas novolacas son más preferidas.

Las resinas novolacas están disponibles comercialmente y son bien conocidas por los expertos en la técnica. Se preparan típicamente por la reacción de condensación de un fenol, tal como fenol, m-cresol, o-cresol, p-cresol, etc, con un aldehído, tal como formaldehído, para formaldehído, acetaldehído, etc., o una cetona, tal como acetona, en presencia de un catalizador ácido. El peso molecular medio ponderado es, típicamente, de alrededor de 1.000 a 15.000. Las resinas novolacas típicas incluyen, por ejemplo, resinas de fenol-formaldehído, resinas de cresol-formaldehído, resinas de fenol-cresol-formaldehído, resinas de p-t-butilfenol-formaldehído, y resinas de pirogalol-acetona. Se preparan resinas novolacas particularmente útiles haciendo reaccionar m-cresol, mezclas de m-cresol y p-cresol, o fenol, con formaldehído, usando condiciones convencionales.

Otras resinas fenólicas útiles incluyen compuestos polivinílicos que tienen grupos hidroxílicos fenólicos. Tales compuestos incluyen, por ejemplo, polihidroxiestirenos y co-polímeros que contienen unidades recurrentes de un hidroxiestireno, y polímeros y co-polímeros que contienen unidades recurrentes de hidroxiestirenos sustituidos.

A diferencia de otros sistemas capaces de formar imágenes térmicamente, la capa superior no requiere un compuesto que funcione como componente supresor de la solubilidad para el segundo material polimérico. En consecuencia, la capa superior está libre de materiales que funcionen como componente supresor de la solubilidad para el segundo material polimérico. Se describen componentes supresores de la solubilidad, por ejemplo, en Parsons, documento WO 97/39894, West, Patente U.S. 5.705.308, Bennett, documento WO 97/07986, Nagasaka, documento EP 0.823.327, West, Pat. U.S. Nº 6.060.222, y Shimizu, documento WO 01/46318. Los componentes supresores de la solubilidad tienen grupos funcionales polares que se cree que actúan como sitios aceptores para enlaces de hidrógeno con los grupos hidroxílicos presentes en el segundo material polimérico. Los sitios aceptores comprenden átomos con alta densidad electrónica, seleccionados típicamente entre los elementos electronegativos de la primera fila, especialmente carbono, nitrógeno y oxígeno.

Los grupos polares típicos incluyen grupos diazo, grupos diazonio, grupos ceto, grupos éster de ácido sulfónico, grupos ésteres fosfato, grupos triarilmetano, grupos onio, tales como sulfonio, iodonio, y fosfonio; grupos en los que está incorporado un átomo de nitrógeno en un anillo heterocíclico; y grupos que contienen un átomo cargado positivamente, especialmente un átomo de nitrógeno cargado positivamente, típicamente un átomo de nitrógeno cuaternizado, es decir, grupos amonio. Otros compuestos que se han propuesto incluyen: compuestos que contienen otros grupos polares, tales como éter, amina, azo, nitro, ferrocenio, sulfóxido, sulfona y disulfona; acetales monoméricos o poliméricos que tienen grupos acetal o cetal recurrentes; ortoésteres de ácidos carboxílicos monoméricos o poliméricos que tienen al menos un grupo ortoéster de ácido carboxílico o amida; éteres enólicos; N-aciliminocarbonatos; acetales o cetales cíclicos; \beta-cetoésteres o \beta-cetoamidas; y compuestos que contienen grupos aromáticos, tales como fenilo, fenilo sustituido, tal como p-metilfenilo, y naftilo. Los componentes supresores de la solubilidad típicos incluyen compuestos que contienen un grupo diazo, tales como compuestos que contienen el resto o-diazonaftoquinona (es decir, quinonadiazidas). Los compuestos poliméricos de diazonaftoquinona incluyen resinas fenólicas, tales como resinas novolacas y resinas resoles, derivatizadas con un resto de o-diazonaftoquinona. Los compuestos que contienen un átomo de nitrógeno cargado positivamente (es decir, cuaternizados), útiles como compuestos inhibidores de la disolución, incluyen, por ejemplo, compuestos de tetraalquilamonio, compuestos de quinolinio, compuestos de benzotiazolio, compuestos de piridinio, y compuestos de imidazolio. Los compuestos representativos de tintes de triarilmetano inhibidores de la disolución incluyen violeta de etilo, cristal violeta, verde malaquita, verde brillante, azul Victoria B, azul Victoria R, y azul puro Victoria BO. Los compuestos heterocíclicos cuaternizados son útiles como inhibidores de la disolución. Los compuestos representativos de quinolinio inhibidores de la disolución incluyen ioduro de 1-etil-2-metilquinolinio, ioduro de 1-etil-4-metilquinolinio y tintes de cianina que comprenden un resto de quinolinio, tales como Azul de quinoldina. Los compuestos de benzotiazolio representativos incluyen tintes catiónicos de 3-etil-2(3H)-benzotiazolilideno)-2-metil-1-(propenil)benzotiazolio y ioduro de 3-etil-2-metilbenzotiazolio. Los compuestos adecuados de piridinio inhibidores de la disolución incluyen bromuro de cetilpiridinio y dicationes de etilviológenos. Las sales de diazonio son útiles como compuestos inhibidores de la disolución, e incluyen, por ejemplo, sales de difenildiazonio sustituidas o sin sustituir, tales como hexafluoroboratos de difenildiazonio sustituidos con metoxilo. Los ésteres de ácidos sulfónicos útiles, representativos como compuestos inhibidores de la disolución, incluyen sulfonato de etilbenceno, sulfonato de n-hexilbenceno, sulfonato de etil-p-tolueno, sulfonato de t-butil-p-tolueno, y sulfonato de fenil-p-tolueno. Los ésteres fosfato representativos incluyen fosfato de trimetilo, fosfato de trietilo, y fosfato de tricresilo. Las sulfonas útiles incluyen aquellas con grupos aromáticos, tales como la difenilsulfona. Las aminas útiles incluyen aquellas con grupos aromáticos, tales como difenilamina y trifenilamina. Los compuestos que contienen el grupo ceto útiles como compuestos inhibidores de la disolución incluyen, por ejemplo, aldehídos; cetonas, especialmente cetonas aromáticas; y ésteres de ácidos carboxílicos.

La capa superior no contiene un polímero fenólico derivatizado que funcione como un componente supresor de la solubilidad. Cuando el segundo material polimérico es un polímero fenólico, algunos de los grupos hidroxilo han sido derivatizados para introducir otros grupos polares, para que el segundo material polimérico derivatizado actúe como componente supresor de la solubilidad. Los derivados pueden incluir, por ejemplo, ésteres de ácidos carboxílicos, tales como ésteres benzoato; ésteres fosfato; éteres, tales como éteres fenílicos; y ésteres del ácido sulfónico, tales como metilsulfonatos, fenilsulfonatos, p-toluenosulfonatos (tosilatos), y p-bromofenilsulfonatos (brosilatos).

La capa superior puede comprender material en partículas, a condición de que el material en partículas no funcione como componente supresor de la solubilidad. El tinte o pigmento puede absorber radiación infrarroja, facilitar la inspección visual en el elemento expuesto y/o revelado, o mejorar tanto la resistencia a los rasguños como la vida de prensado del elemento expuesto y revelado. Típicamente, las partículas tienen un diámetro medio entre alrededor de 0,5 \mum y alrededor de 10 \mum. Se puede usar material en partículas orgánico y/o inorgánico. Los ejemplos de partículas orgánicas son bolas de polestireno reticulado y bolas de poli(metacrilato de metilo). También son útiles polímeros no reticulados, tales como co-polímeros de policarbonato y acrilonitrilo-butadieno, que forman partículas in situ durante el proceso de secado, para mejorar la vida de prensado de los elementos expuestos y revelados. Las partículas inorgánicas incluyen, por ejemplo, partículas de sílice y alúmina. Las cantidades de partículas usadas pueden variar de 0,5% a 30% del peso del revestimiento de la capa, preferiblemente es de 5% a 15%.

Preparación del elemento capaz de formar imágenes térmicamente

El elemento capaz de formar imágenes térmicamente se puede preparar aplicando de manera secuencial la capa inferior sobre la superficie hidrófila del sustrato hidrófilo, y aplicar después la capa superior sobre la capa inferior usando métodos convencionales de revestimiento, extrusión o laminación. Sin embargo, es importante evitar entremezclar la capa inferior y la capa superior.

La capa inferior se puede aplicar sobre el sustrato hidrófilo por cualquier método convencional. Típicamente, los ingredientes se dispersan o disuelven en un disolvente de revestimiento adecuado, y la mezcla resultante se reviste por métodos convencionales, tales como revestimiento por rotación, revestimiento en barra, revestimiento por huecograbado, o revestimiento en rodillo. La capa superior, o segunda capa, se puede aplicar sobre la capa inferior, típicamente a la superficie de la capa inferior, por cualquier método convencional, tales como los enumerados anteriormente. El término "disolvente" incluye mezclas de disolventes, especialmente mezclas de disolventes orgánicos.

La selección de los disolventes usados para revestir la capa inferior y para revestir la capa superior dependerá de la naturaleza del primer material polimérico, del segundo material polimérico y de los otros ingredientes presentes en las capas. Para impedir que la capa inferior se disuelva y se mezcle con la capa superior cuando la capa superior sea revestida sobre la capa inferior, la capa superior debe ser revestida desde un disolvente en el que el primer material polimérico sea esencialmente insoluble. Así, el disolvente de revestimiento para la capa superior debe ser un disolvente en el que el segundo material polimérico sea lo suficientemente soluble para que la capa superior se pueda formar, y en el que el primer material polimérico sea esencialmente insoluble. Aunque los disolventes usados dependen de la naturaleza de los materiales poliméricos, típicamente el primer material polimérico será soluble en disolventes más polares, e insoluble en disolventes menos polares, de tal modo que el disolvente usado para revestir la capa inferior es más polar que el disolvente usado para revestir la capa superior. En consecuencia, la capa superior puede ser revestida típicamente desde un disolvente orgánico convencional, tal como tolueno, 2-butanona, acetato de propilenglicol, n-butanol, alcohol isopropílico, o acetato de butilo. También se puede usar una etapa de secado intermedia, es decir, secar la capa inferior para retirar el disolvente de revestimiento antes de revestir la capa superior sobre ella, para ayudar a impedir la mezcla de las capas.

La capa superior puede ser revestida como una dispersión acuosa para evitar disolver la capa inferior durante el proceso de revestimiento. De manera alternativa, la capa inferior, la capa superior o ambas capas se pueden aplicar por métodos convencionales de revestimiento por extrusión desde una mezcla fundida de los componentes de las capas. Típicamente, tal mezcla fundida no contiene disolventes orgánicos volátiles. En consecuencia, la posible entremezcla de las capas causada por un disolvente de revestimiento no es un problema cuando se usa extrusión o laminación para preparar el elemento.

Formación de la imagen

La exposición a una imagen del elemento capaz de formar imágenes produce un elemento impresionado, que comprende una imagen latente de regiones impresionadas y no impresionadas. Revelar el elemento expuesto para formar un elemento revelado convierte la imagen latente en una imagen, retirando las regiones impresionadas de la capa superior y la capa inferior, y exponiendo la superficie hidrófila del sustrato subyacente. El elemento funciona en positivo, porque la capa inferior y la capa superior son retiradas en las regiones impresionadas cuando son reveladas con el revelador acuoso. Las regiones impresionadas se hacen regiones que no aceptan tinta.

Aunque sin estar atado a ninguna teoría o explicación, se cree que la exposición térmica cambia la adhesión de la capa superior a la capa inferior en las regiones impresionadas. Después de que el elemento es calentado por exposición térmica a una imagen, el revelador puede penetrar en las regiones impresionadas de la capa superior mucho más rápidamente de lo que penetra en las regiones no impresionadas. Las regiones subyacentes de la capa inferior son retiradas junto las regiones impresionadas de la capa superior, revelando la superficie hidrófila subyacente del
sustrato.

El elemento capaz de formar imágenes térmicamente puede ser impresionado con un láser o un conjunto de láseres que emiten radiación modulada infrarroja o cercana al infrarrojo, en una región de longitudes de onda que es absorbida por el elemento. Se usa típicamente radiación infrarroja, especialmente la radiación infrarroja en el intervalo de alrededor de 800 nm a alrededor de 1200 nm, para impresionar un elemento capaz de formar imágenes térmicamente. La exposición se lleva a cabo de manera conveniente con un láser que emite a alrededor de 830 nm o a alrededor de 1064 nm. Los dispositivos formadores de imagen adecuados, disponibles comercialmente, incluyen fijadores de imágenes tales como un Creo Trendsetter (disponible en la CREO Corp., British Columbia, Canadá) y un Gerber Crescent 42T (disponible en la Gerber Corporation).

De manera alternativa, el elemento capaz de formar imágenes térmicamente puede ser impresionado usando un aparato convencional que contenga una cabeza de impresión térmica. Un aparato formador de imágenes adecuado para usar en conjunción con los elementos capaces de formar imágenes incluye al menos un cabezal térmico, pero usualmente incluiría una matriz de cabezales térmicos, tal como un TDK Modelo Nº LV5416, usado en las máquinas de fax térmicas e impresoras de sublimación. Cuando la exposición se lleva a cabo con un cabezal térmico, es innecesario que el elemento absorba radiación infrarroja. No obstante, los elementos que absorben radiación infrarroja pueden ser impresionados con un cabezal térmico.

El revelador puede ser cualquier líquido o disolución que pueda penetrar y retirar las regiones impresionadas de la capa superior y las regiones subyacentes de la capa inferior sin afectar sustancialmente a las regiones no impresionadas complementarias. Aunque sin estar atado a ninguna teoría o explicación, se cree que la discriminación de imágenes en estos sistemas está basada en un efecto cinético. Las regiones impresionadas de la capa superior son retiradas más rápidamente en el revelador que las regiones no impresionadas. El revelado se lleva a cabo durante un tiempo lo suficientemente largo para retirar las regiones impresionadas de la capa superior y las regiones subyacentes de la capa inferior en el revelador, pero no lo suficientemente largo para retirar las regiones no impresionadas de la capa superior. Por ello, las regiones impresionadas se describen como "solubles" en el revelador porque son retiradas, y disueltas y/o dispersadas, más rápidamente en el revelador que las regiones no impresionadas. Típicamente, la capa inferior se disuelve en el revelador, y la capa superior se dispersa en el revelador.

Los reveladores útiles son disoluciones alcalinas acuosas que tienen un pH de al menos 7 a alrededor de 11. Los reveladores alcalinos acuosos preferidos tienen un pH de alrededor de 8 a alrededor de 10,5, más preferiblemente de alrededor de 9 a 10, incluso más preferiblemente de alrededor de 10. Los reveladores con un pH en el intervalo de 13 o superior no se pueden usar. Los reveladores preferidos son reveladores acuosos, es decir, aquellos que, o bien no comprenden un disolvente orgánico añadido, o bien a los que se ha añadido sólo una pequeña cantidad de disolvente orgánico, típicamente alrededor de 10% en peso o menos, preferiblemente alrededor de 6% en peso o menos.

Para impedir la formación de una suspensión en el elemento durante el proceso de revelado, se puede usar un revelador que comprenda un agente o mezcla de agentes dispersantes orgánicos, tales como el agente dispersante HYDROPALAT® 1080 (Henkel), el agente dispersante HYDROPALAT®3204 (Henkel), o el agente dispersante Sequion MS 84 (Polygon Chemie). Típicamente, en el revelador está presente alrededor de 1-5% en peso de agente o agentes dispersantes. El agente dispersante forma una dispersión estable con el componente o componentes fenólicos de la capa superior. El revelador también puede comprender: una pequeña cantidad (es decir, de alrededor de 1 a 10% en peso, preferiblemente de alrededor de 1 a 6% en peso) de un disolvente orgánico, tal como éter monofenílico del etilenglicol, éter monofenílico del dietilenglicol, éter monofenílico del tetraetilenglicol, o alcohol bencílico; un agente humectante, tal como octilsulfato sódico o un naftalensulfonato alcalino; y un sistema tampón para mantener el pH del revelador. El agente dispersante mantiene los componentes dispersables de la capa superior en forma finamente dispersa e impide su redeposición en el elemento expuesto y revelado y en los rodillos y el procesador.

Típicamente, el revelador se aplica al elemento impresionado frotando o limpiando la capa superior con un aplicador que contiene el revelador. De manera alternativa, el elemento impresionado puede ser cepillado con el revelador, o el revelador puede ser aplicado al elemento rociando la capa superior con suficiente fuerza para retirar las regiones impresionadas. En cada caso, se produce un elemento revelado.

El elemento revelado, típicamente una plancha de impresión litográfica o miembro de impresión, comprende (1) regiones en las que la capa inferior y la capa superior han sido retiradas, revelando la superficie subyacente del sustrato hidrófilo, y (2) regiones complementarias en las que la capa inferior y la capa superior no han sido retiradas. Las regiones en las que tanto la capa interior como la capa superior no han sido retiradas son receptivas a la tinta y corresponden a las regiones que no fueron impresionadas durante la formación de la imagen.

Si se desea, se puede usar una etapa de cocción posterior al revelado para incrementar la longitud de ejecución de la plancha. La cocción se puede llevar a cabo, por ejemplo, de alrededor de 220ºC a alrededor de 240ºC, durante de 1 a 7 minutos.

Si la capa inferior comprende una composición fotosensible soluble en bases que funciona en negativo, el elemento revelado se expone a radiación actínica. Se puede usar cualquier fuente o fuentes convenientes de radiación actínica que proporcionen longitudes de onda en la región del espectro que coincidan con las bandas de absorción de la composición fotosensible, para activar la fotoinsolubilización. Por "radiación actínica" se quiere decir cualquier radiación que pueda inducir fotoinsolubilización en la capa inferior. La radiación puede ser natural o artificial, monocromática o policromática, incoherente o coherente. Las fuentes de luz convencionales incluyen lámparas fluorescentes, lámparas de mercurio, lámparas de aditivo metálico, y lámparas de arco. Las fuentes de luz coherente incluyen láseres, tales como láseres de xenón, de ión argón, y de neón ionizado, así como láseres de colores sintonizables y el de neodimio de doble frecuencia: láser YAG.

Una vez que el elemento capaz de formar imágenes ha formado una imagen, la impresión se puede llevar a cabo entonces aplicando una solución fuente y después una tinta litográfica a la imagen en su superficie. La solución fuente es tomada por las regiones impresionadas y la tinta es tomada por las regiones no impresionadas. La tinta es transferida después a un material receptor adecuado (tal como tela, papel, metal, vidrio o plástico) bien directamente o bien indirectamente, mediante el uso de una mantilla de impresión offset, para proporcionar una impresión deseada de la imagen en ella. Los miembros formadores de imágenes pueden limpiarse entre impresiones, si se desea, usando medios de limpieza convencionales.

Las ventajosas propiedades de la invención se pueden observar con referencia a los siguientes ejemplos que ilustran, pero no limitan, la invención.

Ejemplos Glosario

ADS-830A	\begin{minipage}[t]{108mm}Tinte absorbente en el infrarrojo (\lambda_{max} = 830 nm) (american Dye Source, Montreal, Canadá)\end{minipage}
Co-polímero 1	\begin{minipage}[t]{108mm}Co-polímero de N-fenilmaleimida, metacrilamida y ácido metacrílico (45:35:20% en moles)\end{minipage}
Co-polímero 2	\begin{minipage}[t]{108mm}Co-polímero de N-fenilmaleimida, metacrilamida y ácido metacrílico (40:35:25% en moles)\end{minipage}
Disolvente DOWANOL\registrado EPH	Éter fenílico del etilenglicol (Dow Chemical, Midland, MI USA)
Disolvente DOWANOL\registradoPM	Éter metílico del propilenglicol (Dow Chemical, Midland, MI, EE.UU.)
HYDROPALAT\registrado3204	\begin{minipage}[t]{108mm} Agente dispersante, sal de acetofosfonato de amina parcialmente neutralizado (Henkel, Dusseldorf, Alemania)\end{minipage}
Lyncur M	Poli(vinilfenol) (Maruzen, Tokyo, Japón)
Nega 107	\begin{minipage}[t]{108mm}Diazorresina negativa derivada de la condensación de sulfato de 3-metoxi-difenilamina-4-diazonio y 4,4'-bis-metoximetildifeniléter, aislada como sal sulfonato de mesitileno (Panchim, Lisses, Francia)\end{minipage}
Novolaca SPN 400	Resina novolaca (Clariant, Wiesbaden, Alemania)
Novolaca SPN 420	Resina novolaca (Clariant, Wiesbaden, Alemania)
PD 140	Resina novolaca (Borden Chemical, Columbus, OH, EE.UU.)
Resina PHENODUR\registrado 373	Resina fenólica (Vianova Resins, Wiesbaden, Alem.)
PMP234	\begin{minipage}[t]{108mm}Co-polímero (40:50:10% en peso) de APK-234, acrilonitrilo, y metacrilamida; el APK-234 es un monómero sustituido con urea de la siguiente estructura:\end{minipage}
	CH_{2} = C(CH_{3})-CO_{2}-CH_{2}CH_{2}-NH-CO-NH-\mathit{p}-C_{6}H_{4}-OH
Co-polímero PU	\begin{minipage}[t]{108mm}Copolímero de N-(\mathit{p}-aminosulfonilfenil)metacrilamida, acrilonitrilo y metacrilato de metilo (34/24/42% en moles = 60,5/9,3/30,2% en peso)\end{minipage}
Agente quelante TRILON\registrado B	\begin{minipage}[t]{108mm}Ácido etilendiamintetraacético tetrasódico (BASF, Ludwigshafen, Alemania)\end{minipage}
Agente quelante TRILON\registrado BS	Ácido etilendiamintetraacético (BASF, Ludwigshafen, Alemania)
Tinte Trump IR	\begin{minipage}[t]{108mm}Tinte absorbente en el infrarrojo (\lambda_{max} = 830 nm) (Eastman Kodak, Rochester, NY, EE.UU.)\end{minipage}

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1

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Ejemplo 1

Se preparó una disolución de revestimiento disolviendo 2,13 g de un polivinilacetal carboxi-funcional preparado a partir de anhídrido maleico, acetal dimetílico del 2-(N-metilamino)-acetaldehído, y poli(alcohol vinílico) siguiendo el procedimiento del Ejemplo de Preparación de Baumann, Pat. U.S. Nº 5.700.619; 2,13 g de diazorresina negativa Nega 107; y 0,15 g de tinte Trump IR en 50 ml de 2-metoxietanol, metanol, y 2-butanona (35:25:40). La disolución fue revestida sobre un sustrato para dar una capa inferior sensible al ultravioleta que tenía un peso de revestimiento de 1,40 g/m^{2}. El sustrato fue una lámina de aluminio que había sido granulada electroquímicamente, anodizada, y revestida con poli(ácido vinilfosfónico).

Se disolvió una resina novolaca (Novolac SPN 400) (2,48 g) en 30 ml de una mezcla de tolueno y disolvente DOWANOL® PM (70:30) y se revistió sobre la capa anterior para dar una capa superior con un peso de revestimiento de 0,5 g/m^{2}. El elemento resultante capaz de formar imágenes térmicamente se secó a 90ºC durante 10 min.

Se impresionaron dos elementos con un Creo 3244 Trendsetter a 8 W y 140 rpm y se revelaron con el revelador negativo 956 (pH alrededor de 10) de Kodak Polychrome Graphics. Se obtuvo una buena imagen, con un fondo nítido.

Uno de los dos elementos impresionados y revelados fue expuesto a una intensa radiación ultravioleta con una dosis de 300 mJ/cm^{2} usando una fuente de radiación SACK LCX3 de 5 W. Cada elemento fue empapado en diacetona alcohol durante 15 min. El elemento expuesto a la luz ultravioleta tuvo una pérdida de peso de 26%, correspondiente a la pérdida de la capa superior. El elemento que no había sido expuesto a la luz ultravioleta tuvo una pérdida de peso de 96%, lo que indica una pérdida casi completa tanto de la capa superior como de la capa inferior.

Ejemplo 2

Se disolvió Co-polímero 1 (5,0 g) y tinte Trump IR (0,7 g) en 50 ml de 2-metoxietanol y se revistió sobre el sustrato descrito en el Ejemplo 1, para dar un peso de revestimiento de 2,0 g/m^{2}.

Se disolvió una resina novolaca (PD140A) (2,5 g) en 30 ml de acetato de butilo y se revistió sobre la capa inferior, para dar una capa superior con un peso de revestimiento de 0,5 g/m^{2}. El elemento resultante capaz de formar imágenes térmicamente se secó a 90ºC durante 10 min.

Se impresionó y reveló un elemento como se describe en el Ejemplo 1. Se obtuvo una buena imagen, con un fondo nítido.

Ejemplo 3

Se disolvió Co-polímero 2 (3,0 g), PMP 234 (1,5 g), y tinte Trump IR (0,7 g) en 50 ml de metanol/dioxolano/lactato de metilo/dimetilformamida (43:43:7:7% en peso) y se revistió sobre el sustrato descrito en el Ejemplo 1, para dar una capa inferior con un peso de revestimiento de 2,0 g/m^{2}.

Se disolvió una resina novolaca (resina PHENODUR® 373) (2,5 g) en 20 ml de una mezcla de acetato de butilo y n-butanol (90:10) y se revistió sobre la capa inferior, para dar una capa superior con un peso de revestimiento de 0,65 g/m^{2}. El elemento resultante capaz de formar imágenes térmicamente se secó a 90ºC durante 10 min.

Se impresionó un elemento como se describe en el Ejemplo 1, y se reveló con revelador acuoso 989 (pH alrededor de 10) de Kodak Polychrome Graphics. Se obtuvo una buena imagen, con un fondo nítido.

Ejemplo 4

Se disolvió Co-polímero 1 (5,0 g) y tinte Trump IR (0,7 g) en 50 ml de 2-metoxietanol y se revistió sobre el sustrato descrito en el Ejemplo 1, para dar una capa inferior con un peso de revestimiento de 2,0 g/m^{2}.

Se disolvió una mezcla de resinas (resina PHENODUR® 373, 0,5 g, y novolaca SPN 420, 2,0 g) en 30 ml de una mezcla de acetato de etilo y n-butanol (90:10) y se revistió sobre la capa inferior, para dar una capa superior con un peso de revestimiento de 0,65 g/m^{2}. El elemento resultante capaz de formar imágenes térmicamente se secó a 90ºC durante 10 min.

El elemento fue impresionado como se describe en el Ejemplo 1, y se reveló con revelador acuoso 956 (pH alrededor de 10) de Kodak Polychrome Graphics. Se obtuvo una buena imagen, con un fondo nítido. Un ensayo de prensado, usando el elemento expuesto y revelado como plancha de impresión, dio 100.000 copias de buena calidad.

Ejemplo 5

Se dispersó un polivinilacetal carboxi-funcional (2,0 g), preparado a partir de anhídrido maleico, acetal dimetílico del 2-(N-metilamino)-acetaldehído, y poli(alcohol vinílico) siguiendo los procedimientos de Baumann, Pat. U.S. Nº 5.700.619, 2-iso-propiltioxantona (0,3 g) diazorresina negativa Nega 107 (0,5 g), y una dispersión de un pigmento al 12% (20 g) en 45 ml de 2-metoxietanol, metanol, y 2-butanona (35:25:40) y se revistió sobre el sustrato descrito en el Ejemplo 1, para dar una capa inferior con un peso de revestimiento de 1,6 g/m^{2}. La dispersión del pigmento se preparó dispersando dos partes de un polivinilacetal que contenía grupos maleimido (descrito en el documento DE 198 47 616 [documento EP 996.037]) y una parte de Azul París en 2-etoxietanol.

Se disolvió una resina novolaca (PD140A) (2,48 g) en 30 ml de acetato de butilo y n-butanol (90:10), y se revistió sobre la capa inferior, para dar una capa superior con un peso de revestimiento de 0,5 g/m^{2}. El elemento resultante capaz de formar imágenes térmicamente se secó a 90ºC durante 10 min.

Se impresionaron dos elementos como se describe en el Ejemplo 1, y se revelaron con revelador acuoso 952 (pH alrededor de 10) de Kodak Polychrime Graphics. Se obtuvo una buena imagen, con un fondo nítido.

Uno de los dos elementos impresionados y revelados fue expuesto a una intensa radiación ultravioleta como se describe en el Ejemplo 1. Cada elemento fue empapado en diacetona alcohol durante 4 min. El elemento expuesto a la luz ultravioleta tuvo una pérdida de peso de 40%, correspondiente a la pérdida de la capa superior. El elemento que no había sido expuesto a la luz ultravioleta tuvo una pérdida de peso de alrededor de 100%, lo que indica la pérdida tanto de la capa superior como de la capa inferior.

Ejemplo 6

Se disolvió Co-polímero 2 (3,0 g), diazorresina negativa Nega 107 (2,13 g), y tinte Trump IR (0,15 g) en 50 ml de 2-metioxietanol, metanol, y 2-butanona (35:25:40) y se revistió sobre el sustrato descrito en el Ejemplo 1, para dar una capa inferior con un peso de revestimiento de 1,4 g/m^{2}.

Se disolvió Lyncur M (2,48 g) en 30 ml de acetato de butilo y n-butanol (90:10) y se revistió sobre la capa inferior, para dar una capa superior con un peso de revestimiento de 0,5 g/m^{2}. El elemento resultante capaz de formar imágenes térmicamente se secó a 90ºC durante 10 min.

Se impresionaron dos elementos como se describe en el Ejemplo 1 y se revelaron con revelador acuoso 956 (pH alrededor de 10) de Kodak Polychrome Graphics. Se obtuvo una buena imagen, con un fondo nítido.

Uno de los dos elementos impresionados y revelados se expuso a una intensa radiación ultravioleta como se describe en el Ejemplo 1. Cada elemento fue empapado en diacetona alcohol durante 15 min. El elemento expuesto a la luz ultravioleta tuvo una pérdida de peso de 26%, correspondiente a la pérdida de la capa superior. El elemento que no había sido expuesto a la luz ultravioleta tuvo una pérdida de peso de alrededor de 96%, lo que indica una pérdida casi completa tanto de la capa superior como de la capa inferior.

Ejemplo 7

Este ejemplo ilustra el uso de un revelador que comprende un agente dispersante. Se preparó e impresionó un elemento capaz de formar imágenes térmicamente como se describe en el Ejemplo 1. Se preparó un revelador que contenía los siguientes componentes: 85% en peso de agua, 1% en peso de agente dispersante HYDROPALAT® 3204, 2,6% en peso de alquilsulfato sódico, 5,3% en peso de naftalenosulfonato sódico, 1,2% en peso de dietanolamina, 4,0% en peso de disolvente DOWANOL® EPH, y 1% en peso de un tampón preparado mezclando una parte de TRILON® BS y veinte partes de TRILON® B. El revelador tuvo un pH de alrededor de 10. El elemento expuesto fue revelado en el revelador a 24ºC en un procesador Unigraph PC 28E a 80 cm/min, dando un tiempo de residencia de 18 s. El elemento revelado mostró un revelado nítido, con una buena resolución.

Ejemplo 8

Este ejemplo describe la preparación del Co-polímero 1. Se puso metilglicol (800 ml) en un matraz de fondo redondo de 1 l equipado con un agitador, termómetro, entrada de nitrógeno y condensador de reflujo. Se añadieron y disolvieron ácido metacrílico (36,12 g), N-fenilmaleimida (165,4 g) y metacrilamida (62,5 g), con agitación. Se añadió 2,2-azobisisobutironitrilo (AIBN) (3,4 g) y la mezcla de reacción se calentó a 60ºC con agitación durante 22 h. Después se añadió metanol, y el co-polímero precipitado se filtró, se lavó dos veces con metanol, y se secó en el horno a 40ºC durante 2 días.

Si la polimerización se lleva a cabo en 1,3-dioxolano, en algunos casos se puede evitar la reprecipitación. Los monómeros son solubles en 1,3-dioxolano, pero el material polimérico es insoluble y precipita durante la reacción.

Ejemplo 9

Este ejemplo describe la preparación del Co-polímero 2. Siguiendo el procedimiento del Ejemplo 8, se calentó ácido metacrílico (55,74 g), N-fenilmaleimida (181,48 g), metacrilamida (77,13 g), con AIBN (0,425 g) a 60ºC con agitación, durante alrededor de 24 h. Después se añadieron alrededor de 5 l de metanol, y el co-polímero precipitado se filtró, se lavó dos veces con metanol, y se secó en el horno a 40ºC durante 2 días.

Ejemplo 10

Este ejemplo ilustra la preparación de una capa inferior resistente a los disolventes que comprende una mezcla 75:25 en peso de Co-polímero 1 y un co-polímero de N-(p-aminosulfonilfenil)metacrilamida, acrilonitrilo, y metacrilato de metilo. Se disolvió Co-polímero 2 (3,75 g), co-polímero PU (1,25 g) y ADS-830A (0,9 g) en 100 g de una mezcla metanol/dioxolano/lactato de metilo (43:43:14% en peso). La mezcla fue revestida por rotación sobre un sustrato litográfico a un peso de revestimiento de 1,5 g/m^{2}. El sustrato fue una lámina de aluminio que había sido granulada electrolíticamente, anodizada, y revestida con poli(ácido vinilfosfónico).

La resistencia a los disolventes de la capa inferior fue medida en términos de pérdida de peso al empaparla en dos diferentes mezclas de disolventes. La pérdida de peso al empapar fue medida midiendo el cambio de peso de una plancha de 1 dm^{2} antes de empaparla y después de empaparla, durante un tiempo específico a temperatura ambiente, y secado. La pérdida de peso al empapar se calculó dividiendo la pérdida de peso por el peso total del revestimiento. La pérdida de peso tras empapar durante un minuto la capa inferior en la mezcla diacetona alcohol/agua fue 32%. La pérdida de peso tras empapar durante un minuto la capa inferior en la mezcla 2-butoxietanol/agua fue 1%. El parámetro de resistencia química fue 0,67.

Ejemplo 11

Este ejemplo ilustra la formación de una capa inferior resistente a los disolventes que comprende una mezcla 80:20 en peso de Co-polímero 2 y PMP-234. Siguiendo el procedimiento del Ejemplo 9, se disolvieron 4,0 g de Co-polímero 1, 1,0 g de PMP-234, y 0,9 g de ADS-830A en una mezcla de 100 g de metanol/dioxolano/lactato de metilo/dimetilformamida (43:43:7:7% en peso). La mezcla fue revestida por rotación sobre el sustrato litográfico a una velocidad de revestimiento de 1,5 g/m^{2}.

Siguiendo el procedimiento del ejemplo 10, la pérdida de peso, tras empapar durante un minuto, para la capa inferior en la mezcla diacetona alcohol/agua fue 32%. La pérdida de peso, tras empapar durante un minuto, para la capa inferior en la mezcla 2-butoxietanol/agua fue 1%. El parámetro de resistencia química fue 0,67.

Habiendo descrito la invención, se reivindica ahora lo siguiente y sus equivalentes.

Claims (18)

1. Un elemento capaz de formar imágenes térmicamente, que comprende, en orden:

una capa superior;

una capa inferior; y

un sustrato hidrófilo;

en el que:

la capa inferior comprende un primer material polimérico;

la capa superior comprende un segundo material polimérico;

el segundo material polimérico es separable por un revelador alcalino acuoso, que tiene un pH de al menos 7 a 11, tras exposición térmica;

la capa superior está libre de materiales que funcionan como componente supresor de la solubilidad para el segundo material polimérico;

la capa superior es receptiva a la tinta.

2. El elemento de la reivindicación 1, en el que el segundo material polimérico comprende grupos hidroxílicos fenólicos o grupos sulfonamida sustituidos.

3. El elemento de la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en el que el segundo material polimérico es una resina novolaca, una resina resol, o una mezcla de ellas.

4. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en el que el elemento absorbe radiación en el intervalo de 800 nm a 1200 nm.

5. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, en el que la capa inferior comprende un material de conversión fototérmica.

6. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que la capa superior está sustancialmente libre de material de conversión fototérmica.

7. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en el que la capa superior consiste esencialmente en el segundo material polimérico.

8. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, en el que el segundo material polimérico es una resina novolaca.

9. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en el que el primer material polimérico comprende de alrededor de 35 a alrededor de 60% en moles de N-fenilmaleimida; de alrededor de 15 a alrededor de 40% en moles de metacrilamida; y de alrededor de 10 a alrededor de 30% en moles de ácido metacrílico.

10. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en el que el primer material polimérico comprende de alrededor de 20 a 80% en peso de uno o más monómeros representados por la fórmula general:

CH_{2}=C(R)-CO_{2}-CH_{2}CH_{2}-NH-CO-NH-Y-Z,

en la que R es H ó CH_{3}; Y es 1,4-fenileno sin sustituir; y Z es -OH, -COOH ó SO_{2}NH_{2}.

11. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en el que el primer material polimérico contiene acrilonitrilo o metacrilonitrilo, metacrilato de metilo o acrilato de metilo; y de alrededor de 10 a 90% en moles de una unidad monomérica de sulfonamida.

12. El elemento de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, en el que el parámetro de resistencia química (PRQ) para la capa inferior es mayor que alrededor de 0,5, en el que

PRQ = [(100-a)(100-b)]/10^{4}

en el que

a es el % de pérdida de peso tras empaparla durante un minuto en 80% en peso de diacetona alcohol/20% en peso de agua; y b es el % de pérdida de peso tras empaparla durante un minuto en 80% en peso de 2-butoxietanol/20% en peso de agua.

13. Un método para formar una imagen, comprendiendo el método las etapas de:

a) exponer térmicamente a una imagen el elemento capaz de formar imágenes térmicamente de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, y producir regiones impresionadas y no impresionadas en el elemento capaz de formar imágenes térmicamente; y

b) revelar el elemento capaz de formar imágenes térmicamente con un revelador alcalino acuoso, y retirar las regiones impresionadas;

en el que el revelador alcalino acuoso tiene un pH de al menos 7 a alrededor de 11.

14. El método de la reivindicación 13, en el que el elemento capaz de formar imágenes térmicamente es expuesto térmicamente a una imagen con una radiación en el intervalo de 800 nm a 1200 nm.

15. El método de la reivindicación 13, en el que el elemento es expuesto térmicamente a una imagen con un cabezal térmico.

16. El método de cualquiera de las reivindicaciones 13 a 15, en el que la capa inferior comprende una composición fotosensible soluble en bases, que funciona en negativo, y el método comprende adicionalmente, después de la etapa b), la etapa de exponer el elemento a radiación actínica.

17. Un elemento que tiene una imagen formada, obtenible por el método de cualquiera de las reivindicaciones 13 a 16.

18. Un método de impresión, comprendiendo el método las etapas de:

a)

formar un elemento que tiene una imagen formada por el método de cualquiera de las reivindicaciones 13 a 16.

b)

aplicar una solución fuente y después tinta a la superficie del elemento que tiene la imagen formada; y

c)

transferir la tinta a un material receptor.