ES2169938T3 - Sal de sulfonio y procedimiento para su preparacion. - Google Patents
Sal de sulfonio y procedimiento para su preparacion.Info
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Abstract
Esta invención se refiere a una sal de sulfonio, incluyendo su procedimiento de fabricación, que se utiliza eficazmente como iniciador fotoácido o radical fotoiniciador durante la polimerización y un generador fotoácido, dejando los grupos protectores de compuestos orgánicos, especialmente como un generador fotoácido útil del fotoresistor amplificado químicamente que se emplea en materiales semiconductores. Ya que la sal de sulfonio de esta invención, preparada mediante una reacción en una sola etapa entre un compuesto sulfóxido y un compuesto aromático en presencia de anhídrido perfluoralcanosulfónico, tiene las ventajas de superar algunos de los defectos de la técnica anterior para preparar la sal de sulfonio mediante dos etapas utilizando el reactivo de Grinard, esta invención puede proporcionar una nueva sal de sulfonio con mayor rendimiento que no se puede alcanzar en la técnica anterior y también incluso preparar cualquier sal convencional de sulfonio con mejor rendimiento.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019980028833A KR100279497B1 (ko) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | 술포늄 염의 제조방법 |
EP98307103 | 1998-09-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2169938T3 true ES2169938T3 (es) | 2002-07-16 |
Family
ID=26151423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES99305552T Expired - Lifetime ES2169938T3 (es) | 1998-07-16 | 1999-07-13 | Sal de sulfonio y procedimiento para su preparacion. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0972761B1 (es) |
AT (1) | ATE210641T1 (es) |
DE (1) | DE69900570T2 (es) |
ES (1) | ES2169938T3 (es) |
PT (1) | PT972761E (es) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PT105584B (pt) * | 2011-03-28 | 2013-08-30 | Hovione Farmaciencia S A | Reagentes electrofílicos de alquilação, a sua preparação e usos |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6664022B1 (en) | 2000-08-25 | 2003-12-16 | Shipley Company, L.L.C. | Photoacid generators and photoresists comprising same |
US7358408B2 (en) * | 2003-05-16 | 2008-04-15 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Photoactive compounds |
WO2016047784A1 (ja) * | 2014-09-26 | 2016-03-31 | 東京応化工業株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、及び感光性組成物 |
KR20190135415A (ko) * | 2018-05-28 | 2019-12-06 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 화합물, 산 발생제 및 화합물의 제조 방법 |
KR20220074627A (ko) * | 2020-11-27 | 2022-06-03 | 삼성전자주식회사 | 광산발생제, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물, 및 상기 광산발생제의 제조방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0442158A (ja) * | 1990-06-08 | 1992-02-12 | Hitachi Ltd | 放射線感応性組成物及びそれを用いたパタン形成法 |
JP2964109B2 (ja) * | 1992-02-18 | 1999-10-18 | 日本電信電話株式会社 | ポジ型レジスト材料 |
JP3588822B2 (ja) * | 1994-07-07 | 2004-11-17 | Jsr株式会社 | 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物 |
JP3198845B2 (ja) * | 1994-12-05 | 2001-08-13 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ポジ型レジスト材料 |
JP3606291B2 (ja) * | 1995-06-29 | 2005-01-05 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩 |
-
1999
- 1999-07-13 ES ES99305552T patent/ES2169938T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-13 PT PT99305552T patent/PT972761E/pt unknown
- 1999-07-13 DE DE69900570T patent/DE69900570T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-13 EP EP99305552A patent/EP0972761B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-13 AT AT99305552T patent/ATE210641T1/de active
Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
PT105584B (pt) * | 2011-03-28 | 2013-08-30 | Hovione Farmaciencia S A | Reagentes electrofílicos de alquilação, a sua preparação e usos |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69900570T2 (de) | 2002-05-29 |
PT972761E (pt) | 2002-06-28 |
EP0972761A1 (en) | 2000-01-19 |
EP0972761B1 (en) | 2001-12-12 |
DE69900570D1 (de) | 2002-01-24 |
ATE210641T1 (de) | 2001-12-15 |
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