EP3747666B1 - Verfahren zum kaltprägen - Google Patents

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EP3747666B1
EP3747666B1 EP20177945.1A EP20177945A EP3747666B1 EP 3747666 B1 EP3747666 B1 EP 3747666B1 EP 20177945 A EP20177945 A EP 20177945A EP 3747666 B1 EP3747666 B1 EP 3747666B1
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EP
European Patent Office
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substrate
layer
regions
adhesive layer
pressing
Prior art date
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EP20177945.1A
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English (en)
French (fr)
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EP3747666A1 (de
Inventor
Norbert Höfler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
Original Assignee
Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
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Publication date
Application filed by Leonhard Kurz Stiftung and Co KG filed Critical Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
Publication of EP3747666A1 publication Critical patent/EP3747666A1/de
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44CPRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C1/00Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
    • B44C1/16Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like
    • B44C1/165Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like for decalcomanias; sheet material therefor
    • B44C1/17Dry transfer
    • B44C1/1733Decalcomanias applied under pressure only, e.g. provided with a pressure sensitive adhesive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41FPRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F16/00Transfer printing apparatus
    • B41F16/0006Transfer printing apparatus for printing from an inked or preprinted foil or band
    • B41F16/004Presses of the reciprocating type
    • B41F16/0053Presses of the reciprocating type with means for applying print under pressure only, e.g. using pressure sensitive adhesive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44CPRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C1/00Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
    • B44C1/10Applying flat materials, e.g. leaflets, pieces of fabrics
    • B44C1/105Applying flat materials, e.g. leaflets, pieces of fabrics comprising an adhesive layer

Definitions

  • the invention relates to a method for decorative cold stamping on a substrate.
  • Hot stamping processes are known for decorating paper, labels, plastic and glass packaging with decorative films, especially with metallized films.
  • a transfer or embossing film is coated with a hot adhesive.
  • the adhesive layer is activated with pressure and temperature using an embossing stamp, so that an adhesion is created between the metal layer and the printed article.
  • the carrier film is then peeled off the decorative material applied to the printed article.
  • cold stamping process for roll goods and sheet goods (e.g. paper, foil, labels).
  • the adhesive is first applied to the article.
  • the foil is then laminated on and the adhesive layer hardens. This causes the decorative material to adhere to the areas pre-printed with the adhesive layer and the carrier foil with the remaining, non-adhering decorative material is peeled off.
  • An adhesive that hardens under UV radiation is often used as the adhesive.
  • the adhesive is then hardened by UV radiation through the foil.
  • EP 3 441 234 A1 is a cold foil transfer process in which an adhesive is applied to a substrate and the substrate is printed in a printing unit with a transfer foil consisting of a carrier layer and a decorative layer.
  • embossing is carried out by a counter-pressure roller when the printing sheet is pressed with the transfer film, whereby a surface structure is introduced by the counter-pressure roller.
  • the cold stamping process has a number of advantages over the hot stamping process. Since the adhesive does not need to be heated up by an embossing stamp, there is no speed restriction. This means that a cold stamping device can be integrated into a printing machine, and no separate production process is required. Finally, tool costs are also lower, since no embossing stamp is required.
  • the method according to the invention ensures that one or more surface structures of the substrate are transferred completely or at least in regions to the surface of the transfer film and/or the at least one decorative layer and are retained there.
  • the one or more surface structures of the substrate which are already present in one or more first regions when the substrate is provided, are present, can be transferred to the at least one transfer film, comprising at least one decorative layer, by means of a cold embossing process in such a way that the one or more surface structures of the substrate are retained completely or at least partially in the surface of the transfer film and/or the at least one decorative layer by the cold embossing process.
  • the method of pressing ensures that the surface structures are retained in the same or a similar form in areas of the surface of the transfer film and/or in which the at least one decorative layer is present completely or at least in some areas.
  • a device which is not part of the invention, wherein the device has a first work station comprising a printing device for at least partially applying at least one adhesive layer to a surface of the substrate, wherein the surface of the substrate has at least partially one or more surface structures, and that the device has a second work station comprising a pressing device for at least partially pressing at least one transfer film comprising at least one decorative layer and at least one carrier layer onto the surface of the substrate and/or a surface of the at least one adhesive layer facing away from the substrate, and an irradiation device for at least partially and/or at least partially hardening the at least one adhesive layer, wherein the second work station is designed such that the at least partially pressing of the at least one transfer film and the at least partially hardening of the at least one adhesive layer take place simultaneously.
  • the device uses the pressing device to ensure that one or more surface structures of the substrate are transferred completely or at least partially into the surface of the transfer film and/or the at least one decorative layer and are retained there.
  • the device ensures that the surface structures are retained in the same or a similar form in areas of the surface of the transfer film and/or in which the at least one decorative layer is present completely or at least in some areas.
  • the substrate is designed as a three-dimensional object and/or has a web- or band-shaped shape.
  • the term “regionally” can be understood to mean that the one or more first regions and/or the one or more second regions and/or the one or more third regions, i.e. preferably in terms of surface area and/or height and/or depth, completely or partially correspond. It can be provided that one or two of the regions can be larger or smaller than the remaining regions.
  • the regions each refer to the entire surface or part of the surface of the substrate, the adhesive layer and/or the transfer film.
  • the surface structure of the substrate i.e. the first regions, can correspond to the entire surface of the substrate or only one or more partial regions of the substrate.
  • the adhesive layer i.e.
  • the second regions can correspond to the entire surface of the substrate or only one or more partial regions of the substrate, whereby this can be independent of the first regions.
  • the second regions correspond at least to the first regions.
  • the transfer film, ie the third regions can correspond to the entire surface of the substrate or only to one or more partial regions of the substrate, whereby this can be independent of the first and second regions.
  • the third regions correspond at least to the first regions and/or the second regions.
  • the substrate provided in step a) comprises at least one metal layer and/or metal oxide layer and/or metal compound layer, in particular a partial metal layer and/or metal oxide layer and/or metal compound layer, preferably a metal layer and/or metal oxide layer and/or metal compound layer in a plurality of regions of the substrate.
  • the at least one metal layer preferably comprises one or more metals selected from: chromium, aluminum, gold, copper, tin, indium and/or silver and/or an alloy of one or more metals of the above metals.
  • the at least one metal oxide layer preferably comprises one or more metal oxides selected from: aluminum oxide, chromium oxide, silicon oxide, indium tin oxide, titanium oxide and/or combinations thereof.
  • the at least one metal compound layer preferably comprises zinc sulfide.
  • the at least one transfer film which preferably has the function of a decorative material, preferably comprises the at least one carrier layer and the at least one decorative layer that can be detached from the at least one carrier layer, in particular wherein the at least one transfer film, starting from the at least one carrier layer, has at least one transparent release layer, preferably at least one optional transparent protective lacquer layer, which comprises at least one decorative layer and/or at least one primer layer made of a thermoplastic adhesive, preferably wherein the thermoplastic adhesive can be activated in a temperature range of greater than 90°C or equal to 90°C.
  • the at least one transparent release layer and the at least one optional transparent protective lacquer layer can be formed by one and the same lacquer layer and/or by the at least one decorative layer, i.e. in particular the release function from the at least one carrier layer and the protective function can be provided by this one layer.
  • the at least one transfer film has, in particular on the side or surface facing away from the at least one carrier layer, a primer layer made of a thermoplastic adhesive, which preferably acts as an adhesion promoter layer for a cold adhesive and/or UV adhesive, in particular an adhesive that crosslinks under UV irradiation, on the substrate during cold film transfer.
  • a combination of a primer layer made of thermoplastic adhesive arranged on the at least one decorative layer of the at least one transfer film with a cold adhesive and/or UV adhesive arranged on the substrate, in particular an adhesive that crosslinks under UV irradiation preferably forms a particularly strong bond between the at least one decorative layer of the at least one transfer film and the substrate and/or the primer layer.
  • thermoplastic adhesives also called hot glue
  • cold adhesives in particular adhesives and/or UV adhesives that crosslink under UV irradiation
  • thermoplastic adhesives also called hot glue
  • cold adhesives in particular adhesives and/or UV adhesives that crosslink under UV irradiation
  • the detachment force of the at least one decorative layer of the at least one transfer film from the release layer or from the at least one carrier layer and the force for detaching areas from the at least one decorative layer of the at least one transfer film under transfer conditions are in total preferably lower than the adhesive force between the substrate and the at least one decorative layer of the at least one transfer film, which is preferably determined by the type of cold adhesive and/or UV adhesive used and its bond with the Substrate on the one hand and the primer layer on the other hand.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film or areas of the at least one decorative layer of the at least one transfer film can detach in particular from the at least one carrier layer and preferably remain adhered to the substrate.
  • the detachment force of the detachment layer from the at least one carrier layer is so high that safe handling of the at least one transfer film is preferably ensured, preferably without the at least one decorative layer of the at least one transfer film detaching from the at least one carrier layer, for example when unwinding the at least one transfer film from a supply roll and/or when transporting the at least one transfer film, optionally via deflection devices, for example into a cold foil transfer unit.
  • the release force preferably indicates the force (usually in the unit force/length or N/m) which is particularly required to separate two layers from one another. There is preferably a positive correlation between the release force of a first layer from a second layer and the adhesion between the first and second layers.
  • the determination of the required release force between the at least one carrier layer and the at least one decorative layer of the at least one transfer film is or was preferably determined according to FINAT test method No. 3 (FTM3, "low speed release force").
  • the release force preferably has the unit N or cN, in particular where the force is determined independently of the path or distance, preferably based on a 15 cm wide film strip.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film with a polymeric release layer was or is measured to have release forces from the at least one carrier layer that were preferably up to 250% higher, in particular up to 150% higher.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film is or was still sufficiently removable and, in contrast to conventional decorative layers of transfer films that have wax-based or silicone-based release layers, can be overprinted very well, preferably with very good adhesion of the dried and/or cured printing ink to the at least one decorative layer of the at least one transfer film being or being able to be achieved.
  • the release layer is free of wax and/or free of silicone.
  • the at least one transfer film does not have a conventional wax- or silicone-based release layer, which has preferably previously meant that conventional decorative layers of a transfer film and/or conventional transfer films equipped with them are or were only printable to a limited extent or not at all with conventional printing inks, in particular UV-curing printing inks, UV-curing varnishes, hybrid inks or varnishes.
  • the at least partial adhesion of printing inks to the at least one decorative layer of the at least one transfer film, which are or were transferred to the substrate by means of the above method and the above device, is or was determined approximately 1 hour after printing, in particular by means of the following Tesa test at room temperature:
  • a body was used as a test sample in the form of a substrate with the at least one decorative layer of the at least one transfer film cold applied thereto and a printing or cold embossing with the at least a decorative layer of the at least one transfer film arranged at least in partial areas on a flat surface.
  • Tesafilm 4104 A 13 cm to 16 cm long strip of Tesafilm 4104 was in particular glued to it, so that preferably about 5 cm to 7 cm of the Tesafilm protruded over the edge of the substrate or the body.
  • the Tesafilm was then pressed on three to four times, preferably with a human thumb, and finally pulled off the test sample, in particular at an angle of greater than 90°.
  • the test was preferably considered to have been passed if 90% of the printing ink remained on the test sample or the test sample itself was torn.
  • the release layer preferably has a thickness in the range from 0.01 ⁇ m to 0.5 ⁇ m, preferably in the range from 0.01 ⁇ m to 0.3 ⁇ m, more preferably from 0.1 ⁇ m to 0.2 ⁇ m. This comparatively low thickness of the release layer allows in particular a sharp-edged and clean release of the at least one decorative layer of the at least one transfer film from the transfer film.
  • the accuracy and resolution that can be achieved in this way can correspond relatively precisely to the layout of the cold adhesive layer and/or the at least one adhesive layer that is partially applied, preferably on the substrate, in particular without deviating significantly therefrom, preferably as a result of which a high level of register accuracy of the cold foil layout and/or adhesive layer layout with a possibly existing print layout made of conventional printing inks can be achieved.
  • a high level of register accuracy of the cold foil layout and/or adhesive layer layout with a possibly existing print layout made of conventional printing inks can be achieved.
  • this preferably sharp-edged partial detachment only very small and very few so-called flakes, i.e. small layer residues of the at least a decorative layer of the at least one transfer film, which can be disruptive in particular in subsequent process steps and/or can disturb the optical appearance of the coated substrate. Due to the comparatively low thickness of the release layer, resolutions can be achieved that are below the resolution of the human eye.
  • Another advantage of a thin release layer is the low release force that is
  • the at least one primer layer has a thickness in the range of 1 ⁇ m to 5 ⁇ m, in particular in the range of 1.5 ⁇ m to 3 ⁇ m.
  • the at least one primer layer can preferably be colored and/or matted, for example to increase an optical contrast to the substrate or to improve or accelerate the initiation of the polymerization of the UV adhesive layer and/or the at least one adhesive layer, in particular comprising UV adhesive or consisting of UV adhesive, present under the primer layer through a greater absorption possibility or optical scattering capacity of the UV radiation. Matting is preferably understood to mean the reduction of the transparency or radiation permeability of the primer layer.
  • the primer layer is provided in particular with pigments and/or fillers.
  • the at least one primer layer which preferably adjoins the cold adhesive and/or the at least one adhesive layer, has a surface roughness in the range from 100 nm to 180 nm, in particular in the range from 120 nm to 160 nm.
  • the surface roughness is preferably determined, in particular, among other things, by the application method and the formulation of the primer layer. It was found in particular that a lower surface roughness, but surprisingly a higher surface roughness of the primer layer preferably leads to a reduction in the achievable adhesion between a cold adhesive and/or the at least one adhesive layer and the decorative layer of the at least one transfer film.
  • the surface roughness of the primer layer was determined in particular by means of interference microscopy.
  • the at least one carrier layer preferably has a thickness in the range from 4 ⁇ m to 50 ⁇ m, in particular in the range from 10 ⁇ m to 25 ⁇ m.
  • the at least one carrier layer is preferably made of polyester, polyolefin, polyvinyl, polyimide or ABS.
  • carrier layers made of PET, PC, PP, PE, PVC or PS is particularly preferred.
  • a carrier film made of PET has proven particularly useful.
  • the at least one transfer film preferably has a total thickness in the range from 9 ⁇ m to 55 ⁇ m, in particular in the range from 15 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film has in particular a protective lacquer layer.
  • the protective lacquer layer in particular provides protection against mechanical and/or chemical stress on the at least one decorative layer of the at least one transfer film. on the substrate.
  • the protective lacquer layer preferably has a thickness in the range from 0.8 ⁇ m to 3 ⁇ m, in particular from 0.9 ⁇ m to 1.3 ⁇ m, and can also be particularly crystal clear, colorless or colored or at least partially colored.
  • Dyes and/or pigments are used in particular for coloring. Pigments can also be used to mattify the protective lacquer layer, i.e. to reduce the transparency or radiolucency or transmittance of the protective lacquer layer.
  • the substrate in steps a), b) and/or c) is designed as a three-dimensional object and/or as a film and/or has a web-like or strip-like shape, in particular wherein a first spatial extension of the substrate parallel to a first direction in the case of a design as a film and/or in the case of a web-like or strip-like shape is greater than a second spatial extension of the substrate parallel to a second direction, preferably wherein the first direction is arranged perpendicular to the second direction.
  • the substrate in steps a), b) and/or c) consists of one or more of the following materials or comprises one or more of the following materials: plastic, in particular PET (polyethylene terephthalate), PMMA (polymethyl methacrylate), PC (polycarbonate), PEC, ABS (acrylonitrile butadiene styrene), ABS-PC, PE, PS, PVC, polyamides, PAN, SAN, SBS, PSU, PES, PEEK, PP and/or PET-G, BOPP (“Biaxially Oriented PolyPropylene” or biaxially oriented polypropylene), paper, cardboard, paper composite materials, glass fiber, carbon fiber, metal, metal alloys, precious metal, wood, concrete, stone, checkered sheet, organic sheet, brushed metal surface, in particular brushed metal surface having a relief depth in a range between 1 ⁇ m and 1000 ⁇ m, in particular between 10 ⁇ m and 100 ⁇ m.
  • plastic in particular PET (polyethylene terephthal
  • the substrate comprises a paper substrate, particularly preferably a single-layer paper substrate. It is also possible for the substrate to comprise cotton fibers, wood fibers, cellulose fibers, textile fibers and/or plastic fibers and/or for the substrate to comprise one or more, in particular transparent or translucent, plastic layers.
  • step b) one or more second regions of the one or more second regions of the surface of the substrate to which the at least one adhesive layer is applied and/or which comprise the at least one adhesive layer partially overlap or completely overlap with one or more first regions of the one or more first regions of the surface of the substrate comprising the one or more surface structures.
  • step c) one or more third regions of the one or more third regions of the surface of the substrate comprising the at least one transfer film and/or the surface of the at least one adhesive layer facing away from the substrate comprising the at least one transfer film partially or completely overlap with one or more first regions of the one or more first regions of the surface of the substrate comprising the one or more surface structures.
  • one or more second regions of the one or more second regions of the surface of the substrate comprising the at least one adhesive layer partially or completely overlap.
  • At least one surface structure of the one or more surface structures in the one or more first regions of the surface of the substrate in step a) has a relief depth and/or a relief height of less than or equal to 1 mm, in particular less than or equal to 0.75 mm, preferably less than or equal to 0.5 mm, more preferably from a range of 0.02 mm to 0.3 mm, and/or a depth-to-width ratio, in particular, an average depth-to-width ratio of between 0.05 and 10, in particular between 0.1 and 5.
  • the relief depth of a surface structure is understood here to mean in particular the depth starting from an original surface of the substrate that is not provided with a surface structure and the lowest point of the depression.
  • the relief height of a surface structure is understood to mean in particular the distance between the original surface of the substrate that is not provided with a surface structure and the highest point of the elevation.
  • the one or more surface structures in the substrate are introduced into the substrate as a depression before step a), the depression having a depth of at least 0.025 ⁇ m, in particular of at least 0.05 ⁇ m, preferably of at least 0.1 ⁇ m. It is also possible for the one or more surface structures in the substrate to be introduced into the substrate as an elevation before step a), the elevation having a height of at least 0.025 ⁇ m, in particular of at least 0.05 ⁇ m, preferably of at least 0.1 ⁇ m.
  • one or more surface structures of the one or more surface structures are at least partially natural or artificially produced and/or at least partially combinations of natural and artificially produced surface structures.
  • a substrate consisting of a wooden board has a natural grain as a surface structure on or in the surface of the wooden board.
  • the wood in particular additionally, has artificially introduced surface structures, for example additional roughening.
  • a substrate which comprises metal and/or consists of metal is preferably applied to such substrates before step a) and/or in step a), preferably in contrast to a hot stamping process for hot stamping.
  • Substrates which comprise metal and/or consist of metal, in particular are not primed.
  • one or more surface structures of the one or more surface structures in the one or more first regions of the surface of the substrate are formed as one or more surface reliefs, in particular wherein one or more surface reliefs of the one or more surface reliefs have a depth-to-width ratio, in particular an average depth-to-width ratio, between 0.05 and 10, in particular between 0.1 and 5, and/or are formed as engravings and comprise one or more of the following design elements: alphanumeric character, character, symbol, micro-font, image, photo, logo, portrait, pictogram, pattern, in particular endless pattern, and/or motif.
  • the at least one adhesive layer when applied to the one or more second regions of the surface of the substrate in step b), has a viscosity which is between 200 mPas and 2000 mPas, in particular between 500 mPas and 1500 mPas, preferably between 800 mPas and 1200 mPas.
  • the at least one adhesive layer is distributed when pressed in step c) of the method, preferably runs and/or is distributed over the elevations and/or depressions of the surface structure and/or the one or more surface reliefs, such that at least one adhesive layer is formed, which preferably has a constant layer thickness.
  • this makes it possible for the surface of the at least one adhesive layer facing away from the substrate to have at least one surface structure and/or at least one surface relief, the height profile of which preferably corresponds to or is similar to the height profile of the at least one surface structure and/or the at least one surface relief of the surface of the substrate.
  • Viscosity is understood here in particular as a measure of the fluidity of a liquid.
  • water at room temperature has a lower viscosity than liquid honey or asphalt.
  • the above-selected value ranges of the viscosity of the at least one adhesive layer can ensure that the at least one adhesive layer runs in such a way that it preferably has a constant layer thickness. If the viscosity is set too low, the at least one adhesive layer can run in an undesirable manner, in particular with the elevations of the surface structures not being wetted or only slightly wetted by the at least one adhesive layer.
  • the printing system can become undesirably heavily soiled by viscous or highly viscous adhesives, in particular UV adhesives, used to form the at least one adhesive layer, so that series production becomes impossible due to contamination-related failures of the printing system or systems.
  • viscous or highly viscous adhesives in particular UV adhesives, used to form the at least one adhesive layer.
  • the above-selected value ranges of the viscosity in particular advantageously increase process reliability.
  • the viscosity of the at least one adhesive layer is measured and/or determined, preferably at room temperature, by means of the Brookfield viscosity measurement or the spindle method.
  • the UV adhesive used has the following viscosities, measured with the Rheometer MCR 101 from Physica (measuring cone: CP25-1/Q1; measuring temperature: 20 °C): Viscosity at shear rate 25 1/s: preferably 120 to 220 Pas, in particular 180 Pas, Viscosity at shear rate 100 1/s: preferably 40 to 90 Pas, in particular 80 Pas.
  • the UV-curing adhesive used has Glue or UV glue preferably has a tack value in the range of 18 to 25, in particular 22.
  • the "tack" or the so-called initial adhesion is preferably determined using the Inkomat 90T/600 measuring device from Ardbau. The following measuring conditions are or were selected in particular: 10 UV glue quantity: 1 g, roller speed: 100 m/min, measuring temperature: 20 °C, measuring time: 2 min.
  • a Tesa-resistant adhesion (in particular Tesa test, see above) is achieved between the at least one decorative layer of the at least one transfer film and the substrate, preferably whereby when using a conventionally drying adhesive or cold adhesive, the Tesa test could be assessed as passed after just a few minutes and preferably when using a UV adhesive, the Tesa test could be assessed as passed immediately after irradiation with UV radiation. In particular, over 90% of the decorative material remained on or on the substrate.
  • the at least one adhesive layer which is applied in step b) to the one or more second regions of the surface of the substrate to have a constant layer thickness or a layer thickness varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, in particular in the one or more first regions of the surface of the substrate comprising the one or more surface structures to have a constant layer thickness or a layer thickness varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, preferably with partial or complete overlap of one or more second regions of the one or more second regions of the surface of the substrate comprising the at least one adhesive layer with one or more first regions of the one or more first regions of the surface of the substrate comprising the one or more surface structures to have a constant layer thickness or a layer thickness varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%.
  • the at least one adhesive layer which is applied to the one or more second regions of the surface of the substrate in step b) has a first layer thickness in a first group of one or more first and/or second regions of the one or more first and second regions, respectively, and a second layer thickness in a second group of one or more first and/or second regions of the one or more first and second regions, respectively, in particular wherein the first layer thickness and the second layer thickness differ from one another, preferably wherein the first layer thickness and/or the second layer thickness are each constant and/or the first and second layer thicknesses differ from one another by less than 10%, in particular by less than 20%.
  • the surface structures of the substrate are present in the same or similar form, i.e. preferably in terms of surface area and/or height and/or depth, in the adhesive layer, i.e. the surface structure of the adhesive layer can vary by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, compared to the surface structure of the substrate.
  • the surface structure of the substrate is present in the same or similar form in the transfer film, i.e. the surface structure of the transfer film can vary by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, compared to the surface structure of the substrate.
  • the at least one adhesive layer in step b) is applied to the one or more second regions of the surface of the substrate by means of inkjet printing, pad printing, in particular with a pad hardness between 5 Shore A and 20 Shore A, screen printing, flexographic printing and/or digital printing.
  • the at least one adhesive layer in steps b) and c) is designed as a UV adhesive, in particular having the above properties, in particular wherein the curing of the at least one adhesive layer is carried out by irradiation with UV radiation, preferably wherein the UV radiation is generated by at least one UV radiation source, further preferably wherein the UV radiation has a wavelength or an intensity maximum in a wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in the wavelength range from 380 nm to 420 nm.
  • An ultraviolet spectrum is understood to mean one or more parts of the ultraviolet range of the electromagnetic spectrum, whereby the ultraviolet spectrum can be selected, for example, from one or more parts of the wavelength range from 50 nm to 500 nm.
  • the at least one adhesive layer is at least partially cured in step c), in particular wherein the at least one carrier layer of the at least one transfer film is peeled off after the at least one adhesive layer has at least partially cured and the substrate and/or the at least one adhesive layer is then cured once or repeatedly, in particular in a further step, in particular by irradiating it with UV radiation.
  • Partial curing of the at least one adhesive layer may be advantageous since a partially cured adhesive layer can be deformed and/or reshaped in one or more further steps and/or intermediate steps.
  • the layer thickness of the at least one adhesive layer extends at at least one point on the surface of the substrate along the direction of a normal vector at this point and/or preferably the layer thickness extends at at least one point on the surface of the substrate along a direction of a curvature vector at this point.
  • the at least one adhesive layer after step b) and/or after step c) has a layer thickness between 3 ⁇ m and 30 ⁇ m, in particular between 2 ⁇ m and 20 ⁇ m, preferably between 1 ⁇ m and 10 ⁇ m.
  • UV adhesives or UV-curing adhesives are adhesives based on epoxy resin, for example for glass or other polar surfaces, and/or adhesives based on acrylates, for example for plastics such as PE (polyethylene).
  • PE polyethylene
  • Mercury vapor lamps for example high-pressure mercury lamps, doped high-pressure mercury lamps, carbon arc lamps, xenon arc lamps, metal halide lamps, UV lasers or UV light-emitting diodes can be used as UV radiation sources in step c) of the method. It is also possible for UV adhesive to be used by means of electron beam curing in step c) of the method.
  • the duration of irradiation of the at least one adhesive layer during the pressing of the at least one transfer film with UV radiation is preferably in the range of less than one second.
  • LED Light Emitting Diode
  • step b) of the method it is possible to apply and/or apply at least one adhesive layer of the at least one adhesive layer to at least one side, in particular to the front side and/or to the back side, of the substrate and/or the primer layer of the at least one transfer film and/or the at least one transfer film.
  • the UV adhesive of the at least one adhesive layer in particular the adhesive that crosslinks under UV irradiation and/or UV adhesive, is applied to the substrate at least in some areas in an application quantity in the range of 1 g/m 2 to 3 g/m 2.
  • the amount of UV adhesive is to be varied in particular depending on the absorbency of the substrate used, with substrates that are less absorbent and/or free of open pores preferably being applied in particular with UV adhesive quantities in the range of 1 g/m 2 to 2 g/m 2 and substrates that are more absorbent and/or have open pores preferably being applied in particular with UV adhesive quantities in the range of 2 g/m 2 to 3 g/m 2 .
  • the adhesive and/or UV adhesive used is in particular a varnish that adheres sufficiently to the substrate and later to the at least one decorative layer of the at least one transfer film, in particular a clear or colored and thereby transparent, translucent or opaque screen printing varnish or flexographic printing varnish.
  • the UV adhesive is applied in particular as a transparent, translucent or opaque colored layer, several adhesives in different colors and/or grayscale are preferably used in order to form, for example, a multi-colored motif in the form of a symbol, logo, coat of arms, letters or numbers, preferably where the motif is composed of partial surface portions of the individual colors and/or grayscale, more preferably where the surface portions are arranged next to one another and/or overlapping.
  • the individual raster points of the color layers are in particular located next to one another and/or on top of one another.
  • the at least one transfer film and/or the at least one adhesive layer of the at least one transfer film has a permeability for UV radiation in the wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in the range from 380 nm to 420 nm, particularly preferably 380 nm to 400 nm, in the range from 5% to 70%, in particular in the range from 20% to 40%.
  • This makes it possible to achieve particularly rapid and in particular complete curing of the at least one adhesive layer based on a UV adhesive that crosslinks under UV irradiation on the substrate, in particular as a result of which the adhesion of the at least one adhesive layer to the substrate is improved even further.
  • the UV adhesive that crosslinks under UV irradiation is only fully crosslinked and cured when the amount of radiation is sufficiently high, achieving a high adhesive strength, in particular whereby detachment of the areas of the at least one adhesive layer transferred or applied to the substrate and/or the surface of the substrate from the substrate is reliably prevented.
  • the UV permeability of a transfer film is preferably determined by the layer of a transfer film which has the lowest UV permeability of all existing layers.
  • the metallic layer only has a layer thickness in the range of 8 nm to 15 nm, preferably in the range of 10 nm to 12 nm. It is also possible for the metallic layer to have a layer thickness in the range of 12 nm to 15 nm. In this case, good visibility and decorative effect of the metallic layer in combination with a high Permeability to UV radiation is achieved, in particular with an optical density (OD) of approximately 1.2.
  • OD optical density
  • metal layers with a thickness in the range of more than 15 nm are usually used, preferably in order to achieve optimum brilliance. Due to the resulting high optical density of approximately 2, such conventional metal layers are not sufficiently UV-permeable for the use of a UV adhesive as a cold adhesive.
  • the metallic layer is formed from aluminium, silver, gold, copper, nickel, chromium, tin, indium and/or an alloy comprising at least two of these metals or comprises these metals.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film preferably has further color layers, in particular in addition to or as an alternative to the metallic layer, it is particularly advantageous if the at least one decorative layer as a whole preferably does not exceed an optical density of approximately 1.2, in order in particular to achieve sufficient UV permeability.
  • the one or more flexible pressure layers can be translucent or transparent at least for one or more wavelengths of the UV radiation and/or in one or more wavelength ranges of the UV radiation, preferably wherein the one or more flexible pressure layers are arranged at least partially between the at least one UV radiation source, which preferably emits the UV radiation, and the substrate and/or the at least one adhesive layer.
  • Transparent is understood here in particular to mean a property, in particular an optical property, which is a measure of the permeability of a layer and/or a body and/or a material for one or more spectral components of the electromagnetic spectrum.
  • the transparency of a substance, such as a substrate and/or the one or several flexible pressure layers by a measure referred to as transmittance or transmissivity, wherein the transmittance or transmissivity is in particular a value which preferably indicates the percentage of the one or more spectral components which penetrates through the transparent or translucent substrate and/or through the one or more flexible pressure layers.
  • An optical thickness is preferably understood to be a, in particular dimensionless, measure which preferably indicates how much the intensity of an electromagnetic wave or electromagnetic radiation decreases when it penetrates through a substance and/or a material and/or a layer and/or a body.
  • the one or more UV LEDs are protected by a transparent layer or protective layer, which consists of or comprises PC, PMMA or glass, for example, in particular with a thickness of between 2 mm and 6 mm, preferably against pressure effects from the one or more flexible pressing layers.
  • the at least one pressing body comprises two or more flexible pressing layers, in particular wherein the two or more pressing layers are arranged or formed in a sequence, in particular as a multi-layer structure, such that the degrees of hardness of the two or more pressing layers vary, in particular increase, from pressing layer to pressing layer along a normal vector spanned by the plane of the substrate and/or the at least one adhesive layer, in particular starting from the pressing layer of the two or more pressing layers closest to the substrate and/or the at least one adhesive layer.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body is transparent or translucent in a wavelength range from 250 nm to 420 nm, in particular in a range from 380 nm to 420 nm.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body has a transmissivity in a range from 30% to 100%, particularly preferably in a range from 40% to 100%, and/or has a layer thickness in a range from 1 mm to 20 mm, in particular from 2 mm to 15 mm, preferably from 3 mm to 10 mm, and/or has a layer thickness of less than or equal to 0.75 mm, in particular less than or equal to 0.5 mm, preferably less than or equal to 0.25 mm.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body is flat and/or curved and/or three-dimensionally formed and/or is in particular curved and/or bent at least in regions and/or has at least partially a structured and/or textured surface.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body comprises silicone or consists of silicone.
  • the silicone has a hardness in a range from 5° Shore A to 90° Shore A, in particular from 10° Shore A to 75° Shore A, preferably from 20° Shore A to 50° Shore A.
  • the Shore hardness and layer thicknesses of the one or more flexible pressure layers are dependent on the relief heights and/or relief depths, in particular in a range of 0.02 to 0.3 mm, preferably a maximum of 1 mm, of the one or more surface structures in the surface of the substrate and/or on the fineness of the one or more surface structures, for example a Engraving representing a motif or an area to be partially decorated, the surface of the substrate.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body in particular comprising silicone or consisting of silicone, has a surface facing the substrate and/or the at least one adhesive layer, which surface is in particular flat and/or domed.
  • a “cambered” surface is understood here in particular to mean that the surface has an inherent roughness, wherein preferably during pressing and/or hardening in step c) of the method it is avoided that air bubbles form between the at least one adhesive layer and the one or more flexible pressing layers, which could have a particularly detrimental effect on the quality of the body to be produced.
  • step c) at least one surface of at least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body facing the substrate and/or the at least one adhesive layer has, at least in some regions, a height profile which corresponds to or follows a height profile of one or more surface structures of the one or more surface structures, in particular wherein the height profiles vary in one or more directions.
  • At least one surface of at least one flexible pressing layer of the one or two or more pressing layers of the at least one pressing body facing the substrate and/or the at least one adhesive layer has an at least partially flat or structured height profile in step c).
  • the at least partially flat or structured height profile is equal to or adapts to a height profile of one or more surface structures of the one or more surface structures when pressed in step c). in or on the surface of the substrate in such a way that the at least one adhesive layer has a constant layer thickness after pressing in step c) and/or after curing in step c).
  • the at least partially flat or structured height profile of the one or more surface structures in or on the surface of the substrate varies in one or more directions.
  • the shape of the one or more flexible pressure layers is flat or three-dimensionally formed, in particular as a three-dimensionally curved or bent contour with a smooth or structured/textured surface.
  • a structured and/or textured surface of the one or more flexible pressure layers is advantageous in order to transfer such a structure and/or texture to the surface of the at least one decorative layer during cold embossing. It is also possible that such a structure and/or texture is an endless pattern or endless motif or is a single pattern and/or motif or a combination thereof.
  • the surface of a material comprising silicone or consisting of silicone of the one or more flexible pressure layers for the transfer film to be processed is preferably adhesive, in particular wherein the surface roughness, in particular the mean roughness, of such an adhesive surface is, according to experience, below approximately 0.5 ⁇ m, in particular between 0.06 ⁇ m and 0.5 ⁇ m, preferably between approximately 0.1 ⁇ m and 0.5 ⁇ m.
  • an intermediate film, in particular made of PET is provided between the pressure layer and the at least one transfer film.
  • the Shore A measuring method measures in particular a penetration depth of a test specimen between 0 mm and 2.5 mm and preferably specifies a minimum thickness of the test specimen of 6 mm.
  • the Shore A measuring method can be used to determine that the effective hardness of the sandwich is preferably greater than the hardness or degree of hardness of the silicone stamp and that the film preferably dominates and defines the overall hardness of the sandwich, in particular regardless of the thickness of the silicone layer.
  • the pressure layer is preferably provided with a non-adhesive surface, in particular where the use of an intermediate film is omitted, preferably where the overall arrangement behaves softer, further preferably where a smaller contact force is sufficient to press the substrate onto the one or more flexible pressure layers.
  • a non-adhesive surface in particular where the use of an intermediate film is omitted, preferably where the overall arrangement behaves softer, further preferably where a smaller contact force is sufficient to press the substrate onto the one or more flexible pressure layers.
  • the surface roughness, in particular the mean roughness, of such a non-adhesive surface is above approximately 0.5 ⁇ m, in particular between 0.5 ⁇ m and 1 ⁇ m, preferably between approximately 0.6 ⁇ m and 7 ⁇ m, further preferably between approximately 0.8 ⁇ m and 3 ⁇ m.
  • the pressing device or the pressing body and/or the one or more flexible pressing layers preferably ensure that the substrate rolls off safely and evenly under defined conditions and compensates for the substrate's shape and movement tolerances.
  • the pressing device or the pressing body and/or the one or more flexible pressing layers only have a slight pressing force for substrates made of wood or plastic, for example, as these would otherwise be deformed.
  • substrates made of harder or more resistant materials, such as metal, glass, porcelain or ceramic slightly higher pressing forces are also advantageous, particularly as a result of higher shape tolerances and/or higher mechanical stability of the substrate.
  • the contact force is preferably approximately 1 N to 1000 N.
  • the contact force for substrates made of plastic or wood can be approximately 50 N to 200 N and for substrates made of metal, glass, porcelain or ceramic approximately 75 N to 300 N.
  • the substrate to be decorated can be filled with compressed air in an appropriately designed holding device during the embossing process.
  • the at least one transfer film comprising at least one decorative layer and at least one carrier layer in step c) or the at least one decorative layer in step c) for UV radiation in the wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in a wavelength range from 380 nm to 420 nm, has a transmissivity in a range from 5% to 95%, in particular in a wavelength range from 10% to 70%, preferably in a range from 20% to 40%, in particular wherein the UV radiation is provided by the at least one UV radiation source.
  • the at least one decorative layer which is particularly included in the at least one transfer film, to generate an optical effect, in particular an optically variable effect, that is recognizable to the human observer and/or an optical sensor in step c).
  • the at least one decorative layer preferably comprises a layer with a microscopic or macroscopic surface relief, in particular a diffractive surface relief or a surface relief in the form of a lens structure, a matt structure or a blaze grating.
  • the at least one decorative layer may comprise a thin film layer system, in particular a Fabry-Perot thin film system, which has at least one spacer layer of an optical layer thickness in a range of ⁇ 1 ⁇ 2 or ⁇ 1 ⁇ 4 for a wavelength ⁇ in the range of visible light, wherein viewing angle-dependent color shift effects are preferably generated by the thin film layer system.
  • These thin film layer systems preferably comprise a spacer layer, in particular arranged between an absorption layer and a reflection layer or can preferably be formed by a layer comprising thin film layer pigments. It is also possible for the at least one decorative layer to comprise one or more volume hologram layers. It is also possible for the at least one decorative layer to have a liquid crystal layer, in particular a cross-linked nematic and/or cholesteric liquid crystal layer, which preferably changes the polarization of the incident light and/or generates viewing angle-dependent color shift effects.
  • effect pigments interference layer pigments, liquid crystal pigments
  • IR infrared or infrared radiation
  • thermochromic pigments thermochromic pigments.
  • “Activatable” is understood here in particular as the conversion of the irradiated radiation, which is not visible to the human eye, into radiation visible to the human eye, as is the case, for example, with fluorescence and/or phosphorescence effects.
  • the at least one decorative layer to have one or more color layers, in particular color lacquer layers formed in a pattern or layers colored using pigments and/or colorants.
  • Refractive index or refractive index or optical density is preferably understood to mean a particularly dimensionless optical material property which indicates in particular the factor by which the wavelength and/or the phase velocity of an electromagnetic wave or electromagnetic radiation is smaller in a material than in a vacuum.
  • Refractive index or refractive index or optical density is preferably understood to mean a particularly dimensionless optical material property which indicates in particular the factor by which the wavelength and/or the phase velocity of an electromagnetic wave or electromagnetic radiation is smaller in a material than in a vacuum.
  • At least one decorative layer of the at least one decorative layer of the at least one transfer film has, at least in some regions, at least one metallic layer, at least one dielectric layer and/or at least one color layer, in particular at least one transparent, translucent or opaque color layer.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film is preferably designed as a metallic layer or a dielectric layer. It has proven particularly useful if the at least one decorative layer of the at least one transfer film has a thickness in the range from 8 nm to 500 nm.
  • the metallic or dielectric layer is preferably colored by additional, in particular transparent or translucent, color layers. It is possible for the at least one decorative layer of the at least one transfer film to preferably have one or more, in particular transparent or translucent, or opaque color layers, preferably without a metallic or dielectric layer.
  • the color layers can in particular have been applied by means of a printing process. All common printing processes (for example screen printing, flexographic printing, gravure printing, offset printing, digital printing, inkjet printing) can be used as printing processes for the color layer.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film in particular as an alternative or in addition to metallic or dielectric layers or color layers, to have a varnish with embossed macroscopic, in particular refractively effective, or microscopic, in particular diffractively effective, relief structures.
  • These relief structures can, for example, be refractively effective lens or prism structures or diffractively effective, i.e. diffractively effective grating structures such as a hologram, a KINEGRAMO.
  • the relief structures in particular also or alternatively, to be designed as isotropically or anisotropically scattering matt structures or regularly or irregularly constructed anti-reflection structures.
  • Macroscopic relief structures have, in particular, approximate or average sizes (structure period or spatial frequency, structure depth or relief depth or relief height) of approximately 1 ⁇ m to 1000 ⁇ m.
  • microscopic relief structures have, preferably approximate or average, sizes (structure period or spatial frequency, structure depth or relief depth or relief height) of about 10 nm to about 100 ⁇ m.
  • the dielectric layer preferably consists of or comprises at least one material or a material from the group comprising metal oxide, polymer or lacquer.
  • SiO x SiO x , MgO, TiO x , Al 2 O 3 , ZnO, ZnS, has proven particularly useful.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film is formed from an HRI material which is permeable and/or transparent in one or more UV wavelength ranges, such as CdSe, CeTe, Ge, HfO 2 , PbTe, Si, Te, TiCl or ZnTe.
  • an HRI material which is permeable and/or transparent in one or more UV wavelength ranges, such as CdSe, CeTe, Ge, HfO 2 , PbTe, Si, Te, TiCl or ZnTe.
  • the metallic or dielectric layer preferably serves as a reflection layer for the above-mentioned relief structures and in particular is or will be applied directly to the relief structures, in particular vapor-deposited, and in this case follows in particular the surface shape or the height profile of the molded-in relief structure.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film may have the dielectric, metallic or colour layers mentioned over the entire surface and in a uniformly applied layer thickness.
  • the motif is composed of partial surface areas of the individual layers, in particular with the individual layers being formed next to one another and/or overlapping.
  • the individual raster points of the color layers are preferably located next to each other and/or on top of each other.
  • the color layers preferably have metallic and/or optically variable, in particular viewing angle-dependent, pigments or dyes, in particular fluorescent and/or phosphorescent dyes.
  • step c) at least one decorative layer of the at least one decorative layer of the at least one transfer film is formed by a replication lacquer layer with a surface relief molded into the replication lacquer layer, in particular wherein the surface relief molded into the replication lacquer layer is formed at least in regions by an optically active surface structure selected from: diffractive surface structure, in particular hologram, zero-order diffraction structures, matt structure, in particular isotropic or anisotropic matt structure, blaze grating, lens structure, microlens structure, microprism structure, micromirror structure, and/or a combination of two or more of these optically active surface structures.
  • an optically active surface structure selected from: diffractive surface structure, in particular hologram, zero-order diffraction structures, matt structure, in particular isotropic or anisotropic matt structure, blaze grating, lens structure, microlens structure, microprism structure, micromirror structure, and/or a combination of two or more of these optically active
  • the at least one transfer film has at least one carrier layer and at least one, in particular transparent, replication lacquer layer or embossing lacquer layer applied thereto, preferably wherein one or more relief structures or surface reliefs of the one or more relief structures or surface reliefs are embossed into the replication lacquer layer or embossing lacquer layer.
  • the replication lacquer layer or embossing lacquer layer with the relief structures or surface reliefs is preferably an outer layer of the at least one transfer film, in particular wherein the relief structures or surface reliefs are embossed on the side or surface of the replication lacquer layer or embossing lacquer layer facing away from the at least one carrier layer.
  • a very thin anti-stick layer preferably with a layer thickness equal to or less than 1 ⁇ m
  • the replication lacquer layer or embossing lacquer layer is preferably a UV-cured or electron beam-cured lacquer layer.
  • the relief structures or surface reliefs are or will be embossed directly or immediately into the at least one carrier layer, in particular without using an additional replication lacquer layer or embossing lacquer layer.
  • a very thin anti-stick layer preferably with a layer thickness equal to or less than 1 ⁇ m, is or will be applied to the relief structures or surface reliefs.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film has a motif
  • Positional accuracy is also referred to as register accuracy.
  • the at least one decorative layer of the at least one transfer film preferably has register marks in its edge region, which are preferably read out optically by appropriately arranged sensors.
  • the feeding or positioning of the at least one transfer film can be controlled, for example by means of servomotors, in such a way that in particular a motif on the at least one transfer film is positioned with precise registration to a position of the substrate that is also set accordingly, and then the at least one carrier layer is preferably pressed onto the substrate.
  • At least one decorative layer of the at least one decorative layer of the at least one transfer film is applied in step c) with a register accuracy of ⁇ 1 mm, in particular of ⁇ 0.5 mm, preferably of less than or equal to +0.3 mm and/or greater than or equal to -0.3 mm, to the substrate and/or to the at least one adhesive layer when the at least one transfer film is pressed on.
  • the at least one decorative layer the at least one decorative layer of the at least one transfer film in step c) is applied to one or more first regions of the one or more first regions of the surface of the substrate comprising the one or more surface structures and/or to one or more second regions of the one or more second regions of the surface of the substrate comprising the at least one adhesive layer.
  • Register or register accuracy or register accuracy or position accuracy is the positional accuracy of two or more elements and/or layers relative to one another.
  • the register accuracy should be within a specified tolerance and as high as possible.
  • the register accuracy of several elements and/or layers relative to one another is an important feature in order to increase process reliability.
  • Accurate positioning can be achieved in particular by means of sensory, preferably optically detectable, register marks or position markings. These register marks or position markings can either represent special separate elements or areas or layers or can themselves be part of the elements or areas or layers to be positioned.
  • one or more position markings in the substrate are introduced into the substrate as depressions before step a), the depressions having a depth of at least 0.025 ⁇ m, in particular of at least 0.05 ⁇ m, preferably of at least 0.1 ⁇ m. It is also possible for one or more position markings in the substrate to be introduced into the substrate as elevations before step a), the elevations having a height of at least 0.025 ⁇ m, in particular of at least 0.05 ⁇ m, preferably of at least 0.1 ⁇ m.
  • the substrate has a feed rate in one or more steps of steps a), b) and/or c), in particular wherein the Feed speed runs parallel to one of the edges of the substrate, preferably wherein the feed direction determines the direction of the feed speed.
  • the feed speed is preferably more than 1 m/min, preferably more than 100 m/min, more preferably more than 100 m/min.
  • the application speed is preferably 2 to 150 strokes per minute, more preferably 10 to 100 strokes per minute.
  • the substrate is preferably advanced accordingly and/or preferably replaced and a new stroke takes place in particular.
  • the pressing device prefferably be moved and/or displaced in such a way that the surface speed of the pressing device corresponds in particular to the feed speed of the substrate and/or of the at least one transfer film, preferably wherein the at least one transfer film is moved in such a way that preferably the feed speed of the at least one transfer film corresponds to the feed speed of the substrate.
  • steps a), b) and/or c) are carried out in a sequence, in particular in a temporal sequence, such that the resulting process is preferably an inline process.
  • the substrate is designed as a three-dimensional object and/or film and/or has a web-like or strip-like shape, in particular wherein a first spatial extension of the substrate parallel to a first direction in the case of a design as a film and/or a web-like or strip-like shape is greater than a second spatial extension of the Substrate parallel to a second direction, preferably wherein the first direction is arranged in particular perpendicular to the second direction.
  • one or more first regions of the surface of the substrate comprise the one or more surface structures and one or more second regions of the surface of the substrate comprise the at least one adhesive layer, wherein one or more first regions of the one or more first regions in particular partially overlap or completely overlap one or more second regions of the one or more second regions.
  • one or more third regions of the surface of the substrate and/or of the surface of the at least one adhesive layer facing away from the substrate have the at least one transfer film, wherein one or more third regions of the one or more third regions, in particular one or more first regions of the one or more first regions of the surface of the substrate comprising the one or more surface structures partially overlap or completely overlap and/or one or more second regions of the one or more second regions of the surface of the substrate comprising the at least one adhesive layer partially overlap and/or completely overlap.
  • At least one surface structure of the one or more surface structures in the one or more first regions of the surface of the substrate has a relief depth and/or a relief height of less than or equal to 1 mm, in particular less than or equal to 0.75 mm, preferably less than or equal to 0.5 mm, more preferably from a range of 0.02 mm to 0.3 mm, and/or has a depth-to-width ratio, in particular an average depth-to-width ratio, between 0.05 and 10, in particular between 0.1 and 5.
  • one or more surface structures of the one or more surface structures in the one or more first areas of the Surface of the substrate are formed as one or more surface reliefs, in particular wherein one or more surface reliefs of the one or more surface reliefs have a depth-to-width ratio, preferably an average depth-to-width ratio, between 0.05 and 10, particularly preferably between 0.1 and 5, and/or are formed as engravings and/or comprise one or more of the following design elements: alphanumeric character, character, symbol, micro-font, image, photo, logo, portrait, pictogram, pattern, in particular endless pattern, and/or motif.
  • the first work station has one or more further printing devices, in particular for at least partially applying one or more further adhesive layers to the surface of the substrate and/or to at least one surface of the at least one adhesive layer facing away from the substrate.
  • the at least one adhesive layer applied at least in regions to the surface of the substrate by the printing device and/or the further printing devices has a viscosity between 200 mPa ⁇ s and 2000 mPa ⁇ s, in particular between 500 mPa ⁇ s and 1500 mPa ⁇ as, preferably between 800 mPa ⁇ s and 1200 mPa ⁇ as.
  • the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers are applied at least in regions by the printing device and/or the further printing devices to the surface of the substrate in such a way that the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers, in particular each, have a constant Layer thickness or a layer thickness varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, in particular with partial or complete overlap of one or more regions of the surface of the substrate comprising the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers with one or more regions of the surface of the substrate comprising the one or more surface structures, in particular in each case, a constant layer thickness or a layer thickness varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, preferably wherein the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers, in particular in each case, have a layer thickness between 3 ⁇ m and 30 ⁇ m, in particular between 2 ⁇ m and 20 ⁇ m, preferably between 1 ⁇ m and 10
  • the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers are applied to the surface of the substrate at least in regions by the printing device and/or the further printing devices in such a way that the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers in or on one or more regions of the surface of the substrate have or have a first layer thickness in a first group of one or more regions of the one or more regions and have or have a second layer thickness in a second group of one or more regions of the one or more regions, in particular wherein the first layer thickness and the second layer thickness differ from one another, preferably wherein the first layer thickness and/or the second layer thickness are each constant and/or the first and the second layer thickness differ from one another by less than 10%, in particular by less than 20%, preferably wherein the first layer thickness and/or the second layer thickness are from a range of 3 ⁇ m to 30 ⁇ m, in particular from 2 ⁇ m to 20 ⁇ m, preferably from 1 ⁇ m to 10 ⁇ m is selected.
  • the surface structure of the adhesive layer can vary by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, compared to the surface structure of the substrate.
  • the surface structure of the substrate will also be present in the same or similar form in the transfer film, ie the surface structure of the transfer film can preferably vary by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, compared to the surface structure of the substrate.
  • the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers applied at least partially to the surface of the substrate by the printing device and/or the further printing devices are designed as UV adhesives.
  • the second work station prefferably has one or more further pressing devices, in particular for at least partially pressing the at least one transfer film and/or one or more further transfer films onto the surface of the at least one adhesive layer facing away from the substrate and/or the surface of the substrate, and/or for the second work station to have one or more further irradiation devices, in particular for at least partially irradiating the at least one adhesive layer applied at least partially to the surface of the substrate and/or one or more further adhesive layers applied at least partially to the surface of the substrate and/or onto at least one further surface of the at least one adhesive layer applied at least partially to the surface of the substrate.
  • the pressing device and/or the one or more further pressing devices in particular each, have at least one pressing body, in particular wherein the at least one pressing body comprises one or more flexible pressing layers, preferably wherein the one or several flexible pressure layers are translucent or transparent at least for one or more wavelengths of UV radiation and/or in one or more wavelength ranges of UV radiation.
  • the at least one pressing body comprises two or more flexible pressing layers, in particular wherein the two or more flexible pressing layers are arranged or formed in a sequence, in particular as a multi-layer structure, such that the degrees of hardness of the two or more pressing layers vary, in particular increase, from pressing layer to pressing layer along a normal vector spanned by the plane of the substrate and/or the at least one adhesive layer, starting from a pressing layer of the two or more pressing layers closest to the substrate and/or the at least one adhesive layer.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body is transparent or translucent in a wavelength range from 250 nm to 420 nm, in particular in a wavelength range from 380 nm to 420 nm.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body has a transmissivity in a range from 30% to 100%, particularly preferably in a range from 40% to 100%, and/or has a layer thickness in a range from 1 mm to 20 mm, in particular from 2 mm to 15 mm, preferably from 3 mm to 10 mm, and/or has a layer thickness of less than or equal to 0.75 mm, in particular less than or equal to 0.5 mm, preferably less than or equal to 0.25 mm.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body is flat, curved and/or three-dimensionally formed, in particular at least in regions curved and/or bent and/or has at least partially a structured and/or textured surface.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body comprises silicone or consists of silicone, in particular wherein the silicone has a hardness or a degree of hardness in a range from 5° Shore A to 90° Shore A, preferably from 10° Shore A to 75° Shore A, more preferably from 20° Shore A to 50° Shore A.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers of the at least one pressure body in particular comprising silicone or consisting of silicone, has a surface facing the substrate and/or the at least one adhesive layer, which surface is in particular flat and/or domed.
  • At least one surface of at least one flexible pressing layer of the one or two or more pressing layers of the at least one pressing body has, at least in some regions, a height profile which is deformed during at least some region-by-region pressing such that this height profile corresponds to or follows a height profile of one or more surface structures of the one or more surface structures in or on the surface of the substrate, in particular wherein the height profiles vary in one or more directions.
  • At least one surface of at least one flexible pressing layer of the one or two or more pressing layers of the at least one pressing body has at least one height profile, in particular at least one height profile that is structured or flat in at least some areas, which is deformed when pressed at least in some areas in such a way that this at least one height profile when pressed at least in some areas a height profile of one or more surface structures of the one or more surface structures in or on the surface of the substrate and/or that the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers have or have a constant layer thickness during irradiation, preferably wherein the height profile of the one or more surface structures of the one or more surface structures varies in one or more directions.
  • the one or two or more flexible pressure layers are at least partially arranged between the at least one UV radiation source and the substrate and/or the at least one adhesive layer and/or the one or more further adhesive layers.
  • the curing of the at least one adhesive layer can take place by irradiation with UV radiation in or by the irradiation device and/or in or by the one or more further irradiation devices, preferably wherein the UV radiation is generated and/or emitted by at least one UV radiation source, further preferably wherein the UV radiation has a wavelength or an intensity maximum in a wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in a wavelength range from 380 nm to 420 nm.
  • the at least one transfer film comprising the at least one decorative layer and the at least one carrier layer or that the at least one decorative layer for UV radiation in the wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in the wavelength range from 380 nm to 420 nm, has a transmissivity in a range from 5% to 95%, in particular in a range from 10% to 70%, preferably in a range from 20% to 40%, in particular wherein the UV radiation is provided by the at least one UV radiation source.
  • At least one decorative layer of the at least one decorative layer of the at least one transfer film has, at least in some regions, at least one metallic layer, at least one dielectric layer and/or at least one color layer, in particular at least one transparent, translucent or opaque color layer.
  • the body is a multilayer film element and/or a multilayer body, preferably the body being particularly flexible, stretchable and/or elastic.
  • the body is provided in particular as a multilayer plate, preferably the plate being preferably rigid, inelastic and/or stretchable.
  • the multilayer film element and/or the multilayer body preferably have one or more decorative layers, metal layers, metal oxide layers, in particular reflective layers, optically active layers, in particular optically variable layers, electrically conductive layers, colored layers, in particular colored lacquer layers, at least partially or completely translucent layers, release layers, barrier layers, adhesive layers, adhesion promoter layers and/or plastic layers applied over the entire surface or only in certain areas.
  • the body is produced as a transfer film comprising the at least one decorative layer and/or comprising the at least one carrier layer, in particular wherein the at least one carrier layer is detached from the at least one decorative layer during the transfer and the at least one decorative layer is transferred during the transfer.
  • the pressing of the at least one transfer film in step c) of the method onto the one or more third regions of the substrate takes place in that the substrate is rotated in particular about an axis, preferably wherein the at least one transfer film is guided tangentially to the outer circumference of the substrate, preferably wherein the substrate and/or the at least one transfer film, preferably each, is attached to one or more cylindrical Rollers and/or cylinders or on a circumference of one or more cylindrical rollers and/or cylinders and/or rotatable cylinders and that the one or more flexible pressing layers and/or the pressing body of the pressing device presses the at least one transfer film onto the substrate and/or the at least one adhesive layer and/or onto the one or more third regions of the surface of the substrate along the contact line or contact surface between the substrate and the at least one transfer film.
  • one or more cylindrical rollers and/or cylinders of the one or more cylindrical rollers and/or cylinders comprise quartz glass or preferably one or more cylindrical rollers and/or cylinders of the one or more cylindrical rollers and/or cylinders are made of quartz glass.
  • the pressing device is moved and/or displaced such that the surface speed of the pressing device corresponds to the surface speed and/or feed speed of the substrate, preferably wherein the at least one transfer film is moved and/or displaced such that the surface speed of the transfer film preferably corresponds to the surface speed and/or feed speed of the substrate.
  • the pressing device has at least one cylinder rotatable about the cylinder axis or at least one flat plate.
  • the pressing device is in particular a cylinder that can be rotated about the cylinder axis
  • the pressing of the at least one transfer film onto the substrate and/or onto the one or more third areas of the surface of the substrate preferably takes place in that in particular the transfer film is guided between the cylinder and the substrate while the rotatable cylinder rotates about a cylinder axis and the substrate rotates about the axis of rotation.
  • the curing of the at least one adhesive layer by means of UV radiation preferably takes place through the transparent cylinder wall from the inside of the cylinder.
  • an opaque diaphragm or opaque mask with transparent areas is used which preferably shield the corresponding areas of the adhesive layer from the radiation.
  • the pressing of the at least one transfer film onto the substrate and/or onto the one or more third regions of the surface of the substrate preferably takes place in that the at least one transfer film is preferably arranged in the direction of the normal vector of the substrate between the pressing device and the substrate and the pressing device preferably moves back and forth in the direction of the normal vector of the substrate and presses the at least one transfer film in particular onto a third region of the substrate.
  • the curing of the at least one adhesive layer by means of UV radiation preferably takes place through the transparent pressing device.
  • an opaque aperture or opaque mask with transparent regions, which preferably shields the corresponding regions of the adhesive layer from the radiation.
  • the at least one transfer film is pressed onto the substrate in that, in particular, the cylinder is guided linearly over the, preferably stationary, substrate while simultaneously rotating the cylinder about the cylinder axis.
  • the pressing of the at least one transfer film onto the substrate is carried out by preferably rotating the substrate about the axis of rotation and/or by guiding the at least one transfer film tangentially to the outer circumference of the substrate and/or by moving the pressing device along the Contact line or contact surface between the substrate and the at least one transfer film which presses at least one transfer film onto the substrate.
  • one or more further work stations are arranged after the second work station for pressing on the at least one transfer film and for hardening the at least one adhesive layer and/or for an additional coating of the substrate, the at least one adhesive layer and/or the at least one transfer film, in particular the at least one decorative layer, in particular wherein one or more further work stations of the one or more work stations apply one or more additional coatings at least in regions or over the entire surface in or on one or more first regions of the one or more first regions and/or in or on one or more second regions of the one or more second regions and/or in or on one or more third regions of the one or more third regions and/or in or on regions adjacent to the first, second and/or third regions or over the entire surface.
  • the coating includes the application of one or more additional transparent, translucent or opaque lacquer layers.
  • a further coating of the substrate takes place, in particular by means of screen printing, flexographic printing, inkjet printing and/or digital printing.
  • first work station for applying the adhesive the second work station for pressing the at least one transfer film and for hardening the at least one adhesive layer and/or all other work stations that may be present are arranged inline.
  • the first work station is a pad printing station, in particular wherein the UV adhesive or the at least one adhesive layer is applied to the substrate by means of a pad.
  • the first work station prefferably be a flexographic printing station, in particular where the UV adhesive or the at least one adhesive layer is applied to the substrate by means of a printing plate attached to the printing form cylinder. It is also possible for the first work station to also have a screen printing station or a digital printing station, in particular an inkjet printing station.
  • the substrate is preferably a coin made of at least one metal or metal alloy with a relief embossed into the metal during coin production.
  • the relief here represents a motif in particular and can, for example, have several motif areas, for example a portrait or a coat of arms against a background pattern. Only certain motif areas can now be partially coated with the at least one adhesive layer, in particular by means of pad printing, for example only the portrait or only the coat of arms and not the background pattern, or vice versa only the background pattern and not the portrait or the coat of arms.
  • Pad printing is preferably particularly well suited here because the elastic pad provided with UV adhesive can cling in particular to the relief unevenness and can therefore preferably also apply an adhesive layer in recessed relief areas.
  • the UV adhesive can be applied in particular by means of inkjet printing, preferably whereby the liquid drops can reach and in particular cover every relief area.
  • the adhesive layer is adapted to the relief shape in a quasi "automatic" manner.
  • the at least one transfer film can be applied in particular to the at least one adhesive layer, preferably wherein the at least one flexible pressure layer of the at least one pressure body in turn adheres to the can conform to relief irregularities and in doing so preferably achieves a film transfer in recessed relief areas, so that in particular there the at least one decorative layer adheres to the at least one adhesive layer and preferably at the same time the at least one decorative layer follows the relief contour and further preferably at least partially the original relief contour is still present on the outer free surface of the at least one decorative layer and is in particular optically effective.
  • the substrate prefferably be wood or veneer with a natural grain.
  • the natural grain can be given an artificial roughness or smoothness, in particular through additional processing.
  • the relief preferably represents irregular depressions and elevations, in particular at least the so-called "tick" of the wood.
  • An adhesive layer can now preferably be applied partially, in particular by means of pad printing, for example in the form of a motif and/or in the form of a pattern.
  • Pad printing is particularly suitable here because the elastic pad provided with UV adhesive can preferably cling to the relief unevenness and can in particular apply an adhesive layer in recessed relief areas.
  • the UV adhesive can also preferably be applied by means of inkjet printing, preferably whereby the liquid drops can reach and more preferably cover every relief area.
  • the at least one adhesive layer is adapted to the relief shape in inkjet printing in a quasi "automatic" manner.
  • the at least one transfer film can then be applied in particular to the at least one adhesive layer, preferably whereby the at least one flexible pressure layer of the at least one pressure body can in turn cling to the relief unevennesses and in this case preferably achieves a film transfer in recessed relief areas, so that more preferably the at least one decorative layer adheres there to the at least one adhesive layer and in particular at the same time the at least one decorative layer follows the relief contour and in particular preferably at least partially the original relief contour on the outer free surface of at least one decorative layer is still present and optically effective.
  • the at least one adhesive layer can fill and even out the original relief form, particularly in the case of relief forms with very low relief depths.
  • partially smooth, shiny or otherwise optically and/or functionally contrasting areas, preferably coated with transfer film can be created on a rough natural wood surface.
  • the substrate is in particular a plastic molded part or a metal molded part, which was preferably produced by 3D printing. It is known that such molded parts often have a rough, unsightly surface, preferably directly after 3D printing, which more preferably requires complex post-treatment.
  • the relief represents, for example, the largely regular layer sequence of the 3D printing from a large number of plastic layers or, for example, other regular and/or irregular process traces of the 3D printing.
  • an adhesive layer can be applied partially, in particular by pad printing, for example in the form of a motif and/or in the form of a pattern.
  • Pad printing is particularly suitable here because the elastic pad provided with UV adhesive can preferably cling to the relief unevenness and can also preferably apply an adhesive layer in recessed relief areas.
  • the UV adhesive can, however, be applied in particular by inkjet printing, preferably whereby the liquid drops can reach and more preferably cover every relief area.
  • the adaptation of the adhesive layer to the relief shape is preferably done "automatically" in inkjet printing.
  • the adhesive layer it is possible for the adhesive layer to be applied in such a layer thickness that the relief is in particular evened out and preferably filled in, so that more preferably there is a largely smooth outer free surface of the adhesive layer.
  • the adhesive layer is at least approximately as thick as the relief depth.
  • the at least one transfer film can then be applied in particular to the adhesive layer, preferably whereby the at least one transfer film is applied to the largely smooth adhesive layer and in particular thereafter the decorative layer is also largely smooth and in particular preferably flat on its outer free surface. This allows on the one hand in particular a decoration of the molded part to take place and preferably at the same time complex post-processing of the surface of the molded part becomes unnecessary.
  • one or more steps a, b, c of the method are an inline process or part of an inline process.
  • the individual process steps preferably take place directly one after the other in such a way that in particular no temporary and local intermediate storage of the substrate is carried out.
  • the different work stations are combined in a common device and preferably the substrate is transported from one work station to a subsequent work station.
  • the process steps in an offline process preferably take place decoupled from one another and preferably with temporary and local intermediate storage of the substrate.
  • the Figure 2 shows a substrate 10 which has a surface structure 11, wherein the substrate 10 is provided in particular in step a of the method.
  • the surface 10a of the substrate 10 has the surface structure 11 over its entire surface, preferably wherein the height profile of the surface structure 11 has a sinusoidal or cosinusoidal height profile.
  • the maximum relief depth of the surface structure 11 is in the Figure 2 marked with h 1 and the width of the relief depressions of the surface structure 11 is in the Figure 2 characterized by b 1 , in particular wherein the width b 1 of the relief depressions is determined at half a maximum relief depth h 1 .
  • the Figure 3 shows a substrate 10 which has a surface structure 11, wherein the substrate 10 is provided in particular in step a of the method.
  • the surface 10a of the upper side of the substrate 10 has the surface structure 11 over its entire surface, preferably wherein the height profile of the surface structure 11 has a height profile consisting of the repeating sequence "deep plateau - rising flank - high plateau - descending flank".
  • the surface 10b of the underside of the substrate 10 has no surface structure or no surface structures.
  • the maximum relief depth of the surface structure 11 is in the Figure 3 marked with h 1 and the width of the relief depressions of the surface structure 11 is in the Figure 3 characterized by b 1 , in particular wherein the width b 1 of the relief depressions is determined at half a maximum relief depth h 1 .
  • the Figure 4 shows a substrate 10 which has a surface structure 11, wherein the substrate 10 is provided in particular in step a of the method.
  • the surface 10a of the substrate 10 has the surface structure 11 completely or in a first region 100, preferably wherein the height profile and/or the depth-to-width ratio of the surface structure 10a varies pseudo-randomly or randomly over the surface 10a.
  • Random or pseudo-random variation is understood here to mean in particular that the one or more surface structures have random or pseudo-random heights and/or depths along at least one direction perpendicular to the plane spanned by the substrate.
  • the substrate 10 in steps a, b and/or c is designed as a three-dimensional object and/or as a film and/or has a web-like or strip-like shape, in particular wherein a first spatial extension of the substrate 10 is parallel to a first direction R1 when designed as a film and/or when designed as a web-like or strip-like shape is greater than a second spatial extension of the substrate 10 parallel to a second direction R2, preferably wherein the first direction R1 is arranged perpendicular to the second direction R2.
  • the substrate is an endless belt or comprises a sequence of one or more sheets.
  • the substrate is a coin, preferably a coin comprising metal and/or at least one metal layer, wherein at least one surface of the coin has a surface structure which is designed, for example, as an engraving, wherein the engraving represents a motif and/or a portrait.
  • the substrate provided in step a is provided as a roll or as a sheet.
  • the substrate is provided as a roll.
  • the substrate it is also possible for the substrate to be provided as one or more sheets, wherein the one or more sheets are preferably flat.
  • the substrate provided in step a to comprise one or more plastics, papers and/or metals and/or metal oxides.
  • the substrate comprises in particular one or more of the metals selected from: chromium, aluminum, gold, copper, tin, indium, silver and/or an alloy of one or more of the above metals. It is also possible for the substrate provided in step a to comprise one or more layers. In particular, these layers comprise the same or different materials and/or the same or different optical properties. It is also possible for the substrate provided in step a to comprise one or more position markings.
  • the substrate 10 in steps a, b and/or c consists of one or more of the following materials or comprises one or more of the following materials: plastic film, in particular a PET film, PMMA, PC, PEC, ABS, ABS-PC, PE, PS, PVC, polyamides, PAN, SAN, SBS, PSU, PES, PEEK, PP and/or PET-G, paper, paper composite materials, glass fiber, carbon fiber, metal, metal alloys, wood, concrete, stone.
  • plastic film in particular a PET film, PMMA, PC, PEC, ABS, ABS-PC, PE, PS, PVC, polyamides, PAN, SAN, SBS, PSU, PES, PEEK, PP and/or PET-G, paper, paper composite materials, glass fiber, carbon fiber, metal, metal alloys, wood, concrete, stone.
  • At least one surface structure of the one or more surface structures 11 in the one or more first regions of the surface 10a of the substrate 10 in step a of the method has a relief depth and/or a relief height of less than or equal to 1 mm, in particular less than or equal to 0.75 mm, preferably less than or equal to 0.5 mm, more preferably from a range of 0.02 mm to 0.3 mm, and/or a depth-to-width ratio, in particular an average depth-to-width ratio, between 0.05 and 10, in particular between 0.1 and 5.
  • the depth, in particular the maximum depth, of the surface structure 11 of the substrate 10 is designated by h 1.
  • the depth h 1 is preferably the distance between the maximum elevation and the minimum depression of the surface structure, preferably with the distance being aligned parallel to a normal vector which is in particular perpendicular to the plane spanned by the substrate 10 and/or by the two largest extensions of the substrate 10.
  • one or more surface structures of the one or more surface structures 11 in the one or more first regions of the surface 10a of the substrate 10 in step a of the method are formed as one or more surface reliefs, in particular wherein one or more surface reliefs of the one or more surface reliefs have a depth-to-width ratio, in particular an average depth-to-width ratio, between 0.05 and 10, in particular between 0.1 and 5, and/or are designed as engravings and/or comprise one or more of the following design elements: alphanumeric character, character, symbol, micro-writing, image, photo, logo, portrait, pictogram, pattern, in particular endless pattern, and/or motif.
  • the Figure 5 shows this in the Figure 4 shown substrate 10, except that the surface 10a of the substrate 10 has an adhesive layer 20 over its entire surface or in a region 200, which is applied to the surface 10a of the substrate 10 in particular in step b of the method. More preferably, the first region 100 comprising the surface structure 10a and the second region 200 comprising the adhesive layer 20 completely overlap.
  • the adhesive layer 20 has a largely constant layer thickness h 2 , in particular a constant layer thickness h 2 , over the entire region 100 of the surface 10a of the substrate 10.
  • step b one or more second regions of the one or more second regions 200 of the surface 10a of the substrate 10, to which the at least one adhesive layer 20 is applied and/or which comprise the at least one adhesive layer 20, partially or completely overlap one or more first regions of the one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the one or more surface structures 11.
  • step c one or more third regions of the one or more third regions 300 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the at least one transfer film 30 and/or the surface of the at least one adhesive layer 20 facing away from the substrate 10 comprising the at least one transfer film 30, one or more first regions of the one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the one or more surface structures 11 partially overlap or completely overlap and/or one or more second regions of the one or more second regions of the Surface 10a of the substrate 10 comprising the at least one adhesive layer 20 partially or completely.
  • the at least one adhesive layer 20 is applied to the one or more second regions 200 of the surface 10a of the substrate 10 in step b of the method by means of inkjet printing, pad printing, in particular with a pad hardness between 5 Shore A and 20 Shore A, screen printing, flexographic printing and/or digital printing.
  • the at least one adhesive layer 20 in steps b and c of the method is designed as a UV adhesive, in particular wherein the curing of the at least one adhesive layer 20 takes place by irradiation with UV radiation, preferably wherein the UV radiation is generated by at least one UV radiation source 51b, further preferably wherein the UV radiation has a wavelength or an intensity maximum in a wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in the wavelength range from 380 nm to 420 nm.
  • the at least one adhesive layer 20, when applied to the one or more second regions 200 of the surface 10a of the substrate 10 in step b of the method, has a viscosity which is between 200 mPa ⁇ s and 2000 mPa ⁇ s, in particular between 500 mPa ⁇ s and 1500 mPa ⁇ s, preferably between 800 mPa ⁇ s and 1200 mPa ⁇ s.
  • the adhesive layer is distributed when pressed in step c of the method, preferably runs and/or is distributed over the elevations and/or depressions of the surface structure 10a in such a way that an adhesive layer 20 is formed which preferably has a constant layer thickness.
  • the Figure 6 shows this in the Figure 5 shown substrate 10 and the adhesive layer 20, except that a transfer film 30, in particular comprising at least one decorative layer and/or at least one carrier layer, is pressed onto the surface of the adhesive layer 20 facing away from the substrate 10.
  • the pressing of the transfer film 30 preferably takes place in step c of the method, in particular by means of a pressing device 50a comprising a pressing body 51a.
  • the region 100 comprising the surface structures 11 in or on the surface 10a of the substrate 10 provided in step a of the method, the region 200 comprising the adhesive layer 20 applied to the surface 10a of the substrate 10 in step b of the method and a region 300 in which the transfer film 30 is preferably pressed onto the surface 10a of the substrate 10 and/or onto the surface of the adhesive layer 20 facing away from the substrate 10 in step c of the method, correspond in particular to one another, preferably as in the Figure 6 shown.
  • the pressing body 51a preferably has one or more pressing layers 52a.
  • the pressure or the force per area is preferably conveyed via the one or more pressing layers 52a of the pressing body 51a, in particular with the surface or surfaces of the one or more pressing layers 52a facing the substrate 10 and/or the adhesive layer 20 being in direct contact with the transfer film 30.
  • the transfer film 30, in particular the surface of the transfer film 30 facing the substrate 10 is preferably in direct contact with the adhesive layer 20, in particular with the surface of the adhesive layer 20 facing away from the substrate 10, and/or the substrate 10, in particular the surface 10a of the substrate 10, when pressed in step c of the method.
  • the layer thickness of the Figure 6 The adhesive layer 20 shown varies in particular along at least one direction R3.
  • step c of the method takes place simultaneously with the curing of the adhesive layer 20 by irradiating the adhesive layer 20 with UV radiation, which is preferably carried out by one or more irradiation devices 50b comprising one or more UV radiation sources 51b.
  • the pressing of the at least one transfer film 30 in step c is mediated by at least one pressing body 51a, in particular wherein the at least one pressing body 51a comprises one or more flexible pressing layers 52a, preferably wherein the one or more flexible pressing layers 52a are translucent or transparent at least for one or more wavelengths of the UV radiation and/or in one or more wavelength ranges of the UV radiation, preferably wherein the one or more flexible pressing layers 52a are arranged at least partially between the at least one UV radiation source, which preferably emits the UV radiation, and the substrate and/or the at least one adhesive layer 20.
  • the at least one pressing body 51a to comprise two or more flexible pressing layers 52a, in particular wherein the two or more pressing layers are arranged or formed in a sequence, in particular as a multi-layer structure, such that the degrees of hardness of the two or more pressing layers vary, in particular increase, from pressing layer to pressing layer along a normal vector spanned by the plane of the substrate 10 and/or the at least one adhesive layer 20, in particular starting from the pressing layer of the two or more pressing layers closest to the substrate and/or the at least one adhesive layer 20.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a in a wavelength range of 250 nm to 420 nm, in particular in a range from 380 nm to 420 nm, is transparent or translucent, preferably has a transmissivity in a range from 30% to 100%, particularly preferably in a range from 40% to 100%, and/or has layer thicknesses in a range from 1 mm to 20 mm, in particular from 2 mm to 15 mm, preferably from 3 mm to 10 mm, and/or has layer thicknesses of less than or equal to 0.75 mm, in particular less than or equal to 0.5 mm, preferably less than or equal to 0.25 mm.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a is flat and/or curved and/or three-dimensionally formed, in particular at least partially curved and/or bent and/or has at least partially a structured and/or textured surface.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a comprises silicone or consists of silicone, in particular wherein the silicone has a hardness or a degree of hardness in a range from 5° Shore A to 90° Shore A, in particular from 10° Shore A to 75° Shore A, preferably from 20° Shore A to 50° Shore A.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a in particular comprising silicone or consisting of silicone, has a surface facing the substrate and/or the at least one adhesive layer 20, which surface is in particular flat and/or cambered.
  • At least one surface facing the substrate 10 and/or one of the at least one adhesive layer 20 of at least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a in step c of the method at least has a height profile in some areas which corresponds to or follows a height profile of at least one surface structure of the one or more surface structures 11, in particular wherein the height profile varies in one or more directions.
  • At least one surface of at least one flexible pressing layer of the one or two or more pressing layers 52a of the at least one pressing body 51a facing the substrate and/or the at least one adhesive layer 20 has an at least partially flat or structured height profile in step c of the method, in particular wherein the at least partially flat or structured height profile adjusts or matches a height profile of one or more surface structures 11 of the one or more surface structures 11 in or on the surface 10a of the substrate 10 when pressed in step c such that the at least one adhesive layer 20 has a constant layer thickness after pressing in step c and/or after curing in step c, preferably wherein the at least partially flat or structured height profile of the one or more surface structures 11 of the one or more surface structures 11 in or on the surface 10a of the substrate 10 varies in one or more directions.
  • the Figure 7 shows this in the Figure 6 shown substrate 10, the adhesive layer 20 and the transfer film 30 after pressing and hardening or after step c of the method, in particular wherein the substrate 10, the adhesive layer 20 and the transfer film 30 form a body.
  • the adhesive layer 20 is partially or completely hardened in step c of the method, in particular when the transfer film 30 is pressed onto the substrate 10 and/or the adhesive layer 20, preferably simultaneously and/or by means of UV radiation.
  • the adhesive layer 20 preferably has a constant layer thickness h 2 over the entire surface 10a of the substrate 10, so that the surface structure in the surface of the transfer film 30 facing away from the substrate preferably corresponds to the surface structure 11 in the surface 10a of the substrate 10 due to the constant layer thickness h 2 of the adhesive layer 20.
  • the region 100 comprising the surface structures 11 in or on the surface 10a of the substrate 10 provided in step a of the method
  • the region 200 comprising the adhesive layer 20 applied to the surface 10a of the substrate 10 in step b of the method and a region 300 in which the transfer film 30 is preferably pressed and hardened onto the surface 10a of the substrate 10 and/or onto the surface of the adhesive layer 20 facing away from the substrate 10 in step c of the method, in particular correspond to one another.
  • the layer thickness of the Figure 7 The adhesive layer 20 shown varies in particular along at least one direction R4.
  • the layer thickness h 2 extends, as for example in the Figure 5 shown, preferably after step b of the method and/or after step c of the method, particularly preferably after the at least partial and/or regional hardening, the at least one adhesive layer 20 extends at at least one point of the surface 10a of the substrate 10 along the direction of a normal vector at this point and/or preferably wherein the layer thickness h 2 at at least one point of the surface 10a of the substrate 10 along a direction of a curvature vector at this point.
  • the at least one adhesive layer 20 which is applied in step b of the method to the one or more second regions of the surface 10a of the substrate 10, preferably after step b of the method and/or after step c of the method, has a constant layer thickness h 2 or has a layer thickness h 2 varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, in particular in the one or more first regions of the surface 10a of the substrate 10 comprising the one or more surface structures 11, has a constant layer thickness h 2 or a layer thickness h 2 varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, preferably with partial or complete overlap of one or more second regions of the one or more second regions 200 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the at least one adhesive layer 20 with one or more first regions of the one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the one or more surface structures 11, has a constant layer thickness h 2 or a layer thickness h 2 varying by a maximum of 10%, in particular by
  • the at least one adhesive layer which is applied to the one or more second regions of the surface 10a of the substrate 10 in step b of the method preferably after step b of the method and/or after step c of the method, to have a first layer thickness in a first group of one or more first and/or second regions of the one or more first and second regions 100, 200 and to have a second layer thickness in a second group of one or more first and/or second regions of the one or more first and second regions 100, 200, in particular wherein the first layer thickness and the second layer thickness differ from one another, preferably wherein the first layer thickness and/or the second layer thickness are each constant and/or the first and second layer thicknesses differ from one another by less than 10%, in particular by less than 20%.
  • the at least one adhesive layer 20 is at least partially cured in step c of the method, in particular wherein the at least one carrier layer 32 of the at least one transfer film 30 is peeled off after the at least partial curing of the at least one adhesive layer 20 and the Substrate 10 and/or the at least one adhesive layer 20 is subsequently, in particular in a further step, cured once or repeatedly, in particular irradiated with UV radiation.
  • Partial curing of the adhesive layer 20 may be advantageous in that a partially cured adhesive layer 20 can be deformed and/or reshaped in one or more further steps and/or intermediate steps.
  • the at least one transfer film 30 comprising at least one decorative layer 31 and at least one carrier layer 32 or that the at least one decorative layer 31 for UV radiation in the wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in a wavelength range from 380 nm to 420 nm, has a transmissivity in a range from 5% to 95%, in particular in a wavelength range from 10% to 70%, preferably in a range from 20% to 40%, in particular wherein the UV radiation is provided by the at least one UV radiation source 51b.
  • step c of the method at least one decorative layer of the at least one decorative layer 31 of the at least one transfer film 30 has, at least in some regions, at least one metallic layer, at least one dielectric layer and/or at least one color layer, in particular at least one transparent, translucent or opaque color layer.
  • At least one decorative layer of the at least one decorative layer 31 of the at least one transfer film 30 is formed by a replication lacquer layer with a surface relief molded into the replication lacquer layer, in particular wherein the surface relief molded into the replication lacquer layer is formed at least in regions by an optically active surface structure selected from: diffractive surface structure, in particular hologram, zero-order diffraction structures, matt structure, in particular isotropic or anisotropic matt structure, blazed grating, lens structure, microlens structure, microprism structure, micromirror structure, and/or a combination of two or more of these optically active surface structures.
  • an optically active surface structure selected from: diffractive surface structure, in particular hologram, zero-order diffraction structures, matt structure, in particular isotropic or anisotropic matt structure, blazed grating, lens structure, microlens structure, microprism structure, micromirror structure, and/or a combination of two or more of these optically active
  • At least one decorative layer of the at least one decorative layer 31 of the at least one transfer film 30 is applied in step c of the method with a register accuracy of ⁇ 1 mm, in particular of ⁇ 0.5 mm, preferably of less than or equal to +0.3 mm and/or greater than or equal to -0.3 mm, to the substrate and/or to the at least one adhesive layer 20 when the at least one transfer film 30 is pressed on, preferably to one or more first regions 100 of the one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the one or more surface structures 11 and/or to one or more second regions of the one or more second regions 200 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the at least one adhesive layer 20.
  • the Figure 4a shows this in the Figure 4 shown substrate 10, which has a surface structure 11, wherein the substrate 10 is provided in particular in step a of the method.
  • the surface 10a of the substrate 10 has the surface structure 11 over its entire surface, preferably wherein the height profile and/or the depth-to-width ratio of the surface structure 10a varies pseudo-randomly or randomly over the surface 10a.
  • the Figure 5a shows this in the Figure 4a shown substrate 10, wherein the surface 10a of the substrate 10 has an adhesive layer 20 over its entire surface, which is applied to the surface 10a of the substrate 10, in particular in one or more passes, in particular in step b of the method. More preferably, the surface structure 10a of the substrate 10 and the adhesive layer 20 completely overlap. In particular, the adhesive layer 20 has a varying layer thickness h 2 over the entire surface 10a of the substrate 10.
  • the Figure 6a shows this in the Figure 5a shown substrate 10 and the adhesive layer 20, wherein a transfer film 30, in particular comprising at least one decorative layer and/or at least one carrier layer, is pressed onto the surface of the adhesive layer 20 facing away from the substrate 10.
  • the pressing of the transfer film 30 preferably takes place in step c of the method, in particular by means of a pressing device 50a comprising a pressing body 51a, in particular wherein the pressing body 51a has one or more flexible pressing layers 52a.
  • the adhesive layer 20 preferably has a varying layer thickness h 2 over the entire surface 10a of the substrate 10.
  • the Figure 7a shows this in the Figure 6a shown substrate 10, the adhesive layer 20 and the transfer film 30 after pressing and hardening or after step c of the method, in particular wherein the substrate 10, the adhesive layer 20 and the transfer film 30 form a body.
  • the adhesive layer 20 is partially or completely hardened in step c of the method, in particular when the transfer film 30 is pressed onto the substrate 10 and/or the adhesive layer 20, preferably simultaneously and/or by means of UV radiation.
  • the adhesive layer 20 preferably has a varying layer thickness h 2 over the entire surface 10a of the substrate 10, so that the surface structure in the surface of the transfer film 30 facing away from the substrate is preferably similar to the surface structure 11 in the surface 10a of the substrate 10, but does not correspond to this, in particular due to the varying layer thickness h 2 of the adhesive layer 20.
  • the Figure 8 shows a second work station 5 of a device comprising a pressing device 50a and an irradiation device 50b.
  • the pressing device 50a is arranged and/or mounted so as to be movable, in particular parallel to a direction R5.
  • the Figure 8 shown pressing device 50a has a pressing body 51a, in particular wherein the pressing body 51a has a pressing layer 52a and a UV-transparent or UV-translucent protective layer 53a, in particular wherein the protective layer 53a is a glass layer.
  • the irradiation device 50b shown has a UV radiation source 51b and a power supply S, which preferably emits and/or radiates and/or generates UV radiation from one or more wavelength ranges and/or energy ranges of the ultraviolet and/or electromagnetic spectrum.
  • the pressing device 50a and/or the irradiation device 50b and/or the second work station 5 are arranged parallel to a Figure 8 movable and/or travelable in the direction shown R5.
  • the Figure 8 a multilayer body, which, starting from the pressure layer 52a, has the following sequence of layers: transfer film 30, in particular comprising at least one decorative film and/or at least one carrier layer, an adhesive layer 20, which is formed in particular in three regions 200, a substrate 10, wherein the Figure 8 The substrate 10 shown in particular has no surface structures.
  • the transfer film 30 is preferably pressed by the pressing device 50a by means of the pressing body 51a comprising the pressing layer 52a onto the substrate 10 and/or the adhesive layer 20, which is present in particular in the areas 200, preferably wherein the adhesive layer 20, which is present in particular in the areas 200, is irradiated by UV radiation from the UV radiation source 51b included in the irradiation device 50b, whereby the adhesive layer 20 hardens in particular at least in regions and/or at least partially.
  • the flexible pressing layer 52a, the pressing body 51a, the transfer film 30 and/or the adhesive layer 20 are hereby designed for UV radiation, preferably for UV radiation emitted by the UV radiation source 51b. at least partially, preferably partially or completely, permeable.
  • the device which in particular the Figure 8 shown second work station 5, is preferably suitable for decorative cold stamping and/or preferably for producing a body and/or preferably for carrying out the above method, preferably wherein the device has a first work station 4 comprising a printing device 40 for at least partially applying at least one adhesive layer 20 to a surface 10a of the substrate 10, wherein the surface 10a of the substrate 10 has at least partially one or more surface structures 11, and wherein the device has a second work station 5 comprising a pressing device 50a for at least partially pressing at least one transfer film 30 comprising at least one decorative layer 31 and at least one carrier layer 32 onto the surface 10a of the substrate 10 and/or a surface of the at least one adhesive layer 20 facing away from the substrate 10, and has an irradiation device 50b for at least partially and/or at least partially hardening the at least one adhesive layer, wherein the second work station 5 is designed such that the at least partially Pressing of the at least one transfer film 30 and the at least partial hardening of the at least one adhesive layer 20 takes place
  • the Figure 9 shows a second work station 5 of a device, in particular of the above device, in particular wherein the second work station 5 comprises a pressing device 50a and an irradiation device 51a.
  • the section A2 of the Figure 9 is an enlarged view of section A1 of the Figure 9 .
  • the pressing device 50a shown has a pressing body 51a, preferably wherein the pressing body 51a has one or more flexible pressing layers 52a.
  • the irradiation device 50b shown comprises a UV radiation source 51b, in particular wherein the UV radiation source 51b produces and/or generates UV radiation 52b and radiates and/or emits it in the direction of the adhesive layer 20.
  • the substrate 10 shown has surface structures 11 in a region 100 in or on the surface 10a of the substrate 10.
  • the Figure 9 The adhesive layer 20 shown is applied in an area 200 to the surface 10a of the Figure 9 shown substrate is placed and/or applied.
  • the Figure 9 shown transfer film 30 is placed and/or applied and/or applied to the surface of the adhesive layer 20 facing away from the substrate 10 in an area 300, which corresponds in particular to the area 200.
  • the transfer film 30 is preferably pressed by the pressing device 50a by means of the pressing body 51a comprising the flexible pressing layers 52a onto the substrate 10 and/or the adhesive layer 20, which is present in particular in the region 200, preferably wherein the adhesive layer 20 is irradiated by UV radiation from the UV radiation source 51b included in the irradiation device 50b, whereby the adhesive layer 20 hardens in particular at least in regions and/or at least partially and/or in the region 100.
  • the flexible pressing layers 52a, the pressing body 51a, the transfer film 30 and/or the adhesive layer 20 are hereby permeable to UV radiation, preferably to UV radiation emitted by the UV radiation source 51b, at least in regions, preferably partially or completely.
  • the substrate 10 is designed as a three-dimensional object and/or film and/or a web- or band-shaped shape in particular wherein a first spatial extent of the substrate 10 parallel to a first direction R1 in a design as a film and/or a web- or band-shaped shape is greater than a second spatial extent of the substrate 10 parallel to a second direction R2, preferably wherein the first direction R1 is arranged in particular perpendicular to the second direction R2.
  • one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 comprise the one or more surface structures 11 and one or more second regions of the surface 10a of the substrate 10 comprise the at least one adhesive layer 20, wherein one or more first regions of the one or more first regions 100, in particular one or more second regions of the one or more second regions 200, partially overlap or completely overlap.
  • one or more third regions 300 of the surface 10a of the substrate 10 and/or of the surface of the at least one adhesive layer 20 facing away from the substrate 10 to have the at least one transfer film 30, wherein one or more third regions of the one or more third regions 300, in particular one or more first regions of the one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the one or more surface structures 11, partially overlap or completely overlap and/or one or more second regions of the one or more second regions 200 of the surface 10a of the substrate 10 comprising the at least one adhesive layer 20 partially overlap and/or completely overlap.
  • At least one surface structure of the one or more surface structures 11 in the one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 has a relief depth and/or a relief height of less than or equal to 1 mm, in particular less than or equal to 0.75 mm, preferably less than or equal to 0.5 mm, more preferably from a range of 0.02 mm to 0.3 mm, and/or a depth-to-width ratio, in particular an average depth-to-width ratio, between 0.05 and 10, in particular between 0.1 and 5.
  • At least one surface structure of the one or more surface structures 11 in the one or more first regions 100 of the surface 10a of the substrate 10 is formed as one or more surface reliefs, in particular wherein one or more surface reliefs of the one or more surface reliefs have a depth-to-width ratio, in particular an average depth-to-width ratio, between 0.05 and 10, in particular between 0.1 and 5, and/or are formed as engravings and/or comprise one or more of the following design elements: alphanumeric character, character, symbol, micro-font, image, photo, logo, portrait, pictogram, pattern, in particular endless pattern, and/or motif.
  • the first work station 4 prefferably has one or more further printing devices, in particular for at least partially applying one or more further adhesive layers to the surface 10a of the substrate 10 and/or to at least one surface of the at least one adhesive layer 20 facing away from the substrate 10.
  • the at least one adhesive layer 20 applied at least in regions to the surface 10a of the substrate 10 by the printing device 40 and/or the further printing devices has a viscosity between 200 mPa ⁇ s and 2000 mPa ⁇ s, in particular between 500 mPa ⁇ s and 1500 mPa ⁇ s, preferably between 800 mPa ⁇ s and 1200 mPa ⁇ s.
  • the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers are applied at least partially by the printing device 40 and/or the further printing devices to the Surface 10a of the substrate 10 is applied such that the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers, in particular each have a constant layer thickness or a layer thickness varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, in particular in the case of partial or complete overlap of one or more areas of the surface 10a of the substrate 10 comprising the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers with one or more areas of the surface 10a of the substrate 10 comprising the one or more surface structures 11, in particular each have a constant layer thickness or a layer thickness varying by a maximum of 10%, in particular by a maximum of 20%, preferably wherein the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers, in particular each have a layer thickness between 3 ⁇ m and 30 ⁇ m, in particular between 2 ⁇ m and 20 ⁇ m,
  • the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers are applied at least in regions by the printing device 40 and/or the further printing devices to the surface 10a of the substrate 10 in such a way that the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers in or on one or more regions of the surface 10a of the substrate 10 in a first group of one or more regions of the one or more regions has a first layer thickness and in a second group of one or more regions of the one or more regions has a second layer thickness, in particular wherein the first layer thickness and the second layer thickness differ from one another, preferably wherein the first layer thickness and/or the second layer thickness are each constant and/or the first and the second layer thickness differ from one another by less than 10%, in particular by less than 20%, preferably wherein the first layer thickness and/or the second layer thickness is from a range of 3 ⁇ m to 30 ⁇ m, in particular from 2 ⁇ m to 20 ⁇ m, preferably from 1 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers applied at least partially to the surface 10a of the substrate 10 by the printing device 40 and/or the further printing devices are designed as UV adhesives.
  • the second work station 5 prefferably has one or more further pressing devices, in particular for at least partially pressing the at least one transfer film 30 and/or one or more further transfer films onto the surface of the at least one adhesive layer 20 facing away from the substrate 10 and/or the surface 10a of the substrate 10, and/or for the second work station 5 to have one or more further irradiation devices, in particular for at least partially irradiating the at least one adhesive layer 20 applied at least partially to the surface 10a of the substrate 10 and/or one or more further adhesive layers 20 applied at least partially to the surface 10a of the substrate 10 and/or onto at least one further surface of the at least one adhesive layer 20 applied at least partially to the surface 10a of the substrate 10.
  • the pressing device 50a and/or the one or more further pressing devices each have, in particular, at least one pressing body 51a, in particular wherein the at least one pressing body 51a comprises one or more flexible pressing layers 52a, preferably wherein the one or more flexible pressing layers 52a are translucent or transparent at least for one or more wavelengths of the UV radiation and/or in one or more wavelength ranges of the UV radiation.
  • the at least one pressing body 51a comprises two or more flexible pressing layers 52a, in particular wherein the two or more flexible pressing layers 52a are arranged in a sequence, in particular as Multilayer structures, are arranged or designed such that the degrees of hardness or hardnesses of the two or more flexible pressure layers 52a vary, in particular increase, from pressure layer to pressure layer along a normal vector spanned by the plane of the substrate 10 and/or the at least one adhesive layer 20, starting from a pressure layer of the two or more pressure layers 52a closest to the substrate 10 and/or the at least one adhesive layer 20.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a is transparent or translucent in a wavelength range from 250 nm to 420 nm, in particular in a wavelength range from 380 nm to 420 nm, preferably has a transmissivity in a range from 30% to 100%, particularly preferably in a range from 40% to 100%, and/or has a layer thickness in a range from 1 mm to 20 mm, in particular from 2 mm to 15 mm, preferably from 3 mm to 10 mm, and/or has a layer thickness of less than or equal to 0.75 mm, in particular less than or equal to 0.5 mm, preferably less than or equal to 0.25 mm.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a is flat, curved and/or three-dimensionally formed, in particular arched and/or bent at least in regions, and/or has at least partially a structured and/or textured surface.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a comprises silicone or consists of silicone, in particular wherein the silicone has a hardness or a degree of hardness in a range from 5° Shore A to 90° Shore A, in particular from 10° Shore A to 75° Shore A, preferably from 20° Shore A to 50° Shore A.
  • At least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a in particular comprising silicone or consisting of silicone, has a surface facing the substrate and/or the at least one adhesive layer 20, which are in particular flat and/or domed.
  • At least one surface of at least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a has, at least in some regions, a height profile which is deformed during at least some region-wise pressing such that this height profile corresponds to or follows a height profile of one or more surface structures of the one or more surface structures 11 in or on the surface 10a of the substrate 10, in particular wherein the height profiles vary in one or more directions.
  • At least one surface of at least one flexible pressure layer of the one or two or more pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a has, at least in some areas, a height profile, in particular a height profile that is structured or flat in some areas, which is deformed when pressed at least in some areas in such a way that this height profile, when pressed at least in some areas, adjusts or matches a height profile of one or more surface structures of the one or more surface structures 11 in or on the surface 10a of the substrate 10 and/or that the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers have a constant layer thickness during irradiation, preferably wherein the height profile of the one or more surface structures of the one or more surface structures 11 varies in one or more directions.
  • the one or two or more flexible pressure layers 52a of the at least one pressure body 51a are at least partially between the at least one UV radiation source 51b and the substrate 10 and/or the at least one adhesive layer 20 and/or the one or more further adhesive layers.
  • the curing of the at least one adhesive layer 20 to take place by irradiation with UV radiation in or by the irradiation device 50b and/or in or by the one or more further irradiation devices, preferably wherein the UV radiation is generated and/or emitted by at least one UV radiation source 51b, further preferably wherein the UV radiation has a wavelength or an intensity maximum in a wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in a wavelength range from 380 nm to 420 nm.
  • the at least one transfer film 30 comprising the at least one decorative layer 31 and the at least one carrier layer 32 or the at least one decorative layer 31 for UV radiation in the wavelength range from 250 nm to 420 nm, preferably in the wavelength range from 380 nm to 420 nm, has a transmissivity in a range from 5% to 95%, in particular in a range from 10% to 70%, preferably in a range from 20% to 40%, in particular wherein the UV radiation is provided by the at least one UV radiation source 51b.
  • At least one decorative layer of the at least one decorative layer 31 of the at least one transfer film 30 has, at least in some regions, at least one metallic layer, at least one dielectric layer and/or at least one color layer, in particular at least one transparent, translucent or opaque color layer.
  • the Figure 10 shows a second work station 5 of a device, in particular of the above device, in particular wherein the second work station 5 comprises a pressing device 50a and an irradiation device 51a.
  • the pressing device 50a shown has a pressing body 51a, preferably wherein the pressing body 51a has one or more flexible pressing layers 52a.
  • the irradiation device 50b shown comprises a UV radiation source 51b, in particular wherein the UV radiation source 51b produces and/or generates UV radiation and radiates and/or emits it in the direction of the adhesive layer 20.
  • the substrate 10 shown has surface structures 11 in two areas 100 in or on the surface 10a of the substrate 10 and has no surface structures in three areas 101 in or on the surface 10a of the substrate 10.
  • the adhesive layer 20 shown is applied in a region 200 over the entire surface 10a of the Figure 10 shown substrate 10 is placed and/or applied and/or applied.
  • the Figure 10 shown transfer film 30 is placed and/or applied in a region 300, which in particular overlaps the two regions 100 and at least partially the three regions 101, on the surface of the adhesive layer 20 facing away from the substrate 10.
  • the Figure 10 The area 200 shown overlaps the area shown in the Figure 10 shown area 300 completely.
  • the transfer film 30 is preferably pressed by the pressing device 50a by means of the pressing body 51a comprising the flexible pressing layers 52a onto the substrate 10 and/or the adhesive layer 20, which is present in particular in the region 300, preferably wherein the adhesive layer 20 is irradiated by UV radiation from the UV radiation source 51b included in the irradiation device 50b, whereby the adhesive layer 20 hardens in particular at least in regions and/or at least partially and/or in the region 300.
  • the flexible pressing layers 52a, the pressing body 51a, the transfer film 30 and/or the adhesive layer 20 are permeable to UV radiation, preferably to UV radiation emitted by the UV radiation source 51b, at least in regions, preferably partially or completely.
  • Figure 11 shows a body 1 comprising at least one substrate, at least one adhesive layer and at least one transfer film, preferably comprising at least one decorative layer, and/or at least one decorative layer.
  • the body 1 no longer has the at least one carrier layer, since this is removed and/or peeled off, in particular after step c of the method, preferably for producing such a body 1.
  • the body 1 shown in the drawing has a surface structure 11 in two areas 100 and in three areas 101 the body 1 has no surface structure 11.
  • the body 1 shown in the drawing has Figure 11
  • the body 1 shown in the region 200 has at least one adhesive layer of the at least one adhesive layer, preferably wherein this at least one adhesive layer is arranged between the at least one substrate and the at least one decorative layer, and/or the at least one decorative layer.
  • the body shown in the Figure 11 The body 1 shown preferably has the at least one decorative layer in a region 300.
  • the region 200 corresponds to the region 300 in the Figure 11 , preferably wherein the regions 200 and 300 correspond to the regions 100 and 101 in the Figure 11 are equivalent to.
  • the body 1 is produced in particular according to the above method and/or preferably by one of the above devices, wherein the body 1 is preferably designed as a multilayer body 1a, in particular wherein the multilayer body 1a has a sequence of layers, preferably in the following order: substrate, in particular wherein a surface 10a of the substrate 10 has at least partially one or more surface structures 11, at least one adhesive layer 20, in particular wherein the adhesive layer 20 is at least partially and/or at least partially hardened, at least one decorative layer, preferably wherein the substrate 10 is formed as a three-dimensional object and/or as a film and/or has a web-like or band-like shape.

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum dekorierenden Kaltprägen auf ein Substrat.
  • Zur Dekoration von Papier, Etiketten, Kunststoff- und Glasverpackungen mit Dekorationsfolien, insbesondere mit metallisierten Folien, sind Heißprägeverfahren bekannt. Hierbei wird eine Transfer- oder Prägefolie mit einem Heißkleber beschichtet. In einer Heißprägemaschine wird mit Druck und Temperatur die Klebeschicht mit einem Prägestempel aktiviert, sodass eine Haftung zwischen Metallschicht und Druckartikel entsteht. Anschließend wird die Trägerfolie von dem auf dem Druckartikel applizierten Dekorationsmaterial abgezogen.
  • Daneben gibt es für Rollenware und Bogenware (beispielsweise Papier, Folien, Etiketten) das so genannte Kaltprägeverfahren oder Kaltfolieren. Hierbei wird der Kleber zunächst auf den Artikel aufgetragen. Dann wird die Folie auflaminiert und die Kleberschicht gehärtet. Dadurch haftet das Dekorationsmaterial an den mit der Kleberschicht vorgedruckten Stellen an und die Trägerfolie mit dem restlichen, nicht anhaftenden Dekorationsmaterial wird abgezogen. Als Kleber kommt oft ein unter UV-Strahlung aushärtender Kleber zum Einsatz. Das Aushärten des Klebers erfolgt dann mittels UV-Strahlung durch die Folie hindurch.
  • Aus der EP 3 441 234 A1 ist ein Kaltfolientransferverfahren bekannt bei dem ein Kleber auf ein Substrat aufgebracht wird und das Substrat in einem Druckwerk mit einer Transferfolie, bestehend aus einer Trägerlage und einer Dekorschicht, zusammengebracht wird. In dem Verfahren erfolgt eine Prägung durch eine Gegendruckwalze beim Andrücken des Druckbogens mit der Transferfolie, wodurch eine Oberflächenstruktur durch die Gegendruckwalze eingebracht wird.
  • Aus der DE 10 2011 108239 A1 ist ein Wertdokument mit beidseitig auflaminierten Schutzfolien und taktil erfassbaren Sicherheitsmerkmalen bekannt.
  • Das Kaltprägeverfahren hat gegenüber dem Heißprägeverfahren eine Reihe von Vorteilen. Da kein Aufheizen des Klebers durch einen Prägestempel erforderlich ist, kommt es zu keiner Geschwindigkeitseinschränkung. Dadurch kann eine Kaltprägevorrichtung in eine Druckmaschine integriert werden, wobei kein separater Produktionsprozess notwendig ist. Schließlich fallen auch geringere Werkzeugkosten an, da kein Prägestempel notwendig ist.
  • Ein Kaltprägen auf Gegenstände wie beispielsweise Papier, Kunststofffolien, Münzen, Gläser, Flaschen, Tiegel, Dosen oder Tuben, welche insbesondere bereits Oberflächenstrukturen aufweisen, ist mit herkömmlichen Verfahren allerdings nicht möglich.
  • Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein verbessertes Verfahren zum dekorierenden Kaltprägen bereitzustellen.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zum dekorierenden Kaltprägen, wobei bei dem Verfahren folgende Schritte, in der folgenden Abfolge, durchgeführt werden:
    1. a) Bereitstellen eines Substrats, wobei ein oder mehrere erste Bereiche einer Oberfläche des Substrats ein oder mehrere Oberflächenstrukturen aufweisen,
    2. b) Applizieren zumindest einer Kleberschicht auf ein oder mehrere zweite Bereiche der Oberfläche des Substrats,
    3. c) Andrücken zumindest einer Transferfolie umfassend zumindest eine Dekorschicht und zumindest eine Trägerlage auf ein oder mehrere dritte Bereiche der Oberfläche des Substrats und/oder einer von dem Substrat abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht und zumindest teilweises und/oder bereichsweises Härten der zumindest einen Kleberschicht,
    • wobei die einen oder mehreren Oberflächenstrukturen durch das Kaltprägeverfahren zumindest bereichsweise in der Oberfläche der Transferfolie und/oder in der zumindest einen Dekorschicht erhalten bleiben, und
    • dass in dem Schritt a) ein oder mehrere Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche des Substrats eine Relieftiefe und/oder eine Reliefhöhe von kleiner oder gleich 1 mm aufweisen, und/oder ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis zwischen 0,05 und 10 aufweisen, und
    • dass in dem Schritt a) ein oder mehrere Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche des Substrats als ein oder mehrere Oberflächenreliefs ausgeformt sind, und/oder als Gravuren ausgebildet sind und ein oder mehrere der folgenden Designelemente umfassen: Alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, Symbol, Mikroschrift, Bild, Foto, Logo, Portrait, Piktogramm, Muster, insbesondere Endlosmuster, und/oder Motiv, und
    • dass das Andrücken der zumindest einen Transferfolie in dem Schritt c) über zumindest einen Andrückkörper vermittelt wird, wobei der zumindest eine Andrückkörper ein oder mehrere flexible Andrückschichten umfasst, in Übereinstimmung mit Anspruch 1.
  • Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird durch das Andrücken erreicht, dass eine oder mehrere Oberflächenstrukturen des Substrates vollständig oder zumindest bereichsweise in die Oberfläche der Transferfolie und/oder der zumindest einen Dekorschicht übertragen werden und dort erhalten bleiben. Das heißt, dass die eine oder mehrere Oberflächenstrukturen des Substrates, welche in einem oder mehreren ersten Bereichen bereits bei der Bereitstellung des Substrats vorhanden sind, mittels eines Kaltprägeverfahrens derart auf die zumindest eine Transferfolie, umfassend zumindest eine Dekorschicht, übertragen werden können, dass die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen des Substrates bei dem Verfahren vollständig oder zumindest bereichsweise durch das Kaltprägeverfahren in der Oberfläche der Transferfolie und/oder der zumindest einen Dekorschicht erhalten bleiben.
  • Hierdurch wird durch das Verfahren durch das Andrücken erreicht, dass die Oberflächenstrukturen in derselben oder in ähnlicher Form auch in Bereichen der Oberfläche der Transferfolie erhalten bleiben und/oder in welchem die zumindest eine Dekorschicht vollständig oder zumindest bereichsweise vorliegt.
  • Beschrieben wird weiter eine Vorrichtung welche nicht Teil der Erfindung ist wobei die Vorrichtung eine erste Arbeitsstation umfassend eine Druckeinrichtung zu einem zumindest bereichsweisen Applizieren zumindest einer Kleberschicht auf eine Oberfläche des Substrats aufweist, wobei die Oberfläche des Substrats zumindest bereichsweise ein oder mehrere Oberflächenstrukturen aufweist, und dass die Vorrichtung eine zweite Arbeitsstation umfassend eine Andrückeinrichtung zum zumindest bereichsweisen Andrücken zumindest einer Transferfolie umfassend zumindest eine Dekorschicht und zumindest eine Trägerlage auf die Oberfläche des Substrats und/oder einer von dem Substrat abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht aufweist und eine Bestrahlungseinrichtung zum zumindest bereichsweisen und/oder zumindest teilweisen Härten der zumindest einen Kleberschicht aufweist, wobei die zweite Arbeitsstation derart ausgebildet ist, dass das zumindest bereichsweise Andrücken der zumindest einen Transferfolie und das zumindest bereichsweise Härten der zumindest einen Kleberschicht gleichzeitig erfolgt.
  • Durch die Vorrichtung wird durch die Andrückeinrichtung erreicht, dass eine oder mehrere Oberflächenstrukturen des Substrates vollständig oder zumindest bereichsweise in die Oberfläche der Transferfolie und/oder der zumindest einen Dekorschicht übertragen werden und dort erhalten bleiben. Das heißt, dass die eine oder mehrere Oberflächenstrukturen des Substrates, welche in einem oder mehreren ersten Bereichen bereits bei der Bereitstellung des Substrats vorhanden sind, mittels eines Kaltprägeverfahrens derart auf die zumindest eine Transferfolie, umfassend zumindest eine Dekorschicht, übertragen werden können, dass die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen des Substrates bei dem Verfahren vollständig oder zumindest bereichsweise durch das Kaltprägeverfahren in der Oberfläche der Transferfolie und/oder der zumindest einen Dekorschicht erhalten bleiben.
  • Hierdurch wird durch die Vorrichtung erreicht, dass durch die Andrückeinrichtung die Oberflächenstrukturen in derselben oder in ähnlicher Form auch in Bereichen der Oberfläche der Transferfolie erhalten bleiben und/oder in welchem die zumindest eine Dekorschicht vollständig oder zumindest bereichsweise vorliegt.
  • Es kann vorgesehen sein, dass das Substrat als ein dreidimensionaler Gegenstand ausgebildet ist und/oder eine bahn- oder bandförmige Formgebung aufweist.
  • In möglichen Ausführungen kann unter bereichsweise verstanden werden, dass die ein oder mehrere erste Bereiche und/oder die ein oder mehrere zweiten Bereiche und/oder die ein oder mehrere dritten Bereiche, d.h. vorzugsweise in der Flächenausdehnung und/oder in der Höhe und/oder in der Tiefe, vollständig oder teilweise übereinstimmen. Dabei kann vorgesehen sein, dass einer oder zwei der Bereiche größer oder auch kleiner als die restlichen Bereiche ausgebildet sein kann. Vorzugsweise beziehen sich die Bereiche jeweils auf die gesamte Oberfläche oder einen Teil der Oberfläche des Substrates, der Klebeschicht und/oder der Transferfolie. Beispielsweise kann die Oberflächenstruktur des Substrates, d.h. die ersten Bereiche, der gesamten Oberfläche des Substrates oder auch nur einen oder mehreren Teilbereichen des Substrates entsprechen. Weiter kann die Klebeschicht, d.h. die zweiten Bereiche, der gesamten Oberfläche des Substrates oder auch nur einem oder mehreren Teilbereichen des Substrates entsprechen, wobei dies unabhängig von den ersten Bereichen sein kann. Vorzugsweise entsprechen die zweiten Bereiche zumindest den ersten Bereichen. Weiter kann die Transferfolie, d.h. die dritten Bereiche, die gesamte Oberfläche des Substrates oder auch nur einem oder mehreren Teilbereichen des Substrates entsprechen, wobei dies unabhängig von den ersten und zweiten Bereichen sein kann. Vorzugsweise entsprechen die dritten Bereiche zumindest den ersten Bereichen und/oder den zweiten Bereichen.
  • Es ist möglich, dass das in dem Schritt a) bereitgestellte Substrat zumindest eine Metallschicht und/oder Metalloxidschicht und/oder Metallverbindungsschicht, insbesondere eine partielle Metallschicht und/oder Metalloxidschicht und/oder Metallverbindungsschicht, bevorzugt eine Metallschicht und/oder Metalloxidschicht und/oder Metallverbindungsschicht in einer Vielzahl von Regionen des Substrats aufweist. Die zumindest eine Metallschicht umfasst vorzugsweise eines oder mehrere Metalle, ausgewählt aus: Chrom, Aluminium, Gold, Kupfer, Zinn, Indium und/oder Silber und/oder eine Legierung einem oder mehreren Metallen der vorstehenden Metalle. Die zumindest eine Metalloxidschicht umfasst vorzugsweise eines oder mehrere Metalloxide, ausgewählt aus: Aluminiumoxid, Chromoxid, Siliziumoxid, Indiumzinnoxid, Titanoxid und/oder Kombinationen davon. Die zumindest eine Metallverbindungsschicht umfasst vorzugsweise Zinksulfid.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen bezeichnet.
  • Die zumindest eine Transferfolie, welche vorzugsweise die Funktion eines Dekorationsmaterials aufweist, umfasst vorzugsweise die zumindest eine Trägerlage und die zumindest eine, von der zumindest einen Trägerlage ablösbare Dekorschicht, insbesondere wobei die zumindest eine Transferfolie ausgehend von der zumindest einen Trägerlage zumindest eine transparente Ablöseschicht, bevorzugt zumindest eine optionale transparente Schutzlackschicht, die zumindest eine Dekorschicht und/oder zumindest eine Grundierungsschicht aus einem thermoplastischen Kleber umfasst, bevorzugt wobei der thermoplastische Kleber in einem Temperaturbereich von größer 90°C oder gleich 90°C aktivierbar ist.
  • Insbesondere können die zumindest eine transparente Ablöseschicht und die zumindest eine optionale transparente Schutzlackschicht von ein und derselben Lackschicht und/oder von der zumindest einen Dekorschicht gebildet sein, d.h. von dieser einen Schicht kann insbesondere die Ablösefunktion von der zumindest einen Trägerlage und die Schutzfunktion bereitgestellt werden.
  • Die zumindest eine Transferfolie weist dabei insbesondere auf der der zumindest einen Trägerlage abgewandten Seite oder Oberfläche eine Grundierungsschicht aus einem thermoplastischen Kleber auf, welcher bevorzugt beim Kaltfolientransfer als Haftvermittlerschicht zu einem Kaltkleber und/oder UV-Kleber, insbesondere einem unter UV-Bestrahlung vernetzenden Kleber, auf das Substrat wirkt. Dabei hat es sich überraschend gezeigt, dass durch eine Kombination einer auf der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie angeordneten Grundierungsschicht aus thermoplastischem Kleber mit einem, auf dem Substrat angeordneten Kaltkleber und/oder UV-Kleber, insbesondere einem unter UV-Bestrahlung vernetzenden Kleber, vorzugsweise eine besonders feste Verbindung zwischen der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie und dem Substrat und/oder der Grundierungsschicht ausgebildet wird. Dies ist insofern erstaunlich, da es sich bei thermoplastischen Klebern, auch Heißkleber genannt, und Kaltklebern, insbesondere unter UV-Bestrahlung vernetzenden Klebern und/oder UV-Klebern, bevorzugt um Stoffe handeln, deren Klebewirkungen insbesondere auf völlig unterschiedlichen chemisch-physikalischen Grundlagen basieren.
  • Bei einer Transferfolie ist es vorteilhaft, falls die Ablösekraft der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie von der Ablöseschicht beziehungsweise von der zumindest einen Trägerlage und die Kraft zum Herauslösen von Bereichen aus der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie unter Transferbedingungen in Summe vorzugsweise geringer ausgebildet sind als die Haftkraft zwischen dem Substrat und der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, welche bevorzugt durch die Art des eingesetzten Kaltklebers und/oder UV-Klebers und dessen Verbund mit dem Substrat einerseits und der Grundierungsschicht andererseits beeinflusst wird. Hierbei können sich beim Transfer der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie oder Bereiche der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie insbesondere von der zumindest einen Trägerlage ablösen und bevorzugt an dem Substrat haften bleiben. Vor dem Transfer ist es möglich, dass die Ablösekraft der Ablöseschicht von der zumindest einen Trägerlage derart hoch ist, dass eine sichere Handhabung der zumindest einen Transferfolie vorzugsweise gewährleistet ist, bevorzugt ohne dass die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie sich von der zumindest einen Trägerlage löst, beispielsweise beim Abspulen der zumindest einen Transferfolie von einer Vorratsrolle und/oder beim Transport der zumindest einen Transferfolie, gegebenenfalls über Umlenkeinrichtungen, beispielsweise in eine Kaltfolientransfereinheit. Um die zumindest eine Transferfolie auf- und wieder abwickeln zu können, hat es sich dabei insbesondere bewährt, auf der der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie abgewandten Seite oder Oberfläche der zumindest einen Trägerlage zumindest eine geeignete Antihaftschicht vorzusehen.
  • Die Ablösekraft gibt vorzugsweise die Kraft an (üblicherweise in der Einheit Kraft/Länge oder N/m), welche insbesondere aufzuwenden ist, um zwei Schichten voneinander zu lösen. Vorzugsweise besteht zwischen der Ablösekraft einer ersten Schicht von einer zweiten Schicht und der Haftung zwischen der ersten und der zweiten Schicht eine positive Korrelation. Die Bestimmung der erforderlichen Ablösekraft zwischen der zumindest einen Trägerlage und der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, wird oder wurde bevorzugt nach der FINAT-Testmethode Nr. 3 (FTM3, "low speed release force ") ermittelt. Die Ablösekraft weist vorzugsweise die Einheit N beziehungsweise cN auf, insbesondere wobei die Kraft unabhängig von dem Weg oder der Strecke, bevorzugt bezogen auf einen 15 cm breiten Folienstreifen, bestimmt wird.
  • Im Vergleich zu einer herkömmlichen Dekorschicht einer Transferfolie mit einer Ablöseschicht auf Wachs-Basis oder Silikon-Basis wird oder wurden bei der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie mit einer polymeren Ablöseschicht Ablösekräfte von der zumindest einen Trägerlage gemessen, welche vorzugsweise um bis zu 250 %, insbesondere um bis zu 150 %, höher lagen. Insbesondere ist oder war die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie immer noch hinreichend ablösbar und im Gegensatz zu herkömmlichen Dekorschichten von Transferfolien, welche Ablöseschichten auf Wachs-Basis oder Silikon-Basis aufweisen, sehr gut überdruckbar, bevorzugt wobei eine sehr gute Haftung der getrockneten und/oder ausgehärteten Druckfarbe auf der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie erzielt wurde oder werden konnte.
  • Für die zumindest eine Transferfolie ist es besonders bevorzugt, wenn die Ablöseschicht frei von Wachs und/oder frei von Silikon ausgebildet ist. Insbesondere weist die zumindest eine Transferfolie keine herkömmliche Ablöseschicht auf Wachs- oder Silikonbasis auf, welche bevorzugt bisher bewirkte, dass herkömmliche Dekorschichten einer Transferfolie und/oder herkömmliche Transferfolien, die damit ausgestattet waren, insbesondere nur eingeschränkt oder gar nicht mit konventionellen Druckfarben, insbesondere UV-härtenden Druckfarben, UV-härtenden Lacken, Hybridfarben oder Lacken, bedruckbar sind oder waren.
  • Die zumindest bereichsweise Haftung von Druckfarben auf der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, die mittels des vorstehenden Verfahrens und der vorstehenden Vorrichtung auf das Substrat übertragen werden oder wurden, wird oder wurde circa 1 Stunde nach dem Bedrucken insbesondere mittels des folgenden Tesatests bei Raumtemperatur bestimmt:
    Vorzugsweise wurde ein Körper als Testmuster in Form eines Substrats mit der darauf kalt aufgebrachten, zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie und einer Bedruckung beziehungsweise Kaltprägung mit der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie zumindest auf Teilbereichen auf einer ebenen Oberfläche angeordnet. Ein 13 cm bis 16 cm langer Streifen Tesafilm 4104 wurde insbesondere darauf aufgeklebt, so dass bevorzugt etwa 5 cm bis 7 cm des Tesafilms über den Rand des Substrats beziehungsweise des Körpers überstanden. Nachfolgend wurde der Tesafilm vorzugsweise mit einem menschlichen Daumen drei- bis viermal angedrückt und schließlich insbesondere in einem Winkel von größer 90° vom Testmuster abgezogen. Der Test galt bevorzugt als bestanden, wenn 90% der Druckfarbe auf dem Testmuster verblieb oder das Testmuster selbst zerrissen ist.
  • Bedruckungen einer Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie mit konventionellen Druckfarben, insbesondere mit den bereits oben genannten UV-härtenden Druckfarben, UV-härtenden Lacken, Hybridfarben oder Lacken, hafteten insbesondere ausgezeichnet auf der Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, so dass der Test insbesondere als sehr gut bestanden gewertet werden konnte.
  • Die Ablöseschicht weist vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,01 µm bis 0,5 µm, vorzugsweise im Bereich von 0,01 µm bis 0,3 µm, weiter vorzugsweise von 0,1 µm bis 0,2 µm, auf. Diese vergleichsweise geringe Dicke der Ablöseschicht erlaubt insbesondere ein randscharfes und sauberes Ablösen der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie von der Transferfolie.
  • Die dabei erzielbare Genauigkeit und die dabei erzielbare Auflösung kann insbesondere vergleichsweise genau dem Layout der partiell, vorzugsweise auf dem Substrat, aufgebrachten Kaltkleberschicht und/oder der zumindest einen Kleberschicht entsprechen, insbesondere ohne wesentlich davon abzuweichen, vorzugsweise wodurch eine hohe Registerhaltigkeit des Kaltfolien-Layouts und/oder Kleberschicht-Layouts zu einem eventuell vorhandenen Drucklayout aus konventionellen Druckfarben erreichbar ist. Bei dieser bevorzugt randscharfen partiellen Ablösung entstehen durch die geringe Dicke der Ablöseschicht nur sehr kleine und sehr wenige sogenannte Flakes, also kleine Schichtreste der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, die insbesondere in nachfolgenden Prozessschritten störend sein können und/oder das optische Erscheinungsbild des beschichteten Substrats stören können. Durch die vergleichsweise geringe Dicke der Ablöseschicht sind insbesondere Auflösungen erreichbar, welche unterhalb des Auflösungsvermögens eines menschlichen Auges liegen. Ebenfalls vorteilhaft bei einer dünnen Ablöseschicht ist die nur geringe Ablösekraft, die bevorzugt beim Durchtrennen der Schichten beim partiellen Übertragen aufzuwenden ist.
  • Es hat sich bewährt, wenn die mindestens eine Grundierungsschicht eine Dicke im Bereich von 1 µm bis 5 µm, insbesondere im Bereich von 1,5 µm bis 3 µm, aufweist.
  • Weiterhin kann die mindestens eine Grundierungsschicht vorzugsweise eingefärbt und/oder mattiert ausgebildet sein, um beispielsweise einen optischen Kontrast zu dem Substrat zu verstärken oder durch eine größere Absorptionsmöglichkeit oder auch optisches Streuungsvermögen der UV-Strahlung die Initiierung der Polymerisation des unter der Grundierungsschicht vorhandenen UV-Kleber-Schicht und/oder der zumindest einen Kleberschicht, insbesondere umfassend UV-Kleber oder bestehend aus UV-Kleber, zu verbessern oder zu beschleunigen. Unter Mattierung ist bevorzugt die Verringerung der Transparenz beziehungsweise Strahlendurchlässigkeit der Grundierungsschicht zu verstehen. Für eine Einfärbung und/oder Mattierung ist die Grundierungsschicht insbesondere mit Pigmenten und/oder Füllstoffen versehen.
  • Weiterhin hat es sich bewährt, wenn die zumindest eine Grundierungsschicht, welche bevorzugt an den Kaltkleber und/oder die zumindest eine Kleberschicht angrenzt, eine Oberflächenrauigkeit im Bereich von 100 nm bis 180 nm, insbesondere im Bereich von 120 nm bis 160 nm, aufweist. Vorzugsweise wird die Oberflächenrauigkeit, insbesondere unter anderem, durch das Auftragsverfahren und die Formulierung der Grundierungsschicht bestimmt. Es wurde insbesondere festgestellt, dass eine geringere Oberflächenrauigkeit, überraschenderweise jedoch auch eine höhere Oberflächenrauigkeit der Grundierungsschicht, vorzugsweise zu einer Verminderung der erzielbaren Haftung zwischen einem Kaltkleber und/oder die zumindest eine Kleberschicht und der Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie führt. Die Oberflächenrauigkeit der Grundierungsschicht wurde insbesondere mittels einer Interferenzmikroskopie bestimmt.
  • Es kann insbesondere nicht nur eine, sondern es können insbesondere bevorzugt auch zwei oder mehr Grundierungsschichten vorhanden sein, die sich bevorzugt in ihren chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften unterscheiden, um vorzugsweise auf der einen Seite eine optimale Haftung in Richtung der angrenzenden, zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie und auf der anderen Seite eine optimale Haftung in Richtung des in Kontakt zu der Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie gelangenden Kaltklebers und/oder der zumindest einen Kleberschicht, insbesondere umfassend oder bestehend aus UV-Kleber, zu erzielen.
  • Die zumindest eine Trägerlage weist vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 4 µm bis 50 µm, insbesondere im Bereich von 10 µm bis 25 µm auf. Bevorzugt ist die zumindest eine Trägerlage aus Polyester, Polyolefin, Polyvinyl, Polyimid oder ABS ausgebildet. Besonders bevorzugt ist hierbei die Verwendung von Trägerlagen aus PET, PC, PP, PE, PVC oder PS. Insbesondere eine Trägerfolie aus PET hat sich bewährt.
  • Die zumindest eine Transferfolie weist, bevorzugt insgesamt, insbesondere eine Dicke im Bereich von 9 µm bis 55 µm, insbesondere im Bereich von 15 µm bis 30 µm, auf.
  • Es hat sich bewährt, wenn die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie insbesondere eine Schutzlackschicht aufweist. Die Schutzlackschicht stellt insbesondere einen Schutz vor mechanischer und/oder chemischer Beanspruchung der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie auf dem Substrat bereit. Die Schutzlackschicht weist dabei vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,8 µm bis 3 µm, insbesondere von 0,9 µm bis 1,3 µm, auf und kann weiterhin insbesondere glasklar farblos oder auch eingefärbt oder zumindest partiell eingefärbt sein.
  • Zur Einfärbung werden insbesondere Farbstoffe und/oder Pigmente verwendet. Pigmente können ebenfalls dafür verwendet werden, um die Schutzlackschicht zu mattieren, das heißt die Transparenz beziehungsweise Strahlendurchlässigkeit oder das Transmissionsvermögen der Schutzlackschicht zu verringern.
  • Es ist möglich, dass das Substrat in den Schritten a), b) und/oder c) als dreidimensionaler Gegenstand und/oder als Folie ausgebildet ist und/oder eine bahn-oder bandförmige Formgebung aufweist, insbesondere wobei eine erste räumliche Ausdehnung des Substrats parallel zu einer ersten Richtung bei einer Ausbildung als Folie und/oder bei einer bahn- oder bandförmigen Formgebung größer ist als eine zweite räumliche Ausdehnung des Substrats parallel zu einer zweiten Richtung, bevorzugt wobei die erste Richtung senkrecht zu der zweiten Richtung angeordnet ist.
  • Weiter ist es möglich, dass das Substrat in den Schritten a), b) und/oder c) aus ein oder mehreren Materialien der folgenden Materialien besteht oder ein oder mehrere Materialien der folgenden Materialien umfasst: Kunststoff, insbesondere PET (Polyethylenterephthalat), PMMA (Polymethylmethacrylat), PC (Polycarbonat), PEC, ABS (Acrylnitril-Butadien-Styrol), ABS-PC, PE, PS, PVC, Polyamide, PAN, SAN, SBS, PSU, PES, PEEK, PP und/oder PET-G, BOPP ("Biaxially Oriented PolyPropylene" oder Biaxial orientiertes Polypropylen), Papier, Pappe, Papierverbundmaterialien, Glasfaser, Kohlefaser, Metall, Metalllegierungen, Edelmetall, Holz, Beton, Stein, Riffelblech, Organoblech, gebürstete Metalloberfläche, insbesondere gebürstete Metalloberfläche aufweisend eine Relieftiefe in einem Bereich zwischen 1 µm und 1000 µm, insbesondere zwischen 10 µm und 100 µm.
  • Insbesondere umfasst das Substrat ein Papiersubstrat, insbesondere bevorzugt ein einschichtiges Papiersubstrat. Es ist weiter möglich, dass das Substrat Baumwollfasern, Holzfasern, Zellstofffasern, Textilfasern und/oder Kunststofffasern aufweist und/oder dass das Substrat eine oder mehrere, insbesondere transparente oder transluzente, Kunststofflagen umfasst.
  • Ferner ist es möglich, dass sich in dem Schritt b) ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats, auf welche die zumindest eine Kleberschicht appliziert wird und/oder welche die zumindest eine Kleberschicht umfassen, mit ein oder mehreren ersten Bereichen der ein oder mehreren ersten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen teilweise überlappen oder vollständig überlappen.
  • Vorzugsweise überlappen sich in dem Schritt c) ein oder mehrere dritte Bereiche der ein oder mehreren dritten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die zumindest eine Transferfolie und/oder der von dem Substrat abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht umfassend die zumindest eine Transferfolie mit ein oder mehreren ersten Bereichen der ein oder mehreren ersten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen teilweise oder vollständig. Insbesondere überlappen sich ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die zumindest eine Kleberschicht teilweise oder vollständig.
  • Erfindungsgemäß weist zumindest eine Oberflächenstruktur der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche des Substrats in dem Schritt a) eine Relieftiefe und/oder eine Reliefhöhe von kleiner oder gleich 1 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,75 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,5 mm, weiter bevorzugt aus einem Bereich von 0,02 mm bis 0,3 mm, auf und/oder ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, auf.
  • Unter einer Relieftiefe einer Oberflächenstruktur wird hierbei insbesondere die Tiefe ausgehend von einer ursprünglichen, nicht mit einer Oberflächenstruktur versehenen Oberfläche des Substrats und dem tiefsten Punkt der Vertiefung verstanden. Weiter wird unter einer Reliefhöhe einer Oberflächenstruktur insbesondere der Abstand zwischen der ursprünglichen, nicht mit einer Oberflächenstruktur versehenden Oberfläche des Substrats und dem höchsten Punkt der Erhöhung verstanden.
  • Vorzugsweise werden die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in dem Substrat vor dem Schritt a) als Vertiefung in das Substrat eingebracht, wobei die Vertiefung eine Tiefe von mindestens 0,025 µm, insbesondere von mindestens 0,05 µm, bevorzugt von mindestens 0,1 µm, aufweist. Es ist auch möglich, dass die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in dem Substrat vor dem Schritt a) als eine Erhöhung in das Substrat eingebracht werden, wobei die Erhöhung eine Höhe von mindestens 0,025 µm, insbesondere mindestens 0,05 µm, bevorzugt mindestens 0,1 µm, aufweist.
  • Es ist möglich, dass ein oder mehrere Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen zumindest bereichsweise natürlich oder künstlich erzeugt sind und/oder zumindest bereichsweise Kombinationen aus natürlich und künstlich erzeugten Oberflächenstrukturen sind. Beispielsweise weist ein Substrat, welches aus einem Holzbrett besteht, eine natürliche Maserung als Oberflächenstruktur auf oder in der Oberfläche des Holzbretts auf. Weiter ist es möglich, dass das Holz, insbesondere zusätzlich, künstlich eingebrachte Oberflächenstrukturen, beispielsweise eine zusätzliche Aufrauhung, aufweisen.
  • Insbesondere ist es möglich, dass ein Substrat, welches Metall umfasst und/oder aus Metall besteht, vorzugsweise vor dem Schritt a) und/oder in dem Schritt a), bevorzugt im Gegensatz zu einem Heißprägeverfahren zur Heißprägung auf derartige Substrate, welche Metall umfassen und/oder aus Metall bestehen, insbesondere nicht geprimert wird.
  • Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass in dem Schritt a) ein oder mehrere Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche des Substrats als ein oder mehrere Oberflächenreliefs ausgeformt sind, insbesondere wobei ein oder mehrere Oberflächenreliefs der ein oder mehreren Oberflächenreliefs ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, aufweisen und/oder als Gravuren ausgebildet sind und ein oder mehrere der folgenden Designelemente umfassen: Alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, Symbol, Mikroschrift, Bild, Foto, Logo, Portrait, Piktogramm, Muster, insbesondere Endlosmuster, und/oder Motiv.
  • Es ist möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht beim Applizieren auf die ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats in dem Schritt b) eine Viskosität aufweist, welche zwischen 200 mPas und 2000 mP·as, insbesondere zwischen 500 mPa·s und 1500 mP·as, bevorzugt zwischen 800 mPa·s und 1200 mP·as, liegt.
  • Hierdurch wird insbesondere erreicht, dass die zumindest eine Kleberschicht beim Andrücken in dem Schritt c) des Verfahrens derart verteilt wird, bevorzugt derart über die Erhöhungen und/oder die Vertiefungen der Oberflächenstruktur und/oder die ein oder mehreren Oberflächenreliefs verläuft und/oder verteilt wird, dass sich zumindest eine Kleberschicht ausbildet, welche vorzugsweise eine konstante Schichtdicke aufweist. Vorteilhafterweise wird hierbei ermöglicht, dass die von dem Substrat abgewandte Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht zumindest eine Oberflächenstruktur und/oder zumindest ein Oberflächenrelief aufweist, deren oder dessen Höhenprofil bevorzugt dem Höhenprofil der zumindest einen Oberflächenstruktur und/oder dem zumindest einen Oberflächenrelief der Oberfläche des Substrats entspricht oder diesem ähnlich ist.
  • Hierdurch wird bei dem Verfahren, bei der Vorrichtung und beim Körper erreicht, dass die Oberflächenstrukturen des Substrats in derselben oder in ähnlicher Form, d.h. vorzugsweise in der Flächenausdehnung und/oder in der Höhe und/oder in der Tiefe, auch in der Kleberschicht vorliegen.
  • Die Viskosität wird hierbei insbesondere als ein Maß für die Fluidität einer Flüssigkeit verstanden. So weist Wasser bei Raumtemperatur eine geringere Viskosität auf als flüssiger Honig oder Asphalt. Durch die vorstehenden gewählten Wertebereiche der Viskosität der zumindest einen Kleberschicht kann erreicht werden, dass die zumindest eine Kleberschicht derart verläuft, dass diese vorzugsweise eine konstante Schichtdicke aufweist. Falls die Viskosität zu niedrig eingestellt wird, kann es zu einem unerwünschten Verlaufen der zumindest einen Kleberschicht kommen, insbesondere wobei die Erhöhungen der Oberflächenstrukturen nicht oder nur geringfügig von der zumindest einen Kleberschicht benetzt sind. Zusätzlich ist es möglich, dass sich eine unerwünschte starke Verschmutzung der Druckanlage durch dickflüssige beziehungsweise hochviskose Kleber, insbesondere UV-Kleber, zur Ausbildung der zumindest einen Kleberschicht einstellen, so dass durch verschmutzungsbedingte Ausfälle der Druckanlage oder Druckanlagen eine Serienproduktion unmöglich wird. Weiter wird durch die vorstehenden gewählten Wertebereiche der Viskosität insbesondere die Prozesssicherheit vorteilhaft erhöht.
  • Insbesondere wird die Viskosität der zumindest einen Kleberschicht, bevorzugt bei Raumtemperatur, mittels der Viskositätsmessung nach Brookfield beziehungsweise der Spindelmethode gemessen und/oder bestimmt.
  • Der eingesetzte UV-Kleber weist insbesondere folgende Viskositäten auf, gemessen mit dem Messgerät Rheometer MCR 101 der Firma Physica (Messkegel: CP25-1/Q1; Messtemperatur: 20 °C): Viskosität bei Scherrate 25 1/s: vorzugsweise 120 bis 220 Pas, insbesondere 180 Pas, Viskosität bei Scherrate 100 1 /s: vorzugsweise 40 bis 90 Pas, insbesondere 80 Pas. Weiterhin weist der eingesetzte UV-vernetzende Kleber beziehungswies UV-Kleber vorzugsweise einen Tack-Wert im Bereich von 18 bis 25, insbesondere von 22, auf. Der "Tack" oder die sogenannte Anfangshaftung wird bevorzugt mittels des Messgeräts Inkomat 90T/600 der Firma Prüfbau bestimmt. Dabei werden oder wurden insbesondere folgende Messbedingungen gewählt: 10 UV-Klebermenge: 1 g, Walzengeschwindigkeit: 100 m/min, Messtemperatur: 20 °C, Messdauer: 2 min.
  • Es wird insbesondere eine tesafeste Haftung (insbesondere Tesatest, siehe oben) zwischen der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie und dem Substrat erreicht, vorzugsweise wobei bei Verwendung eines konventionell trocknenden Klebers oder Kaltklebers der Tesatest bereits nach wenigen Minuten und vorzugsweise bei Verwendung eines UV-Klebers der Tesatest unmittelbar nach der Bestrahlung mit UV-Strahlung als bestanden gewertet werden konnte. Es verblieben insbesondere über 90% des Dekorationsmaterials an oder auf dem Substrat.
  • Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht, welche in dem Schritt b) auf die ein oder mehreren zweiten Bereichen der Oberfläche des Substrats appliziert wird, eine konstante Schichtdicke oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, insbesondere in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche des Substrats umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen eine konstante Schichtdicke oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, bevorzugt bei teilweiser oder vollständiger Überlappung ein oder mehrerer zweiter Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die zumindest eine Kleberschicht mit ein oder mehreren ersten Bereichen der ein oder mehreren ersten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen eine konstante Schichtdicke oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist.
  • Vorzugsweise weist die zumindest eine Kleberschicht, welche in dem Schritt b) auf die ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats appliziert wird, in einer ersten Gruppe von ein oder mehreren ersten und/oder zweiten Bereichen der ein oder mehreren ersten beziehungsweise zweiten Bereiche eine erste Schichtdicke aufweist und in einer zweiten Gruppe von ein oder mehreren ersten und/oder zweiten Bereichen der ein oder mehreren ersten beziehungsweise zweiten Bereiche eine zweite Schichtdicke auf, insbesondere wobei sich die erste Schichtdicke und die zweite Schichtdicke voneinander unterscheiden, bevorzugt wobei die erste Schichtdicke und/oder die zweite Schichtdicke jeweils konstant ist und/oder sich die erste und die zweite Schichtdicke um weniger als 10%, insbesondere um weniger als 20%, voneinander unterscheiden.
  • Hierdurch wird bei dem Verfahren, bei der Vorrichtung und beim Körper erreicht, dass die Oberflächenstrukturen des Substrats in gleicher oder ähnlicher Form, d.h. vorzugsweise in der Flächenausdehnung und/oder in der Höhe und/oder in der Tiefe, auch in der Kleberschicht vorliegen, d.h. die Oberflächenstruktur der Klebeschicht um maximal 10%, insbesondere um maximal 20% zur Oberflächenstruktur des Substrats variieren kann. Insbesondere wird dabei die Oberflächenstruktur des Substrats in gleicher oder ähnlicher Form auch in der Transferfolie vorliegen, d.h. die Oberflächenstruktur der Transferfolie um maximal 10%, insbesondere um maximal 20% zur Oberflächenstruktur des Substrats variieren kann.
  • Es ist ferner möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht in dem Schritt b) mittels Inkjet-Druck, Tampondruck, insbesondere mit einer Tamponhärte zwischen 5 Shore A und 20 Shore A, Siebdruck, Flexodruck und/oder Digitaldruck auf die ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats appliziert wird.
  • Vorzugsweise ist die zumindest eine Kleberschicht in den Schritten b) und c) als, insbesondere die vorstehenden Eigenschaften aufweisender, UV-Kleber ausgebildet, insbesondere wobei das Härten der zumindest einen Kleberschicht durch Bestrahlen mit UV-Strahlung erfolgt, bevorzugt wobei die UV-Strahlung durch zumindest eine UV-Strahlungsquelle erzeugt wird, weiter bevorzugt wobei die UV-Strahlung eine Wellenlänge oder ein Intensitätsmaximum in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt im Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, aufweist.
  • Unter einem ultravioletten Spektrum werden ein oder mehrere Teile des Ultraviolettbereichs des elektromagnetischen Spektrums verstanden, wobei das ultraviolette Spektrum beispielsweise aus einem oder mehreren Teilen des Wellenlängenbereichs von 50 nm bis 500 nm ausgewählt werden kann.
  • Es ist möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht in dem Schritt c) zumindest teilweise gehärtet wird, insbesondere wobei die zumindest eine Trägerlage der zumindest einen Transferfolie nach dem zumindest teilweisen Härten der zumindest einen Kleberschicht abgezogen wird und das Substrat und/oder die zumindest eine Kleberschicht anschließend, insbesondere in einem weiteren Schritt, einfach oder mehrfach wiederholt gehärtet, insbesondere mit UV-Strahlung bestrahlt, wird.
  • Ein teilweises Härten der zumindest einen Kleberschicht kann vorteilhaft sein, als dass eine teilweise gehärtete Klebschicht in ein oder mehreren weiteren Schritten und/oder Zwischenschritten verformt und/oder umgeformt werden kann.
  • Insbesondere erstreckt sich die Schichtdicke der zumindest einen Kleberschicht an zumindest einem Punkt der Oberfläche des Substrats entlang der Richtung eines Normalenvektors an diesem Punkt und/oder bevorzugt erstreckt sich die Schichtdicke an zumindest einem Punkt der Oberfläche des Substrats entlang einer Richtung eines Krümmungsvektors an diesem Punkt.
  • Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht nach dem Schritt b) und/oder nach dem Schritt c) eine Schichtdicke zwischen 3 µm und 30 µm, insbesondere zwischen 2 µm und 20 µm, bevorzugt zwischen 1 µm und 10 µm, aufweist.
  • Insbesondere eignen sich als Stoffklassen für den UV-Kleber beziehungsweise den UV-vernetzenden Kleber Klebstoffe auf Basis von Epoxidharz, beispielsweise für Glas oder andere polare Oberflächen, und/oder auf Basis von Acrylaten, beispielsweise für Kunststoffe wie PE (Polyethylen).
  • Ferner ist es möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht einen UV-Kleber umfasst oder aus einem UV-Kleber besteht, wobei ein UV-Kleber insbesondere ein unter Energieeintrag mittels ultravioletter Strahlung (UV = ultraviolett) polymerisierbarer und hierbei bevorzugt aushärtender Kleber. Als UV-Strahlungsquellen können beispielsweise Quecksilberdampflampen, beispielsweise Quecksilber-Hochdrucklampen, dotierte Quecksilber-Hochdrucklampen, Kohlebogenlampen, Xenonbogenlampen, Metallhalogenlampen, UV-Laser oder UV-Leuchtdioden in dem Schritt c) des Verfahrens verwendet werden. Es ist weiter möglich, dass UV-Kleber mittels einer Elektronenstrahlhärtung in dem Schritt c) des Verfahrens verwendet wird.
  • Die Dauer einer Bestrahlung der zumindest einen Kleberschicht während des Andrückens der zumindest einen Transferfolie mit UV-Strahlung liegt vorzugsweise im Bereich von weniger als einer Sekunde. Die Dauer einer Bestrahlung der zumindest einen Kleberschicht nach Abziehen und/oder Ablösen der zumindest einen Trägerlage von der, vorzugsweise mittels Andrücken der zumindest einen Transferfolie und Härten der zumindest einen Kleberschicht applizierten, zumindest einen Kleberschicht der zumindest einen Transferfolie mit UV-Strahlung liegt vorzugsweise im Bereich von ca. 0,005 s bis 0,05 s, bevorzugt ca. 0,015 s für 5 mm Referenzlänge mit einer UV-LED (LED = "Light Emitting Diode") mit einer Strahlungsleistung von 5 W/cm2 bis 20 W/cm2, bevorzugt 5 max. 16 W/cm2, und weiter bevorzugt einer Leistungseinstellung zwischen 40 % und 100 %.
  • Es ist insbesondere alternativ oder zusätzlich zu einem Aufbringen oder Applizieren der zumindest einen Kleberschicht in dem Schritt b) des Verfahrens möglich, zumindest eine Kleberschicht der zumindest einen Kleberschicht auf zumindest eine Seite, insbesondere auf die Vorderseite und/oder auf die Rückseite, des Substrats und/oder der Grundierungsschicht der zumindest einen Transferfolie und/oder der zumindest einen Transferfolie aufzubringen und/oder zu applizieren.
  • Es hat sich insbesondere bewährt, dass der UV-Kleber der zumindest einen Kleberschicht, insbesondere der unter UV-Bestrahlung vernetzende Kleber und/oder UV-Kleber, in einer Auftragsmenge im Bereich von 1 g/m2 bis 3 g/m2 zumindest bereichsweise auf das Substrat aufgebracht wird. Hierbei ist insbesondere je nach Saugfähigkeit des eingesetzten Substrats die Menge an UV-Kleber zu variieren, bevorzugt wobei wenig saugende und/oder von offenen Poren freie Substrate insbesondere mit UV-Klebermengen im Bereich von 1 g/m2 bis 2 g/m2 und stärker saugende und/oder offenporige Substrate insbesondere mit UV-Klebermengen im Bereich von 2 g/m2 bis 3 g/m2 beaufschlagt werden. Als Kleber und/oder UV-Kleber wird insbesondere ein ausreichend auf dem Substrat und später ein an der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie haftender Lack, insbesondere ein klarer oder eingefärbter und dabei transparenter, transluzenter oder opaker Siebdrucklack oder Flexodrucklack eingesetzt. Wird der UV-Kleber insbesondere als transparente, transluzente oder opake farbige Schicht aufgetragen, werden vorzugsweise mehrere Kleber in unterschiedlichen Farben und/oder Graustufen verwendet, um hierdurch beispielsweise ein mehrfarbiges Motiv in Form eines Symbols, Logos, Wappen, Buchstaben oder Zahlen zu bilden, bevorzugt wobei das Motiv aus partiellen Flächenanteilen der einzelnen Farben und/oder Graustufen zusammengesetzt ist, weiter bevorzugt wobei die Flächenanteile nebeneinander und/oder überlappend angeordnet sind. Es ist möglich, dass die einzelnen Farben und/oder Graustufen auch aufgerastert aufgetragen werden, insbesondere wobei die einzelnen Farben und/oder Graustufen rasterförmig aufgebracht und/oder appliziert werden, um beispielsweise mit drei oder vier Farben (beispielsweise als CMY- oder CMYK-Raster; C=Cyan, M=Magenta, Y=Gelb/Yellow, K=Black/Schwarz) ein Echtfarbenbild zu erzeugen. Die einzelnen Rasterpunkte der Farbschichten liegen insbesondere nebeneinander und/oder übereinander vor.
  • Vorzugsweise kommt in dem Schritt c) des Verfahrens eine LED-UV-Einheit mit einer Wellenlänge im Bereich 380 nm bis 420 nm, besonders bevorzugt 380 nm bis 400 nm, zum Einsatz.
  • Insbesondere hat es sich bewährt, wenn die zumindest eine Transferfolie und/oder die zumindest eine Kleberschicht der zumindest einen Transferfolie für UV-Strahlung im Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt im Bereich 380 nm bis 420 nm, besonders bevorzugt 380 nm bis 400 nm, eine Durchlässigkeit im Bereich von 5 % bis 70 %, insbesondere im Bereich von 20 % bis 40 %, aufweist. Es ist hierdurch möglich, dass eine besonders schnelle und insbesondere vollständige Aushärtung der zumindest einen Kleberschicht auf Basis eines unter UV-Bestrahlung vernetzenden UV-Klebers auf dem Substrat erzielt wird, insbesondere wodurch die Haftung der zumindest einen Kleberschicht an dem Substrat noch weiter verbessert wird. Vorzugsweise erst bei ausreichend hoher Bestrahlungsmenge wird der unter UV-Bestrahlung vernetzende UV-Kleber vollständig vernetzt und ausgehärtet und erzielt eine hohe Klebkraft, insbesondere wobei ein Ablösen der auf das Substrat und/oder die Oberfläche des Substrats übertragenen oder applizierten Bereiche der zumindest einen Kleberschicht von dem Substrat zuverlässig verhindert wird. Bestimmend für die UV-Durchlässigkeit einer Transferfolie ist hierbei bevorzugt die Schicht einer Transferfolie, welche insbesondere die niedrigste UV-Durchlässigkeit aller vorhandenen Schichten aufweist.
  • Um insbesondere bei Verwendung eines UV-Klebers als Kaltkleber die gewünschte hohe UV-Durchlässigkeit der zumindest einen Transferfolie bei der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie in Form einer metallischen Schicht zu erzielen, ist es besonders bevorzugt, wenn die metallische Schicht lediglich eine Schichtdicke im Bereich von 8 nm bis 15 nm, bevorzugt im Bereich von 10 nm bis 12 nm, aufweist. Es ist weiter möglich, dass die metallische Schicht eine Schichtdicke im Bereich von 12 nm bis 15 nm aufweist. Hierbei werden eine gute Sichtbarkeit und dekorative Wirkung der metallischen Schicht in Kombination mit einer hohen Durchlässigkeit für UV-Strahlung erreicht, insbesondere wobei die optische Dichte (OD) circa 1,2 beträgt. Bei herkömmlichen Transferfolien werden üblicherweise Metallschichten umfassend eine Dicke im Bereich von mehr als 15 nm eingesetzt, vorzugsweise um eine optimale Brillanz zu erzielen. Aufgrund der resultierenden großen optischen Dichte von etwa 2 sind derartige herkömmliche Metallschichten insbesondere allerdings nicht ausreichend UV-durchlässig für die Verwendung eines UV-Klebers als Kaltkleber.
  • Es hat sich insbesondere bewährt, wenn die metallische Schicht aus Aluminium, Silber, Gold, Kupfer, Nickel, Chrom, Zinn, Indium und/oder einer Legierung umfassend mindestens zwei dieser Metalle gebildet ist oder diese Metalle umfasst.
  • Weist die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, insbesondere zusätzlich oder alternativ zu der metallischen Schicht, bevorzugt weitere Farbschichten auf, ist es insbesondere vorteilhaft, wenn die zumindest eine Dekorschicht insgesamt eine optische Dichte von etwa 1,2 vorzugsweise nicht überschreitet, um insbesondere eine ausreichende UV-Durchlässigkeit zu erreichen.
  • Ferner ist es möglich, dass die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten zumindest für ein oder mehrere Wellenlängen der UV-Strahlung und/oder in ein oder mehreren Wellenlängenbereichen der UV-Strahlung transluzent oder transparent ist, bevorzugt wobei die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten zumindest teilweise zwischen der zumindest einen UV-Strahlungsquelle, welche die UV-Strahlung vorzugsweise emittiert, und dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht angeordnet sind.
  • Unter transparent wird hierbei insbesondere eine Eigenschaft, insbesondere eine optische Eigenschaft, verstanden, welche ein Maß für die Durchlässigkeit einer Schicht und/oder eines Körpers und/oder eines Materials für ein oder mehrere Spektralanteile des elektromagnetischen Spektrums ist. Vorzugsweise wird die Transparenz eines Stoffes, wie beispielsweise eines Substrats und/oder der ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten durch ein als Transmissionsvermögen oder Transmissivität bezeichnetes Maß beschrieben, wobei das Transmissionsvermögen oder die Transmissivität insbesondere ein Wert ist, welcher vorzugsweise den prozentualen Anteil der ein oder mehreren Spektralanteile angibt, welcher durch das transparente oder transluzente Substrat und/oder durch die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten hindurch dringt.
  • Unter einer optischen Dicke wird bevorzugt ein, insbesondere dimensionsloses, Maß verstanden, welches vorzugsweise angibt, wie stark die Intensität einer elektromagnetischen Welle beziehungsweise elektromagnetischer Strahlung abnimmt, wenn diese durch einen Stoff und/oder ein Material und/oder eine Schicht und/oder einen Körper hindurch dringt.
  • Vorzugsweise wird der Andrückkörper auch als Stempel bezeichnet, insbesondere wobei der Andrückkörper ein oder mehrere UV-LEDs (LED = "Light Emitting Diodes") umfasst, welche vorzugsweise mittels einer Metallhalterung für die UV-LEDs gekühlt werden. Weiter bevorzugt werden die ein oder mehreren UV-LEDs durch eine transparente Schicht oder Schutzschicht, welche beispielsweise aus PC, PMMA oder Glas besteht oder diese umfasst, insbesondere mit einer Dicke zwischen 2 mm bis 6 mm, vorzugsweise gegen Druckeinwirkungen von Seiten der ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten geschützt.
  • Bevorzugt umfasst der zumindest eine Andrückkörper zwei oder mehrere flexible Andrückschichten, insbesondere wobei die zwei oder mehreren Andrückschichten derart in einer Abfolge, insbesondere als Mehrschichtgebilde, angeordnet oder ausgebildet sind, dass die Härtegrade der zwei oder mehreren Andrückschichten entlang eines von der Ebene des Substrats und/oder der zumindest einen Kleberschicht aufgespannten Normalenvektors, insbesondere ausgehend von der dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht nächsten Andrückschicht der zwei oder mehreren Andrückschichten, von Andrückschicht zu Andrückschicht variieren, insbesondere zunehmen.
  • Weiter bevorzugt ist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, insbesondere in einem Bereich von 380 nm bis 420 nm, transparent oder transluzent. Insbesondere bevorzugt weist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers eine Transmissivität in einem Bereich von 30% bis 100%, besonders bevorzugt in einem Bereich von 40% bis 100%, auf und/oder weist eine Schichtdicke in einem Bereich von 1 mm bis 20 mm, insbesondere von 2 mm bis 15 mm, bevorzugt von 3 mm bis 10 mm, auf und/oder weist eine Schichtdicke von kleiner oder gleich 0,75 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,5 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,25 mm, auf.
  • Insbesondere ist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers flach und/oder gekrümmt und/oder dreidimensional ausgeformt und/oder ist insbesondere zumindest bereichsweise gewölbt und/oder gebogen ausgebildet und/oder weist zumindest teilweise eine strukturierte und/oder texturierte Oberfläche auf.
  • Es ist möglich, dass zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers Silikon umfasst oder aus Silikon besteht. Insbesondere weist das Silikon einen Härtegrad in einem Bereich von 5° Shore A bis 90° Shore A, insbesondere von 10° Shore A bis 75° Shore A, bevorzugt von 20° Shore A bis 50° Shore A, auf.
  • Insbesondere sind die Shore-Härten und Schichtdicken der, insbesondere transparenten und/oder aus Silikon bestehenden, ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten abhängig von den Reliefhöhen und/oder Relieftiefen, insbesondere in einem Bereich von 0,02 bis 0,3 mm, bevorzugt maximal 1 mm, der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in der Oberfläche des Substrats und/oder von der Feinheit der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen, beispielsweise einer Gravur darstellend ein Motiv beziehungsweise einer partiell zu dekorierenden Fläche, der Oberfläche des Substrats.
  • Weiter ist es möglich, dass zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers, insbesondere umfassend Silikon oder bestehend aus Silikon, eine dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht zugewandte Oberfläche aufweist, welche insbesondere flach und/oder bombiert ausgebildet ist.
  • Unter einer "bombierten" Oberfläche wird hierbei insbesondere verstanden, dass die Oberfläche eine Eigenrauhigkeit aufweist, wobei vorzugsweise beim Andrücken und/oder Härten in dem Schritt c) des Verfahrens vermieden wird, dass sich zwischen der zumindest einen Kleberschicht und den ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten Luftblasen ausbilden, welche sich insbesondere nachteilig für die Qualität des herzustellenden Körpers auswirken könnten.
  • Ferner ist es möglich, dass in dem Schritt c) zumindest eine dem Substrat und/oder eine der zumindest einen Kleberschicht zugewandte Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers zumindest bereichsweise ein Höhenprofil aufweist, welches einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen entspricht oder folgt, insbesondere wobei die Höhenprofile in eine oder mehreren Richtungen variieren.
  • Insbesondere weist zumindest eine dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht zugewandte Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers in dem Schritt c) ein zumindest bereichsweise ebenes oder strukturiertes Höhenprofil auf. Insbesondere gleicht oder passt sich das zumindest bereichsweise ebene oder strukturierte Höhenprofil beim Andrücken in dem Schritt c) einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in oder auf der Oberfläche des Substrats derart an, dass die zumindest eine Kleberschicht nach dem Andrücken in dem Schritt c) und/oder nach dem Härten in dem Schritt c) eine konstante Schichtdicke aufweist. Bevorzugt variiert das zumindest bereichsweise ebene oder strukturierte Höhenprofil der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in oder auf der Oberfläche des Substrats in ein oder mehreren Richtungen.
  • Es ist möglich, dass die Form der ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten flach oder dreidimensional ausgeformt, insbesondere als dreidimensional gewölbte oder gebogene Kontur mit einer glatten oder strukturierten/texturierten Oberfläche, ausgeformt ist.
  • Weiter ist es möglich, dass eine strukturierte und/oder texturierte Oberfläche der ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten vorteilhaft ist, um eine derartige Struktur und/oder Textur beim Kaltprägen auf die Oberfläche der zumindest einen Dekorschicht zu übertragen. Ferner ist es möglich, dass eine derartige Struktur und/oder Textur dabei ein Endlosmuster oder Endlosmotiv ist oder ein einzelnes Muster und/oder Motiv oder eine Kombination hieraus ist.
  • Es hat sich insbesondere in Versuchsreihen ergeben, dass die Oberfläche eines Materials umfassend Silikon oder bestehend aus Silikon der ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten für die zu verarbeitende Transferfolie vorzugsweise adhäsiv ist, insbesondere wobei die Oberflächenrauigkeit, insbesondere der Mittenrauwert, einer derartigen adhäsiven Oberfläche erfahrungsgemäß unterhalb von ca. 0,5 µm, insbesondere zwischen 0,06 µm und 0,5 µm, bevorzugt zwischen etwa 0,1 µm und 0,5 µm, liegt. Insbesondere ist es bei einer derartigen adhäsiven Oberfläche vorteilhaft, wenn eine Zwischenfolie, insbesondere aus PET, zwischen Andrückschicht und der zumindest einen Transferfolie vorgesehen ist.
  • Es ist möglich, dass die Zwischenfolie die Adhäsivität der Andrückschicht verringert und die Verarbeitung der zumindest einen Transferfolie erheblich erleichtert, da die zumindest eine Transferfolie insbesondere nicht mehr störend an der Oberfläche der ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten haften bleibt. Die Dicke der Zwischenfolie erhöht vorzugsweise die effektive Härte des Ausgleichseffektes des Silikonstempels. Nachfolgend einige beispielhafte Ausführungsformen:
    • 5 mm dicke Andrückschicht aus Silikon (49° Shore A) mit 15 µm dicker PET-Folie ergibt 73° Shore A (entspricht 49 % Erhöhung).
    • 5 mm dicke Andrückschicht aus Silikon (49° Shore A) mit 50 µm dicker PET-Folie ergibt 85° Shore A (entspricht 70 % Erhöhung).
    • 10 mm dicke Andrückschicht aus Silikon (47° Shore A) mit 15 µm dicker PET-Folie ergibt 71° Shore A (entspricht 51 % Erhöhung).
    • 10 mm dicke Andrückschicht aus Silikon (47° Shore A) mit 50 µm dicker PET-Folie ergibt 78° Shore A (entspricht 59 % Erhöhung).
  • Das Shore-A-Messverfahren misst insbesondere eine Eindringtiefe eines Prüfkörpers zwischen 0 mm und 2,5 mm und schreibt bevorzugt eine Mindestdicke des Prüflings von 6 mm vor. Es lässt sich insbesondere mittels des Shore-A-Messverfahrens feststellen, dass die effektive Härte des Sandwiches vorzugsweise größer als die Härte oder der Härtegrad des Silikonstempels ist und dass die Folie bevorzugt die Gesamthärte des Sandwiches dominiert und definiert, insbesondere unabhängig von der Dicke der Silikonschicht.
  • Bevorzugt ist die Andrückschicht mit einer nicht adhäsiven Oberfläche versehen, insbesondere wobei der Einsatz einer Zwischenfolie entfällt, bevorzugt wobei sich die Gesamtanordnung weicher verhält, weiter bevorzugt wobei in Folge eine kleinere Anpresskraft zur Anpressung des Substrats an die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten ausreichend ist. Dabei liegt die Oberflächenrauigkeit, insbesondere der Mittenrauwert, einer derartigen nicht adhäsiven Oberfläche erfahrungsgemäß oberhalb von ca. 0,5 µm, insbesondere zwischen 0,5 µm und 1 µm, bevorzugt zwischen etwa 0,6 µm und 7 µm, weiter bevorzugt zwischen etwa 0,8 µm und 3 µm.
  • Die Andrückeinrichtung beziehungsweise der Andrückkörper und/oder die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten sorgt vorzugsweise für das sichere und gleichmäßige Abrollen des Substrats unter definierten Bedingungen und gleicht hierbei Form- und Bewegungstoleranzen desselben aus. Die Andrückeinrichtung beziehungsweise der Andrückkörper und/oder die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten weist beispielsweise bei Substraten aus Holz oder Kunststoff nur eine leichte Anpresskraft auf, da diese ansonsten deformiert werden, bei Substraten aus härteren beziehungsweise widerstandsfähigeren Materialien, wie beispielsweise Metall, Glas, Porzellan oder Keramik, sind insbesondere in Folge höherer Formtoleranzen und/oder höherer mechanischer Stabilität des Substrats auch etwas höhere Anpresskräfte vorteilhaft.
  • Die Anpresskraft liegt vorzugsweise etwa bei 1 N bis 1000 N. Beispielsweise kann die Anpresskraft bei Substraten aus Kunststoff oder Holz bei etwa 50 N bis 200 N liegen und bei Substraten aus Metall, Glas, Porzellan oder Keramik bei etwa 75 N bis 300 N. Um Deformationen von Kunststoffteilen insbesondere zusätzlich zu verhindern, kann beispielsweise das zu dekorierende Substrat während des Prägevorgangs in einer entsprechend ausgestalteten Halteeinrichtung mit Druckluft befüllt werden.
  • Vorzugsweise weist die zumindest eine Transferfolie umfassend zumindest eine Dekorschicht und zumindest eine Trägerlage in dem Schritt c) oder die zumindest eine Dekorschicht in dem Schritt c) für UV-Strahlung im Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt in einem Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, eine Transmissivität in einem Bereich von 5% bis 95%, insbesondere in einem Wellenlängenbereich von 10% bis 70%, bevorzugt in einem Bereich von 20% bis 40%, auf, insbesondere wobei die UV-Strahlung von der zumindest einen UV-Strahlungsquelle bereitgestellt wird.
  • Es ist möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht, welche insbesondere in der zumindest einen Transferfolie umfasst ist, in dem Schritt c) einen für den menschlichen Betrachter und/oder einen optischen Sensor erkennbaren optischen Effekt, insbesondere einen optisch variablen Effekt, generiert. Die zumindest eine Dekorschicht umfasst hierbei vorzugsweise eine Schicht mit einem mikroskopischen oder makroskopischen Oberflächenrelief, insbesondere einem beugungsoptisch wirksamen Oberflächenrelief oder einem Oberflächenrelief in Form einer Linsenstruktur, einer Mattstruktur oder einem Blaze-Gitter. Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht ein Dünnfilmschichtsystem, insbesondere ein Fabry-Perot-Dünnschichtsystem, umfasst, welches zumindest eine Distanzschicht einer optischen Schichtdicke in einem Bereich von λ½ oder λ¼ für eine Wellenlänge λ im Bereich des sichtbaren Lichtes aufweist, wobei vorzugsweise durch das Dünnfilmschichtsystem blickwinkelabhängige Farbverschiebungseffekte generiert werden. Konstruktive Interferenz in einem Dünnfilmschichtsystem mit einem Brechungsindex n und einer Dicke d berechnet sich vorzugsweise wie folgt: 2 nd cos Θ = m λ ,
    Figure imgb0001
    wobei O der Winkel zwischen der Beleuchtungsrichtung der Betrachtungsrichtung, λ die Wellenlänge des Lichts und m eine ganze Zahl ist. Diese Dünnfilmschichtsysteme umfassen bevorzugt eine Abstandsschicht, insbesondere angeordnet zwischen einer Absorptionsschicht und einer Reflexionsschicht oder können bevorzugt von einer Schicht umfassend Dünnfilmschichtpigmente gebildet sein. Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht eine oder mehrere Volumenhologrammschichten umfasst. Ferner ist es möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht eine Flüssigkristallschicht, insbesondere eine vernetzte nematische und/oder cholesterische Flüssigkristallschicht aufweist, welche bevorzugt die Polarisation des einfallenden Lichtes ändert und/oder blickwinkelabhängige Farbverschiebungseffekte generiert. Es ist weiter möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht optisch aktive Pigmente, beispielsweise Effektpigmente (Interferenzschicht-Pigmente, Flüssigkristall-Pigmente), UV-aktivierbare oder IRaktivierbare Pigmente (UV = Ultraviolett beziehungsweise ultraviolette Strahlung, IR = Infrarot beziehungsweise infrarote Strahlung) oder thermochrome Pigmente umfasst. "Aktivierbar" wird hierbei insbesondere als Umwandlung der eingestrahlten, für das menschliche Auge nicht sichtbaren Strahlung in für das menschliche Auge sichtbare Strahlung verstanden, wie dies beispielsweise bei Fluoreszenz- und/oder Phosphoreszenzeffekten der Fall ist. Ferner ist es möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht ein oder mehrere Farbschichten, insbesondere musterförmig ausgeformte Farblackschichten oder mittels Pigmente und/oder Farbmitteln farbig eingefärbte Schichten aufweist. Es ist insbesondere möglich, dass der Körper zwei oder mehrere derartige Dekorschichten aufweist oder in zumindest einer Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht mehrere der oben angeführten Schichten umfasst sind. Es ist möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht nichtmetallische Reflexionsschichten zur Generierung von optischen Effekten umfasst, beispielsweise eine HRI-Reflexionsschicht auf Basis von ZnS oder TiO2 mit hohem Brechungsindex (HRI = High Refractive Index = Hoher Brechungsindex).
  • Unter Brechungsindex oder Brechzahl oder optischer Dichte wird bevorzugt eine, insbesondere dimensionslose, optische Materialeigenschaft verstanden, welche insbesondere angibt, um welchen Faktor die Wellenlänge und/oder die Phasengeschwindigkeit einer elektromagnetischen Welle beziehungsweise elektromagnetischer Strahlung in einem Material kleiner ist als im Vakuum. Bei einem Übergang einer elektromagnetischen Welle zwischen Materialien und/oder Stoffen mit unterschiedlichen Brechungsindices wird die elektromagnetische Welle gebrochen und/oder gestreut, insbesondere reflektiert.
  • Es ist möglich, dass in dem Schritt c) zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie zumindest bereichsweise zumindest eine metallische Schicht, zumindest eine dielektrische Schicht und/oder zumindest eine Farbschicht, insbesondere zumindest eine transparente, transluzente oder opake Farbschicht, aufweist.
  • Die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie ist vorzugsweise als eine metallische Schicht, oder eine dielektrische Schicht ausgebildet. Dabei hat es sich insbesondere bewährt, wenn die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie eine Dicke im Bereich von 8 nm bis 500 nm aufweist. Bevorzugt ist die metallische oder dielektrische Schicht durch zusätzliche, insbesondere transparente oder transluzente, Farbschichten eingefärbt. Es ist möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie bevorzugt ein oder mehrere, insbesondere transparente oder transluzente, oder opake Farbschichten, vorzugsweise ohne eine metallische oder dielektrische Schicht, aufweist. Die Farbschichten können insbesondere mittels Druckverfahren aufgebracht worden sein. Als Druckverfahren für die Farbschicht kommen alle verbreiteten Druckverfahren (beispielsweise Siebdruck, Flexodruck, Tiefdruck, Offsetdruck, Digitaldruck, Inkjet-Druck) in Frage.
  • Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, insbesondere alternativ oder zusätzlich, zu metallischen oder dielektrischen Schichten oder Farbschichten einen Lack mit eingeprägten makroskopischen, insbesondere refraktiv wirksamen, oder mikroskopischen, insbesondere beugungsoptisch wirksamen, Reliefstrukturen aufweisen. Diese Reliefstrukturen können beispielsweise refraktiv wirkende Linsen- oder Prismenstrukturen sein oder beugungsoptisch, d.h. diffraktiv wirkende Gitterstrukturen wie z.B. ein Hologramm, ein KINEGRAMO.
  • Ferner ist es möglich, dass die Reliefstrukturen, insbesondere auch oder alternativ, als isotrop oder anisotrop streuende Mattstrukturen oder regelmäßig oder unregelmäßig aufgebaute Antireflexionsstrukturen ausgebildet sind. Makroskopische Reliefstrukturen weisen, insbesondere ungefähre oder mittlere, Größen (Strukturperiode oder Spatialfrequenz, Strukturtiefe oder Relieftiefe oder Reliefhöhe) von etwa 1 µm bis 1000 µm auf.
  • Es ist weiter möglich, dass mikroskopische Reliefstrukturen, vorzugsweise ungefähre oder mittlere, Größen (Strukturperiode oder Spatialfrequenz, Strukturtiefe oder Relieftiefe oder Reliefhöhe) von etwa 10 nm bis circa 100 µm aufweisen.
  • Vorzugsweise besteht oder umfasst die dielektrische Schicht zumindest aus einem Material beziehungsweise ein Material der Gruppe umfassend Metalloxid, Polymer oder Lack. Eine dielektrische Schicht aus HRI-Material (HRI = High Refractive Index), wie SiOx, MgO, TiOx, Al2O3, ZnO, ZnS, hat sich insbesondere bewährt. Die Variable x liegt dabei vorzugsweise im Bereich von 0 bis 3, also x=0, 1, 2, 3.
  • Es ist möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie, insbesondere auch oder alternativ, aus einem HRI-Material gebildet ist, welches in ein oder mehreren UV-Wellenlängenbereichen durchlässig und/oder transparent ist, wie beispielsweise CdSe, CeTe, Ge, HfO2, PbTe, Si, Te, TiCl oder ZnTe.
  • Weiter ist es möglich, dass die metallische oder dielektrische Schicht bevorzugt als Reflexionsschicht für die oben erwähnten Reliefstrukturen dient und insbesondere direkt auf den Reliefstrukturen aufgebracht, insbesondere aufgedampft, ist oder wird und hierbei insbesondere der Oberflächenform oder dem Höhenprofil der eingeformten Reliefstruktur folgt.
  • Ferner ist es möglich, dass die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie die erwähnten dielektrischen, metallischen oder Farbschichten jeweils vollflächig und in einer einheitlich aufgebrachten Schichtdicke aufweist. Alternativ hierzu ist es möglich, dass einzelne oder alle diese dielektrischen, metallischen oder Farbschichten auch partiell aufgebracht sind und insbesondere ein Motiv ausbilden. Insbesondere ist das Motiv hierbei aus partiellen Flächenanteilen der einzelnen Schichten zusammengesetzt, insbesondere wobei die einzelnen Schichten nebeneinander und/oder überlappend ausbildet sind. Insbesondere ist es möglich, die einzelnen Schichten rasterförmig aufzubringen, um beispielsweise mit drei oder vier Farben (z.B. als CMY- oder CMYK-Raster; C=Cyan, M=Magenta, Y=Gelb/Yellow, K=Black/Schwarz) ein Echtfarbenbild zu erzeugen. Die einzelnen Rasterpunkte der Farbschichten liegen hierbei bevorzugt nebeneinander und/oder übereinander vor. Die Farbschichten weisen hierbei vorzugsweise metallische und/oder optisch variable, insbesondere blickwinkelabhängige, Pigmente oder Farbstoffe, insbesondere fluoreszierende und/oder phosphoreszierende Farbstoffe, auf.
  • Weiter ist es möglich, dass in dem Schritt c) zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie von einer Replizierlackschicht mit einem in die Replizierlackschicht abgeformten Oberflächenrelief gebildet wird, insbesondere wobei das in die Replizierlackschicht abgeformte Oberflächenrelief zumindest bereichsweise von einer optisch aktiven Oberflächenstruktur gebildet wird, ausgewählt aus: Diffraktive Oberflächenstruktur, insbesondere Hologramm, Beugungsstrukturen Nullter Ordnung, Mattstruktur, insbesondere isotrope oder anisotrope Mattstruktur, Blaze-Gitter, Linsenstruktur, Mikrolinsenstruktur, Mikroprismenstruktur, Mikrospiegelstruktur, und/oder einer Kombination zwei oder mehrerer dieser optisch aktiven Oberflächenstrukturen.
  • Vorzugsweise weist die zumindest eine Transferfolie zumindest eine Trägerlage und zumindest eine darauf aufgebrachte, insbesondere transparente, Replizierlackschicht oder Prägelackschicht auf, bevorzugt wobei in die Replizierlackschicht oder Prägelackschicht ein oder mehrere Reliefstrukturen oder Oberflächenreliefs der ein oder mehreren Reliefstrukturen oder Oberflächenreliefs eingeprägt sind. Die Replizierlackschicht oder Prägelackschicht mit den Reliefstrukturen oder Oberflächenreliefs ist bevorzugt eine äußere Schicht der zumindest einen Transferfolie, insbesondere wobei die Reliefstrukturen oder Oberflächenreliefs auf der der zumindest einen Trägerlage abgewandten Seite oder Oberfläche der Replizierlackschicht oder Prägelackschicht eingeprägt sind. Es ist möglich, dass auf der Replizierlackschicht oder Prägelackschicht eine sehr dünne Antihaftschicht, bevorzugt mit einer Schichtdicke gleich oder kleiner als 1 µm, aufgebracht ist. Weiter ist es möglich, dass sich zwischen der Replizierlackschicht oder Prägelackschicht und der zumindest einen Trägerlage keine Ablöseschicht befindet. Bei der Replizierlackschicht oder Prägelackschicht handelt es sich vorzugsweise um eine UV-gehärtete oder elektronenstrahlgehärtete Lackschicht. Ferner ist es möglich, dass die Reliefstrukturen oder Oberflächenreliefs direkt oder unmittelbar in die zumindest eine Trägerlage eingeprägt sind oder werden, insbesondere ohne Verwendung einer zusätzlichen Replizierlackschicht oder Prägelackschicht. Es ist ferner möglich, dass hierbei eine sehr dünne Antihaftschicht, bevorzugt mit einer Schichtdicke gleich oder kleiner als 1 µm, auf den Reliefstrukturen oder Oberflächenreliefs aufgebracht ist oder wird.
  • Falls die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie ein Motiv aufweist, ist es insbesondere vorteilhaft, das Motiv in einer gewünschten Lage, insbesondere lagegenau auf das Substrat aufzubringen. Die Lagegenauigkeit wird auch als Registergenauigkeit bezeichnet. Dazu weist die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie bevorzugt in ihrem Randbereich Registermarken auf, welche vorzugsweise von entsprechend angeordneten Sensoren insbesondere optisch ausgelesen werden. Auf Basis der Sensorenmesswerte kann das Zuführen beziehungsweise die Positionierung der zumindest einen Transferfolie beispielsweise mittels Stellmotoren derart gesteuert werden, dass insbesondere jeweils ein Motiv auf der zumindest einen Transferfolie registergenau zu einer ebenfalls entsprechend eingestellten Lage des Substrats positioniert wird und anschließend vorzugsweise ein Andrücken der zumindest einen Trägerlage auf das Substrat erfolgt.
  • Ferner ist es möglich, dass zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie in dem Schritt c) mit einer Registergenauigkeit von ±1 mm, insbesondere von ±0,5 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich +0,3 mm und/oder größer oder gleich -0,3 mm, auf das Substrat und/oder auf die zumindest eine Kleberschicht beim Andrücken der zumindest einen Transferfolie aufgebracht wird. Vorzugsweise wird die zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie in dem Schritt c) auf ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen und/oder auf ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die zumindest eine Kleberschicht aufgebracht.
  • Unter Register oder Passer beziehungsweise Registergenauigkeit oder Passergenauigkeit oder Positionsgenauigkeit ist eine Lagegenauigkeit zweier oder mehrerer Elemente und/oder Schichten relativ zueinander zu verstehen. Dabei soll sich die Registergenauigkeit innerhalb einer vorgegebenen Toleranz bewegen und dabei möglichst hoch sein. Gleichzeitig ist die Registergenauigkeit von mehreren Elementen und/oder Schichten zueinander ein wichtiges Merkmal, um die Prozesssicherheit zu erhöhen. Die lagegenaue Positionierung kann dabei insbesondere mittels sensorischer, vorzugsweise optisch detektierbarer Passermarken oder der Positionsmarkierungen erfolgen. Diese Passermarken oder Positionsmarkierungen können dabei entweder spezielle separate Elemente oder Bereiche oder Schichten darstellen oder selbst Teil der zu positionierenden Elemente oder Bereiche oder Schichten sein.
  • Vorzugsweise werden ein oder mehrere Positionsmarkierungen in dem Substrat vor dem Schritt a) als Vertiefungen in das Substrat eingebracht, wobei die Vertiefungen eine Tiefe von mindestens 0,025 µm, insbesondere von mindestens 0,05 µm, bevorzugt von mindestens 0,1 µm, aufweisen. Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere- Positionsmarkierungen in dem Substrat vor dem Schritt a) als Erhöhungen in das Substrat eingebracht werden, wobei die Erhöhungen eine Höhe von mindestens 0,025 µm, insbesondere mindestens 0,05 µm, bevorzugt mindestens 0,1 µm, aufweisen.
  • Vorzugsweise weist das Substrat in einem oder mehreren Schritten der Schritte a), b) und/oder c) eine Vorschubgeschwindigkeit auf, insbesondere wobei die Vorschubgeschwindigkeit parallel zu einem der Ränder des Substrats verläuft, bevorzugt wobei die Vorschubrichtung die Richtung der Vorschubgeschwindigkeit vorgibt. Die Vorschubgeschwindigkeit beträgt vorzugsweise mehr als 1 m/min, bevorzugt mehr als 100 m/min, weiter bevorzugt mehr als 100 m/min.
  • Erfolgt die Applikation der zumindest einen Transferfolie auf das Substrat mittels Hubprägen, bei dem sich insbesondere die Andrückeinrichtung in Richtung des Normalenvektors des Substrats hin und her bewegt, beträgt die Applikationsgeschwindigkeit bevorzugt 2 bis 150 Hübe pro Minute, weiter bevorzugt 10 bis 100 Hübe pro Minute. Nach einem Hub, das heißt vorzugsweise nach einem Andrücken der zumindest einen Transferfolie auf einen dritten Bereich des Substrats wird das Substrat bevorzugt entsprechend vorgeschoben und/oder bevorzugt ausgetauscht und ein neuer Hub findet insbesondere statt.
  • Es ist möglich, dass die Andrückeinrichtung derart bewegt und/oder verfahren wird, dass die Oberflächenflächengeschwindigkeit der Andrückeinrichtung insbesondere der Vorschubgeschwindigkeit des Substrats und/oder der zumindest einen Transferfolie entspricht, bevorzugt wobei die zumindest eine Transferfolie derart bewegt wird, dass vorzugsweise die Vorschubgeschwindigkeit der zumindest einen Transferfolie der Vorschubgeschwindigkeit des Substrats entspricht.
  • Es ist weiter möglich, dass die Schritte a), b) und/oder c) in einer Abfolge, insbesondere in einer zeitlichen Abfolge, derart durchgeführt werden, dass der resultierende Prozess vorzugsweise ein Inline-Prozess ist.
  • Es ist möglich, dass das Substrat als dreidimensionaler Gegenstand und/oder Folie ausgebildet ist und/oder eine bahn- oder bandförmige Formgebung aufweist, insbesondere wobei eine erste räumliche Ausdehnung des Substrats parallel zu einer ersten Richtung bei einer Ausbildung als Folie und/oder einer bahn- oder bandförmigen Formgebung größer ist als eine zweite räumliche Ausdehnung des Substrats parallel zu einer zweiten Richtung, bevorzugt wobei die erste Richtung insbesondere senkrecht zu der zweiten Richtung angeordnet ist.
  • Bevorzugt umfassen ein oder mehrere erste Bereiche der Oberfläche des Substrats die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen und ein oder mehrere zweite Bereiche der Oberfläche des Substrats die zumindest eine Kleberschicht, wobei ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche insbesondere ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche teilweise überlappen oder vollständig überlappen.
  • Insbesondere weisen ein oder mehrere dritte Bereiche der Oberfläche des Substrats und/oder der von dem Substrat abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht die zumindest eine Transferfolie auf, wobei ein oder mehrere dritte Bereiche der ein oder mehreren dritten Bereiche insbesondere ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen teilweise überlappen oder vollständig überlappen und/oder ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die zumindest eine Kleberschicht teilweise überlappen und/oder vollständig überlappen.
  • Es ist möglich, dass zumindest eine Oberflächenstruktur der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche des Substrats eine Relieftiefe und/oder eine Reliefhöhe von kleiner oder gleich 1 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,75 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,5 mm, weiter bevorzugt aus einem Bereich von 0,02 mm bis 0,3 mm, aufweist und/oder ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche des Substrats als ein oder mehrere Oberflächenreliefs ausgeformt sind, insbesondere wobei ein oder mehrere Oberflächenreliefs der ein oder mehreren Oberflächenreliefs ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, bevorzugt ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere bevorzugt zwischen 0,1 und 5, aufweisen und/oder als Gravuren ausgebildet sind und/oder ein oder mehrere der folgenden Designelemente umfassen: Alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, Symbol, Mikroschrift, Bild, Foto, Logo, Portrait, Piktogramm, Muster, insbesondere Endlosmuster, und/oder Motiv.
  • Vorzugsweise weist die erste Arbeitsstation ein oder mehrere weitere Druckeinrichtungen, insbesondere zum zumindest bereichsweisen Applizieren von ein oder mehreren weiteren Kleberschichten auf die Oberfläche des Substrats und/oder auf zumindest eine von dem Substrat abgewandte Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht auf.
  • Es ist möglich, dass die von der Druckeinrichtung und/oder den weiteren Druckeinrichtungen zumindest bereichsweise auf die Oberfläche des Substrats applizierte, zumindest eine Kleberschicht eine Viskosität zwischen 200 mPa·s und 2000 mPa s, insbesondere zwischen 500 mPa·s und 1500 mP·as, bevorzugt zwischen 800 mPa·s und 1200 mP·as, aufweist.
  • Hierdurch wird bei dem Verfahren, bei der Vorrichtung und beim Körper erreicht, dass die Oberflächenstrukturen des Substrats in derselben oder in ähnlicher Form, d.h. vorzugsweise in der Flächenausdehnung und/oder in der Höhe und/oder in der Tiefe, auch in der Kleberschicht vorliegen.
  • Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten derart zumindest bereichsweise von der Druckeinrichtung und/oder den weiteren Druckeinrichtungen auf die Oberfläche des Substrats appliziert wird, dass die zumindest eine Kleberschicht und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten, insbesondere jeweils, eine konstante Schichtdicke oder ein um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, insbesondere bei teilweiser oder vollständiger Überlappung ein oder mehrerer Bereiche der Oberfläche des Substrats umfassend die zumindest eine Kleberschicht und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten mit ein oder mehreren Bereichen der Oberfläche des Substrats umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen, insbesondere jeweils, eine konstante Schichtdicke oder ein um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, bevorzugt wobei die zumindest eine Kleberschicht und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten, insbesondere jeweils, eine Schichtdicke zwischen 3 µm und 30 µm, insbesondere zwischen 2 µm und 20 µm, bevorzugt zwischen 1 µm und 10 µm, aufweist.
  • Ferner ist es möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten derart zumindest bereichsweise von der Druckeinrichtung und/oder den weiteren Druckeinrichtungen auf die Oberfläche des Substrats appliziert wird beziehungsweise werden, dass die zumindest eine Kleberschicht und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten in oder auf ein oder mehreren Bereiche der Oberfläche des Substrats in einer ersten Gruppe von ein oder mehreren Bereichen der ein oder mehreren Bereiche eine erste Schichtdicke aufweist beziehungsweise aufweisen und in einer zweiten Gruppe von ein oder mehreren Bereichen der ein oder mehreren Bereiche eine zweite Schichtdicke aufweist beziehungsweise aufweisen, insbesondere wobei sich die erste Schichtdicke und die zweite Schichtdicke voneinander unterscheiden, bevorzugt wobei die erste Schichtdicke und/oder die zweite Schichtdicke jeweils konstant ist und/oder sich die erste und die zweite Schichtdicke um weniger als 10%, insbesondere um weniger als 20%, voneinander unterscheiden, bevorzugt wobei die erste Schichtdicke und/oder die zweite Schichtdicke aus einem Bereich von 3 µm bis 30 µm, insbesondere von 2 µm bis 20 µm, bevorzugt von 1 µm bis 10 µm, ausgewählt ist.
  • Hierdurch wird bei dem Verfahren, bei der Vorrichtung und beim Körper erreicht, dass die Oberflächenstrukturen des Substrats in ähnlicher Form, d.h. vorzugsweise in der Flächenausdehnung und/oder in der Höhe und/oder in der Tiefe, auch in der Kleberschicht vorliegen, d.h. die Oberflächenstruktur der Klebeschicht um maximal 10%, insbesondere um maximal 20% zur Oberflächenstruktur des Substrats variieren kann. Insbesondere wird dabei die Oberflächenstruktur des Substrats in gleicher oder ähnlicher Form auch in der Transferfolie vorliegen, d.h. dass die Oberflächenstruktur der Transferfolie vorzugsweise um maximal 10%, insbesondere um maximal 20% zur Oberflächenstruktur des Substrats variieren kann.
  • Insbesondere ist die von der Druckeinrichtung und/oder den weiteren Druckeinrichtungen zumindest bereichsweise auf die Oberfläche des Substrats applizierte, zumindest eine Kleberschicht und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten als UV-Kleber ausgebildet.
  • Es ist möglich, dass die zweite Arbeitsstation ein oder mehrere weitere Andrückeinrichtungen, insbesondere zum zumindest bereichsweisen Andrücken der zumindest einen Transferfolie und/oder von ein oder mehreren weiteren Transferfolien auf der vom Substrat abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht und/oder der Oberfläche des Substrats, aufweist, und/oder dass die zweite Arbeitsstation ein oder mehrere weitere Bestrahlungseinrichtungen, insbesondere zum zumindest bereichsweisen Bestrahlen der zumindest einen zumindest bereichsweise auf der Oberfläche des Substrats applizierten Kleberschicht und/oder von ein oder mehreren weiteren zumindest bereichsweise auf der Oberfläche des Substrats applizierten Kleberschichten und/oder auf zumindest eine weitere Oberfläche der zumindest einen zumindest bereichsweise auf der Oberfläche des Substrats applizierten Kleberschicht, aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass die Andrückeinrichtung und/oder die ein oder mehreren weiteren Andrückeinrichtungen, insbesondere jeweils, zumindest einen Andrückkörper aufweisen, insbesondere wobei der zumindest eine Andrückkörper ein oder mehrere flexible Andrückschichten umfasst, bevorzugt wobei die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten zumindest für ein oder mehrere Wellenlängen der UV-Strahlung und/oder in ein oder mehreren Wellenlängenbereichen der UV-Strahlung transluzent oder transparent sind.
  • Ferner ist es möglich, dass der zumindest eine Andrückkörper zwei oder mehrere flexible Andrückschichten umfasst, insbesondere wobei die zwei oder mehreren flexiblen Andrückschichten derart in einer Abfolge, insbesondere als Mehrschichtgebilde, angeordnet oder ausgebildet sind, dass die Härtegrade der zwei oder mehreren Andrückschichten entlang eines von der Ebene des Substrats und/oder der zumindest einen Kleberschicht aufgespannten Normalenvektors ausgehend von einer dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht nächsten Andrückschicht der zwei oder mehreren Andrückschichten von Andrückschicht zu Andrückschicht variieren, insbesondere zunehmen.
  • Insbesondere ist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, insbesondere in einem Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, transparent oder transluzent. Bevorzugt weist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers eine Transmissivität in einem Bereich von 30% bis 100%, besonders bevorzugt in einem Bereich von 40% bis 100%, auf und/oder weist eine Schichtdicke in einem Bereich von 1 mm bis 20 mm, insbesondere von 2 mm bis 15 mm, bevorzugt von 3 mm bis 10 mm, auf und/oder weist eine Schichtdicke von kleiner oder gleich 0,75 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,5 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,25 mm, auf.
  • Bevorzugt ist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers flach, gekrümmt und/oder dreidimensional ausgeformt, insbesondere zumindest bereichsweise gewölbt und/oder gebogen ausgebildet und/oder weist zumindest teilweise eine strukturierte und/oder texturierte Oberfläche auf.
  • Es ist möglich, dass zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers Silikon umfasst oder aus Silikon besteht, insbesondere wobei das Silikon eine Härte oder einen Härtegrad in einem Bereich von 5° Shore A bis 90° Shore A, bevorzugt von 10° Shore A bis 75° Shore A, weiter bevorzugt von 20° Shore A bis 50° Shore A, aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers, insbesondere umfassend Silikon oder bestehend aus Silikon, eine dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht zugewandte Oberfläche aufweist, welche insbesondere flach und/oder bombiert ausgebildet ist.
  • Ferner ist es möglich, dass zumindest eine Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers zumindest bereichsweise ein Höhenprofil aufweist, welches beim zumindest bereichsweisen Andrücken derart deformiert wird, dass dieses Höhenprofil einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in oder auf der Oberfläche des Substrats entspricht oder folgt, insbesondere wobei die Höhenprofile in eine oder mehreren Richtungen variieren.
  • Vorzugsweise weist zumindest eine Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten des zumindest einen Andrückkörpers zumindest bereichsweise zumindest ein Höhenprofil, insbesondere zumindest ein bereichsweise strukturiertes oder ebenes Höhenprofil, auf, welches beim zumindest bereichsweisen Andrücken derart deformiert wird, dass sich dieses zumindest eine Höhenprofil beim zumindest bereichsweisen Andrücken einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in oder auf der Oberfläche des Substrats angleicht oder anpasst und/oder dass die zumindest eine Kleberschicht und/oder die ein oder mehreren weiteren Kleberschichten bei der Bestrahlung eine konstante Schichtdicke aufweist beziehungsweise aufweisen, bevorzugt wobei das Höhenprofil der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen in ein oder mehreren Richtungen variiert.
  • Weiter bevorzugt sind die ein oder zwei oder mehreren flexiblen Andrückschichten zumindest teilweise zwischen der zumindest einen UV-Strahlungsquelle und dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht und/oder den ein oder mehreren weiteren Kleberschichten angeordnet.
  • Es ist möglich, dass das Härten der zumindest einen Kleberschicht durch Bestrahlen mit UV-Strahlung in der oder durch die Bestrahlungseinrichtung und/oder in den oder durch die ein oder mehreren weiteren Bestrahlungseinrichtungen erfolgt, bevorzugt wobei die UV-Strahlung durch zumindest eine UV-Strahlungsquelle erzeugt und/oder emittiert wird, weiter bevorzugt wobei die UV-Strahlung eine Wellenlänge oder ein Intensitätsmaximum in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt in einem Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Transferfolie umfassend die zumindest eine Dekorschicht und die zumindest eine Trägerlage oder dass die zumindest eine Dekorschicht für UV-Strahlung im Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt im Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, eine Transmissivität in einem Bereich von 5% bis 95%, insbesondere in einem Bereich von 10% bis 70%, bevorzugt in einem Bereich von 20% bis 40%, aufweist, insbesondere wobei die UV-Strahlung von der zumindest einen UV-Strahlungsquelle bereitgestellt wird.
  • Ferner ist es möglich, dass zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht der zumindest einen Transferfolie zumindest bereichsweise zumindest eine metallische Schicht, zumindest eine dielektrische Schicht und/oder zumindest eine Farbschicht, insbesondere zumindest eine transparente, transluzente oder opake Farbschicht, aufweist.
  • Insbesondere ist der Körper ein mehrschichtiges Folienelement und/oder ein Mehrschichtkörper, bevorzugt wobei der Körper insbesondere flexibel, dehnbar und/oder elastisch ausgebildet ist. Der Körper wird insbesondere als mehrschichtige Platte bereitgestellt, vorzugsweise wobei die Platte vorzugsweise starr, unelastisch und/oder dehnbar ausgebildet ist. Das mehrschichtige Folienelement und/oder der Mehrschichtkörper weisen bevorzugt ein oder mehrere vollflächige oder nur flächenbereichsweise partiell aufgebrachte Dekorschichten, Metallschichten, Metalloxidschichten, insbesondere Reflexionsschichten, optisch aktive Schichten, insbesondere optisch variable Schichten, elektrisch leitfähige Schichten, farbige Schichten, insbesondere farbige Lackschichten, zumindest teilweise oder vollständig lichtdurchlässige Schichten, Ablöseschichten, Barriereschichten, Kleberschichten, Haftvermittlerschichten und/oder Kunststoffschichten auf.
  • Bevorzugt wird der Körper als Transferfolie umfassend die zumindest eine Dekorschicht und/oder umfassend die zumindest einen Trägerlage hergestellt, insbesondere wobei die zumindest eine Trägerlage bei dem Transfer von der zumindest einen Dekorschicht abgelöst wird und die zumindest eine Dekorschicht bei dem Transfer übertragen wird.
  • Weiter ist es möglich, dass das Andrücken der zumindest einen Transferfolie in dem Schritt c) des Verfahrens auf die ein oder mehreren dritten Bereiche des Substrats dadurch erfolgt, dass das Substrat insbesondere um eine Achse rotiert wird, bevorzugt wobei die zumindest eine Transferfolie tangential zum äußeren Umfang des Substrats geführt wird, bevorzugt wobei das Substrat und/oder die zumindest eine Transferfolie, vorzugsweise jeweils, an ein oder mehreren zylinderförmigen Rollen und/oder Walzen oder an einem Umfang ein oder mehrerer zylinderförmiger Rollen und/oder Walzen und/oder drehbaren Zylindern und dass die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten und/oder der Andrückkörper der Andrückeinrichtung entlang der Berührungslinie oder Berührungsfläche zwischen dem Substrat und der zumindest einen Transferfolie die zumindest eine Transferfolie auf das Substrat und/oder die zumindest eine Kleberschicht und/oder auf die ein oder mehreren dritten Bereiche der Oberfläche des Substrats drückt. Insbesondere umfassen ein oder mehrere zylinderförmige Rollen und/oder Walzen der ein oder mehreren zylinderförmigen Rollen und/oder Walzen Quarzglas oder bevorzugt bestehen ein oder mehrere zylinderförmige Rollen und/oder Walzen der ein oder mehreren zylinderförmigen Rollen und/oder Walzen aus Quarzglas.
  • Insbesondere wird die Andrückeinrichtung derart verfahren und/oder bewegt, dass die Oberflächenflächengeschwindigkeit der Andrückeinrichtung der Oberflächengeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit des Substrats entspricht, bevorzugt wobei die zumindest eine Transferfolie derart verfahren und/oder bewegt wird, dass die Oberflächengeschwindigkeit der Transferfolie vorzugsweise der Oberflächengeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit des Substrats entspricht.
  • Es ist weiter möglich, dass die Andrückeinrichtung zumindest einen um die Zylinderachse drehbaren Zylinder oder zumindest eine ebene Platte aufweist.
  • Ist die Andrückeinrichtung insbesondere ein um die Zylinderachse drehbarer Zylinder, erfolgt das Andrücken der zumindest einen Transferfolie auf das Substrat und/oder auf die ein oder mehreren dritten Bereiche der Oberfläche des Substrats vorzugsweise dadurch, dass insbesondere die Transferfolie bei gleichzeitiger Rotation des drehbaren Zylinders um eine Zylinderachse und des Substrats um die Rotationsachse zwischen Zylinder und Substrat geführt wird. Das Härten der zumindest einen Kleberschicht mittels UV-Strahlung erfolgt vorzugsweise durch die transparente Zylinderwand hindurch vom Inneren des Zylinders her. Insbesondere um das unbeabsichtigte Belichten von Bereichen umfassend Kleberschichten zu vermeiden, die bevorzugt noch nicht belichtet werden sollen, wird insbesondere eine opake Blende oder opake Maske mit transparenten Bereichen verwendet, welche die entsprechenden Bereiche der Kleberschicht vor der Strahlung vorzugsweise abschirmen.
  • Falls die Andrückeinrichtung insbesondere eine ebene Platte ist, erfolgt das Andrücken der zumindest einen Transferfolie auf das Substrat und/oder auf die ein oder mehreren dritten Bereiche der Oberfläche des Substrats vorzugsweise dadurch, dass die zumindest eine Transferfolie bevorzugt in Richtung des Normalenvektors des Substrats zwischen Andrückeinrichtung und Substrat angeordnet ist und sich die Andrückeinrichtung bevorzugt in Richtung des Normalenvektors des Substrats hin und her bewegt und die zumindest eine Transferfolie insbesondere auf einen dritten Bereich des Substrats andrückt. Das Härten der zumindest einen Kleberschicht mittels UV-Strahlung erfolgt hierbei vorzugsweise durch die transparente Andrückeinrichtung hindurch. Insbesondere um das unbeabsichtigte Belichten von Bereichen umfassend die zumindest eine Kleberschicht zu vermeiden, welche bevorzugt noch nicht belichtet werden sollen, ist es möglich, eine opake Blende oder opake Maske mit transparenten Bereichen zu verwenden, welche die entsprechenden Bereiche der Kleberschicht vorzugsweise vor der Strahlung abschirmt.
  • Vorzugsweise erfolgt das Andrücken der zumindest einen Transferfolie auf das Substrat dadurch, dass insbesondere der Zylinder bei gleichzeitiger Rotation des Zylinders um die Zylinderachse linear über das, bevorzugt feststehende, Substrat geführt wird.
  • Ferner ist es möglich, dass das Andrücken der zumindest einen Transferfolie auf das Substrat dadurch erfolgt, dass vorzugsweise das Substrat um die Rotationsachse gedreht wird und/oder dass die zumindest eine Transferfolie tangential zum äußeren Umfang des Substrats geführt wird und/oder dass die Andrückeinrichtung entlang der Berührungslinie oder Berührungsfläche zwischen dem Substrat und der zumindest einen Transferfolie die zumindest eine Transferfolie auf das Substrat drückt.
  • Es ist möglich, dass eine oder mehrere weitere Arbeitsstationen nach der zweiten Arbeitsstation zum Andrücken der zumindest einen Transferfolie und zum Härten der zumindest einen Kleberschicht und/oder zu einer zusätzlichen Beschichtung des Substrats, der zumindest einen Kleberschicht und/oder der zumindest einen Transferfolie, insbesondere der zumindest einen Dekorschicht, angeordnet sind, insbesondere wobei ein oder mehrere weitere Arbeitsstationen der ein oder mehreren Arbeitsstationen zumindest bereichsweise oder vollflächig ein oder mehrere zusätzliche Beschichtungen in oder auf ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche und/oder in oder auf ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche und/oder in oder auf ein oder mehrere dritte Bereiche der ein oder mehreren dritten Bereiche und/oder in oder auf zu den ersten, zweiten und/oder dritten Bereichen benachbarten Bereichen oder vollflächig erfolgt.
  • Weiter ist es möglich, dass die Beschichtung die Applikation einer oder mehrerer zusätzlicher transparenter, transluzenter oder opaker Lackschichten umfasst.
  • Ferner ist es möglich, dass in oder an einer oder mehreren weiteren Arbeitsstationen der ein oder mehreren weiteren Arbeitsstationen vor der ersten Arbeitsstation, insbesondere vor dem Schritt a) und/oder vor dem Schritt b), und/oder vor dem Schritt a) und/oder vor dem Schritt b) eine zumindest bereichsweise und/oder teilweise oder vollflächige weitere Beschichtung des Substrats, insbesondere mittels Siebdruckes, Flexodruck, Inkjet-Druck und/oder Digitaldruck, erfolgt.
  • Es ist weiter möglich, dass die erste Arbeitsstation zur Applikation des Klebers, die zweite Arbeitsstation zum Andrücken der zumindest einen Transferfolie und zum Härten der zumindest einen Kleberschicht und/oder alle weiteren gegebenenfalls vorhandenen Arbeitsstationen inline angeordnet sind.
  • Es ist weiter möglich, dass die erste Arbeitsstation eine Tampondruckstation ist, insbesondere wobei der UV-Kleber beziehungsweise die zumindest eine Kleberschicht mittels eines Tampons auf das Substrat aufgebracht wird.
  • Es ist ebenfalls möglich, dass die erste Arbeitsstation eine Flexodruckstation ist, insbesondere wobei der UV-Kleber beziehungsweise die zumindest eine Kleberschicht mittels einer auf dem Druckformzylinder angebrachten Druckplatte auf das Substrat aufgebracht wird. Es ist ferner möglich, dass die erste Arbeitsstation auch eine Siebdruckstation oder eine Digitaldruckstation, insbesondere eine Inkjet-Druckstation, aufweist.
  • Vorzugsweise handelt es sich bei dem Substrat um eine Münze aus mindestens einem Metall oder Metalllegierung mit einem während der Münzherstellung in das Metall eingeprägten Relief. Das Relief stellt hierbei insbesondere ein Motiv dar und kann beispielsweise mehrere Motivbereiche aufweisen, beispielsweise ein Portrait oder ein Wappen vor einem Hintergrundmuster. Es kann nun partiell mit der zumindest einen Kleberschicht insbesondere mittels Tampondruck nur bestimmte Motivbereiche beschichtet werden, beispielsweise nur das Portrait oder nur das Wappen und nicht das Hintergrundmuster oder umgekehrt nur das Hintergrundmuster und nicht das Portrait oder das Wappen. Der Tampondruck ist hier vorzugsweise besonders gut geeignet, weil der mit UV-Kleber versehene elastische Tampon sich insbesondere an die Reliefunebenheiten anschmiegen kann und somit vorzugsweise auch eine Kleberschicht in vertieften Reliefbereichen aufbringen kann. Der UV-Kleber kann insbesondere mittels Inkjet-Druck aufgebracht werden, bevorzugt wobei die flüssigen Tropfen jeden Reliefbereich erreichen und insbesondere bedecken können. Eine Anpassung der Kleberschicht an die Reliefform erfolgt beim Inkjet-Druck insbesondere also quasi "automatisch". Anschließend kann die zumindest eine Transferfolie insbesondere auf die zumindest eine Kleberschicht appliziert werden, bevorzugt wobei die zumindest eine flexible Andrückschicht des zumindest einen Andrückkörpers wiederum sich an die Reliefunebenheiten anschmiegen kann und hierbei vorzugsweise einen Folientransfer in vertieften Reliefbereichen erreicht, sodass insbesondere dort die zumindest eine Dekorschicht auf der zumindest einen Kleberschicht haftet und bevorzugt gleichzeitig die zumindest eine Dekorschicht der Reliefkontur folgt und weiter bevorzugt zumindest teilweise die ursprüngliche Reliefkontur an der äußeren freien Oberfläche der zumindest einen Dekorschicht noch vorhanden und insbesondere optisch wirksam ist.
  • Weiter ist es möglich, dass es sich bei dem Substrat um ein Holz oder ein Furnier mit einer natürlichen Maserung handelt. Die natürliche Maserung kann insbesondere durch zusätzliche Bearbeitungen mit einer künstlichen Rauigkeit oder Glättung versehen sein. Das Relief stellt dabei bevorzugt unregelmäßige Vertiefungen und Erhöhungen dar, insbesondere zumindest den sogenannten "Tick" des Holzes. Es kann nun vorzugsweise partiell eine Kleberschicht, insbesondere mittels Tampondruck, aufgebracht werden, beispielsweise in Motivform und/oder in Musterform. Der Tampondruck ist hier insbesondere besonders gut geeignet, weil sich der mit UV-Kleber versehene elastische Tampon vorzugsweise an die Reliefunebenheiten anschmiegen kann und hierbei insbesondere eine Kleberschicht in vertieften Reliefbereichen aufbringen kann. Der UV-Kleber kann vorzugsweise aber auch mittels Inkjet-Druck aufgebracht werden, bevorzugt wobei die flüssigen Tropfen jeden Reliefbereich erreichen und weiter bevorzugt bedecken können. Vorzugsweise erfolgt eine Anpassung der zumindest einen Kleberschicht an die Reliefform beim Inkjet-Druck also quasi "automatisch". Anschließend kann die zumindest eine Transferfolie insbesondere auf die zumindest eine Kleberschicht appliziert werden, bevorzugt wobei sich die zumindest eine flexible Andrückschicht des zumindest einen Andrückkörpers wiederum an die Reliefunebenheiten anschmiegen kann und hierbei vorzugsweise einen Folientransfer in vertieften Reliefbereichen erreicht, sodass weiter bevorzugt dort die zumindest eine Dekorschicht auf der zumindest einen Kleberschicht haftet und insbesondere gleichzeitig die zumindest eine Dekorschicht der Reliefkontur folgt und insbesondere bevorzugt zumindest teilweise die ursprüngliche Reliefkontur an der äußeren freien Oberfläche der zumindest einen Dekorschicht noch vorhanden und optisch wirksam ist.
  • Es ist aber auch möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht die ursprüngliche Reliefform auffüllt und ausgleicht, insbesondere bei Reliefformen mit sehr geringen Relieftiefen. Dafür kann es sinnvoll sein, den UV-Kleber insbesondere in mehreren Druckdurchgängen aufzubringen. Dadurch ist es möglich, vorzugsweise durch eine partielle Applikation der zumindest einen Transferfolie, Bereiche zu erzeugen, die insbesondere in ihrer Oberflächengüte von dem ursprünglichen Substrat abweichen. Im Falle des Holzes können beispielsweise auf einer rauen natürlichen Holzoberfläche partiell glatte, glänzende oder anderweitig optisch und/oder funktional kontrastierende, bevorzugt mit Transferfolie beschichtete Bereiche, erzeugt werden.
  • Ferner ist es möglich, dass es sich bei dem Substrat insbesondere um ein Kunststoff-Formteil oder ein Metall-Formteil handelt, welches bevorzugt mittels 3D-Druck erzeugt wurde. Es ist bekannt, dass derartige Formteile vorzugsweise direkt nach dem 3D-Druck häufig eine raue, unansehnliche Oberfläche aufweisen, welche weiter bevorzugt eine aufwendige Nachbehandlung erfordert. Das Relief stellt dabei beispielsweise die weitgehend regelmäßige Schichtfolge des 3D-Druckes aus einer Vielzahl von Kunststoffschichten dar oder beispielsweise anderweitige regelmäßige und/oder unregelmäßige Prozessspuren des 3D-Druckes. Es kann insbesondere partiell eine Kleberschicht, insbesondere mittels Tampondruck, aufgebracht werden, beispielsweise in Motivform und/oder in Musterform. Der Tampondruck ist hier besonders gut geeignet, weil sich der mit UV-Kleber versehene elastische Tampon bevorzugt an die Reliefunebenheiten anschmiegen kann und hierbei weiter bevorzugt auch eine Kleberschicht in vertieften Reliefbereichen aufbringen kann. Der UV-Kleber kann aber insbesondere mittels Inkjet-Druck aufgebracht werden, bevorzugt wobei die flüssigen Tropfen jeden Reliefbereich erreichen und weiter bevorzugt bedecken können. Eine Anpassung der Kleberschicht an die Reliefform erfolgt beim Inkjet-Druck vorzugsweise also quasi "automatisch". Weiter ist es möglich, dass die Kleberschicht hierbei in einer so großen Schichtdicke aufgebracht wird, dass das Relief insbesondere ausgeglichen und bevorzugt ausgefüllt wird, sodass weiter bevorzugt eine weitgehend glatte äußere freie Oberfläche der Kleberschicht vorliegt. Dafür kann es insbesondere sinnvoll sein, den UV-Kleber vorzugsweise in mehreren Druckdurchgängen aufzubringen. Insbesondere ist die Kleberschicht zumindest in etwa so dick wie die Relieftiefe. Anschließend kann die zumindest eine Transferfolie insbesondere auf die Kleberschicht appliziert werden, vorzugsweise wobei die zumindest eine Transferfolie auf die weitgehend glatte Kleberschicht appliziert wird und insbesondere danach die Dekorschicht an ihrer äußeren freien Oberfläche ebenfalls weitgehend glatt und insbesondere bevorzugt eben liegt. Hierdurch kann einerseits insbesondere eine Dekoration des Formteils erfolgen und vorzugsweise gleichzeitig eine aufwendige Nachbearbeitung der Oberfläche des Formteils unnötig werden.
  • Im Folgenden wird die Erfindung anhand von mehreren Ausführungsbeispielen unter Zuhilfenahme der beiliegenden Zeichnungen beispielhaft erläutert. Dabei zeigen:
  • Fig. 1
    zeigt eine schematische Darstellung eines Verfahrens.
    Fig. 2
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats.
    Fig. 3
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats.
    Fig. 4
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats.
    Fig. 5
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats und einer Kleberschicht.
    Fig. 6
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats, einer Kleberschicht, einer Transferfolie und einem Andrückkörper.
    Fig. 7
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats, einer Kleberschicht und einer Transferfolie.
    Fig. 4a
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats.
    Fig. 5a
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats und einer Kleberschicht.
    Fig. 6a
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats, einer Kleberschicht, einer Transferfolie und einem Andrückkörper.
    Fig. 7a
    zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats, einer Kleberschicht und einer Transferfolie.
    Fig. 8
    zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung.
    Fig. 9
    zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung.
    Fig. 10
    zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung.
    Fig. 11
    zeigt eine schematische Darstellung eines Körpers.
  • Fig. 1 zeigt ein Verfahren, insbesondere zum dekorierenden Kaltprägen, bevorzugt zur Herstellung eines Körpers 1, wobei bei dem Verfahren folgende Schritte a, b und c, vorzugsweise in der folgenden Abfolge, durchgeführt werden:
    • a: Bereitstellen eines Substrats 10, wobei ein oder mehrere erste Bereiche 100 einer Oberfläche 10a des Substrats 10 ein oder mehrere Oberflächenstrukturen 11 aufweisen,
    • b: Applizieren zumindest einer Kleberschicht 20 auf ein oder mehrere zweite Bereiche der Oberfläche 10a des Substrats 10,
    • c: Andrücken zumindest einer Transferfolie 30 umfassend zumindest eine Dekorschicht 31 und zumindest eine Trägerlage 32 auf ein oder mehrere dritte Bereiche 300 der Oberfläche 10a des Substrats 10 und/oder einer von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht 20, insbesondere auf den ein oder mehreren zweiten Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10, und zumindest teilweises und/oder bereichsweises Härten der zumindest einen Kleberschicht 20, insbesondere auf den ein oder mehreren zweiten Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10.
  • Es ist möglich, dass ein oder mehrere Schritte a, b, c des Verfahrens ein Inline-Prozess oder Teil eines Inline-Prozesses sind. In einem Inline-Prozess erfolgen die einzelnen Prozessschritte bevorzugt unmittelbar derart hintereinander, dass insbesondere keine zeitliche und örtliche Zwischenlagerung des Substrates durchgeführt wird. Insbesondere sind bei einem Inline-Prozess die unterschiedlichen Arbeitsstationen in einer gemeinsamen Vorrichtung zusammengefasst und vorzugsweise wird das Substrat von einer Arbeitsstation zu einer folgenden Arbeitsstation weitertransportiert. Vorzugsweise im Gegensatz hierzu erfolgen die Prozessschritte in einem Offline-Prozess voneinander entkoppelt und bevorzugt mit einer zeitlichen und örtlichen Zwischenlagerung des Substrats.
  • Die Figur 2 zeigt ein Substrat 10, welches eine Oberflächenstruktur 11 aufweist, wobei das Substrat 10 insbesondere in dem Schritt a des Verfahrens bereitgestellt wird. Insbesondere weist die Oberfläche 10a des Substrats 10 die Oberflächenstruktur 11 vollflächig auf, bevorzugt wobei das Höhenprofil der Oberflächenstruktur 11 ein sinus- oder cosinusförmiges Höhenprofil aufweist. Die maximale Relieftiefe der Oberflächenstruktur 11 ist in der Figur 2 mit h1 gekennzeichnet und die Breite der Reliefvertiefungen der Oberflächenstruktur 11 ist in der Figur 2 mit b1 gekennzeichnet, insbesondere wobei die Breite b1 der Reliefvertiefungen bei einer halben maximalen Relieftiefe h1 bestimmt ist.
  • Die Figur 3 zeigt ein Substrat 10, welches eine Oberflächenstruktur 11 aufweist, wobei das Substrat 10 insbesondere in dem Schritt a des Verfahrens bereitgestellt wird. Insbesondere weist die Oberfläche 10a der Oberseite des Substrats 10 die Oberflächenstruktur 11 vollflächig auf, bevorzugt wobei das Höhenprofil der Oberflächenstruktur 11 ein Höhenprofil bestehend aus der sich wiederholenden Abfolge "Tiefes Plateau - Ansteigende Flanke - Hohes Plateau - Absteigende Flanke" aufweist. Weiter bevorzugt weist die Oberfläche 10b der Unterseite des Substrats 10 keine Oberflächenstruktur oder keine Oberflächenstrukturen auf. Die maximale Relieftiefe der Oberflächenstruktur 11 ist in der Figur 3 mit h1 gekennzeichnet und die Breite der Reliefvertiefungen der Oberflächenstruktur 11 ist in der Figur 3 mit b1 gekennzeichnet, insbesondere wobei die Breite b1 der Reliefvertiefungen bei einer halben maximalen Relieftiefe h1 bestimmt ist.
  • Die Figur 4 zeigt ein Substrat 10, welches eine Oberflächenstruktur 11 aufweist, wobei das Substrat 10 insbesondere in dem Schritt a des Verfahrens bereitgestellt wird. Insbesondere weist die Oberfläche 10a des Substrats 10 vollständig beziehungsweise in einem ersten Bereich 100 die Oberflächenstruktur 11 auf, bevorzugt wobei das Höhenprofil und/oder das Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis der Oberflächenstruktur 10a pseudo-zufällig oder zufällig über die Oberfläche 10a variiert.
  • Unter zufälliger oder pseudo-zufälliger Variation wird hierbei insbesondere verstanden, dass die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen entlang zumindest einer Richtung senkrecht zu der durch das Substrat aufgespannten Ebene zufällige oder pseudo-zufällige Höhen und/oder Tiefen aufweisen.
  • Es ist möglich, dass das Substrat 10 in den Schritten a, b und/oder c als dreidimensionaler Gegenstand und/oder als Folie ausgebildet ist und/oder eine bahn- oder bandförmige Formgebung aufweist, insbesondere wobei eine erste räumliche Ausdehnung des Substrats 10 parallel zu einer ersten Richtung R1 bei einer Ausbildung als Folie und/oder bei einer bahn- oder bandförmigen Formgebung größer ist als eine zweite räumliche Ausdehnung des Substrats 10 parallel zu einer zweiten Richtung R2, bevorzugt wobei die erste Richtung R1 senkrecht zu der zweiten Richtung R2 angeordnet ist.
  • Insbesondere ist das Substrat ein Endlosband oder umfasst eine Abfolge von ein oder mehreren Bögen oder "sheets". Bevorzugt ist das Substrat eine Münze, vorzugsweise eine Münze umfassend Metall und/oder zumindest eine Metallschicht, wobei zumindest eine Oberfläche der Münze eine Oberflächenstruktur aufweist, welche beispielsweise als Gravur ausgebildet ist, wobei die Gravur ein Motiv und/oder ein Portrait darstellt.
  • Vorzugsweise wird das in dem Schritt a bereitgestellte Substrat als Rollenware oder als Bogenware bereitgestellt. Insbesondere zur Verwendung in Rolle-zu-Rolle-Verfahren wird das Substrat als Rollenware bereitgestellt. Es ist aber auch möglich, dass das Substrat als einer oder mehrere Bögen bereitgestellt wird, wobei die einen oder mehreren Bögen vorzugsweise flächig ausgeformt sind.
  • Weiter ist es möglich, dass das in dem Schritt a bereitgestellte Substrat ein oder mehrere Kunststoffe, Papiere und/oder Metalle und/oder Metalloxide aufweist. Vorzugsweise sind die Kunststoffe ausgewählt aus: PET (= Polyethylenterephthalat), PEN (= Polyethylennaphthalat), PE (= Polyethylen), PI (= Polyimid), PP (= Polypropylen), PC (= Polycarbonat) oder PTFE (= Polytetrafluorethylen), PVC, ABS (Acrylnitril-Butadien-Styrol-Copolymere), Polyurethan und/oder Polyester. Als Metalle weist das Substrat insbesondere eine oder mehrere der Metalle auf, ausgewählt aus: Chrom, Aluminium, Gold, Kupfer, Zinn, Indium, Silber und/oder eine Legierung einer oder mehrerer der vorstehenden Metalle. Es ist auch möglich, dass das in dem Schritt a bereitgestellte Substrat ein oder mehrere Schichten aufweist. Insbesondere weisen diese Schichten gleiche oder unterschiedliche Materialien und/oder gleiche oder unterschiedliche optische Eigenschaften auf. Ferner ist es möglich, dass das in dem Schritt a bereitgestellte Substrat ein oder mehrere Positionsmarkierungen aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass das Substrat 10 in den Schritten a, b und/oder c aus ein oder mehreren Materialien der folgenden Materialien besteht oder ein oder mehrere Materialien der folgenden Materialien umfasst: Kunststofffolie, insbesondere einer PET-Folie, PMMA, PC, PEC, ABS, ABS-PC, PE, PS, PVC, Polyamide, PAN, SAN, SBS, PSU, PES, PEEK, PP und/oder PET-G, Papier, Papierverbundmaterialien, Glasfaser, Kohlefaser, Metall, Metalllegierungen, Holz, Beton, Stein.
  • Vorzugsweise weist zumindest eine Oberflächenstruktur der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10 in dem Schritt a des Verfahrens eine Relieftiefe und/oder eine Reliefhöhe von kleiner oder gleich 1 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,75 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,5 mm, weiter bevorzugt aus einem Bereich von 0,02 mm bis 0,3 mm, auf und/oder ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, auf.
  • In der Figur 4 ist die Tiefe, insbesondere die maximale Tiefe, der Oberflächenstruktur 11 des Substrats 10 mit h1 bezeichnet. Die Tiefe h1 ist hierbei bevorzugt die Distanz zwischen der maximalen Erhebung und der minimalen Vertiefung der Oberflächenstruktur, vorzugsweise wobei die Distanz parallel zu einem Normalenvektor ausgerichtet ist, welcher insbesondere senkrecht auf der von dem Substrat 10 und/oder von den zwei größten Erstreckungen des Substrats 10 aufgespannten Ebene steht.
  • Es ist möglich, dass eine oder mehrere Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10 in dem Schritt a des Verfahrens als ein oder mehrere Oberflächenreliefs ausgeformt sind, insbesondere wobei ein oder mehrere Oberflächenreliefs der ein oder mehreren Oberflächenreliefs ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, aufweisen und/oder als Gravuren ausgebildet sind und/oder ein oder mehrere der folgenden Designelemente umfassen: Alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, Symbol, Mikroschrift, Bild, Foto, Logo, Portrait, Piktogramm, Muster, insbesondere Endlosmuster, und/oder Motiv.
  • Die Figur 5 zeigt das in der Figur 4 gezeigte Substrat 10, bis auf, dass die Oberfläche 10a des Substrats 10 vollflächig beziehungsweise in einem Bereich 200 eine Kleberschicht 20 aufweist, welche insbesondere in dem Schritt b des Verfahrens auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 appliziert wird. Weiter bevorzugt überlappen sich der erste Bereich 100 umfassend die Oberflächenstruktur 10a und der zweite Bereich 200 umfassend die Kleberschicht 20 vollständig. Insbesondere weist die Kleberschicht 20 eine weitgehend konstante Schichtdicke h2, insbesondere eine konstante Schichtdicke h2, über den gesamten Bereich 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 auf.
  • Insbesondere überlappen in dem Schritt b ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche 200 der Oberfläche 10a des Substrats 10, auf welche die zumindest eine Kleberschicht 20 appliziert wird und/oder welche die zumindest eine Kleberschicht 20 umfassen, ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 teilweise oder vollständig.
  • Bevorzugt überlappen in dem Schritt c ein oder mehrere dritte Bereiche der ein oder mehreren dritten Bereiche 300 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die zumindest eine Transferfolie 30 und/oder der von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht 20 umfassend die zumindest eine Transferfolie 30 ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 teilweise überlappen oder vollständig überlappen und/oder ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die zumindest eine Kleberschicht 20 teilweise oder vollständig.
  • Vorzugsweise wird die zumindest eine Kleberschicht 20 in dem Schritt b des Verfahrens mittels Inkjet-Druck, Tampondruck, insbesondere mit einer Tamponhärte zwischen 5 Shore A und 20 Shore A, Siebdruck, Flexodruck und/oder Digitaldruck auf die ein oder mehreren zweiten Bereiche 200 der Oberfläche 10a des Substrats 10 appliziert.
  • Insbesondere ist die zumindest eine Kleberschicht 20 in den Schritten b und c des Verfahrens als UV-Kleber ausgebildet, insbesondere wobei das Härten der zumindest einen Kleberschicht 20 durch Bestrahlen mit UV-Strahlung erfolgt, bevorzugt wobei die UV-Strahlung durch zumindest eine UV-Strahlungsquelle 51b erzeugt wird, weiter bevorzugt wobei die UV-Strahlung eine Wellenlänge oder ein Intensitätsmaximum in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt im Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, aufweist.
  • Insbesondere bevorzugt weist die zumindest eine Kleberschicht 20 beim Applizieren auf die ein oder mehreren zweiten Bereiche 200 der Oberfläche 10a des Substrats 10 in dem Schritt b des Verfahrens eine Viskosität auf, welche zwischen 200 mPa·s und 2000 mPa·s, insbesondere zwischen 500 mPa·s und 1500 mPa·s, bevorzugt zwischen 800 mPa·s und 1200 mPa·s, liegt.
  • Hierdurch wird insbesondere erreicht, dass die Kleberschicht beim Andrücken in dem Schritt c des Verfahrens derart verteilt wird, bevorzugt derart über die Erhöhungen und/oder die Vertiefungen der Oberflächenstruktur 10a verläuft und/oder verteilt wird, dass sich eine Kleberschicht 20 ausbildet, welche vorzugsweise eine konstante Schichtdicke aufweist. Vorteilhafterweise wird hierbei ermöglicht, dass die von dem Substrat 10 abgewandte Oberfläche der Kleberschicht 20 eine Oberflächenstruktur aufweist, deren Höhenprofil bevorzugt dem Höhenprofil der Oberflächenstruktur 11 der Oberfläche 10a des Substrats 10 entspricht oder diesem ähnlich ist.
  • Die Figur 6 zeigt das in der Figur 5 gezeigte Substrat 10 und die Kleberschicht 20, bis auf, dass auf die von dem Substrat 10 abgewandte Oberfläche der Kleberschicht 20 eine Transferfolie 30, insbesondere umfassend zumindest eine Dekorschicht und/oder zumindest eine Trägerlage, angedrückt wird. Das Andrücken der Transferfolie 30 erfolgt vorzugsweise in dem Schritt c des Verfahrens, insbesondere mittels einer Andrückeinrichtung 50a umfassend einen Andrückkörper 51a. Der Bereich 100 umfassend die Oberflächenstrukturen 11 in oder auf der Oberfläche 10a des in dem Schritte a des Verfahrens bereitgestellten Substrats 10, der Bereich 200 umfassend die in dem Schritt b des Verfahrens auf die Oberfläche 10a des Substrat 10 applizierte Kleberschicht 20 und ein Bereich 300, in welchem die Transferfolie 30 in dem Schritt c des Verfahrens bevorzugt auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 und/oder auf die von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der Kleberschicht 20 angedrückt wird, entsprechen insbesondere einander, bevorzugt wie in der Figur 6 gezeigt.
  • Bevorzugt weist der Andrückkörper 51a ein oder mehrere Andrückschichten 52a auf. Beim Andrücken der Transferfolie 30 auf das Substrat 10 und/oder die Kleberschicht 20, bevorzugt in einem Bereich 300, wird der Druck beziehungsweise die Kraft pro Fläche vorzugsweise über die ein oder mehreren Andrückschichten 52a des Andrückkörpers 51a vermittelt, insbesondere wobei die dem Substrat 10 und/oder der Kleberschicht 20 zugewandte Oberfläche oder Oberflächen der ein oder mehreren Andrückschichten 52a in unmittelbarem Kontakt mit der Transferfolie 30 stehen. Bevorzugt steht die Transferfolie 30, insbesondere die dem Substrat 10 zugewandte Oberfläche der Transferfolie 30, beim Andrücken in dem Schritt c des Verfahrens in unmittelbarem Kontakt mit der Kleberschicht 20, insbesondere mit der von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der Kleberschicht 20, und/oder dem Substrat 10, insbesondere der Oberfläche 10a des Substrats 10.
  • Die Schichtdicke der in der Figur 6 gezeigten Kleberschicht 20 variiert insbesondere entlang zumindest einer Richtung R3.
  • Insbesondere erfolgt das Andrücken in dem Schritt c des Verfahrens gleichzeitig mit dem Härten der Kleberschicht 20 durch Bestrahlung der Kleberschicht 20 mit UV-Strahlung, welche vorzugsweise durch ein oder mehrere Bestrahlungseinrichtungen 50b umfassend ein oder mehrere UV-Strahlungsquellen 51b.
  • Es ist möglich, dass das Andrücken der zumindest einen Transferfolie 30 in dem Schritt c über zumindest einen Andrückkörper 51a vermittelt wird, insbesondere wobei der zumindest eine Andrückkörper 51a ein oder mehrere flexible Andrückschichten 52a umfasst, bevorzugt wobei die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten 52a zumindest für ein oder mehrere Wellenlängen der UV-Strahlung und/oder in ein oder mehreren Wellenlängenbereichen der UV-Strahlung transluzent oder transparent ist, bevorzugt wobei die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten 52a zumindest teilweise zwischen der zumindest einen UV-Strahlungsquelle, welche die UV-Strahlung vorzugsweise emittiert, und dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 angeordnet sind.
  • Weiter ist es möglich, dass der zumindest eine Andrückkörper 51a zwei oder mehrere flexible Andrückschichten 52a umfasst, insbesondere wobei die zwei oder mehreren Andrückschichten derart in einer Abfolge, insbesondere als Mehrschichtgebilde, angeordnet oder ausgebildet sind, dass die Härtegrade der zwei oder mehreren Andrückschichten entlang eines von der Ebene des Substrats 10 und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 aufgespannten Normalenvektors, insbesondere ausgehend von der dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 nächsten Andrückschicht der zwei oder mehreren Andrückschichten, von Andrückschicht zu Andrückschicht variieren, insbesondere zunehmen.
  • Ferner ist es möglich, dass zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, insbesondere in einem Bereich von 380 nm bis 420 nm, transparent oder transluzent ist, bevorzugt eine Transmissivität in einem Bereich von 30% bis 100%, besonders bevorzugt in einem Bereich von 40% bis 100%, aufweist und/oder Schichtdicken in einem Bereich von 1 mm bis 20 mm, insbesondere von 2 mm bis 15 mm, bevorzugt von 3 mm bis 10 mm, aufweist und/oder Schichtdicken von kleiner oder gleich 0,75 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,5 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,25 mm, aufweist.
  • Insbesondere ist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a flach und/oder gekrümmt und/oder dreidimensional ausgeformt, insbesondere zumindest bereichsweise gewölbt und/oder gebogen ausgebildet und/oder weist zumindest teilweise eine strukturierte und/oder texturierte Oberfläche auf.
  • Es ist weiter möglich, dass zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a Silikon umfasst oder aus Silikon besteht, insbesondere wobei das Silikon eine Härte oder einen Härtegrad in einem Bereich von 5° Shore A bis 90° Shore A, insbesondere von 10° Shore A bis 75° Shore A, bevorzugt von 20° Shore A bis 50° Shore A, aufweist.
  • Insbesondere weist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a, insbesondere umfassend Silikon oder bestehend aus Silikon, eine dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 zugewandte Oberfläche auf, welche insbesondere flach und/oder bombiert ausgebildet ist.
  • Es ist möglich, dass zumindest eine dem Substrat 10 und/oder eine der zumindest einen Kleberschicht 20 zugewandte Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a in dem Schritt c des Verfahrens zumindest bereichsweise ein Höhenprofil aufweist, welches einem Höhenprofil zumindest einer Oberflächenstruktur der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 entspricht oder folgt, insbesondere wobei das Höhenprofil in eine oder mehreren Richtungen variiert.
  • Insbesondere weist zumindest eine dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 zugewandte Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a in dem Schritt c des Verfahrens ein zumindest bereichsweise ebenes oder strukturiertes Höhenprofil auf, insbesondere wobei sich das zumindest bereichsweise ebene oder strukturierte Höhenprofil beim Andrücken in dem Schritt c einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen 11 der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in oder auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 derart angleicht oder anpasst, dass die zumindest eine Kleberschicht 20 nach dem Andrücken in dem Schritt c und/oder nach dem Härten in dem Schritt c eine konstante Schichtdicke aufweist, bevorzugt wobei das zumindest bereichsweise ebene oder strukturierte Höhenprofil der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in oder auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 in ein oder mehreren Richtungen variiert.
  • Die Figur 7 zeigt das in der Figur 6 gezeigte Substrat 10, die Kleberschicht 20 und die Transferfolie 30 nach dem Andrücken und dem Härten beziehungsweise nach dem Schritt c des Verfahrens, insbesondere wobei das Substrat 10, die Kleberschicht 20 und die Transferfolie 30 einen Körper ausbilden. Die Kleberschicht 20 wird in dem Schritt c des Verfahrens insbesondere bei dem Andrücken der Transferfolie 30 auf das Substrat 10 und/oder die Kleberschicht 20 teilweise oder vollständig gehärtet, bevorzugt zeitgleich und/oder mittels UV-Strahlung gehärtet. Bevorzugt weist die Kleberschicht 20 eine konstante Schichtdicke h2 über die gesamte Oberfläche 10a des Substrats 10 auf, so dass die Oberflächenstruktur in der von dem Substrat abgewandten Oberfläche der Transferfolie 30 der Oberflächenstruktur 11 in der Oberfläche 10a des Substrats 10 auf Grund der konstanten Schichtdicke h2 der Kleberschicht 20 bevorzugt entspricht.
  • Weiter zeigt die Figur 7, dass der Bereich 100 umfassend die Oberflächenstrukturen 11 in oder auf der Oberfläche 10a des in dem Schritt a des Verfahrens bereitgestellten Substrats 10, der Bereich 200 umfassend die in dem Schritt b des Verfahrens auf die Oberfläche 10a des Substrat 10 applizierte Kleberschicht 20 und ein Bereich 300, in welchem die Transferfolie 30 in dem Schritt c des Verfahrens bevorzugt auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 und/oder auf die von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der Kleberschicht 20 angedrückt und gehärtet wird, insbesondere einander entsprechen.
  • Die Schichtdicke der in der Figur 7 gezeigten Kleberschicht 20 variiert insbesondere entlang zumindest einer Richtung R4.
  • Bevorzugt erstreckt sich die Schichtdicke h2, wie beispielsweise in der Figur 5 gezeigt, vorzugsweise nach dem Schritt b des Verfahrens und/oder nach dem Schritt c des Verfahrens, insbesondere bevorzugt nach dem zumindest teilweisen und/oder bereichsweisen Härten, der zumindest einen Kleberschicht 20 an zumindest einem Punkt der Oberfläche 10a des Substrats 10 entlang der Richtung eines Normalenvektors an diesem Punkt erstreckt und/oder bevorzugt wobei sich die Schichtdicke h2 an zumindest einem Punkt der Oberfläche 10a des Substrats 10 entlang einer Richtung eines Krümmungsvektors an diesem Punkt.
  • Vorzugsweise weist die zumindest eine Kleberschicht 20, vorzugsweise nach dem Schritt b des Verfahrens und/oder nach dem Schritt c des Verfahrens, eine Schichtdicke h2 zwischen 3 µm und 30 µm, insbesondere zwischen 2 µm und 20 µm, bevorzugt zwischen 1 µm und 10 µm, auf.
  • Es ist möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht 20, welche in dem Schritt b des Verfahrens auf die ein oder mehreren zweiten Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10 appliziert wird, vorzugsweise nach dem Schritt b des Verfahrens und/oder nach dem Schritt c des Verfahrens, eine konstante Schichtdicke h2 oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke h2 aufweist, insbesondere in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 eine konstante Schichtdicke h2 oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke h2 aufweist, bevorzugt bei teilweiser oder vollständiger Überlappung ein oder mehrerer zweiter Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche 200 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die zumindest eine Kleberschicht 20 mit ein oder mehreren ersten Bereichen der ein oder mehreren ersten Bereiche 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 eine konstante Schichtdicke h2 oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke h2 aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht, welche in dem Schritt b des Verfahrens auf die ein oder mehreren zweiten Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10 appliziert wird, vorzugsweise nach dem Schritt b des Verfahrens und/oder nach dem Schritt c des Verfahrens, in einer ersten Gruppe von ein oder mehreren ersten und/oder zweiten Bereichen der ein oder mehreren ersten beziehungsweise zweiten Bereiche 100, 200 eine erste Schichtdicke aufweist und in einer zweiten Gruppe von ein oder mehreren ersten und/oder zweiten Bereichen der ein oder mehreren ersten beziehungsweise zweiten Bereiche 100, 200 eine zweite Schichtdicke aufweist, insbesondere wobei sich die erste Schichtdicke und die zweite Schichtdicke voneinander unterscheiden, bevorzugt wobei die erste Schichtdicke und/oder die zweite Schichtdicke jeweils konstant ist und/oder sich die erste und die zweite Schichtdicke um weniger als 10%, insbesondere um weniger als 20%, voneinander unterscheiden.
  • Es ist möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht 20 in dem Schritt c des Verfahrens zumindest teilweise gehärtet wird, insbesondere wobei die zumindest eine Trägerlage 32 der zumindest einen Transferfolie 30 nach dem zumindest teilweisen Härten der zumindest einen Kleberschicht 20 abgezogen wird und das Substrat 10 und/oder die zumindest eine Kleberschicht 20 anschließend, insbesondere in einem weiteren Schritt, einfach oder mehrfach wiederholt gehärtet, insbesondere mit UV-Strahlung bestrahlt, wird.
  • Ein teilweises Härten der Kleberschicht 20 kann insofern vorteilhaft sein, als dass eine teilweise gehärtete Kleberschicht 20 in ein oder mehreren weiteren Schritten und/oder Zwischenschritten verformt und/oder umgeformt werden kann.
  • Weiter ist es möglich, dass in dem Schritt c des Verfahrens die zumindest eine Transferfolie 30 umfassend zumindest eine Dekorschicht 31 und zumindest eine Trägerlage 32 oder dass die zumindest eine Dekorschicht 31 für UV-Strahlung im Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt in einem Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, eine Transmissivität in einem Bereich von 5% bis 95%, insbesondere in einem Wellenlängenbereich von 10% bis 70%, bevorzugt in einem Bereich von 20% bis 40%, aufweist, insbesondere wobei die UV-Strahlung von der zumindest einen UV-Strahlungsquelle 51b bereitgestellt wird.
  • Ferner ist es möglich, dass in dem Schritt c des Verfahrens zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht 31 der zumindest einen Transferfolie 30 zumindest bereichsweise zumindest eine metallische Schicht, zumindest eine dielektrische Schicht und/oder zumindest eine Farbschicht, insbesondere zumindest eine transparente, transluzente oder opake Farbschicht, aufweist.
  • Insbesondere wird in dem Schritt c des Verfahrens zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht 31 der zumindest einen Transferfolie 30 von einer Replizierlackschicht mit einem in die Replizierlackschicht abgeformten Oberflächenrelief gebildet, insbesondere wobei das in die Replizierlackschicht abgeformte Oberflächenrelief zumindest bereichsweise von einer optisch aktiven Oberflächenstruktur gebildet wird, ausgewählt aus: Diffraktive Oberflächenstruktur, insbesondere Hologramm, Beugungsstrukturen Nullter Ordnung, Mattstruktur, insbesondere isotrope oder anisotrope Mattstruktur, Blaze-Gitter, Linsenstruktur, Mikrolinsenstruktur, Mikroprismenstruktur, Mikrospiegelstruktur, und/oder einer Kombination zwei oder mehrerer dieser optisch aktiven Oberflächenstrukturen.
  • Weiter bevorzugt wird zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht 31 der zumindest einen Transferfolie 30 in dem Schritt c des Verfahrens mit einer Registergenauigkeit von ±1 mm, insbesondere von ±0,5 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich +0,3 mm und/oder größer oder gleich -0,3 mm, auf das Substrat und/oder auf die zumindest eine Kleberschicht 20 beim Andrücken der zumindest einen Transferfolie 30 aufgebracht, vorzugsweise auf ein oder mehrere erste Bereiche 100 der ein oder mehreren ersten Bereiche 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 und/oder auf ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche 200 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die zumindest eine Kleberschicht 20 aufgebracht.
  • Die Figur 4a zeigt das in der Figur 4 gezeigte Substrat 10, welches eine Oberflächenstruktur 11 aufweist, wobei das Substrat 10 insbesondere in dem Schritt a des Verfahrens bereitgestellt wird. Insbesondere weist die Oberfläche 10a des Substrats 10 vollflächig die Oberflächenstruktur 11 auf, bevorzugt wobei das Höhenprofil und/oder das Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis der Oberflächenstruktur 10a pseudo-zufällig oder zufällig über die Oberfläche 10a variiert.
  • Die Figur 5a zeigt das in der Figur 4a gezeigte Substrat 10, wobei die Oberfläche 10a des Substrats 10 vollflächig eine Kleberschicht 20 aufweist, welche insbesondere in dem Schritt b des Verfahrens auf die Oberfläche 10a des Substrats 10, insbesondere in einem oder mehreren Durchgängen, appliziert wird. Weiter bevorzugt überlappen sich die Oberflächenstruktur 10a des Substrats 10 und die Kleberschicht 20 vollständig. Insbesondere weist die Kleberschicht 20 eine variierende Schichtdicke h2 über die gesamte Oberfläche 10a des Substrats 10 auf.
  • Die Figur 6a zeigt das in der Figur 5a gezeigte Substrat 10 und die Kleberschicht 20, wobei auf die von dem Substrat 10 abgewandte Oberfläche der Kleberschicht 20 eine Transferfolie 30, insbesondere umfassend zumindest eine Dekorschicht und/oder zumindest eine Trägerlage, angedrückt wird. Das Andrücken der Transferfolie 30 erfolgt vorzugsweise in dem Schritt c des Verfahrens, insbesondere mittels einer Andrückeinrichtung 50a umfassend einen Andrückkörper 51a, insbesondere wobei der Andrückkörper 51a ein oder mehrere flexible Andrückschichten 52a aufweist. Vorzugsweise weist die Kleberschicht 20 eine variierende Schichtdicke h2 über die gesamte Oberfläche 10a des Substrats 10 auf.
  • Die Figur 7a zeigt das in der Figur 6a gezeigte Substrat 10, die Kleberschicht 20 und die Transferfolie 30 nach dem Andrücken und dem Härten beziehungsweise nach dem Schritt c des Verfahrens, insbesondere wobei das Substrat 10, die Kleberschicht 20 und die Transferfolie 30 einen Körper ausbilden. Die Kleberschicht 20 wird in dem Schritt c des Verfahrens insbesondere bei dem Andrücken der Transferfolie 30 auf das Substrat 10 und/oder die Kleberschicht 20 teilweise oder vollständig gehärtet, bevorzugt zeitgleich und/oder mittels UV-Strahlung gehärtet. Bevorzugt weist die Kleberschicht 20 eine variierende Schichtdicke h2 über die gesamte Oberfläche 10a des Substrats 10 auf, so dass die Oberflächenstruktur in der von dem Substrat abgewandten Oberfläche der Transferfolie 30 der Oberflächenstruktur 11 in der Oberfläche 10a des Substrats 10 bevorzugt ähnlich ist, diesem insbesondere auf Grund der variierenden Schichtdicke h2 der Kleberschicht 20 jedoch nicht entspricht.
  • Die Figur 8 zeigt eine zweite Arbeitsstation 5 einer Vorrichtung umfassend eine Andrückeinrichtung 50a und eine Bestrahlungseinrichtung 50b. Die Andrückeinrichtung 50a ist insbesondere parallel zu einer Richtung R5 beweglich angeordnet und/oder beweglich gelagert.
  • Weiter weist die in der Figur 8 gezeigte Andrückeinrichtung 50a einen Andrückkörper 51a auf, insbesondere wobei der Andrückkörper 51a eine Andrückschicht 52a und eine UV-transparente oder UV-transluzente Schutzschicht 53a umfasst, insbesondere wobei es sich bei der Schutzschicht 53a um eine Glasschicht handelt.
  • Ferner weist die in der Figur 8 gezeigte Bestrahlungseinrichtung 50b eine UV-Strahlungsquelle 51b auf und eine Stromversorgung S auf, welche vorzugsweise UV-Strahlung aus ein oder mehreren Wellenlängenbereichen und/oder Energiebereichen des ultravioletten und/oder elektromagnetischen Spektrums emittiert und/oder abstrahlt und/oder erzeugt.
  • Die Andrückeinrichtung 50a und/oder die Bestrahlungseinrichtung 50b und/oder die zweite Arbeitsstation 5 sind parallel zu einer in der Figur 8 gezeigten Richtung R5 bewegbar und/oder verfahrbar.
  • Weiter zeigt die Figur 8 einen Mehrschichtkörper, welcher ausgehend von der Andrückschicht 52a die folgende Abfolge von Schichten aufweist: Transferfolie 30, insbesondere umfassend zumindest eine Dekorfolie und/oder zumindest eine Trägerlage, eine Kleberschicht 20, welche insbesondere in drei Bereichen 200 ausgebildet ist, ein Substrat 10, wobei das in der Figur 8 gezeigte Substrat 10 insbesondere keine Oberflächenstrukturen aufweist.
  • In dem Schritt c des vorstehenden Verfahrens wird in der in der Figur 8 gezeigten zweiten Arbeitsstation 5 die Transferfolie 30 vorzugsweise von der Andrückeinrichtung 50a mittels des Andrückkörpers 51a umfassend die Andrückschicht 52a an das Substrat 10 und/oder die, insbesondere in den Bereichen 200 vorliegende, Kleberschicht 20 gedrückt, vorzugsweise wobei die, insbesondere in den Bereichen 200 vorliegende, Kleberschicht 20 von UV-Strahlung aus der in der Bestrahlungseinrichtung 50b umfassten UV-Strahlungsquelle 51b bestrahlt wird, wodurch die Kleberschicht 20 insbesondere zumindest bereichsweise und/oder zumindest teilweise aushärtet. Insbesondere ist die flexible Andrückschicht 52a, der Andrückkörper 51a, die Transferfolie 30 und/oder die Kleberschicht 20 hierbei für UV-Strahlung, vorzugsweise für von der UV-Strahlungsquelle 51b emittierte UV-Strahlung, zumindest bereichsweise, bevorzugt teilweise oder vollständig, durchlässig.
  • Die Vorrichtung, welche insbesondere die in der Figur 8 gezeigte zweite Arbeitsstation 5 umfasst, ist bevorzugt zum dekorierenden Kaltprägen und/oder bevorzugt zur Herstellung eines Körpers und/oder bevorzugt zur Durchführung des vorstehenden Verfahrens geeignet, bevorzugt wobei die Vorrichtung eine erste Arbeitsstation 4 umfassend eine Druckeinrichtung 40 zu einem zumindest bereichsweisen Applizieren zumindest einer Kleberschicht 20 auf eine Oberfläche 10a des Substrats 10 aufweist, wobei die Oberfläche 10a des Substrats 10 zumindest bereichsweise ein oder mehrere Oberflächenstrukturen 11 aufweist, und wobei die Vorrichtung eine zweite Arbeitsstation 5 umfassend eine Andrückeinrichtung 50a zum zumindest bereichsweisen Andrücken zumindest einer Transferfolie 30 umfassend zumindest eine Dekorschicht 31 und zumindest eine Trägerlage 32 auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 und/oder einer von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht 20 aufweist und eine Bestrahlungseinrichtung 50b zum zumindest bereichsweisen und/oder zumindest teilweisen Härten der zumindest einen Kleberschicht aufweist, wobei die zweite Arbeitsstation 5 derart ausgebildet ist, dass das zumindest bereichsweise Andrücken der zumindest einen Transferfolie 30 und das zumindest bereichsweise Härten der zumindest einen Kleberschicht 20 gleichzeitig erfolgt.
  • Die Figur 9 zeigt eine zweite Arbeitsstation 5 einer Vorrichtung, insbesondere der vorstehenden Vorrichtung, insbesondere wobei die zweite Arbeitsstation 5 eine Andrückeinrichtung 50a und eine Bestrahlungseinrichtung 51a umfasst. Der Ausschnitt A2 der Figur 9 ist hierbei eine vergrößerte Darstellung des Ausschnitts A1 der Figur 9.
  • Weiter umfasst die in der Figur 9 gezeigte Andrückeinrichtung 50a einen Andrückkörper 51a, bevorzugt wobei der Andrückkörper 51a ein oder mehrere flexible Andrückschichten 52a aufweist.
  • Ferner umfasst die in der Figur 9 gezeigte Bestrahlungseinrichtung 50b eine UV-Strahlungsquelle 51b, insbesondere wobei die UV-Strahlungsquelle 51b UV-Strahlung 52b erzeugt und/oder generiert und in Richtung der Kleberschicht 20 abstrahlt und/oder emittiert.
  • Das in der Figur 9 gezeigte Substrat 10 weist in einem Bereich 100 in oder auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 Oberflächenstrukturen 11 auf. Die in der Figur 9 gezeigte Kleberschicht 20 ist in einem Bereich 200 auf die Oberfläche 10a des in der Figur 9 gezeigten Substrats aufgelegt und/oder aufgebracht und/oder appliziert. Weiter ist die in der Figur 9 gezeigte Transferfolie 30 in einem Bereich 300, welcher insbesondere dem Bereich 200 entspricht, auf die von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der Kleberschicht 20 aufgelegt und/oder aufgebracht und/oder appliziert.
  • In dem Schritt c des vorstehenden Verfahrens wird in der in der Figur 9 gezeigten zweiten Arbeitsstation 5 die Transferfolie 30 vorzugsweise von der Andrückeinrichtung 50a mittels des Andrückkörpers 51a umfassend die flexiblen Andrückschichten 52a an das Substrat 10 und/oder die, insbesondere in dem Bereich 200 vorliegende, Kleberschicht 20 gedrückt, vorzugsweise wobei die Kleberschicht 20 von UV-Strahlung aus der in der Bestrahlungseinrichtung 50b umfassten UV-Strahlungsquelle 51b bestrahlt wird, wodurch die Kleberschicht 20 insbesondere zumindest bereichsweise und/oder zumindest teilweise und/oder in dem Bereich 100 aushärtet. Insbesondere sind die flexiblen Andrückschichten 52a, der Andrückkörper 51a, die Transferfolie 30 und/oder die Kleberschicht 20 hierbei für UV-Strahlung, vorzugsweise für von der UV-Strahlungsquelle 51b emittierte UV-Strahlung, zumindest bereichsweise, bevorzugt teilweise oder vollständig, durchlässig.
  • Es ist möglich, dass das Substrat 10 hierbei als dreidimensionaler Gegenstand und/oder Folie ausgebildet ist und/oder eine bahn- oder bandförmige Formgebung aufweist, insbesondere wobei eine erste räumliche Ausdehnung des Substrats 10 parallel zu einer ersten Richtung R1 bei einer Ausbildung als Folie und/oder einer bahn- oder bandförmigen Formgebung größer ist als eine zweite räumliche Ausdehnung des Substrats 10 parallel zu einer zweiten Richtung R2, bevorzugt wobei die erste Richtung R1 insbesondere senkrecht zu der zweiten Richtung R2 angeordnet ist.
  • Weiter ist es möglich, dass hierbei ein oder mehrere erste Bereiche 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 umfassen und ein oder mehrere zweite Bereiche der Oberfläche 10a des Substrats 10 die zumindest eine Kleberschicht 20 umfassen, wobei ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche 100 insbesondere ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche 200 teilweise überlappen oder vollständig überlappen.
  • Ferner ist es möglich, dass hierbei ein oder mehrere dritte Bereiche 300 der Oberfläche 10a des Substrats 10 und/oder der von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht 20 die zumindest eine Transferfolie 30 aufweisen, wobei ein oder mehrere dritte Bereiche der ein oder mehreren dritten Bereiche 300 insbesondere ein oder mehrere erste Bereiche der ein oder mehreren ersten Bereiche 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 teilweise überlappen oder vollständig überlappen und/oder ein oder mehrere zweite Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche 200 der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die zumindest eine Kleberschicht 20 teilweise überlappen und/oder vollständig überlappen.
  • Insbesondere weist hierbei zumindest eine Oberflächenstruktur der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in den ein oder mehreren ersten Bereichen 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 eine Relieftiefe und/oder eine Reliefhöhe von kleiner oder gleich 1 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,75 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,5 mm, weiter bevorzugt aus einem Bereich von 0,02 mm bis 0,3 mm, auf und/oder ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, auf.
  • Vorzugsweise ist zumindest eine Oberflächenstruktur der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in den ein oder mehreren ersten Bereichen 100 der Oberfläche 10a des Substrats 10 als ein oder mehrere Oberflächenreliefs ausgeformt, insbesondere wobei ein oder mehrere Oberflächenreliefs der ein oder mehreren Oberflächenreliefs ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, aufweisen und/oder als Gravuren ausgebildet sind und/oder ein oder mehrere der folgenden Designelemente umfassen: Alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, Symbol, Mikroschrift, Bild, Foto, Logo, Portrait, Piktogramm, Muster, insbesondere Endlosmuster, und/oder Motiv.
  • Es ist möglich, dass die erste Arbeitsstation 4 ein oder mehrere weitere Druckeinrichtungen, insbesondere zum zumindest bereichsweisen Applizieren von ein oder mehreren weiteren Kleberschichten auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 und/oder auf zumindest eine von dem Substrat 10 abgewandte Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht 20, aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass die von der Druckeinrichtung 40 und/oder den weiteren Druckeinrichtungen zumindest bereichsweise auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 applizierte, zumindest eine Kleberschicht 20 eine Viskosität zwischen 200 mPa·s und 2000 mPa·s, insbesondere zwischen 500 mPa·s und 1500 mPa·s, bevorzugt zwischen 800 mPa·s und 1200 mPa·s, aufweist.
  • Ferner ist es möglich, dass die zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten derart zumindest bereichsweise von der Druckeinrichtung 40 und/oder den weiteren Druckeinrichtungen auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 appliziert wird, dass die zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten, insbesondere jeweils, eine konstante Schichtdicke oder ein um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, insbesondere bei teilweiser oder vollständiger Überlappung ein oder mehrerer Bereiche der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten mit ein oder mehreren Bereichen der Oberfläche 10a des Substrats 10 umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11, insbesondere jeweils, eine konstante Schichtdicke oder ein um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, bevorzugt wobei die zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten, insbesondere jeweils, eine Schichtdicke zwischen 3 µm und 30 µm, insbesondere zwischen 2 µm und 20 µm, bevorzugt zwischen 1 µm und 10 µm, aufweist.
  • Bevorzugt wird die zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten derart zumindest bereichsweise von der Druckeinrichtung 40 und/oder den weiteren Druckeinrichtungen auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 appliziert, dass die zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten in oder auf ein oder mehreren Bereiche der Oberfläche 10a des Substrats 10 in einer ersten Gruppe von ein oder mehreren Bereichen der ein oder mehreren Bereiche eine erste Schichtdicke aufweist und in einer zweiten Gruppe von ein oder mehreren Bereichen der ein oder mehreren Bereiche eine zweite Schichtdicke aufweist, insbesondere wobei sich die erste Schichtdicke und die zweite Schichtdicke voneinander unterscheiden, bevorzugt wobei die erste Schichtdicke und/oder die zweite Schichtdicke jeweils konstant ist und/oder sich die erste und die zweite Schichtdicke um weniger als 10%, insbesondere um weniger als 20%, voneinander unterscheiden, bevorzugt wobei die erste Schichtdicke und/oder die zweite Schichtdicke aus einem Bereich von 3 µm bis 30 µm, insbesondere von 2 µm bis 20 µm, bevorzugt von 1 µm bis 10 µm, ausgewählt ist.
  • Vorzugsweise ist die von der Druckeinrichtung 40 und/oder den weiteren Druckeinrichtungen zumindest bereichsweise auf die Oberfläche 10a des Substrats 10 applizierte, zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die eine oder mehreren weiteren Kleberschichten als UV-Kleber ausgebildet.
  • Es ist möglich, dass die zweite Arbeitsstation 5 ein oder mehrere weitere Andrückeinrichtungen, insbesondere zum zumindest bereichsweisen Andrücken der zumindest einen Transferfolie 30 und/oder von ein oder mehreren weiteren Transferfolien auf der vom Substrat 10 abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht 20 und/oder der Oberfläche 10a des Substrats 10, aufweist, und/oder dass die zweite Arbeitsstation 5 ein oder mehrere weitere Bestrahlungseinrichtungen, insbesondere zum zumindest bereichsweisen Bestrahlen der zumindest einen zumindest bereichsweise auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 applizierten Kleberschicht 20 und/oder von ein oder mehreren weiteren zumindest bereichsweise auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 applizierten Kleberschichten 20 und/oder auf zumindest eine weitere Oberfläche der zumindest einen zumindest bereichsweise auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 applizierten Kleberschicht 20, aufweist.
  • Weiter ist es möglich, dass die Andrückeinrichtung 50a und/oder die ein oder mehreren weiteren Andrückeinrichtungen, insbesondere jeweils, zumindest einen Andrückkörper 51a aufweisen, insbesondere wobei der zumindest eine Andrückkörper 51a ein oder mehrere flexible Andrückschichten 52a umfasst, bevorzugt wobei die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten 52a zumindest für ein oder mehrere Wellenlängen der UV-Strahlung und/oder in ein oder mehreren Wellenlängenbereichen der UV-Strahlung transluzent oder transparent sind.
  • Ferner ist es möglich, dass der zumindest eine Andrückkörper 51a zwei oder mehrere flexible Andrückschichten 52a umfasst, insbesondere wobei die zwei oder mehreren flexiblen Andrückschichten 52a derart in einer Abfolge, insbesondere als Mehrschichtgebilde, angeordnet oder ausgebildet sind, dass die Härtegrade oder Härten der zwei oder mehreren flexiblen Andrückschichten 52a entlang eines von der Ebene des Substrats 10 und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 aufgespannten Normalenvektors ausgehend von einer dem Substrat 10 und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 nächsten Andrückschicht der zwei oder mehreren Andrückschichten 52a von Andrückschicht zu Andrückschicht variieren, insbesondere zunehmen.
  • Insbesondere ist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, insbesondere in einem Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, transparent oder transluzent, weist bevorzugt eine Transmissivität in einem Bereich von 30% bis 100%, besonders bevorzugt in einem Bereich von 40% bis 100%, auf und/oder weist eine Schichtdicke in einem Bereich von 1 mm bis 20 mm, insbesondere von 2 mm bis 15 mm, bevorzugt von 3 mm bis 10 mm, auf und/oder weist eine Schichtdicke von kleiner oder gleich 0,75 mm, insbesondere von kleiner oder gleich 0,5 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,25 mm, auf.
  • Bevorzugt ist zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a flach, gekrümmt und/oder dreidimensional ausgeformt, insbesondere zumindest bereichsweise gewölbt und/oder gebogen ausgebildet, und/oder weist zumindest teilweise eine strukturierte und/oder texturierte Oberfläche auf.
  • Weiter bevorzugt umfasst zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a Silikon oder besteht aus Silikon, insbesondere wobei das Silikon eine Härte oder einen Härtegrad in einem Bereich von 5° Shore A bis 90° Shore A, insbesondere von 10° Shore A bis 75° Shore A, bevorzugt von 20° Shore A bis 50° Shore A, aufweist.
  • Es ist möglich, dass zumindest eine flexible Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a, insbesondere umfassend Silikon oder bestehend aus Silikon, eine dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 zugewandte Oberfläche aufweist, welche insbesondere flach und/oder bombiert ausgebildet sind.
  • Weiter ist es möglich, dass zumindest eine Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a zumindest bereichsweise ein Höhenprofil aufweist, welches beim zumindest bereichsweisen Andrücken derart deformiert wird, dass dieses Höhenprofil einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in oder auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 entspricht oder folgt, insbesondere wobei die Höhenprofile in eine oder mehreren Richtungen variieren.
  • Ferner ist es möglich, dass zumindest eine Oberfläche zumindest einer flexiblen Andrückschicht der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a zumindest bereichsweise ein Höhenprofil, insbesondere ein bereichsweise strukturiertes oder ebenes Höhenprofil, aufweist, welches beim zumindest bereichsweisen Andrücken derart deformiert wird, dass sich dieses Höhenprofil beim zumindest bereichsweisen Andrücken einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in oder auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 angleicht oder anpasst und/oder dass die zumindest eine Kleberschicht 20 und/oder die ein oder mehreren weiteren Kleberschichten bei der Bestrahlung eine konstante Schichtdicke aufweist, bevorzugt wobei das Höhenprofil der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen 11 in ein oder mehreren Richtungen variiert.
  • Insbesondere sind die ein oder zwei oder mehreren flexiblen Andrückschichten 52a des zumindest einen Andrückkörpers 51a zumindest teilweise zwischen der zumindest einen UV-Strahlungsquelle 51b und dem Substrat 10 und/oder der zumindest einen Kleberschicht 20 und/oder den ein oder mehreren weiteren Kleberschichten angeordnet.
  • Es ist möglich, das das Härten der zumindest einen Kleberschicht 20 durch Bestrahlen mit UV-Strahlung in der oder durch die Bestrahlungseinrichtung 50b und/oder in den oder durch die ein oder mehreren weiteren Bestrahlungseinrichtungen erfolgt, bevorzugt wobei die UV-Strahlung durch zumindest eine UV-Strahlungsquelle 51b erzeugt und/oder emittiert wird, weiter bevorzugt wobei die UV-Strahlung eine Wellenlänge oder ein Intensitätsmaximum in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt in einem Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, aufweist.
  • Vorzugsweise weist die zumindest eine Transferfolie 30 umfassend die zumindest eine Dekorschicht 31 und die zumindest eine Trägerlage 32 oder dass die zumindest eine Dekorschicht 31 für UV-Strahlung im Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt im Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, eine Transmissivität in einem Bereich von 5% bis 95%, insbesondere in einem Bereich von 10% bis 70%, bevorzugt in einem Bereich von 20% bis 40%, auf, insbesondere wobei die UV-Strahlung von der zumindest einen UV-Strahlungsquelle 51b bereitgestellt wird.
  • Ferner ist es möglich, dass zumindest eine Dekorschicht der zumindest einen Dekorschicht 31 der zumindest einen Transferfolie 30 zumindest bereichsweise zumindest eine metallische Schicht, zumindest eine dielektrische Schicht und/oder zumindest eine Farbschicht, insbesondere zumindest eine transparente, transluzente oder opake Farbschicht, aufweist.
  • Die Figur 10 zeigt eine zweite Arbeitsstation 5 einer Vorrichtung, insbesondere der vorstehenden Vorrichtung, insbesondere wobei die zweite Arbeitsstation 5 eine Andrückeinrichtung 50a und eine Bestrahlungseinrichtung 51a umfasst.
  • Weiter umfasst die in der Figur 10 gezeigte Andrückeinrichtung 50a einen Andrückkörper 51a, bevorzugt wobei der Andrückkörper 51a ein oder mehrere flexible Andrückschichten 52a aufweist.
  • Ferner umfasst die in der Figur 10 gezeigte Bestrahlungseinrichtung 50b eine UV-Strahlungsquelle 51b, insbesondere wobei die UV-Strahlungsquelle 51b UV-Strahlung erzeugt und/oder generiert und in Richtung der Kleberschicht 20 abstrahlt und/oder emittiert.
  • Das in der Figur 10 gezeigte Substrat 10 weist in zwei Bereichen 100 in oder auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 Oberflächenstrukturen 11 auf und weist in drei Bereichen 101 in oder auf der Oberfläche 10a des Substrats 10 keine Oberflächenstrukturen auf. Die in der Figur 10 gezeigte Kleberschicht 20 ist in einem Bereich 200 vollflächig auf die Oberfläche 10a des in der Figur 10 gezeigten Substrats 10 aufgelegt und/oder aufgebracht und/oder appliziert. Weiter ist die in der Figur 10 gezeigte Transferfolie 30 in einem Bereich 300, welcher insbesondere die zwei Bereiche 100 und zumindest teilweise die drei Bereiche 101 überlappt, auf die von dem Substrat 10 abgewandten Oberfläche der Kleberschicht 20 aufgelegt und/oder aufgebracht und/oder appliziert. Der in der Figur 10 gezeigte Bereich 200 überlappt den in der Figur 10 gezeigten Bereich 300 vollständig.
  • In dem Schritt c des vorstehenden Verfahrens wird in der in der Figur 10 gezeigten zweiten Arbeitsstation 5 die Transferfolie 30 vorzugsweise von der Andrückeinrichtung 50a mittels des Andrückkörpers 51a umfassend die flexiblen Andrückschichten 52a an das Substrat 10 und/oder die, insbesondere in dem Bereich 300 vorliegende, Kleberschicht 20 gedrückt, vorzugsweise wobei die Kleberschicht 20 von UV-Strahlung aus der in der Bestrahlungseinrichtung 50b umfassten UV-Strahlungsquelle 51b bestrahlt wird, wodurch die Kleberschicht 20 insbesondere zumindest bereichsweise und/oder zumindest teilweise und/oder in dem Bereich 300 aushärtet. Insbesondere sind die flexiblen Andrückschichten 52a, der Andrückkörper 51a, die Transferfolie 30 und/oder die Kleberschicht 20 hierbei für UV-Strahlung, vorzugsweise für von der UV-Strahlungsquelle 51b emittierte UV-Strahlung, zumindest bereichsweise, bevorzugt teilweise oder vollständig, durchlässig.
  • Figur 11 zeigt einen Körper 1 umfassend zumindest ein Substrat, zumindest eine Kleberschicht und zumindest eine Transferfolie, bevorzugt umfassend zumindest eine Dekorschicht, und/oder zumindest eine Dekorschicht. Vorzugsweise weist der Körper 1 die zumindest eine Trägerlage nicht mehr auf, da diese insbesondere nach dem Schritt c des Verfahrens, bevorzugt zur Herstellung eines solchen Körpers 1, entfernt und/oder abgezogen wird.
  • Weiter weist der in der Figur 11 gezeigte Körper 1 insbesondere in zwei Bereichen 100 eine Oberflächenstruktur 11 auf und in drei Bereichen 101 weist der Körper 1 keine Oberflächenstruktur 11 auf. Vorzugsweise weist der in der Figur 11 gezeigte Körper 1 in dem Bereich 200 zumindest eine Kleberschicht der zumindest einen Kleberschicht auf, bevorzugt wobei diese zumindest eine Kleberschicht zwischen dem zumindest einen Substrat und der zumindest eine Dekorschicht, und/oder der zumindest einen Dekorschicht angeordnet ist. Ferner weist der in der Figur 11 gezeigte Körper 1 in einem Bereich 300 vorzugsweise die zumindest eine Dekorschicht auf. Insbesondere entspricht der Bereich 200 dem Bereich 300 in der Figur 11, bevorzugt wobei die Bereiche 200 und 300 jeweils den Bereichen 100 und 101 in der Figur 11 entsprechen.
  • Der Körper 1 wird insbesondere nach dem vorstehenden Verfahren hergestellt und/oder bevorzugt durch eine der vorstehenden Vorrichtungen hergestellt, wobei der Körper 1 vorzugsweise als Mehrschichtkörper 1a ausgebildet ist, insbesondere wobei der Mehrschichtkörper 1a eine Abfolge von Schichten, bevorzugt in der folgenden Reihenfolge, aufweist: Substrat, insbesondere wobei eine Oberfläche 10a des Substrats 10 zumindest bereichsweise ein oder mehrere Oberflächenstrukturen 11 aufweist, zumindest eine Kleberschicht 20, insbesondere wobei die Kleberschicht 20 zumindest bereichsweise und/oder zumindest teilweise gehärtet ist, zumindest eine Dekorschicht, bevorzugt wobei das Substrat 10 als ein dreidimensionaler Gegenstand und/oder als Folie ausgebildet ist und/oder eine bahn- oder bandförmige Formgebung aufweist.
  • Bezugszeichenliste:
  • 1
    Körper
    1a
    Mehrschichtkörper
    10
    Substrat
    10a
    Oberfläche des Substrats
    10b
    Oberfläche des Substrats
    11
    Oberflächenstruktur oder Oberflächenstrukturen
    20
    Kleberschicht
    30
    Transferfolie
    31
    Dekorschicht
    32
    Trägerlage
    4
    Erste Arbeitsstation
    40
    Druckeinrichtung
    41
    Andrückkörper
    5
    Zweite Arbeitsstation
    50a
    Andrückeinrichtung
    51a
    Andrückkörper
    52a
    Andrückschichten
    53a
    Schutzschicht
    50b
    Bestrahlungseinrichtung
    51b
    UV-Strahlungsquelle
    52b
    UV-Strahlung
    S
    Stromversorgung
    100
    Erster Bereich oder erste Bereiche
    101
    Ein oder mehrere Bereiche
    200
    Zweiter Bereich oder zweite Bereiche
    300
    Dritter Bereich oder dritte Bereiche
    R1
    Erste Richtung
    R2
    Zweite Richtung
    R3
    Richtung
    R4
    Richtung
    R5
    Richtung
    A1
    Ausschnitt
    A2
    Ausschnitt

Claims (7)

  1. Verfahren zum dekorierenden Kaltprägen wobei bei dem Verfahren folgende Schritte, in der folgenden Abfolge, durchgeführt werden:
    a) Bereitstellen eines Substrats (10), wobei ein oder mehrere erste Bereiche (100) einer Oberfläche (10a) des Substrats (10) ein oder mehrere Oberflächenstrukturen (11) aufweisen,
    b) Applizieren zumindest einer Kleberschicht (20) auf ein oder mehrere zweite Bereiche der Oberfläche (10a) des Substrats (10),
    c) Andrücken zumindest einer Transferfolie (30) umfassend zumindest eine Dekorschicht und zumindest eine Trägerlage auf ein oder mehrere dritte Bereiche (300) der Oberfläche (10a) des Substrats (10) und/oder einer von dem Substrat (10) abgewandten Oberfläche der zumindest einen Kleberschicht (20) und zumindest teilweises und/oder bereichsweises Härten der zumindest einen Kleberschicht (20),
    wobei die einen oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) durch das Kaltprägeverfahren zumindest bereichsweise in der Oberfläche der Transferfolie (30) und/oder in der zumindest einen Dekorschicht erhalten bleiben, und
    dass in dem Schritt a) ein oder mehrere Oberflächenstrukturen (11) der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche (10a) des Substrats (10) eine Relieftiefe und/oder eine Reliefhöhe von kleiner oder gleich 1 mm aufweisen, und/oder ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis zwischen 0,05 und 10 aufweisen, und
    dass in dem Schritt a) ein oder mehrere Oberflächenstrukturen (11) der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche (10a) des Substrats (10) als ein oder mehrere Oberflächenreliefs ausgeformt sind, und/oder als Gravuren ausgebildet sind und ein oder mehrere der folgenden Designelemente umfassen: Alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, Symbol, Mikroschrift, Bild, Foto, Logo, Portrait, Piktogramm, Muster, insbesondere Endlosmuster, und/oder Motiv, und
    dass das Andrücken der zumindest einen Transferfolie (30) in dem Schritt c) über zumindest einen Andrückkörper (51a) vermittelt wird, wobei der zumindest eine Andrückkörper (51a) ein oder mehrere flexible Andrückschichten (52a) umfasst.
  2. Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die Relieftiefe und/oder die Reliefhöhe kleiner oder gleich 0,75 mm, bevorzugt von kleiner oder gleich 0,5 mm, weiter bevorzugt aus einem Bereich von 0,02 mm bis 0,3 mm, ist und/oder dass das Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,1 und 5, ist, und/oder dass ein oder mehrere Oberflächenreliefs der ein oder mehreren Oberflächenreliefs ein Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, insbesondere ein mittleres Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, zwischen 0,05 und 10, insbesondere zwischen 0,1 und 5, aufweisen.
  3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die zumindest eine Kleberschicht (20) beim Applizieren auf die ein oder mehreren zweiten Bereiche (200) der Oberfläche (10a) des Substrats (10) in dem Schritt b) eine Viskosität aufweist, welche zwischen 200 mPa·s und 2000 mPa·s, insbesondere zwischen 500 mPa·s und 1500 mPa·s, bevorzugt zwischen 800 mPa·s und 1200 mPa·s, liegt.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die zumindest eine Kleberschicht (20), welche in dem Schritt b) auf die ein oder mehreren zweiten Bereichen der Oberfläche (10a) des Substrats (10) appliziert wird, eine konstante Schichtdicke oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, insbesondere in den ein oder mehreren ersten Bereichen der Oberfläche (10a) des Substrats (10) umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) eine konstante Schichtdicke oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, bevorzugt bei teilweiser oder vollständiger Überlappung ein oder mehrerer zweiter Bereiche der ein oder mehreren zweiten Bereiche (200) der Oberfläche (10a) des Substrats (10) umfassend die zumindest eine Kleberschicht (20) mit ein oder mehreren ersten Bereichen der ein oder mehreren ersten Bereiche (100) der Oberfläche (10a) des Substrats (10) umfassend die ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) eine konstante Schichtdicke oder eine um maximal 10%, insbesondere um maximal 20%, variierende Schichtdicke aufweist, und/oder
    dass die zumindest eine Kleberschicht, welche in dem Schritt b) auf die ein oder mehreren zweiten Bereichen der Oberfläche (10a) des Substrats (10) appliziert wird, in einer ersten Gruppe von ein oder mehreren ersten und/oder zweiten Bereichen der ein oder mehreren ersten beziehungsweise zweiten Bereiche (100, 200) eine erste Schichtdicke aufweist und in einer zweiten Gruppe von ein oder mehreren ersten und/oder zweiten Bereichen der ein oder mehreren ersten beziehungsweise zweiten Bereiche (100, 200) eine zweite Schichtdicke aufweist, insbesondere wobei sich die erste Schichtdicke und die zweite Schichtdicke voneinander unterscheiden, bevorzugt wobei die erste Schichtdicke und/oder die zweite Schichtdicke jeweils konstant ist und/oder sich die erste und die zweite Schichtdicke um weniger als 10%, insbesondere um weniger als 20%, voneinander unterscheiden, und/oder
    dass die zumindest eine Kleberschicht (20) in dem Schritt b) mittels Inkjet-Drucks, Tampondrucks, insbesondere mit einer Tamponhärte zwischen 5 Shore A und 20 Shore A, Siebdrucks, Flexodrucks und/oder Digitaldrucks auf die ein oder mehreren zweiten Bereiche (200) der Oberfläche (10a) des Substrats (10) appliziert wird, und/oder
    dass die zumindest eine Kleberschicht (20) in den Schritten b) und c) als UV-Kleber ausgebildet ist, insbesondere wobei das Härten der zumindest einen Kleberschicht (20) durch Bestrahlen mit UV-Strahlung erfolgt, bevorzugt wobei die UV-Strahlung durch zumindest eine UV-Strahlungsquelle (51b) erzeugt wird, weiter bevorzugt wobei die UV-Strahlung eine Wellenlänge oder ein Intensitätsmaximum in einem Wellenlängenbereich von 250 nm bis 420 nm, bevorzugt im Wellenlängenbereich von 380 nm bis 420 nm, aufweist.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die zumindest eine Kleberschicht (20) in dem Schritt c) zumindest teilweise gehärtet wird, insbesondere wobei die zumindest eine Trägerlage der zumindest einen Transferfolie (30) nach dem zumindest teilweisen Härten der zumindest einen Kleberschicht (20) abgezogen wird und das Substrat (10) und/oder die zumindest eine Kleberschicht (20) anschließend, insbesondere in einem weiteren Schritt, einfach oder mehrfach wiederholt gehärtet, insbesondere mit UV-Strahlung bestrahlt, wird.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten (52a) zumindest für ein oder mehrere Wellenlängen der UV-Strahlung und/oder in ein oder mehreren Wellenlängenbereichen der UV-Strahlung transluzent oder transparent ist, bevorzugt wobei die ein oder mehreren flexiblen Andrückschichten (52a) zumindest teilweise zwischen der zumindest einen UV-Strahlungsquelle, welche die UV-Strahlung vorzugsweise emittiert, und dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht (20) angeordnet sind.
  7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass in dem Schritt c) zumindest eine dem Substrat (10) und/oder eine der zumindest einen Kleberschicht (20) zugewandte Oberfläche ein oder mehrerer flexibler Andrückschichten der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten (52a) des zumindest einen Andrückkörpers (51a) zumindest bereichsweise ein Höhenprofil aufweist, welches einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen (11) der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) entspricht oder folgt, insbesondere wobei die Höhenprofile in eine oder mehreren Richtungen variieren, und/oder
    dass in dem Schritt c) zumindest eine dem Substrat und/oder der zumindest einen Kleberschicht (20) zugewandte Oberfläche ein oder mehrerer flexibler Andrückschichten der ein oder zwei oder mehreren Andrückschichten (52a) des zumindest einen Andrückkörpers (51a) ein zumindest bereichsweise ebenes oder strukturiertes Höhenprofil aufweist, insbesondere wobei sich das zumindest bereichsweise ebene oder strukturierte Höhenprofil beim Andrücken in dem Schritt c) einem Höhenprofil ein oder mehrerer Oberflächenstrukturen (11) der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) in oder auf der Oberfläche (10a) des Substrats (10) derart angleicht oder anpasst, dass die zumindest eine Kleberschicht (20) nach dem Andrücken in dem Schritt c) und/oder nach dem Härten in dem Schritt c) eine konstante Schichtdicke aufweist, bevorzugt wobei das zumindest bereichsweise ebene oder strukturierte Höhenprofil der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) der ein oder mehreren Oberflächenstrukturen (11) in oder auf der Oberfläche (10a) des Substrats (10) in eine oder mehreren Richtungen variiert.
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