DK149926B - Katodeforstoevningsapparat - Google Patents

Katodeforstoevningsapparat Download PDF

Info

Publication number
DK149926B
DK149926B DK469976AA DK469976A DK149926B DK 149926 B DK149926 B DK 149926B DK 469976A A DK469976A A DK 469976AA DK 469976 A DK469976 A DK 469976A DK 149926 B DK149926 B DK 149926B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
drum
cathode
anode
closure
container
Prior art date
Application number
DK469976AA
Other languages
English (en)
Other versions
DK149926C (da
DK469976A (da
Inventor
Manfred Rudolf Kuehnle
Original Assignee
Coulter Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US05/641,481 external-priority patent/US4014779A/en
Application filed by Coulter Systems Corp filed Critical Coulter Systems Corp
Publication of DK469976A publication Critical patent/DK469976A/da
Publication of DK149926B publication Critical patent/DK149926B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK149926C publication Critical patent/DK149926C/da

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • H01J37/3277Continuous moving of continuous material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3438Electrodes other than cathode

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)

Description

o i 149926
Opfindelsen angår et katodeforstøvningsapparat af den i krav l's indledning angivne art.
Sådanne katodeforstøvningsapparater er kendt fra eksempelvis DE-OS 2.400.510. De omfatter en trykbeholder s med mindst én målelektrode, der virker som katode, samt en tilførselsindretning for det bøjelige underlag (substrat), f.eks. polyesterfilm, og en opvikleindretning for det belagte underlag. Endvidere er der tilvejebragt egnede driftsstyrings- og -overvågningsorganer. Underlaget føres over 10 en drejelig anode forbi et forstøvningsplasma, som dannes i beholderen. Målelektrodens materiale forstøves i retning af anoden. Da anoden er dækket af underlaget afsættes materialet som en belægning på underlaget.
Der er tilvejebragte hjælpeapparater, forsyningsmidler 15 og styringer til tilvejebringelse af den ioniserende gas og dens blandede komponenter og til overvågning og styring af forsyningen til kammeret, til levering af elektrisk energi til apparatet og overvågning og styring af denne og dens virkninger, til styring og måling af hastighed, tempe-2o ratur og tykkelse af aflejringen og mange andre parametre, til drift af underlaget samt dets fremføring og overvågning og styring af dets spænding, osv.
Det er også kendt at omgive forstøvningskatoden med en afskærmning og holde denne afskærmning på samme poten-25 tial som beholderen og forstøvningskammerets lukke (DE-OS 2.115.590). Herved befinder anoden sig ved samme potential.
Fra DE-OS 1.515.322 kendes et katodeforstøvningsapparat, i hvilket anoden holdes på et fra en basiselektrode afvigende potential.
30 Det har vist sig, at betingelserne for afsætning af visse materialer, specielt fotoledere på tynde, bøjelige, gennemskinnelige underlag, blandt andet er følgende: (a) Anoden skal rotere, (b) den energi, der leveres, skal kobles til katoden, 35 anoden og afskærmningen i beholderen ved hjælp af et elektrisk kredsløb eller netværk, hvor katoden ligger ved den maksimale negative spænding, skærmen ligger på jordpotential 2
O
149926 og anoden ligger på et potential, der også er negativt i forhold til jord, men i meget mindre grad end katoden, (c) katodeoverfladen skal temperaturstyres for at hindre for stort varmetab under katodeforstøvningen.
5 Visse andre krav til apparatet gør opnåelsen af de ovenstående forhold meget vanskelige at tilvejebringe, og disse krav omfatter: (d) alle bæreopbygninger i apparatet inklusive kammervæggene skal af praktiske og sikkerhedsmæssige grunde holdes 10 på jordpotential, (e) tromlens ender skal skærmes for at hindre for stor aflejring på disse, og (f) apparatets underlagsbærende del eller transportorgan skal bevæges ind i og ud af kammeret, når katodeforstøv- 15 ningen skal indledes henholdsvis er tilendebragt.
Det er opfindelsens formål at udforme et katodeforstøvningsapparat af den indledningsvis omhandlede art på en sådan måde, at anoden henhv. underlaget kan påtrykkes en lille negativ spænding. Det angivne formål opnås med et ka-20 todeforstøvningsapparat af den i krav 11 s indledning angivne art, som ifølge opfindelsen er ejendommeligt ved den i krav l's kendetegnende del angivne udformning.
Herved opnås at tromleanoden holdes ved et andet potential end det omgivende forstøvningskammer, og således at 25 den arbejder ved en lille negativ forspænding, hvilket især er en fordel ved belægning med visse fotoledende materialer ved hjælp af højfrekvensforstøvning. Endvidere er det en fordel, at det beskrevne apparat har en afskærmning ved tromleanodeenden.
30 Opfindelsen forklares i det følgende nærmere under henvisning til tegningen, på hvilken fig. 1 set fra siden viser et katodeforstøvningsapparat ifølge opfindelsen i lukket tilstand, fig. 2 det i fig. 1 viste apparat i åben tilstand, 35 fig. 3 skematisk et snit efter planet 3-3 i fig. 2 set 3
O
149926 i den angivne retning til illustration af bevægelsesvejen for et underlag på transportarrangementet, fig. 4 skematisk i perspektiv transportarrangementet, fig. 5 et snit gennem en del af kammeret efter linien 5 5-5 i fig. 2 set i den ved pilene angivne retning, fig. 6 i perspektiv den i fig. 5 viste del af kammeret, fig. 7 et detaljeret snit gennem den nedre del af tromleanoden i apparatet i fig. 1 til angivelse af den måde, 10 hvorpå der dannes kontakt til samme, fig. 8 et blokdiagram for det elektriske kredsløb i katodeforstøvningsapparatet i fig. 1, og fig. 9 et mere eller mindre skematisk snit gennem et modificeret apparat.
15 Det i fig. 1 til 8 viste katodeforstøvningsapparat er som helhed betegnet med henvisningsbetegnelsen 10 og omfatter en fast fod eller bæreramme 12, der har skinner langs en øvre kant, et kabinet 16, der er monteret på ruller eller hjul 18 i indgreb med skinnen 14, en trykbeholder eller et 20 kammer 20, der bæres af rammen 12 ved hjælp af faste standere 22, og forskellige andre dele, der skal beskrives senere. Kabinettet 16 har et transportarrangement 24 monteret på sin venstre ende understøttet på en passende udkraget underramme 26, der er fastgjort til kabinettet 16's fremad-25 vendende væg 28.
Væggen 28 bærer et cirkulært forseglingsanlæg 30, og transportarrangementet 24 og dettes underramme 26 er således udformet, at de omgives af den cylinder, der dannes af en projektion af forseglingsanlægget 30. Trykkammeret eller be-30 holderen 20 er lukket på alle andre sider end ved den højre ende, hvor en flange 32 er tilvejebragt og indrettet til forseglende at ligge an imod anlægget 30. I fig. 1 er apparatet vist i sin lukkede tilstand, hvor kabinettet 16 er rullet frem imod venstre og derved fører transportarrangemen-35 tet 24 ind i kammeret eller beholderen 20, idet samlingen, der repræsenteres af flangen 32 og forseglingsanlægget 30, o 4 149926 gøres hermetisk ved hjælp af et passende paknings- og låsearrangement. I fig. 2 er apparatet vist i åben tilstand, og kabinettet 16 og kammeret eller beholderen 20 er adskilt og giver adgang til transportarrangementet 24 og et underlag, 5 der bæres på dette, og til kammeret 20's indre.
Det afbillede transportarrangement 24 viser ikke driv-og styremekanismer, der er indeholdt i kabinettet 16, og som for størstedelens vedkommende er monteret på bagsiden af væggen 28. Deres nøjere opbygning er genstand for vide 10 variationer, og sådanne detaljer er ikke af betydning for opfindelsen, selv om de må antages at være nødvendige for apparatets funktion. Kabinettet indeholder også alt apparatur og alle dele, som er nødvendige for hele apparatets funktion, og som omfatter hastighedsstyringer, drivmekanis-15 mer, pumper og kanaler til betjening af varmeudvékslings-væske, et stort antal måleinstrumenter for temperaturer, tryk, strømme og spændinger osv. Kabinettet 16's ydre væg er som vist forsynet med et antal trykknapper, måleinstrumenter, lamper og lignende, men kun på symbolsk måde.
20 Kammeret eller beholderen 20 er som vist forsynet med gasforbindeiser 34 og 36, en elektrisk tavle 38, rør og ledninger 40, elektriske ledninger 42, trykknapper, måleinstrumenter osv. Betragtningsvinduer er betegnet med 44.
Alle disse ting er også symbolske. Apparatet kræver betyde-25 lig styring og overvågning, hvad der vil være fagmanden bekendt, og arten af overvågnings-, betjenings- og styreapparatur vil variere efter apparatets behov.
Grundlæggende er der for betjeningen af en katodeforstøvningsmaskine fornødenheder, der må tilvejebringes, 30 styres, overvåges og ofte registreres. Der er fænomener, der skal måles og iagttages, og der er kort sagt mange parametre. Der må tilvejebringes højfrekvensenergi til målene, hvilket kræver tilpasnings- og styrekredsløb, ledninger og ofte køleorganer. I den sidste henseende må kølemidlet for 35 målet, eftersom dette befinder sig i kammeret eller beholderen 20, tilvejebringes i kammeret, og kølemidlet må føres og 5 149926
O
cirkuleres. Kammeret skal udpumpes, hvilket kræver vakuumpumper med tilhørende regulering, styring og måling, gasser til ionisering og baggrund må indføres, hvilket kræver regulering, styring, måling og proportionering.
5 Det antages, at disse for opnåelse af katodeforstøv ningsmaskines funktioner nødvendige dele som beskrevet er tilvejebragt, og der følgelig ikke er behov for at vise dem mere detaljeret og beskrive dem yderligere.
Den udkragede bæreramme 26 er kun vist i fig. 2, men 10 må forstås at tilvejebringe understøtning for transportarrangementet 24, selv om den ikke er vist i andre figurer. Der findes en ydre plade 46 og med denne forbundne støtter 48, der atter er forbundet til væggen 28, men inden for anlægget 30's grænser. Alle valserne og tromlen, der skal beskrives, 15 er lejret til rotation, enten drevet eller fritløbende, mellem pladen 46 og væggen 28.
I fig. 3 og 4 er transportarrangementet 24 vist, men uden at lejerne og bærerne er vist, og også uden at drev, kobling og bremsemekanismer, der kan anvendes i forbindelse 20 med den, er vist, idet de sidstnævnte elementer som forklaret er indeholdt i kabinettet 16. Underlaget, der skal overtrækkes, er betegnet med 50 og er vist som værende gennemsigtigt. Ved den foretrukne anvendelse af apparatet danner underlaget 50 grundlaget for en elektrofotografisk film, der 25 får påforstøvet uorganiske overtræk. I så fald er underlaget 50 et syntetisk harpiksarkmateriale, såsom polyester med en tykkelse på ca. 0,12 til 0,25 mm. Adskillige hundrede meter af dette materiale kan let monteres på en spole eller et hjul og være indeholdt i apparatet 10, idet der forstøves 30 langs hele dets længde. En sådan spole eller rulle er vist ved 52 og udgør forsyningen inden i apparatet. Den er monteret på en aksel 54, der fortrinsvis drives af en passende drivmotor, men styres ved hjælp af en spændingskobling, der modtager tilbagekoblingsinformation fra hastighedsmåle- og 35 styreapparater, der alle er indeholdt i kabinettet 16.
O
6 149926
Underlagsstrimmelen 50 passerer over en fritløbende valse 56, der styrer strækningen til tromlen 58, der udgør katodeforstøvningsapparatet 10's anode. I fig. 8 ses det, at underlaget 50 passerer rundt om tromlen 58, der også drejer, 5 normalt fritløbende, i nærheden af målene 60 og 62, der er anbragt i bunden af kammeret eller beholderen 20, som det skal beskrives senere, og derpå passerer opad til eri anden fritløbende valse 64, fra hvilken det føres rundt om en opvik-lerulle 66, der drives fra kabinet 16's indre af en passende 10 drivmotor. Eftersom diametrene af underlagsrullerne på forsyningsspolen 52 og opviklespole 66 varierer omvendt i forhold til hinanden under katodeforstøvningen, og det er væsentligt, at underlaget 50's bevægelse i forhold til målene er ensartet og omhyggeligt styret, må derfor at bevirke 15 dette tilvejebringes et passende variabelt drev.
Målene 60 og 62 er vist i fig. 5, 6 og 8. Kammeret eller beholderen 20 har form af en cylindrisk skal 68 med en endeklokke 70, der er koblet til ledningen 36. Alle kammeret eller beholderen 20's dele er fremstillet af rust-20 frit stål og holdes af sikkerhedshensyn på jordpotential.
Det er forholdsvis enkelt at fremstille beholderen af dette materiale fremfor at fremstille den af glas eller anden isolerende materiale. Målene 60 og 62 er monteret i målenheder 72 og 74, der hver især består af en skærm 76 af metal, der 25 er mekanisk monteret på bunden af skallen 68 ved hjælp af konsoller 78 og køles ved kølemiddel, der cirkulerer igennem skærmen 76's vægge. Ledningerne for kølemidlet er ført igennem skallen 68 ved hjælp af huse, der også giver passage for elektriske koblingselementer til kobling af målene til 30 energiforsyningen. Placeringen af målene i forhold til tromlen 58 kan indstilles, når målene forbruges. En indstillelig opbygning, ved hvilken en sådan indstilling kan opnås, kan være indeholdt i husene 80 eller kan tilvejebringes ved indstillinger på konsollerne 78, 35 Hvert mål 62 er dannet af et antal plader eller pla ketter, som det er vist ved 82 i fig. 6, og som er cementeret o 7 149926 på en passende metalbageplade, almindeligvis rustfrit stål. Forsiderne af målpladerne 82, der vender mod tromlen 58 kan være plane eller buede. De er almindeligvis indrettet til at danne en cylindrisk overflade, der er koaksial med 5 tromlen 58, når denne er i en stilling stødende op til målene, og apparatet er lukket. Hvert af målene 60 og 62 er anbragt i afstand fra sin skærm 76 og efterlader et mellemrum, der omgiver selve målet. Der indføres baggrundsgas i rummet bag ved hvert mål ved hjælp af ledningerne 84, der 10 går igennem skallen 68's væg og trænger ud fra mellemrummene rundt om målene for at bade målenes overflade.
Målplaketterne er fortrinsvis dannet af sintrede elementer af materialet, der skal katodeforstøves.
Mellem målenhederne findes der en stander 86, der bærer 15 en eller en samling børste- eller slæbekontakter 88. Disse er koblet til en del af det elektriske energiforsyningskredsløb ved hjælp af elektriske ledninger, der går igennem skallen 68, som det skal forklares senere. Disse kontakter er fortrinsvis monteret med eftergivende bærefjedre, der trykker 20 dem mod højre i fig. 2 og 7. De skal ligesom målene 60 og 62 være isoleret fra skallen 68.
Før konstruktionsdetaljerne for tromlen 58 beskrives, skal funktionen af energiforsyningskredsløbet, der anvendes ved apparatet 10 beskrives. Hertil henvises til fig. 8.
25 Opbygningen af tromlen 58 vil bedre forstås, når energiforsyningskredsløbet er bekendt.
I fig. 8 er energiforsyningen til apparatet 10 vist i sin mest grundlæggende skematiske form. En højspændingsenergikilde er vist til venstre som en blok 90. Kilden 90 30 er koblet til apparatet 10 ved hjælp af ét tilpasningsnetværk 92, der er vist med to udgangsledninger 94 og 96. Den højeste spænding, f.eks. af størrelsesordenen 3000 volt ved en frekvens på 13,56 MHz optræder på ledningen 94 og føres til målene 60 og 62 og optræder som en spænding i forhold til 35 jord. Ledningen 96 ligger på jordpotential. Alle skærme i apparatet 10, der her alene er repræsenteret ved tromlen 58, 8 149926 o skærmen 76 og tromleskærmene, ligger på jordpotential, men ikke selve tromlen. Udgangen fra tilpasningsnetværket 92 er ført til en spændingsdeler, der i det viste eksempel består af to impedanser Z1 og Z2 koblet tværs over led-5 ningerne 94 og 96. I praksis er disse kondensatorer, og en del af spændingsdeleren kan tage hensyn til parasitiske kapacitetsveje, der kan have nogen betydning ved den foreliggende frekvens. Ledningerne kan være højfrekvens-bølgeledere, et koaksialt kabel, skærmede ledninger osv.
10 Spændingen deles i overensstemmelse med de to impe danser Z1 og Z2's respektive reaktanser. Tromlen 58 er ved hjælp af en ledning 98 koblet til terminalen 100 mellem impedansernes Z1 og Z2. For at tromlen 58 kan rotere er de tidligere beskrevne kontakter 88 tilvejebragt for at 15 muliggøre, at tromlen holdes på et potential forskelligt fra jord. Den elektroniske virkning ved katodeforstøvningen i apparatet 10 er som en diode, således at der forekommer en effektiv ensrettende virkning. Katoderne er målene 60 og 62,. og disse holdes på en meget høj negativ spænding, 20 der i det givne eksempel er -3000 volt. Dette er i forhold til jord, der udgør anlæggets maksimale positive spænding, svarende til nul volt.
I almindelighed ligger anoden på jordpotential, og underlaget lægges på den. Her ligger kun afskærmningen på 25 jordpotential. Anoden er tromlen 58, og den holdes på en spænding, der også ligger under jordpotential, men ikke på en så stor værdi som målene 60 og 62. I det praktiske eksempel holdes spændingen på tromlen på en værdi omkring 50 volt eller mindre under jord, dvs. -50 volt. Dette opnås 30 ved passende udformning af spændingsdelerstrengen Z1 og Z2 og andre dele af kredsløbet, hvilket er velkendt for fagfolk på området.
Tromlen 58 skal rotere, og den skal være fremstillet af metal, således at den let kan fremstilles og vil have 35 den nødvendige styrke til at leve op til katodeforstøv- ningsapparatets krav, den skal være lejret under anvendelse Λ 9 149926
O
af mekanisk holdbare lejre, aksler og understøtninger, og yderligere skal i det mindste dens ydre lag ligge på en spænding, der adskiller sig fra dens omgivelsers. Et andet krav til tromlen er, at dens ydre lag skal være underkastet 5 temperaturstyring ved hjælp af varmeudvekslingsvæsker. Ved opfindelsens praktiske udformning har man således skønnet det nødvendigt at opvarme det ydre lag af tromlen ved hjælp af olie for at holde den på en temperatur på ca. 150°C.
Alle disse krav opfyldes ved anvendelse af den i 10 fig. 7 viste tromle. Tromlen 58's krop er dannet af en indre metalcylinder 102 ved påsvejsede endeflanger eller -ringe 104. Metalendehætter eller -plader 106 er fastgjort til cylinderen 102 ved hjælp af med afstand langs omkredsen anbragte skruer 108. En ydre koaksial metalcylinder 110 15 danner det ydre perifere lag af tromlen 58 og er svejset til en teleskopisk anbragt koaksial metalcylinder 112 med mindre diameter, så der mellem disse cylindre dannes et kammer 114. Cylindrene 110 og 112 er forbundet ved hjælp af metalenderinge 116, der er svejset fast på hver af dem, 20 og hvis venstre metalliske ende ligger fri som vist.
Kammeret 114 indeholder varmeudvekslingsvæsken 118 enten i form af stof, der fylder hele kammeret, eller ved hjælp af ikke viste viklinger, der er viklet rundt i kammerets indre. Disse er ved passende ledninger, såsom 25 den ved 120 viste, forbundet til den hule aksel 122 (fig. 4), ved hjælp af hvilken de forbindes til en kilde for sådan væske. Ledningerne er vist ved 120'. Eftersom væsken normalt er olie eller en isolerende væske, er der ikke noget problem ved at tilvejebringe en isolerende kobling eller 30 isolerende koblinger for ledninger 120 eller 120' således, at laget 110 er elektrisk isoleret fra resten af tromlen 58, akselen 122, osv.
Ringene 116 og pladerne 106 ligger i radial afstand fra hinanden for at tilvejebringe et ringformet mellemrum 35 ved hver ende af tromlen 58 som vist ved 124. En cylinder 126 af polytetrafluorethylen eller et andet stabilt isole- o ίο 149926 rende materiale er formet ved bearbejdning og er anbragt mellem cylinderen 102 og cylinderen 112. Dens ender er bearbejdet til en mindre tykkelse end dens krop således, at der dannes skuldre 128 og 130. De resulterende aksiale 5 ender 132 har derved fået samme tykkelse som det ringformede rum 124, og cylinderen 126's aksiale længde er gjort identisk med den samlede længde af tromlen 58 således, at den flugter med de ydre ender af pladerne 106 og ringene 116.
Der er således tilvejebragt et sammensat cylindrisk ele-10 ment, hvis ydre lag 110 er isoleret fra resten af tromlen 58. Tromlen holdes sammen af et antal skruer 134, der går igennem skiver 136 af samme isolerende materiale og ligger i afstand fra hinanden rundt langs periferien af tromlens ender. Skiverne 136 er indsat i dybe recesser 138, der er 15 boret ind i enderne af tromlen 58, og en del af hver reces ligger i en plade 106, en ring 116 og en aksial ende 132.
På denne måde er delene låst imod relativ perifer bevægelse, foruden at skiverne 136 og skruerne 134 holder den sammen.
Ringen 116 ved venstre ende af tromlen 58 er an-20 bragt på en sådan måde, at kontakterne 88, når apparatet 10 er i lukket tilstand, berører og glider på den og derved etablerer elektrisk kontakt til den.
Tromlen 58's ender er skærmet som vist ved 140, 142, 144 for at hindre, at materiale katodeforstøves på andre 25 dele af tromlen, når underlaget 50 føres rundt langs den nedre del af laget 110 og her overtrækkes. Plasmaet, der repræsenterer katodeforstøvningen er angivet ved 146. En sådan afskærmning bæres af væggen 28 og underrammen 46, f.eks. ved sammenkobling af de i fig. 2, 3 og 4 med 147 30 betegnede konsoller. Det fremgår af fig. 7, at de skærmende elementer 140, 142 og 144 ligger nær ved tromlen 58's ender og efterlader en passage for underlagsstrimlen 50 og til tilvejebringelse af en åbning, der tillader at kontakterne 88 glider på ringen 116. De nævnte skærmelementer ligger 35 på jordpotential og rører ingen steder tromlelaget 110.
En ændret udførelsesform for apparatet ifølge opfin- o 11 149926 delsen, som specielt er anvendelig ved mindre projekter, er vist i fig. 9. Katodeforstøvningsapparatet 200 omfatter et kammer 210, der har et dækelement 212, der er beregnet til at ligge an og låses på plads på en flange 214 på _ kammeret 210. Forsegling tilvejebringes ved hjælp af en 5 pakning 216, der ligger mellem flangen 214 og en flange 218. Dækelementet bærer en forsyningsspole 220 og en opvikle-spole 222, der er monteret på aksler henholdsvis 224 og 226. Akslerne drives af motorer henholdsvis 228 og 230, 10 der styres fra apparatet 200's ydre.
Dækelementet 212 bærer en kobling 232, i hvilken en tromle 236 er ophængt. Tromlen er i dette tilfælde af metal, og hele tromlen er isoleret fra kammeret 210 og dækelementet 212 ved passende isolation, der er tilvejebragt i kob-15 lingen 232. Den er monteret på en aksel 238, der går igennem koblingen 232 og drives af en motor 240, der er monteret ovenpå dækelementet 212. En kæde og et' kædetandhjul som vist ved 242 tilvejebringer koblingen til akselen 238 uden at kortslutte tromlen til jord. Der er tilvejebragt passende 2Q isolation hertil. En ring 244 på akselen 238 er elektrisk koblet til tromlen 236 og er isoleret fra alle andre dele af apparatet 200. En elektrisk forbindelse 246 til kontakter 248 svarer til ledningen 98 og kontakterne 88 i fig. 8.
Tromlen er hul og har en hul midterkanal 250, der 25 danner koaksiale kamre 252 og 254, der står i forbindelse med et rør 256, der løber rundt langs laget 258 af tromlen 236 i dennes indre. Varmeudvekslingsvæske træder ing og cirkulerer ved hjælp af kamrene 252 og 254. øverst ses det, hvor en passende kobling kan fastgøres for at tillade 30 drejning af akselen 259 ved anvendelse af drejelige væskekoblinger. Disse er ikke vist.
Målet 260 i dette apparat 200 er en enkel plade af fotoledende materiale monteret på en holder 262, der ved hjælp af elementet 264 gennem kammeret 210's væg er koblet 35 til en kilde for højspændingsradiofrekvens 266. Det er ikke her nødvendigt at vise kredsløbet i fig. 8, der antages at 149926
O
12 anvendes i forbindelse med apparatet 200.
Der findes skærme 268, 270 og 272 på jordpotential stødende op til tromlen 236, tromlebæreren på akselen 238 og målet 260. Katodeforstøvningsplasmaet frembringes 5 på samme måde som ved apparatet 10 ved anvendelse af en passende højfrekvensenergi og en passende baggrundsgas, der tilledes f.eks. ved hjælp af ledningen 274 i mellemrummet 276 mellem tromlen 236's lag 258 og forsiden af målet 260.

Claims (11)

1. Katodeforstøvningsapparat omfattende a) en metallisk beholder (20 henhv. 210), der er lukket med et metallisk lukke (28 henhv. 212), 5 b) mindst ét i beholderens indre anbragt mål (60,62 henhv. 260) samt en tromleanode (58 henhv. 236) med et metallisk yderlag (110 henhv. 258), hvilken tromleanode er drejeligt monteret på lukket i forhold til det mindst ene mål, når lukket er i sin lukkestilling, 10 c) et transportarrangement (24) til fremføring af et fleksibelt underlag (50) over tromleanoden gennem det mellem det mindst ene mål og tromleanoden dannede forstøvningsplasma, samt d) en styrbar elektrisk højfrekvensenergikilde (90), 15 som er forbundet med tromleanoden og det mindst ene mål, kendetegnet ved, at e) lukket (28 henhv. 212) og beholderen (20 henhv. 210. holdes på samme potential som en omkring det mindst ene mål (60,62 henhv. 260) anbragt skærm (76,140,142,144 henhv. 20 268,270,272), idet f) der på tromleanodens (58 henhv. 236) i forhold til lukket (28 henhv. 212) og beholderen (20 henhv. 210) elektrisk isolerede metalliske yderlag (110 henhv. 258) påtrykkes en spænding, som er forskellig fra skærmens spæn- 25 ding.
2. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 1, k en-detegnet ved, at det mindst ene mål (60,62 henhv. 260. er påtrykt en negativ spænding på omkring 3000 V, mens tromleanodens (58,236) metalliske yderlag (110 henhv. 258) 30 har en negativ forspænding på omkring 50 V.
3. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 1 eller 2, kendetegnet ved, at tromleanodens metalliske yderlag (110) bæres af en indre, jordforbundet og i forhold til dette elektrisk isoleret tromlekrop (102,104,106).
4. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 3, ken detegnet ved, at den indre tromlekrop (102,104,106) U9926 O er fastgjort til lukket (28) og er jordforbundet gennem dette, hvorved der mellem den indre tromlekrop og det metalliske yderlag til isolering er tilvejebragt et ringformet mellemrum (124).
5. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 3 eller 4, kendetegnet ved, at den indre tromlekrop (102, 104,106) og det metalliske yderlag (110) består af metalcylindre, som er adskilt af en derimellem liggende cylinder (126) af isoleringsmateriale, og som danner en sammensat 10 cylindrisk enhed.
6. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 1 eller 2, kendetegnet ved, at tromleanoden (236) er fastgjort på lukket (212) ved hjælp af en isolerende kobling (232), således at tromleanoden er drejeligt monteret på 15 lukket, men er elektrisk isoleret fra lukket.
7. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 1-6, k e n-de tegnet ved, at til påtrykning af en fra skærmens spænding forskellig spænding på tromleanodens (58) yderlag (110 henhv. 258) er der tilvejebragt en metalendering (116), 20 der er forbundet med det metalliske yderlag, samt en med denne samvirkende slæbekontakt (88 henhv. 248).
8. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 7, kendetegnet ved, at metalenderingen er udformet som en på tromleanodens (58) endeflade anbragt koncentrisk 25 kontaktring (116).
9. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 7 eller 8, kendetegnet ved, at metalenderingen (116) og de tilhørende kontakter (88) er beliggende inden i beholderen (20), når lukket (28) befinder sig i sin lukkestilling.
10. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 7, ken detegnet ved, at slæberingen (244) og de tilhørende kontakter (248) er anbragt uden for beholderen (210) og også i lukkets (212) åbnestilling danner en indbyrdes elektrisk forbindelse.
11. Katodeforstøvningsapparat ifølge krav 1-10, kendetegnet ved, at tromleanoden (58 henhv. 236)
DK469976A 1975-12-17 1976-10-19 Katodeforstoevningsapparat DK149926C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/641,481 US4014779A (en) 1974-11-01 1975-12-17 Sputtering apparatus
US64148175 1975-12-17

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK469976A DK469976A (da) 1977-06-18
DK149926B true DK149926B (da) 1986-10-27
DK149926C DK149926C (da) 1987-09-28

Family

ID=24572585

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK469976A DK149926C (da) 1975-12-17 1976-10-19 Katodeforstoevningsapparat

Country Status (17)

Country Link
JP (1) JPS6035429B2 (da)
AT (1) AT344501B (da)
AU (1) AU511961B2 (da)
BE (1) BE847413A (da)
CA (1) CA1077437A (da)
CH (1) CH617965A5 (da)
DD (1) DD127637A5 (da)
DE (1) DE2647149C2 (da)
DK (1) DK149926C (da)
FR (1) FR2335615A1 (da)
GB (1) GB1503301A (da)
IL (1) IL50722A (da)
IT (1) IT1066543B (da)
LU (1) LU76026A1 (da)
MX (1) MX145314A (da)
NL (1) NL7611563A (da)
SE (1) SE429108B (da)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4151059A (en) * 1977-12-27 1979-04-24 Coulter Stork U.S.A., Inc. Method and apparatus for sputtering multiple cylinders simultaneously
FR2527233A1 (fr) * 1982-05-24 1983-11-25 Asu Composants Sa Installation pour le depot d'un revetement sur des substrats
US4417968A (en) * 1983-03-21 1983-11-29 Shatterproof Glass Corporation Magnetron cathode sputtering apparatus
FR2548589B1 (fr) * 1983-07-07 1987-02-20 Aerospatiale Procede et dispositif d'impregnation metallique d'un substrat se presentant sous la forme d'une nappe de fibres conductrices du courant electrique
US4443318A (en) * 1983-08-17 1984-04-17 Shatterproof Glass Corporation Cathodic sputtering apparatus
EP0157991A1 (fr) * 1984-04-10 1985-10-16 INTERPATENT ANSTALT (INDELEC Abteilung) Dispositif pour effectuer en continu la métallisation sélective de pièces industrielles, notamment en électronique
JPS6162117A (ja) * 1984-09-03 1986-03-31 Brother Ind Ltd キーボードの製造方法
FR2940321B1 (fr) * 2008-12-19 2011-12-23 Carewave Shielding Technologies Machine de depot sous vide,sur un substrat,de materiaux en couches minces,par pulverisation cathodique.
JP5969953B2 (ja) * 2013-05-31 2016-08-17 株式会社神戸製鋼所 成膜装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL136984C (da) * 1964-06-04
DE2115590A1 (en) * 1971-03-31 1972-10-05 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Cathode sputtering device - has cathode with projecting rim
US3905887A (en) * 1973-01-12 1975-09-16 Coulter Information Systems Thin film deposition method using segmented plasma
US3829373A (en) * 1973-01-12 1974-08-13 Coulter Information Systems Thin film deposition apparatus using segmented target means

Also Published As

Publication number Publication date
DK149926C (da) 1987-09-28
FR2335615A1 (fr) 1977-07-15
AT344501B (de) 1978-07-25
DK469976A (da) 1977-06-18
JPS6035429B2 (ja) 1985-08-14
NL7611563A (nl) 1977-06-21
IT1066543B (it) 1985-03-12
AU2059876A (en) 1978-06-22
SE7611581L (sv) 1977-06-18
MX145314A (es) 1982-01-27
JPS5275669A (en) 1977-06-24
IL50722A0 (en) 1976-12-31
SE429108B (sv) 1983-08-15
LU76026A1 (da) 1978-05-16
DE2647149A1 (de) 1977-06-30
DE2647149C2 (de) 1983-08-25
ATA776076A (de) 1977-11-15
DD127637A5 (da) 1977-10-05
FR2335615B1 (da) 1981-12-04
GB1503301A (en) 1978-03-08
BE847413A (nl) 1977-04-19
AU511961B2 (en) 1980-09-18
CA1077437A (en) 1980-05-13
IL50722A (en) 1979-05-31
CH617965A5 (en) 1980-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4014779A (en) Sputtering apparatus
US3829373A (en) Thin film deposition apparatus using segmented target means
KR101358820B1 (ko) 회전가능한 스퍼터링 타겟을 지지하기 위한 평탄한엔드-블록
US5948166A (en) Process and apparatus for depositing a carbon-rich coating on a moving substrate
US5888594A (en) Process for depositing a carbon-rich coating on a moving substrate
DK149926B (da) Katodeforstoevningsapparat
US5200049A (en) Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons
US3884787A (en) Sputtering method for thin film deposition on a substrate
US9984911B2 (en) Electrostatic chuck design for high temperature RF applications
TWI725067B (zh) 可旋轉靜電夾盤
KR940006037B1 (ko) 진공증착장치
US5370737A (en) Vacuum treatment apparatus comprising annular treatment chamber
US4151059A (en) Method and apparatus for sputtering multiple cylinders simultaneously
DK160154B (da) Apparat og fremgangsmaade til magnetronkatodeforstoevning
US3667424A (en) Multi-station vacuum apparatus
KR100782522B1 (ko) 진공 성막 방법 및 장치
US3845739A (en) System for vapor deposition of thin films
CN113652645A (zh) 一种旋转镀膜设备
TW200526325A (en) Band-coating equipment with a vacuum chamber and a coating roller
US3861353A (en) System for vapor deposition of thin films
US4170541A (en) Rotating resonator for large substrate tables in sputtering systems
KR102598114B1 (ko) 증착 장치 및 증착 장치를 모니터링하기 위한 방법
EP3095126A1 (en) Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure
JP2016515766A (ja) 基板を真空処理する装置
TW201712136A (zh) 成膜裝置及層疊體

Legal Events

Date Code Title Description
PBP Patent lapsed