DE891435C - Electron beam device, especially electron super microscope - Google Patents

Electron beam device, especially electron super microscope

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DE891435C
DE891435C DEP13558A DEP0013558A DE891435C DE 891435 C DE891435 C DE 891435C DE P13558 A DEP13558 A DE P13558A DE P0013558 A DEP0013558 A DE P0013558A DE 891435 C DE891435 C DE 891435C
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DE
Germany
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electron beam
electron
plane
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luminescent screen
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Expired
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DEP13558A
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German (de)
Inventor
Robert Dr Rer Nat Seeliger
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SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
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SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/22Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
    • H01J37/224Luminescent screens or photographic plates for imaging; Apparatus specially adapted therefor, e. g. cameras, TV-cameras, photographic equipment or exposure control; Optical subsystems specially adapted therefor, e. g. microscopes for observing image on luminescent screen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Description

Es sind "Elektronenstrahlgeräte,- insbesondere Elektronenübermikroskope, bekannt, die mit einem zum Betrachten eines ebenen Leuchtschirmes dienenden optischen System ausgerüstet sind. Diese Geräte sind in der Regel so ausgebildet, d'aß der Leuchtschirm von der der Elektronens.trahlenquelle zugekehrten Seite her betrachtet wird. Aus konstruktiven Gründen wird daher bei den bekannten Geräten der Leuchtschirm unter einem Winkel von etwa 30 bis 45° gegen seine Normale, die zur Achsenrichtung des abbildenden Elektronenstrahles parallel berichtet ist, betrachtet. Durch Verwendung von optischen Geräten besonderer Bauart kann man bei diesen Geräten wenigstens für das zentrale Bildfeld eine befriedigende Schärfe erzielen.Electron beam devices, in particular electron microscopes, are known which are equipped with an optical system for viewing a flat fluorescent screen. These devices are generally designed so that the fluorescent screen is viewed from the side facing the electron beam source For structural reasons, the fluorescent screen is therefore viewed in the known devices at an angle of about 30 to 45 ° to its normal, which is reported parallel to the axial direction of the imaging electron beam achieve a satisfactory sharpness for the central image field.

Mit einem wesentlich einfacheren optischen System kommt man. jedoch bei dem Elektronenstrahlgerät gemäß der Erfindung aus,. bei dem der Leuchtschirm mindestens in seinem den Durchtrittspunkt der optischen Achse enthaltenden Bereich mit dieser Achse einen von 9o° weniger verschiedenen Winkel aufweist als die Einstellebene des abbildenden Elektronenstrahles mit diesem. Man. wird, soweit es die Bauart des- Gerätes irgend zuläßt, anstreben, daß die optische Achse des Betrachtungssystems möglichst parallel zu den zu diesem Bereich der Leuchtschirmoberfläche gehörenden Normalen; gerichtet ist. Man erreicht dadurch größte Abbildungsschärfe des optischen Systems für diesen Bereich.You can get there with a much simpler optical system. However in the electron beam device according to the invention. where the luminescent screen at least in its area containing the point of passage of the optical axis with this axis has an angle less different from 90 ° than the setting plane of the imaging electron beam with this. Man. as far as the design of the Device somehow allows striving that the optical axis of the viewing system as parallel as possible to those belonging to this area of the luminescent screen surface Normals; is directed. This achieves the greatest sharpness of the optical image Systems for this area.

Für sehr viele Anwendungszwecke genügt die Verwendung eines ebenen Leuchtschirms, der senkrecht zur optischen Achse des Betrachtungssystems angeordnet ist. Ein solcher Schirm ist, wenn die Brennweite des Betrachtungssystems seiner Größe in der üblichen; Weise angepaßt ist, bereits mit verhältnismäßig wohlfeilen Mitteln bis zum Randscharf abbildbar.For many purposes, the use of a flat one is sufficient Luminescent screen arranged perpendicular to the optical axis of the viewing system is. Such a screen is when the focal length of the viewing system is its Size in the usual; Wise adapted, already with relatively cheap Averages can be mapped up to the edge.

Die Figur zeigt in schematischer Darstellung ein Ausführungsbeispiel des Elektronenistrahlgerätes gemäß der Erfindung.The figure shows a schematic representation of an embodiment of the electron beam device according to the invention.

Die Elektronenstrafhlen i mögen dazu dienen, auf der photographischen Schicht 2, die zu der Strahlachse senkrecht steht, ein Bild zu erzeugen. Zu diesem Zweck wird zur Erzielung größter Bildschärfe die Einstellebene des Elektronenstrahles in die Ebene :2 gelegt. Bei den bekannten Geräten wird zur Betrachtung des in der Einstellebene zu erwartenden Elektronenbildes vor der Aufnahme in die Einstellebene ein Leuchtschirm gebracht, der unter einem meist beträchtlichen Winkel gegen seine Normale mittels eines optischen Systems betrachtet wird. Bei dem dargestellten. Ausführungsbeispiel bildet gemäß der Erfindung der Leuchtschirm 3 mit der Einstellebene :2 einen solchen Winkel 9p, daß er mit der optischen Achse 5 des durch die Linse 4. schematisch dargestelltenBetrachtungssystemseinen Winkel a bildet, der von 9o° möglichst wenig verschieden sein sollte.The electron beams i may serve on the photographic Layer 2, which is perpendicular to the beam axis, to generate an image. To this The aim is to achieve the greatest possible sharpness in the setting plane of the electron beam Placed in level: 2. In the known devices to consider the in the Setting level of the expected electron image prior to inclusion in the setting level brought a fluorescent screen, which is usually at a considerable angle against his Normal is viewed by means of an optical system. With the one shown. Embodiment forms according to the invention the luminescent screen 3 with the setting level : 2 such an angle 9p that it coincides with the optical axis 5 of the through the lens 4. The viewing system shown schematically forms an angle α of 90 ° should be as little different as possible.

Claims (4)

PATENTANSPRÜCHE: i. Elektronenstrahlgerät mit einem zum Betrachten des Leuchtschirmes dienenden optischen, System, insbesondere Elektronenübermikroskop, dadurch gekennzeichnet, daß der Leuchtschirm mindestens in seinem den Durchtrittspunkt der optischen Achse enthaltenden Bereich mit dieser Achse einen von 9o° weniger verschiedenen Winkel aufweist als die Einstellebene des abbildenden Elektronenstrahls mit diesem. PATENT CLAIMS: i. Electron beam machine with one to view The optical system used for the fluorescent screen, in particular an electron microscope, characterized in that the luminescent screen at least in its the point of passage the area containing the optical axis with this axis is one of 90 ° less has different angles than the setting plane of the imaging electron beam with this. 2. Gerät nach Anspruch i mit einem ebenen Leuchtschirm, dadurch gekennzeichnet, daß ein ebener Leuch.tsehirm senkrecht zur optischen Achse des Betrachtungssystems angeordnet ist. 2. Device according to claim i with a flat luminescent screen, characterized in that that a flat lampshade perpendicular to the optical axis of the viewing system is arranged. 3. Gerät nach Anspruch i oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das optische System derart angeordnet ist, daß seine Achse den zentralen Strahl des abbildenden Elektronenstrahles in dessen Einstellebene schneidet. 3. Apparatus according to claim i or 2, characterized in that the optical system is arranged so that its axis is the central beam of the imaging electron beam intersects in its adjustment plane. 4. Gerät nach Anspruch i oder folgerüden mit einer in der Einstellebene des Elektronenstrahles angeordneten photographischen Schicht, dadurch gekennzeichnet; daß. Mittel vorgesehen sind, mit deren Hilfe der Leuchtschirm während der Betrachtung in einer gegen die Einstellebene des Elektronenstrafles geneigten Stellung an die Stelle der photographischen Schicht gebracht werden kann. Angezogene Druckschriften: Schweizerische Patentschrift Nr. 233 018; Siemens Zeitschrift, 2o. Jahrg., 1940, Heft 6, S. 217 bis 227.4. Apparatus according to claim i or following with a photographic layer arranged in the setting plane of the electron beam, characterized in that; that. Means are provided with the aid of which the luminescent screen can be brought to the location of the photographic layer during viewing in a position inclined relative to the plane of adjustment of the electron beam. Cited publications: Swiss patent specification No. 233 018; Siemens magazine, 2o. Year., 1940, issue 6, pp. 217 to 227.
DEP13558A 1948-10-02 1948-10-02 Electron beam device, especially electron super microscope Expired DE891435C (en)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH233018A (en) * 1941-12-03 1944-06-30 Ardenne Manfred Von Electron microscope.

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH233018A (en) * 1941-12-03 1944-06-30 Ardenne Manfred Von Electron microscope.

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