DE698090C - pparate - Google Patents

Description

• Gaszuleitung und -ableitung für Vakuum-Reaktionsapparate Es sind bei der elektrischen Gasreinigung bereits geerdete Gitter oder Siebe zur Entionisierung von Gasen bekanntgeworden. Man hat auch bereits im Verbindungskanal zwischen Niederschlagskammer und Trockenofen durchlässige Trennwände zur Verhütung von Entzündungen angebracht. Weiter ist es kannt, bei Metalldampfgleichrichtern zur Vermeidung von Stromübergängen nach den Pumpenteilen Isolierstücke mit besonderen Hilfslelektroden anzuordnen, die einen störungsfreien Ausgleich des Potentialgefälles herbeiführen. Alle diese bekannten Maßnahmen dienen dazu, die Entladung zwischen Leitern verschiedenen Potentials ohne Betriebsstörung zu überbrücken.
• Eis wurde bei Versuchen festgestellt, daß die Gaszuleitung bzw. Gasableitung durch die Wandung von Vakuumapparaten zur Durchführung chemischer Reaktionen, die unter Verwendung einer elektrischen Gasentladung, z. B. einer Glimmentladung, durchgeführt werden, Schwierigkeiten bietet, wenn die Wandung des Vakuum Reaktionsapparates als Kathode geschaltet ist. Die Glimmentladung breitet sich dabei leicht im Gaszuleitungsrohr oder Gasableitungsrohr aus, wodurch der Betrieb erheblich gestört wird. Durch die Erfindung werden diese unerwünschten Entladungen vermieden.
• Die Erfindung betrifft eine Gaszuleitung und ableitung für Vakuumapparate zur.Durchführung chemischer Reaktionen zwischen Stoffen beliebigen Aggriegatzustan.des mittels elektrischer leuchtender Entladungen, dadurch gekennzeichnet, daß dort, wo die durch die Kathode des Vakuum-Reaktionsapparates führende und mit ihr elektrisch leitend verbundenen Gaszu- oder ableitung in den Reaktionsraum mündet, ein Sieb oder Filter in die Gasleitung eingebaut ist. Dabei werden die Maschen des Siebes so eng gehalten, daß die Gasentladung, insbesondere Glimmentladung, nicht in die Gaszuleitung bzw. Gas ableitung hineinschlagen kann. Vorzugsweise wird das Sieb mit Löchern oder Machen von weniger als 3 mm Durchmesser, durch die die Glimmentladung nicht mehr hindurchschlagen kann, versehen. Es können auch mehrere Siebe hintereinander so angeordnet werden, daß sich ihre Öffnungen gegenseitig verdecken. An Stelle von Lochsieben kann man auch vorteilhaft Siebe verwenden, die aus einem einfachen oder mehrfachen Drahtgeflecht bestehen. Hierdurch wird eine Abdeckung der Öffnung des Gaszuleirungs- bzw.
• -ableitungsrohres gegen das Durchschlagen von Entladungen erreicht, während das Gas frei durchtreten kann. Das Filter oder Sieb wird vorzugsweise aus dem gleichen Baustoff wie die. Wandung des Reaktionsapparates hergestellt, also z. B. aus Metallen oder Legierungen. Durch das Gaszuleitungsrohr können in den Reaktionsapparat die umzusetzenden Reaktionskompoenenten in geregelter Menge eingeleitet werden, während an das Gasableitungsrohr eine Vakuumpumpe augeschlossen ist, durch die in dem Reaktionsapparat der gewünschte Unterdruck, z. B. 40 bis 0,001 mm Hg, eingestellt wird.
• In der Zeichnung ist die Erfindung an einem Ausführungsbeispiel schematisch näher erläutert, und zwar zeigt die Abbildung einen Schnitt durch eine Gasableitung in größerem Maßstabe.
• In die als Kathode geschaltete Wandung 2 eines Vakuum-Reaktionsapparates zur Durch führung chemischer Reaktionen ist in die Gasableitung 1 das Sieb 1a eingebaut, welches verhindert, daß die Gasentladung insebsondere Gimmentladung, in die Gasableitung hineinschlagt. Die Maschnweite des Siebes ist z. B. kleiner als 1 mm. Das Sieb ist dabei z. B. in einer auswechselbar,en Hülse 1b angeordnet.

Claims (1)

1. PATENTANSPRUCH: Gaszuleitung und ableitung für Vakuum-Reaktionsapparate zur Durchführung chemischer Reaktionen zwischen Stoffen beliebigen Aggregatzustandes mittels .elektrischer leuchtender Entladungen, dadurch gekennzeichnet, daß dort, wo die durch die Kathode des Vakuum-Reaktionsapparates führende und mit ihr elektrisch leitend verbundene Gaszu- oder -ableitung - in den Reaktionsraum mündet, ein Sieb oder Filter in die Gasleitung eingebaut ist.