DE69728653T2

DE69728653T2 - Trennfolie

Info

Publication number: DE69728653T2
Application number: DE1997628653
Authority: DE
Inventors: Hiroyuki Sagamihara-shi SUMI; Toshiya Sagamihara-shi KOYAMA
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1996-10-03
Filing date: 1997-10-01
Publication date: 2005-03-24
Anticipated expiration: 2017-10-02
Also published as: KR100402999B1; KR19990071789A; TW349907B; US6333117B1; EP0882576A4; US6057041A; WO1998014328A1; DE69728653D1; EP0882576A1; EP0882576B1

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Trennfolie unter Verwendung eines biaxial orientierten Films als ein Grundfilm, der aus Polyethylen-2,6-naphthalindicarboxylat gebildet wurde. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung auf einen Trägerfilm, die beim Formen einer Harzfolie, einer Keramikfolie oder dergleichen verwendet wird, und die der Oberfläche des Formgegenstandes Oberflächeneigenschaften von hoher Genauigkeit verleihen kann. Die vorliegende Erfindung bezieht sich außerdem auf eine Trennfolie, die bei der Siliciumwaferherstellung oder dergleichen erforderlich ist, die ausgezeichnete Trennbarkeit aufweist und eine kleine Menge an Verunreinigungen in einer Trennschicht enthält, und in der die Übertragung der Verunreinigungen, die in dem Grundfilm enthalten sind, zu der Oberfläche der Trennschicht kontrolliert wird. Die vorliegende Erfindung bezieht sich außerdem noch auf eine Trennfolie (oder eine Schutzfolie), die für ein derartiges Material, das erforderlich ist, um die Verflüchtigung einer flüchtigen Komponente verhindert, wie ein Pflaster, das eine flüchtige medizinische Komponente enthält, verwendet wird.
Stand der Technik
Typischerweise sind Trennfolien mit einer darauf gebildeten gehärteten Silikonharzschicht verwendet worden. Sie werden in einer Vielzahl an Anwendungsgebieten verwendet, wie ein Trägerfilm, der bei der Herstellung von Formgegenständen verwendet wird, oder eine Schutzfolie für eine Haftschicht oder für ein Pflaster oder dergleichen. In den jeweiligen Gebieten, wo die konventionellen Trennfolien nun verwendet werden, sind Trennfolien verlangt worden, die außerdem Verbesserung hinsichtlich der Eigenschaften, wie Trennbarkeit, Dimensionsstabilität, Übertragung von Verunreinigungen, Gaspermeabilität oder dergleichen, aufweisen.
Die Verwendung der Trennfolien in einigen Anwendungsgebieten und ihre erforderlichen Eigenschaften werden nun beschrieben.
Bei der Herstellung eines Formgegenstandes wird die Trennfolie als ein Trägerfilm beim Formen einer Harzfolie, einer Harzbeschichtung, einer Keramikfolie oder dergleichen verwendet.
Die Harzfolie wird durch Beschichten (Gießen) einer Harzlösung, die beispielsweise Vinylchlorid oder dergleichen enthält, auf einen Trägerfilm, Erwärmen des resultierenden Trägerfilms, um ein Lösungsmittel daraus zu entfernen, und Abziehen und Abtrennen des Trägerfilms geformt. Sie wird bei Anwendungen, wie eines Markierungsfilms, verwendet.
Die Trennfolie wird ebenso zum Laminieren und Formen eines Prepregs bei der Herstellung einer gedruckten Verdrahtungsgrundplatte verwendet. Das heißt, eine Lösung eines wärmehärtbaren Harzes, wie ein Phenolharz oder ein Epoxidharz, wird direkt auf eine Trennfolie beschichtet oder wird auf einem Glasfasergewebe oder Papierblatt, das auf die Trennfolie laminiert wird, imprägniert und anschließend wird die resultierende Trennfolie erwärmt, um das Lösungsmittel daraus zu entfernen. Die Trennfolie wird dann abgezogen und abgetrennt, um ein Prepreg herzustellen.
Die Harzbeschichtung wird beispielsweise durch Beschichten einer Trägerfilmoberfläche mit einer Beschichtungslösung, die durch Lösen eines Harzes als ein Haftmittel in einem Lösungsmittel erhalten wird, und dann Erwärmen des resultierenden Trägerfilms, um das Lösungsmittel zu entfernen, hergestellt.
Die Keramikfolie wird als ein Formgegenstand beispielsweise durch Beschichten einer Trägerfilmoberfläche mit einer Aufschlämmung, die durch Dispergieren eines Keramikpulvers, eines Bindemittels oder dergleichen in einem Lösungsmittel erhalten wird, Erwärmen des resultierenden Trägerfilms, um das Lösungsmittel zu entfernen, und dann Abziehen und Entfernen des Trägerfilms, hergestellt.
Im allgemeinen wird aus den Oberflächen einer Harzfolie, Keramikfolie oder dergleichen die Oberfläche, von der ein Trägerfilm abgezogen worden ist, häufig für Anwendungen verwendet, die Oberflächeneigenschaften von hoher Genauigkeit aufweisen müssen. Deshalb übt die Oberflächenrauhigkeit des Grundfilms, der in dem Trägerfilm verwendet wird, einen großen Einfluß auf die Oberflächenrauhigkeit der Harzfolie, Keramikfolie oder dergleichen auf.
Als ein Grundfilm des obigen Trägerfilms wird eine Vielzahl an Filmen, insbesondere ein biaxial orientierter Polyethylenterephthalatfilm (kann hierin nachstehend als PET abgekürzt werden), verwendet. Die Oberfläche des PET-Films wird normalerweise durch Einbringen eines Füllstoffes oder dergleichen zur Verbesserung ihrer Aufwickelfähigkeit angerauht. Folglich weisen eine Harzfolie, eine Keramikfolie und dergleichen, die durch die Verwendung eines Trägerfilms mit einem Füllstoff-enthaltenden PET-Film als ein Grundfilm hergestellt werden, eine rauhe Oberfläche auf, und können, wenn sie in einer Vielzahl von Schichten laminiert werden, Lücken zwischen den angrenzenden Schichten enthalten.
Andererseits wird die Trennfolie erwärmt, um das Lösungsmittel zu entfernen, nachdem sie mit einer Harzlösung oder keramischen Aufschlämmung beschichtet wird. Die Erwärmungstemperatur ist in vielen Fällen nahe oder höher als die Glasübergangstemperatur (Tg) des Grundfilms, der in der Trennfolie verwendet wird. Infolgedessen tritt ein Problem auf, daß thermische Verformung, wie Dimensionsänderung und Faltenbildung, auf der Trennfolie stattfindet und die geformte Harzfolie oder dergleichen keine einheitliche Dicke und schlechte Oberflächenglätte aufweist, wodurch die Qualität des Produktes verringert wird. Es wird befürchtet, daß das obige Problem sichtbarer werden kann, wenn die Erwärmungszeit verkürzt wird und die Erwärmungstemperatur erhöht wird, um die Produktivität der Harzfolie oder dergleichen zu erhöhen.
Die Trennfolie wird ebenso in einem anderen Anwendungsgebiet verwendet, wo hohe Trennbarkeit erforderlich ist und die Übertragung der Verunreinigungen zu der Trennschicht berücksichtigt werden muß. Ein Beispiel eines derartigen Anwendungsgebietes umfaßt die Verwendung der Trennfolie als eine Schutzfolie für eine Haftfo lie, die bei dem Rückschleifschritt oder Zerschneidungsschritt der Siliciumwaferherstellung verwendet wird.
Das heißt, die Haftfolie, in der eine Vielzahl an Haftmittelschichten laminiert wird, wird verwendet, um einen Wafer in dem Rückschleifschritt oder Zerschneidungsschritt der Siliciumwaferherstellung zu fixieren.
Insbesondere wird in dem Rückschleifschritt die Seite des Wafers, auf der Schaltungen gedruckt werden, durch die Haftschicht fixiert, dann wird seine hintere Oberfläche poliert, und die Haftschicht wird abgezogen. Deshalb verursacht selbst eine kleine Menge eines restlichen Haftmittels nach dem Abziehen oder die Übertragung von Verunreinigungen von der Schutzfolie durch die Haftschicht zu der Waferoberfläche Probleme, wie eine mangelhafte gedruckte Schaltung oder dergleichen, und verringert die Ausbeute von Halbleiterchips.
In dem Zerschneidungsschritt wird ein Silciumwafer, während er durch eine Haftschicht fixiert wird, in kleine Stücke geschnitten, UV-Bestrahlung oder dergleichen wird dann durchgeführt, um das Haftvermögen der Haftschicht zu verringern, und jedes Stück wird herausgenommen. Jedes der resultierenden Waferstücke wird zu dem anschließenden Bindungsschritt und Formschritt zur Verwendung darin übertragen. Die Haftfolie wird normalerweise in einem Zustand gelagert, daß ihre Haftschichtoberfläche durch eine Trennfolie geschützt wird, und in dem Zerschneidungsschritt nach dem Abziehen und Entfernen der Trennfolie verwendet wird.
In den letzten Jahren ist die Größe des Siliciumwafers, der in dem Formschritt verwendet wird, sehr klein geworden. Die Gegenwart von sogar einer kleinen Menge an Verunreinigungen auf dem Wafer verursacht beispielsweise Waferspaltung, ausgehend von den Verunreinigungen aufgrund der schlechten Haftung, was zur Verringerung der Ausbeute des Produktes führt.
Inzwischen ist als die obige Schutzfolie für die Haftschicht beispielsweise eine Trennfolie, die einen Polyesterfilm und eine darauf gebildete gehärtete Silikontrennschicht umfaßt, verwendet worden. Eine derartige Trennfolie weist jedoch dahinge hend einen Nachteil auf, daß die Verunreinigungen (Oligomere und eine Metallverbindung, verwendet als ein Polymerisationskatalysator) in dem Polyesterfilm gewöhnlich zu der Silikontrennschicht übertragen werden und sich auf der Trennschicht absetzen. Die Verunreinigungen, die sich auf der Trennschicht absetzten, werden auf die Haftschichtoberfläche der Haftfolie übertragen und werden außerdem zu dem Siliciumwafer in dem Rückschleif- und Zerschneidungsschritt der Siliciumwaferherstellung übertragen, wobei die Verringerung der Ausbeute des Produktes in dem Formschritt verursacht wird. Außerdem verringert die Gegenwart von Verunreinigungen (nicht gehärtetes Silikonmonomer oder Oligomere) in dem gehärteten Silikonharz, das die Trennschicht der Trennfolie bildet, die Ausbeute ebenso.
Eine Trennfolie wird ebenso in anderen Anwendungsgebieten verwendet, d. h. medizinisches Behandlungsgebiet. Beispielsweise wird eine Trennfolie als eine Schutzfolie zum Schützen der Haftschicht eines Pflasters und Aufrechterhalten der Wirksamkeit der medizinischen Komponente, die in der Haftschicht enthalten ist, verwendet. In einem derartigen medizinischen Behandlungsgebiet ist als ein Pflaster, das kaum Ausschlag verursacht, und das eine klinisch wirksame Menge einer Medizin zu der kranken Stelle führt, beispielsweise ein Pflaster bekannt, das als einen Bestandteil ein Gewirk aus feinen, porösen Hohlfasern verwendet (WO 087/00046, WO 087/04343 und WO 090/09784). Es ist ebenso ein Pflaster bekannt, das ein Laminat dieses Gewirks und eines sehr dünnen Polyesterfilms ist (japanische Patentanmeldung Kokai (offengelegt) 3-816044).
Als Schutzschicht für die die medizinische Komponente-enthaltende Haftschicht eines Pflasters ist ein Trennpapier unter Verwendung von Papier als Grundmaterial verwendet worden. Dieses Trennpapier wies jedoch dahingehend einen Nachteil auf, daß, da Papier porös ist, die medizinische Komponente des Pflasters allmählich ausblutet oder sich verflüchtigt, was zur Verkürzung des wirksamen Zeitraumes der medizinischen Komponente führt. Um den Nachteil abzuschwächen wird ein Polyethylenterephthalat-(PET-)-Film mit einer höheren Gasbarriereeigenschaft als das Papier ebenso als das Grundmaterial für die obige Schutzschicht verwendet. Jedoch wird eine Trennfolie mit höheren Gasbarriereeigenschaften derzeit erwünscht, um den wirksamen Zeitraum der medizinischen Komponente zu verlängern.
Probleme, die die Erfindung versucht, zu lösen
Es ist deshalb der erste Gegenstand der vorliegenden Erfindung, eine Trennfolie bereitzustellen, die ausgezeichnete Oberflächeneigenschaften aufweist und ebenso Stabilität gegen Wärme aufweist (d. h. eine kleine Dimensionsänderungsrate gegenüber Wärme).
Es ist der zweite Gegenstand der vorliegenden Erfindung, eine Trennfolie bereitzustellen, die ausgezeichnete Trennbarkeit aufweist und keine Übertragung der Verunreinigungen, die in dem Grundfilm enthalten sind, zu der Trennschicht ermöglicht.
Es ist der dritte Gegenstand der vorliegenden Erfindung, eine Trennfolie mit ausgezeichneten Gasbarriereeigenschaften bereitzustellen.
Es ist ein anderer Gegenstand der vorliegenden Erfindung, eine Trennfolie bereitzustellen, die in verschiedenen Anwendungen nützlich ist.
Andere Gegenstände der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung offensichtlich.
Mittel zur Lösung des Problems
Die obigen Gegenstände der vorliegenden Erfindung können gemäß der vorliegenden Erfindung durch eine Trennfolie (C) erhalten werden, umfassend:
einen Polyesterfilm (A), und
eine gehärtete Silikonharzschicht (B), die auf mindestens einer Seite des Polyesterfilms (A) gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß

(1) der Film (A) ein biaxial orientierter Film ist, der aus Polyethylen-2,6-naphthalindicarboxylat gebildet ist und eine durchschnittliche Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra) von 50 nm oder weniger aufweist,
(2) die Trennfolie (C) eine Dimensionsänderung von 0,2% oder weniger unter einer Beanspruchung von 150 gf/mm² (147 × 10⁴ Pa) bei 120°C aufweist, und
(3) die Trennfolie (C) eine Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung zwischen dem Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B) aufweist.

Die erfindungsgemäße Trennfolie wird nachstehend ausführlicher beschrieben.
In der vorliegenden Erfindung wird ein biaxial orientierter Film, der aus Polyethylen-2,6-naphthalindicarboxylat gebildet wird, als ein Grundfilm der Trennfolie verwendet. Das Polyethylen-2,6-naphthalindicarboxylat (kann nachstehend als PEN abgekürzt werden), das den biaxial orientierten Film bildet, ist ein Polyester, der Ethylen-2,6-naphthalindicarboxylat als die Hauptwiederholungseinheit enthält.
Das erfindungsgemäße PEN-Polymer kann eine kleine Menge (10 Mol-% oder weniger, insbesondere 5 Mol-% oder weniger) andere Copolymerkomponente(n) enthalten, so lange die Beständigkeit gegen Wärmeverformung der resultierenden Trennfolie nicht beeinträchtigt wird.
Illustrative Beispiele der anderen Copolymerkomponente umfassen aromatische Dicarbonsäuren, wie Terephthalsäure, Isophthalsäure, Phthalsäure, Naphthalin-2,7-dicarbonsäure, 4,4'-Diphenyldicarbonsäure, 4,4'-Diphenyletherdicarbonsäure oder dergleichen; aliphatische Dicarbonsäuren, wie Oxalsäure, Adipinsäure oder dergleichen; Oxycarbonsäuren, wie p-Oxybenzoesäure, p-Oxyethoxybenzoesäure oder dergleichen; und Glykole, wie Diethylenglykol, 1,3-Propylenglykol, 1,4-Tetramethylenglykol, 1,6-Hexamethylenglykol, Neopentylglykol oder dergleichen.
Das erfindungsgemäße PEN-Polymer kann ebenso mit einer Verbindung mit mindestens drei funktionellen Gruppen copolymerisiert werden, so lange die Eigenschaften und Filmformbarkeit des PEN nicht wesentlich beeinträchtigt werden. Illustrative Beispiele einer derartigen Verbindung umfassen Glycerin, Pentaerythritol, Trimellithsäure, Pyromellithsäure oder dergleichen.
Außerdem können in dem erfindungsgemäßen PEN-Polymer ebenso ein Teil oder alle seiner terminalen Hydroxylgruppen und/oder Carboxylgruppen mit einer mono funktionellen Verbindung, wie Benzoesäure, Methoxypolyalkylenglykol oder dergleichen, blockiert sein, um seine Beständigkeit gegen Hydrolyse zu verbessern.
Das erfindungsgemäße PEN-Polymer weist vorzugsweise eine Grenzviskosität von 0,5 oder mehr, insbesondere 0,6 bis 1,0 auf. Das PEN-Polymer ist besonders bevorzugt ein Homopolymer, das nur Ethylen-2,6-naphthalindicarboxylat als eine Wiederholungseinheit enthält, da ein derartiges PEN-Polymer einen Grundfilm ergeben kann, der hinsichtlich der mechanischen Eigenschaften, wie Young'scher Modul, und der thermischen Eigenschaften, wie Beständigkeit gegen Wärmeverformung, ausgezeichnet ist.
Das PEN-Polymer kann durch ein bekanntes Verfahren hergestellt werden. Es kann beispielsweise durch Unterziehen der Naphthalin-2,6-dicarbonsäure oder ihrem Ester-bildenden Derivat und Ethylenglykol oder seinem Ester-bildenden Derivat der Polykondensation in Gegenwart eines Katalysators hergestellt werden. Ein PEN-Copolymer kann durch Zugeben der obigen Polymerkomponenten zu den Copolymerkomponenten und Unterziehen des Gemisches der Polykondensation oder durch Mischen eines Homopolymers des PEN und eines Polyesters, der Copolymerkomponenten in einem geschmolzenen Zustand enthält, und Unterziehen des resultierenden Gemisches einer Esteraustauschreaktion hergestellt werden.
Vorzugsweise kann das PEN-Polymer inaktive Feinteilchen mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,01 bis 20 μm, vorzugsweise 0,05 bis 5 μm, besonders bevorzugt 0,1 bis 3 μm, zur Verbesserung der Filmaufwickelfähigkeit enthalten.
Der Gehalt an inaktiven Feinteilchen beträgt 0,001 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 0,005 bis 5 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,01 bis 3 Gew.-%. Der durchschnittliche Teilchendurchmesser und der Gehalt der inaktiven Feinteilchen werden vorzugsweise und geeignet gemäß der Form und Teilchendurchmesserverteilung der Teilchen und der Spezifikation des erzielten Films bestimmt. Die inaktiven Feinteilchen können anorganisch oder organisch sein. Spezielle Beispiele der Feinteilchen umfassen vorzugsweise anorganische Feinteilchen, wie Siliciumdioxid, Aluminiumoxid, Kaolin, Calciumcarbonat, Titanoxid, Bariumsulfat, Ruß oder dergleichen; und organische Feinteilchen, wie vernetztes Acrylharz, vernetztes Polystyrolharz, Melaminharz, vernetztes Silikonharz oder dergleichen. Das PEN-Polymer, das die inaktiven Feinteilchen selbst in einer kleineren Menge als das PET-Polymer enthält, kann noch ausreichende Aufwickelfähigkeit aufweisen, da das PEN-Polymer eine steifere Molekularkette aufweist, und ergibt daher einen Film mit höherer Steifigkeit als das PET-Polymer.
Die inaktiven Feinteilchen, die in dem Grundfilm der erfindungsgemäßen Trennfolie enthalten sind, sind besonders bevorzugt Siliciumdioxidfeinteilchen, dargestellt durch kugelförmige Siliciumdioxidfeinteilchen und poröse Siliciumdioxidfeinteilchen. Diese bevorzugten Siliciumdioxidfeinteilchen werden nachstehend beschrieben.
Die kugelförmigen Siliciumdioxidfeinteilchen weisen ein Teilchendurchmesserverhältnis (langer Durchmesser/kurzer Durchmesser) von 1,0 bis 1,2 und einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,01 bis 5 μm auf. Der durchschnittliche Teilchendurchmesser davon beträgt vorzugsweise 0,1 μm oder mehr, stärker bevorzugt 0,3 μm oder mehr, um eine Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra) innerhalb des obigen Bereiches aufrechtzuerhalten. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser zu groß ist, werden Fremdstoffe leicht hergestellt. Deshalb beträgt der durchschnittliche Teilchendurchmesser vorzugsweise 3 μm oder weniger, stärker bevorzugt 2 μm oder weniger. Das Herstellungsverfahren der kugelförmigen Siliciumdioxidfeinteilchen ist nicht besonders begrenzt, so lange die obigen Bedingungen zutreffen. Die kugelförmigen Silicziumdioxidfeinteilchen können beispielsweise durch Herstellen von monodispersen Kugeln von wasserhaltigem Siliciumdioxid (Si(OH)₄), durch Hydrolyse von Ethylorthosilikat (Si(OC₂H₅)₄) und Unterziehen der monodispersen Kugeln aus wasserhaltigem Siliciumdioxid einer Dehydratisierungsbehandlung gemäß der folgenden Reaktionsformel hergestellt werden, um die folgende Siliciumdioxidbindung dreidimensional zu vergrößern (Nippon Kagaku Kaishi, 81, Nr. 9, S. 1503).
Siliciumdioxidbindung

≡Si-O-Si≡

Reaktionsformel

Si(OC₂H₅)₄ + 4H₂O → Si(OH)₄ + 4C₂H₅OH
≡Si-OH + HO-Si≡ → ≡Si-O-Si≡ + H₂O

Andererseits sind die porösen Siliciumdioxidfeinteilchen agglomerierte Teilchen.
Die primären Teilchen, die die porösen Siliciumdioxidteilchen bilden, weisen wünschenswerterweise einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,01 bis 0,1 μm auf. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser der primären Teilchen kleiner als 0,01 μm ist, werden ultrafeine Teilchen durch Auflösung in der Aufschlämmungsphase erzeugt und sie bilden Agglomerate, was nicht bevorzugt ist. Wenn andererseits der durchschnittliche Teilchendurchmesser der primären Teilchen größer als 0,1 μm ist, geht die Porosität der Teilchen verloren, wodurch die Affinität des PEN-Polymers verloren geht und Hohlräume leicht erzeugt werden, was nicht bevorzugt ist. Hohlräume verringern die Transparenz des Films und verringern daher seinen Warenwert.
Die porösen Siliciumdioxidfeinteilchen weisen vorzugsweise ein Porenvolumen von 0,5 bis 2,0 ml/g, stärker bevorzugt 0,6 bis 1,8 ml/g auf. Die Teilchen mit einem Porenvolumen kleiner als 0,5 ml/g sind nicht geeignet, da sie verringerte Porosität aufweisen, wodurch Hohlräume leicht erzeugt werden und sich Transparenz und Lichtdurchlässigkeit verringern. Andererseits neigen die Teilchen mit einem Porenvolumen größer als 2,0 ml/g zur Auflösung und Agglomeration, wodurch die Kontrolle der Teilchendurchmesser schwierig wird.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der porösen Siliciumdioxidfeinteilchen beträgt vorzugsweise 0,1 bis 5 μm, stärker bevorzugt 0,3 bis 3 μm. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser kleiner als 0,1 μm ist, weist der resultierende Film unzureichende Schlüpfrigkeit auf. Wenn andererseits der durchschnittliche Teilchendurchmesser größer als 5 μm ist, wird die Oberfläche des resultierenden Films zu rauh und seine Rauhigkeit wird auf die Folie, die auf der Trennfolie geformt wird, übertragen, wodurch die Oberfläche der geformten Folie ebenso rauh wird. Außerdem erhöht sich die Zahl an Fremdstoffen in dem Film unerwünscht.
Wie oben erwähnt, kann der erfindungsgemäße Grundfilm inaktive Feinteilchen enthalten. Der Grundfilm kann jedoch ebenso Additive, wie Stabilisatoren, UV-Absorber, Flammverzögerungsmittel, Antistatikmittel oder dergleichen, enthalten. Ein anderes wärmehärtendes Harz kann ebenso in einer kleinen Menge (beispielsweise 20 Gew.-% oder weniger, insbesondere 10 Gew.-% oder weniger) enthalten sein.
Es gibt keine Einschränkung hinsichtlich darauf, wann die inaktiven Feinteilchen und andere Additive zugegeben werden sollen, so lange sie vor der Bildung des Films aus dem PEN-Polymer zugegeben werden. Beispielsweise können sie in einem Polymerisationsschritt oder vor der Bildung des Films zugegeben werden.
Der PEN-Film, der in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, kann durch jedes an sich bekannte Verfahren hergestellt werden. Er kann beispielsweise durch Trocknen des PEN-Polymers, Schmelzen des getrockneten PEN-Polymers in einem Extruder bei einer Temperatur von Tm bis (Tm + 70)°C (Tm ist der Schmelzpunkt des PEN-Polymers), Extrudieren des geschmolzenen PEN-Polymers aus der Düse (beispielsweise T-Düse oder I-Düse) des Extruders auf eine rotierende Kühltrommel zum Quenchen des Polymers bei 40 bis 90°C, um einen nicht gestreckten Film zu erhalten, dann Strecken des nicht gestreckten Films auf das 2,5- bis 8,0fache in Längsrichtung und das 2,5- bis 8,0fache in Querrichtung bei einer Temperatur von (Tg – 10) bis (Tg + 70)°C (Tg ist die Glasübergangstemperatur des PEN-Polymers), und Heißfixieren des gestreckten Films bei einer Temperatur von 180 bis 250°C für 1 bis 60 Sekunden, wenn erforderlich, hergestellt werden. Die Dicke des PEN-Films beträgt vorzugsweise 1 bis 250 μm, stärker bevorzugt 5 bis 100 μm, besonders bevorzugt 25 bis 75 μm.
Die Streckverhältnisse in beide Richtungen sind vorzugsweise beinahe dieselben, so daß der resultierende PEN-Film gute Isotropie aufweisen kann. Der so erhaltene biaxial orientierte und heißfixierte Film wird vorzugsweise einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 120 bis 150°C in einem entspannten Zustand unterzogen, um die Beständigkeit gegen thermische Verformung der Trennfolie um 110°C herum weiter zu verbessern.
Der PEN-Film (A) als ein Grundfilm der erfindungsgemäßen Trennfolie (C) weist eine glatte Oberfläche auf und weist eine Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra) von 50 nm oder weniger, vorzugsweise 2 bis 40 nm, besonders bevorzugt 5 bis 30 nm auf. Wenn die Ra kleiner als der obige Bereich ist, weist die Trennfolie leicht Blockierung zwischen den Filmen auf, wenn sie in einer gewalzten Form vor dem Verarbeitungsschritt gelagert wird, und Falten werden leicht in dem Verarbeitungsschritt aufgrund der verringerten Schlüpfrigkeit erzeugt.
Wenn andererseits die Ra größer als 50 nm ist, kann der Formgegenstand unter Verwendung der Trennfolie eine rauhe Oberfläche aufweisen und kann Hohlräume zwischen der Trennfolie und sich selbst aufweisen.
Die Ra des PEN-Films (A) kann in dem obigen Bereich durch Kontrollieren der durchschnittlichen Teilchendurchmesserverteilung, Art und Zugabemenge der inaktiven Feinteilchen aufrechterhalten werden.
Die erfindungsgemäße Trennfolie weist eine gehärtete Silikonharzschicht (B), die auf mindestens einer Seite des PEN-Films (A) als eine Trennschicht gebildet wird, auf. Die gehärtete Silikonharzschicht als eine Trennschicht kann durch Beschichten des PEN-Films mit einer Beschichtungslösung, die ein härtendes Silikonharz enthält, und Trocknen, um den beschichteten Film zu härten, gebildet werden.
Zu diesem Zeitpunkt ist es möglich, eine Primerschicht auf der PEN-Filmoberfläche vor dem Auftragen einer Beschichtungslösung, die ein härtbares Silikonharz enthält, auf den Film zu bilden, und dann die Beschichtungslösung auf die Oberfläche der resultierenden Primerschicht aufzutragen. Diese Primerschicht wird später ausführlich beschrieben.
Als das härtbare Silikonharz kann beispielsweise jedes eines (1) Kondensationsreaktionstyps, (2) Additionsreaktionstyps, (3) UV- oder Elektronenstrahl-Härtungstyps usw. verwendet werden. Sie können einzeln oder in Kombination verwendet werden.
Die obigen Härtungsreaktionen der Silikone können wir folgt gezeigt werden.
(1) Kondensationsreaktion

~Si-OH + HO-Si- → ~Si-O-Si + H₂O
~Si-OH + H-Si- → ~Si-O-Si + H₂
~Si-OH + AO-Si- → ~Si-O-Si + AOH (A ist eine niedere Alkylgruppe)

(2) Additionsreaktion

~Si-CH=CH₂ + H-Si → ~Si-CH₂CH₂-Si

(3) UV- oder Elektronenstrahl-Härtungsreaktion
Als ein Beispiel des Silikonharzes vom Kondensationsreaktionstyp (1) werden ein -OH-terminiertes Polymethylsiloxan und ein -H-terminiertes Polydimethylsiloxan (Hydrogensilan) der Kondensationsreaktion unterzogen, und eine dreidimensionale vernetzte Struktur wird durch Zugeben eines Organozinnkatalysators (beispielsweise ein organischer Zinnacylatkatalysator) zu dem obigen Kondensat gebildet.
Als ein Beispiel des Silikonharzes vom Additionsreaktionstyp (2) wird eine dreidimensionale Struktur durch das miteinander Reagieren eines Gemisches aus einem Vinyl-terminierten Polydimethylsiloxan und einem Hydrogensilan und eines Platinkatalysators gebildet.
Als Beispiele des Silikonharzes vom UV-Härtungstyp (3) als die häufigsten Typen wird ein Silikonharz durch dieselbe Radikalreaktion wie beim normalen Silikonkautschukvernetzen vernetzt; wird ein Silikonharz nachdem Einbringen einer Acrylgruppe darin photogehärtet; wird ein Silikonharz durch ein Verfahren vernetzt, in dem ein Oniumsalz durch ein UV-Licht zersetzt wird, um eine starke Säure zu erzeugen, und die starke Säure verursacht die Spaltung der Epoxidgruppe; und wird ein Silikonharz durch Additionsreaktion von Thiol zu Vinylsiloxan vernetzt. Elektronenstrahlen weisen eine größere Energie als UV-Licht auf und können eine Vernetzungsreaktion durch ein Radikal ohne Verwendung irgendeines Initiators, wie in dem Fall des UV-Härtens, verursachen.
Das härtbare Silikonharz weist vorzugsweise einen Polymerisationsgrad von etwa 50 bis 200.000, vorzugsweise etwa 1.000 bis 100.000 auf. Spezielle Beispiele des härtbaren Silikonharzes sind KS-718, -774, -775, -778, -779H, -830, -835, -837, -838, -839, -841, -843, -847, -847H, X-62-2418, -2422, -2125, -2492, -2494, -470, -2366, -630, -X-92-140, -128, KS-723A B, -705F, -708A, -883, -709 und -719, davon sind alle von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. hergestellt; TPR-6701, -6702, -6703, -3704, -6705, -6722, -6721, -6700, XSR-7029, YSR-3022 und YR-3286, davon sind alle von Toshiba Silicone Co., Ltd. hergestellt; DK-Q3-202, -203, -204, -210, -240, -3003, -205, -3057 und SFXF-2560, davon sind alle von Dow-Corning Corporation hergestellt; SD-7226, -7320, -7229, BY24-900, -171, -312, -374, SRX-375, SYL-OFF23, SRX-244 und SEX-290, davon sind alle von Toray Silicone Co., Ltd. hergestellt; und SILCOLEASE 425, das von I. C. I. Japan K. K. hergestellt wird. Es können ebenso Silikonharze verwendet werden, die in der japanischen Patentanmeldung Kokai (offengelegt) Nr. 47-34447, der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 52-40918 usw. offenbart werden.
Bei der Bildung einer gehärteten Silikonharzschicht (B) auf dem Film durch die Verwendung des härtbaren Silikonharzes kann ein an sich bekanntes Beschichtungsverfahren, wie Aufzugsrakelbeschichten, Rakelmesserbeschichten, Umkehhrwalzlackieren, Gravurlackieren oder dergleichen, verwendet werden.
Das Trocknen und Härten (beispielsweise Wärmehärten oder UV-Härten) des gebildeten Beschichtungsfilms muß so durchgeführt werden, daß der resultierende Film ein nachfolgendes Adhäsionsverhältnis von 85% oder mehr, vorzugsweise 95% oder mehr, aufweist. Das Trocknen und Härten des Beschichtungsfilms kann unab hängig voneinander oder gleichzeitig durchgeführt werden. Wenn sie gleichzeitig durchgeführt werden, werden sie vorzugsweise bei einer Temperatur von 100°C oder höher durchgeführt. Sie werden jeweils bei einer Temperatur von 100°C oder höher für 30 Sekunden oder länger durchgeführt, wenn sie unabhängig voneinander durchgeführt werden. Wenn die Trocknungstemperatur weniger als 100°C beträgt und die Härtungszeit weniger als 30 Sekunden beträgt, ist das Härten des Beschichtungsfilms unvollständig und der Beschichtungsfilm löst sich leicht ab.
Die Dicke der gehärteten Silikonharzschicht (B) ist nicht auf einen besonderen Wert begrenzt, aber beträgt vorzugsweise 0,01 bis 5 μm, besonders bevorzugt 0,05 bis 1 μm. Wenn die Dicke kleiner als 0,01 μm ist, verringert sich die Trennbarkeit der Harzschicht (B) und es können keine zufriedenstellenden Eigenschaften erhalten werden. Wenn andererseits die Dicke größer als 5 μm ist, ist eine lange Härtungszeit erforderlich und dies ist nachteilig für die Herstellung. Deshalb wird die Dicke, die von dem obigen Bereich abweicht, nicht bevorzugt.
Die erfindungsgemäße Trennfolie, die durch Bilden einer gehärteten Silikonharzschicht (B) auf mindestens einer Seite des PEN-Films (A) erhalten wurde, zeigt sehr geringe Verformung gegenüber Wärme und ist folglich zur Verwendung unter Wärmebedingungen geeignet. Die Verformung wird in einer Dimensionsänderungsrate (%) ausgedrückt, die unter einer Beanspruchung von 150 gf/mm² (147 × 10⁴ Pa) bei 120°C gemäß einem später beschriebenen Verfahren gemessen wird. Die Dimensionsänderungsrate wird in Beanspruchungsrichtung und vertikaler Richtung unter Bedingungen der obigen Beanspruchung und Temperatur gemessen und beträgt 0,2% oder weniger im absoluten Wert (d. h. –0,2% bis +0,2%) in jede Richtung. Die erfindungsgemäße Trennfolie wies eine Dimensionsänderung von vorzugsweise 0,12% oder weniger, besonders bevorzugt 0,07% oder weniger auf.
Die erfindungsgemäße Trennfolie zeigt eine sehr kleine Dimensionsänderung gegenüber der Wärme, wie oben erwähnt. Daher kann sie vorteilhaft als ein Trägerfilm zum Formen einer Harzfolie oder einer Keramikfolie verwendet werden.
Die folgenden Trennfolien (I), (II) und (III) können als bevorzugte Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Trennfolie verwendet werden. Diese Trennfolien mit unterschiedlicher Konstitution finden entsprechende Anwendungen, für die ihre Verwendung geeignet ist. Kurz gesagt, umfaßt die Trennfolie (I) einen PEN-Film (A) und eine gehärtete Silikonharzschicht (B) und enthält keine Primerschicht (D) dazwischen. Die Trennfolien (II) und (III) enthalten jeweils eine Primerschicht (D) zwischen dem PEN-Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B). Die Trennfolien (II) und (III) sind grundsätzlich hinsichtlich des Typs der Primerschicht (D) unterschiedlich. Jede der Trennfolien (I), (II) und (III) wird nachstehend beschrieben.
Trennfolie (II)
Dies ist eine Trennfolie (C), umfassend:
einen Polyesterfilm (A) und
eine gehärtete Silikonharzschicht (B), die auf mindestens einer Seite des Polyesterfilms (A) gebildet ist, worin

(1) der Film (A) ein biaxial orientierter Film ist, der aus Polyethylen-2,6-naphthalindicarboxylat gebildet ist und eine durchschnittliche Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra) von 50 nm oder weniger aufweist,
(2) die Trennfolie (C) eine Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung zwischen dem Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B) aufweist, und die Primerschicht (D) mit der SiO-Bindung eine Schicht ist, die aus einem Kondensat gebildet ist, das durch Hydrolyse von Alkoxysilan erhalten wird, und
(3) die Trennfolie (C) eine Dimensionsstabilität von 0,2% oder weniger unter einer Beanspruchung von 150 gf/mm² (147 × 10⁴ Pa) bei 120°C aufweist.

Die Trennfolie (II) ist dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung zwischen dem PEN-Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B) aufweist, und daß die Primerschicht (D) eine Schicht ist, die aus einem Kondensat gebildet wird, das durch die Hydrolyse von Alkoxysilan erhalten wird.
Die Primerschicht (D) der Trennfolie (II) kann durch Beschichten der Oberfläche des PEN-Films (A) mit einer organischen Lösungsmittellösung aus Alkoxysilan, insbe sondere einem niederen Alkoxysilan, und Erwärmen des resultierenden Films beispielsweise bei einer Temperatur von 120 bis 210°C für 10 bis 60 Sekunden, um das Lösungsmittel zu trocknen und zu entfernen, und gleichzeitig das Vernetzen und Härten des Films herbeizuführen, gebildet werden.
Die Verwendung von Tetraethoxysilan (Si(OC₂H₅)₄) als ein entsprechendes Alkoxysilan ist wie folgt. Der PEN-Film (A) wird mit einer Ethanollösung aus Tetraethoxysilan beschichtet. Wenn das Lösungsmittel (Ethanol) verdampft, kommt die Tetraethoxysilanverbindung (Si(OC₂H₅)₄) mit der Feuchtigkeit in der Luft in Kontakt. Infolgedessen verläuft eine Reaktion gemäß der folgenden Formel, um eine Verbindung A herzustellen.
Die Verbindung (A) verursacht eine Dehydratisierungs- und Kondensationsreaktion an ihrer Silanolgruppe während ihres Erwärmens zur Trockne, wodurch eine einheitliche Primerschicht gebildet wird.
Die Dicke der Primerschicht (D) beträgt geeigneterweise 0,02 bis 2 μm. Wenn die Dicke kleiner als 0,02 μm ist, ist die Wirkung des Unterdrückens der Übertragung von Verunreinigungen, die in dem PEN-Film (A) enthalten sind, zu der Trennschichtoberfläche nicht ausreichend. Wenn andererseits die Dicke größer als 2 μm ist, ist die Antiblockiereigenschaft des PEN-Films (A) mit der darauf gebildeten Primerschicht (D) schlecht. Deshalb wird die Dicke, die von dem obigen Bereich abweicht, nicht bevorzugt.
Die Trennfolie (II) kann durch das Bilden einer gehärteten Silikonharzschicht (B) auf der so erhaltenen Primerschicht (D) des PEN-Films (A) gemäß dem obigen Verfahren erhalten werden.
In der Trennfolie (II) wird aufgrund der Gegenwart der obigen Primerschicht (D) die Übertragung der Verunreinigungen (beispielsweise Katalysatormetallkomponente und Oligomere), die in dem PEN-Film auf der Trennschicht (die gehärtete Silikonharzschicht) enthalten sind, erheblich unterdrückt. Deshalb weist die Trennfolie (II) eine sehr kleine Menge an Verunreinigungen auf. Die Trennfolie (II) wird sehr vorteilhaft bei der Siliciumwaferherstellung verwendet, wo für die Durchführung des Herstellungsverfahrens notwendig ist, zu verhindern, daß eine sehr kleine Menge an Verunreinigungen in den Wafer eintritt. Das heißt, die Trennfolie (II) ist insbesondere als eine Trennfolie (eine Schutzfolie), die in dem Rückschleifschritt oder Zerschneidungsschritt der Siliciumwaferherstellung verwendet wird, besonderes geeignet.
Trennfolie (III)
Dies ist eine Trennfolie (C), umfassend:
einen Polyesterfilm (A) und
eine gehärtete Silikonharzschicht (B), die auf mindestens einer Seite des Polyesterfilms (A) gebildet ist,
worin

(1) der Film (A) ein biaxial orientierter Film ist, der aus Polyethylen-2,6-naphthalindicarboxylat gebildet ist und eine durchschnittliche Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra) von 50 nm oder weniger aufweist,
(2) die Trennfolie (C) eine Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung zwischen dem Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B) aufweist, und die Primerschicht (D) mit der SiO-Bindung eine SiO_x- (1 ≤ x ≤ 2) -Schicht ist, die durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet ist, und
(3) die Trennfolie (C) eine Dimensionsstabilität von 0,2% oder weniger unter einer Beanspruchung von 150 gf/mm² bei 120°C aufweist.

Die Trennfolie (III) ist dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung zwischen dem PEN-Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B) aufweist, und daß die Primerschicht (D) eine SiO_x- (1 ≤ x ≤ 2) -Schicht ist, die durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet wird.
Die Primerschicht (D) der Trennfolie (III) wird auf der Oberfläche des PEN-Films (A) als eine Schicht aus SiO_x (x liegt innerhalb desselben Bereiches wie oben) durch das Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet.
Bevorzugte Beispiele des Gasphasenabscheidungsverfahrens werden durch die folgenden Verfahren (a) bis (c) dargestellt.

(a) Ein Vakuumabscheidungsverfahren unter Verwendung von SiO als eine Abscheidungsquelle.
(b) Eine Sputterverfahren unter Verwendung eines SiO₂-Substrats als ein Target.
(c) Ein Plasma-CVD-Verfahren unter Verwendung eines Organosiloxans als ein Ausgangsmaterial.

Von diesen wird das Vakuumabscheidungsverfahren unter Verwendung von SiO als eine Abscheidungsquelle im Hinblick auf die Kosten bevorzugt.
Die obigen Verfahren können allein oder in Kombination verwendet werden, um eine SiO_x-Schicht zu bilden.
Die Dicke der SiO_x-Schicht beträgt vorzugsweise 0,04 bis 0,1 μm, stärker bevorzugt 0,05 bis 0,08 μm. Wenn die Dicke kleiner als 0,04 μm ist, werden keine zufriedenstellenden Gasbarriereeigenschaften erhalten. Wenn andererseits die Dicke größer als 0,1 μm ist, weist die SiO_x-Schicht höhere Steifigkeit auf und wird leicht von der PEN-Schicht (A) abgezogen, wenn die Trennfolie (III) gebogen wird. Deshalb wird die Dicke, die von dem obigen Bereich abweicht, nicht bevorzugt.
Die Trennfolie (III) kann durch das Bilden einer gehärteten Silikonharzschicht (B) auf der so erhaltenen Primerschicht (D) des PEN-Films (A) gemäß dem obigen Verfahren erhalten werden.
Da die Trennfolie (III) die Primerschicht (D) aufweist, die darauf durch das Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet wird, weist sie sehr hohe Gasbarriereeigenschaften auf. Deshalb ist die Trennfolie (III) insbesondere als eine Trennfolie (eine Schutzfolie) geeignet, die bei Anwendungen, welche derartige Gasbarriereeigen schaften erfordern, verwendet wird. Die Trennfolie (III) kann beispielsweise als eine Schutzfolie für die Haftschicht eines Pflasters, das eine flüchtige medizinische Komponente enthält, verwendet werden und kann die Verdampfung und Verflüchtigung der medizinischen Komponente verhindern, wodurch die Wirksamkeit des Pflasters über einen langen Zeitraum geschützt werden kann.
In den Trennfolien (II) und (III) wird eine Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung zwischen dem PEN-Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B) gebildet. Diese Primerschicht (D) kann durch eine Behandlung mit einem Silankupplungsmittel gebildet werden. Das Silankupplungsmittel, das durch die allgemeine Formel Y-Si-X₃ dargestellt wird, wird besonders bevorzugt. In der obigen Formel ist Y eine funktionelle Gruppe, dargestellt durch beispielsweise eine Aminogruppe, eine Epoxidgruppe, eine Vinylgruppe, eine Methacrylgruppe, eine Mercaptogruppe oder dergleichen, und X ist eine hydrolysierbare funktionelle Gruppe, dargestellt durch eine Alkoxygruppe. Die Dicke der Primerschicht, die durch die Behandlung mit einem Silankupplungsmittel gebildet wird, beträgt vorzugsweise 0,01 bis 5 μm, stärker bevorzugt 0,02 bis 2 μm. Wenn die Dicke der Primerschicht in dem obigen Bereich liegt, ist die Haftung zwischen dem Grundfilm und der Trennschicht gut, und der Grundfilm mit der darauf gebildeten Primerschicht weist eine niedrigere Blockiertendenz auf. Deshalb ist die oben erhaltene Trennfolie leicht zu handhaben, was vorteilhaft ist.
Die erfindungsgemäßen Trennfolien können nicht nur in den obigen Anwendungen verwendet werden, sondern ebenso bei der Herstellung von gedruckten Verdrahtungsplatten, die in den Bereichen elektronischer Computer, Kommunikationsvorrichtungen, Meßgeräten, medizinischen Vorrichtungen usw. verwendet werden. Mit dem jüngsten Trend des Verringerns der Größe der Schaltkreise werden mehrschichtig gedruckte Verdrahtungsgrundplatten in diesen Anwendungen verwendet, und die erfindungsgemäßen Trennfolien können vorteilhaft verwendet werden, um Prepregs, die bei der Herstellung von mehrschichtig gedruckten Verdrahtungsplatten verwendet werden, zu laminieren.
Beispiele
Die folgenden Beispiele werden angegeben, um die vorliegende Erfindung weiter zu beschreiben. Charakteristische Eigenschaften wurden in diesen Beispielen gemäß den folgenden Verfahren gemessen.
(1) Grenzviskosität des PEN-Polymers
Die Grenzviskosität eines PEN-Polymers wurde bei 35°C in o-Chlorphenol gemessen.
(2) durchschnittliche Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra)
Die Filmoberfläche wurde unter Verwendung eines Nadel-kontaktierenden Oberflächenrauhigkeitstesters (Surfcorder 30C, hergestellt von Kosaka Kenkyusho K. K.) unter der Bedingung eines Nadelradius von 2 μm und eines Nadeldrucks von 30 mg gescannt, um die Verschiebung der Filmoberfläche zu messen, wodurch eine Oberflächenrauhigkeitskurve gezeichnet wurde. Aus der Oberflächenrauhigkeitskurve wurde eine Länge (L), die in die Richtung ihrer Mittellinie gemessen wurde, extrahiert, und wenn die Oberflächenrauhigkeitskurve als (Y = f(x)) ausgedrückt wurde, wofür eine Scannlänge als X-Achse genommen wurde und die Oberflächenverschiebung als Y Achse genommen wurde, wurde die durchschnittliche Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra) unter Verwendung der folgenden Formel berechnet:
(3) Dimensionsänderung
Ein rechtwinkliger Film mit einer Länge von 30 mm oder mehr in Längsrichtung und 4 mm in Querrichtung wurde hergestellt und auf an den Klammern eines TMA (TMA/SS120C, ein thermischer Spannungs-Dehnungs-Tester, hergestellt von Seiko Instruments Inc.) befestigt, so daß der Abstand zwischen Spannvorrichtungen 10 mm betragen wird. Der Film wurde von Raumtemperatur bei einer Temperaturerhöhungsgeschwindigkeit von 5°C/min unter Anwendung einer Beanspruchung von 150 gf/mm² (147 × 10⁴ Pa) erwärmt. Der Film wurde hinsichtlich der Dimensionsänderungen in Beanspruchungsrichtung bzw. in vertikaler Richtung zu dem Zeitpunkt, wenn die Filmtemperatur 120°C erreichte, gemessen. Die Dimensionsänderung des Films wurde unter Verwendung der folgenden Formel bestimmt. Dimensionsänderung (in Absolutwert) = (Dimensionsänderung/Abstand zwischen Spannvorrichtungen) × 100
(4) Analyse des Metallelements auf einer gehärteten Silikonharzschichtoberfläche (Trennschicht)
Ein Polyesterklebeband (Nitto 31B, hergestellt von Nitto Denko Corporation) wurde auf die Trennschicht einer Trennfolie geklebt, durch die Verwendung einer Druckwalze bei einem Druck von 5 kg/cm² (49 × 10⁴ Pa) kontaktgebunden und bei 70°C 20 Stunden stehengelassen. Danach wurde das Klebeband von der Trennfolie abgezogen und die Metallelemente auf der abgezogenen Oberfläche des Klebebandes wurden durch die Verwendung einer ESCA-Vorrichtung unter Verwendung von MgKα (1.254 eV) als eine Anregungsquelle analysiert, um die Metallelemente, die von der Trennfolie auf das Klebeband übertragen wurden, zu überprüfen. Bei der Messung der Metallelemente durch ESCA wurde ein Metallelement als in der Schicht vorliegend betrachtet, wenn ein Metallelement mit Peaks, die 50 Zählungen überschreiten, nachgewiesen wurde.
(5) Messung der Oligomere
Eine Trennfolie wurde in einem Ofen bei 180°C 5 Minuten erwärmt, herausgenommen und abgekühlt. Danach wurde die Trennschicht der Trennfolie dem Sputtern mit Au unterzogen und 10 Stellen mit einer Fläche von jeweils 10 μm² auf der Schicht wurden durch ein Rasterelektronenmikroskop bei einer Vergrößerung von 2.000x beobachtet. Ein Fall, wo keine Kristalle (sechseckige prismenförmige Kristalle) von Oligomeren in irgendeiner der 10 Stellen beobachtet wurden, wurde als kein Vorliegen von Oligomeren auf der Trennschicht der Trennfolie betrachtet.
(6) nachfolgendes Adhäsionsverhältnis
Ein Polyesterklebeband (Nitto 31B) wurde auf eine kaltgewalzte Edelstahlplatte (SUS 304), die gemäß JIS G4305 spezifiziert wurde, geklebt, um die Ablösekraft zu messen. Die Ablösekraft wurde als grundlegendes Adhäsionsvermögen (f₀) verwen det. Das obige Polyesterklebeband wurde auf die Trennschicht eines Probenfilms geklebt. Der resultierende Probenfilm wurde dem Kontaktbinden durch die Verwendung einer Druckwalze bei einem Druck von 5 kg unterzogen und 30 Sekunden stehengelassen, und das Klebeband wurde dann abgezogen. Dieses abgezogene Klebeband wurde auf die obige Edelstahlplatte geklebt, und der beklebte Teil wurde hinsichtlich der Ablösekraft gemessen. Diese Ablösekraft wurde als nachfolgendes Adhäsionsvermögen (f) verwendet. Ein nachfolgendes Adhäsionsverhältnis (%) wurde aus dem grundlegenden Adhäsionsvermögen (f₀) und dem nachfolgenden Adhäsionsvermögen (f) unter Verwendung der folgenden Formel bestimmt. nachfolgendes Adhäsionsverhältnis (%) = (f/f0) × 100
(7) Ablösekraft
Ein Polyesterklebeband (Nitto 31B) wurde auf die Trennschicht einer Trennfolie geklebt. Der resultierende Film wurde dem Kontaktbinden durch die Verwendung einer Druckwalze bei einem Druck von 5 kg unterzogen und 20 Stunden stehengelassen. Dann wurde die Ablösekraft (R_f0) zwischen der Trennschicht und dem Klebeband durch die Verwendung einer Zugprüfmaschine gemessen.
(8) Sauerstoffpermeabilität
Die Permeabilität eines Sauerstoff (80)/Kohlendioxid (20)-Mischgases durch einen Film wurde durch ein Gaschromatographieverfahren bei 25°C unter Verwendung eines Gaspermeabilitäts-Koeffiziententesters, hergestellt von Lyssy Co., Ltd. aus der Schweiz, gemessen.
(9) Verflüchtigung der medizinischen Komponente
Ein Acrylhaftmittel, das 2 Gew.-% Progesteron als eine medizinische Komponente enthält, wurde auf die Trennschicht einer Trennfolie beschichtet, so daß der Film eine Dicke von 5 μm aufwies, wenn er getrocknet wurde. Der resultierende Film wurde bei 70°C 3 Minuten getrocknet, um eine Haftschicht zu bilden, die eine medizinische Komponente enthält. Auf der Haftschicht wurde dieselbe Trennfolie kontaktgebunden und die resultierende Folie wurde in einem Luftstrom bei 37°C 7 Tage stehengelassen. Danach wurde die Trennfolie abgezogen und der resultierende Zustand der Haftschicht, die eine medizinische Komponente enthält, wurde mit dem anfänglichen Zustand verglichen, und die Veränderung dazwischen wurde optisch beobachtet. Die Veränderung wurde basierend auf dem folgenden Bewertungskriterium bewertet.
O: keine Veränderung
X: verändert (die Haftschicht härtete, die medizinische Komponente verflüchtigte sich, usw.)
(10) Verarbeitbarkeit
Die Häufigkeit von verschiedenen Schwierigkeiten, die bei der Herstellung einer Trennfolie auftreten, wurde gemeinsam basierend auf dem folgenden Kriterium bewertet. Die Schwierigkeiten umfaßten das Auftreten von Windungen, verursacht durch Durchhängen, schlechter Oberflächenglätte oder dergleichen; das Auftreten von Falten, gebildet aufgrund der Anfälligkeit für das Bilden von Falten bei einer Quetschwalze während des Wickelns, Schlüpfrigkeit, Oberflächenglätte oder dergleichen; das Auftreten von Mängeln der aufgetragenen Beschichtung; und so weiter.
⊙: Es treten im wesentlichen keine Schwierigkeiten während des Verfahrens auf.
O: Es treten gelegentlich Schwierigkeiten während des Verfahrens auf, aber mit einer geringen Häufigkeit.
Δ: Es treten gelegentlich Schwierigkeiten während des Verfahrens auf.
X: Es treten Schwierigkeiten während des Verfahrens mit einer hohen Häufigkeit auf.
(11) Prozentsatz eines mangelhaften Produktes
Eine hergestellte Trennfolie wurde hinsichtlich des Auftretens von Pickeln und Unebenheit in einer gewalzten Form und hinsichtlich des Auftretens von Haftung zwischen Filmen, Mängeln der aufgetragenen Beschichtung, Oberflächenmängeln, Oberflächenflachheit, Gegenwart von Fremdstoffen (beispielsweise Blasen), Durchhängen oder dergleichen in einer nicht gewalzten Form bewertet. Bezogen auf die Bewertung wurde der Prozentsatz der Zahl an Trennfolienwalzen, die als ein Produkt ungeeignet sind, zu der Zahl an gesamten Trennfolienwalzen berechnet und als ein Prozentsatz des mangelhaften Produktes verwendet.
Beispiel 1 (Referenzbeispiel, nicht im Umfang der Ansprüche)
Ein PEN-Polymer mit einer Grenzviskosität von 0,62 wurde in einem Extruder geschmolzen. Das geschmolzene Polymer wurde aus der Düse des Extruders auf eine rotierende Kühltrommel, gehalten bei 40°C, extrudiert, und wurde damit elektrostatisch eng kontaktiert und gequencht, um einen nicht gestreckten Film zu erhalten. Der nicht gestreckte Film wurde auf das 3,7fache in Längsrichtung und auf das 3,8fache in Querrichtung gestreckt und bei 240°C heißfixiert, um einen biaxial orientierten PEN-Film mit einer Dicke von 50 μm zu erhalten.
Auf einer Seite des biaxial orientierten PEN-Films wurde die folgende Beschichtungslösung in einer Menge von 6 g/m² (naß) beschichtet und die beschichtete Oberfläche wurde getrocknet und bei 140°C 1 Minute gehärtet, um eine Trennfolie mit einer Trennschicht von 0,15 μm Dicke herzustellen. Die Beschichtungslösung wurde durch Lösen eines härtenden Silikons vom Additionsreaktionstyp, umfassend ein Vinylgruppen-enthaltendes Polydimethylsiloxan und Dimethylhydrogensilan, in einem gemischten Lösungsmittel aus Methylethylketon, Methylisobutylketon und Toluen, Zugeben eines Silikonharzes dazu, um so eine Menge von 10 Gew.-%, basierend auf dem Feststoffgehalt des härtenden Silikons, zu erhalten, um eine Lösung mit dem Gesamtfeststoffgehalt von 2% zu erhalten, und Zugeben eines Platinkatalysators zu der resultierenden Lösung hergestellt. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 1 gezeigt.
Tabelle 1
Aus Tabelle 1 wird deutlich, daß die Trennfolie in Beispiel 1 der vorliegenden Erfindung geringe Oberflächenrauhigkeit und eine ausgezeichnete Dimensionsänderungrate aufweist.
Beispiele 2 bis 5 (Referenzbeispiele, nicht im Umfang der Ansprüche) und Vergleichsbeispiele 2 bis 3
Dimethylnaphthalin-2,6-dicarboxylat und Ethylenglykol wurden einer Umesterungsreaktion in Gegenwart von Manganacetat gemäß einem allgemein verwendeten Verfahren unterzogen und Trimethylphosphat wurde dann dazugegeben. Danach wurden Antimontrioxid und inaktive Feinteilchen mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser, der in Tabelle 2 gezeigt wird, zu dem resultierenden Produkt in den in Tabelle 2 gezeigten Mengen zugegeben. Das resultierende Gemisch wurde der Polykondensation gemäß einem allgemein verwendeten Verfahren unterzogen, um Polyethylen-2,6-naphthalatpolymere mit einer Grenzviskosität von 0,62 zu erhalten. Die erhaltenen Polymere wurden bei 170°C 6 Stunden getrocknet, in einen Extruder eingebracht, bei einer Temperatur von 290°C bis 310°C geschmolzen und dann aus der Breitschlitzdüse des Extruders mit einem Schlitz von 1,5 mm auf eine Drehtrommel mit einem Oberflächenfinish von 0,3S und einer Oberflächentemperatur von 50°C extrudiert, um nicht-gestreckte Filme zu erhalten.
Die nicht gestreckten Filme wurden auf das 3,6fache bei 140°C in Längsrichtung und das 3,7fache bei 150°C in Querrichtung gestreckt, und bei 240°C heißfixiert, um biaxial orientierte PEN-Filme mit einer Dicke von 50 μm zu erhalten.
Auf eine Seite der biaxial orientierten PEN-Filme wurde die folgende Beschichtungslösung in einer Menge von 6 g/m² (naß) beschichtet, und die beschichtete Oberfläche wurde getrocknet und bei 140°C 1 Minute gehärtet, um Trennfolien mit einer Trennschicht von 0,15 μm Dicke herzustellen. Die Beschichtungslösung wurde durch Lösen eines härtenden Silikons vom Additionsreaktionstyp, umfassend ein Vinylgruppen-enthaltendes Polydimethylsiloxan und Dimethylhydrogensilan, in einem gemischten Lösungsmittel aus Methylethylketon, Methylisobutylketon und Toluen, Zugeben eines Silikonharzes, um so eine Menge von 10 Gew.-%, basierend auf dem Feststoffgehalt des härtenden Silikons, zu erhalten, um eine Lösung mit dem Gesamtfeststoffgehalt von 2% zu erhalten, und Zugeben eines Platinkatalysators zu der resultierenden Lösung hergestellt. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolien werden in Tabelle 2 gezeigt.
Vergleichsbeispiel 1
Ein PET-Polymer, erhalten durch ein allgemein verwendetes Verfahren, das inaktive Feinteilchen, die in Tabelle 2 gezeigt werden, enthielt und eine Grenzviskosität von 0,62 aufwies, wurde in einem Extruder geschmolzen. Das geschmolzene Polymer wurde aus der Düse des Extruders auf eine rotierende Kühltrommel, die bei 40°C gehalten wird, extrudiert, damit elektrostatisch eng kontaktiert und gequencht, um einen nicht gestreckten Film zu erhalten. Der nicht gestreckte Film wurde auf das 3,6fache in Längsrichtung und das 3,9fache in Querrichtung gestreckt und bei 220°C heißfixiert, um einen biaxial orientierten PET-Film mit einer Dicke von 50 μm zu erhalten.
Auf eine Seite des biaxial orientierten PET-Films wurde die folgende Beschichtungslösung in einer Menge von 6 g/m² (naß) beschichtet, und die beschichtete Oberfläche wurde getrocknet und bei 140°C 1 Minute gehärtet, um eine Trennfolie mit einer Trennschicht von 0,15 μm Dicke herzustellen. Die Beschichtungslösung wurde durch Lösen eines härtenden Silikons vom Additionsreaktionstyp, umfassend ein Vinylgruppen-enthaltendes Polydimethylsiloxan und Dimethylhydrogensilan, in einem gemischten Lösungsmittel aus Methylethylketon, Methylisobutylketon und Toluen, um eine Lösung mit dem Gesamtfeststoffgehalt von 2% zu erhalten, und Zugeben eines Platinkatalysators zu der resultierenden Lösung hergestellt. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 2 gezeigt.
Beispiel 6
Polyethylen-2,6-naphthalat mit einer Grenzviskosität von 0,62, das durch Polymerisation unter Verwendung einer Antimonverbindung und einer Manganverbindung als Katalysator erhalten wurde, wurde in einem Extruder geschmolzen. Das geschmolzene Polymer wurde aus der Düse des Extruders auf eine rotierende Kühltrommel, die bei etwa 40°C gehalten wurde, extrudiert, um einen Film zu bilden, und der Film wurde auf der Trommel elektrostatisch eng kontaktiert und gequencht, um einen nicht gestreckten Film zu erhalten. Der nicht gestreckte Film wurde auf das 3,7fache in Längsrichtung und das 3,8fache in Querrichtung gestreckt, und bei 240°C heißfixiert, um einen biaxial orientierten Film mit einer Dicke von 50 μm zu erhalten. Dieser Film wurde mit einer Isopropylalkohollösung von Si(OC₂H₅)₄ (Colcoat P, hergestellt von Colcoat Co., Ltd.) durch ein Gravurlackierverfahren beschichtet. Die beschichtete Oberfläche davon wurde getrocknet und bei 140°C 30 Sekunden gehärtet, um eine Ankerschutzschicht mit einer Dicke von 0,5 μm zu bilden.

Auf die Ankerschutzschicht des biaxial orientierten Films wurde eine Silikonharzbeschichtungslösung mit der folgenden Zusammensetzung in einer Menge (naß) von 8 g/m² beschichtet. Der beschichtete Teil der Schicht wurde getrocknet und bei 130°C 30 Sekunden gehärtet, um eine Trennfolie mit einer Trennschicht von 0,24 μm Dicke zu erhalten. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 3 gezeigt. Zusammensetzung der Silikonharzbeschichtungslösung

härtbares Silikonharz (KS847H, ein Produkt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)	100 Gewichtsteile
Katalysator (CAT PL-50T, ein Produkt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)	2 Gewichtsteile
Verdünnungsmittel: Methylethylketon/Xylen/Methylisobutylketon-Mischlösungsmittel	898 Gewichtsteile

Vergleichsbeispiel 4
Eine Trennfolie wurde in derselben Weise wie in Beispiel 6 hergestellt, außer daß das Polyethylen-2,6-naphthalat, das in Beispiel 6 verwendet wurde, durch Polyethylenterephthalat (mit einer Grenzviskosität, gemessen in o-Chlorphenol bei 25°C, von 0,65), das durch Polymerisation von Dimethylterephthalat und Ethylenglykol in Gegenwart einer Antimonverbindung und einer Manganverbindung als Katalysatoren erhalten wurde, ersetzt wurde. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 3 gezeigt.
Vergleichsbeispiel 5
Eine Trennfolie wurde in derselben Weise wie in Beispiel 6 hergestellt, außer daß keine Ankerschutzschicht auf dem Polyethylen-2,6-naphthalat-Film gebildet wurde, und statt dessen eine Koronabehandlung auf dem Film angewendet wurde, so daß der Benetzungsindex der Korona-behandelten Oberfläche des Films 50 dyn/cm (50 × 10^–5 N/cm) betrug, und daß die Silikonharzbeschichtungslösung auf die Koronabehandelte Oberfläche beschichtet wurde. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 3 gezeigt.
Vergleichsbeispiel 6
Eine Trennfolie wurde in derselben Weise wie in Beispiel 6 hergestellt, außer daß die Menge des Katalysators in der Silikonharzbeschichtungslösung auf 0,5 Gewichtsteile verringert wurde. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 3 gezeigt.
Tabelle 3
Beispiel 7
Eine Seite des biaxial orientierten PEN-Films mit einer Dicke von 50 μm, der in Referenzbeispiel 2 erhalten wurde, wurde mit SiO durch Hochfrequenzinduktionserwärmung dampfabgeschieden, um eine SiO_x-Schicht darauf zu bilden. Die Dicke der Schicht wurde unter Verwendung eines Quarzoszillators gemessen und betrug 70 nm. Das resultierende Material wurde bei 23°C 24 Stunden gehalten, um die SiO_x-Schicht zu stabilisieren.
Die SiOx-Schicht wurde mit einer Silikonharzbeschichtung in einer Menge (naß) von 8 g/m² beschichtet. Die Silikonharzbeschichtungslösung wurde durch Lösen eines härtbaren Silikons (KS-847 (H), hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) vom Additionsreaktionstyp, umfassend ein Gemisch aus Polydimethylsiloxan und Dimethylhydrogensilan und einem Platinkatalysator, in einem Methylethylketon/Methylisobutylketon/Toluen-Mischlösungsmittel erhalten. Die beschichtete SiO_x-Schicht wurde getrocknet und bei 130°C 30 Sekunden gehärtet, um eine Trennfolie mit einer Trennschicht von 0,24 μm Dicke zu erhalten. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 4 gezeigt.
Vergleichsbeispiel 7
Eine Trennfolie wurde in derselben Weise wie in Beispiel 7 hergestellt, außer daß die Dicke der SiO_x-Schicht auf 120 nm verändert wurde. Die Eigenschaften der erhaltenen Trennfolie werden in Tabelle 4 gezeigt. Tabelle 4

(Anmerkung): Die Abscheidungsschicht wurde zum Zeitpunkt des Auftragens einer Silikonharzbeschichtungslösung abgezogen, und es wurde keine Trennfolie erhalten.

Claims

Trennfolie (C), umfassend: einen Polyesterfilm (A) und eine gehärtete Silikonharzschicht (B), die auf mindestens einer Seite des Polyesterfilms (A) gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß: (1) der Film (A) ein biaxial orientierter Film ist, der aus Polyethylen-2,6-naphthalindicarboxylat gebildet ist und eine durchschnittliche Oberflächenmittellinienrauhigkeit (Ra) von 50 nm oder weniger aufweist, (2) die Trennfolie (C) eine Dimensionsänderung von 0,2% oder weniger unter einer Beanspruchung von 150 gf/mm² (147 × 10⁴ Pa) bei 120°C aufweist, und (3) die Trennfolie (C) eine Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung zwischen dem Film (A) und der gehärteten Silikonharzschicht (B) aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 1, wobei die Primerschicht (D) eine Dicke von 0,04 bis 2 μm aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 1, wobei die Primerschicht (D) eine SiO_x- (1 ≤ x ≤ 2) Schicht mit einer Dicke von 40 bis 100 μm ist, die durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet ist.
Trennfolie nach Anspruch 1, wobei die Primerschicht (D) durch eine Behandlung mit einem Silankupplungsmittel gebildet ist.
Trennfolie nach Anspruch 1, wobei die Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung eine Schicht ist, die aus einem Kondensat gebildet ist, das durch Hy drolyse eines Alkoxysilans erhalten ist.
Trennfolie nach Anspruch 1, wobei das nachfolgende Adhäsionsverhältnis der Oberfläche der gehärteten Silikonharzschicht (B) 85% oder mehr beträgt.
Trennfolie nach Anspruch 5, wobei die Primerschicht (D) eine Dicke von 0,02 bis 2 μm aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 5, wobei die Primerschicht (D) eine Schicht ist, die aus einem Kondensat gebildet ist, das durch Hydrolyse von Tetraethoxysilan erhalten ist.
Trennfolie nach Anspruch 5, wobei der Film (A) eine Dicke von 1 bis 250 μm aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 5, wobei die gehärtete Siliconharzschicht (B) eine Dicke von 0,01 bis 5 μm aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 1, wobei die Primerschicht (D) mit einer SiO-Bindung eine SiO_x- (1 ≤ x ≤ 2) Schicht ist, die durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet ist.
Trennfolie nach Anspruch 11, wobei die Primerschicht eine Dicke von 0,02 bis 0,1 μm aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 11, wobei das Gasphasenabscheidungsverfahren ein Vakuumabscheidungsverfahren, ein Sputterverfahren oder ein Plasma-CVD-Verfahren ist.
Trennfolie nach Anspruch 11, wobei der Film (A) eine Dicke von 1 bis 250 μm aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 11, wobei die gehärtete Silikonharzschicht (B) eine Dicke von 0,01 bis 5 μm aufweist.
Trennfolie nach Anspruch 11, die eine Sauerstoffgaspermeabilität von 1 × 10^–14 cc·cm/{cm²·s·mmHg} (7,52 × 10^–21 m³·m/{m²·s·Pa}) oder weniger aufweist.
Verwendung der Trennfolie nach Anspruch 1 oder Anspruch 5 bei der Herstellung eines Siliciumwafers.
Verwendung der Trennfolie nach Anspruch 1 oder Anspruch 11 für ein Pflaster, das eine flüchtige medizinische Komponente enthält.