DE69702106T2 - Lithographische Druckplatte - Google Patents

Lithographische Druckplatte

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Description

    BEREICH DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine lithographische Druckplatte und insbesondere auf eine lithographische Druckplatte mit ausgezeichneten Eigenschaften hinsichtlich des Tonens und des Eindrucks.
    • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Als Träger für eine lithographische Druckplatte ist bisher in weitem Umfang eine Aluminiumplatte oder eine Aluminiumlegierungsplatte (nachstehend werden solche Platten als "Aluminiumplatte" bezeichnet) verwendet worden.
  • Um die Aluminiumplatte als Träger für eine lithographische Druckplatte zu verwenden, ist es notwendig, daß die Aluminiumplatte eine gute Adhäsionseigenschaft mit einem photoempfindlichen Material und eine Wasser haltende Eigenschaft hat, und daß sie weiter gleichmäßig gekörnt ist. In diesem Fall bedeutet der Begriff "gleichmäßig gekörnt", daß die Größen der gebildeten Poren genau gleichmäßig sind, und daß solche Poren gleichmäßig auf der ganzen Oberfläche verteilt sind.
  • Die Poren haben ebenfalls bemerkenswerte Einflüsse auf das Tonen, welches der Eindruck auf einer Druckplatte ist, und der Eindruck und seine Qualität sind ein wichtiger Faktor bei der Herstellung von Druckplatten.
  • Als Körnungsverfahren für eine Aluminiumplatte gibt es eine mechanische Körnungsbehandlung, eine chemische Ätzbehandlung, eine elektrochemische (oder elektrolytische) Körnungsbehandlung usw. Zum Beispiel beschreibt JP-A-6-2146 (der Begriff "JP-A", wie er hierin verwendet wird, bedeutet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung") ein Verfahren, bei dem verschiedene Bedingungen in der mechanischen Körnungsbehandlung, der chemischen Ätzbehandlung und elektrochemischen Kör nungsbehandlung spezifiziert sind. Gemäß der vorstehend genannten Patentveröffentlichung wird vorgeschlagen, daß nach einer mechanischen Körnungsbehandlung einer Aluminiumplatte eine chemische Ätzbehandlung der Aluminiumplatte so durchgeführt wird, daß die geätzte Menge 0,5 bis 30 g/m² beträgt, eine elektrochemische Körnungsbehandlung bei einer geeigneten Stromdichte und Elektrizitätsmenge durchgeführt wird, eine chemische Ätzbehandlung darauf in dem Bereich der geätzten Menge von 0,1 bis 10 g/m² durchgeführt wird, um die Ecken der Unebenheit, die in der elektrochemischen Körnung der vorstehenden Stufe gebildet wurden, glatt nachzubearbeiten, und eine anodische Oxidationsbehandlung durchgeführt wird.
  • JP-A-7-137474 beschreibt eine Bürste, die für eine mechanische Körnungsbehandlung geeignet ist.
  • JP-A-8-132751 beschreibt einen Aluminiumträger, der Körnungsbehandlungen, einer Entschmutzungsbehandlung und einer anodischen Oxidationsbehandlung unterworfen wird.
  • Diese vorstehend beschriebenen Träger für lithographische Druckplatten haben jedoch eine geringere Wasser haltende Menge und neigen zur Bildung von Tintenflecken und insbesondere zur Bildung von Flecken bei Punktteilen. Da diese Aluminiumträger eine geringere Wasser haltende Menge haben, bestehen ebenfalls Nachteile darin, daß die Oberfläche der Druckplatte zum Glänzen neigt, und es ist schwierig, das Ergebnis des Wassers beim Drucken zu sehen, und die Kontrolle der Wasserablagerung ist schwierig.
  • Wie vorstehend beschrieben besteht in herkömmlichen Druckplatten ein Problem bei der Handhabungseigenschaft zusätzlich zu dem Eindruck, und die weitere Verbesserung des Tonens eines Aufzugs und des Eindrucks ist erforderlich.
  • EP-A-730979 beschreibt einen Träger für eine lithographische Druckplatte mit zwei übereinander angeordneten gewellten Sets, deren physikalische Parameter unter Verwendung des Atomkraftmikroskops bestimmt werden.
    • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung wurde unter den vorstehend beschriebenen Umständen gemacht, und eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine lithographische Druckplatte zur Verfügung zu stellen, die ausgezeichnet ist in verschiedenen Charakteristiken, wie des Tonens, der Bedruckbarkeit, des Eindrucks usw.
  • Es ist nun gefunden worden, daß die vorstehende Aufgabe durch die vorliegende Erfindung wie nachstehend beschrieben gelöst ist.
  • Das heißt, die vorliegende Erfindung stellt eine lithographische Druckplatte zur Verfügung, umfassend einen Träger für die lithographische Druckplatte, die Körnungsbehandlungen in zwei oder mehr Stufen unterworfen wurde, worin die Oberflächenform des Trägers gleichzeitig die Bereiche erfüllt, die nachstehend durch (1), (2) und (3) wiedergegeben werden:
  • 1,5 ≤ Rms(10 bis 100 um)/Rms(1 bis 10 um) ≤ 3,0 (1)
  • 0,2 ≤ Rms(1 bis 10 um) ≤ 0,4 [um] (2)
  • 0,4 ≤ Rms(10 bis 100 um) ≤ 1,0 [um] (3)
  • worin Rms eine mittlere Quadrat-Oberflächenrauheit bedeutet, die durch Messen der Oberflächenform des Trägers mittels einer Atomkraftmikroskopie (AFL) erhalten wurde, Rms (10 bis 10 um) den Wert über den Frequenzraum von 1 bis 10 um zeigt und Rms (10 bis 100 um) den Wert über den Frequenzraum von 1 bis 100 um zeigt.
    • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung wird nachstehend im einzelnen beschrieben.
  • Rms ist praktischerweise wie folgt definiert.
  • Rms ist die Quadratwurzel aus dem Wert, der durch Mitteln der Quadrate der Abweichungen von der Standardebene zu der spezifizierten Ebene [des praktischerweise ge messenen Bereichs; des Bereichs der Richtung der X-Achse (XR - XL), des Bereichs der Richtung der Y-Achse (YT - YB)] erhalten wird, wenn eine Probe mittels AFL gemessen wird, und wird durch die folgende Gleichung wiedergegeben.
  • In der obigen Gleichung ist F(X, Y) die Funktion der Wellenformdaten der spezifizierten Ebene, 20 ist der Mittelwert der Höhen der spezifizierten Ebene, und S&sub0; ist die Fläche der spezifizierten Ebene.
  • Ebenfalls ist Rms(a bis b um) die mittlere Quadrat-Oberflächenrauheit (Einheit: um) der dreidimensionalen Bilddaten, die die durch Anwenden der zweidimensionalen FFT- Behandlung (Hochgeschwindigkeits-Fourier-Transformation) von
  • U(Wx, Wy) = U(x, y)e-iWxe-iWydxdy
  • (worin U(x, y) = reale Raumdaten U(Wx, Wy) = Frequenzraumdaten)
  • auf die dreidimensionalen Bilddaten erhalten wurden, gemessen durch AFL, um die dreidimensionalen Bilddaten in die Daten in einem Frequenzraum umzuwandeln, wobei die Raumfrequenzdaten von einer Wellenlänge a um in eine Wellenlänge b um herausgenommen werden und die zweidimensionale FFT-Behandlung umgekehrt auf die Raumfrequenzdaten angewendet wird. Demgemäß entspricht das vorstehend beschriebene Rms(10 bis 100 um) der mittleren Tiefe der Poren, die in dem Bereich der offenen Durchmesser von 10 bis 100 um vorliegen, und das Rms(1 bis 10 um) entspricht der mittleren Tiefe der Poren, die in dem Bereich der offenen Durchmesser von 1 bis 10 um vorliegen.
  • Die vorliegende Erfindung basiert auf der Feststellung, daß ein Träger mit einer Oberflächenform, die gleichzeitig den Bereich von jedem des Rms(10 bis 100 um) und des Rms(1 bis 10 um) und den Bereich des Verhältnisses von ihnen erfüllt, besonders als Träger für eine lithographische Druckplatte geeignet ist.
  • Das heißt, wenn sowohl das Rms(10 bis 100 um) als auch das Rms(1 bis 10 um) niedriger sind als deren untere Grenzwerte, werden die Poren flach, und die Wasser haltende Menge wird geringer, und wenn sie höher sind als deren obere Grenzwerte, wird die Koexistenz von extrem tiefen Poren zugelassen, wodurch eine Tinte in die Grundteile der tiefen Poren eindringt und auch der Träger dazu neigt, durch eine Wandoberfläche abgefangen zu werden. Beide Fälle verursachen in unerwünschter Weise verschlechterte Drucke, insbesondere Fleckigwerden.
  • Ebenfalls, wenn der Träger solche unerwünschten Werte von Rms(10 bis 100 um) und von Rms(1 bis 10 um) und weiter das Verhältnis von Rms(10 bis 100 um)/Rms(1 bis 10 um) geringer ist als 1,5, werden die Rms(10 bis 100 um)-Poren mit großen offenen Durchmessern relativ niedriger, wodurch die Wasser haltende Eigenschaft ungenügend wird. Andererseits, wenn das Verhältnis 3,0 übersteigt, werden die Poren mit großen offenen Durchmessern zu viele, wodurch eine Tinte dazu neigt, in die Poren einzudringen, und auch der Träger dazu neigt, durch eine Wandoberfläche abgefangen zu werden.
  • Jeder Wert des Rms(10 bis 100 um), des Rms(1 bis 10 um) und auch des Rms(10 bis 100 um)/Rms(1 bis 10 um) mittels der vorstehend beschriebenen AFL in der vorliegenden Erfindung kann durch Anwenden von mindestens zwei Stufen einer mechanischen Körnungsbehandlung, einer elektrochemischen Körnungsbehandlung und einer chemischen Ätzbehandlung auf einen Träger in einer Reihe von Körnungsbehandlungsstufen, die nachstehend beschrieben werden, und geeignetes Auswählen der Bedingungen für jede Behandlung realisiert werden.
  • Die Messung durch AFL kann in jeder Stufe durchgeführt werden, nachdem mindestens zwei Stufen der mechanischen Körnungsbehandlung, der elektrochemischen Körnungsbehandlung und der chemischen Ätzbehandlung angewendet wurden.
  • Bezüglich der Konstruktion und des Meßprinzips von AFL kann auf C. Binning, C. F. Quate und Ch. Gerber; Physical Review. Letter. 56. 930 (1986) Bezug genommen werden.
  • Die lithographische Druckplatte der vorliegenden Erfindung wird im einzelnen mit Bezug auf eine folgende bevorzugte Ausführungsform des Herstellungsverfahrens der lithographischen Druckplatte nachstehend beschrieben.
  • Eine als Träger verwendete Aluminiumplatte in der vorliegenden Erfindung umfaßt eine reine Aluminiumplatte und eine Aluminiumlegierungsplatte. Als Aluminiumlegierung können verschiedene Legierungen verwendet werden. Zum Beispiel werden Legierungen von Aluminium und anderem Metall bzw. anderen Metallen, wie Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Nickel, Wismut usw., verwendet.
  • Die Aluminiumlegierungen für den Träger einer Offset-Druckplatte sind z. B. in JP-B-58- 6635 (der Begriff "JP-B", wie er hierin verwendet wird, bedeutet eine "geprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung") auf Fe- und Si-Komponenten als Legierungskomponenten der Aluminiumlegierung beschränkt und spezifizieren eine intermetallische Verbindung. In JP-B-55-28874 wird ebenfalls das Kaltwalzen und das dazwischen liegende Anlassen auf eine Aluminiumlegierung angewendet, und ein Spannungsanwendungsverfahren beim elektrolytischen Körnen ist beschränkt. Die für die Druckplatten verwendeten Aluminiumlegierungen umfassen nicht nur die in JP-B-62-41304, JP-B-1- 46577, JP-B-1-46578, JP-B-1-47545, JP-B-1-35910, JP-B-63-60823, JP-B-63-60824, JP-B-4-13417, JP-B-4-19290, JP-B-4-19291, JP-B-4-19293, JP-B-62-50540, JP-A-61 - 272357, JP-A-62-74060, JP-A-61-201747, JP-A-63-143234, JP-A-63-143235, JP-A-63- 255338, JP-A-1-283350, EP-272,528, US-A-4,902,353 und US-A-4,818,300, EP 394,816, US-A-5,019,188, der westdeutschen Patentveröffentlichung 3,232,810, US-A- 4,435,230, EP 239,995, US-A-4,822,715, der westdeutschen Patentveröffentlichung 3,507,402, US-A-4,715,903, der westdeutschen Patentveröffentlichung 3,507,402, EP 289,844, US-A-5,009,722 und US-A-4,945,004, der westdeutschen Patentveröffentlichung 3,714,059, US-A-4,686,083 und US-A-4,861,396, EP 158,941 usw. beschriebenen Aluminiumlegierungen, sondern auch andere allgemeine Aluminiumlegierungen.
  • Als Herstellungsverfahren für den Träger für die lithographische Druckplatte werden ein Verfahren unter Anwendung von Heißwalzen und auch ein Verfahren der Durchführung mittels kontinuierlichem Gießen vorgeschlagen. Zum Beispiel beschreibt die ostdeutsche Patentveröffentlichung 252,799 ein Plattenmaterial, das durch ein Zwillingswalzenverfahren hergestellt wurde. EP 223,737, US-A-4,802,935 und US-A-4,800,950 beschreiben ebenfalls Aluminiumlegierungen in Formen der Beschränkung feiner Anteile von Legierungskomponenten. Weiterhin schlägt EP 415,238 ein Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers durch kontinuierliches Gießen und kontinuierliches Gießen plus Heißwalzen vor.
  • In der vorliegenden Erfindung werden verschiedene Oberflächenbehandlungen, Übertragung von Unebenheiten von einem Glied mit einer unebenen Oberfläche usw. auf eine solche Aluminiumplatte angewendet, um eine Vater-Druckplatte mit einer gleichmäßigen Unebenheit bereitzustellen, und durch Bilden einer photoempfindlichen Schicht enthaltend eine Diazoverbindung usw., auf der Vaterplatte eine ausgezeichnete photoempfindliche lithographische Druckplatte herzustellen. In allen Fällen ist es zum Erhalt einer ausgezeichneten lithographischen Druckplatte erforderlich, ein geeignetes Material als Aluminiumplatte auszuwählen.
  • Vor der mechanischen Körnungsbehandlung kann, falls notwendig, eine Vorbehandlung der Aluminiumplatte durchgeführt werden. Die Vorbehandlung ist typischerweise die Entfernung eines Walzöls von der Oberfläche der Aluminiumplatte unter Verwendung eines Lösungsmittels, wie Trichlene usw., oder eines oberflächenaktiven Mittels oder ein Aussetzen einer reinen Oberfläche der Aluminiumplatte unter Verwendung eines Alkali- Ätzmittels, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid usw.
  • Praktisch wird als Entfettungsverfahren mittels eines Lösungsmittels ein Verfahren unter Verwendung eines Lösungsmittels aus der Reihe der Mineralöle verwendet, wie Benzin, Kerosin, Ligroin, Petrolether, n-Hexan usw., und ein Verfahren unter Verwendung von Lösungsmitteln aus der Reihe chlorierter Lösungsmittel, wie Trichlorethylen, Methylenchlorid, Perchlorethylen, 1,1,1-Trichlorethan usw., verwendet.
  • Als Alkali-Entfettungsverfahren wird ein Verfahren unter Verwendung einer wäßrigen Lösung eines Natriumsalzes, wie Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Natriumsulfat usw.; ein Verfahren unter Verwendung einer wäßrigen Lösung eines Silicats, wie Natriumorthosilicat, Natriummetasilicat, Natrium-Nr. 2-silicat, Natrium- Nr. 3-silicat usw.; ein Verfahren unter Verwendung einer wäßrigen Lösung eines Phosphats, wie primäres Natriumphosphat, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, Natriumtripolyphosphat, Natriumpyrophosphat usw., angewendet.
  • Da in dem Fall der Anwendung des Alkali-Entfettungsverfahrens eine Möglichkeit besteht, daß die Oberfläche der Aluminiumplatte entsprechend der Behandlungszeit und der Behandlungstemperatur aufgelöst wird, ist es notwendig, die Alkali-Entfettungsbehandlung ohne Begleitung durch das Auflösungsphänomen durchzuführen.
  • Für die Entfettungsbehandlung mit einem oberflächenaktiven Mittel wird eine wäßrige Lösung eines anionischen oberflächenaktiven Mittels, ein kationisches oberflächenaktives Mittel, ein nicht ionisches oberflächenaktives Mittel oder ein amphoteres oberflächenaktives Mittel verwendet, und in diesem Fall können verschiedene im Handel erhältliche Materialien verwendet werden.
  • Als Entfettungsverfahren können ein Eintauchverfahren, ein Sprühverfahren, ein Reibeverfahren mit einem mit einer Flüssigkeit imprägnierten Tuch usw. verwendet werden. Für das Eintauchverfahren oder das Sprühverfahren kann auch Ultraschall verwendet werden.
  • Bezüglich der vorstehend beschriebenen Entfettungsbehandlung kann auf die Beschreibung von JP-A-2-26793 Bezug genommen werden.
  • Dann wird eine mechanische Körnungsbehandlung durchgeführt.
  • Als mechanisches Körnungsbehandlungsverfahren gibt es ein Übertragungsverfahren, ein Bürstenverfahren, flüssiges Hornungsverfahren usw., und diese Verfahren können unter Berücksichtigung der Produktivität usw. zusammen durchgeführt werden.
  • Als Übertragungsverfahren zum Druckkontaktieren einer unebenen Oberfläche auf die Oberfläche der Aluminiumplatte können verschiedene Verfahren verwendet werden, d. h., zusätzlich zu den in JP-A-55-74898, JP-A-60-36195 und JP-A-60-203496, die vorstehend genannt sind, beschriebenen Verfahren kann ein Verfahren, bei dem das Übertragungsverfahren mehrmals durchgeführt wird, beschrieben in der japanischen Patentanmeldung Nr. 4-175945, und ein Verfahren unter Verwendung eines Materials, dessen Oberfläche eine Elastizität hat, beschrieben in der japanischen Patentanmeldung Nr. 4-204235, angewendet werden.
  • Ein unebenes Muster kann ebenfalls wiederholt auf die Oberfläche der Aluminiumplatte übertragen werden unter Verwendung einer Walze, die mit einer feinen Unebenheit geätzt ist, durch Ätzwirkung, Freistrahlen, Laser, Plasmaätzen usw., oder eine Oberfläche einer Platte mit einer Unebenheit, die durch Beschichten mit feinen Teilchen hergestellt worden ist, wird in Kontakt mit der Oberfläche der Aluminiumplatte gebracht, und ein Druck wird wiederholt auf das System aufgebracht, wodurch das unebene Muster entsprechend dem mittleren Durchmesser der feinen Teilchen wiederholt auf die Oberfläche der Aluminiumplatte übertragen werden kann.
  • Verschiedene Verfahren zur Erzeugung einer feinen Unebenheit auf einer Übertragungswalze sind in JP-A-3-8635, JP-A-3-66404, JP-A-63-65017 usw. beschrieben. Auf der Oberfläche einer Übertragungswalze werden ebenfalls feine Rillen in zwei Richtungen unter Verwendung einer Matritze, eines Schneidwerkzeugs, eines Lasers usw. gebildet, um eine eckige Unebenheit auf der Oberfläche der Walze herzustellen. In diesem Fall kann eine Behandlung durchgeführt werden, bei der die so gebildete eckige Unebenheit auf der Oberfläche der Übertragungswalze gerundet wird, durch Anwenden einer bekannten Ätzbehandlung auf die Oberfläche der Walze. Natürlich kann auch ein Abschrecken, ein Hartchromplattieren usw. auf die Übertragungswalze angewendet werden, um die Härte ihrer Oberfläche zu erhöhen.
  • Bei Verwendung einer Bürste zum Aufbringen mechanischer Körnung ist es bevorzugt, Bürstenborsten mit einem Biegeelastizitätsmodul von 10.000 bis 40.000 kg/cm² und vorzugsweise 15.000 bis 35.000 kg/cm² und einem Borstennerv von 500 g oder weniger und vorzugsweise 400 g oder weniger zu verwenden. In diesem Fall ist es weiter bevor zugt, Schleifmittel mit Teilchengrößen von 20 bis 80 um und vorzugsweise 30 bis 60 um zu verwenden.
  • Es gibt keine besondere Beschränkung der Qualität der Bürste, falls die Bürste die vorstehend beschriebene mechanische Festigkeit hat, und das Material für die Bürste kann in geeigneter Weise z. B. aus synthetischen Harzen und Metallen ausgewählt werden.
  • Die synthetischen Harze umfassen Polyamide, wie Nylon usw.; Polyolefine, wie Polypropylen usw.; Polyester, wie Polyvinylchlorid, Polybutylenterephthalat usw.; und Polycarbonat. Metalle umfassen auch nichtrostenden Stahl, Messing usw.
  • Es gibt auch keine besondere Beschränkung des Schleifmittels, falls die Teilchengrößen des Schleifmittels in dem vorstehend beschriebenen Teilchengrößenbereich liegen. Das Material für das Schleifmittel wird ausgewählt aus Aluminiumoxid, Siliciumdioxid, Siliciumcarbid, Siliciumnitrit usw., die herkömmlicherweise für eine mechanische Körnungsbehandlung verwendet werden.
  • Die mechanische Körnungsbehandlung wird durch Druckkontaktieren einer Walzenbürste mit den vorstehend beschriebenen Bürstenborsten auf die Oberfläche der Aluminiumplatte durchgeführt, während die Walzenbürste sich mit einer hohen Geschwindigkeit dreht und während auch das vorstehend beschriebene Schleifmittel zu der Walzenbürste zugeführt wird. In diesem Fall gibt es keine besonderen Beschränkungen der Umdrehungszahl und der Druckkontaktkraft der Walzenbürste und der Zufuhrmenge des Schleifmittels.
  • Eine für die vorstehend beschriebene mechanische Körnung geeignete Vorrichtung ist z. B. die in JP-B-50-40047 beschriebene Vorrichtung.
  • Nach der Durchführung der mechanischen Körnungsbehandlung wie vorstehend beschrieben, wird die Oberfläche der Aluminiumplatte einer chemischen Ätzbehandlung unter Verwendung einer wäßrigen Alkalilösung mit einem pH von 11 oder höher und vorzugsweise 13 oder höher zur Glättung und Symmetrierung der Aluminiumplatte unterworfen. Die Ätzmenge beträgt 5 g/m² bis 25 g/m² und vorzugsweise 6 g/m² bis 15 g/m². Wenn die Ätzmenge geringer ist als 5 g/m², kann die durch die mechanische Körnungsbehandlung gebildete Unebenheit nicht geglättet werden, und gleichmäßige Poren können ebenfalls nicht in der elektrolytischen Behandlung der nächsten Stufe gebildet werden. Wenn die Ätzmenge andererseits 25 g/m² übersteigt, verschwindet die vorstehend beschriebene gebildete Unebenheit.
  • Als Alkalilösung, die für die chemische Ätzbehandlung verwendet werden kann, kann eine wäßrige Lösung eines Natriumsalzes, wie Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Natriumsulfat usw.; eine wäßrige Lösung eines Silicats, wie Natriumorthosilicat, Natriummetasilicat, Natrium-Nr. 2-silicat, Natrium-Nr. 3-silicat usw.; eine wäßrige Lösung eines Phosphats, wie primäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Natriumphosphat, Natriumtripolyphosphat, Natriumpyrophosphat, Natriumhexaphosphat usw., verwendet werden.
  • Was die chemischen Ätzbehandlungsbedingungen betrifft, so beträgt die Konzentration der wäßrigen Alkalilösung 0,01 Gew.-% bis 50 Gew.-%, die Flüssigkeitstemperatur 20ºC bis 90ºC und die Behandlungszeit 5 Sekunden bis 5 Minuten. Diese Bedingungen werden in geeigneter Weise so ausgewählt, daß die Ätzmenge im vorstehend beschriebenen Bereich liegt.
  • Wenn die Oberfläche der Aluminiumplatte der chemischen Ätzbehandlung mit der vorstehend beschriebenen wäßrigen Alkalilösung unterworfen wird, bilden sich auf ihrer Oberfläche ungelöste Rückstände, d. h. Flecken. Die Flecken werden daher unter Verwendung einer wäßrigen sauren Lösung mit der gleichen Zusammensetzung wie die wäßrige saure Lösung entfernt, die für die nachstehend beschriebene elektrolytische Körnungsbehandlung verwendet wird.
  • Bevorzugte Bedingungen für die Entschmutzungsbehandlung sind eine Flüssigkeitstemperatur von 30 bis 80ºC und eine Behandlungszeit von 3 Sekunden bis 3 Minuten.
  • Dann wird die so behandelte Aluminiumplatte einer elektrolytischen Körnungsbehandlung unterworfen. In der elektrolytischen Körnungsbehandlung der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, die ersten und zweiten elektrolytischen Behandlungen mit einem elektrischen Wechselstrom in einer wäßrigen sauren Lösung vor und nach einer elektrolytischen Katodenbehandlung durchzuführen. Durch die elektrolytische Katodenbehandlung wird ein Fleck auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet, und auch Wasserstoffgas wird freigesetzt, wodurch eine gleichmäßige elektrolytische Körnung möglich wird.
  • Zunächst werden die ersten und zweiten elektrolytischen Körnungsbehandlungen mittels eines elektrischen Wechselstroms in einer sauren wäßrigen Lösung erläutert. In den elektrolytischen Körnungsbehandlungen können die Bedingungen für die erste Behandlung die gleichen sein wie die Bedingungen für die zweite Behandlung, oder die Bedingung für jede Behandlung kann in den bevorzugten Bereichen der Behandlungsbedingungen verschieden sein.
  • Die elektrolytische Körnungsbehandlung kann gemäß den in z. B. JP-B-48-28123 und der britischen Patentschrift 896,563 beschriebenen elektrochemischen Körnungsverfahren durchgeführt werden. In der elektrolytischen Körnungsbehandlung wird ein elektrischer Wechselstrom mit einer Sinuswelle verwendet; es kann jedoch auch ein Wechselstrom mit der in JP-A-52-58602 beschriebenen speziellen Wellenform verwendet werden.
  • Es können auch die in JP-A-55-158198, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52- 152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531, JP-A-63-176187, JP-A-1- 5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, JP-A-1-178496, JP-A-1-188315, JP-A-1-154797, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A- 4-72098, JP-A-3-267400 und JP-A-1-141094 beschriebenen Verfahren angewendet werden.
  • Als Frequenz können zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen Verfahren für die elektrolytische Körnungsbehandlung auch die für elektrolytische Kondensatoren vorgeschlagenen Verfahren verwendet werden, die z. B. in US-A-4,276,129 und US-A- 4,676,879 beschrieben sind.
  • Als wäßrige saure Lösung, welche ein Elektrolyt ist, können die in den US- Patentschriften 4,671,859, 4,665,576, 4,661,219, 4,618,405, 4,626,328, 4,600,428, 4,566,960, 4,566,958, 4,566,959, 4,416,972, 4,374,710, 3,374,710, 4,336,113, 4,184,932 usw. beschriebenen Elektrolyte verwendet werden.
  • Die Konzentration der sauren Lösung beträgt vorzugsweise 0,5 bis 2,5 Gew.-%, und unter dem Gesichtspunkt der Entfernung der vorstehend beschriebenen Flecken beträgt die Konzentration weiter vorzugsweise 0,7 bis 2,0 Gew.-%. Die Flüssigkeitstemperatur beträgt auch vorzugsweise 20 bis 80ºC und weiter vorzugsweise 30 bis 60ºC.
  • Verschiedene elektrolytische Zellen und elektrische Kraftquellen, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind in US-A-4,203,637, JP-A-56-123400, JP-A- 57-59770, JP-A-53-12738, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP-A-53-32823, JP-A-55- 122896, JP-A-55-132884, JP-A-62-127500, JP-A-1-52100, JP-A-1-52098, JP-A-60- 67700, JP-A-1-230800, JP-A-3-257199 usw. beschrieben.
  • Zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen elektrolytischen Zellen und elektrischen Kraftquellen werden verschiedene elektrolytische Zellen und elektrische Kraftquellen, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, vorgeschlagen, wie in JP- A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-53-12738, JP-A-53-12739, JP-A-53-32821, JP-A- 53-32822, JP-A-53-32833, JP-A-53-32824, JP-A-53-32825, JP-A-54-85802, JP-A-55- 122896, JP-A-55-132884, JP-B-48-28123, JP-B-51-7081, JP-A-52-133838, JP-A-52- 133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53-149135 und JP-A-54-146234 beschrieben.
  • Die elektrolytische Behandlung wird mit einer Anodenmenge an Elektrizität von 50 bis 400 C/dm² und vorzugsweise von 70 bis 200 C/dm² durchgeführt. Wenn die Anodenmenge an Elektrizität weniger als 50 C/dm² beträgt, werden feine Poren nicht gleichmäßig gebildet, während, wenn die Anodenmenge an Elektrizität mehr als 400 C/dm² beträgt, werden die Poren zu groß.
  • Zwischen den ersten und zweiten elektrolytischen Körnungsbehandlungen wird eine elektrolytische Katodenbehandlung auf die Aluminiumplatte angewendet. Durch die elektrolytische Katodenbehandlung werden Flecken auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet, und auch Wasserstoffgas wird freigesetzt, wodurch eine gleichmäßigere elektrolytische Körnung möglich wird.
  • Die elektrolytische Katodenbehandlung wird in einer wäßrigen sauren Lösung bei einer Katodenmenge an Elektrizität von 3 bis 80 C/dm² und vorzugsweise von 5 bis 30 C/dm² durchgeführt. Wenn die Katodenmenge an Elektrizität geringer ist als 3 C/dm², ist die anhaftende Menge des Flecks ungenügend, während, wenn die Katodenmenge an Elektrizität 80 C/dm² übersteigt, wird die anhaftende Menge des Flecks zu groß, und beide Fälle sind unerwünscht.
  • Ebenfalls kann der in der elektrolytischen Katodenbehandlung verwendete Elektrolyt der gleiche oder verschieden sein von der Lösung, die für die ersten und zweiten elektrolytischen Körnungsbehandlungen verwendet werden.
  • Nach der zweiten elektrolytischen Körnungsbehandlung wird die Aluminiumplatte einer zweiten chemischen Ätzbehandlung unter Verwendung einer wäßrigen Alkalilösung mit einem pH von 11 oder höher unterworfen. Die wäßrige Alkalilösung mit einem pH von 11 oder höher, die in der zweiten chemischen Ätzbehandlung verwendet wird, kann die gleiche sein wie die wäßrige Alkalilösung, die in der vorstehend beschriebenen ersten chemischen Ätzbehandlung verwendet wird, oder sie kann verschieden sein von der letzteren Alkalilösung.
  • Die Ätzmenge in der zweiten Ätzbehandlung ist jedoch verschieden von der in der ersten chemischen Ätzbehandlung und beträgt 0,1 bis 8 g/m² und vorzugsweise 0,2 bis 3,0 g/m². Wenn die Ätzmenge geringer ist als 0,1 g/m², können die Kantenteile der durch die elektrolytischen Körnungsbehandlungen erhaltenen Poren nicht geglättet werden, während, wenn die Ätzmenge höher ist als 8 g/m², verschwinden die gebildeten Poren.
  • Da sich auf der Oberfläche der Aluminiumplatte durch die vorstehend beschriebene chemische Ätzbehandlung Flecken bilden, werden die Flecken von der Aluminiumplatte unter Verwendung einer wäßrigen Lösung enthaltend Schwefelsäure als Hauptkompo nente entfernt. In diesem Fall umfaßt die wäßrige Lösung enthaltend Schwefelsäure als Hauptkomponente eine wäßrige Lösung von Schwefelsäure allein und eine wäßrige Lösung einer geeigneten Mischung von Schwefelsäure und Phosphorsäure, Salpetersäure, Chromsäure, Chlorwasserstoffsäure usw. Die Entfernung von Flecken unter Verwendung einer wäßrigen Lösung enthaltend Schwefelsäure als Hauptkomponente ist z. B. in JP-A-53-12739 beschrieben.
  • Es kann auch eine Kombination von Alkalibehandlungen zur Entfernung der Flecken verwendet werden, wie z. B. in JP-A-56-51388 beschrieben.
  • Weiterhin können die Verfahren, die in JP-A-60-8091, JP-A-63-176188, JP-A-1-38291, JP-A-1-127389, JP-A-1-188699, JP-A-3-177600, JP-A-3-126891 und JP-A-3-191100 beschrieben sind, zusammen mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren zur Entfernung der Flecken verwendet werden.
  • Dann wird ein anodischer Oxidationsfilm auf der Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte gebildet. Zum Beispiel kann ein anodischer Oxidationsfilm auf der Aluminiumplatte durch Durchleiten eines elektrischen Stroms in einer wäßrigen Lösung mit einer Schwefelsäurekonzentration von 50 bis 300 g/l und einer Aluminiumkonzentration von 5 Gew.-% oder niedriger unter Verwendung der Aluminiumplatte als Anode gebildet werden. Die vorstehend beschriebene wäßrige Lösung kann weiter Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfonsäure, Benzolsulfonsäure usw. enthalten.
  • Die Menge des gebildeten Oxidfilms beträgt vorzugsweise 1,0 bis 5,0 g/m² und weiter vorzugsweise 1,5 bis 4,0 g/m².
  • Die Behandlungsbedingungen für die anodische Oxidation unterscheiden sich in verschiedener Weise entsprechend dem verwendeten Elektrolyten und können daher nicht allgemein definiert werden, liegen aber in den Bereichen, daß die Konzentration des Elektrolyts 1 bis 80 Gew.-%, die Flüssigkeitstemperatur 5 bis 70ºC, die Stromdichte 0,5 bis 60 A/cm², die Spannung 1 bis 100 V und die Elektrolysezeit 15 bis 50 Minuten beträgt, und die Behandlungsbedingungen werden in den vorstehend beschriebenen Be reichen so kontrolliert, daß die Menge des gebildeten Oxidfilms die vorstehend beschriebene Bedeckung ergibt.
  • Die elektrolytische Vorrichtung, die für die anodische Oxidation verwendet wird, ist in JP- A-48-26638, JP-A-47-18739, JP-B-58-24517 usw. beschrieben. Es können auch die in JP-A-54-81133, JP-A-57-47894, JP-A-57-51289, JP-A-57-51290, JP-A-57-54300, JP-A- 57-136596, JP-A-58-107498, JP-A-60-200256, JP-A-62-136596, JP-A-63-176494, JP- A-4-176897, JP-A-4-280997, JP-A-6-207299, JP-A-5-24377, JP-A-5-32083, JP-A-5- 125597, JP-A-5-195291 usw. beschriebenen Verfahren für die anodische Oxidation verwendet werden.
  • Eine Versiegelungsvorrichtung eines Trägers zum Erhalt einer photoempfindlichen Druckplatte mit guter Stabilität mit dem Verlauf der Zeit, einer guten Entwickelbarkeit und einem fehlenden Auftreten von Verfärbungen in den Nichtbildbereichen durch Anwendung einer Versiegelungsbehandlung auf den Träger mit Dampf und heißem Wasser nach dem Ätzen des anodisch oxidierten Films zum Erhalt der optimalen Adhäsion zwischen dem Träger und einer photoempfindlichen Zusammensetzung nach der Bildung des anodisch oxidierten Films, wie vorstehend beschrieben, wird vorgeschlagen wie in JP-B-56-12518 beschrieben. Die Versiegelungsbehandlung nach der Bildung des anodisch oxidierten Films kann in der vorliegenden Erfindung mittels einer solchen Vorrichtung durchgeführt werden.
  • Die Versiegelungsbehandlung kann auch mittels der Vorrichtung oder den Verfahren durchgeführt werden, die in JP-A-4-4194 und in den japanischen Patentanmeldungen Nr. 4-33952, 4-33951 und 3-315245 beschrieben sind.
  • Weiterhin kann auf den so behandelten Aluminiumträger der vorliegenden Erfindung die Kaliumfluorzirkonatbehandlung, beschrieben in US-A-2,946,638, die Phosphomolybdatbehandlung, beschrieben in US-A-3,201,247, die Alkyltitanatbehandlung, beschrieben in der britischen Patentschrift 1,108,559, die Polyacrylsäurebehandlung, beschrieben in der deutschen Patentschrift 1,091,433, die Polyvinylsulfinsäurebehandlung, beschrieben in der deutschen Patentschrift 1,134,093 und in der britischen Patentschrift 1,230,447, die Phosphonsäurebehandlung, beschrieben in JP-B-44-6409, die Phytinsäurebehand lung, beschrieben in US-A-3,307,951, die Behandlung mit der oleophilen, organischen Verbindung mit hohem Molekulargewicht und dem zweiwertigen Metall, beschrieben in JP-A-58-16893 und JP-A-58-18291; die Bildung der Unterschicht aus einer hydrophilen Cellulose (z. B. Carboxymethylcellulose) enthaltend ein wasserlösliches Metallsalz (z. B. Zinkacetat), beschrieben in US-A-3,860,426, die hydrophile Behandlung durch Grundieren des wasserlöslichen Polymers mit einer Sulfonsäuregruppe, beschrieben in JP-A- 59-101651; Grundieren mit dem Phosphat, beschrieben in JP-A-62-19494, mit der wasserlöslichen Epoxyverbindung, beschrieben in JP-A-62-33692, mit der durch Phosphorsäure denaturierten Stärke, beschrieben in JP-A-62-97892, mit der Diaminverbindung, beschrieben in JP-A-63-56498, mit dem Aminosäuresalz organischer Säure oder anorganischer Säure, beschrieben in JP-A-63-130391, mit der organischen Sulfonsäure enthaltend eine Carboxylgruppe oder eine Hydroxygruppe, beschrieben in JP-A-63- 145092, mit der Verbindung mit einer Aminogruppe und einer Phosphonsäuregruppe, beschrieben in JP-A-63-165183, mit dem speziellen Carbonsäurederivat, beschrieben in JP-A-2-316290, mit dem Phosphorsäureester, beschrieben in JP-A-3-215095, mit der Verbindung mit einer Aminogruppe und einer Sauerstoffsäuregruppe, beschrieben in JP-A-3-261592, mit dem Äpfelsäureester, beschrieben in JP-A-3-215095, mit der aliphatischen oder aromatischen Phosphonsäure, wie Phenylphosphonsäure, beschrieben in JP-A-5-246171, der Verbindung enthaltend ein Schwefelatom, wie Thiosalicylsäure, beschrieben in JP-A-1-307745, mit der Verbindung mit der Sauerstoffsäuregruppe von Phosphor, beschrieben in JP-A-4-282637 usw.; und Färben mit dem sauren Farbstoff, beschrieben in JP-A-60-64352, angewendet werden.
  • In der vorliegenden Erfindung wird die Messung mittels AFL durchgeführt nach der Anwendung von mindestens zwei Stufen der mechanischen Körnungsbehandlung, der elektrochemischen Körnungsbehandlung und der chemischen Ätzbehandlung. Das heißt, die Messung mittels AFL kann durchgeführt werden, nachdem eine Reihe der Körnungsbehandlungen beendet ist, oder sie kann zu jeder Zeit nach der Anwendung der vorstehend beschriebenen zwei Stufen durchgeführt werden. Die Messung mittels AFL wird vorzugsweise nach der Bildung des anodischen Oxidationsfilms durchgeführt. Außerdem werden zwei Behandlungen als eine Stufe angesehen, wenn eine Behandlung unterbrochen wird, wenn jedoch die nachfolgende Behandlung die gleiche Behandlung ist wie die Behandlung vor der Unterbrechung.
  • Die Messung mittels AFL kann z. B. unter Verwendung von SP13700 (Handelsname, hergestellt von Seiko Instruments Inc.) durchgeführt werden.
  • Die Stufen des Meßverfahrens mittels AFL sind wie folgt.
  • Zuerst wird eine Aluminiumplatte, die auf eine Größe von 1 cm Quadrat geschnitten ist, auf einen horizontalen Probenständer aufgebracht, der sich auf einem Piezoscanner befindet, ein Probenschenkel wird der Oberfläche der Probe angenähert, wenn der Probenschenkel den Bereich erreicht, bei dem eine Atomkraft wirkt, wird die Probenoberfläche in der X-Y-Richtung abgetastet, und in diesem Fall wird die Unebenheit der Probe gefaßt als die Verschiebung des Piezoscanners in der Z-Richtung. Es wird der Piezoscanner verwendet, der befähigt ist, X-Y 150 um und Z 10 um abzutasten. Als Probenschenkel wird SI-DF20 (Handelsname, hergestellt von NANOPROBE Co.) mit einer Resonanzfrequenz von 120 bis 150 kHz und einer Federkonstante von 12 bis 20 N/m verwendet. Die Messung wird auf 120 um Quadrat mittels vier Ansichten angewendet, d. h. in dem Bereich von 240 um Quadrat, wobei die Auflösungen in diesem Fall 1,9 um in der X-Y-Richtung und 1 nm in der Z-Richtung sind, und die Messung wird als ein DFM- Modus (dynamischer Kraftmodus) bei einer Abtastgeschwindigkeit von 60 um/Sekunde durchgeführt.
  • Durch Frequenzanalyse der erhaltenen dreidimensionalen Daten können ebenfalls das Rms(10 bis 100 um) und das Rms(1 bis 10 um) erhalten werden.
  • Nach der Bestätigung, daß die gemessenen Werte von Rms(10 bis 100 um) und von Rms(1 bis 10 um) mittels AFL die vorstehend beschriebenen Beziehungen (1), (2), und (3) erfüllen, wird eine photoempfindliche Schicht, die nachstehend beschrieben wird, auf der Aluminiumplatte gebildet, um eine photoempfindliche lithographische Druckplatte zu ergeben.
  • [I] Der Fall der Herstellung einer photoempfindlichen Schicht enthaltend einen o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester und ein Novolak-Harz einer Phenol-Kresol- Mischung:
  • o-Chinondiazidverbindungen sind o-Naphthochinondiazidverbindungen, und sie sind z. B. in den US-Patentschriften 2,766,118, 2,767,092, 2,772,972, 2,859,112, 3,102,809, 3,106,465, 3,635,709 und 3,647,443 und zahlreichen anderen Publikationen beschrieben. Diese Verbindungen können in geeigneter Weise in der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Unter diesen Verbindungen sind aromatische Hydroxyverbindungen, wie ein o-Naphthochinonsulfonsäureester und ein o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester, und aromatische Aminoverbindungen, wie o-Naphthochinondiazidosulfonsäureamid und o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamid, bevorzugt. Insbesondere sind das Produkt, das durch die Esterreaktion des Kondensats von Pyrogallol und Aceton und o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester erhalten wird, beschrieben in US-A- 3,635,709, das Produkt, das durch die Esterreaktion eines Polyesters mit einer Hydroxygruppe am Ende und o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure erhalten wird, beschrieben in US-A-4,028,111, das Produkt, das durch die Esterreaktion des Homopolymers von p-Hydroxystyrol oder eines Copolymers von p-Hydroxystyrol und anderem damit copolymerisierbarem Monomer und o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure erhalten wird, beschrieben in der britischen Patentschrift 1,494,043, und das Produkt, das durch die Amidreaktion eines Copolymers von p-Aminostyrol und anderem copolymerisierbarem Monomer mit p-Aminostyrol und o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure erhalten wird, wie in US-A-3,759,711 beschrieben, besonders ausgezeichnet.
  • Diese o-Chinondiazidverbindungen können einzeln verwendet werden, es ist jedoch bevorzugt, sie als eine Mischung davon mit einem alkalilöslichen Harz zu verwenden.
  • Das geeignete alkalilösliche Harz umfaßt Phenolharze vom Novolak-Typ, welche praktisch ein Phenol-Formaldehyd-Harz, ein o-Kresol-Formaldehyd-Harz und ein m-Kresol- Formaldehyd-Harz umfassen. Weiterhin ist es besonders bevorzugt, das vorstehend beschriebene Phenolharz zusammen mit einem Kondensat von Phenol oder Kresol, substituiert mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen, und Formaldehyd zu verwenden, wie ein t-Butylphenol-Formaldehyd-Harz, beschrieben in US-A-4,028,111.
  • Zur Bildung sichtbarer Bilder durch Belichten mit Licht wird zu der o-Chinondiazidverbindung eine Verbindung, wie o-Naphthochinondiazido-4-sulfonylchlorid, ein Salz von p-Diazophenylamin mit einem anorganischen Anion, eine Trihalomethyloxadiazolverbindung, eine Trihalomethyloxadiazolverbindung mit einem Benzofuranring, usw. zugesetzt.
  • Andererseits werden als Färbemittel Triphenylmethanfarbstoffe, wie Victoria Blue BOH, Kristallviolett, Oil Blue usw. verwendet. Die in JP-A-62-293247 beschriebenen Farbstoffe sind ebenfalls besonders bevorzugt.
  • Weiterhin kann in die o-Chinondiazidverbindung als ein Mittel zur Verbesserung der Tintenaufnahmefähigkeit das Novolak-Harz, das durch Kondensieren eines mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 15 Kohlenstoffatomen substituierten Phenols, wie t-Butylphenol, N- Octylphenol oder t-Butylphenol, und Formaldehyd, wie in JP-B-57-23253 beschrieben, oder der o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazido-5- sulfonsäureester des Novolak-Harzes, wie in JP-A-61-242446 beschrieben, einverleibt werden.
  • Zur Verbesserung der Entwickelbarkeit können auch die nichtionischen oberflächenaktiven Mittel, die in JP-A-62-251740 beschrieben sind, in der vorstehend beschriebenen Zusammensetzung enthalten sein.
  • Die vorstehend beschriebene Zusammensetzung wird auf einen Träger in Form einer Lösung in einem Lösungsmittel aufgebracht, das zur Auflösung der vorstehend beschriebenen Komponenten befähigt ist.
  • Das in diesem Fall verwendete Lösungsmittel umfaßt Ethylenchlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Ethlyenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Dimethylsulfoxid, Dimethylacetamid, Dimethylformamid, Wasser, N-Methylpyrrolidon, Tetrahydrofurfurylalkohol, Aceton, Diacetonalkohol, Methanol, Ethanol, Isopropanol, Diethylenglycoldimethylether usw. Diese Lösungsmittel können allein oder in Form einer Mischung verwendet werden.
  • Die photoempfindliche Zusammensetzung, welche diese Komponenten enthält, wird mit einer Bedeckung von 0,5 bis 3,0 g/m² als feste Komponenten gebildet.
  • [II] Der Fall der Herstellung einer photoempfindlichen Schicht enthaltend ein Diazoharz und eine wasserunlösliche und oleophile Verbindung mit hohem Molekulargewicht:
  • Das Diazoharz umfaßt z. B. ein organisches Salz eines Diazoharzes, welches das in organischem Lösungsmittel lösliche Reaktionsprodukt eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd und einem Hexafluorphosphat oder einem Tetrafluorborat und einem in organischem Lösungsmittel löslichen organischen Säuresalz von Diazoharz ist, welches das Reaktionsprodukt des vorstehend beschriebenen Kondensats und einer Sulfonsäure, wie p-Toluolsulfonsäure oder eines Salzes davon, einer Phosphinsäure, wie Benzolphosphinsäure oder eines Salzes davon oder einer eine Hydroxygruppe enthaltenden Verbindung, wie 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure oder eines Salzes davon ist, wie in US-A-3,300,309 beschrieben.
  • Anderes Diazoharz, das auch in geeigneter Weise in der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, ist ein Co-Kondensat enthaltend eine aromatische Verbindung mit mindestens einer organischen Gruppe, ausgewählt aus einer Carboxylgruppe, einer Sulfonsäuregruppe, einer Sulfinsäuregruppe, einer Sauerstoffsäuregruppe von Phosphor und einer Hydroxygruppe, und einer Diazoniumverbindung, vorzugsweise einer aromatischen Diazoniumverbindung, als Struktureinheiten.
  • Der vorstehend beschriebene aromatische Ring umfaßt vorzugsweise auch eine Phenylgruppe und eine Naphthylgruppe.
  • Als die vorstehend beschriebene aromatische Verbindung enthaltend mindestens ein Glied ausgewählt aus einer Carboxylgruppe, einer Sulfonsäuregruppe, einer Sulfinsäuregruppe, einer Sauerstoffsäuregruppe von Phosphor und einer Hydroxygruppe gibt es verschiedene Verbindungen, und die bevorzugten aromatischen Verbindungen sind 4-Methoxybenzoesäure, 3-Chlorbenzoesäure, 2,4-Dimethoxybenzoesäure, p-Phenoxybenzoesäure, 4-Anilinobenzoesäure, Phenoxyessigsäure, Phenylessigsäure, p-Hydroxybenzoesäure, 2,4-Dihydroxysäure, Benzolsulfonsäure, p-Toluolsulfonsäure, 1-Naphthalinsulfonsäure, Phenylphosphorsäure und Phenylphosphonsäure. Als aromatische Diazoniumverbindung, welche die Konstitutionseinheit für das vorstehend beschriebene Co-Kondensat ist, können die in JP-B-49-48001 beschriebenen Diazoniumsalze verwendet werden, und insbesondere sind Diphenylamin-4-diazoniumsalze bevorzugt.
  • Die Diphenylamin-4-diazoniumsalze sind abgeleitet von 4-Aminodiphenylaminen, und solche 4-Aminodiphenylamine umfassen 4-Aminodiphenylamin, 4-Amino-3-methoxydiphenylamin, 4-Amino-2-methoxydiphenylamin, 4'-Amino-2-methoxydiphenylamin, 4'-Amino-4-methoxydiphenylamin, 4-Amino-3-methyldiphenylamin, 4-Amino-3-ethoxyphenylamin, 4-Amino-3-β-hydroxyethoxydiphenylamin, 4-aminodiphenylamin-2-sulfonsäure, 4-Aminodiphenylamin-2-carbonsäure, 4-Aminodiphenylamin-2'-carbonsäure usw., und 3-Methoxy-4-amino-4-diphenylamin und 4-Aminodiphenylamin sind besonders bevorzugt.
  • Es können auch andere Diazoharze als das co-kondensierte Diazoharz mit der aromatischen Verbindung mit einer Säuregruppe, die Diazoharze, die mit dem Aldehyd, enthaltend eine Säuregruppe oder die Acetalverbindung davon, kondensiert sind, beschrieben in JP-A-4-18559, JP-A-3-163551 und JP-A-3-253857, vorzugsweise verwendet werden.
  • Das Gegenanion des Diazoharzes umfaßt Anionen, welche stabile Salze mit dem Diazoharz bilden und das Harz in einem organischen Lösungsmittel löslich machen. Diese Anionen umfassen organische Carbonsäuren, wie Decansäure, Benzoesäure usw., organische Phosphorsäuren, wie Phenylphosphorsäure usw., und Sulfonsäure.
  • Praktische Beispiele davon umfassen aliphatische und aromatische Sulfonsäuren, wie Methansulfonsäure, Fluoralkansulfonsäuren (z. B. Trifluormethansulfonsäure), Laurylsulfonsäure, Dioctylsulfonsäure, Dioctylbernsteinsäure, Dicyclohexylsulfobernsteinsäure, Camphersulfonsäure, Tolyloxy-3-propansulfonsäure, Nonylphenoxy-3-propansulfon säure, Nonylphenoxy-4-butansulfonsäure, Dibutylphenoxy-3-propansulfonsäure, Diamylphenoxy-3-propansulfonsäure, Dinonylphenoxy-3-propansulfonsäure, Dibutylphenoxy-4-butansulfonsäure, Dinonylphenoxy-4-butansulfonsäure, Benzolsulfonsäure, Toiuolsulfonsäure, Mesitylensulfonsäure, p-Chlorbenzolsulfonsäure, 2,5-Dichlorbenzolsulfonsäure, Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, p-Acetylbenzolsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5-nitrobenzolsulfonsäure, Butylbenzolsulfonsäure, Octylbenzolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Octylbenzolsulfonsäure, Decylbenzolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Butoxybenzolsulfonsäure, Dodecyloxybenzolsulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5- sulfonsäure, Isopropylnaphthalinsulfonsäure, Butylnaphthalinsulfonsäure, Hexylnaphthalinsulfonsäure, Octylnaphthalinsulfonsäure, Butoxynaphthalinsulfonsäure, Dodecyloxynaphthalinsulfonsäure, Dibutylnaphthalinsulfonsäure, Dioctylnaphthalinsulfonsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, Tripropylnaphthalinsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, Naphthalin-1-sulfonsäure, Naphthalin-2-sulfonsäure, 1,8-Dinitronaphthalin-3,6- disulfonsäure, Dimethyl-5-isophthalat usw.; Hydroxygruppen enthaltende aromatische Verbindungen, wie 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon, 1,2,3-Trihydroxybenzophenon, 2,2',4-Trihydroxybenzophenon usw.; halogenierte Lewis-Säuren, wie Hexafluorphosphorsäure, Tetrafluorborsäure usw.; und perhalogenierte Säuren, wie HClC&sub4;, HIO&sub4; usw., obwohl die Anionen nicht auf diese Verbindungen beschränkt sind.
  • In diesen vorstehend beschriebenen Verbindungen sind Butylnaphthalinsulfonsäure, Dibutylnaphthalinsulfonsäure, Hexafluorphosphorsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, Hexafluorphosphorsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5- sulfonsäure und Dodecylbenzolsulfonsäure besonders bevorzugt.
  • Das Molekulargewicht des in der vorliegenden Erfindung verwendeten Diazoharzes kann gewünschtenfalls durch Verändern des molaren Verhältnisses der Monomeren und der Kondensationsbedingung verändert werden; um jedoch das Diazoharz in wirksamer Weise für die Zwecke der vorliegenden Erfindung zu verwenden, beträgt das Molekulargewicht des Diazoharzes etwa 400 bis 100.000 und vorzugsweise etwa 800 bis 8.000.
  • Als wasserunlösliche und oleophile Verbindungen mit hohem Molekulargewicht gibt es Copolymere, welche das Monomer bzw. die Monomeren enthalten, die nachstehend durch (1) bis (15) beschrieben wiedergegeben sind und gewöhnlich ein Molekulargewicht von 1 bis 200000 haben.
  • (1) Acrylamide, Methacrylamide, Acrylsäureester, Methacrylsäureester und Hydroxystyrole mit jeweils einer aromatischen Hydroxygruppe, wie N-(4-Hydroxyphenyl)- acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-, m-, oder p-Hydroxystyrole und o-, m- und p-Hydroxyphenylacrylate oder Hydroxyphenylmethacrylate.
  • (2) Acrylsäureester mit jeweils einer aliphatischen Hydroxygruppe, wie 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat oder 4-Hydroxybutylmethacrylat.
  • (3) Ungesättigte Carbonsäuren, wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid oder Itaconsäure.
  • (4) (Substituiertes) Alkylacrylat, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Cyclohexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat, N-Dimethylaminoethylacrylat usw.
  • (5) (Substituiertes) Alkylmethacrylat, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Glycidylmethacrylat, N-Dimethylaminoethylmethacrylat usw.
  • (6) Acrylamide und Methacrylamide, wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Methylolmethacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid, N-Ethyl-N-phenylacrylamid usw.
  • (7) Vinylether, wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether, Phenylvinylether usw.
  • (8) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat, Vinylbenzoat usw.
  • (9) Styrole, wie Styrol, α-Methylstyrol, Chlormethylstyrol usw.
  • (10) Vinylketone, wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Phenylvinylketon usw.
  • (11) Olefine, wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien, Isopren usw.
  • (12) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril, Methacrylnitril usw.
  • (13) Ungesättigte Imide, wie Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid, N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid usw.
  • (14) Ungesättigte Sulfonamide, z. B. Methacrylamide, wie N-(o-Aminosulfonylphenyl)- methacrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Amino)sulfonylphenylmethacrylamid, N-[1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl]methacrylamid, N-(2-Aminosulfonylethyl)methacrylamid usw.; Acrylamide, die jeweils den gleichen Substituenten wie vorstehend beschrieben haben; Methacrylsäureester, wie o-Aminosulfonylphenylmethacrylat, m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, p-Aminosulfonylphenylmethacrylat, 1-(3-Aminosulfonylnaphthyl)methacrylat usw.; und Acrylsäureester, die jeweils den gleichen Substituenten wie vorstehend beschrieben haben.
  • (15) Ungesättigte Monomere, die jeweils eine Vernetzungsgruppe an der Seitenkette haben, wie N-[2-(Methacryloyloxy)-ethyl]-2,3-dimethylmaleimid, Vinylcinnamat usw. Weiterhin kann das ungesättigte Monomer mit einem Monomer copolymerisiert werden, das mit dem vorstehend beschriebenen Monomer copolymerisierbar ist.
  • (16) Phenolharze, beschrieben in US-A-3,751,257, und Polyvinylacetalharze, wie Polyvinylformalharze, Polyvinylbutyralharze usw.
  • (17) Die hochmolekularen Verbindungen, die durch Auflösen von Polyurethan in Alkali erhalten werden, beschrieben in JP-B-54-19773, JP-A-57-904747, JP-A-60- 182437, JP-A-62-58242, JP-A-62-123452, JP-A-62-123453, JP-A-63-113450 und JP-A-2-146042.
  • Zu den vorstehend beschriebenen Copolymeren kann, falls notwendig, auch ein Polyvinylbutyralharz, ein Polyurethanharz, ein Polyamidharz, ein Epoxyharz, ein Novolak- Harz, ein natürliches Harz usw. zugesetzt werden.
  • Für die photoempfindliche Zusammensetzung, die auf dem Träger der vorliegenden Erfindung gebildet wird, können ein Farbstoff bzw. Farbstoffe zum Erhalt sichtbarer Bilder nach der Belichtung mit Licht und sichtbarer Bilder nach der Entwicklung verwendet werden.
  • Beispiele des Farbstoffs umfassen Reihen von Triphenylmethanfarbstoffen, Reihen von Diphenylmethanfarbstoffen, Reihen von Oxazinfarbstoffen, Reihen von Xanthenfarbstoffen, Reihen von Iminonaphthochinonfarbstoffen, Reihen von Azomethinfarbstoffen und Anthrachinonfarbstoffe, wie z. B. Victoria Blue BOH (Handelsname, hergestellt von HODOGAYA CHEMICAL CO., LTD.), Oil Blue #60 (Handelsname, hergestellt von Orient Kagaku Kogyo K. K.), Patent Pure Blue (Handelsname, hergestellt von Sumitomo Mikuni Kagaku K. K.), Kristallviolett, Brilliantgrün, Ethylviolett, Methylviolett, Methylgrün, Erythrocin B, basisches Fuchsin, Malachitgrün, Sudan III, m-Kresolpurpur, Rhodamin B, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminaphthochinon und Cyano-p-diethylaminophenylacetanilid, welche Beispiele für Entfärbungsmittel sind, das die Farbe von einer Farbe in farblos oder in eine andere Farbe ändert.
  • Andererseits umfassen Beispiele des Entfärbungsmittels, welches die Farbe von farblos zu einer Farbe ändert, Leukofarbstoffe und Reihen von primären und sekundären Arylaminfarbstoffen, wie Triphenylamin, Diphenylamin, o-Chloranilin, 1,2,3-Triphenylguanizin, Naphthylamin, Diaminodiphenylmethan, p,p'-Bis-dimethylaminodiphenylamin, 1,2-Dianilinoethylen, p,p',p"-Tris-dimethylaminotriphenylmethan, p,p'-Bis-dimethylaminodiphenylmethylimin, p,p',p"-Triamino-o-methyltriphenylmethan, p,p'-Bis-dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethan und p,p',p"-Triaminotriphenylmethan.
  • Unter diesen Farbstoffen werden die Reihen von Triphenylmethanfarbstoffen und die Reihen von Diphenylmethanfarbstoffen bevorzugt verwendet, wobei die Reihen von Triphenylmethanfarbstoffen weiter bevorzugt verwendet werden, und Victoria Pure Blue BOH wird am bevorzugtesten verwendet.
  • Die photoempfindliche Zusammensetzung, die in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, kann weiter verschiedene Additive enthalten.
  • So werden z. B. Alkylether (z. B. Ethylcellulose und Methylcellulose), Reihen von fluorhaltigen oberflächenaktiven Mitteln und nichtionische oberflächenaktive Mittel (insbesondere die Reihen von fluorhaltigen oberflächenaktiven Mitteln sind bevorzugt) zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaft der photoempfindlichen Zusammensetzung; Weichmacher (z. B. Butylphthalyl, Polyethylenglycol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphthalat, Tetrahydrofurfuryloleat und die Oligomeren oder Polymeren von Acrylsäure oder Methacrylsäure; und in diesen Verbindungen ist Trikresylphosphat besonders bevorzugt) zur Verleihung von Flexibilität und eines Abriebwiderstandes des aufgebrachten Films; Sensibilisierungsmittel (z. B. das Produkt der Halbveresterung eines Styrol- Maleinsäureanhydrid-Copolymers mit einem Alkohol, beschrieben in JP-A-55-527, Novolak-Harze, wie p-t-Butylphenol-Formaldehyd-Harz usw., und der 50%ige Fettsäureester von p-Hydroxystyrol) zur Verbesserung der Empfindlichkeit belichteter Teile; Stabilisatoren (z. B. Phosphorsäure, phosphorige Säure und organische Säuren, wie Zitronensäure, Oxalsäure, Dipicolinsäure, Benzolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, Sulfosalicylsäure, 4-Methoxy-2-hydroxybenzophenon-5-sulfonsäure, Weinsäure usw.); und Entwicklungsbeschleuniger (z. B. höhere Alkohole und Säureanhydride) bevorzugt verwendet.
  • Zur Bildung der vorstehend beschriebenen photoempfindlichen Zusammensetzung auf dem Träger wird eine Beschichtungsflüssigkeit der photoempfindlichen Zusammensetzung durch Auflösen definierter Mengen des photoempfindlichen Diazoharzes, der oleophilen Verbindung mit hohem Molekulargewicht, und, falls notwendig, verschiedenen Additiven in einem geeigneten Lösungsmittel hergestellt (z. B. Methylcellosolve, Ethylcellosolve, Dimethoxyethan, Diethylenglycolmonomethylether, Diethylenglycoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, Methylcellosolveacetat, Aceton, Methylethylketon, Methanol, Methylformamid, Dimethylacetamid, Cyclohexanon, Dioxan, Tetrahydrofuran, Me thyllactat, Ethyllactat, Ethylendichlorid, Dimethylsulfoxid, Wasser und eine Mischung davon), und die Beschichtungsflüssigkeit kann auf den Träger aufgebracht und getrocknet werden.
  • Das Lösungsmittel kann einzeln verwendet werden, eine Mischung eines hochsiedenden Lösungsmittels, wie Methylcellosolve, 1-Methoxy-2-propanol, Methyllactat usw., und eines niedrigsiedenden Lösungsmittels, wie Methanol, Methylethylketon usw., wird jedoch bevorzugter verwendet.
  • Es ist bevorzugt, daß die Konzentration der festen Komponente der photoempfindlichen Zusammensetzung beim Beschichten in dem Bereich von 1 bis 50 Gew.-% liegt. In diesem Fall beträgt die Beschichtungsmenge (die Bedeckung) der photoempfindlichen Zusammensetzung im allgemeinen 0,2 bis 10 g/m² (Trockenmenge) und vorzugsweise 0,5 bis 3 g/m².
  • [III] Der Fall der Herstellung einer photoempfindlichen Schicht enthaltend eine photodimerisierbare photoempfindliche Zusammensetzung und eine photopolymerisierbare photoempfindliche Zusammensetzung:
  • Als photodimerisierbare photoempfindliche Zusammensetzung gibt es Polymere, die jeweils eine Maleimidgruppe, eine Cinnamoylgruppe, eine Cinnamylidengruppe, eine Cinnamylidenacetylgruppe, eine Chalcongruppe usw. an der Seitenkette oder der Hauptkette haben. Als Polymer mit einer Maleimidgruppe an der Seitenkette gibt es die Polymere, die in US-A-4,079,041, in der deutschen Patentschrift 2,626,769, in EP 21,019, EP 3,522 und in Die Angewandte Makromolekulare Chemie, 115, 163-181 (1983) beschrieben sind, und auch die Polymere, die in JP-A-49-128991, JP-A-49- 128992, JP-A-49-128993, JP-A-50-5376, JP-A-50-5377, JP-A-50-5378, JP-A-50-5379, JP-A-50-5380, JP-A-53-5298, JP-A-53-5299, JP-A-53-5300, JP-A-50-50107, JP-A-51- 47940, JP-A-52-13907, JP-A-50-45076, JP-A-52-121700, JP-A-50-10884, JP-A-50- 45087, und in den deutschen Patentschriften 2,349,948 und 2,616,276 beschrieben sind.
  • Um diese Polymere löslich in oder quellbar mit einer wäßrigen Alkalilösung zu machen, ist es zweckdienlich, eine Carbonsäure, Sulfonsäure, Phosphorsäure, Phosphonsäure oder das Metallsalz oder das Ammoniumsalz der Säure oder eine saure Gruppe mit pKa von 6 bis 12 zuzusetzen, welche mit einer wäßrigen Alkalilösung der Polymeren dissoziiert. Falls notwendig kann ein Monomer mit der vorstehend beschriebenen sauren Gruppe mit dem eine Maleimidgruppe aufweisenden Monomer copolymerisiert werden.
  • Der Säurewert des Maleimidpolymers mit der sauren Gruppe liegt vorzugsweise in dem Bereich von 30 bis 300, und in den Polymeren mit dem vorstehend beschriebenen Säurewert ist das Copolymer von N-[2-(Methacryloyloxy)ethyl]2,3-dimethylmaleimid und Methacrylsäure oder Acrylsäure nützlich, wie in Die Angewandte Makromolekulare Chemie, 128, 71-91 (1983) beschrieben. Weiterhin kann bei der Synthese des Copolymers ein Mehrkomponenten-Copolymer durch Copolymerisieren mit einem Vinylmonomer als einer dritten Komponente in einfacher Weise synthetisiert werden. Zum Beispiel kann dem Copolymer eine Flexibilität durch Verwendung eines Alkylmethacrylats oder eines Alkylacrylats als das Vinylmonomer als dritte Komponente verliehen werden, wobei die Glasübergangstemperatur von dessen Homopolymer niedriger als Raumtemperatur ist.
  • Als ein photovernetzbares Polymer mit einer Cinnamylgruppe, einer Cinnamoylgruppe, einer Cinnamylidengruppe, einer Cinnamylidenacetylgruppe, einer Chalcongruppe usw. an der Seitenkette oder der Hauptkette gibt es photoempfindliche Polyester, beschrieben in US-A-3,030,208 und in den US-Patentanmeldungen Nr. 709,496 und Nr. 828,455.
  • Als die photovernetzbaren Polymeren, die in einer wäßrigen Alkalilösung löslich gemacht werden, gibt es die folgenden Polymeren.
  • Das heißt, es gibt photoempfindliche Polymere, wie in JP-A-60-191244 beschrieben. Weiterhin gibt es photoempfindliche Polymere, beschrieben in JP-A-62-175729, JP-A- 62-175730, JP-A-63-25443, JP-A-63-218944 und JP-A-63-218945.
  • Für die photoempfindlichen Schichten, welche diese Polymeren enthalten, kann auch ein Sensibilisierungsmittel verwendet werden, und ein solches Sensibilisierungsmittel umfaßt Benzophenonderivate, Benzanthronderivate, Chinone, aromatische Nitroverbindungen, Naphthothiazolinderivate, Benzothiazolinderivate, Thioxanthone, Naphthothiazolderivate, Ketocumarinverbindungen, Benzothiazolderivate, Naphthofuranonverbindungen, Pyryliumsalze, Thiapyryliumsalze usw.
  • Falls notwendig kann für die photoempfindliche Schicht ein Bindemittel, wie chloriertes Polyethylen, chloriertes Polypropylen, ein Polyacrylsäurealkylester, ein Copolymer mit mindestens einem Monomer von Acrylsäurealkylester, Acrylnitril, Vinylchlorid, Styrol, Butadien usw., Polyamid, Methylcellulose, Polyvinylformal, Poylvinylbutyral, ein Methacrylsäure-Copolymer, ein Acrylsäure-Copolymer, ein Itaconsäure-Copolymer usw., und ein Weichmacher, wie ein Phthalsäuredialkylester (z. B. Dibutylphthalat und Dihexylphthalat), ein Oligoethylenglycolalkylester, ein Phosphorsäureester usw., verwendet werden.
  • Es ist ebenfalls bevorzugt, einen Farbstoff oder ein Pigment oder einen pH-Indikator als eine Printout-Lösung zu der photoempfindlichen Schicht zur Färbung der photoempfindlichen Schicht zuzusetzen.
  • Die photopolymerisierbare photoempfindliche Zusammensetzung umfaßt eine ungesättigte Carbonsäure und ein Salz davon, einen Ester aus einer ungesättigten Carbonsäure und einem aliphatischen mehrwertigen Alkohol und ein Amid aus einer ungesättigten Carbonsäure und einem mehrwertigen aliphatischen Amin.
  • Der Photopolymerisationsinitiator umfaßt eine Vizinal-Polytaketardonylverbindung, eine α-Carbonylverbindung, Acyloinether, eine aromatische Acyloinverbindung, die mit einer Kohlenwasserstoffgruppe an der α-Position substituiert ist, eine mehrkernige Chinonverbindung, eine Kombination eines Triallylimidazol-Dimers und p-Aminophenylketon, Reihen der Benzothiazolverbindungen, eine Trihalomethyl-s-triazinverbindung, eine Acridinverbindung, eine Phenazinverbindung, eine Oxadiazolverbindung usw.
  • Das Polymer mit hohem Molekulargewicht, das löslich ist in oder quellbar mit einer wäßrigen alkalischen Lösung zusammen mit den vorstehend beschriebenen Verbindungen und einen Film bilden kann, umfaßt ein Copolymer von Benzyl(meth)acrylat, (Meth)- acrylsäure und, falls notwendig, anderem additionspolymerisierbarem Vinylmonomer, ein Copolymer von Methacrylsäure und Methylmethacrylat (oder anderem Methacrylsäureester), ein saures Vinylcopolymer durch Zugabe von Pentaerythrittriacrylat zu einem Maleinsäureanhydrid-Copolymer durch eine Halbveresterungsreaktion usw.
    • [IV] Elektrophotographische photoempfindliche Schicht:
  • Es kann z. B. auch eine ZnO-photoempfindliche Schicht verwendet werden, wie in US-A- 3,001,872 beschrieben. Es kann auch die photoempfindliche Schicht unter Verwendung eines elektrophotographischen Photorezeptors verwendet werden, wie in JP-A-56- 161550, JP-A-60-186847, JP-A-61-238063 usw. beschrieben.
  • Die Menge der auf dem Träger gebildeten photoempfindlichen Schicht liegt in dem Bereich von etwa 0,1 bis 7 g/m² und vorzugsweise 0,5 bis 4 g/m².
  • In dem Herstellungsverfahren des Trägers für eine lithographische Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung kann, falls notwendig, eine Zwischenschicht auf dem Träger gebildet werden, um die Adhäsion zwischen dem Träger und der photoempfindlichen Schicht zu verstärken, damit kein Rest der photoempfindlichen Schicht nach der Entwicklung zurückbleibt und zur Vermeidung von Lichthofbildung.
  • Um die Adhäsion zu verbessern, enthält die Zwischenschicht im allgemeinen ein Diazoharz und eine Phosphorsäureverbindung, eine Aminverbindung, eine Carbonsäureverbindung usw., jeweils adsorbiert auf einer Aluminiumplatte. Die Zwischenschicht enthaltend ein Material mit einer hohen Löslichkeit derart, daß die photoempfindliche Schicht nach der Entwicklung nicht zurückbleibt, umfaßt im allgemeinen ein Polymer mit einer guten Löslichkeit oder ein wasserlösliches Polymer. Weiterhin enthält die Zwischenschicht im allgemeinen einen Farbstoff oder ein Ultraviolett-Absorbens zur Verhinderung der Lichthofbildung.
  • Die Dicke der Zwischenschicht kann frei gewählt sein, es muß jedoch eine Dicke sein, die fähig ist, eine gleichmäßige Bindungsbildungsreaktion mit der photoempfindlichen Schicht als der oberen Schicht bei Belichtung mit Licht zu ergeben. Die Dicke beträgt gewöhnlich etwa 1 bis 100 mg/m² und vorzugsweise 5 bis 40 mg/m², als Bedeckung mit der trockenen, festen Komponente.
  • Auf der aufgebrachten photoempfindlichen Schicht kann eine Mattierungsschicht mit darauf unabhängig voneinander gebildeten feinen Ausbuchtungen vorgesehen sein.
  • Der Zweck der Mattierungsschicht ist, die Evakuierungszeit zum Kontaktieren eines negativen Bildfilms und der photoempfindlichen lithographischen Druckplatte zu verkürzen und das gedrängte Auftreten feiner Punkte bei der Belichtung mit Licht zu verhindern, die durch eine zu geringe Adhäsion verursacht wird, durch Verbessern der Vakuumkontakteigenschaft des negativen Bildfilms und der photoempfindlichen lithographischen Druckplatte bei einer Kontaktbelichtung.
  • Als ein Verfahren zum Aufbringen der Mattierungsschicht gibt es ein Verfahren des Heißverschmelzens fester Pulver, beschrieben in JP-A-55-12974, ein Verfahren des Sprühens von Polymer enthaltendem Wasser, gefolgt von Trocknen, beschrieben in JP- A-58-182636 usw. In diesem Fall ist es bevorzugt, daß die Mattierungsschicht selbst in einem wäßrigen alkalischen Entwickler gelöst ist, der im wesentlichen kein organisches Lösungsmittel enthält oder durch den wäßrigen alkalischen Entwickler entfernt wird.
  • Die so hergestellte photoempfindliche lithographische Druckplatte wird bildweise belichtet und einschließlich einer Entwicklung in üblicher Weise behandelt, wodurch Harzbilder auf der Druckplatte gebildet werden. So werden z. B. in dem Falle der photoempfindlichen lithographischen Druckplatte mit der photoempfindlichen Schicht [1], vorstehend beschrieben, nach der bildweisen Belichtung durch Entwickeln einer wäßrigen Alkalilösung, wie in US-A-4,259,434 beschrieben, die dem Licht ausgesetzten Teile entfernt, um eine lithographische Druckplatte zu ergeben, und in dem Falle der photoempfindlichen lithographischen Druckplatte mit der photoempfindlichen Schicht [II], vorstehend beschrieben, wird nach der bildweisen Belichtung durch Entwickeln mit dem Entwickler, wie in US-A-4,186,006 beschrieben, die photoempfindliche Schicht an den nichtbelich teten Teilen entfernt, um eine lithographische Druckplatte zu ergeben. Die wäßrige Alkali-Entwicklerzusammensetzung, die zur Entwicklung einer lithographischen Druckplatte vom Positivtyp verwendet wird, wie in JP-A-59-84241, JP-A-57-192952 und JP-A-62- 24263 beschrieben, kann ebenfalls verwendet werden.
  • Die folgenden Beispiele sollen die vorliegende Erfindung im einzelnen erläutern, sie aber nicht in irgendeiner Weise beschränken.
    • Beispiele 1 bis 6
  • Eine Aluminiumplatte aus JIS 1050-Material wurde der mechanischen Körnung unter Verwendung der in JP-B-50-40047 beschriebenen Vorrichtung bei einer Umdrehungszahl der Walzenbürste von 250 Upm unterworfen, wobei der Borstennerv der Bürste und die Teilchengröße des Schleifmittels geändert wurden, um die erwünschten Eigenschaften zu erhalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und der ersten chemischen Ätzbehandlung unterworfen. In der ersten chemischen Ätzbehandlung wurde die Konzentration eines wäßrigen Natriumhydroxids auf einem konstanten Wert von 25% gehalten, die Flüssigkeitstemperatur betrug 55ºC, und die Behandlungszeit wurde so kontrolliert, daß die Ätzmenge den in der nachstehenden Tabelle 1 gezeigten Wert annahm. Danach wurde die Platte mit Wasser gewaschen und einer Entschmutzungsbehandlung und dann der ersten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels der in JP-A-3-79799 beschriebenen Kraftquellen-Wellenform bei einer Salpetersäurekonzentration von 15 g/l, einer Aluminiumkonzentration von 6 g/l und einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die Elektrizitätsmenge annahm, die in der nachstehend Tabelle 1 gezeigt ist. Dann wurde die Aluminiumplatte einer Katoden-Elektrolyse unter Verwendung der gleichen Flüssigkeit wie in der ersten elektrochemischen Körnungsbehandlung bei einer Elektrizitätsmenge von 10% der Elektrizitätsmenge in der ersten elektrochemischen Körnungsbehandlung unterworfen. Danach wurde die Aluminiumplatte der zweiten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels der Kraftquellen-Wellenform, die in JP- A-3-79799 beschrieben ist, bei einer Salpetersäurekonzentration von 12 g/l, einer Aluminiumkonzentration von 5 g/l und einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 1 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte der zweiten chemischen Ätzbehandlung unterworfen. In diesem Fall war die Konzentration der wäßrigen Natriumhydroxidlösung die gleiche wie in der ersten chemischen Ätzbehandlung, die Flüssigkeitstemperatur betrug 40ºC, und die Behandlungszeit wurde so kontrolliert, daß die Ätzmenge den in Tabelle 1 gezeigten Wert annahm. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen. Dann wurde die Aluminiumplatte einer anodischen Oxidationsbehandlung bei einer Schwefelsäurekonzentration von 120 g/l, und einer Flüssigkeitstemperatur von 45ºC unterworfen, um einen anodischen Oxidationsfilm auf der Aluminiumplatte mit einer Bedeckung von 3,0 g/m² zu bilden. Danach wurde die Oberfläche der Aluminiumplatte mittels AFL (hergestellt von Seiko Instruments Inc.) gemessen.
  • Die Meßergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle 1 gezeigt. Tabelle 1
  • In der vorstehenden Tabelle bedeuten:
  • (A): erstes chemisches Ätzen
  • (B): erstes elektrochemisches Körnen
  • (C): zweites elektrochemisches Körnen
  • (D): zweites chemisches Ätzen
  • (E): Rms(1 bis 10 um)
  • (F): Rms(10 bis 100 um)
  • (G): Rms(10 bis 100 um)/Rms(1 bis 10 um)
  • Ex.: Beispiel
    • Beispiele 7 und 8
  • Eine Aluminiumplatte wurde einer Entfettungsbehandlung bei einer konstanten Konzentration einer wäßrigen Natriumhydroxidlösung von 25% und einer Flüssigkeitstemperatur von 55ºC unterworfen und dann mit Wasser gewaschen und einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen. Dann wurde die Aluminiumplatte der ersten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels einer Kraftquellen-Wellenform, beschrieben in JP-A-3- 79799, bei einer Salpetersäurekonzentration von 15 g/l, einer Aluminiumkonzentration von 6 g/l und einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 2 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm, und danach wurde die Aluminiumplatte der ersten chemischen Ätzbehandlung mit einer wäßrigen Natriumhydroxidlösung mit einer Konzentration von 25% so unterworfen, daß die Ätzmenge den in Tabelle 2 gezeigten Wert annahm. Danach wurde die Aluminiumplatte der zweiten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels der Kraftquellen-Wellenform, beschrieben in JP-A-3-79799, bei einer Salpetersäurekonzentration von 12 g/l, bei einer Aluminiumkonzentration von 5 g/l und bei einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 2 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm, und nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte der zweiten chemischen Ätzbehandlung unterworfen. In der zweiten chemischen Ätzbehandlung war die Konzentration eines wäßrigen Natriumhydroxids die gleiche wie die in der ersten chemischen Ätzbehandlung, die Flüssigkeitstemperatur betrug 40ºC, und die Behandlungszeit wurde so kontrolliert, daß die Ätzmenge den in Tabelle 2 gezeigten Wert annahm. Dann wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen, einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen, und einer anodischen Oxidationsbehandlung bei einer Schwefelsäurekonzentration von 120 g/l und einer Flüssigkeitstemperatur von 45ºC unterworfen, um einen anodischen Oxidationsfilm mit einer Bedeckung von 3,0 g/m² zu bilden. Danach wurde die Oberfläche der so be handelten Aluminiumplatte mittels AFL gemessen. Die Meßergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle 2 gezeigt. Tabelle 2
  • (A) bis (G) und Ex. haben die gleichen Bedeutungen wie in Tabelle 1.
    • Vergleichsbeispiele 1 bis 6
  • Eine Aluminiumplatte aus JIS 1050-Material wurde einer mechanischen Körnung unter Verwendung der in JP-B-50-40047 beschriebenen Vorrichtung bei einer Umdrehungszahl der Walzenbürste von 250 Upm unterworfen, während der Borstennerv der Bürste und die Teilchengröße des Schleifmittels geändert wurden, um die gewünschten Eigenschaften zu erhalten. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und der ersten chemischen Ätzbehandlung unterworfen. In der ersten chemischen Ätzbehandlung wurde die Konzentration eines wäßrigen Natriumhydroxids auf einem konstanten Wert von 25% gehalten, die Flüssigkeitstemperatur betrug 55ºC, und die Behandlungszeit wurde so kontrolliert, daß die Ätzmenge den in der nachstehenden Tabelle 3 gezeigten Wert annahm. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen und dann der ersten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels der Kraftquellen-Wellenform, beschrieben in JP-A-3-79799, bei 60 Hz bei einer Salpetersäurekonzentration von 15 g/l, einer Aluminiumkonzentration von 6 g/l und einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 3 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm. Dann wurde die Aluminiumplatte einer Katoden-Elektrolyse bei einer Elektrizitätsmenge von 10% der Elektrizitätsmenge in der ersten elektroche mischen Körnungsbehandlung unterworfen. Danach wurde die Aluminiumplatte der zweiten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels der Kraftquellen-Wellenform, beschrieben in JP-A-3-79799, bei 60 Hz bei einer Salpetersäurekonzentration von 12 g/l, einer Aluminiumkonzentration von 5 g/l und einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 3 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte der zweiten chemischen Ätzbehandlung unterworfen. In diesem Fall war die Konzentration der wäßrigen Natriumhydroxidlösung die gleiche wie in der ersten chemischen Ätzbehandlung, und die Behandlungszeit wurde so kontrolliert, daß die Ätzmenge den in der Tabelle 3 gezeigten Wert annahm. Danach wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen. Dann wurde die Aluminiumplatte einer anodischen Oxidationsbehandlung bei einer Schwefelsäurekonzentration von 120 g/l, und einer Flüssigkeitstemperatur von 45ºC unterworfen, um einen anodischen Oxidationsfilm auf der Aluminiumplatte bei einer Bedeckung von 3,0 g/m² zu bilden. Danach wurde die Oberfläche der Aluminiumplatte mittels AFL gemessen. Die Meßergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle 3 gezeigt. Tabelle 3
  • (A) bis (G) sind gleich wie in Tabelle 1.
  • C. Ex.: Vergleichsbeispiel
    • Vergleichsbeispiele 7 und 8
  • Eine Aluminiumplatte wurde einer Entfettungsbehandlung bei einer konstanten Konzentration einer wäßrigen Natriumhydroxidlösung von 25% und einer Flüssigkeitstemperatur von 55ºC unterworfen und dann mit Wasser gewaschen und einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen. Dann wurde die Aluminiumplatte der ersten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels einer Kraftquellen-Wellenform, beschrieben in JP-A-3- 79799, bei einer Salpetersäurekonzentration von 15 g/l, einer Aluminiumkonzentration von 6 g/l, und einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 4 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm, und danach wurde die Aluminiumplatte der ersten chemischen Ätzbehandlung mit einer wäßrigen Natriumhydroxidlösung mit einer Konzentration von 25% so unterworfen, daß die Ätzmenge den in Tabelle 4 gezeigten Wert annahm. Danach wurde die Aluminiumplatte der zweiten elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels der Kraftquellen-Wellenform, beschrieben in JP-A-3-79799, bei einer Salpetersäurekonzentration von 12 g/l, bei einer Aluminiumkonzentration von 5 g/l und bei einer Flüssigkeitstemperatur von 40ºC so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 4 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm, und, nach Waschen mit Wasser, wurde die Aluminiumplatte der zweiten chemischen Ätzbehandlung unterworfen. In der zweiten chemischen Ätzbehandlung war die Konzentration eines wäßrigen Natriumhydroxids die gleiche wie in der ersten chemischen Ätzbehandlung, die Flüssigkeitstemperatur betrug 40ºC, und die Behandlungszeit wurde so kontrolliert, daß die Ätzmenge den in Tabelle 4 gezeigten Wert annahm. Dann wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen, einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen und einer anodischen Oxidationsbehandlung bei einer Schwefelsäurekonzentration von 120 g/l und bei einer Flüssigkeitstemperatur von 45ºC unterworfen, um einen anodischen Oxidationsfilm mit einer Bedeckung von 3,0 g/m² zu bilden. Danach wurde die Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte mittels AFL gemessen. Die Meßergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle 4 gezeigt. Tabelle 4
  • (A) bis (G) sind gleich wie in Tabelle 1.
  • C. Ex.: Vergleichsbeispiel
    • Vergleichsbeispiele 9 bis 11
  • Die Aluminiumplatte aus dem JIS 1050-Material wurde 7 Sekunden einer Entfettungsbehandlung mit einer wäßrigen 6%igen Natriumhydroxidlösung bei 65ºC unterworfen, und nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte 15 Sekunden in eine wäßrige 30%ige Schwefelsäurelösung eingetaucht und dann mit Wasser gewaschen. Die Aluminiumplatte wurde einer elektrochemischen Körnungsbehandlung mittels der Kraftquellen-Wellenform, beschrieben in JP-A-3-79799, bei 60 Hz und 50 A/dm² so unterworfen, daß die Anodenmenge an Elektrizität die in der nachstehenden Tabelle 5 gezeigte Elektrizitätsmenge annahm, in eine wäßrige 5%ige Natriumhydroxidlösung bei 30ºC eingetaucht, und nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte einer Entschmutzungsbehandlung mit einer wäßrigen Schwefelsäurelösung unterworfen. In diesem Fall wurde die Eintauchzeit so kontrolliert, daß die Ätzmenge den in Tabelle 5 gezeigten Wert annahm. Danach wurde die Aluminiumplatte einer anodischen Oxidationsbehandlung bei einer Schwefelsäurekonzentration von 120 g/l und einer Flüssigkeitstemperatur von 45ºC unterworfen, um einen anodischen Oxidationsfilm mit einer Bedeckung von 3,0 g/m² zu bilden. Danach wurde die Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte mittels AFL gemessen. Die Meßergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle 5 gezeigt. Tabelle 5
  • (A'): Elektrochemisches Körnen
  • (B'): Chemisches Ätzen
  • (E), (F) und (G) haben die gleichen Bedeutungen wie in Tabelle 1.
  • C. Ex.: Vergleichsbeispiel
  • Jede der so hergestellten Aluminiumplatten wurde mit der folgenden photoempfindlichen Zusammensetzung mit einer Trockenbedeckung von 2,0 g/m² beschichtet, um eine photoempfindliche Schicht zu bilden, und weiter wurde eine Mattierungsschicht darauf aufgebracht, um eine photoempfindliche lithographische Druckplatte zu ergeben.
    • (Photoempfindliche Schichtzusammensetzung)
  • Esterverbindung von Naphthochinon-1,2-diazido-5- sulfonylchlorid, Pyrogallol und einem Acetonharz (beschrieben in Beispiel 1 von US-A-3,635,709) 0,075 g
  • Kresol-Novolak-Harz 2,00 g
  • Oil Blue 603 (hergestellt von Orient Kagaku K. K.) 0,04 g Ethylendichlorid 16 g
  • 2-Methoxyethylacetat 12 g
  • Die Ergebnisse der Druckleistung jeder lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte sind in der nachstehenden Tabelle 6 gezeigt. Tabelle 6
  • (H): Härte der Verfärbung von Punktteilen
  • (I): Härte der Verfärbung des Aufzugs
  • (J): Druckkompression
  • (I): Leichtigkeit der Sichtbarkeit einer geringeren Menge an Tintenlösung auf einer Druckplatte
  • Example: Beispiel
  • C. Example: Vergleichsbeispiel
  • NG: nicht gut (Bereich, der nicht als eine lithographische Druckplatte verwendet werden kann)
  • Wie vorstehend beschrieben, weist die lithographische Druckplatte der vorliegenden Erfindung das Merkmal auf, daß das mittels AFL gemessene Rms(1 bis 10 um) und das Rms(10 bis 100 um) vorgeschrieben sind und hat bemerkenswert verbesserte Charakteristiken, wie die Härte, verfärbt zu werden, die Bedruckbarkeit, den Druckeindruck usw.
  • Obwohl die Erfindung im einzelnen und mit Bezug auf spezielle Ausführungsformen davon beschrieben worden ist, ist es für den Fachmann ersichtlich, daß verschiedene Änderungen und Modifikationen darin vorgenommen werden können, ohne den Bereich der Ansprüche zu verlassen.

Claims (1)

1. Eine lithographische Druckplatte umfassend einen Träger für lithographische Druckplatten, der Körnungsbehandlungen in mindestens zwei Stufen unterworfen wurde, worin die Oberflächenform dieser Träger gleichzeitig die Bereiche erfüllt, die nachstehend durch (1), (2) und 3 wiedergegeben werden:
1,5 &le; Rms(10 bis 100 um)/Rms(1 bis 10 um) < 3,0 (1)
0,2 &le; Rms(1 bis 10 um) &le; 0,4 [um] (2)
0,4 &le; Rms(10 bis 100 um) &le; 1,0 [um] (3)
worin Rms die mittlere Quadrat-Oberflächenrauhigkeit ist, die durch Messen der Oberflächenform des Trägers mittels des Atomkraftmikroskops erhalten wurde, Rms (1 bis 10 um) den Wert über den Frequenzraum von 1 bis 10 um zeigt, und Rms (10 bis 100 um) den Wert über den Frequenzraum von 10 bis 100 um zeigt.
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