DE69607857T2 - Optisch variables flächenmuster - Google Patents

Optisch variables flächenmuster

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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein optisch variables Flächenmuster der im Oberbegriff des Anspruchs 1 genannten Art.
  • Solche optisch variable Flächenmuster mit einer mikroskopisch feinen Reliefstruktur eignen sich beispielsweise zur Erhöhung der Fälschungssicherheit und der auffälligen Kennzeichnung von Gegenständen aller Art und sind insbesondere bei Wertpapieren, Ausweisen, Zahlungsmitteln und ähnlichen, zu sichernden Gegenständen verwendbar.
  • Ein Flächenmuster der im Oberbegriff des Anspruches 1 genannten Art ist aus der EP 375 833 bekannt. Das als lichtmodifizierende Reliefstruktur in einen Träger eingeprägte Flächenmuster ist in Rasterfelder unterteilt. Jedes Rasterfeld ist in eine Anzahl n von Teilflächen eingeteilt, wobei jede Teilfläche einem Pixel einer von n Darstellungen zugeordnet ist und je ein Beugungselement aufweist, das die Informationen über einen Farbwert, über einen Helligkeitswert und über eine Betrachtungsrichtung enthält. Die n Darstellungen sind aus Bündeln gebeugten Lichtes zusammengesetzt, die unter n verschiedenen Betrachtungsrichtungen sichtbar werden. Damit eine Darstellung nur unter einer einzigen Betrachtungsrichtung sichtbar wird, weisen die entsprechenden Reliefstrukturen eine asymmetrische Profilform auf.
  • Aus der EP 360 969 ist ein Beugungselement bekannt, das Teilflächen mit Farben grosser Leuchtkraft besitzt. Die Teilflächen beinhalten Reliefstrukturen, die als Beugungsgitter mit einer asymmetrischen Profilform, z. B. mit einer sägezahnförmigen Profilform, ausgebildet sind. Die Beugungsgitter reflektieren auftreffendes Licht vorwiegend in die erste Beugungsordnung. Deshalb wechseln die Beugungsgitter mit wechselnder Einfallsrichtung des Lichtes und wechselnder Blickrichtung eines Beobachters ihre Farbe. Der erreichbare Grad der Asymmetrie, d. h. das Verhältnis der Intensität des in die plus erste Beugungsordnung gebeugten Lichtes zur Intensität des in die minus erste Beugungsordnung gebeugten Lichtes beträgt typisch 3 : 1 und höchstens 30 : 1.
  • Aus der DE 25 55 214 sind optische Markierungen bekannt, die auftreffendes Licht im wesentlichen nicht durch Beugung, sondern durch Reflexion oder optische Brechung aufgrund der Gesetze der geometrischen Optik modifiziert. Bei Linienabständen von 10 bis 100 Mikron ergeben sich jedoch schon bei moderaten Reflexionswinkeln Profilhöhen von mehreren oder mehreren zehn Mikrometern.
  • Aus der Fachliteratur, beispielsweise aus dem Buch "Diffraction Gratings", M. C. Hutley, Kapitel 2, Seiten 13-56, ISBN 0-12-362980-2, ist es bekannt, dass aus einer Einfallsrichtung auf eine Gitterstruktur auftreffendes Licht der Wellenlänge λ gemäss der Beziehung
  • sin(θm) = sin(θi) + m · λ/d (1)
  • gebeugt wird, wobei d die Gitterperiode, θm und θi; die Zwischenwinkel zwischen der Normalen auf die Fläche mit der Gitterstruktur und dem gebeugten Strahl m bzw. dem einfallenden Strahl i sowie der ganzzahlige Index m die Beugungsordnung bezeichnen. Es existieren nur endlich viele Beugungsordnungen. Polychromatisches Licht wird von der Gitterstruktur demzufolge in seine Spektralfarben zerlegt, d. h. Licht unterschiedlicher Wellenlänge wird in verschiedene Richtungen gebeugt. Es sind nun verschiedene Verfahren bekannt, das Licht unterschiedlicher Wellenlänge in die gleiche Richtung zu beugen, um innerhalb gewisser Grenzen eine von Auge wahrnehmbare Spektralfarbenzerlegung zu vermeiden und damit einen achromatischen Eindruck zu erzielen. Sie basieren darauf, Gitterstrukturen mit verschiedenen Gitterperioden zu verwenden. Es können beispielsweise Gitterstrukturen mit Gitterperioden d&sub1;, d&sub2; und d&sub3; in Rasterfeldern nebeneinander angeordnet werden. Die Grösse der Rasterfelder ist so gewählt, dass die Rasterfelder vom menschlichen Auge aus einer normalen Sehdistanz von 30 cm nicht getrennt wahrnehmbar sind. Die Perioden d&sub1;, d&sub2; und d&sub3; der Gitter sind derart gewählt, dass sich deren Spektren in einer vorbestimmten Betrachtungsrichtung überlagern und zwar so, dass die Beugungsrichtungen des roten Spektralanteils der Gitterstruktur 1, des grünen Spektralanteils der Gitterstruktur 2, sowie des blauen Spektralanteils der Gitterstruktur 3 für eine Beugungsrichtung gleich sind. Die einzelnen Gitterstrukturen müssen nicht nebeneinander angeordnet sein, sondern können einander auch überlagert sein, wie z. B. bei Hologrammen. Die Juxtaposition kann auch ersetzt werden durch eine lokale, sich wiederholende Variation der Gitterkonstante. Die Fläche, die achromatisch erscheinen soll, wird unterteilt in einzelne Teilflächen, deren Abmessungen unterhalb der Auflösungsgrenze des menschlichen Auges liegen. Innerhalb einer Teilfläche variiert die lokale Gitterperiode (Linienabstand) gemäss einer vordefinierten, z. B. linearen, Funktion, über einen bestimmten Periodenbereich. Von einem achromatischen Hologramm ist es ferner bekannt, die Gitterperiode lokal stochastisch zu ändern, siehe z. B. das Buch "Optical Holography", herausgegeben von P. Harriharan, Cambridge Studies in Modern Optics, Seiten 144 ff, ISBN 0 521 31162 2.
  • Allen diesen Verfahren ist der Nachteil gemeinsam, dass zwar für einen vorbestimmten Betrachtungswinkel ein achromatischer Eindruck erzeugt werden kann, dass aber in den daran anschliessenden Betrachtungswinkeln ausgeprägte Farbsäume erscheinen. Wird zudem der Betrachtungsbereich, unter dem eine Darstellung achromatisch erscheinen soll, durch einen grossen Periodenumfang vergrössert, so nimmt die durch einen Beobachter wahrnehmbare Helligkeit spürbar ab, da das einfallende Licht über einen entsprechend grösseren Winkelbereich verteilt wird.
  • Gemäss der vorliegenden Erfindung ist ein optisch variables Flächenmuster zu schaffen, wie es im Anspruch 1 beschrieben ist.
  • Ausführungen der vorliegenden Erfindung ergeben ein optisch variables Flächenmuster, das schwer zu fälschen ist, mit wenigstens einer graphisch gestalteten Darstellung, wobei die Darstellung bei Betrachtung in sichtbarem Licht in einem gewissen Winkelbereich einen achromatischen Eindruck erzeugt, ohne dass in den angrenzenden Winkelbereichen merkliche Farbsäume auftreten.
  • Zur Beschreibung der allgemeinen Idee der Erfindung sei als Ausgangslage festgelegt, dass ein Flächenmuster wenigstens n = 2 Darstellungen beinhaltet. Das Flächenmuster ist deshalb in erste und zweite Teilflächen unterteilt. Die ersten Teilflächen dienen der Erzeugung der ersten Darstellung, die zweiten Teilflächen dienen der Erzeugung der zweiten Darstellung. Beide Darstellungen sollen achromatisch sein, d. h. dass sie in der Farbe des sie beleuchtenden Lichtes sichtbar sind und auch beim Drehen oder Kippen des Flächenmusters keine wechselnden Farbeffekte erzeugen. Gemäss geometrisch optischen Überlegungen wird die gestellte Aufgabe dadurch gelöst, dass die zur ersten Darstellung gehörenden Teilflächen als spiegelnde Flächen, die mit einer ersten vorbestimmten azimutalen Orientierung Φ&sub1; gegenüber der Ebene des Flächenmusters um einen ersten vorbestimmten Neigungswinkel α&sub1; geneigt sind, oder als diffus streuende Mattstrukturen ausgebildet sind. Anstelle einer diffus streuenden Mattstruktur kann auch eine in der Ebene des Flächenmusters liegende Spiegelfläche vorgesehen sein. Die zur zweiten Darstellung gehörenden spiegelnden Flächen sind gegenüber der Ebene des Flächenmusters in einer anderen azimutalen Orientierung Φ&sub2; um einen zweiten Neigungswinkel α&sub2; geneigt. Unter der vorbestimmten Betrachtungsrichtung erzeugt eine geneigte Teilfläche einen hellen Bildpunkt, eine Mattstruktur oder Spiegelfläche hingegen einen dunklen Bildpunkt. Bei einem Neigungswinkel von 15º und einer Ausdehnung der Teilflächen von maximal 100 Mikrometern ergeben sich jedoch Höhenunterschiede zur Ebene des Flächenmusters von ca. 27 Mikrometern. Deshalb wird jede geneigte Teilfläche in ein Gebilde aus parallel nebeneinander angeordneten schmaleren Teilflächen mit dem gleichen Neigungswinkel α&sub1; bzw. α&sub2; zerlegt. Dieses die ursprüngliche Teilfläche ersetzende Gebilde ist eine Reliefstruktur und weist im Querschnitt ein sägezahnförmiges Profil auf, dessen Gitterperiode und Profilhöhe derart aufeinander abgestimmt sind, dass sich das am sägezahnförmigen Profil der Reliefstruktur gebeugte Licht in erster Näherung ähnlich verhält wie das an der ursprünglichen, geneigten Teilfläche reflektierte Licht. Ein solches Verhalten wird erreicht, wenn die Profilhöhe des Sägezahns näherungsweise ein ganzzahliges Vielfaches der halben optischen Weglänge des Lichtes ist, wobei diese Bedingung allenfalls an den Einfallswinkel des Lichtes anzupassen ist. Diese Bedingung ist z. B. für die drei im sichtbaren Bereich liegenden Wellenlängen λ&sub1; = 450 nm, λ&sub2; = 550 nm und λ&sub3; = 650 nm annähernd gleichzeitig erfüllt für eine optische Weglänge von 3,3 oder 7,15 Mikrometern. Ist die spiegelnde Fläche mit einer Lackschicht mit einem optischen Brechungsindex von 1.5 bedeckt, dann ergibt sich eine um den Faktor n = 1.5 reduzierte geometrische Profilhöhe von 1,1 bzw. 2,37 Mikrometern.
  • Beim erfindungsgemässen Flächenmuster ist jede der beiden Darstellungen aus nur einer Blickrichtung sichtbar, wobei sich die beiden Darstellungen gegenseitig nicht stören.
  • In beugungsoptischer Sichtweise lehrt die Erfindung, für die Erzeugung eines achromatischen optischen Eindruckes der beiden Darstellungen Gitterstrukturen mit grosser Gitterperiode, d. h. kleiner Linienzahl, zu verwenden, damit im sichtbaren Bereich viele Beugungsordnungen auftreten können. Weiter soll die Profilform derart sein, dass ein möglichst grosser Anteil des gebeugten Lichtes in höhere Beugungsordnungen gebeugt wird. Damit das Verhältnis zwischen dem in positive Beugungsordnungen gebeugten Licht und dem in negative Beugungsordnungen gebeugten Licht möglichst gross wird, sind Gitterstrukturen mit einer asymmetrischen Profilform, insbesondere einer sägezahnförmigen Profilform, zu verwenden. Diese Ideen werden im folgenden näher erläutert.
  • Bei Gitterstrukturen mit kleiner Linienzahl können gemäss der Gleichung (1) viele Beugungsordnungen existieren. Bei einer Linienzahl von 100 Linien/mm und bei einer Wellenlänge von λ = 550 nm können bei senkrechtem Einfall die Beugungsordnungen m = -18, -17, -16, ... -1,0, +1, ..., +17, +18 auftreten, also 37 Beugungsordnungen innerhalb des vollen Beugungswinkelbereichs von -90º bis +90º. Der Winkelabstand zwischen benachbarten Beugungsordnungen beträgt typisch 3-4º.
  • Die Beugungswinkel θm sind gemäss der Gleichung (1) bestimmt durch die Periode d der Gitterstruktur. Die Intensitäten des in die verschiedenen diskreten Beugungsordnungen gebeugten Lichtes sind bestimmt durch die Profilform und die Profilhöhe der Gitterstruktur. Durch geeignete Wahl dieser beiden Parameter ist die Intensitätsverteilung des gebeugten Lichtes so steuerbar, dass Licht der Wellenlänge λ grösstenteils in Beugungsordnungen gebeugt wird, deren Beugungswinkel θm in einem engen Winkelbereich ψ nahe beieinanderliegen. Das einfallende polychromatische Licht wird für alle unterschiedlichen Wellenlängen λ ebenfalls in den engen Winkelbereich ψ gebeugt. Die Gitterstruktur erscheint dem Betrachter innerhalb des Winkelbereiches ψ hell und achromatisch in der Farbe des die Gitterstruktur beleuchtenden Lichtes, während die Gitterstruktur ausserhalb des Winkelbereiches ψ dunkel ist.
  • Die Fig. 1 zeigt in Funktion des Beugungswinkels θ die normierten Intensitäten I der Beugungsordnungen eines herkömmlichen Gitters mit einer sinusförmigen Profilform, wobei das Licht senkrecht einfällt. Das Gitter weist eine Linienzahl von 1000 Linien/mm und eine Profilhöhe von 155 nm auf. Die Spektren sind gerechnet für die drei Wellenlängen λ&sub1; = 450 nm, λ&sub2; = 550 nm und λ&sub3; = 650 nm entsprechend den Farben blau, grün und rot. Das Licht der drei Farben wird in diskrete Winkel θm gebeugt, die weit auseinanderliegen. Für das blaue Licht existieren zwei positive Beugungsordnungen, für das grüne und das rote Licht nur eine. Da das Gitter eine sinusförmige und somit symmetrische Profilform aufweist, wird gleichviel Licht auch in negative Beugungswinkel θ-m gebeugt. Beim Drehen und/oder Kippen des Gitters sieht ein Betrachter die vom Gitter belegte Fläche in wechselnden Farben.
  • Die Fig. 2a und 2b zeigen die normierten Intensitäten der Beugungsordnungen für zwei erfindungsgemässe Gitter mit einer sägezahnförmigen Profilform. Die Gitter weisen beide eine Linienzahl von 150 Linien/mm, jedoch eine unterschiedliche Profilhöhe von 1.8 um bzw. 1.3 um auf. Es ist deutlich zu sehen, dass das Licht aller drei Farben mit hoher Intensität in einen engen Winkelbereich ψ bei etwa +32º bzw. +26º gebeugt wird. Im ersten Fall überdeckt der Winkelbereich ψ etwa Winkel θ von 30º- 35º. In die anderen, positiven wie negativen, Beugungsordnungen wird nur sehr wenig Licht gebeugt. Auch wird praktisch kein Licht in den Winkelbereich bei -32º bzw. -26º gebeugt, da es wegen der asymmetrischen Profilform des entsprechenden Gitters leicht möglich ist, ein Verhältnis des in die positiven Beugungsordnungen gebeugten Lichtes zu dem in die negativen Beugungsordnungen gebeugten Licht von wenigstens 100 : 1 zu erreichen. Einem Betrachter erscheint somit jedes dieser beiden Gitter in einem relativ engen Winkelbereich ψ als achromatische Fläche, während in den restlichen Winkelbereichen die Fläche dunkel ist, ohne dass beim Drehen und/oder Kippen des Gitters merkliche Farb säume auftreten. Falls die Gitter mit einer Lackschicht mit einem Brechungsindex von n = 1.5 überdeckt sind, kann die Profilhöhe um den Faktor n auf 1.2 um bzw. 0.89 um reduziert werden. Dank der gewählten Profilform und Profilhöhe der Gitter wird das Licht mit hoher Effizienz in hohe positive Beugungsordnungen gebeugt, z. B. grünes Licht etwa in die plus zehnte.
  • Der Winkelbereich ψ, unter dem der Betrachter die Gitterstrukturen als achromatisch wahrnimmt, ist bestimmt durch die Linienzahl: je kleiner die Linienzahl, desto enger ist der achromatische Winkelbereich. Der Beugungswinkel θm mit der grössten Intensität nimmt bei vorgegebener Linienzahl mit der Profilhöhe bzw. dem Neigungswinkel des Sägezahns zu, wie anhand der Fig. 2a und 2b zu sehen ist.
  • Wie aus den Fig. 2a und 2b zu entnehmen ist, treten immer noch diskrete Beugungsordnungen auf, wobei jedoch nur wenige, den verschiedenen Spektralfarben zugeordnete Beugungslinien innerhalb des Winkelbereiches ψ bei normaler Beleuchtung eine merkliche Intensität aufweisen. Diese Beugungslinien liegen nun winkelmässig so nahe beieinander, dass die von derartigen Gitterstrukturen belegte Teilfläche bei Beleuchtung mit weissem Licht und Betrachtung aus einer beliebigen Richtung innerhalb des Winkelbereiches ψ nicht in wechselnden Farben, sondern dem Betrachter immer als gleichbleibend weiss leuchtende oder anders gesagt als achromatische Fläche erscheint.
  • Die Konzentration des gebeugten Lichts in einen eng definierten Winkelbereich ψ lässt die beleuchtete Teilfläche hell aufblitzen, wenn der Beobachter das Flächenmuster kippt oder dreht. Mit anderen bekannten beugungsoptischen Oberflächenreliefs ist diese Wirkung nicht erreichbar, da dort das Licht spektral zerlegt in einen grösseren Winkelbereich gebeugt wird. Zudem kann das Gitter mit einer derart grossen Profilhöhe nicht mittels einer holografischen Kontaktkopie zur Erzeugung eines Oberflächenreliefs nachgemacht werden, da bei der holografischen Kontaktkopie die Profilhöhe des, beispielsweise in Photoresist, resultierenden Reliefs typisch nur etwa 0.1 bis 0.2 um betragen würde. Auch bei anderen Arten der holografischen Kopie zur Erzeugung eines Oberflächenreliefs (siehe z. B. die Beschreibung der Kontaktkopie und des Zweischrittverfahrens bei S. P. McGrew, Hologram Counterfeiting: Problems and Solutions, SPIE Vol. 1210 Optical Security and Anticounterfeiting Systems 1990) geht zudem die ausgeprägte Asymmetrie der Gitterstruktur verloren, welche ebenfalls sehr wichtig ist, damit das Licht mit hoher Effizienz in hohe Beugungsordnungen gebeugt wird. Zudem ist eine bestimmte Profilform auch eine Voraussetzung zur Erzielung des achromatischen Effektes.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nun nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
  • Fig. 3 ein Flächenmuster,
  • Fig. 4 drei grafisch gestaltete Darstellungen,
  • Fig. 5 das als Schichtverbund ausgebildete Flächenmuster mit Teilflächen mit einer Gitterstruktur mit einer sägezahnförmigen Profilform,
  • Fig. 6 Details eines weiteren Flächenmusters,
  • Fig. 7 ein weiteres Flächenmuster und
  • Fig. 8 ein aus Linien aufgebautes Flächenmuster.
  • Die Fig. 3 zeigt ein Flächenmuster 1, das matrixartig in n*m Felder 2 unterteilt ist. Jedes Feld 2 ist in k = 3 Teilflächen 3, 4 und 5 unterteilt. Die Gesamtheit der Teilflächen 3, 4 bzw. 5 aller Felder 2 beinhaltet je eine von k = 3 Darstellungen 6, 7 und 8 (Fig. 4). Der Azimutwinkel Φ bezeichnet relativ zu einer Referenzrichtung 9 eine Orientierungsrichtung 10 innerhalb der Ebene des Flächenmusters 1. Die Richtung 11 bezeichnet die Einfallsrichtung von auf das Flächenmuster 1 auftreffendem Licht, ein Kegel 12 bezeichnet den Winkelbereich ψ, in den an den Teilflächen 3 der Darstellung 6 gebeugtes Licht vorwiegend gebündelt wird.
  • Die Fig. 4 zeigt die drei Darstellungen 6, 7 und 8, die die Schriftzüge "Schweiz", "Suisse" und "Svizzera" darstellen. Die Schriftzüge sind hell auf dunklem Hintergrund. Die Darstellungen 6, 7 und 8 sind ebenfalls matrixartig in n*m Rasterfelder unterteilt, die entweder hell oder dunkel sind. Eine Teilfläche 3 (Fig. 3) ist jedem Rasterfeld der Darstellung 6 zugeordnet, eine Teilfläche 4 ist jedem Rasterfeld der Darstellung 7 zugeordnet, usw.
  • Falls das Rasterfeld der Darstellung 6 dunkel ist, enthält die zugeordnete Teilfläche 3 eine Mattstruktur, die das auftreffende Licht diffus streut, oder eine ebene, nicht geneigte Spiegelfläche, so dass sie für alle Winkel bzw. alle Winkel mit Ausnahme des Reflexionswinkels dunkel erscheint. Falls das Rasterfeld hell ist, enthält die zugeordnete Teilfläche 3 eine Gitterstruktur 13 (Fig. 5), die das in der vorbestimmten Einfallsrichtung 11 (Fig. 3) auftreffende Licht vorwiegend in den Winkelbereich ψ beugt, der durch den Kegel 12 dargestellt ist. Die Orientierung und der Öffnungswinkel ψ des Kegels 12 sind definiert durch den Azimutwinkel Φ&sub1; der Gitterstruktur 13 bzw. die Profilform und Profilhöhe der Gitterstruktur 13. Die Gitterstruktur 13 der Teilflächen 3 weist eine vergleichsweise kleine Linienzahl von typisch 100 bis 250 Linien pro Millimeter und eine asymmetrische Profilform auf, vorzugsweise eine sägezahnförmige Profilform, wie sie in der Fig. 5 gezeigt ist. Dank der kleinen Linienzahl treten für sichtbares Licht typisch wenigstens zehn Beugungsordnungen auf. Die Profilform ist nun derart vorbestimmt, dass das Licht im sichtbaren Bereich mit einer hohen Beugungseffizienz in möglichst wenige, jedoch hohe Beugungsordnungen gebeugt wird. In die anderen Beugungsordnungen wird zwar unter Umständen auch etwas Licht gebeugt. Dessen Intensität ist sehr gering, so dass es einem Betrachter nicht auffällt. Da das Licht grösstenteils in Beugungswinkel θm höherer Ordnung m gebeugt wird und da sich die Beugungswinkel θm für verschiedene Wellenlängen, z. B. λ&sub1; = 450 nm, λ&sub2; = 550 nm und λ&sub3; = 650 nm, überlappen, wird das achromatische Verhalten der Gitterstruktur 13 im vorbestimmten Winkelbereich ψ erreicht: Im Winkelbereich ψ erscheint die Darstellung 6 hell, ausserhalb des Winkelbereiches ψ ist die Darstellung 6 nicht sichtbar. Zudem treten beim Drehen und/oder Kippen des Flächenmusters 1 keine beobachtbaren, wechselnden Farbeffekte auf, wie sie für beugungsoptische Strukturen typisch sind. Unter dem Begriff Drehen wird verstanden, dass das Flächenmuster um eine Achse gedreht wird, die senkrecht zur Ebene des Flächen musters ist. Unter dem Begriff Kippen wird verstanden, dass das Flächenmuster um eine in seiner Ebene liegende Achse gedreht wird. Zusammenfassend ergibt sich, dass bei festgelegter Einfallsrichtung 11 des Lichtes die Darstellung 6 nur aus dem vorbestimmten Raumwinkelbereich ψ betrachtet werden kann. Die Darstellung 6 erscheint in diesem Fall als Bild, das aus hellen und dunklen Punkten besteht, die in der Regel die Farbe der zur Bedeckung der Gitterstrukturen 13 verwendeten Reflexionsschicht (Fig. 5) und/oder der Deckschicht 16 (Fig. 5) aufweisen.
  • Die Darstellung 7 ist mit einer ähnlichen Gitterstruktur 13 wie diejenige der Darstellung 6 realisiert. Deren Azimutwinkel Φ weist zum Azimutwinkel Φ&sub1; der Darstellung 6 jedoch eine Winkeldifferenz von vorzugsweise 180º auf, so dass die Darstellung 7 aus einem anderem Raumwinkelbereich sichtbar ist, wobei sie ebenfalls als Bild aus hellen und dunklen, achromatischen Punkten wahrnehmbar ist. Es sind andere Bildinhalte der Darstellungen 6 und 7 als die in der Fig. 4 gewählten denkbar, bei denen die Winkeldifferenz von 180º vorteilhafte Effekte bringt. Die Voraussetzung, dass trotzdem nur jeweils eine der beiden Darstellungen 6, 7 wahrnehmbar ist, ist eine hohe Asymmetrie des Verhältnisses des in positive Beugungsordnungen gebeugten Lichtes und des in negative Beugungsordnungen gebeugten Lichtes. Dieses Verhältnis beträgt bei bezüglich der Asymmetrie optimierter Profilform der Gitterstruktur 13 typisch wenigstens 100 : 1.
  • Die Darstellung 8 ist mit einer Gitterstruktur 13 gemacht, die eine höhere Linienzahl von typisch 800 und mehr Linien pro Millimeter aufweist. Dank dieser hohen Linienzahl zeigt die Darstellung 8 ausgeprägte beugungsoptische Effekte, das sind wechselnde Farben hoher Leuchtkraft beim Drehen und/oder Kippen des Flächenmusters 1.
  • Es ist nicht ganz auszuschliessen, dass die Darstellungen 6 und 7 beim Übergang vom sichtbaren Winkelbereich ψ des Kegels 12 in den unsichtbaren Winkelbereich leichte Farbsäume zeigen. Es gibt jedoch den zentralen Bereich des Kegels 12, in dem der Bildeindruck ausgeprägt achromatisch ist. Bei der Darstellung 8 hingegen tritt kein achromatischer Bereich auf, sondern diese Darstellung 8 erscheint unter jedem Betrachtungswinkel in einer beugungsoptisch wohldefinierten Farbe.
  • Wie in der Fig. 5 im Querschnitt dargestellt, ist das Flächenmuster 1 vorteilhaft als Schichtverbund ausgebildet. Der Schichtverbund ist gebildet durch eine erste Lackschicht 14, eine Reflexionsschicht 15 und eine zweite Lackschicht, der Deckschicht 16. Die Gesamtheit der Gitterstrukturen 13 und der Mattstrukturen der Teilflächen 3-5 sind als mikroskopisch feine Reliefstrukturen realisiert. Die Lackschicht 14 ist mit Vorteil eine Kleberschicht, so dass der Schichtverbund direkt auf ein Substrat aufklebbar ist. Die Deckschicht 16 ebnet mit Vorteil die Reliefstrukturen vollständig ein. Sie weist zudem im sichtbaren Bereich bevorzugt einen optischen Brechungsindex von wenigstens 1.5 auf, damit die geometrische Profilhöhe h eine möglichst grosse optisch wirksame Profilhöhe ergibt. Weiter dient die Deckschicht 16 als kratzfeste Schutzschicht.
  • Die Unterteilung der Darstellungen 6 (Fig. 4), 7, etc. in Rasterfelder muss nicht regelmässig sein. Dies hängt von den Motiven der Darstellungen 6, 7, etc. ab. Auch die Teilflächen 3 (Fig. 3), 4, etc. können in Form und Grösse örtlich variieren. Um beispielsweise eine lokal grössere Helligkeit eines vorbestimmten Rasterfeldes der Darstellung 6 zu erhöhen, kann die dem Rasterfeld dieser Darstellung zugeordnete Teilfläche 3 auf Kosten der benachbarten Teilflächen 4 oder 5 der anderen Darstellungen 7 oder 8 innerhalb gewisser Grenzen vergrössert werden.
  • Die Unterteilung der Darstellungen 6, 7, usw. in Rasterfelder mit hellen und dunklen Bildpunkten ist nicht immer sinnvoll oder notwendig. Jede Darstellung 6, 7, usw. umfasst helle und dunkle Bildbereiche. Gemäss der Erfindung sind den hellen Bildbereichen Teilflächen 3, 4, usw. mit einer Gitterstruktur 13 (Fig. 5) mit vorbestimmten Gitterparametern zugeordnet. Die von den dunklen Bildbereichen belegte Fläche der Darstellungen 6, 7, usw. ist auf dem Flächenmuster 1 (Fig. 1) entweder als Teilfläche mit einer Mattstruktur bzw. als spiegelnde, nicht geneigte Teilfläche ausgebildet oder ist als Teilfläche 3, 4, usw. mit einer Gitterstruktur 13 mit anderen Gitterparametern einem hellen Bildbereich einer anderen Darstellung 6, 7, usw. zugeordnet. Drei weitere Ausführungsbeispiele zur Erzielung besonderer optischer Effekte werden weiter unten beschrieben, bei denen die einem dunklen Bildbereich der Darstellung 6, 7, usw. zugeordnete Teilfläche 3, 4, usw. ebenfalls eine beugende Reliefstruktur enthält.
  • Die Fig. 6 zeigt zwei Teilflächen 3a und 3b des Flächenmusters 1, wobei die Teilflächen 3a hellen Bildbereichen der Darstellung 6 (Fig. 4), während die Teilflächen 3b dunklen Bildbereichen der Darstellung 6 zugeordnet sind. Die Teilfläche 3a enthält eine mikroskopisch feine Reliefstruktur, die senkrecht einfallendes Licht 17 in eine erste Raumrichtung 18 beugt, die durch das Winkelpaar (Φ&sub1;, θ&sub1;) definiert ist. Die Teilfläche 3b enthält eine mikroskopisch feine Reliefstruktur, die senkrecht einfallendes Licht in eine zweite Raumrichtung 19 beugt, die durch das Winkelpaar (Φ&sub2;, θ&sub2;) definiert ist. Die absolute Differenz der beiden Azimutwinkel Φ&sub1; - Φ&sub2; beträgt typischerweise wenigstens 45º. Damit wird erreicht, dass, wenn das Licht senkrecht einfällt, einem aus der Raumrichtung 18 auf das Flächenmuster 1 blickenden Betrachter die Teilfläche 3a hell und die Teilfläche 3b dunkel erscheint. Einem aus der Raumrichtung 19 auf das Flächenmuster 1 blickenden Betrachter erscheint hingegen die Teilfläche 3a dunkel und die Teilfläche 3b hell. Die Darstellung 6 ist somit aus den beiden Raumrichtungen 18 bzw. 19 in umgekehrtem Kontrast wahrnehmbar. Jede Teilfläche 3a, 36 und 4 weist eine grösste lineare Abmessung von höchstens 0.3 mm auf, damit sie von Auge höchstens als strukturloser Punkt wahrnehmbar ist.
  • Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel besteht z. B. die zweite Darstellung 7 (Fig. 4) aus zwei verschiedenen, nebeneinander liegenden Motiven, die nicht überlappen. Die beiden Motive sollen aus verschiedenen Betrachtungsrichtungen sichtbar sein. In diesem Fall ist es möglich, beide Motive in den Teilflächen 4 unterzubringen, die den Rasterfeldern der zweiten Darstellung zugeordnet sind. Die Parameter der Reliefstrukturen des ersten Motivs und die des zweiten Motivs sind dann unterschiedlich und unabhängig voneinander festlegbar. Die gleiche Lösung ist auch bei mehr als zwei nicht überlappenden Motiven anwendbar.
  • Weiter kann beispielsweise die einem dunklen Rasterfeld der zweiten Darstellung 7 (Fig. 4) zugeordnete Teilfläche 4 die gleiche Reliefstruktur enthalten wie die benachbarte Teilfläche 3 (Fig. 3), die einem hellen Rasterfeld der ersten Darstellung 6 zugeordnet ist. Dies ermöglicht, die Helligkeit des entsprechenden Rasterfeldes der Darstellung 6 zu vergrössern. Diese Art der Helligkeitsverstärkung ist möglich innerhalb der Grenzen, die durch die grafischen Konturen der Darstellungen 6, 7 gegeben sind.
  • Die Fig. 7 zeigt das Flächenmuster 1, das als Beispiel der grafischen Gestaltung ein grosses Rechteck, ein Dreieck, eine Kreisfläche und ein kleines Quadrat aufweist. Das Dreieck, die Kreisfläche und das Quadrat sind innerhalb des grossen Rechtecks angeordnet, ohne zu überlappen. Das grosse Rechteck entspricht der ersten Darstellung 6 (Fig. 4), das Dreieck der zweiten Darstellung 7, die Kreisfläche der dritten Darstellung 8 und das Quadrat einer vierten Darstellung. Diejenigen Flächenanteile des grossen Rechtecks, die nicht vom Dreieck, von der Kreisfläche oder vom Quadrat bedeckt sind, stellen eine einzige Teilfläche 3 dar oder sind in Teilflächen 3 und 20 unterteilt. Die vom Dreieck belegte Fläche enthält Teilflächen 3, 4 und 20. Die Kreisfläche enthält Teilflächen 3, 5 und 20. Die vom Quadrat belegte Fläche stellt eine einzige Teilfläche 21 dar. Die Teilflächen 3 enthalten ein Gitter mit einer Linienzahl von 1000 Linien/mm und einer symmetrischen Profilform, so dass das grosse Rechteck beim Drehen und/oder Kippen des Flächenmusters 1 Regenbogenfarbeffekte zeigt. Die Teilflächen 4 enthalten ein Gitter mit einer Linienzahl von 250 Linien/mm, dessen Azimutwinkel Φ&sub1; (Fig. 6) ist und das eine asymmetrische Profilform aufweist, deren Profilhöhe so vorbestimmt ist, dass das Dreieck einem aus der vorbestimmten Raumrichtung 18 (Fig. 6) blickenden Betrachter achromatisch hell erscheint. Bei anderen Raumrichtungen ist das Dreieck kaum sichtbar, da die Teilflächen 3 wesentlich heller erscheinen als die Teilflächen 4. Die Teilflächen 20 enthalten eine Mattstruktur oder eine zur Ebene des Flächenmusters 1 plane Spiegelfläche. Die Teilflächen 5 enthalten das gleiche Gitter wie die Teilflächen 4, jedoch mit einer anderen Orientierung des Azimutwinkels Φ&sub2; (Fig. 6). Die Kreisfläche erscheint somit aus der anderen Raumrichtung 19 (Fig. 6) achromatisch hell. Die Teilfläche 21 des Quadrats enthält ebenfalls eine aus einer weiteren vorbestimmten Raumrichtung achromatisch hell erscheinende Reliefstruktur. Das Verhältnis der Flächenanteile der Teilflächen 3, 4, 5 und 20 bestimmt die relative Helligkeit der vier verschiedenen Darstellungen. Die grösste Helligkeit weist das Quadrat auf, dessen ganze Fläche eine Reliefstruktur mit einer asymmetrischen Profilform aufweist, die eine grosse Beugungseffizienz hat. Die Helligkeitsgrade des Dreiecks und der Kreisfläche, sowie des grossen Rechtecks hängen wesentlich von der anteilsmässigen Grösse der von den Teilflächen 20 belegten Fläche ab. Deren relative Helligkeiten sind somit mittels der Verwendung von Teilflächen 20 steuerbar. Mit Ausnahme der vom Quadrat belegten Fläche weisen die einzelnen Teilflächen 3, 4, 5 und 20 lineare Abmessungen von höchstens 0.3 mm auf, damit sie von Auge aus einer normalen Sehdistanz von 30 cm nicht einzeln wahrnehmbar sind. Im gezeigten Beispiel sind sie aus zeichnerischen Gründen vergrössert dargestellt. Der ausgeprägte achromatische Effekt, die Asymmetrie der Beugungseffekte, sowie die relativen Helligkeitsgrade dienen als verschiedene Sicherheitsmerkmale.
  • Reliefstrukturen, die einen achromatischen Effekt erzeugen, lassen sich auch für ein Flächenmuster 1 verwenden, bei dem eine Unterteilung der Darstellungen in Rasterfelder nicht nötig oder nicht sinnvoll ist. Die Fig. 8 zeigt das Flächenmuster 1 mit einem Stern, der aus wenigstens zwei schmalen Linien 22, 23 besteht, die sich nicht kreuzen. Die Linien 22, 23 gehören zu zwei verschiedenen Darstellungen, d. h. die Linie 22 soll aus einer anderen Blickrichtung sichtbar sein als die Linie 23. Die Linie 22 weist eine erste Reliefstruktur, die Linie 23 eine zweite Reliefstruktur zur Erzeugung eines achromatischen Effekts auf, wobei die Parameter der beiden Reliefstrukturen unterschiedlich gewählt sind, damit die Linien 22 und 23 aus verschiedenen Raumrichtungen sichtbar sind. Beim Drehen und/oder Kippen des Flächenmusters zeigt der Stern deshalb einen kinematischen Effekt, indem die Helligkeiten der Linien 22 und 23 wechseln. Mit zunehmender Zahl der Linien 22, 23 kann der kinematische Effekt verfeinert werden.
  • Verallgemeinert gesagt lässt sich das Flächenmuster 1 unterteilen in Teilflächen 3 (Fig. 3), 4, 5, etc. beliebiger Form, die weder zusammenhängend noch aneinander angrenzend sein müssen, wobei Gruppen von Teilflächen 3, 4, 5, etc., die die gleiche Reliefstruktur aufweisen, vorbestimmten Darstellungen 6 (Fig. 4), 7, 8, etc. zugeordnet sind. Auf diese Weise sind insbesondere Darstellungen in das Flächenmuster 1 integrierbar, die ähnlich wie ein klassischer Stich aus einer Vielzahl von Strichen gestaltet sind. Wenn sich Striche verschiedener Darstellungen überlappen, ergeben sich dennoch keine störenden optischen Effekte, da die von den Kreuzungspunkten belegte Fläche anteilmässig sehr klein ist. Die zwischen den Strichen der verschiedenen Darstellungen verbleibende Fläche des Flächenmusters 1 kann als matte oder als spiegelnde Fläche ausgebildet sein.
  • Das Flächenmuster 1, das aus Strichen bestehende Darstellungen aufweist, lässt sich auf technologisch einfache Weise nach der Lehre der europäischen Patentschrift EP 330 738 oder der schweizerischen Patentschrift CH 664 030 herstellen.
  • Es ist darauf hinzuweisen, dass sich den achromatischen Darstellungen Motive überlagern lassen, die anteilmässig mit Vorteil nur eine sehr kleine Fläche einnehmen, wie z. B. Guillochen oder Mikroschriften, die kinematische Farbeffekte zeigen. Solche kinematische optische Effekte sind aus den europäischen Patentdokumenten EP 105 099, EP 375 833 oder EP 490 923 sowie von Produkten bekannt, die unter dem Namen KINEGRAM® vertrieben werden. Falls die Darstellung 6 (Fig. 4) ein erstes Motiv mit einer Gitterstruktur, die auftreffendes Licht achromatisch in den vorbestimmten Winkelbereich ψ beugt, und ein zweites Motiv mit einer Gitterstruktur, die z. B. den grünen Spektralanteil des auftreffenden Lichtes in eine innerhalb des Winkelbereiches ψ liegende Richtung beugt, enthält, dann referenzieren sich gegenseitig die beiden Motive in einer für einen Beobachter leicht erkennbaren Art. Aus den Fig. 1 und 2a ist ersichtlich, dass eine solche Referenzierung z. B. mit einem sägezahnförmigen Gitter mit einer Linienzahl von 150 Linien/mm und einer Profilhöhe von 1.2 um und einem sinusförmigen Gitter mit 1000 Linien/mm und einer Profilhöhe von 0.155/1.5 = 0.1 um möglich ist, falls die Gitter mit der Lackschicht 16 (Fig. 5) mit dem Brechungsindex n = 1.5 überdeckt sind. Die beiden Gitterstrukturen sind in den Teilflächen 3 (Fig. 3) angeordnet, die zur Darstellung 6 gehören. Bei holografischen Kopierverfahren ändern mindestens die Beugungswinkel A der beiden Gitterstrukturen unterschiedlich, so dass der Effekt der Referenzierung verloren geht.

Claims (7)

1. Optisch variables Flächenmuster (1) mit wenigstens einer grafisch gestalteten Darstellung (6; 7; 8) aus vergleichsweise hellen und dunklen Bildbereichen, wobei den hellen Bildbereichen jeder Darstellung (6; 7; 8) Teilflächen (3-5, 22, 23) mit beugungsoptisch wirksamen Gitterstrukturen (13) mit verschiedenen Gitterparametern zugeordnet sind, so dass die Darstellungen (6; 7; 8) bei Beleuchtung mit sichtbarem Licht unter verschiedenen Betrachtungsrichtungen sichtbar sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Teilflächen (3-5, 22, 23) wenigstens einer der Darstellungen (6; 7) erste Gitterstrukturen (13) mit einer Linienzahl von weniger als 250 Linien pro Millimeter aufweisen und dass die ersten Gitterstrukturen (13) eine derartige Profilform aufweisen, dass die heilen Bildbereiche dieser Darstellung (6; 7) in einem vorbestimmten Winkelbereich ψ achromatisch erscheinen.
2. Flächenmuster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Profilform der ersten Gitterstrukturen (13) asymmetrisch ist.
3. Flächenmuster nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Profilform der ersten Gitterstrukturen (13) sägezahnförmig ist.
4. Flächenmuster nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Profilhöhe h, die das Produkt der geometrischen Profilhöhe und dem Brechungsindex einer allfälligen Deckschicht (16), die ersten Gitterstrukturen (13) bedeckt, mindestens 0.5 Mikrometer beträgt.
5. Flächenmuster nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass Teilflächen (3a) einer ersten Art den hellen Bildbereichen wenigstens einer Darstellung (6; 7; 8) und Teilflächen (36) einer zweiten Art den dunklen Bildbereichen dieser Darstellung (6; 7; 8) so zugeordnet sind, dass die Darstellung (6; 7; 8) aus zwei vorbestimmten Betrachtungsrichtungen in umgekehrtem Kontrast sichtbar ist.
6. Flächenmuster nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Darstellung (6; 7; 8) wenigstens zwei nicht überlappende Motive enthält, die aus verschiedenen Betrachtungsrichtungen (18, 19) sichtbar sind.
7. Flächenmuster nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine der Teilflächen (3-5, 22, 23) eine erste Gitterstruktur enthält, die Licht nahezu unabhängig von dessen Wellenlänge in einen vorbestimmten Winkelbereich ψ beugt, und dass eine weitere der Teilflächen (3-5, 22, 23) eine zweite Gitterstruktur enthält, die Licht verschiedener Wellenlängen λ spektral zerlegt in Richtungen beugt, deren Beugungswinkel nahe beim Winkelbereich ψ liegen oder in diesen fallen.
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