DE69509705T2

DE69509705T2 - Vorläufersubstanz zur Herstellung von SiO2TiO2

Info

Publication number: DE69509705T2
Application number: DE69509705T
Authority: DE
Inventors: Chaitanya Kumar Narula; Umar Riaz; Ashima Varshney
Original assignee: Ford Motor Co
Current assignee: Ford Motor Co
Priority date: 1994-07-05
Filing date: 1995-07-05
Publication date: 1999-09-23
Anticipated expiration: 2015-07-06
Also published as: EP0691313B1; DE69509705D1; EP0691313A1; US5536857A; CA2153019A1

Description

Die vorliegende Erfindung richtet sich auf Einquellen-Vorläuferverbindungen zur Herstellung von dünnen Schichten, Pulvern und ähnlichem aus SiO&sub2;TiO&sub2; durch chemische Dampfphasenabscheidung (CVD, Chemical Vapour Deposition), Sol-Gel-. Verfahren oder ähnliche Verfahren.
Pulver und dünne Schichten aus Siliziumoxid-Titanoxid haben wohlbekannte technische Anwendungen. Pulver haben Anwendungen als Washcoats zur Herstellung von Katalysatorträger-Materialien, die in den Katalysatoren von Motorfahrzeugen und ähnlichem nützlich sind, da gezeigt wurde, daß sie die katalytische Hydrierung von CO unterstützen. Außerdem ist bekannt daß optische dünne Schichten aus SiO&sub2;·TiO&sub2; einen hohen Brechungsindex besitzen, was nützliche reflexmindernde Eigenschaften bereitstellt, die für Anwendungen bei der Automobilverglasung und Bauverglasung geeignet sind.
Kürzlich wurde gezeigt, daß heterometallische Alkoholate bei der Herstellung von Pulvern und dünnen Schichten aus Mehrkomponenten-Metalloxiden über ein Sol-Gel- Verfahren nützliche Vorläufer sind. Heterometallische Alkoholate der Formel [LmM-(OR)&sub2;-M'L'n] sind in großer Zahl bekannt. Mehrotra et al., Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 121, (1988) 81; D. C. Bradley et al., Metal Alkoxides, Academic Press, NY, (1978); K. G. Caulton et al., Chem. Rev. 90 (1990) 969. Derartige heterometallische Alkoholate des Siliziums, die auf die Herstellung von dünnen Schichten oder Pulvern aus SiO&sub2;·TiO&sub2; anwendbar sind, sind jedoch weitgehend unbekannt. Darüber hinaus führte die Verwendung solcher heterometallischer Alkoholate zur Herstellung von dünnen Schichten aus Multikomponentenmetalloxiden in der chemischen Dampfphasenabscheidung CVD im allgemeinen dazu, daß in den resultierenden dünnen Schichten die Stöchiometrie der Metalle der Vorläuferverbindungen, d. h. der Ausgangs-Alkoholate, nicht beibehalten wurde. D. C. Bradley, Chem. Rev. 89 (1989) 1317. Als eine mögliche Erklärung dieses Verlustes der Stöchiometrie wurde vorgeschlagen, daß die heterometallischen Alkoholat-Vorläufer in einzelne Alkoholate verschiedener Flüchtigkeit zerfallen, was zu einem Verlust der Stöchiometrie in den dünnen Schichten führt.
Die bekannten Verfahren zur Herstellung von Pulvern und dünnen Schichten aus SiO&sub2;·xTiO&sub2; verwenden mehrere Vorläuferverbindungen: Eine erste Vorläuferverbindung als Siliziumquelle und eine zweite Vorläuferverbindung als Titanquelle. Es hat sich als schwierig erwiesen, die Gleichförmigkeit und/oder Stöchiometrie des SiO&sub2;·TiO&sub2; in den erhaltenen Pulvern und dünnen Schichten durchgehend aufrechtzuerhalten. Die Notwendigkeit mehrere Parameter des Verfahrens sehr genau zu regeln, um die gewünschte Stöchiometrie und/oder Gleichförmigkeit zu erreichen, verursacht erhöhte Kosten und Komplexität. Man · benötigt Silizium und Titan enthaltende Vorläufer, die Produkte in den gewünschten Formen liefern, welche bezüglich des Siliziums und des Titans die Stöchiometrie des Vorläufers enthalten. Ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung von Materialien aus SiO&sub2;·TiO&sub2; und Einquellen-Vorläuferverbindungen zur Herstellung von dünnen Schichten und Pulvern aus - SiO&sub2;·TiO&sub2;, welche die Stöchiometrie der Vorläufer beibehalten. Aus der folgenden Offenlegung werden diese und andere Erfindungsgegenstände und Vorteile der Erfindung klar werden. Im Einklang mit einem ersten Gesichtspunkt der Erfindung werden neuartige, flüchtige Einquellen-Vorläuferverbindungen zur Herstellung von Materialien aus stöchiometrischem SiO&sub2;·TiO&sub2; bereitgestellt. Für die Herstellung von Materialien aus SiO&sub2;·TiO&sub2;, wie etwa Pulvern durch einen Sol-Gel-Verfahren, dünnen Schichten durch ein CVD-Verfahren oder ähnliches bedeutet dies, daß sowohl Silizium wie auch Titan von der selben Vorläuferverbindung bereitgestellt werden. Die neuartigen Vorläuferverbindungen haben die allgemeine Formel
(RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3;
wobei jedes R eine tertiäre Butylgruppe ist.
Die Alkoholatgruppen werden nach der Leichtigkeit der Synthese der Vorläuferverbindung, der Stabilität der Vorläuferverbindung während der Lagerung bei Umgebungstemperatur und bei der Herstellung von SiO&sub2;·TiO&sub2;, sowie der Eignung in der Anwendung ausgewählt. Die Eignung für die Anwendung bezieht sich hier auf die Verarbeitungstechnik, die für die Herstellung von Materialien aus SiO&sub2;·TiO&sub2; beabsichtigt ist, z. B. Pyrolyse oder ähnliches für die Herstellung eines Pulvers oder aber chemische Dampfphasenbeschichtung oder ähnliches für die Herstellung eines dünnen Films. Zum Beispiel bezieht sie sich für eine Verwendung bei der Herstellung von dünnen Schichten aus SiO&sub2;·TiO&sub2; in der chemischen Dampfphasenbeschichtung somit auf eine geeignete Flüchtigkeit, oder bei der Verwendung zur Herstellung von Pulvern aus SiO&sub2;·TiO&sub2; in einem Sol-Gel-Verfahren auf geeignete Löslichkeit in einem inerten Lösemittel.
Im allgemeinen werden die R-Gruppen gewählt um für eine gute Stabilität der Vorläufer zu sorgen; damit die Verbindung nicht disproportioniert erfordert das im allgemeinen, daß sie ausreichend voluminös sind. Die obengenannte flüchtige Einquellen-Vorläuferverbindung (tBuO)&sub3;Si-O-Ti(OBut)&sub3; besitzt eine ausgezeichnete Stabilität und liefert mit den obengenannten Herstellungsverfahren dünne Schichten und Pulver aus SiO&sub2;·TiO&sub2;.
Die Bereitstellung solcher heterometallischer Silizium-Alkoholate stellt in der Technik einen wesentlichen Vorteil dar. Wie weiter unten diskutiert wird, können diese neuartigen Vorläuferverbindungen als teilweise hydrolisiertes, heterometallisches Alkoholat betrachtet werden, welches bei der Herstellung von Materialien aus SiO&sub2;TiO&sub2; von Nutzen ist. Es ist erwähnenswert, daß Verbindungen des Typs (RO)&sub3;Si-O-M(OR)n in den meisten Fällen nicht zur Herstellung von Materialien aus SiO&sub2;·MOn geeignet sind, weil Si-O-M-Bindungen schneller hydrolisieren als RO-Si- Bindungen. Derzeit glaubt man, ohne sich durch die Bindung an die Theorie einschränken zu wollen, daß das Titan in den neuartigen Vorläuferverbindungen der Erfindung die Hydrolyse der Si-OR-Bindungen katalysiert und beschleunigt, was Materialien aus SiO&sub2;·TiO&sub2; mit gleichförmiger Verteilung der Bestandteile liefert. Untersuchungen des Infrarot-Spektrums deuten auf die Anwesenheit von Si-O-Ti- Bindungen in den resultierenden Pulvern hin.
Es ist bedeutend daß Verbindungen der allgemeinen Formel (RO)&sub3;Si-O-M(OR)&sub3;, wobei M ein Metall ist und R Alkyl- oder andere Kohlenwasserstoff-Bausteine sind, zur Herstellung von dünnen Schichten oder Pulvern aus Mischoxiden in den meisten Fällen vielleicht deshalb als ungeeignet befunden wurden, weil die RO-M-Bindungen mit höherer Geschwindigkeit hydrolisieren als die RO-Si-Bindungen.
Derzeit wird, wiederum ohne sich durch die Bindung an die Theorie einschränken zu wollen, geglaubt daß das Titan in den neuartigen Einquellen-Vorläuferverbindungen der Erfindung die Hydrolyse der RO-Si-Bindungen katalysiert und beschleunigt, was SiO&sub2;·TiO&sub2; mit gleichförmiger Verteilung der Bestandteile liefert. Auf alle Fälle wird durch die Verwendung solcher heterometallischer Silizium/Titan-Alkoholate bei der Herstellung von Materialien aus SiO&sub2;·TiO&sub2; ein bedeutender Vorteil bereitgestellt, was eine verminderte Komplexität in der Verarbeitung einschließt. Ein besonderer Vorteil wird vor allem dadurch erreicht, daß Silizium und Titan durch die flüchtige Vorläuferverbindung in einem gleichförmigen Verhältnis von 1 : 1 bereitgestellt werden. Im Einklang mit einem zweiten Gesichtspunkt wird ein Verfahren zur Herstellung von Pulvern und dünnen Schichten aus SiO&sub2;·TiO&sub2; bereitgestellt, welches beinhaltet daß die Vorläuferverbindung (RO)&sub3;Si-O-Ti(RO)&sub3; geeigneten Bedingungen ausgesetzt wird. Im Einklang mit einer Ausführungsform wird stöchimetrisches SiO&sub2;·TiO&sub2; als Pulver durch ein Sol-Gel-Verfahren hergestellt, welches die Bildung einer Lösung der Vorläuferverbindung in einem geeigneten Lösemittel wie Tetrahydrofuran, die Bildung einer gelbildenden Lösung durch Zugabe von mit zusätzlichem Lösemittel gemischtem Wasser bei verminderter Temperatur zur Vorläuferlösung, die Erwärmung der gelbildenden Lösung zur Bildung eines Gels, sowie die Entfernung flüchtiger Bestandteile aus dem Gel umfaßt, wodurch ein im wesentlichen aus stöchiometrischen SiO&sub2;·TiO&sub2; bestehendes Pulver gebildet wird. Das so hergestellte Pulver kann zur Herstellung von Katalysatorträger-Materialien verwendet werden, ganz besonders in einem Katalysator-Washcoat bei der Reduzierung von Automobil- Abgasen. Mit der Standardtechnologie des Sol-Gel-Verfahrens können aus diesen Vorläufern auch dünne Schichten und Fasern hergestellt werden.
In einer anderen bevorzugten Ausführungsform wird durch ein Verfahren zur chemischen Dampfphasenabscheidung SiO&sub2;·TiO&sub2; als dünne Schicht auf einem Substrat hergestellt. Das Substrat wird bei erhöhter Temperatur einer Abscheidungsatmosphäre ausgesetzt welche durch erhitzen der Vorläuferverbindung auf vorzugsweise etwa 60º bis 100ºC in einem Trägergas, wie etwa Stickstoff, erzeugten Dampf enthält. Das Substrat kann zum Beispiel aus Silizium, Quarz, Glas oder ähnlichem ausgewählt werden. Die Herstellung der dünnen Schicht als reflexmindernde, optische Schicht mit einem Brechungsindex zwischen 1.7 und 1.9 auf einem Substrat von im wesentlichen transparentem Natron-Kalk-Silikatglas wird am meisten bevorzugt. Hier ist beabsichtigt, daß mit der Erwähnung einer "optischen" Schicht eine Schicht mit ausreichender Klarheit und Durchsichtigkeit gemeint ist, die für eine Verwendung als Linse oder Fensterglas oder ähnliches geeignet ist.
Bei der Herstellung von SiO&sub2;·TiO&sub2;, am bevorzugtesten stöchiometrischem 1 : 1- SiO&sub2;·TiO&sub2;, ist zusätzlich zu den oben erwähnten Vorteilen besonders wichtig, daß ein einzelner Vorläufer als Quelle sowohl des Siliziums wie auch des Titans bereitgestellt wird. Die Komplexität des Verfahrens und die ihm dadurch anhaftende Verminderung in der Verläßlichkeit wird umgangen, indem die Gleichförmigkeit und Qualität der Darstellungsweise von mehreren Vorläuferverbindungen (eine zur Bereitstellung von Silizium und eine andere für Titan) geregelt wird. In den nach dem Sol-Gel-Verfahren hergestellten Pulvern und den nach einem Verfahren der chemischen Dampfphasenabscheidung unter Atmosphärendruck (APCVD, Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition) hergestellten dünnen Schichten wird die Stöchiometrie von Silizium und Titan im Vorläufer (1 : 1) unter geeigneten Bedingungen beibehalten. Außerdem ist es möglich nicht-stöchiomtrische dünne Schichten und Pulver herzustellen, vorzugsweise indem der Vorläufer vor der Herstellung der Pulver und der dünnen Schichten mit Si(OR)&sub4; oder Ti(OR)&sub4; gemischt wird, worin R vorzugsweise wie oben definiert ist. Außerdem liefert eine Veränderung der Temperatur und/oder anderer Verfahrensparameter mit APCVD-Verfahren kontrolliert unstöchiometrische dünne Schichten usw. Aus der folgenden, genauen Beschreibung bestimmter bevorzugter Ausführungsformen werden diese und andere Merkmale und Vorteile der verschiedenen Gesichtspunkte der Erfindung offensichtlich werden.
Die Synthese von (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; verläuft vorzugsweise durch Reaktion von Ti(O¹C&sub4;H&sub9;)&sub4; mit (tC&sub4;H&sub9;O)&sub3;SiOH in equimolarem Verhältnis. Das Reaktionsprodukt ist ein Feststoff mit scharfem Schmelzpunkt, der unter vermindertem Druck sublimiert. Die Elementaranalyse des Reaktionsproduktes zeigte daß es sich um reines [Tri-(tert.- butoxy)siloxy]-tri-(tert.-butoxy)-titan handelt. Ohne sich durch die Bindung an die Theorie einschränken zu wollen wird derzeit geglaubt, daß die Reaktion folgendermaßen abläuft:
(tC&sub4;H&sub9;O)&sub3;SiOH + Ti(O¹C&sub4;H&sub9;)&sub4; → (tC&sub4;H&sub9;O)&sub3;Si-O-Ti(OtC&sub4;H&sub9;)&sub3; + tC&sub4;H&sub9;OH
Das Infrarotspektrums des Reaktionsproduktes zeigt in der Analyse eine scharfe Bande bei 945 cm&supmin;¹ die einer Si-O-Ti-Streckschwingung zugeschrieben werden kann.
Zeiteier, V. A.; Brown, C. A.; J. Amer. Chem. Soc., 61 (1957) 1174. Das NMR- Spektrum des festen Reaktionsproduktes zeigt für die Protonen der an das Silizium und Titan gebundenen tertiären Butoxy-Gruppen Singuletts (1.30, 1.29 ppm). Das 13C-NMR-Spektrum zeigt Singuletts (32.11, 31.56 ppm) für die Methylgruppen der tertiären Butoxy-Gruppen und Singuletts (81.56, 71.68 ppm) für tertiäre Kohlenstoffatome. Diese speziellen Daten unterstützen daß es sich bei der Formulierung um (tC&sub4;H&sub9;O)&sub3;Si-O-Ti(OtC&sub4;H&sub9;)&sub3; handelt.
Das Produkt (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; des oben beschriebenen Synthesewegs ergibt, wie festgestellt wurde, bei der vorsichtigen Hydrolyse in Tetrahydrofuran (THF) Gele. Nach der Trocknung weisen die Gele vernachlässigbare, organische Rückstände auf. Derzeitig glaubt man, ohne sich durch die Bindung an die Theorie einschränken zu wollen, daß ein Fehlen organischer Rückstände auf eine durch Titan katalysierte Hydrolyse der Alkoxygruppen an der Silizium enthaltenden Hälfte hindeutet, da Si-OtC&sub4;H&sub9; in (tC&sub4;H&sub9;O)&sub3;Si-OH selbst in saurem Wasser stabil ist. Das IR-Spektrum des getrockneten Gels zeigt eine schwache Bande bei 941 cm&supmin;¹ die Ti-O-Si-Bindungen zugeschrieben werden kann. Die thermogravimetrische Analyse zeigt im Bereich von 50-330ºC einen Gewichtsverlust von 18% und im Bereich von 400-700ºC von 7%. Beim Brennen des Gels an Luft bei 500ºC für 2 Stunden bildet sich ein amorphes, weißes Pulver. Nach dem Brennen bei 700ºC werden im Röntgen- Pulverdiffraktogramm Beugungspeaks beobachtet, die auf TiO&sub2; als Anatas zurückgeführt werden können. Die Teilchengröße wird mit der Scherrer-Formel zu 84 Å errechnet. Es wird gefunden, daß die Umwandlung in die Rutilphase bei 1000ºC beginnt. Es wird gefunden, daß der SiO&sub2;-Anteil des Gels amorph bleibt. Selbst nach einer Hochtemperaturbehandlung wurden verbleibende Ti-O-Si- Streckschwingungsbanden (935-937 cm&supmin;¹) beobachtet. Die Elementaranalyse zeigt ein Verhältnis Si : Ti vom 1.0 : 1.08 (gefunden: Si 17.9; Ti 33.3%)

Beispiel 1

Herstellung von (tBuO)&sub3;Si-O-Ti(OBut)&sub3; Zu einer Lösung von Ti(OBut)&sub4; (5.0 g, 14.7 mmol) in 30 ml Hexan wurde bei -40ºC eine Lösung von (tBuO)&sub3;SiOH (3.88 g, 14.7 mmol) in 25 ml Hexan gegeben. Nach dem Erwärmen auf Raumtemperatur und 3 Stunden Rühren wurden flüchtige Bestandteile entfernt und der Rückstand bei 100ºC/30 mtorr sublimiert. Es wurde eine Ausbeute von 7.0 Gramm, 89.7% erhalten und wie oben charakterisiert, um die chemische Identität mit (tBuO)&sub3;Si-O-Ti(OBut)&sub3; zu bestätigen.

Beispiel 2

Pulver aus einem Sol-Gel-Verfahren: Zu einer wie in Beispiel 1 hergestellten Lösung von (tBuO)&sub3;Si-O-Ti(OBut)&sub3; (1.53 g) in THF (15 ml) wurde bei -78ºC Wasser (0.23 g) in THF (15 ml) gegeben. Die Gelbildung fand über 2 Stunden während der Erwärmung auf 25ºC statt. Nach dem Entfernen der flüchtigem Bestandteile im Vakuum wurde ein weißes Pulver (0.49 g) erhalten, das vernachlässigbare organische Gruppen aufwies und eine Elementaranalyse entsprechend stöchiometrischem SiO&sub2;·TiO&sub2; ergab.
Dünne Schichten aus stöchiometrischem SiO&sub2;·TiO&sub2; werden vorzugsweise mit Verfahren der chemischen Dampfphasenabscheidung hergestellt. Die Abscheidung optischer, dünner Schichten aus SiO&sub2;·TiO&sub2; durch chemische Dampfphasenbeschichtung bei Atmosphärendruck (APCVD, Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition) ist am stärksten bevorzugt.

Beispiel 3

Durch APCVD aufgedampfte optische, dünne Schichten: Von dem wie oben in Beispiel 1 beschrieben erhaltenen, flüchtigen Einquellen-Vorläufer wurden 3.0 g (die Menge ist nicht kritisch) in einen Gasspüler aus rostfreiem Stahl eingebracht und während des Aufdampfvorgangs bei 80ºC gehalten. Als Trägergas wurde gereinigter Stickstoff verwendet und durch Gasförderleitungen in eine Reaktionskammer aus Quarzglas geleitet, die bei 100ºC gehalten wurde, um eine Kondensation des Vorläufers zu verhindern. Bei von 450-600ºC reichenden Temperaturen wurden auf Substraten aus Glas, Quarz und Silizium optische, dünne Schichten aus SiO&sub2;·TiO&sub2; abgeschieden. Die Abscheidegeschwindigkeit wurde mit etwa 100 Å pro Minute bei 450ºC, 150 Å pro Minute bei 500ºC, 250 A pro Minute bei 550ºC und 300 A pro Minute bei 600ºC ermittelt. Es wurde gefunden, daß die bei 450ºC abgeschiedenen dünnen Schichten einen Brechungsindex von 1.73 haben. Es wurde gefunden, daß die bei 500ºC abgeschiedenen dünnen Schichten einen Brechungsindex von 1.80 haben. Für die bei 550ºC abgeschiedenen dünnen Schichten wurde ein Brechungsindex von 1.88 gefunden, und für die bei 600ºC abgeschiedenen dünnen Schichten wurde ein Brechungsindex von 1.72 gefunden. Eine XPS-Analyse der auf einem Siliziumsubstrat aufgedampften dünnen Schichten zeigte Si(1s)-, Si(2s)-, Ti(3p)-, O(1s)- und C(1s)-Peaks. Es wird geglaubt daß der C(1s)-Peak auf eine Verunreinigung der Oberfläche zurückzuführen ist, die durch Abtragen einer Schicht von 50 Å mit Ionenbeschuß zu entfernen ist. Die Si(1s)- und Ti(3p)-Peaks befinden sich an den für die entsprechenden Oxide erwarteten Stellen. Für das Verhältnis Si : Ti wurde eine Abhängigkeit von der Abscheidetemperatur festgestellt; es beträgt für die Abscheidung bei 450ºC 1.5 : 1 und für die Abscheidung bei 500ºC und 550ºC 1.2 : 1. Eine Mikrosonden-Analyse der Proben zeigte, daß das Si : Ti-Verhältnis 1 : 1 ist, wobei die bei 550ºC erhaltene Probe 16.8% Si und 16.4% Ti (Atom-%) aufweist. Rutherford-Rückstreuungsspektren der Proben zeigten für die bei 450ºC, 500ºC, 550ºC und 600ºC auf dem Siliziumsubstrat abgeschiedenen dünnen Schichten jeweils ein Si : Ti-Verhältnis von 1.4, 1.3, 1.2 und 2.1, und keinen Kohlenstoff. Wie den Fachleuten bewußt sein wird zeigen diese Daten, daß die dünnen Schichten, und besonders die im Bereich von 500ºC bis 550ºC abgeschiedenen dünnen Schichten, stöchiometrische Mengen an Silizium und Titan enthalten.

Claims

1. Ein Verfahren zur Herstellung von SiO&sub2;·TiO&sub2; welches einschließt, daß (RO)&sub3;Si-O-Ti(CR)&sub3; dissoziierenden Bedingungen ausgesetzt wird, wobei jedes R eine tertiäre Butylgruppe ist.

2. Ein Verfahren nach Anspruch 1, in dem das SiO&sub2;·TiO&sub2; als Pulver durch ein Sol-Gel- Verfahren hergestellt wird, welches umfaßt:

Bilden einer Vorläuferlösung von (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; im Lösungsmittel;

Zugabe bei verminderter Temperatur einer wäßrigen Lösung von Wasser in zusätzlichem Lösungsmittel zu der Vorläuferlösung zur Bildung einer gelbildenden Lösung;

Erwärmung der Lösung zur Bildung eines Gels; und Entfernung der flüchtigen Bestandteile aus dem Gel, um ein im wesentlichen aus stöchiometrischem SiO&sub2;·TiO&sub2; bestehendes Pulver zu bilden.

3. Ein Verfahren nach Anspruch 2, in dem die Vorläuferlösung eine Lösung aus (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; in Tetrahydrofuran ist, die wäßrige Lösung eine Lösung von Wasser in Tetrahydrofuran ist, und die wäßrige Lösung bei -60ºC bis -90ºC in einem Volumenverhältnis von 0.9 : 1 bis 1 : 0.9 zu der Vorläuferlösung gegeben wird.

4. Ein Verfahren nach Anspruch 1, in dem SiO&sub2;· TiO&sub2; durch ein Verfahren zur chemischen Dampfphasenabscheidung als dünne Schicht auf einem Substrat hergestellt wird; wobei das Verfahren einschließt, daß das Substrat bei erhöhter Temperatur einer Abscheidungsatmosphäre ausgesetzt wird, die durch Erhitzen von (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; in einem Trägergas erzeugten Dampf umfaßt.

5. Ein Verfahren nach Anspruch 4, in dem der Dampf durch Erhitzen von (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; auf 60ºC bis 100ºC erzeugt wird, das Trägergas im wesentlichen aus Stickstoff besteht, und die Abscheidungsatmosphäre in eine Reaktionskammer aus Quarz weitergeleitet wird, die das Substrat bei 350ºC bis 750ºC enthält.

6. Ein Verfahren nach Anspruch 4, in dem das Substrat aus Silizium, Quarz und im wesentlichen durchsichtigem Natron-Kalk-Silikatglas ausgewählt wird.

7. Ein Verfahren nach Anspruch 4, in dem das Substrat im wesentlichen durchsichtiges Natron-Kalk-Silikatglas ist und die dünne Schicht eine reflexmindernde, optische, dünne Schicht mit einem Brechungsindex zwischen 1.7 und 1.9 ist.

8. Ein Verfahren zur Herstellung einer Verglasungseinheit, die eine aus stöchiometrischen SiO&sub2;·TiO&sub2; bestehende reflexmindernde, optische, dünne Schicht mit einem Brechungsindex von 1.7 bis 1.9 besitzt; wobei das Verfahren einschließt, daß die Oberfläche einer im wesentlichen durchsichtigen Platte aus Natron-Kalk- Silikatglas in einer Bedampfungskammer einer Abscheideatmosphäre ausgesetzt wird, die im wesentlichen aus einem Inertgas und durch Erhitzen von (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; im Trägergas erzeugtem Dampf besteht, wobei jedes R eine tert. Butylgruppe ist.

9. Ein Verfahren nach Anspruch 8, in dem (RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3; in Verbindung mit einem zusätzlichen Vorläufer der Formel M(RO)&sub4; dargeboten wird, worin M Si oder Ti ist und R wie oben definiert ist.

10. Eine neuartige Stoffzusammensetzung mit der Formel

(RO)&sub3;Si-O-Ti(OR)&sub3;

wobei jedes R eine tert. Butylgruppe ist.