DE69508310T2

DE69508310T2 - Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsen

Info

Publication number: DE69508310T2
Application number: DE69508310T
Authority: DE
Inventors: Yuichi Komachi
Original assignee: Machida Endoscope Co Ltd
Current assignee: Machida Endoscope Co Ltd
Priority date: 1994-06-29
Filing date: 1995-06-23
Publication date: 1999-11-25
Anticipated expiration: 2015-06-24
Also published as: JP3589486B2; DE69508310D1; EP0690028B1; JPH0811224A; US5665136A; EP0690028A1

Description

Hintergrund der Erfindung

Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsen. Eine Mikrolinse bezieht sich im allgemeinen auf eine Linse, die einen kleinen Durchmesser aufweist (beispielsweise 1 mm oder weniger, jedoch nicht sehr strikt gesehen). Eine derartige Mikrolinse wird normalerweise durch verschiedene Verfahren, wie dies unten beschrieben wird, hergestellt.
In dem ersten Verfahren wird ein UV-Strahl auf eine flache Platte eines fotoempfindlichen Glasmaterials durch ein Matrixelement, welches durch Anordnen einer Mehrzahl von kreisförmigen Abschirmbereichen in einem Matrixmuster erhalten wird, gestrahlt. Jener Bereich der flachen Platte, auf welchen der UV- Strahl gestrahlt wird, wird kristallisiert und in dem nächstfolgenden Erhitzungsverfahren im Volumen verringert. Als eine Folge wird der verbleibende Bereich der flachen Platte, auf welchen der UV-Strahl nicht gestrahlt wurde, unter dem Effekt einer Kompressions- bzw. Druckkraft expandiert und es wird ihm ermöglicht, von einer Oberfläche der Glasplatte vorzuragen, um so eine konvex gebogene Oberfläche auszubilden. Jeder Bereich, welcher die konvex gekrümmte Oberfläche aufweist, wird die Mikrolinse. Auf diese Weise wird eine Vielzahl von Mikrolinsen auf der Glasplatte in einem zweidimensionalen Matrixmuster ausgebildet, um ein Mikrolinsenfeld zur Verfügung zu stellen.
Das erste Verfahren weist einen derartigen Nachteil auf, daß nur spezielles Glasmaterial, welches fotoempfindliche Eigenschaften aufweist, verwendet werden kann. Da das Erhitzungsverfahren für das Kristallisieren des Materials nach dem Bestrahlen mit dem ultravioletten Strahl erforderlich ist, sind weiters die Herstellungskosten hoch.
In dem zweiten Verfahren wird eine Maske, die eine Anzahl von kreisförmigen Öffnungsbereichen in einem Matrixmuster angeordnet aufweist, auf eine flache Platte, die aus einem Glasmaterial hergestellt ist, beschichtet. Die Glasplatte wird dann in eine Lösung, enthaltend Ionen, getaucht, um einen hohen Brechungsindex zur Verfügung zu stellen. Als ein Ergebnis tritt ein Ionentausch nur an der Oberfläche der Glasplatte entsprechend den Öffnungsbereichen der Maske auf und der Brechungsindex wird lokal verteilt. Jeder Bereich der Glasplatte, der eine derartige Verteilung des Brechungsindex aufweist, wird eine Mikrolinse. Auf diese Weise wird eine Anzahl von Mikrolinsen auf der Glasplatte in einem Matrixmuster ausgebildet, um ein Mikrolinsenfeld zur Verfügung zu stellen.
Das zweite Verfahren weist derartige Nachteile auf, daß der Ionentauschprozeß schwierig bzw. aufwendig ist, da das Verfahren bei hoher Temperatur für eine lange Zeit ausgeführt wird und die Herstellungskosten hoch sind.
Das dritte Verfahren ist in einer Arbeit unter dem Titel "Processing of Glass Micro Lens Array by CO&sub2; Laser" (Bearbeiten eines Glasmikrolinsenfeldes durch CO&sub2;-Laser), herausgegeben Februar, 1987, von "The Review of Laser Engineering" geoffenbart. Gemäß diesem Verfahren wird eine Natronglasplatte, die einen vergleichsweise niedrigen Glasumwandlungspunkt aufweist, auf 300ºC erhitzt. Parallele Laserstrahlen werden durch eine Linse konvergiert und auf die Oberfläche der erhitzten Glasplatte gestrahlt. Indem dies durchgeführt wird, wird der Brechungsindex örtlich variiert, um eine Mikrolinse auszubilden. Es sollte hier festgehalten werden, daß die Oberfläche der Glasplatte ebenso wie im Fall des zweiten Verfahrens eben ist und daß nur der Brechungsindex lokal geändert wird.
Das dritte Verfahren weist derartige Nachteile auf, daß die Herstellungskosten hoch sind, da ein Erhitzen erforderlich ist, und daß es schwierig ist, symmetrisch den Brechungsindex zu verteilen. Darüberhinaus ist es, da der Gradient des Brechungsindex über einen vergleichsweise weiten Bereich streut, unmöglich, eine Anzahl von Mikrolinsen in engen Abständen auszubilden.
In Applied Optics, Vol. 14, Nr. 2, 1975, Seiten 294-298, ist ein Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse auf einem flachen Ende einer optischen Glasfaser geoffenbart. Das Verfahren umfaßt die Schritte eines lokalen Erhitzens und Schmelzens des Endes mittels eines CO&sub2;-Lasers. Der Kern der optischen Faser ist aus geschmolzenem Quarzglas gebildet.
In der DE-A 23 44 050 ist ein Verfahren zum Ausbilden von integralen Abstandselementen auf der flachen Oberfläche eines Glasblattes beschrieben. Das Verfahren umfaßt den Schritt des lokalen Erhitzens und Schmelzens einer Serie von getrennten Orten, die auf der Oberfläche des Glasblattes in Abstand voneinander angeordnet sind, durch einen fokussierten Energiestrahl, welcher Strahl das Glas deformiert, um einen konvexen Vorsprung auszubilden, und den Schritt des Codierens der Deformation, um das Glas zu härten.

Zusammenfassung der Erfindung

Es ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse mit einer Genauigkeit bei niedrigen Kosten zur Verfügung zu stellen.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse zur Verfügung gestellt, umfassend:
ein lokales Erhitzen und Schmelzen eines aus einem Glasmaterial hergestellten Werkstückes durch Bestrahlen einer Oberfläche des Werkstückes mit einem Laserstrahl, wobei die Oberfläche eine flache Oberfläche des Glasmaterials ist;
ein Formen der Oberfläche des Werkstückes in eine konvex gekrümmte Oberfläche unter dem Effekt einer Oberflächenspannung, welche zu der Zeit des Schmelzens des Werkstückes an dem Glasmaterial auftritt; und
ein Härten des Werkstückes, um dadurch eine Mikrolinse mit der konvex gekrümmten Oberfläche zu bilden, wobei das Glasmaterial eine Wärmebeständigkeitseigenschaft, eine Viskositätseigenschaft, deren Größe ausreichend hoch ist, um sicherzustellen, daß eine konvex gekrümmte Oberfläche gebildet wird, und eine thermische Expansionseigenschaft aufweist, deren Größe ausreichend niedrig ist, um ein Brechen bzw. eine Rißbildung des Glasmaterials zu verhindern, wenn die konvex gekrümmte Oberfläche abgekühlt wird;
dadurch gekennzeichnet, daß das Glasmaterial ein Blatt bzw. eine dünne Platte ist, daß die flache Oberfläche eine im wesentlichen planare Oberfläche des Blattes ist, daß die zentrale Achse der konvex gekrümmten Oberfläche normal auf eine Ebene steht, welche im wesentlichen die flache Oberfläche enthält, und daß die konvex gekrümmte Oberfläche relativ zu der Ebene erhöht ist.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Fig. 1 ist eine schematische Ansicht einer Vorrichtung zum Herstellen eines Mikrolinsenfeldes gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 ist eine Draufsicht auf ein derart hergestelltes Mikrolinsenfeld;
Fig. 3 ist eine vergrößerte Schnittansicht von jeder Mikrolinse in dem Mikrolinsenfeld;
Fig. 4 ist eine schematische Ansicht, die einen Leistungstest der Mikrolinse zeigt; und
Fig. 5 ist ein Diagramm, welches die Lichtdichteverteilung zeigt, die an einem Punkt durch die Mikrolinse gesammelt wird.

Detaillierte Beschreibung der Ausführungsform

Eine Ausbildung der vorliegenden Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben.
Eine in Fig. 1 gezeigte Vorrichtung ist zum Herstellen eines Mikrolinsenfeldes, umfassend eine Anzahl von Mikrolinsen, bestimmt. Diese Vorrichtung umfaßt einen Support 10 zum Tragen bzw. Abstützen einer Glasplatte 50 in ihrer horizontalen Ausrichtung. Der Support bzw. Träger 10 umfaßt eine Basis 11, eine Y- Stufe bzw. einen Y-Tisch 12 und eine X-Stufe bzw. einen X-Tisch 13. Der Y- Tisch 12 ist horizontal in einer Richtung normal auf die Oberfläche des Papiers entlang eines Paars von Schienen 11a, die auf einer oberen Oberfläche der Basis 11 ausgebildet sind, bewegbar, Der X-Tisch 13 ist horizontal in Richtung nach rechts und links (d. h. in der normalen Richtung auf die Richtung der Bewegung des Y-Tisches) in der Figur entlang eines Paars von Schienen 11, welche auf einer oberen Oberfläche des Y-Tisches 12 ausgebildet sind, bewegbar. Derartige Gerüste bzw. Tische 12 und 13 werden beispielsweise durch klein dimensionierte, genau abgestimmte bzw. konstruierte Motoren 14, 15, Spindelmechanismen usw., die nicht näher dargestellt sind, bewegt. Ein Bewegungsmechanismus 16 für das Bewegen der Glasplatte 50 besteht aus den Tischen 12, 13 und den Motoren 14, 15. Die Motoren 14 und 15 werden intermittierend bzw. abwechselnd durch eine Steuereinheit 30 angetrieben.
Rechts über den Supports bzw. Trageeinheiten 10 befindet sind ein Kupferspiegel 21, ein Aluminiumverschluß 22, ein Aluminiumdiaphragma 23 und eine Konvexlinse 24 (Strahlkonvergiereinrichtungen), die aus ZnSe gefertigt ist, welche in dieser Reihenfolge von oben entlang einer vertikalen, optischen Achse angeordnet sind. Der Spiegel 21 ist um 45º geneigt. Eine CO&sub2;-Laser-Erzeugungseinrichtung 25 (Energiestrahl-Erzeugungseinrichtung) zur Erzeugung eines Lasers, der eine Wellenlänge von 10,6 um aufweist, ist an der Seite des Spiegels 21 angeordnet. Die Blende bzw. der Verschluß 22 und der Lasererzeuger 25 sind durch die Steuereinheit 30 gesteuert bzw. geregelt. Das Diaphragma bzw. die Blende 23 weist eine plattenartige Konfiguration auf und hat eine Öffnung 23a in einer exakten Kreisform, die im Zentrum der Blende 23 ausgebildet ist.
Ein Verfahren zur Herstellung eines Mikrolinsenfeldes unter Verwendung der obigen Vorrichtung wird nun beschrieben. Zuerst wird die Glasplatte 50 abnehmbar auf das Zentrum einer oberen Oberfläche des X-Tisches 13 unter Verwendung eines Festlegungsinstruments, welches nicht dargestellt ist, aufgesetzt. Ein Nicht-Alkaliglas (Handelsname: CORNING 7059), Borsilikatglas (Handelsname: PYREX) und dgl., welche alle Glasmaterialien sind, die Hitzebeständigkeitseigenschaften, niedrige Expansionseigenschaften und hohe Viskoseeigenschaften aufweisen, werden als das Material für die Glasplatte 50 verwendet. Wie dies in Fig. 2 gezeigt ist, weist die Glasplatte 50 in der Draufsicht eine regelmäßige, quadratische Form auf und hat eine vorbestimmte Dicke über die gesamte Fläche derselben. Indem die Glasplatte 50 auf die obere Oberfläche des X-Tisches 13 gesetzt wird, ist eine obere Oberfläche 50a (Oberfläche) der Glasplatte 50 horizontal und normal auf die optische Achse C.
Nachdem die Glasplatte 50 aufgesetzt wurde, werden die Motoren 14 und 15 durch die Steuereinheit 30 angetrieben, um die optische Achse C in eine Linie mit einem Punkt A (Fig. 2) in einer Ecke der Glasplatte 50 zu bringen. Andererseits wird ein paralleler Laserstrahl L (Energiestrahl) horizontal von der Lasererzeugungseinheit 25 in Antwort auf ein Betätigungssteuersignal von der Steuereinheit 30 ausgegeben. Der Laserstrahl L gelangt zu dem Spiegel 21 und wird dann durch den Spiegel 21 reflektiert. Der reflektierte Laserstrahl L wird durch den Verschluß 22 während eines Zeitraumes, für welchen der Verschluß 22 für ein vorbestimmtes Zeitintervall unter der Steuerung der Steuereinheit 30 offen ist, durchtreten gelassen. Nach dem Durchtreten durch den Verschluß bzw. die Blende 22 gelangt der Laserstrahl L nach unten entlang der optischen Achse, tritt durch das Diaphragma 23 hindurch und wird dann durch die Konvexlinse 24 konvergiert, um der oberen Oberfläche 50a der Glasplatte 50 zugeführt zu werden. Hier wird die Fokusposition des gebündelten Laserstrahls L' (konvergierter Energiestrahl) geringfügig entweder nach oben oder nach unten von dieser oberen Oberfläche 50a verschoben. Indem dies ausgeführt wird, wird der Durchmesser des Punktes auf der oberen Oberfläche 50a auf beispielsweise 250 um eingestellt. Es sollte jedoch festgehalten werden, daß die Fokusposition mit der oberen Oberfläche 50a zusammenfallend sein kann.
Das Energieniveau des konvergierten Laserstrahls L' ist hoch genug, um lokal die Glasplatte 50 zu schmelzen. Es sollte auf dieses Merkmal Aufmerksamkeit gerichtet werden.
Jener Bereich der oberen Oberfläche 50a der Glasplatte 50, welcher dem gebündelten bzw. konvergierten Laserstrahl L' ausgesetzt wird, wird geschmolzen. Wie dies in Fig. 3 gezeigt ist, richtet sich das geschmolzene Glasmaterial unter der Wirkung der Oberflächenspannung konvex auf. Eine ringförmige Vertiefung 52 wird auf der oberen Oberfläche 50a um den konvex erhöhten Bereich 51 ausgebildet. Dieser konvex erhöhte Bereich 51 wird natürlich abgekühlt und gehärtet, um eine Mikrolinse auszubilden. Es sollte festgehalten werden, daß das geschmolzene Glasmaterial sich schnell bzw. leicht unter der Wirkung der Oberflächenspannung konvex aufrichtet, da ein Material mit einer vergleichsweise hohen Viskosität als das Glasmaterial verwendet wird. Da auch ein Material verwendet wird, welches eine niedrige thermische Ausdehnung aufweist, kann ein Brechen bzw. eine Ausbildung von Sprüngen, welche andernfalls aufgrund der thermischen Spannung auftreten würde, wenn der konvex erhöhte Bereich 51 erhärtet, am Auftreten gehindert werden.
Auf die oben beschriebene Weise wird die Mikrolinse 51 an dem Punkt A des oberen, linken Ecks in Fig. 2 ausgebildet. Danach wird die Glasplatte intermittierend auf einer horizontalen Ebene durch den Bewegungsmechanismus 16 bewegt und der gebündelte Laserstrahl wird auf die Glasplatte 50 jedesmal, wenn die Glasplatte 50 angehalten wird, aufgebracht. Indem dies ausgeführt wird, werden Mikrolinsen 51 auf der Glasplatte 50 eine nach der anderen ausgebildet. Genauer wird der parallele Laserstrahl L kontinuierlich gestrahlt, bis die Mikrolinsen 51 auf der gesamten Fläche der Glasplatte 50 ausgebildet sind. Nach der Vervollständigung der Ausbildung der Mikrolinsen 51 in dem Punkt A wird der X-Tisch 13 nach links in Fig. 2 um ein vorbestimmtes Ausmaß bewegt. Danach wird die Blende C für eine vorbestimmte Zeit geöffnet, um es dem kon vergierten Laserstrahl L' zu ermöglichen, die obere Oberfläche 50a der Glasplatte 50 in derselben Weise, wie oben beschrieben, zu bestrahlen, sodaß eine weitere Mikrolinse 51 neu rechts von dem Punkt A ausgebildet wird. Danach wird der X- Tisch 13 intermittierend bewegt und der gebündelte Laserstrahl L' wird jedesmal aufgebracht, wenn der X-Tisch 13 angehalten wird. Indem dies ausgeführt wird, wird eine Reihe von Mikrolinsen 53 auf der Glasplatte 50 ausgebildet.
Nachdem die Mikrolinse 51 im oberen, rechten Eck der Glasplatte 50 ausgebildet wurde, wird der Y-Tisch in Fig. 2 um eine vorbestimmte Größe nach unten bewegt und eine weitere Mikrolinse 51 wird in Fig. 2 unterhalb des oberen, rechten Ecks ausgebildet. Danach wird der X-Tisch 13 nach rechts bewegt, um neue Mikrolinsen 51 eine nach der anderen in der zweiten Reihe auszubilden. Nachdem die letzte Mikrolinse 51 der letzten Reihe im untersten, rechten Eck in Fig. 2 ausgebildet wurde, wird die Glasplatte 50 von dem X-Tisch 13 entfernt.
Gemäß dem oben beschriebenen Verfahren ist, da die Mikrolinsen 51 durch Bestrahlen mit einem Laserstrahl und ohne Erhitzen der Glasplatte 50 hergestellt werden, die Produktion derselben vergleichsweise leicht bzw. einfach. Darüberhinaus können, da ein Erhitzen, Entfernen der Beschichtung auf der Maske usw., was ansonsten später ausgeführt würde, nicht mehr erforderlich ist, die Produktionskosten beträchtlich verringert werden. Zusätzlich können, indem die Oberflächenspannung des geschmolzenen Glasmaterials herangezogen wird, Mikrolinsen 51 erhalten werden, welche in der Symmetrie exzellent sind.
Die Glasplatte 50, welche eine Anzahl von Mikrolinsen 51 in einem zweidimensionalen Matrixmuster, wie dies oben beschrieben wurde, angeordnet aufweist, kann als ein Linsenfeld verwendet werden. Es können auch die individuellen Mikrolinsen 51 ausgeschnitten und gesondert verwendet werden.
Ein Leistungstest der so hergestellten Mikrolinsen 51 wurde durch ein in Fig. 4 gezeigtes Testsystem ausgeführt. Genauer wurde ein Parallelstrahl mit einer Wellenlänge von 633 nm auf eine Oberfläche des Linsenfeldes 50 aus einer He- Ne-Laser-Erzeugungseinrichtung 100 bestrahlt. Diese Oberfläche liegt gegenüber der Oberfläche, auf welcher die Mikrolinsen 51 ausgebildet sind. Der Parallelstrahl wurde in einer Richtung normal auf die erste beschriebene Oberfläche gestrahlt. Der Laserstrahl wurde jeweils durch die Mikrolinsen 51 gebündelt. Ein geringfügig gebündelter Punkt im Brennpunkt wurde durch ein Mikroskop 101 vergrößert. Dann wurde dieses vergrößerte Bild durch eine CCD-Kamera 102 aufgenommen. Dann wurde das Bildaufnahmesignal an eine Intensitätsverteilungs-Meßeinrichtung 103 gesendet. Die Intensitätsverteilung wurde beobachtet. Der Durchmesser des Punktes war etwa 1,8 um. Auf diese Weise konnte bestätigt werden, daß Mikrolinsen 51 mit einer sehr hohen Präzision erhalten wurden. Es sollte festgehalten werden, daß, da der He-Ne-Laser nur schwer durch ein Glasmaterial absorbiert wird, dieser für den Leistungstest der Mikrolinsen 51 verwendet werden kann.
In dem oben beschriebenen System kann der Durchmesser des Punktes auf der oberen Oberfläche 50a des gebündelten Laserstrahls L' durch Ersetzen der Blende 23 durch eine andere Blende 23, welche eine Öffnung 23a mit einer unterschiedlichen Größe aufweist, eingestellt werden. Daher kann der Durchmesser von jeder Mikrolinse 51 direkt eingestellt werden. Eine Blende 23, welche eine Öffnung 23a mit anderen Formen als einem genauen Kreis (z. B. elliptische Form) aufweist, kann verwendet werden. In diesem Fall ist, da die Form des Punktes des Laserstrahls L' auf der Oberfläche 50a der Glasplatte 50 elliptisch ist usw., die Form der herzustellenden Mikrolinse 51 ebenfalls elliptisch usw.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die obige Ausbildung beschränkt und es können zahlreiche Änderungen durchgeführt werden. Akzeptable Beispiele des Lasers umfassen zusätzlich zu dem CO&sub2;-Laser einen CO-Laser (Wellenlänge 5,5 pm), einen Er-YAG-Laser (Wellenlänge 3 um), einen Excimer-Laser (Wellenlänge 308 nm) usw., welche eine Wellenlänge aufweisen (350 nm oder weniger, 1000 nm oder mehr), die insbesondere gut durch Glas absorbiert wird. Wenn die Energieeffizienz außer Acht gelassen werden kann, kann tatsächlich ein weiter Bereich von Lasern verwendet werden.
Es kann auch ein dreidimensionales Matrixmikrofeld erhalten werden, indem Mikrolinsen auf jeder Oberfläche eines kubischen oder rechteckigen, parallelepipedischen Glasmaterials ausgebildet werden.
In dem Fall, wo das Energieniveau des Laserstrahls hoch ist, kann der Parallellaserstrahl direkt auf die Glasplatte gestrahlt werden, ohne gebündelt zu werden.
Auch in dem Fall, daß das Energieniveau des Laserstrahls hoch ist, kann er so ausgebildet sein, daß eine Maske, die aus einem Laser-reflektierenden Material, wie Aluminium, gebildet ist und welche eine Anzahl von Öffnungen in einem Matrixmuster angeordnet aufweist, auf der Oberfläche der Glasplatte angebracht oder beschichtet ist, und der Laserstrahl im wesentlichen über die gesamte Fläche der Oberfläche der Glasplatte bestrahlt wird. In diesem Fall werden Mikrolinsen in einem Matrixmuster auf der Oberfläche der Glasplatte entsprechend den Öffnungen der Maske ausgebildet und ein Mikrolinsenfeld kann ohne das Erfordernis des Vorsehens eines Bewegungsmechanismus ausgebildet werden.
Als der Energiestrahl können ein elektronischer Strahl und ein Plasmastrahl verwendet werden. Wenn ein elektronischer Strahl und ein Plasmastrahl als der Energiestrahl verwendet werden, kann der Strahl durch bekannte Strahlbündelungseinrichtungen, die aus einer elektromagnetischen Spule usw. bestehen, gebündelt werden, um auf das Glasmaterial aufgebracht zu werden.
Der Energiestrahl kann in einer in bezug auf eine Linie normal auf die Oberfläche des Glasmaterials geneigten Richtung aufgebracht werden.
Der Verschluß und die Blende können zwischen der reflektierenden Platte und dem Lasererzeuger angeordnet sein.

Claims

1. Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse, umfassend:

ein lokales Erhitzen und Schmelzen eines aus einem Glasmaterial hergestellten Werkstückes (50) durch Bestrahlen einer Oberfläche (50a) des Werkstückes mit einem Laserstrahl, wobei die Oberfläche (50a) eine flache Oberfläche des Glasmaterials ist;

ein Formen der Oberfläche des Werkstückes in eine konvex gekrümmte Oberfläche (51a) unter dem Effekt einer Oberflächenspannung, welche zu der Zeit des Schmelzens des Werkstückes an dem Glasmaterial auftritt; und

ein Härten des Werkstückes, um dadurch eine Mikrolinse (51) mit der konvex gekrümmten Oberfläche zu bilden, wobei das Glasmaterial eine Wärmebeständigkeitseigenschaft, eine Viskositätseigenschaft, deren Größe ausreichend hoch ist, um sicherzustellen, daß eine konvex gekrümmte Oberfläche gebildet wird, und eine thermische Expansionseigenschaft aufweist, deren Größe ausreichend niedrig ist, um ein Brechen bzw. eine Rißbildung des Glasmaterials zu verhindern, wenn die konvex gekrümmte Oberfläche abgekühlt wird;

dadurch gekennzeichnet, daß das Glasmaterial ein Blatt bzw. eine dünne Platte ist, daß die flache Oberfläche (50a) eine im wesentlichen planare Oberfläche des Blattes ist, daß die zentrale Achse der konvex gekrümmten Oberfläche (51a) normal auf eine Ebene steht, welche im wesentlichen die flache Oberfläche enthält, und daß die konvex gekrümmte Oberfläche relativ zu der Ebene erhöht ist.

2. Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse nach Anspruch 1, weiters umfassend eine Ausgabe eines parallelen Laserstrahls und ein Konvergieren bzw. Bündeln des parallelen Laserstrahls durch eine Linse (24), sodaß der gebündelte, parallele Laserstrahl zu der Oberfläche (50a) des Werkstückes (50) zugeführt wird, um dadurch das Werkstück lokal aufzuheizen.

3. Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse nach Anspruch 2, wobei das Werkstück (50) derart abgestützt wird, daß die Oberfläche (50a) des Werkstückes horizontal ist, und wobei der gebündelte, parallele Laserstrahl zu dem Werkstück in einer Richtung normal auf eine obere Oberfläche des Werkstückes zugeführt wird.

4. Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse nach Anspruch 3, worin das Werkstück (50) intermittierend in einer horizontalen Richtung bewegt wird und der gebündelte Laserstrahl zu der Oberfläche (50a) des Werkstückes jedesmal zugeführt wird, wenn das Werkstück gestoppt wird, sodaß eine Vielzahl von Mikrolinsen (51) in einem Matrixmuster ausgebildet wird.

5. Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinse nach einem der vorangehenden Ansprüche, worin das Glasmaterial ein Nicht-Alkali-Glas oder ein Borsilikatglas ist.