DE69201669T2 - Hochspannungs-Isoliervorrichtung. - Google Patents

Hochspannungs-Isoliervorrichtung.

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Description

  • Die Erfindung betrifft die Form einer elektrischen Isoliervorrichtung, speziell einer Beschleunigungsröhre für geladene Teilchen, die weniger einer Hochspannungsentladung unterliegt.
  • Die herkömmliche Hochspannungs-Isoliervorrichtung wird dadurch erläutert, daß als Beispiel eine Beschleunigungsröhre herangezogen wird, wie sie in einem Elektronenmikroskop verwendet wird. Eine herkömmliche Beschleunigungsröhre für ein Elektronenmikroskop besteht aus einer Anzahl von Isolierteilen (Zylindern aus Porzellan oder Keramik). Diese Isolierteile, die an beiden Enden mit einem leitenden Film (der durch einen Metallisierungsprozeß hergestellt wurde) versehen sind, sind durch leitende Teile (metallische Elektrodenhalteplatten) aufeinanderfolgend verbunden, um eine mehrstufige Beschleunigungsröhre fertigzustellen, wie in JP-U-62-67455 (gedruckte Veröffentlichungsoffenlegung Nr. 62-67455 einer japanischen Gebrauchsmusteranmeldung) beschrieben.
  • Die vorstehend genannte Druckveröffentlichung beruht auf der Tatsache, daß eine kleine Entladung, die in einem kleinen Spalt an einer Kante des leitenden Films auftritt, zu einer großen Entladung anwächst, und es ist beabsichtigt, das Auftreten der Hochspannungsentladung dadurch zu verhindern, daß eine Metallisierungsschicht ausgebildet wird, die auf der Verbindungsfläche der beiden Enden der Isolierzylinder geringfügig hervorsteht. Obowhl dieser Stand der Technik der Überlegung nach zum Verhindern einer kleinen Entladung von der Elektrodenträgerplatte zum Isolierzylinder durch den Spalt an der Kante der Metallisierungsschicht wirksam ist ist es wahrscheinlicher, daß eine kleine Entladung aus dem leitenden Teil einschließlich der Elektrodenträgerplatte und der Metallisierungsschicht auftritt, insbesondere zum Isolierzylinder in einem vorstehenden Abschnitt, in dem sich das elektrische Feld konzentriert. Der vorstehend genannte Stand der Technik betrifft keine kleinen Entladungen dieses Typs, und das Entladen aufgrund einer Ausbildung von Vorsprüngen durch die herausstehende Metallisierungsschicht wird nicht behandelt.
  • Die Erfindung soll eine Hochspannungs-Isolierstruktur schaffen, die das Auftreten einer kleinen Entladung unterdrückt und auch ein Anwachsen kleiner Entladungen zu großen Entladungen unterdrückt.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Hochspannungs-Isoliervorrichtung gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 5 gelöst.
  • Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung ist ein Verbindungsflächeabschnitt als Endabschnitt eines Isolierteils (der demjenigen Verbindungsabschnitt des zylindrischen Isolators beim vorstehend genannten Stand der Technik entspricht, der in bezug auf den anderen relativ negativ gehalten wird) zu einem leitenden Teil in seinem Längsschnitt im wesentlichen T-förmig ausgebildet, und der erhöhte Teil des Endabschnitts des Isolierteils mit T-Form im Querschnitt wird als Verbindungsfläche zum leitenden Teil verwendet, und Gräben sind stufenförmig ausgebildet, von denen sich der erhöhte Teil des Endabschnitts des Isolierteils mit T-Form im Querschnitt erstreckt, und wobei die Tiefenrichtung der Gräben im wesentlichen entgegengesetzt zur Richtung (im Definitionssinn) eines elektrischen Felds ist, dem das Isolierteil ausgesetzt sein kann.
  • Ferner wird der Effekt der Erfindung durch das Vorsehen leitender Beschichtungen auf der Verbindungsfläche und einer Seitenfläche des erhöhten Teils des Endabschnitts des isolierenden Teils mit T-Form im Querschnitt sowie auf den Gräben sehr verstärkt.
  • Ferner ist ein ähnlicher Effekt zu erwarten, wenn der Verbindungsflächeabschnitt mindestens eines der Endabschnitte eines isolierenden Teils, das auf relativ negativer Spannung in bezug auf das andere gehalten wird, im Längsschnitt mit im wesentlichen U-Form ausgebildet ist, was von einer Erweiterung der vorstehend genannten Gräben zum Aufbrauchen des erhöhten Teils herrühren kann, und eine leitende Beschichtung ist auf der Innenseite des Endabschnitts des Isolierteils mit U-Form im Querschnitt ausgebildet.
  • Im Stand der Technik ist es bekannt, daß feste Isoliermaterialien an ihrer Oberfläche im Vergleich zum Volumen ein wesentlich kleines Isoliervermögen aufweisen. Daher ist es zum Verhindern einer Hochspannungsentladung erforderlich, daß die Isolatoroberfläche das Auftreten einer kleinen Entladung verzögert und das Wachstum einer kleinen Entladung in eine große Entladung verzögert. Bei der Struktur der herkömmlichen Isoliervorrichtung erstrecken sich die Enden der Metallisierungsschicht und des Lötmaterials praktisch in Richtung des elektrischen Felds, und daher ist es wahrscheinlich, daß an einer Endfläche mit relativ negativem Potential folgendes auftritt: (1) das Auftreten einer kleinen Entladung in Spalten an der Kante der Metallisierungsschicht und (2) die Beschleunigung von Elektronenströmen und Sekundärelektronen, wie sie durch die kleine Entladung erzeugt werden, zur Seite auf relativ positivem Potential aufgrund der Richtung der Isolierzylinderwand, die dicht bei der Richtung des elektrischen Felds liegt, was es fördert, daß die kleine Entladung zu einer großen Entladung anwächst.
  • Gemäß einem Merkmal der Erfindung ist es unwahrscheinlich, daß Elektronenströme und Sekundärelektronen, die durch eine kleine Entladung an den Enden leitender Teilchen einschließlich der Beschichtung erzeugt werden, zu einer großen Entladung anwachsen, da die Richtung des Entladungspfads entlang der Wand des Isolierteils notwendigerweise einen Abschnitt beinhaltet, dessen Richtung wegen des Vorsehens von Gräben entgegengesetzt zur Richtung des elektrischen Felds ist. Insbesondere führt das weitere Vorsehen leitender Beschichtungen auf der Oberfläche und den Seitenflächen des Endabschnitts des Isolierteils mit T-Form im Querschnitt, der auf relativ negativem Potential in bezug auf den anderen Endabschnitt des Isolierteils gehalten wird, und auf der Innenfläche der Gräben zu folgendem: (1) Unwahrscheinlichkeit des Auftretens kleiner Entladungen, da jeder Spalt an einem Ende oder einer Kante der leitenden Beschichtung oder eines ähnlichen Leiters auf dem Isolierteil eine Wand für eine Entladung in einer Richtung im wesentlichen entgegengesetzt zur Richtung des elektrischen Felds bildet und das elektrische Feld am Ende des Isolierteils durch das Vorhandensein des Leiters im Graben geschwächt wird; und (2) Unwahrscheinlichkeit des Anwachsens einer kleinen Entladung zu einer großen Entladung, da die Wandfläche des Isolierteils eine Richtung aufweist, die sich stark von der Richtung des elektrischen Felds unterscheidet, und da das elektrische Feld aus demselben Grund wie beim Punkt (1) angegeben geschwächt wird, und demgemäß werden durch die kleine Entladung erzeugte Sekundärelektronen nicht stark beschleunigt.
  • Die Erfindung wird aus der folgenden Beschreibung besser verständlich werden.
  • In den Zeichnungen ist folgendes dargestellt:
  • Fig. 1 ist ein Längsschnitt, der ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung in Anwendung auf eine Elektronenkanone zeigt;
  • Fig. 2 ist ein Längsschnitt, der die gesamte Elektronenkanone gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt;
  • Fig. 3 ist ein Längsschnitt, der Einzelheiten eines Teils der Elektronenkanone gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt; und
  • Fig. 4 ist ein Längsschnitt, der Einzelheiten eines Teils der Elektronenkanone gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird unter Bezugnahme auf Fig. 1 und Fig. 2 erläutert. Dieses Ausführungsbeispiel ist eine Anwendung dieser Erfindung auf eine mehrstufige Elektronenkanone, die in einem Elektronenstrahlgerät und dergleichen verwendet wird.
  • Fig. 2 ist ein Langsschnitt durch die mehrstufige Elektronenkanone. Diese Elektronenkanone verfügt über eine Vakuumkammer mit einer Elektronenkanone-Vakuumkammer 5, die über der Elektronenmikroskopsäule oder einem Zylinder 8 liegt, und einer Beschleunigungsröhre 2, die über der Vakuumkammer 5 liegt, und der Innenraum der Kanone wird durch eine (nicht dargestellte) Vakuumpumpe über die Vakuumkammer durch die Elektronenkanone-Vakuumkammer oder den Elektronenmikroskopzylinder evakuiert. Eine Elektronenstrahlquelle 1 und Beschleunigungselektroden 3 sind innerhalb der Beschleunigungsröhre angeordnet, und Entladungen verhindernde Elektroden 4 für die einzelnen Stufen sind an der Außenwand der Beschleunigungsröhre befestigt. Der Beschleunigungsrohrabschnitt ist durch eine Hochspannungs-Isolierkammer 6 abgedeckt, die mit isolierendem Gas wie Hexafluorschwefel gefüllt ist. An die Elektronenstrahlguelle der Elektronenkanone anzulegende Hochspannung wird von einer (nicht dargestellten) Hochspannungsquelle über ein Hochspannungskabel 7 in die Hochspannungs-Isolierkammer 6 geliefert. Die Zugeführte Hochspannung wird auch an die Beschleunigungselektroden 3 und die Entladungen verhindernden Elektroden 4 dadurch angelegt, daß sie durch Spannungsteilungswiderstände 9 unterteilt wird, die zwischen den Beschleunigungsröhren benachbarter Stufen liegen. Dieses Ausführungsbeispiel der Erfindung ist auf eine Isoliervorrichtung angewandt, die die Beschleunigungsröhre bildet.
  • Fig. 1 ist ein Längsschnitt, der Einzelheiten eines Teils der Beschleunigungsröhre der in Fig. 2 dargestellten Elektronenkanone zeigt. Die Beschleunigungsröhre beinhaltet mehrere Isolierzylinder 10A mit jeweils einem oberen Verbindungsabschnitt, der sich auf der Seite relativ negativen Potentials befindet und der im Längsschnitt mit im wesentlichen T-Form ausgebildet ist. Jedes Zylinderteil 10 (das eine Beschleunigungsröhre 2 bildet) weist leitende Beschichtungen 12A auf der Oberfläche und den Seitenflächen des erhöhten Teils des Verbindungsabschnitts mit T-Form im Querschnitt und auf der Innenfläche der Gräben auf, die in der Stufe des erhöhten Teils ausgebildet sind. Eine Anzahl derartiger Isolierteile ist dadurch aufeinanderfolgend angeordnet, daß sie über leitende Teile 11A verlötet sind. Das leitende Teil 11A ist hinsichtlich des Innen- und Außendurchmessers exzentrisch, und es ist an der Innenseite mit einer Beschleunigungselektrode 3, an der Außenseite mit einer Entladungen verhindernden Elektrode 4 und im Raum zwischen dem Isolierteil 10A und der Entladungen verhindernden Elektrode 4 mit einem Spannungsteilerwiderstand 9 versehen. Kurven A-A' zeigen Äquipotentiallinien in der Umgebung dieser Komponenten. Es ist eine wohlbekannte Tatsache, daß Elektronen einer Kraft in positiver Richtung rechtwinklig zu Äquipotentiallinien ausgesetzt und in dieser Richtung beschleunigt werden.
  • Bei einer Beschleunigungsröhre dieser Struktur besteht die Wahrscheinlichkeit, daß eine Entladung im Abschnitt zwischen dem leitenden Teil 11A und dem Isolierteil 10A auftritt, der dem Vakuum oder dem Isoliergas ausgesetzt ist, d. h. an der Kante der leitenden Beschichtung 12A. Bei diesem Abschnitt besteht die Tendenz, daß er einen kleinen Spalt aufweist, wie es im Stand der Technik wohlbekannt ist. Selbst eine kleine an den Spalt angelegte Spannung erzeugt ein extrem starkes elektrisches Feld, was das Auftreten einer kleinen Entladung fördert. Wenn ein durch die kleine Entladung erzeugter Elektronenstrahl zum Bereich auf relativ positivem Potential beschleunigt wird, wächst er zu einem relativ großen Elektronenstrahl an, während er im Isolierteil Sekundärelektronen erzeugt und die positive Gegenelektrode erreicht, was zu einer großen Entladung führt. Die Kante des leitenden Teils hat nicht immer eine glatte Endbearbeitung, sondern sie verfügt oft über eine Ausbildung kleiner Unebenheiten. Diese Vorsprünge zeigen die Tendenz für ein konzentriertes elektrisches Feld, das in vielen Fällen als Entladungsfeld zum Erzeugen eines Elektronenstroms wirkt. Der Elektronenstrom kann, wenn er beschleunigt wird, durch denselben Prozeß, wie oben angegeben, zu einer großen Entladung anwachsen.
  • Gemäß diesem Ausführungsbeispiel wird das elektrische Feld an den kleinen Vorsprüngen oder kleinen Spalten, wie sie an den Kanten der leitenden Beschichtungen ausgebildet sind, durch die leitenden Beschichtungen auf den Gräben abgeschwächt werden, und diese Struktur unterdrückt das Auftreten kleiner Entladungen von Anfang an. Selbst beim Auftreten einer Entladung in den kleinen Vorsprüngen oder kleinen Spalten, wie sie an den Kanten der leitenden Beschichtung bestehen, tritt kaum eine Entwicklung zu einer großen Entladung auf, da die Beschleunigungsrichtung für den Elektronenstrahl stark verschieden von der Richtung der Oberfläche der Isoliervorrichtung ist, entlang der ein Entladungspfad ausgebildet ist. Die Struktur dieses Ausführungsbeispiels ist ebenfalls für die Herstellung mehrstufiger Beschleunigungsröhren von deutlichem Vorteil. Bei der Struktur einer herkömmlichen mehrstufigen Beschleunigungsröhre fließt Lötmaterial, wie es dazu verwendet wird, die leitenden Beschichtungen mit dem leitenden Teil zu verbinden, häufig auf der Oberfläche des Isolierteils und dieses Lötmaterial bildet einen Vorsprung in Richtung des elektrischen Felds, was offensichtlich das Auftreten einer Entladung hervorruft. Dahingegen wird bei der erfindungsgemäßen Struktur das Fließen von Lötmaterial durch den Graben verhindert, und die Ausbildung von Vorsprüngen kann verhindert werden.
  • Was die Beschleunigung von Elektronen wie im Fall einer Elektronenkanone betrifft, hat ein Abschnitt näher an der Elektronenstrahlquelle ein relativ negatives Potential, und aus diesem Grund ist der Verbindungsabschnitt an der Oberseite des Isolierteils im allgemeinen im Längsschnitt T-förmig ausgebildet, und Gräben sind gemäß der Erfindung unterhalb des erhöhten Teils im gestuften Abschnitt ausgebildet. Der Boden des Isolierteils 10A kann mit derselben Form ausgebildet sein. Bei Geräten, die so konzipiert sind, daß sie positiv geladene Teilchen beschleunigen, wird die vorstehend genannte Form des Längsschnitts für den Abschnitt des Isolierteils entfernt von der Quelle des geladenen Teilchenstrahls verwendet. Obwohl bei diesem Ausführungsbeispiel das Innere der Gräben mit einer leitenden Beschichtung versehen ist, kann Auffüllung mit leitendem Material vorliegen, um dieselbe Wirkung zu erzielen.
  • Fig. 3 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung, das wie das vorige Ausführungsbeispiel auf eine Elektronenkanone angewandt ist. Die Figur ist ein Längsschnitt durch den Verbindungsabschnitt von Beschleunigungsröhren. Beim zweiten Ausführungsbeispiel ist die Oberseite des zylindrischen Isolierteils 10A im Längsschnitt im wesentlichen T- förmig ausgebildet, leitende Beschichtungen 12B sind auf der Oberfläche des erhöhten Teils des einen Endabschnitts des Isolierteils 10A mit T-förmigem Querschnitt und auf dem anderen Endabschnitt des Isolierteils ausgebildet, jedoch sind die Seitenflächen des erhöhten Teils und das Innere der Gräben nicht mit einer leitenden Beschichtung versehen. Eine vollständige Beschleunigungsröhre besteht aus einer Anzahl zylindrischer Isolierteile 10A, die unter Zwischenfügung leitender Teile 11A, die jeweils zwischen die Oberfläche des erhöhten Teils des einen Endabschnitts eines Isolierteils und der Bodenfläche des anderen Endabschnitts des darüber liegenden oder oberen Isolierteils aufeinanderfolgend miteinander verbunden sind. Beschleunigungselektroden 3 sind an der Innenseite des leitenden Teils 11A befestigt, und Entladungen verhindernde Elektroden 4 sind an der Außenseite befestigt, wie beim ersten Ausführungsbeispiel. Auch bei diesem Ausführungsbeispiel ist der Abschnitt, der wahrscheinlich kleine Entladungen hervorruft, die Kante der leitenden Beschichtung 12B, und Äquipotentiallinien sind dergestalt, wie durch die Kurven A-A' dargestellt. Da die Kante der leitenden Beschichtung 12B in einer Richtung nahe bei der Richtung des elektrischen Felds zeigt, ist der Entladungsverhinderungseffekt etwas schlechter als beim ersten Ausführungsbeispiel. Jedoch unterscheidet sich, obwohl ein durch eine kleine Entladung erzeugter Elektronenstrahl zum Boden eines Grabens hin beschleunigt wird, die Richtung des elektrischen Felds deutlich von der Wandebene der Isoliervorrichtung an Positionen über dem Boden, und daher erreichen durch Entladung erzeugte Elektronen kaum die positive Elektrode, und demgemäß wachsen diese Entladungen kaum zu großen Entladungen an.
  • Die Beschleunigungsröhre dieses Ausführungsbeispiels erfordert eine Abdichtungsstruktur für dichtes Vakuum, und das leitende Teil wird über einen Prozeß für eine leitende Beschichtung an die Oberseite des erhöhten Teils gelötet. Wenn keine hermetische Abdichtung erforderlich ist, kann die leitende Beschichtung auf Kosten einer verschlechterten Wirkung weggelassen werden.
  • Fig. 4 ist ein Längsschnitt durch ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung, der Einzelheiten eines Teils eines Elektronenstrahl-Beschleunigungsgeräts zeigt. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird eine vollständige Beschleunigungsröhre dadurch gebildet, daß zylindrische Isolierteile 10C aufeinanderfolgend über leitende Teile 11A und leitende Abstandshalter 11C miteinander verbunden werden. Beschleunigungselektroden 3 und Entladungen verhindernde Elektroden 4 sind an der Innenseite bzw. der Außenseite der leitenden Teile 11A und der leitenden Abstandshalter 11C befestigt. Der Verbindungsabschnitt oder der eine Endabschnitt des Isolierteils 11C in Verbindung mit dem leitenden Teil 11A und dem leitenden Abstandhalter 11C, welcher Verbindungsabschnitt oder Endabschnitt auf relativ negativer Spannung in bezug auf den anderen Verbindungsabschnitt oder den anderen Endabschnitt gehalten wird, ist im Längsschnitt im wesentlichen U-förmig ausgebildet, und seine Innenseite ist mit einer leitenden Beschichtung 12C versehen. So ist der leitende Abstandhalter 11C zwischen der Bodenfläche des U-förmigen Endabschnitts und dem leitenden Teil 11A angeordnet. Dieses Ausführungsbeispiel ist eine Variante des ersten Ausführungsbeispiels dadurch, daß die erhöhten Abschnitte der Isolierteile durch die leitenden Abstandhalter 11C ersetzt sind. Die Bodenfläche des Endabschnitts des Isolierteils 11C mit U-Form im Querschnitt wird auf demselben Potentialniveau wie das leitende Teil 11C gehalten. Der andere Verbindungsabschnitt oder Endabschnitt des Isolierteils kann dieselbe Struktur wie beschrieben aufweisen. Die Funktionsfähigkeit und die Wirkung hinsichtlich der Entladungsverhinderung und der Herstellvorteil sind insgesamt identisch mit dem, was für das erste Ausführungsbeispiel gilt.
  • Gemäß der Erfindung muß ein Elektronenstrahl, wenn er an einem Ende eines Hochspannungs-Isolierteils erzeugt wird, durch einen Bereich eines elektrischen Felds in Gegenrichtung oder nahezu Gegenrichtung laufen, bevor er das andere Ende durch das Laufen über die Oberfläche des Isolierteils erreicht. Demgemäß verhindert die Struktur wirkungsvoll das Anwachsen einer kleinen Entladung zu einer großen Entladung.
  • Die Ausbildung eines kleinen Spalts im Kontaktverbindungsabschnitt zwischen dem Hochspannungs-Isolierteil und dem leitenden Teil wird gelindert, und daher wird die Erzeugung einer kleinen Entladung unterdrückt und dadurch wird der Entladungsverhinderungseffekt weiter verbessert.
  • Der Kontaktverbindungsabschnitt des Hochspannungs-Isolierteils und des leitenden Teils weist eine Öffnungsrichtung auf, die deutlich verschieden von der Richtung des elektrischen Felds gemacht ist, und das elektrische Feld selbst wird durch die leitende Beschichtung oder das leitende Filmmaterial geschwächt. Daher unterdrückt die Struktur die Erzeugung einer kleinen Entladung und die Beschleunigung erzeugter Elektronenströme und sie verbessert das Entladungsverhinderungsvermögen weiter.
  • Obwohl die vorstehenden Ausführungsbeispiele mehrstufige Beschleunigungsröhren eines Elektronenmikroskops betreffen, ist die Erfindung nicht auf diese Anwendung beschränkt, sondern eine ähnliche Wirkung ist zu erwarten, wenn sie allgemein auf Isolatoren und die Isolierstruktur elektrischer Schaltungen angewandt wird.

Claims (6)

1. Hochspannungs-Isoliervorrichtung mit einem Endabschnitt in Kontakt oder Verbindung mit einem leitenden Teil (11A) auf einer Seite höherer Spannung und einem anderen Endabschnitt in Kontakt oder Verbindung mit einem anderen leitenden Teil (11A) auf einer Seite niedrigerer Spannung, wobei zumindest der eine der Endabschnitte der Isoliervorrichtung, der auf einer relativ negativen Spannung in bezug auf den anderen Endabschnitt gehalten wird, so ausgebildet ist, daß er im Längsschnitt im wesentlichen T-förmig ist, um einen erhöhten Teil zu schaffen, der eine Oberfläche in Kontakt oder Verbindung mit dem leitenden Teil aufweist, wobei in der Stufe, von der aus sich der erhöhte Teil erstreckt, ein Graben ausgebildet ist und wobei die Tiefenrichtung des Grabens im wesentlichen entgegengesetzt zur Richtung (im Definitionssinn) eines elektrischen Felds ist, dem die Isoliervorrichtung ausgesetzt sein kann.
2. Hochspannungs-Isoliervorrichtung nach Anspruch 1, bei der eine leitende Beschichtung (12B) auf der Oberfläche des erhöhten Teils ausgebildet ist.
3. Hochspannungs-Isoliervorrichtung nach Anspruch 1, bei der eine leitende Beschichtung (12A) auf der Oberfläche des erhöhten Teils, einer Seitenfläche des erhöhten Teils und dem Graben ausgebildet ist.
4. Hochspannungs-Isoliervorrichtung nach Anspruch 1, bei der eine leitende Beschichtung (12A) auf der Oberfläche des erhöhten Teils und Seitenflächen des erhöhten Teils ausgebildet ist und leitendes Material im Graben angebracht ist.
5. Hochspannungs-Isoliervorrichtung mit einem Endabschnitt, der in Kontakt oder Verbindung mit einem leitenden Teil (11A) auf einer Seite höherer Spannung gebracht ist, und mit einem anderen Abschnitt, der in Kontakt oder Verbindung mit einem leitenden Teil (111A) auf einer Seite niedrigerer Spannung gebracht ist, wobei zumindest der eine der Endabschnitte der Isoliervorrichtung, der auf relativ negativem Potential in bezug auf den anderen Endabschnitt gehalten wird, im Längsschnitt im wesentlichen U-förmig ausgebildet ist, wobei der U-förmige Endabschnitt eine Bodenfläche aufweist, die auf demselben Potentialniveau wie das leitende Teil gehalten wird, und wobei eine leitende Beschichtung (12C) auf der Innenfläche des U-förmigen Endabschnitts ausgebildet ist.
6. Hochspannungs-Isoliervorrichtung nach Anspruch 5, bei der ein leitender Abstandhalter (11C) zwischen der Bodenfläche des U-förmigen Endabschnitts und dem leitenden Teil angeordnet ist.
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