DE69104526T2 - Verfahren zum Herstellen von Vorformen für die Herstellung optischer Fasern durch Ziehen. - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von Vorformen für die Herstellung optischer Fasern durch Ziehen.Info
- Publication number
- DE69104526T2 DE69104526T2 DE69104526T DE69104526T DE69104526T2 DE 69104526 T2 DE69104526 T2 DE 69104526T2 DE 69104526 T DE69104526 T DE 69104526T DE 69104526 T DE69104526 T DE 69104526T DE 69104526 T2 DE69104526 T2 DE 69104526T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silicon oxide
- tube
- gaseous
- possibly
- optical fibers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 claims description 4
- -1 halogen derivative of silicon oxide Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
- C03B37/01869—Collapsing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
- C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/15—Nonoxygen containing chalogenides
- Y10S65/16—Optical filament or fiber treatment with fluorine or incorporating fluorine in final product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Rohlingen zur Erzeugung von Lichtleitfasern durch Ziehen, bei dem man durch aufeinanderfolgende Schichten im Inneren eines Rohrs auf der Basis von Siliziumoxid einen Siliziumoxidbelag, eventuell mit dem Zusatz eines Dotiermittels bildet, aufgrund einer Dampfphase, die eine gasförmige Mischung von Silizium, Sauerstoff und eventuell einer gasförmigen Verbindung eines Dotierelements für das Siliziumoxid enthält, worauf das Rohr einer Querschnittsverminderung unterzogen wird, um den axialen Hohlraum verschwinden zu lassen.
- Es ist bekannt, im Inneren eines Rohrs aus fluoriertem Siliziumoxid aufeinanderfolgende Schichten von eventuell dotiertem Siliziumoxid durch Einführung einer gasförmigen Mischung von Siliziumhalogenid, Sauerstoff und einer kleinen Menge einer Verbindung eines Dotierelements, das den Refraktionsindex des Siliziumoxids vergrößert oder verkleinert, ins Innere des Rohrs aufzudampfen und diese Mischung, entweder von außerhalb des Rohrs durch ein einen Brenner in Translation oder durch Bildung eines mobilen Plasmas zu erhitzen.
- Die Patente FR-A-2 438 017 und US-A-4 257 797 beschreiben ein solches Verfahren.
- Dieses Verfahren hat jedoch gewisse Mängel, da die Menge an aufgebrachtem Siliziumoxid in der Praxis begrenzt ist, da der freie Raum des Querschnitts des aufgebrachten dotierten Siliziumoxids kaum 150 mm² überschreiten kann und das Verhältnis des Durchmessers der nach Ziehen erhaltenen Hülle des Lichtleiters zum Durchmessers des Kerns größer als 7 bleibt. Man kann daher durch Ziehen nicht mehr als 20 km Lichtleitfaser pro Meter des Rohlings erhalten.
- Die vorliegende Erfindung hat zum Ziel, ein Verfahren zur Herstellung solcher Rohlinge anzugeben, das es erlaubt, größere Mengen an aufgebrachtem Siliziumoxid zu erhalten, mit größeren Verhältnissen der Durchmesser der Hülle des Lichtleiters zum Durchmesser des Kerns und größeren Längen der Lichtleitfaser pro Längeneinheit des Rohlings, die 100 bis 200 km Lichtleitfaser pro Meter Rohling erreichen können.
- Gemäß der Erfindung ist das Verfahren mit obigen Merkmalen weiter dadurch gekennzeichnet, daß nach der Querschnittsverminderung das Siliziumoxid des ursprünglichen Rohrs entfernt wird und dann auf den verbleibenden Zylinder eine neue Schicht mittels Plasmabrenner ausgehend von einer gasförmigen Phase, die Sauerstoff und ein Halogenderivat von Siliziumoxid enthält, aufgebracht wird.
- Es entspricht vorzugsweise mindestens einem der nachfolgenden Merkmale:
- - Man entfernt das Siliziumoxid des ursprünglichen Rohrs durch Verdampfung mittels Wasserstoffbrenner oder Plasmabrenner, durch Angriff mit Flußsäure oder durch mechanische Bearbeitung.
- - Man führt in die gasförmige Phase des Wiederbeschichtens mittels Plasmabrenner ein Fluorid ein, das sich leicht bei hoher Temperatur in Fluor zersetzt und die Rolle des Dotiermittels spielt.
- Nachfolgend wird als Beispiel und unter Bezugnahme auf die beiliegende einzige schematische Figur die Herstellung eines Rohlings einer Lichtleitfaser gemäß der Erfindung beschrieben.
- Gemäß dem ersten Arbeitsschritt, der in A in der Figur dargestellt ist, bildet man durch das bekannte Verfahren der Ablagerung aus der Dampfphase einer gasförmigen Mischung von Siliziumhalogenid, Sauerstoff und eventuell einer kleinen Menge einer Verbindung eines Dotierelements, unter gleichzeitigem äußerem Aufheizen mit einem Brenner oder Erzeugung eines Plasmas, eine Schicht 2 im Inneren eines rohrförmigen Substrats 1 aus Siliziumoxid üblicher Qualität. Man kann eine Erwärmung ohne besondere Vorsichtsmaßnahme durchführen, die eventuell eine teilweise Verdampfung des Silziumoxidsubstrats bewirken würde, da dieses später entfernt wird. Es verbleibt ein axialer Hohlraum 3.
- Der zweite Arbeitsschritt, der in B in der Figur dargestellt ist, ist die Querschnittsverminderung des Rohrs, die durch Erhitzen erhalten wird und das Verschwinden des axialen Hohlraums bewirkt, mit Bildung eines Zylinders 4, der der vorherigen Ablagerung im Inneren des Siliziumoxidrohrs 1 entspricht.
- In einem dritten Arbeitsschritt, der bei C in der Figur dargestellt ist, entfernt man das ursprüngliche Rohr aus Siliziumoxid, entweder durch Erwärmen mittels Wasserstoffbrenner oder durch Plasmabrenner oder durch chemischen Angriff mit Flußsäure oder durch mechanische Bearbeitung auf der Drehbank. Es verbleibt nur der Zylinder 4, der von dem Material der ursprünglichen Ablagerung gebildet wird.
- Im vierten Arbeitsschritt, der bei D in der Figur dargestellt ist, führt man um den Zylinder 4 eine Wiederbeschichtung 5 mit synthetischem fluorierten trockenen Siliziumoxid durch, dessen Brechungsindex geringer ist als der des Siliziumoxids des Kerns. Die Beschichtung erfolgt mit eine Plasmabrenner ausgehend von gasförmigem Siliziumtetrachlorid, Sauerstoff und einer geringen Menge Schwefelhexafluorid, was das dotierende Fluorelement ergibt.
- Der erhaltene Rohling erlaubt es, durch einen üblichen Ziehvorgang große Längen von Lichtleitfasern zu erhalten, von 100 bis 200 km Lichtleitfaser pro Meter Rohling.
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung von Rohlingen zur Erzeugung von
Lichtleitfasern durch Ziehen, bei dem man durch
aufeinanderfolgende Schichten im Inneren eines Rohrs (1) auf der Basis
von Siliziumoxid einen Siliziumoxidbelag, eventuell mit dem
Zusatz eines Dotiermittels, ausgehend von einer Dampfphase
bildet, die eine gasförmige Mischung von Silizium, Sauerstoff
und eventuell einer gasförmigen Verbindung eines
Dotierelements für das Siliziumoxid enthält, und das Rohr einer
Querschnittsverminderung unterzogen wird, um den axialen Hohlraum
(3) verschwinden zu lassen, dadurch gekennzeichnet, daß nach
der Querschnittsverminderung das Siliziumoxid des
ursprünglichen Rohrs entfernt wird und dann auf den verbleibenden
Zylinder (4) eine neue Schicht (5) mittels Plasmabrenner
ausgehend von einer gasförmigen Phase, die Sauerstoff und ein
Halogenderivat von Siliziumoxid enthält, aufgebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man
das Siliziumoxid des ursprünglichen Rohrs (1) durch
Verdampfung mittels Wasserstoffbrenner oder Plasmabrenner, durch
Angriff mit Flußsäure oder durch mechanische Bearbeitung
entfernt.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß man in der gasförmigen Phase beim
Wiederbeschichten mittels Plasmabrenner ein Fluorid einführt, das
leicht bei hoher Temperatur in Fluor zersetzt werden kann und
die Rolle des Dotiermittels spielt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9004033 | 1990-03-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69104526D1 DE69104526D1 (de) | 1994-11-17 |
DE69104526T2 true DE69104526T2 (de) | 1995-02-23 |
Family
ID=9395245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69104526T Expired - Fee Related DE69104526T2 (de) | 1990-03-29 | 1991-03-26 | Verfahren zum Herstellen von Vorformen für die Herstellung optischer Fasern durch Ziehen. |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5154745A (de) |
EP (1) | EP0450465B1 (de) |
JP (1) | JPH04219338A (de) |
AU (1) | AU640996B2 (de) |
CA (1) | CA2039284C (de) |
DE (1) | DE69104526T2 (de) |
DK (1) | DK0450465T3 (de) |
ES (1) | ES2063995T3 (de) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2677349B1 (fr) * | 1991-06-05 | 1993-09-10 | Cabloptic Sa | Procede de fabrication d'une fibre optique. |
AU649845B2 (en) * | 1991-06-24 | 1994-06-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing glass preform for optical fiber |
US5888587A (en) * | 1992-07-07 | 1999-03-30 | Alcatel N.V. | Method of manufacturing silica powder and use of such powder in making an optical fiber preform |
FR2693451B1 (fr) * | 1992-07-07 | 1994-08-19 | Alcatel Nv | Procédé de fabrication d'une poudre de silice et application d'une telle poudre à la réalisation d'une préforme pour fibre optique. |
FR2728888B1 (fr) * | 1994-12-29 | 1997-01-31 | Alcatel Cable | Procede d'obtention de preforme de fibre optique employant la recharge plasma |
FR2742743A1 (fr) * | 1995-12-20 | 1997-06-27 | Alcatel Fibres Optiques | Procede de fabrication d'une preforme de fibre optique |
FR2790753B1 (fr) * | 1999-03-08 | 2001-06-08 | Cit Alcatel | Procede de fabrication d'une preforme de fibre optique avec depot externe de silice eventuellement dopee |
US6444133B1 (en) * | 2000-04-28 | 2002-09-03 | Corning Incorporated | Method of making photonic band gap fibers |
JP3986842B2 (ja) * | 2001-07-26 | 2007-10-03 | 株式会社フジクラ | ノンゼロ分散シフト光ファイバ用光ファイバ母材の製法 |
US6769275B2 (en) * | 2002-03-15 | 2004-08-03 | Fibercore, Inc. | Method for making optical fiber preform using simultaneous inside and outside deposition |
DE10231037C1 (de) * | 2002-07-09 | 2003-10-16 | Heraeus Tenevo Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Vorform aus synthetischem Quarzglas mittels plasmaunterstütztem Abscheideverfahren |
FR2847893B1 (fr) * | 2002-12-02 | 2006-05-05 | Cit Alcatel | Procede et dispositif de recharge par plasma d'une preforme pour fibre optique, a oxydes d'azote reduits |
US20040159124A1 (en) * | 2003-02-14 | 2004-08-19 | Atkins Robert M. | Optical fiber manufacture |
TW200706711A (en) | 2005-08-12 | 2007-02-16 | Komatsu Denshi Kinzoku Kk | Control system and method for time variant system control object having idle time such as single crystal producing device by czochralski method |
NL2011075C2 (en) * | 2013-07-01 | 2015-01-05 | Draka Comteq Bv | Pcvd process with removal of substrate tube. |
JP5995923B2 (ja) * | 2014-08-06 | 2016-09-21 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法 |
EP3423419B1 (de) * | 2016-03-03 | 2022-05-04 | Prysmian S.p.A. | Verfahren zur herstellung einer vorform für optische fasern |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4334903A (en) * | 1977-08-29 | 1982-06-15 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Optical fiber fabrication |
US4199337A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-22 | International Telephone And Telegraph Corporation | Method of fabricating high strength optical preforms |
US4257797A (en) * | 1979-01-05 | 1981-03-24 | Western Electric | Optical fiber fabrication process |
JPS5838367A (ja) * | 1981-08-31 | 1983-03-05 | Hitachi Ltd | 分配型燃料噴射ポンプ |
JPS61151031A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-07-09 | Hitachi Cable Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
FR2600327B1 (fr) * | 1986-06-20 | 1992-04-17 | Lenoane Georges | Procede de fabrication de preformes pour fibres optiques et mandrin utilisable pour la mise en oeuvre de ce procede, application a la fabrication de fibres optiques monomodes |
US4812153A (en) * | 1987-01-12 | 1989-03-14 | American Telephone And Telegraph Company | Method of making a glass body having a graded refractive index profile |
JPH0832572B2 (ja) * | 1987-03-11 | 1996-03-29 | 住友電気工業株式会社 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
JPS63248733A (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-17 | Hitachi Cable Ltd | シングルモ−ド光フアイバ母材の製造法 |
JPS63310740A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-19 | Hitachi Cable Ltd | 偏波面保存光ファイバの製造方法 |
JP2553571B2 (ja) * | 1987-07-15 | 1996-11-13 | 松下電器産業株式会社 | ガロア体演算装置 |
US5000771A (en) * | 1989-12-29 | 1991-03-19 | At&T Bell Laboratories | Method for manufacturing an article comprising a refractory dielectric body |
-
1991
- 1991-03-22 AU AU73768/91A patent/AU640996B2/en not_active Ceased
- 1991-03-26 EP EP91104758A patent/EP0450465B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-26 DE DE69104526T patent/DE69104526T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-26 DK DK91104758.7T patent/DK0450465T3/da active
- 1991-03-26 ES ES91104758T patent/ES2063995T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-27 JP JP3089663A patent/JPH04219338A/ja active Pending
- 1991-03-27 CA CA002039284A patent/CA2039284C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-29 US US07/677,180 patent/US5154745A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2063995T3 (es) | 1995-01-16 |
DE69104526D1 (de) | 1994-11-17 |
DK0450465T3 (da) | 1994-12-12 |
EP0450465B1 (de) | 1994-10-12 |
US5154745A (en) | 1992-10-13 |
AU640996B2 (en) | 1993-09-09 |
JPH04219338A (ja) | 1992-08-10 |
AU7376891A (en) | 1991-10-03 |
CA2039284C (fr) | 1995-02-07 |
EP0450465A1 (de) | 1991-10-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69104526T2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Vorformen für die Herstellung optischer Fasern durch Ziehen. | |
EP0117009B1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer massiven Vorform zum Ziehen optischer Fasern | |
EP0086533B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von fluordotierten Lichtleitfasern | |
DE69216573T2 (de) | Verfahren zum Herstellen von mit Bor- und Fluor-dotierten Silicaglasrohren | |
DE68922476T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Kohlenstoff-beschichteten optischen Faser. | |
EP1000909B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Substratrohr | |
DE2930398C2 (de) | ||
DE2434717C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Glasfaser-Lichtleiters | |
DE3040188C2 (de) | Optische Übertragungsfaser und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
EP0091173B1 (de) | Verfahren zum Herstellen optischer Fasern | |
DE2727054A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines glasfaserlichtleiters | |
EP0666836B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur vorformherstellung für quarzglas-lichtwellenleiter | |
DE2919080A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer optischen faser | |
DE2328930A1 (de) | Innenbeschichtetes glasrohr und verfahren zur herstellung der beschichtung | |
DE2358880C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Lichtleitfaser | |
EP0023066A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern | |
DE2945804C2 (de) | Monomode-Lichtleitfaser | |
EP1286926B1 (de) | Verfahren für die herstellung einer optischen faser | |
DE2615534B2 (de) | Fuer die nachrichtenuebertragung geeignete lichtleitfaser mit gradientenprofil aus mehrkomponentenglaesern mit angepasstem ausdehnungskoeffizienten zwischen glaskern und glasmantel sowie verfahren zu ihrer herstellung | |
DE69029883T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer optischen Faser mit dotiertem Mantel | |
DE68908107T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer kohlenstoffbeschichteten optischen Faser. | |
DE3031160C2 (de) | ||
DE19958276C1 (de) | Verfahren für die Herstellung einer Quarzglas-Vorform für eine Lichtleitfaser | |
EP0536631B1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern | |
DE2623989C3 (de) | Monomode-Lichtleiter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |