DE68918117T2

DE68918117T2 - Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten.

Info

Publication number: DE68918117T2
Application number: DE1989618117
Authority: DE
Inventors: Tadao C O Fuji Photo Fi Toyama
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-01-07
Filing date: 1989-01-04
Publication date: 1995-01-12
Anticipated expiration: 2009-01-05
Also published as: EP0323836A2; DE68918117D1; EP0323836A3; JPH01177541A; EP0323836B1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer lithographischen Druckplatte, worin eine konstante Menge an frischem Entwickler ständig zugeführt wird, um in der Lage zu sein, ein beständiges Entwicklungsverfahren durchzuführen, und der in geeigneter Weise in einem "Wegwerfentwicklersystem" angewendet werden kann.
Wenn große Menge an vorsensibilisierten Platten zum Herstellen von lithographischen Druckplatten (im folgenden bezeichnet als "PS-Platte(n)") entwickelt werden, wird typischerweise eine automatische Entwicklermaschine verwendet.
Eine solche automatische Entwicklermaschine umfaßt eine Einrichtung zum horizontalen Befördern einer PS-Platte, ein Bad, das einen Entwickler enthält, und eine Sprüheinrichtung. In einer solchen Entwicklermaschine wird üblicherweise ein Verfahren angewandt, umfassend das Aufsprühen des hochgepumpten Entwicklers auf die PS-Platte, die Licht ausgesetzt worden ist, durch eine Sprühdüse, um die Platte zu entwickeln, während die belichteten PS-Platten horizontal befördert werden. Alternativ ist es auch bekannt, solch eine PS-Platte zu entwickeln durch Eintauchen und Befördern der Platte in dem Entwickler mit Hilfe von z.B. eingetauchten Führungsrollen.
In einem solchen Verfahren, bei dem eine automatische Entwicklermaschine verwendet wird, wird der Entwickler mehrfach benutzt unter dem Aspekt der Ökonomie. Als ein Ergebnis entstehen verschiedene Probleme, z.B. steigen die Konzentrationen der in dem Entwickler gelösten Bestandteile der lichtempfindlichen Schicht allmählich, entsprechend wird die Entwicklungsfähigkeit des Entwicklers beeinträchtigt und Ablagerungen und Schlamm bilden sich in dem Entwickler. Weiterhin, falls der Entwickler eine Alkalilösung darstellt, absorbiert er Kohlendioxid aus der Luft, um eine Beeinträchtigung hervorzurufen.
Zusätzlich zu der vorgenannten Beeinträchtigung des Entwicklers wird die automatische Entwicklermaschine mit Spritzern von versprühtem Entwickler kontaminiert. Deshalb ist es erforderlich, regelmäßig den Entwickler auszutauschen und die automatische Entwicklermaschine zu waschen.
Wenn eine große Anzahl an PS-Platten gemäß einem Verfahren, bei dem ein zirkulierender Entwickler verwendet wird, um diese Nachteile zu beseitigen, verarbeitet wird, kann ein Verfahren zum Bereitstellen einer Nachfüllösung verwendet werden, wie offenbart in JP-A-55-115039 und JP-A-58-95349. Dieses Verfahren erlaubt es, eine beständige Verarbeitung über eine lange Zeitspanne durchzuführen. Jedoch besitzt auch dieses Verfahren Probleme, indem komplizierte Handhabungen, wie Feineinstellungen und Installation, verlangt werden. Als ein Mittel zum Eliminieren der Nachteile, die mit dem Verfahren zum Verarbeiten von PS-Platten unter Verwendung einer automatischen Entwicklermaschine mit einer großen Menge an zirkulierendem Entwickler für dessen Wiederverwendung zusammenhängen, offenbaren JP-A-48-29505 und JP-A-55-32044 und US-A-4,222,656 ein Verfahren, das umfaßt das Bereitstellen einer konstanten Menge eines frischen Entwicklers an der Oberfläche einer PS-Platte, die belichtet worden ist, um die Platte zu entwickeln, und dann Entfernen des Entwicklers von der Platte, um den verwendeten Entwickler zu verwerfen (dieses Verfahren wird im folgenden als "Wegwerfentwicklersystem" bezeichnet).
In diesem Wegwerfentwicklersystem sollte es notwendig sein, auf einer PS-Platte die geringste erforderliche Menge eines Entwicklers für eine konstante Zeitspanne gleichmäßig zu halten. Jedoch wird der Entwickler leicht ungleichmäßig darauf verteilt, und somit wird oft ungleichmäßige Entwicklung verursacht. Dies gilt insbesondere für die Randbereiche und für die Fälle, in denen das Substrat der PS-Platte unebene Teile aufweist. Um dieses Problem zu lösen, sind verschiedene Schritte unternommen worden, wie Ergänzen einer großen Menge an einem Entwickler und Verwenden einer Bürste oder eines Schwamms, um den Entwickler gleichmäßig zu verteilen. Jedoch verlangen diese Schritte die Verwendung des Entwicklers in einer größeren Menge als der kleinsten Menge, die davon benötigt wird, und dies ist im Hinblick auf die Betriebskosten nicht bevorzugt.
Ein noch schwierigeres Problem des Wegwerfentwicklersystems besteht darin, daß PS-Platten vom doppelseitigen Typ mit lichtempfindlichen Schichten auf beiden Seiten nicht gleichzeitig verarbeitet werden können. Mit anderen Worten, wenn die PS-Platten vom doppelseitigen Typ mit dem Wegwerfentwicklersystem entwickelt werden, ist es erforderlich, die benötigte Menge an einem Entwickler gleichmäßig auf der Rückseite der Platte, die horizontal befördert wird, für eine konstante Zeitspanne zu halten, aber der Entwickler kann nicht darauf gehalten werden, sondern er tropft ab, oder konzentriert sich an den niedrigsten Bereichen. Somit ist eine gleichmäßige Entwicklung der gesamten Oberfläche unmöglich. Aus diesem Grund werden die beiden Seiten jede für sich getrennt verarbeitet, wenn solch eine PS-Platte vom doppelseitigen Typ mit dem Wegwerfentwicklersystem entwickelt wird. Jedoch wird oft eine ungleichmäßige Entwicklung beobachtet, weil der Entwickler um die Rückseite herum läuft.
Um die zuvor genannten Rückschläge zu beseitigen, ist daran gedacht worden, die PS-Platte vom doppelseitigen Typ vertikal zu befördern, während ein Entwickler auf beide Seiten davon aufgebracht wird. Der Entwickler läuft von der Oberfläche der Platte ab, aber wird nicht gleichmäßig daran festgehalten, was zu ungleichmäßiger Entwicklung führt.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zum Herstellen von lithographischen Druckplatten bereitzustellen, das beständig beide Seiten von PS-Platten vom doppelseitigen Typ gleichzeitig verarbeiten kann, und das eine gleichmäßige Oberflächenbehandlung ermöglicht, obwohl eine geringe Menge an Entwickler verwendet wird.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zum Herstellen einer lithographischen Druckplatte, das umfaßt: (a) Entwickeln einer bildweise belichteten, vorsensibilisierten Platte umfassend ein Metallsubstrat mit lichtempfindlichen Schichten auf beiden Oberflächen des Substrats, durch gleichzeitiges Auftragen eines frischen, wäßrigen, alkalischen Entwicklers auf jede Oberfläche der bildweise belichteten, lichtempfindlichen Schicht, während die vorsensibilisierte Platte horizontal transportiert wird, Beibehalten des aufgetragenen Entwicklers in einem Zeitraum, der ausreichend ist, um entweder die belichteten oder die unbelichteten Stellen der lichtempfindlichen Schicht zu entfernen, und
(b) Entfernen des aufgetragenen Entwicklers und Beseitigen des entfernten Entwicklers, der nicht wieder verwendet wird, worin der auf beide Oberflächen der lichtempfindlichen Schichten aufgetragene Entwickler eine Viskosität in dem Bereich von 0,005 bis 10 Pa.s (5 bis 10000 cps) bei 25ºC hat.
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden ausführlicher erläutert.

1. Entwickler

Der in der vorliegenden Erfindung verwendete Entwickler wird unten ausführlich erläutert.

(i) Viskosität

Die Viskosität des in der vorliegenden Erfindung verwendeten Entwicklers reicht von 0,005 bis 10 Pa.s (5 bis 10000 cps), vorzugsweise von 0,05 bis 5 Pa.s (50 bis 5000 cps). Wenn die Viskosität niedriger ist als die untere Grenze, ist es nicht mehr möglich, den Entwickler auf der Oberfläche der PS-Platte gleichmäßig zu verteilen, während, falls er die obere Grenze übersteigt, die Zirkulation des Entwicklers und dessen Bereitstellung auf der Oberfläche der Platte behindert ist.

(ii) Verdickungsmittel

Der in der Erfindung verwendete Entwickler für PS-Platten umfaßt üblicherweise ein oberflächenaktives Mittel, ein organisches Lösungsmittel, ein alkalisches Mittel und anorganische Salze. Der hierin verwendete Entwickler umfaßt weiterhin ein Verdickungsmittel zum Einstellen von dessen Viskosität.
Jedes Verdickungsmittel kann in dem Entwickler verwendet werden, solange es die Viskosität in einem gewünschten Bereich einstellen kann. Bevorzugt sind solche, die die Viskosität des Entwicklers steigern können, indem nur eine geringe Menge zugesetzt wird, und die keinen nachteiligen Einfluß auf die Entwicklungsfähigkeit des Entwicklers ausüben. Als solche Verdickungsmittel kann eine Vielzahl von wasserlöslichen polymeren Verbindungen oder feine Silikatpulver verwendet werden. Bevorzugt sind natürliche oder synthetische, wasserlösliche Polymere.
Beispiele natürlicher Polymere sind Stärke, wie Süßkartoffelstärke, Kartoffelstärke, Tapiocastärke, Weizenstärke und Maisstärke; Polymere, erhalten aus Seetang, wie Karrageenmoos, Laminaran, Seetangmannan, Funorin, Irish-Moos, Agar und Natriumalginat; Pflanzenmucin, wie Tororo-Aoi-Mucin, Mannan, Quittensamenpektin, Tragantgummi, Karayagummi, Guarbohnengummi, Johannisbrotgummi, Gummi arabicum, Karobegummi und Benzoegummi; Mikroorganismenmucine, wie Homopolysaccharide (z.B. Dextran, Glucan und Levan) und Heteropolysaccharide (z.B. Succinoglucan und Xanthangummi); und Proteine, wie Leim, Gelatine, Kasein und Kollagen.
Beispiele für halbnatürliche (halbsynthetische), wasserlösliche Polymere umfassen zusätzlich zu Propylenglykolalginat, Fibrinderivate, wie Viskose, Methylzellulose, Ethylzellulose, Methylethylzellulose, Hydroxyethylzellulose, Carboxymethylzellulose, Hydroxypropylzellulose, Hydroxypropylmethylzellulose, Hydroxypropylethylzellulose und Hydroxypropylmethylzellulose und verarbeitete Stärken. Beispiele der verarbeiteten Stärken umfassen geröstete Stärken, wie weißes Dextrin, gelbes Dextrin und British Gummi; Enzym-modifizierte Dextrine, wie Enzymdextrin und Shardinger-Enzymdextrin; säurezersetzte Stärken, wie lösliche Stärke; oxidierte Stärken, wie Dialdehydstärke; Alphastärken, wie modifizierte Alphastärke und nicht-modifizierte Alphastärke, veresterte Stärken, wie Phosphatstärke, Fettsäurestärke, Sulfatstärke, Nitratstärke, Xanthogensäurestärke und Carbamidsäurestärke; veretherte Stärken, wie Carboxyalkylstärke, Hydroxyalkylstärke, Sulfoalkylstärke, Cyanoethylstärke, Allylstärke, Benzylstärke, Carbamylstärke und Dialkylaminostärke; vernetzte Stärke, wie Methylol-vernetzte Stärke, Hydroxyalkyl-vernetzte Stärke, Phosphorsäure-vernetzte Stärke und Dicarboxylsäure-vernetzte Stärke; und mit Stärke gepfropfte Copolymere, wie Stärkepolyacrylamidcopolymer, Stärkepolyacrylsäurecopolymer, Stärkepolyvinylacetatcopolymer, Stärkepolyacrylnitrilcopolymer, kationisches Stärkepolyacrylatcopolymer, kationisches Stärkevinylpolymercopolymer, Stärkepolystyrolmaleinsäurecopolymer und Stärkepolyethylenoxidcopolymer.
Beispiele für die synthetischen wasserlöslichen Polymere sind Polyvinylalkohol, modifizierte Polyvinylalkohole, wie Polyvinylalkohol, der teilweise als Acetal modifiziert ist, Allyl-modifizierter Polyvinylalkohol, Polyvinylmethylether, Polyvinylethylether und Polyvinylisobutylether; Polyacrylsäurederivate und Polymethacrylsäurederivate, wie Natriumpolyacrylat, teilweise verseiftes Polyacrylat, teilweise verseiftes Polyacrylatcopolymer, Polymethacrylsäuresalze und Polyacrylamid; Polyethylenglykol, Polyvinylpyrrolidon, Copolymer aus Polyvinylpyrrolidon und Vinylacetat, Carboxyvinylpolymer, Styrol-Maleinsäureanhydridcopolymer, Styrol- Crotonsäurecopolymer, Polystyrolsulfonsäuresalze und ein Polymer aus 2-Acrylamido-2-methylpropansulfonsäure, Copolymere daraus mit anderen Monomeren oder Salze davon. Unter diesen sind halbsynthetische und synthetische Polymere bevorzugt, da sie dem Entwickler eine Langzeitstabilität verleihen können. Diese wasserlöslichen polymeren Verbindungen können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Diese wasserlöslichen polymeren Verbindungen werden vorzugsweise in einer Menge verwendet, die erforderlich ist, um eine gewünschte Viskosität des Entwicklers zu erzielen, und die in der Praxis eingesetzte Menge variiert abhängig von dem Molekulargewicht der verwendeten polymeren Verbindung und dessen Löslichkeit in Wasser. Deshalb kann die Menge des wasserlöslichen Polymers nicht einheitlich definiert werden, aber sie liegt vorzugsweise in dem Bereich von 0,5 bis 20 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtgewicht des Entwicklers.

(iii) Zusammensetzung des Entwicklers

Die Zusammensetzung des Entwicklers kann variieren abhängig von den Arten der zu verarbeitenden PS-Platten. Typische Beispiele davon zum Entwickeln einer z.B. negativ arbeitenden PS-Platte, die sich im wesentlichen aus p-Diazodiphenylamin zusammensetzt, umfassen solche, die sich zusammensetzen aus Benzylalkohol, einem anionischen, oberflächenaktiven Mittel und einem wasserlöslichen Sulfit, wie in JP-A-56-42860 offenbart. Der in der Erfindung verwendete Entwickler umfaßt weiterhin das zuvor erwähnte Verdickungsmittel zusätzlich zu den vorgenannten Bestandteilen.
Wenn PS-Platten vom o-Chinondiazidtyp verarbeitet werden, ist die Zusammensetzung des Entwicklers nicht auf eine spezifische beschränkt, sofern er alkalisch ist, aber es ist bevorzugt, den pH auf nicht weniger als ungefähr 10,5 bei 25ºC einzustellen, wobei Faktoren berücksichtigt werden, wie die Verarbeitungszeit, die vollständige Auflösung oder das Entfernen der belichteten Bereiche.

a) Alkalisches Mittel

Beispiele von nützlichen, alkalischen Mitteln sind alkalische, anorganische Mittel, wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Ammoniumsilikat, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Kaliumhydroxid, Trinatriumphosphat, Dinatriumhydrogenphosphat, Trikaliumphosphat, Dikaliumhydrogenphosphat, Triammoniumphosphat, Diammoniumhydrogenphosphat, Natriummetasilikat, Natriumbicarbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat oder Ammoniumcarbonat; ein organisches, alkalisches Mittel, wie Mono-, Di- oder Triethanolamin oder Ammoniumtetraalkylhydroxid; und Ammoniumorganosilikat.
Am meisten bevorzugt sind Silikate. Die üblicherweise verwendete Menge reicht von ungefähr 0,5 bis ungefähr 10 Gew.-%, vorzugsweise von 1 bis 8 Gew.-%, und ganz besonders bevorzugt von 1 bis 6 Gew.-%, auf der Basis des Gesamtgewichts des Entwicklers.
Die Silikate werden durch die Formel dargestellt: SiO&sub2; x MO&sub2; (worin M ein Alkalimetall darstellt). Wenn das molare Verhältnis: SiO&sub2;/MO&sub2; klein wird, schreitet das Entwicklungsverfahren rascher voran. Insbesondere beträgt in den Verfahren zum Verarbeiten von lithographischen Druckplatten gemäß der Erfindung, worin Maßnahmen zum Fördern der Entwicklung, wie das Abreiben mit einer Bürste oder einem Schwamm nicht durchgeführt werden oder nur eine einfache, die Entwicklung fördernde Maßnahme ausgeführt wird, das molare Verhältnis vorzugsweise nicht mehr als 1,2. Zusätzlich, falls eine wasserlösliche, polymere Verbindung als Verdickungsmittel verwendet wird, verbraucht es manchmal Alkali. In einem solchen Fall ist es bevorzugt, die alkalischen Mittel zu ergänzen.

b) Oberflächenaktives Mittel

Weiterhin kann der Entwickler für PS-Platten mit einer lichtempfindlichen Schicht vom o-Chinondiazidtyp als oberflächenaktive Mittel enthalten anionische oder amphotere oberflächenaktive Mittel, wie Natriumalkylnaphthalinsulfonat, ein N-Tetradecyl-N,N-dihydroxyethylbetain, wie in JP-A-50-51324 offenbart, und ein nicht-ionisches, oberflächenaktives Mittel, wie Tetramethyldecindiol, wie in US-A-4,374,920 offenbart, um die Bildbereiche zu schützen und so eine zu starke Entwicklung zu verhindern.
Es ist weiterhin bevorzugt, einem solchen Entwicklertyp ein oberflächenaktives Mittel zuzusetzen, um die Benetzbarkeit der PS-Platte zu fördern. Beispiele für solche oberflächenaktive Mittel sind anionische, oberflächenaktive Mittel, wie Natriumalkyldiphenyletherdisulfonat und Natriumalkylsulfonate, aber besonders bevorzugt sind oberflächenaktive Mittel vom Fluortyp mit Perfluoralkylgruppen in dem Molekül.
Als solche oberflächenaktive Mittel von Fluortyp können erwähnt werden ein Mittel von anionischen Typ, wie Perfluoralkylcarboxylsäuresalze, Perfluoralkylsulfonsäuresalze oder Perfluoralkylphosphorsäuresalze; ein Mittel vom amphoterischen Typ, wie Perfluoralkylbetain; ein Mittel vom kationischen Typ, wie Perfluoralkyltrimethylammoniumsalze; und ein Mittel vom nicht-ionischen Typ, wie Perfluoralkylaminoxide, Perfluoralkylethylenoxidaddukte, Oligomere, enthaltend Perfluoralkylgruppen und hydrophile Gruppen, Oligomere mit Perfluoralkylgruppen und oleophilen Gruppen, Oligomere mit Perfluoralkyl-, hydrophilen und oleophilen Gruppen oder Urethane mit Perfluoralkylgruppen und oleophilen Gruppen. Diese oberflächenaktiven Mittel werden vorzugsweise in einer Menge verwendet, die zur Verringerung der Oberflächenspannung des Entwicklers auf einen bestimmten Wert erforderlich ist, aber die Menge davon liegt vorzugsweise zwischen 0,001 bis 3 Gew.-%, und besonders bevorzugt zwischen 0,003 und 0,5 Gew.-%, auf der Basis des Gesamtgewichts des Entwicklers.
Der in der vorliegenden Erfindung verwendete Entwickler kann weiterhin verschiedene andere oberflächenaktive Mittel enthalten, wie solche, beschrieben in US-A-374,920 und JP-A-50-51324, die bereits oben zitiert wurden, zusätzlich zu den vorgenannten oberflächenaktiven Mitteln.

c) Weitere Zusätze

Der in der Erfindung verwendete Entwickler kann die folgenden Zusätze für den Zweck der Verstärkung der Entwicklerqualität enthalten. Beispiele für solche Zusätze umfassen Neutralsalze, wie NaCl, KCl und KBr, wie offenbart in JP-A-58-75152; Komplexbildner, wie EDTA und NTA, wie offenbart in JP-A-58-190952; Komplexe, wie (Co(NH&sub3;)&sub6;)Cl&sub3; und CoCl&sub2; x 6 H&sub2;O, wie offenbart in JP-A-59-121336; kationische Polymere, wie das quaternäre Methylchloridprodukt von p-Dimethylaminomethylpolystyrol, wie offenbart in JP-A-55-95946; amphotere Polyelektrolyte, wie ein Copolymer aus Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und Natriumacrylat, wie offenbart in JP-A-56-142528; reduzierende organische Salze, wie Natriumsulfit, wie offenbart in JP-A-57-192952; anorganische Lithiumverbindungen, wie Lithiumchlorid, wie offenbart in JP-A-58-59444; Organolithiumverbindungen, wie Lithiumbenzoat, wie offenbart in JP-A-50-34442; organometallische, oberflächenaktive Mittel, enthaltend Si und Ti, wie offenbart in JP-A-59-75255; Organoborverbindungen, wie offenbart in JP-A-59-84241; quaternäre Ammoniumsalze, wie Tetraalkylaminoniumoxid, wie offenbart in EP-B-101,010; und organische Lösungsmittel, wie Benzylalkohol und Ethylenglykolmonophenylether.

II. PS-Platten

Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren verarbeiteten PS-Platten sind nicht auf spezielle beschränkt und typische Beispiele dafür umfassen solche, die sich zusammensetzen aus einer Aluminiumplatte mit einer darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht, bestehend aus einer Mischung aus einem Diazoharz (einem Salz eines Kondensationsprodukts von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd) und Schellack, wie offenbart in GB-A-1,350,521; negativ arbeitende PS-Platten, die sich zusammensetzen aus einer Aluminiumplatte mit einer darauf aufgebrachten, lichtempfindlichen Schicht, die aus einer Mischung aus einem Diazoharz und einem Polymer, das Hydroxyethylmethacrylateinheiten und Hydroxyethylacrylateinheiten als die wesentlichen, sich wiederholenden Einheiten umfaßt, besteht, wie offenbart in GB-A-1,460,978 und GB-A-1,505,739; positiv arbeitende PS-Platten, die sich zusammensetzen aus einer Aluminiumplatte mit einer darauf aufgebrachten, lichtempfindlichen Schicht, die aus einer o-Chinondiazidverbindung besteht; und negativ arbeitende PS-Platten umfassend eine lichtempfindliche Schicht, die im wesentlichen besteht aus einer o-Chinondiazidverbindung, wie in JP-A-56-14970 offenbart, die den negativ arbeitenden Effekt zeigen nach bildweiser Belichtung, Erwärmen, Belichten der Gesamtoberfläche mit Licht und Entwicklungsverarbeitung. Weiterhin können negativ arbeitende PS-Platten mit einer photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht oder einer photovernetzbaren, lichtempfindlichen Schicht ähnlich gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren behandelt werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren zum Verarbeiten von lithographischen Druckplatten wird unten ausführlich erläutert unter Bezugnahme auf eine PS-Platte, die sich zusammensetzt aus einem Substrat mit einer darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht, die eine o-Chinondiazidverbindung umfaßt, insbesondere als ein Beispiel eine o-Naphthochinondiazidverbindung.

(i) Substrat

Beispiele bevorzugter Substrate sind Metallplatten, wie Aluminium- (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink-, Zinn-, Kupfer- und Eisenplatten und Mischplatten daraus; Plastikfilme oder -folien, wie Zellulosediacetat-, Zellulosetriacetat-, Zellulosepropionat-, Zellulosebutyrat-, Zelluloseacetatbutyrat-, Zellulosenitrat-, Polyethylenterephthalat-, Polyethylen-, Polypropylen-, Polystyrol-, Polycarbonat- und Polyvinylacetalfilme oder -folien. Papier oder ein Plastikfilm, auf dem die vorgenannten Metalle abgelagert sind, oder mit denen ein Film aus dem zuvor Genannten Metall laminiert ist; und Verbundfolien, wie solche, die erhalten werden durch Binden eines Polyethylenterephthalatfilms an eine Aluminiumfolie. Besonders bevorzugt sind solche mit einer Aluminiumoberfläche wegen ihrer hohen Formbeständigkeit.
Die Oberfläche dieser Substrate wird im allgemeinen einer Oberflächenbehandlung unterzogen für die Zwecke, diese hydrophil zu machen, eine schädliche Reaktion mit dem darauf anschließend aufgebrachten, lichtempfindlichen Material zu verhindern, und die Adhaesion zwischen dem Substrat und der lichtempfindlichen Schicht zu steigern. Zum Beispiel wird ein Substrat mit einer Aluminiumoberfläche vorzugsweise mechanisch, chemisch oder elektrisch aufgerauht und dann in eine wäßrige Lösung von z.B. Natriumsilikat, Kaliumfluorzirkonat oder einem Phosphat eingetaucht, oder wird einer Eloxierbehandlung unterzogen. In diesem Zusammenhang kann die Eloxierbehandlung durchgeführt werden durch Durchleiten eines elektrischen Stroms durch eine Aluminiumplatte, die als eine Anode in einem Elektrolyt dient, der sich aus einer wäßrigen Lösung zusammensetzt, enthaltend ein oder mehrere anorganische Salze oder anorganische Säuren, wie Schwefelsäure, Chromsäure, Phosphorsäure und Borsäure; organische Säuren, wie Oxalsäure und Sulfamidsäure und Salzen davon. Die Verwendung von Silikat-Elektroablagerung, wie offenbart in US-A-3,658,662, ist ebenfalls in der vorliegenden Erfindung wirkungsvoll.
Spezifische Beispiele für solche Substrate sind eine Aluminiumplatte, die aufgerauht ist und dann in eine Lösung aus Natriumsilikat eingetaucht wird, wie offenbart US-A-2,714,066; eine Aluminiumplatte, die eloxiert ist und dann in eine Lösung aus einem Alkalimetallsilikat eingetaucht wird, wie offenbart in JP-A-47-5125; und ein Substrat, das elektrolytisch aufgerauht ist und dann eloxiert wird, wie offenbart in JP-A-46-27481, JP-A-52-58602 und JP-A-52-52-30503.

(ii) Lichtempfindliche Schicht

Die lichtempfindliche Schicht, die auf dem Substrat aufgebracht wird, wird vorzugsweise erhalten aus o-Naphthochinondiazidverbindungen, wie bereits oben erwähnt, und Beispiele dafür sind in einer Vielzahl von Veröffentlichungen beschrieben, wie in US-A-3,041,110; 3,046,111; 3,046,112; 3,046,115; 3,046,118; 3,046,119; 3,046,120; 3,046,121; 3,046,122; 3,046,123; 3,061,430; 3,162,809; 3,106,465; 3,635,709 und 3,647,443. Alle diese können wirkungsvoll in dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden. Besonders bevorzugt sind o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester von aromatischen Hydroxylverbindungen und o-Naphthochinondiazidosulfonsäureamide oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamide von aromatischen Aminverbindungen. Insbesondere ein Kondensationsprodukt aus Pyrogallol und Aceton, das mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure verestert ist, wie offenbart in US-A-3,635,709; ein Polyester mit einer Hydroxylgruppe an dem Ende, das mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert ist, wie offenbart in US-A-4,028,111; ein Homopolymer aus p-Hydroxystyrol oder ein Copolymer davon mit einem anderen copolymerisierbaren Monomer, das mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert ist, wie offenbart in GB-A-1,494,043.
Diese o-Naphthochinondiazidverbindungen können einzeln verwendet werden, aber es ist bevorzugt, diese in Kombination mit einem alkalilöslichen Harz zu verwenden. Beispiele hierfür umfassen Phenolharze vom Novolacktyp, insbesondere ein Phenol-Formaldehydharz, ein o-Cresol/Formaldehydharz und ein m-Cresol/Formaldehydharz. Es ist besonders bevorzugt, gleichzeitig ein Kondensat aus einem Phenol oder Cresol, substituiert mit Alkylgruppen mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen, und Formaldehyd zu verwenden, wie ein 1-Butylphenol/Formaldehydharz, zusätzlich zu dem vorgenannten Phenolharz, wie offenbart in JP-A-50-125806. Die Menge dieser verwendeten alkalilöslichen Harze reicht von ungefähr 50 bis ungefähr 85 Gew.-%, vorzugsweise von 60 bis 80 Gew.-%, auf der Basis des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Schicht.
Die lichtempfindliche Schicht umfaßt weiterhin Farbstoffe, Weichmacher, Bestandteile, die der Schicht je nach Bedarf Auskopiereigenschaften verleihen. Als solche Zusätze können sämtliche herkömmlich bekannten eingesetzt werden. Bevorzugte Beispiele für Farbstoffe sind solche, die in Alkoholen löslich sind, wie C.I. 26, 105 (Ölrot RR), C.I. 21, 260 (Öl-Scharlachrot #308), C.I. 74, 350 (Ölblau), C.I. 52, 015 (Methylenblau), C.I. 42, 555 (Kristallviolett), die dazu dienen, einen ausreichenden Kontrast zwischen Bildbereichen und nicht-Bildbereichen einer PS-Platte nach Belichtung und Entwicklung zu erzeugen. Diese Farbstoffe werden in einer Menge von nicht mehr als ungefähr 7 Gew.-% des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendet.
Beispiele für wirksame Weichmacher umfassen Phthalate, wie die Dimethylphthalat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Diisobutylphthalat, Dioctylphthalat, Octylcaprylphthalat, Dicyclohexylphthalat, Ditridecylphthalat, Butylbenzylphthalat, Diisodecylphthalat und Diarylphthalat; Glykolester, wie Dimethylglykolphthalat, Ethylphthalylethylglykolat, Methylphthalylethylglykolat, Butylphthalylbutylglykolat und Triethylenglykoldicaprylat; Phosphorsäureester, wie Tricresylphosphat und Triphenylphosphat; aliphatische dibasische Säureester, wie Diisobutyladipat, Dioctyladipat, Dimethylsebacat, Dibutylsebacat, Dioctylazelat und Dibutylmaleat; Polyglycidylmethacrylat, Triethylcitrat, Glycerintriacetylester und Butyllaurat. Diese Weichmacher werden im allgemeinen in einer Menge von nicht mehr als ungefähr 5 Gew.-% des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendet.
Die Bestandteile mit Auskopiereigenschaften sind Mittel oder Zusammensetzungen zum Erhalten eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach dem bildweisen Belichten der lichtempfindlichen Schicht einer PS-Platte. Beispiele hierfür sind ein pH-Indikator, wie solche, beschrieben in GB-A-1,041,463; eine Kombination von o-Naphthochinondiazido-4-sulfonylchlorid und einem Farbstoff, wie offenbart in US-A-3,969,118; und photochrome Verbindungen, wie offenbart in JP-A-44-6413. Alternativ ist es auch möglich, die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht zu verbessern durch Zusetzen von massivem Säureanhydrid zu der Schicht, wie offenbart in JP-A-52-80022.
Eine gewünschte lichtempfindliche Schicht kann erhalten werden durch Aufbringen einer Lösung aus der vorgenannten lichtempfindlichen Zusammensetzung in einem geeigneten Lösungsmittel auf die Oberfläche eines Substrats. Als bevorzugt verwendete Lösungsmittel können erwähnt werden Glykolether, wie Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, Methoxyethylacetat; Ketone, wie Aceton, Methylethylketon und Cyclohexanon; und chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie Ethylendichlorid. Die aufgetragene Menge der lichtempfindlichen Zusammensetzung liegt üblicherweise im Bereich von ungefähr 0,5 bis ungefähr 7 g/m² und vorzugsweise zwischen 1,0 bis 3 g/m².

III. Entwicklungsprozeß

Die positiv arbeitende PS-Platte wird durch eine Folie belichtet mit einer Lichtquelle, die reich an aktinischen Strahlen ist, wie eine Kohlenstoffbogenlampe, eine Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe oder eine Wolframlampe. Die belichteten Bereiche werden alkalilöslich gemacht durch eine solche Belichtung, und deshalb können die belichteten Bereiche mit einem Entwickler, d.h. einer Alkalilösung, herausgelöst werden.
In dem erfindungsgemäßen Verfahren kann die Zufuhr des Entwicklers zu der belichteten PS-Platte durchgeführt werden durch Injektion, Sprühen oder tropfenweises Zusetzen des Entwicklers zu der Oberfläche der Platte mit Hilfe einer Sprühröhre oder einer Düse; oder durch Beschichten der Oberfläche der Platte-mit dem Entwickler, der aus einem Entwicklervorratsbehälter bereitgestellt wird, der so angebracht ist, daß er gegebenenfalls in Kontakt mit der Oberfläche davon kommt.
Um den Entwickler der PS-Platte mit Hilfe eines Entwicklervorratsbehälters zuzuführen, der mit der Oberfläche der Platte in Kontakt kommt, kann ein Verfahren angewendet werden, umfassend das Abreiben der Oberfläche der Platte mit einer Einrichtung mit wasserabsorbierenden Eigenschaften, wie einem Schwamm oder Stoff; ein Verfahren, umfassend das Synchronisieren der Geschwindigkeit der beförderten PS-Platte und einer Walze, die aus einem nicht-wasserabsorbierenden Bestandteil hergestellt wurde, wie einem Gummi, oder einem Bestandteil mit wasserabsorbierenden Eigenschaften, wie der zuvor erwähnte Schwamm oder Stoff; oder ein Verfahren, umfassend das Verteilen des Entwicklers mit einem Drahthindernis.
Andererseits, falls der Entwickler der PS-Platte durch einen Entwicklervorratsbehälter zugeführt wird, der nicht so angebracht ist, daß er in Kontakt mit der Oberfläche der Platte kommt, kann ein Verfahren angewendet werden, umfassend das Durchleiten der PS-Platte durch einen dünnen Spalt, in dem der Entwickler gelagert wird; ein Verfahren, umfassend das Inkontaktbringen der Oberfläche der Platte mit dem Entwickler, der in der Form eines Tropfens aus dem Entwicklervorratsbehälter bereitgestellt wird aufgrund der Oberflächenspannung; oder ein Verfahren, umfassend das Durchleiten durch einen Schlitz, der auf beiden Seiten eines zylindrischen Behälters für den Entwickler ausgebildet ist. Alternativ ist ein Verfahren zur Behandlung der Rückseite der PS-Platte vom zweiseitigen Typ sehr vorteilhaft, umfassend das Ausleiten des Entwicklers durch einen dünnen Spalt, der auf der Oberfläche eines zylindrischen Behälters für den Entwickler ausgebildet ist, während die PS-Platte über die Oberfläche davon horizontal befördert wird, um den Entwickler zuzuführen. Wenn solche PS-Platten vom beidseitigen Typ entwickelt werden, können die beiden Seiten durch den gleichen oder verschiedene Entwicklervorratsbehälter entwickelt werden. Ähnlich können auch beide Seiten mit dem gleichen oder verschiedenen Entwicklern entwickelt werden. Das erfindungsgemäße Verfahren kann vorzugsweise angewendet werden, wenn eine positiv arbeitende PS-Platte und eine negativ arbeitende PS-Platte mit dem gleichen Entwickler verarbeitet werden.
Weiterhin ist das erfindungsgemäße Verfahren vorteilhaft anzuwenden, wenn die PS-Platten vertikal angeordnet sind und aufwärts oder abwärts oder nach links oder rechts befördert werden, da der Entwickler auf den Oberflächen leicht beibehalten werden kann.
Die Menge des gemäß diesen Verfahren zugeführten Entwicklers reicht von 30 bis 500 ml und vorzugsweise von 50 bis 200 ml pro Quadratmeter der verarbeiteten PS-Platte.
In dem erfindungsgemäßen Verfahren wird vorzugsweise das Wegwerfentwicklersystem angewendet. Deshalb ist es wünschenswert, daß der der Oberfläche der PS-Platte zugeführte Entwickler abgeschabt wird, um ihn zu verwerfen, nachdem er auf der Oberfläche der Platte für eine konstante Zeitspanne beibehalten wurde.
Die so entwickelten PS-Platten werden anschließend herkömmlichen Verfahren unterzogen, wie das Waschen mit Wasser, Retuschier- und Gummierverfahren, um die lithographische Druckplatte zu vervollständigen, wie bei der herkömmlichen Verarbeitung der PS-Platten.
Das erfindungsgemäße Verfahren macht - es möglich, eine geringe Menge eines Entwicklers gleichmäßig auf beiden Oberflächen einer PS-Platte in dem Wegwerfentwicklersystem zu halten, und deshalb wird es möglich, den Entwicklungsprozeß durchzuführen, bei dem selbst die Rückseite der PS-Platte gleichmäßig entwickelt wird. Weiterhin ermöglicht das erfindungsgemäße Verfahren auch die Durchführung einer gleichmäßigen Entwicklung mit Hilfe einer geringen Menge an einem Entwickler oder schließlich an einer Menge, die für die Entwicklung gerade erforderlich ist. Weiterhin, sobald der Entwickler der Oberfläche der PS-Platte gleichmäßig zugeführt worden ist, erlaubt das erfindungsgemäße Verfahren, den Entwickler gleichmäßig auf der Platte beizubehalten, ohne eine komplizierte Einrichtung zu verwenden, oder unter Verwendung einer einfachen Einrichtung, und deshalb ist die Instandhaltung der Einrichtung sehr einfach, und der Entwicklungsprozeß kann beständig ohne jegliche Probleme durchgeführt werden, selbst wenn die automatische Entwicklermaschine über einen langen Zeitraum betrieben wird.
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden durch die Bezugnahme auf die folgenden Beispiele ausführlicher erläutert.
Die durch die Erfindung praktisch erzielten Effekte werden ebenfalls im Vergleich zu Vergleichsbeispielen diskutiert.

Beispiele 1 bis 6 und Vergleichsbeispiel 1

Eine aufgerauhte 2S-Aluminiumplatte wurde für 1 Minute in eine Lösung aus Natriumhydroxid mit einer Konzentration von 2 Gew.-%, die bei 40ºC gehalten wurde, eingetaucht, um die Ätzung der Aluminiumplatte durchzuführen. Nach Waschen der geätzten Platte wurde die Platte in eine Schwefelsäure/Chromsäure-Mischung für 1 Minute eingetaucht, um die reine Aluminiumoberfläche davon zu exponieren. Dann wurde die Platte in 20 Gew.-% Schwefelsäure, die bei 30ºC gehalten wurde, eingetaucht, um die Eloxierung bei einer DC-Spannung von 1,5 V und einer Stromdichte von 2 A/dm² für 2 Minuten durchzuführen, gefolgt von Waschen mit Wasser und Trocknen. PS-Platten wurden hergestellt durch Auftragen einer Lösung aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung auf die so behandelte Aluminiumplatte in einer Menge von 2 g/m² (Gewicht nach dem Trocknen) und dann Trocknen. Bestandteil Menge (g) Naphthochinon-1,2-diazido(2)-5-sulfonat aus Aceton/Pyrogallolharz (synthetisiert nach einem in Beispiel 1 von US-A-3,635,709 offenbarten Verfahren) t-Butylphenol/Formaldehydharz (PS-50530; erhältlich von Sumitomo Jurays Co., Ltd.) Cresol/Formaldehydharz (Hitanol #3110; erhältlich von Hitachi Chemical Co., Ltd.) Methylethylketon Cyclohexanon
Die so erhaltene PS-Platte wurde für 30 Sekunden einem Licht aus einer 3 kW-Metallhalogenidlampe (PLANO PS LIGHT, ausgestattet mit einer Lichtquelle: Toshiba Metallhalogenidlampe MU 2000-2-OL-Typ; erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) in einem Abstand von 1 m innerhalb eines Vakuumdruckrahmens exponiert.
Dann wurden die in Tabelle I aufgelisteten Entwickler A bis G hergestellt; und deren Viskosität wurde mit Hilfe eines Viskometers vom B-Typ ermittelt.
Dann wurde eine automatische Entwicklermaschine des horizontalen Beförderungstyps bereitgestellt, die mit einem Drahthindernis als einem Verteilungsmittel ausgestattet war, wie offenbart in JP-A-62-59957. Jeder Entwickler A bis G wurde auf die Oberfläche der exponierten PS-Platte aufgebracht, deren lichtempfindliche Schicht nach oben in einer Menge von ungefähr 200 ml pro Quadratmeter der Platte angeordnet war. Nach 40 Sekunden wurde der Entwickler auf der Platte mit einem Paar Druckrollen ausgepreßt. Die Platte wurde dann in einem anschließenden Waschbad mit Wasser gewaschen, und die Platte wurde daraufhin untersucht, ob es eine ungleichmäßige Entwicklung gab oder nicht. Die beobachteten Ergebnisse sind in Tabelle I zusammengefaßt. Der Entwickler A konnte nicht gleichmäßig auf der Oberfläche der Platte gehalten werden, und die Bereiche, an denen die Dicke des Entwicklers dünn war, konnten nicht vollständig entwickelt werden.
Wenn der Entwickler G verwendet wurde, konnte er gleichmäßig auf der Platte gehalten werden, aber etwas kontaminierter Entwickler haftete selten an den Druckrollen, der manchmal auf die anschließend behandelten Platten übertragen wurde.
Wenn die Entwickler B bis F verwendet wurden, konnten in jedem Fall gute Ergebnisse erhalten werden. Tabelle I Beispiel Nr. Entwickler Bestandteil an Entwickler (g) Methylzellulose *) 1K Kaliumsilikat 48 Gew.-% wäßr. Lösg. aus Kaliumhydroxid Wasser Viskosität Entwicklung *Erhältlich von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., unter dem Warenzeichen METOLOSE 65SH50. Bestimmungskriterien für "Entwicklung": +: ungleichmäßig -: gleichmäßig

Beispiele 7 bis 12

Eine PS-Platte vom zweiseitigen Typ wurde hergestellt, indem beide Seiten einer Aluminiumplatte behandelt wurden und lichtempfindliche Schichten wie in Beispielen 1 bis 6 aufgebracht wurden. Beide Seiten der PS-Platte wurden bildweise mit Licht wie in Beispielen 1 bis 6 belichtet.
Dann wurde in das zweite Bad einer automatischen Entwicklermaschine des Einwegentwicklungssystems vom Typ mit horizontaler Beförderung, wie offenbart in Beispiel 1 von JP-A-62-59958, mit 8 l einer Spüllösung mit der folgenden Formulierung, die achtfach verdünnt worden war, geladen. Formulierung der Spüllösung 85 Gew.-% wäßrige Lösung von Phosphorsäure Natriumhydroxid Natriumdioctylsulfosuccinat Natriumdodecyldiphenyletherdisulfonat Silikon-Antischäumungsmittel Wasser
Die PS-Platte vom zweiseitigen Typ wurde mit den oben hergestellten Entwicklern A bis G in der automatischen Entwicklermaschine entwickelt. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle II zusammengefaßt. Die Entwickelbarkeit der oberen Fläche davon war hinsichtlich dieser Entwickler vollständig gleich zu der in Beispiel 1 bis 6 beobachteten.
Wenn der Entwickler A auf die Rückseite der Platte aufgebracht wird, tropfte der Entwickler von der Platte und viele Bereich davon waren nicht entwickelt. Wenn der Entwickler B verwendet wurde, wurde eine befriedigende Entwicklung beobachtet, obwohl ein Teil des Entwicklers abtropfte.
Die Entwickler C bis G wurden gleichmäßig auf der Rückseite der Platte gehalten und stellten recht befriedigende Ergebnisse dar. In dieser Hinsicht, falls der Entwickler G verwendet wurde, wurde beobachtet, daß kontaminierende Produkte auf die Druckrollen übertragen wurden, wie in Beispiel 6. Tabelle II Beispiel Nr. Entwickler Viskosität Entwicklung von der oberen Fläche Ungleichmäßigkeit des Entwicklers auf der Rückseite Die Bestimmungskriterien einer ungleichen Entwicklung sind die gleichen wie oben beschrieben in Verbindung mit Tabelle I. Die Kriterien der "Ungleichmäßigkeit des Entwicklers auf der Rückseite" sind wie folgt: x: schlecht; y: zulässig; z: gut

Claims

1. Verfahren zum Herstellen einer lithographischen Druckplatte, welches umfaßt:

(a) Entwickeln einer bildweise belichteten vorsensibilisierten Platte umfassend ein Metallsubstrat mit lichtempfindlichen Schichten auf beiden Oberflächen des Substrats, durch gleichzeitiges Auftragen eines frischen wäßrigen alkalischen Entwicklers auf jede Oberfläche der bildweise belichteten lichtempfindlichen Schicht, während die vorsensibilisierte Platte horizontal transportiert wird, Beibehalten des aufgetragenen Entwicklers in einem Zeitraum, der ausreichend ist, um entweder die belichteten oder die unbelichteten Stellen der lichtempfindlichen Schicht zu entfernen, und

(b) Entfernen des aufgetragenen Entwicklers und Beseitigen des entfernten Entwicklers, der nicht wiederverwendet wird,

worin der auf beide Oberflächen der lichtempfindlichen Schichten aufgetragene Entwickler eine Viskosität im Bereich von 0,005 bis 10 Pa.s (5 bis 10.000 cps) bei 25ºC hat.

2. Verfahren nach Anspruch 1, worin das System zur Entwicklung ein Einwegentwicklungssystem ist.

3. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Viskosität des Entwicklers im Bereich von 0,05 bis 5 Pa.s (50 bis 5.000 cps) liegt.

4. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Viskosität des Entwicklers durch die Zugabe von mindestens einem Verdickungsmittel eingestellt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1, worin der Entwickler oberflächenaktive Mittel, organische Lösungsmittel, alkalische Mittel, anorganische Salze und Verdickungsmittel umfaßt.

6. Verfahren nach Anspruch 4, worin das Verdickungsmittel mindestens eine wasserlösliche Polymerverbindung oder ein feines Silicatpulver ist.

7. Verfahren nach Anspruch 6, worin das Verdickungsmittel mindestens ein natürliches oder synthetisches wasserlösliches Polymer ist.

8. Verfahren nach Anspruch 7, worin das Verdickungsmittel mindestens ein natürliches Polymer ist und gewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Süßkartoffelstärke, Kartoffelstärke, Tapiocastärke, Weizenstärke und Maisstärke; Carrageen, Laminaran, Meerespflanzen-Mannan, Funorin, Irischem Moos, Agar und Natriumalginat; Tororo-aoi-Mucin, Mannan, Quittensamengummi, Pectin, Tragantgummi, Karaya-Gummi, Guarbohnengummi, Johannisbrotgummi (locust bean gum,), Gummi arabicum, Carobingummi (Johannisbrotgummi, carob gum) und Benzoingummi; Dextran, Glucan und Lävan; Succinoglucan und Xanthanlösung; Leim, Gelatine, Casein und Collagen.

9. Verfahren nach Anspruch 7, worin das Verdickungsmittel mindestens ein halbnatürliches wasserlösliches Polymer ist und gewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Propylenglycolalginat, Viscose, Methylcellulose, Ethylcellulose, Methylethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxypropylethylcellulose und Hydroxypropylmethylcellulose und verarbeiteten Stärken.

10. Verfahren nach Anspruch 9, worin die verarbeitete Stärke gewählt wird aus weißem Dextrin, gelbem Dextrin und Britischgummi; Enzymdextrin und Shardinger-Enzymdextrin; löslicher Stärke; Dialdehydstärke; modifizierter Alphastärke und nichtmodifizierter Alphastärke; Phosphatstärke, Fettsäurestärke, Sulfatstärke, Nitratstärke, Xanthogensäurestärke und Carbaminsäurestärke; Carboxyalkylstärke, Hydroxyalkylstärke, Sulfoalkylstärke, Cyanoethylstärke, Allylstärke, Benzylstärke, Carbamylstärke und Dialkylaminostärke; Methylol-vernetzter Stärke, Hydroxyalkyl-vernetzter Stärke, Phosphorsäurevernetzter Stärke und Dicarbonsäure-vernetzter Stärke, Stärke-Polyacrylamid-Copolymer, Stärke-Polyacrylsäure- Copolymer, Stärke-Polyvinylacetat-Copolymer, Stärke- Polyacrylnitril-Copolymer, kationische Stärke-Polyacrylat-Copolymer, kationische Stärke-Vinylpolymer- Copolymer, Stärke-Polystyrol-Maleinsäure-Copolymer und Stärke-Polyethylenoxid-Copolymer.

11. Verfahren nach Anspruch 7, worin das Verdickungsmittel mindestens ein synthetisches wasserlösliches Polymer ist und gewählt wird aus Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohol, der teilweise mit Acetal modifiziert ist, Allylmodifiziertem Polyvinylalkohol, Polyvinylmethylether, Polyvinylethylester und Polyvinylisobutylether; Natriumpolyacrylat, teilweise verseiftem Polyacrylat, teilweise verseiftem Polyacrylatcopolymer, Polymethacrylsäuresalzen und Polyacrylamid; Polyethylenglycol, Polyvinylpyrrolidon, Copolymer aus Polyvinylpyrrolidon und Vinylacetat, Carboxyvinylpolymer, Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymer, Styrol-Crotonsäure-Copolymer, Polystyrolsulfonsäuresalzen und Polymer von 2-Acrylamido-2-methylpropansulfonsäure, Copolymeren davon mit anderen Monomeren oder Salzen davon.

12. Verfahren nach Anspruch 7, worin das Verdickungsmittel ein halbsynthetisches und/oder synthetisches Polymer ist.

13. Verfahren nach Anspruch 4, worin die Menge des Verdickungsmittels im Bereich von 0,5 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.

14. Verfahren nach Anspruch 1, worin der pH des Entwicklers bei 25ºC nicht weniger als etwa 10,5 ist.

15. Verfahren nach Anspruch 1, worin der Entwickler Silicate umfaßt und deren Menge im Bereich von 1 bis 8 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.

16. Verfahren nach Anspruch 15, worin das Silicat durch die Formel SiO&sub2; . MO&sub2; dargestellt wird (worin M ein Alkalimetall ist) und das Molverhältnis von SiO&sub2;/MO&sub2; nicht mehr als 1,2 beträgt.

17. Verfahren nach Anspruch 5, worin das oberflächenaktive Mittel gewählt wird aus oberflächenaktiven Mitteln vom Fluortyp mit Perfluoralkylgruppen im Molekül.

18. Verfahren nach Anspruch 17, worin das oberflächenaktive Mittel vom Fluortyp mit Perfluoralkylgruppen im Molekül gewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Perfluoralkylcarbonsäuresalzen, Perfluoralkylsulfonsäuresalzen oder Perfluoralkylphosphorsäuresalzen; Perfluoralkylbetain; Perfluoralkyltrimethylammoniumsalzen; Perfluoralkylaminoxiden, Perfluoralkylethylenoxidaddukten, Oligomeren, die Perfluoralkylgruppen und hydrophile Gruppen enthalten, Oligomeren mit Perfluoralkylgruppen und oleophilen Gruppen, Oligomeren mit Perfluoralkyl-, hydrophilen und oleophilen Gruppen oder Urethanen mit Perfluoralkylgruppen und oleophilen Gruppen.

19. Verfahren nach Anspruch 5, worin die Menge des oberflächenaktiven Mittels im Bereich von 0,001 bis 3 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, liegt.