DE68916451T2 - Optisches Projektionssystem. - Google Patents

Optisches Projektionssystem.

Info

Publication number
DE68916451T2
DE68916451T2 DE68916451T DE68916451T DE68916451T2 DE 68916451 T2 DE68916451 T2 DE 68916451T2 DE 68916451 T DE68916451 T DE 68916451T DE 68916451 T DE68916451 T DE 68916451T DE 68916451 T2 DE68916451 T2 DE 68916451T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
lens
lenses
optical system
projection optical
symbol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE68916451T
Other languages
English (en)
Other versions
DE68916451D1 (de
Inventor
Nobuhiro Araki
Koichi Kawata
Keisuke Koga
Noboru Nomura
Takeo Sato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP4234989A external-priority patent/JPH02220015A/ja
Priority claimed from JP1042381A external-priority patent/JPH0748089B2/ja
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Publication of DE68916451D1 publication Critical patent/DE68916451D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE68916451T2 publication Critical patent/DE68916451T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/18Optical objectives specially designed for the purposes specified below with lenses having one or more non-spherical faces, e.g. for reducing geometrical aberration
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/24Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)

Description

    HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Diese Erfindung bezieht sich auf ein optisches Projektionssystem im allgemeinen und auf ein optisches Projektionssystein für Photolithographie, das zur Herstellung integrierter Schaltungen, hochintegrierter Schaltungen oder anderer Halbleitervorrichtungen verwendet wird, im besonderen.
  • Bei der Herstellung von Halbleitervorrichtungen, wie beispielsweise integrierter Schaltungen, wird mittels Photolithographie ein Bild von einer Photomaske auf eine sich ergebende Struktur auf einem Halbleiter-Wafer übertragen. Eine solche Photolithographie beinhaltet im allgemeinen ein Belichtungsverfahren, bei dem ein Halbleiter-Wafer Licht ausgesetzt wird, das Informationen über eine Maskenstruktur aufweist. Zum Durchführen des Belichtungsverfahrens werden optische Projektionssysteme verwendet.
  • Im allgemeinen sind übertragene Maskenstrukturen sehr fein, so daß optische Projektionssysteme mit hoher Auflösung erforderlich sind. Die hohe Auflösung erfordert eine große numerische Apertur des optischen Projektionssystems und auch eine im Belichtungsfeld im wesentlichen bei null liegende Aberration des optischen Projektionssystems. Zusätzlich ist es, da, um zum Vollenden einer zusammengesetzten Maskenstruktur verschiedene Maskenstrukturen in überlappender Weise auf einen Halbleiter-Wafer zu übertragen, eine Vielzahl von Belichtungsschritten nacheinander durchgeführt wird, erforderlich, daß das optische Projektionssystem eine sehr kleine Verzeichnung aufweist.
  • Die Veröffentlichung der geprüften japanischen Patentanmeldung 57-12 966 offenbart ein optisches Projektionssystem, das eine g-Linien- und eine i-Linien-Lichtquelle verwendet. Dieses dem Stand der Technik entsprechende Projektionssystem erfordert im allgemeinen eine große Zahl dicker Linsen.
  • Die Veröffentlichung der ungeprüften japanischen Patentanmeldung 60-28 613 offenbart ein optisches Projektionssystem, das einen Excimer-Laser als Lichtquelle verwendet. Darüberhinaus wird das Laserlicht bei diesem dem Stand der Technik entsprechenden optischen Projektionssystem zu einem hohen Anteil durch Linsen des Systems absorbiert, wenn ein ArF-Excimer-Laser verwendet wird.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Es ist Aufgabe der Erfindung, ein hervorragendes optisches Projektionssystem für Photolithographie zu schaffen, wie es in den Patentansprüchen 1 und 4 definiert ist.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Fig. 1 ist eine Schnittansicht eines einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung entsprechenden optischen Projektionssystems.
  • Fig. 2(a) ist ein Diagramm, das die sphärische Aberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 1 zeigt.
  • Fig. 2(b) ist ein Diagramm, das den Astigmatismus des optischen Projektionssystems nach Fig. 1 zeigt.
  • Fig. 2(c) ist ein Diagramm, das die Verzeichnung des optischen Projektionssystems nach Fig. 1 zeigt.
  • Fig. 3(a) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen eine Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 1 zeigt.
  • Fig. 3(b) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 1 zeigt.
  • Fig. 3(c) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 1 zeigt.
  • Fig. 3(d) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 1 zeigt.
  • Fig. 4 ist eine Schnittansicht eines einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung entsprechenden optischen Projektionssystems.
  • Fig. 5(a) ist ein Diagramm, das die sphärische Aberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 5(b) ist ein Diagramm, das den Astigmatismus des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 5(c) ist ein Diagramm, das die Verzeichnung des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 6(a) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen eine Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 6(b) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 6(c) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 6(d) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 7 ist ein Diagramm, das die Beziehung zwischen der Modulationsübertragungsfunktion und der Ortsfrequenz des optischen Projektionssystems nach Fig. 4 zeigt.
  • Fig. 8 ist eine Schnittansicht eines einem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung entsprechenden optischen Projektionssystems.
  • Fig. 9(a) ist ein Diagramm, das die sphärische Aberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 8 zeigt.
  • Fig. 9(b) ist ein Diagramm, das den Astigmatismus des optischen Projektionssystems nach Fig. 8 zeigt.
  • Fig. 9(c) ist ein Diagramm, das die Verzeichnung des optischen Projektionssystems nach Fig. 8 zeigt.
  • Fig. 10(a) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen eine Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberratlon des optischen Projektionssystems nach Fig. 8 zeigt.
  • Fig. 10(b) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 8 zeigt.
  • Fig. 10(c) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. B zeigt.
  • Fig. 10(d) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 8 zeigt.
  • Fig. 11 ist eine Schnittansicht eines einem vierten Ausführungsbeispiel der Erfindung entsprechenden optischen Projektionssystems.
  • Fig. 12(a) ist ein Diagramm, das die sphärische Aberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 11 zeigt.
  • Fig. 12(b) ist ein Diagramm, das den Astigmatismus des optischen Projektionssystems nach Fig. 11 zeigt.
  • Fig. 12(c) ist ein Diagramm, das die Verzeichnung des optischen Projektionssystems nach Fig. 11 zeigt.
  • Fig. 13(a) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen eine Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 11 zeigt.
  • Fig. 13(b) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 11 zeigt.
  • Fig. 13(c) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 11 zeigt.
  • Fig. 13(d) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 11 zeigt.
  • Fig. 14 ist eine Schnittansicht eines einem fünften Ausführungsbeispiel der Erfindung entsprechenden optischen Projektionssystems.
  • Fig. 15(a) ist ein Diagramm, das die sphärische Aberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 14 zeigt.
  • Fig. 15(b) ist ein Diagramm, das den Astigmatismus des optischen Projektionssystems nach Fig. 14 zeigt.
  • Fig. 15(c) ist ein Diagramm, das die Verzeichnung des optischen Projektionssystems nach Fig. 14 zeigt.
  • Fig. 16(a) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen eine Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 14 zeigt.
  • Fig. 16(b) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 10,60 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 14 zeigt.
  • Fig. 16(c) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende meridionale Transversalaberration des optischen Projektionssystems nach Fig. 14 zeigt.
  • Fig. 16(d) ist ein Diagramm, das die bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe 0 mm ist, auftretende sagittale Transversalaberratian des optischen Projektionssystems nach Fig. 14 zeigt.
  • BESCHREIBUNG DES ERSTEN BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS
  • Gemäß Fig. 1 enthält ein einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung entsprechendes optisches Projektionssystem eine erste Linse 1, eine auf die erste Linse 1 folgende zweite Linse 2 und eine auf die zweite Linse 2 folgende dritte Linse 3. Auf die dritte Linse 3 folgt eine Gruppe 4 vierter Linsen 4a, 4b und 4c. Die Linse 4a der Gruppe 4 folgt unmittelbar auf die dritte Linse 3. Innerhalb der Gruppe 4 geht die Linse 4a der Linse 4b voran, und die Linse 4c folgt auf die Linse 4b. Einfallende Strahlen gehen nacheinander durch die erste Linse 1, die zweite Linse 2, die dritte Linse 3 und die Gruppe der vierten Linsen 4. Diese Linsen 1 bis 4c werden durch (nicht gezeigte) bekannte Vorrichtungen so gehalten, daß sie eine gemeinsame optische Achse haben.
  • Die erste Linse 1 hat einen negativen Brechwert. Die zweite Linse 2 hat einen negativen Brechwert. Die dritte Linse 3 hat einen positiven Brechwert. Die vierten Linsen 4a bis 4c haben jeweils einen positiven Brechwert. Die Gruppe der vierten Linsen 4 hat einen positiven Brechwert.
  • Vorzugsweise ist mindestens eine der Flächen der Linsen 1 bis 4c nichtsphärisch. Vorzugsweise sind die folgenden Bedingungen (1), (2) und (3) erfüllt:
  • 4f < f3 < 20f
  • (2) 0,65 < (f4/d34) < 1,40
  • (3) 10f < R5
  • wobei das Zeichen "f" die Brennweite des optischen Projektionssystems, das Zeichen "f3" die Brennweite der dritten Linse 3, das Zeichen "f4" die Brennweite der Gruppe der vierten Linsen 4, das Zeichen "d34" den Abstand zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse 3 und dein vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen 4 und das Zeichen "R5" den Krümmungsradius der vorderen Oberfläche der dritten Linse 3 bezeichnet.
  • Zum Bezeichnen der Kenngrößen der Linsen 1 bis 4c und der Beziehungen zwischen den Linsen 1 bis 4c werden zahlreiche Zeichen eingeführt. Die Krümmungsradien der vorderen und der rückseitigen Oberfläche der ersten Linse 1 werden jeweils durch die Zeichen R1 und R2 bezeichnet. Die Krümmungsradien der vorderen und der rückseitigen Oberfläche der zweiten Linse 2 werden jeweils durch die Zeichen R3 und R4 bezeichnet. Die Krümmungsradien der vorderen und der rückseitigen Oberfläche der dritten Linse 3 werden jeweils durch die Zeichen R5 und R6 bezeichnet. Die Krümmungsradien der vorderen und der rückseitigen Oberfläche der Linse 4a werden jeweils durch die Zeichen R7 und R8 bezeichnet. Die Krümmungsradien der vorderen und der rückseitigen Oberf läche der Linse 4b werden jeweils durch die Zeichen R9 und R10 bezeichnet. Die Krümmungsradien der vorderen und der rückseitigen Oberfläche der Linse 4c werden jeweils durch die Zeichen R11 und R12 bezeichnet.
  • Die Dicke der ersten Linse 1 wird durch das Zeichen d1 bezeichnet. Die Dicke der zweiten Linse 2 wird durch das Zeichen d3 bezeichnet. Die Dicke der dritten Linse 3 wird durch das Zeichen d5 bezeichnet. Die Dicke der Linse 4a wird durch das Zeichen d7 bezeichnet. Die Dicke der Linse 4b wird durch das Zeichen d9 bezeichnet. Die Dicke der Linse 4c wird durch das Zeichen dll bezeichnet. Es sei angemerkt, daß die Linsendicken d1, d3, d5, d7, d9 und d11 entlang der optischen Achse gemessen sind.
  • Der Abstand zwischen der rückseitigen Oberfläche der ersten Linse 1 und der vorderen Oberfläche der zweiten Linse 2 wird durch das Zeichen d2 bezeichnet. Der Abstand zwischen der rückseitigen Oberfläche der zweiten Linse 2 und der vorderen Oberfläche der dritten Linse 3 wird durch das Zeichen d4 bezeichnet. Der Abstand zwischen der rückseitigen Oberfläche der dritten Linse 3 und der vorderen Oberfläche der Linse 4a wird durch das Zeichen d6 bezeichnet. Der Abstand zwischen der rückseitigen Oberfläche der Linse 4a und der vorderen Oberfläche der Linse 4b wird durch das Zeichen d8 bezeichnet. Der Abstand zwischen der rückseitigen Oberfläche der Linse 4b und der vorderen Oberfläche der Linse 4c wird durch das Zeichen d10 bezeichnet. Es sei angemerkt, daß diese Abstände d2, d4, d6, d8 und d10 entlang der optischen Achse gemessen sind.
  • Die Brechungsindizes von Glasmaterial der Linsen 1, 2, 3, 4a, 4b und 4c werden jeweils durch die Zeichen n1, n2, n3, n4, n5 und n6 bezeichnet. Diese Brechungsindizes nl bis n6 werden bezüglich Licht, das eine Wellenlänge von 193 nm hat, bestimmt.
  • Bei einem Beispiel des optischen Projektionssystems dieses Ausführungsbeispiels sind die Linsen 1, 2, 3, 4a, 4b und 4c so konstruiert, daß die vorgenannten Linsenparameter folgende Werte haben.
  • wobei das Zeichen "*" darauf hinweist, daß die zugehörige Fläche nichtsphärisch ist, und die Radien R1 bis R12 und die Dicken und Abstände dl bis dll in Einheiten von mm dargestellt sind.
  • Die nichtsphärischen Oberflächen (R3, R5 und R12) der Linsen 2, 3 und 4c sind folgendermaßen konstruiert. Allgemein sind die Kenngrößen einer nichtsphärischen Fläche durch folgende bekannte Gleichung definiert.
  • wobei das Zeichen Z(h) die Deformationsgröße (sag guantity), das Zeichen "h" den Abstand von der optischen Achse, das Zeichen R den Krümmungsradius, das Zeichen K den Kegelkoeffizienten und die Zeichen A, B, C und D nichtsphärische Oberflächenkoeffizienten bezeichnen.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R3) der Linse 2 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R3: K = -0,03608 A = 2,014E-10 B -2,302E-15 C = 4,023E-20 D = 2,721E-24
  • wobei das Zeichen E einen Exponenten bezeichnet, und "E-N" bedeutet, daß der "E-N" vorangehende Wert mit 10-N multipliziert wird.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R5) der Linse 3 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R5: K = 5,661 A = -8,343E-10 B = 2,499E-16 C = 2,187E-21 D = -3,910E-23
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberflache (R12) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R12: K = 1,810 A = 1,213E-9 B = -2,094E-14 C = 4,809E-18 D = -9,969E-23
  • Das vorstehende Beispiel des optischen Projektionssystems hat die folgenden Eigenschaften. Unter Bedingungen, bei denen Licht mit einer Wellenlänge &lambda; von 193 nm verwendet wird und eine Bildhöhe Y gleich 10,60 mm ist, beträgt die Brennweite "f" des optischen Projektionssystems 100mm; ist die numerische Apertur N.A. des optischen Projektionssystems 0,45; ist die Vergrößerung des optischen Projektionssystems 1/5; beträgt die Brennweite f3 der dritten Linse 3 1382,40 mm; und liegt das Verhältnis "f4/d34" zwischen der Brennweite f4 der Gruppe der vierten Linsen 4 und dem Abstand d34 zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse 3 und dein vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen 4 bei 1,129.
  • Fig. 2(a), Fig. 2(b) und Fig. 2(c) zeigen jeweils die sphärische Aberration, den Astigmatismus und die Verzeichnung des vorstehenden Beispiels des optischen Projektionssystems.
  • Fig. 3(a) und Fig. 3(b) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des vorstehenden Beispiels des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 10,60 mm ist. Fig. 3(c) und Fig. 3(d) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des vorstehenden Beispiels des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 0 mm ist.
  • Die erste Linse 1 und die zweite Linse 2 haben die Wirkung, daß sie eine Korrektur erreichen, die die Petzvalsche Summe auf einen Wert nahe null bringt. Die dritte Linse 3 und die Gruppe der vierten Linsen 4 sind zur Bildung einer dioptrischen Schmidtoptik konstruiert, die die Koma und die sphärische Aberration des optischen Projektionssystems korrigiert. Diese korrigierenden Anordnungen und das Vorhandensein von mindestens einer nichtsphärischen Linsenfläche stellen sicher, daß das optische Projektionssystem im wesentlichen frei von Aberrationen sein und aus einer kleinen Zahl von Linsen bestehen kann. Zusätzlich absorbiert das optische Projektionssystem Licht zu einem geringeren Anteil als die dein Stand der Technik entsprechenden Systeme.
  • BESCHREIBUNG DES ZWEITEN BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS
  • Fig. 4 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung, das mit Ausnahme folgender Änderungen der Ausführung dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 bis 3 ähnlich ist. Das Ausführungsbeispiel nach Fig. 4 enthält zusätzlich eine fünfte Linse 5, die auf eine Gruppe vierter Linsen 4 folgt. Die fünfte Linse 5 hat mit Linsen 1 bis 3 und der Gruppe der vierten Linsen 4 eine gemeinsame optische Achse. Die fünfte Linse 5 hat einen negativen Brechwert.
  • Die Krümmungsradien der vorderen Oberflache und der rückseitigen Oberfläche der fünften Linse 5 werden durch die Zeichen R13 und R14 bezeichnet. Der entlang der optischen Achse gemessene Abstand zwischen der rückseitigen Oberfläche einer Linse 4c und der vorderen Oberfläche der fünften Linse 5 wird durch das Zeichen d12 bezeichnet. Die entlang der optischen Achse gemessene Dicke der fünften Linse 5 wird durch das Zeichen d13 bezeichnet. Bezüglich Licht, das eine Wellenlänge von 193 nm hat, ist der Brechungsindex von Glasmaterial der fünften Linse 5 durch das Zeichen n7 bezeichnet.
  • Bei einem Beispiel des optischen Projektionssystems dieses Ausführungsbeispiels sind die Linsen 1, 2, 3, 4a, 4b, 4c und 5 so konstruiert, daß die vorgenannten Linsenparameter folgende Werte haben.
  • wobei das Zeichen "*" darauf hinweist, daß die zugehörige Fläche nichtsphärisch ist, und die Radien R1 bis R14 und die Dicken und Abstände d1 bis d14 in Einheiten von mm dargestellt sind.
  • Die nichtsphärischen Oberflächen (R1, R3 R5, R12 und R13) der Linsen 1, 2, 3, 4c und 5 sind folgendermaßen konstruiert. Gemäß der vorangehenden Beschreibung sind die Kenngrößen einer nichtsphärischen Fläche durch die Gleichung (1) definiert.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R1) der Linse 1 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R1: K = -5,946 A = 4,194E-8 B = 2,179E-13 C = -1,844E-16 D = 3,136E-20
  • wobei das Zeichen E einen Exponenten bezeichnet, und "E-N" bedeutet, daß der "E-N" vorangehende Wert mit 10-N multipliziert wird.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R3) der Linse 2 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R3: K = -369,862 A = -1,603E-8 B = 2,167E-13 C = -4,502E-18 D = 2,483E-22
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R5) der Linse 3 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R5: = K 29,473 A = -1,310E-9 B = -7,525E-15 C = 2,489E-20 D = -2,782E-25
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R12) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R12: K = 0,0327 A = -1,065E-9 B = -1,233E-13 C = 8,755E-19 D = 1,161E-23
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R13) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R13: K = -62,855 A = -7,389E-7 B = 2,930E-10 C = -2,209E-14 D = -6,476E-17
  • Unter Bedingungen, bei denen Licht mit einer Wellenlänge &lambda; von 193 nm verwendet wird und eine Bildhöhe Y 10,60 mm ist, beträgt die Brennweite "f" des optischen Projektionssystems 100mm; ist die numerische Apertur N.A. des optischen Projektionssystems 0,45; ist die Vergrößerung des optischen Projektionssystems 1/5; beträgt die Brennweite f3 der dritten Linse 3 851,722 mm; und liegt das Verhältnis "f4/d34" zwischen der Brennweite f4 der Gruppe der vierten Linsen 4 und dem Abstand d34 zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse 3 und dein vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen 4 bei 0,882.
  • Fig. 5(a), Fig. 5(b) und Fig. 5(c) zeigen jeweils die sphärische Aberration, den Astigmatismus und die Verzeichnung des optischen Projektionssystems.
  • Fig. 6(a) und Fig. 6(b) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 10,60 mm ist. Fig. 6(c) und Fig. 6(d) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 0 mm ist.
  • Fig. 7 zeigt die Beziehung zwischen der Modulationsübertragungsfunktion (MÜF) und der Ortsfrequenz des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 10,60 mm und bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 0 min ist.
  • BESCHREIBUNG DES DRITTEN BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS
  • Fig. 8 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel der Erfindung, das mit Ausnahme folgender Änderungen der Ausführung dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 4 bis 7 ähnlich ist.
  • Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 8 sind die Linsen 1, 2, 3, 4a, 4b, 4c und 5 so konstruiert, daß ihre Linsenparameter folgende Werte haben.
  • wobei das Zeichen "*" darauf hinweist, daß die zugehörige Fläche nichtsphärisch ist, und die Radien R1 bis R14 und die Dicken und Abstände d1 bis d14 in Einheiten von mm dargestellt sind.
  • Die nichtsphärischen Oberflächen (R1, R3, R5, R12 und R13) der Linsen 1, 2, 3, 4c und 5 sind folgendermaßen konstruiert. Gemäß der vorangehenden Beschreibung sind die Kenngrößen einer nichtsphärischen Fläche durch die Gleichung (1) definiert.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R1) der Linse 1 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R1: K = -0,302 A = 2,593E-8 B = 3,952E-13 C = -2,140E-16 D = 3,756E-20
  • wobei das Zeichen E einen Exponenten bezeichnet, und "E-N" bedeutet, daß der "E-N" vorangehende Wert mit 10-N multipliziert wird.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R3) der Linse 2 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R3: K = -184,400 A = -1,541E-8 B = 7,278E-14 C = -2,926E-19 D = 6,444E-23
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R5) der Linse 3 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R5: K = 41,240 A = -1,168E-9 B = -6,467E-15 C = 2,090E-20 D = -1,210E-25
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R12) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R12: K = D,0290 A = -1,084E-9 B = -3,270E-14 C = -3,170E-19 D = 2,105E-24
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R13) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R13: K = -16,008 A = -5,892E-7 B = 2,437E-10 C = -2,210E-14 D = -6,476E-17
  • Unter Bedingungen, bei denen Licht mit einer Wellenlänge &lambda; von 193 nm verwendet wird und eine Bildhöhe Y 10,60 mm ist, beträgt die Brennweite "f" des optischen Projektionssystems 100mm; ist die numerische Apertur N.A. des optischen Projektionssystems 0,45; ist die Vergrößerung des optischen Projektionssystems 1/5; beträgt die Brennweite f3 der dritten Linse 3 778,620 mm; und liegt das Verhältnis "f4/d34" zwischen der Brennweite f4 der Gruppe der vierten Linsen 4 und dem Abstand d34 zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse 3 und dein vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen 4 bei 0,867.
  • Fig. 9(a), Fig. 9(b) und Fig. 9(c) zeigen jeweils die sphärische Aberration, den Astigmatismus und die Verzeichnung des optischen Projektionssystems.
  • Fig. 10(a) und Fig. 10(b) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 10,60 mm ist.
  • Fig. 10(c) und Fig. 10(d) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 0 mm ist.
  • BESCHREIBUNG DES VIERTEN BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS
  • Fig. 11 zeigt ein viertes Ausführungsbeispiel der Erfindung, das mit Ausnahme folgender Änderungen der Ausführung dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 4 bis 7 ähnlich ist.
  • Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 11 sind die Linsen 1, 2, 3, 4a, 4b, 4c und 5 so konstruiert, daß ihre Linsenparameter folgende Werte haben.
  • wobei das Zeichen "*" darauf hinweist, daß die zugehörige Fläche nichtsphärisch ist, und die Radien R1 bis R14 und die Dicken und Abstände d1 bis d14 in Einheiten von mm dargestellt sind.
  • Die nichtsphärischen Oberflächen (R1, R3, R5, R12 und R13) der Linsen 1, 2, 3, 4c und 5 sind folgendermaßen konstruiert. Gemäß der vorangehenden Beschreibung sind die Kenngrößen einer nichtsphärischen Fläche durch die Gleichung (1) definiert.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R1) der Linse 1 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R1: K = -109,360 A = 1,387E-8 B = -1,549E-12 C = 8,326E-17 D = -1,882E-20
  • wobei das Zeichen E einen Exponenten bezeichnet, und "E-N" bedeutet, daß der "E-N" vorangehende Wert mit 10-N multipliziert wird.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R3) der Linse 2 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R3: K = -3933,68 A = -2,565E-8 B = 3,056E-13 C = -7,972E-18 D = 3,337E-22
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R5) der Linse 3 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R5: K = 3,993 A = -1,415E-9 B = -5,250E-14 C = -5,048E-19 D = -1,293E-23
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R12) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R12: K = -0,00887 A = -1,399E-9 B = -3,901E-13 C = -2,368E-19 D = 1,441E-22
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R13) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R13: K = 5,798 A = -8,440E-7 B = 5,184E-10 C = -2,209E-14 D = -6,476E-17
  • Unter Bedingungen, bei denen Licht mit einer Wellenlänge &lambda; von 193 nm verwendet wird und eine Bildhöhe Y 10,60 mm ist, beträgt die Brennweite "f" des optischen Projektionssystems 100mm; ist die numerische Apertur N.A. des optischen Projektionssystems 0,45; ist die Vergrößerung des optischen Projektionssystems 1/5; beträgt die Brennweite f3 der dritten Linse 3 905,876 mm; und liegt das Verhältnis "f4/d34" zwischen der Brennweite f4 der Gruppe der vierten Linsen 4 und dem Abstand d34 zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse 3 und dem vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen 4 bei 0,907.
  • Fig. 12(a), Fig. 12(b) und Fig. 12(c) zeigen jeweils die sphärische Aberration, den Astigmatismus und die Verzeichnung des optischen Projektionssystems.
  • Fig. 13(a) und Fig. 13(b) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 10,60 mm ist. Fig. 13(c) und Fig. 13(d) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 0 min ist.
  • BESCHREIBUNG DES FÜNFTEN BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS
  • Fig. 14 zeigt ein fünftes Ausführungsbeispiel der Erfindung, das mit Ausnahme folgender Änderungen der Ausführung dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 4 bis 7 ähnlich ist.
  • Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 14 sind die Linsen 1, 2, 3, 4a, 4b, 4c und 5 so konstruiert, daß ihre Linsenparameter folgende Werte haben.
  • wobei das Zeichen "*" darauf hinweist, daß die zugehörige Fläche nichtsphärisch ist, und die Radien R1 bis R14 und die Dicken und Abstände d1 bis d14 in Einheiten von mm dargestellt sind.
  • Die nichtsphärischen Oberflächen (R3, R5, R12 und R13) der Linsen 2, 3, 4c und 5 sind folgendermaßen konstruiert.
  • Gemäß der vorangehenden Beschreibung sind die Kenngrößen einer nichtsphärischen Fläche durch die Gleichung (1) definiert.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R3) der Linse 2 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R3: K = -0,05174 A = 2,681E-10 B = -8,178E-16 C = 5,872E-20 D = 2,065E-24
  • wobei das Zeichen E einen Exponenten bezeichnet, und "E-N" bedeutet, daß der "E-N" vorangehende Wert mit 10-N multipliziert wird.
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R5) der Linse 3 sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R5: K = 5,8542 A = -8,3l8E-10 B = 2,365E-16 C = -2,343E-21 D = -2,984E-27
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R12) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgendermaßen gewählt.
  • R12: K = 1,6202 A = 1,038E-9 B = -1,150E-14 C = 3,064E-18 D = 9,213E-23
  • Bezüglich der nichtsphärischen Oberfläche (R13) der Linse 4c sind die Koeffizienten K und A bis D folgenderinaßen gewählt.
  • R13: K = 0,0000 A = -1,434E-10 B = -1,001E-10 C = 2,288E-17 D = -2,529E-30
  • Unter Bedingungen, bei denen Licht mit einer Wellenlänge &lambda; von 193 nm verwendet wird und eine Bildhöhe Y 10,60 mm ist, beträgt die Brennweite "f" des optischen projektionssystems 100mm; ist die numerische Apertur N.A. des optischen Projektionssystems 0,45; ist die Vergrößerung des optischen Projektionssystems 1/5; beträgt die Brennweite f3 der dritten Linse 3 1416,653 mm; und liegt das Verhältnis "f4/d34" zwischen der Brennweite f4 der Gruppe der vierten Linsen 4 und dem Abstand d34 zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse 3 und dem vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen 4 bei 1,125.
  • Fig. 15(a), Fig. 15(b) und Fig. 15(c) zeigen jeweils die sphärische Aberration, den Astigmatismus und die Verzeichnung des optischen Projektionssystems.
  • Fig. 16(a) und Fig. 16(b) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 10,60 mm ist.
  • Fig. 16(c) und Fig. 16(d) zeigen jeweils die meridionale Transversalaberration und die sagittale Transversalaberration des optischen Projektionssystems bei Bedingungen, bei denen die Bildhöhe Y gleich 0 mm ist.

Claims (6)

1. Optisches Projektionssystem für Photolithographie mit
einer ersten Linse (1), einer zweiten Linse (2) und einer dritten Linse (3), die nacheinander in der Bewegungsrichtung eines Strahls angeordnet sind, wobei die erste Linse (1) einen vorbestimmten negativen Brechwert hat, die zweite Linse (2) einen vorbestimmten negativen Brechwert hat und die dritte Linse (3) einen vorbestimmten positiven Brechwert hat,
einer Gruppe vierter Linsen (4), die in der Bewegungsrichtung des Strahls auf die dritte Linse (3) folgt und einen vorbestimmten positiven Brechwert hat,
wobei mindestens eine der Flächen der ersten Linse (1), der zweiten Linse (2), der dritten Linse (3) und der vierten Linsen (4a, 4b, 4c) nichtsphärisch ist, und die folgenden Bedingungen (1), (2) und (3) erfüllt sind
(1) 4f < f3 < 20f
(2) 0,65 < (f4/d34) < 1,40
(3) 10f < R5
wobei das Zeichen "f" die Brennweite des optischen Projektionssystems, das Zeichen "f3" die Brennweite der dritten Linse (3), das Zeichen "f4" die Brennweite der Gruppe der vierten Linsen (4), das Zeichen "d34" den Abstand zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse (3) und dem vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen (4) und das Zeichen "R5" den Krümmungsradius der vorderen Oberfläche der dritten Linse (3) bezeichnet.
2. Optisches Projektionssystem nach Anspruch 1, wobei die vordere Oberfläche der dritten Linse (3) nichtsphärisch ist.
3. Optisches Projektionssystem nach Anspruch 1, wobei jede der vierten Linsen (4a, 4b, 4c) einen vorbestimmten positiven Brechwert hat.
4. Optisches Projektionssystem für Photolithographie mit
einer ersten Linse (1), einer zweiten Linse (2) und einer dritten Linse (3), die nacheinander in der Bewegungsrichtung eines Strahls angeordnet sind, wobei die erste Linse (1) einen vorbestimmten negativen Brechwert hat, die zweite Linse (2) einen vorbestimmten negativen Brechwert hat und die dritte Linse (3) einen vorbestimmten positiven Brechwert hat,
einer Gruppe vierter Linsen (4), die in der Bewegungsrichtung des Strahls auf die dritte Linse (3) folgt und einen vorbestimmten positiven Brechwert hat,
einer fünften Linse (5), die in der Bewegungsrichtung des Strahls auf die Gruppe der vierten Linsen (4) folgt und einen vorbestimmten negativen Brechwert hat,
wobei mindestens eine der Flächen der ersten Linse (1), der zweiten Linse (2), der dritten Linse (3), der vierten Linsen (4a, 4b, 4c) und der fünften Linse (5) nichtsphärisch ist, und die folgenden Bedingungen (1), (2) und (3) erfüllt sind
(1) 4f < f3 < 20f
(2) 0,65 < (f4/d34) < 1,40
(3) 10f < R5
wobei das Zeichen "f" die Brennweite des optischen Projektionssystems, das Zeichen "f3" die Brennweite der dritten Linse (3), das Zeichen "f4" die Brennweite der Gruppe der vierten Linsen (4), das Zeichen "d34" den Abstand zwischen dem rückseitigen Hauptpunkt der dritten Linse (3) und dem vorderen Hauptpunkt der Gruppe der vierten Linsen (4) und das Zeichen "R5" den Krümmungsradius der vorderen Oberfläche der dritten Linse bezeichnet.
5. Optisches Projektionssystem nach Anspruch 4, wobei die vordere Oberfläche der dritten Linse (3) nichtsphärisch ist.
6. Optisches Projektionssystem nach Anspruch 4, wobei jede der vierten Linsen (4a, 4b, 4c) einen vorbestimmten positiven Brechwert hat.
DE68916451T 1988-03-11 1989-03-09 Optisches Projektionssystem. Expired - Fee Related DE68916451T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5873988 1988-03-11
JP4234989A JPH02220015A (ja) 1989-02-22 1989-02-22 精密投影光学系
JP1042381A JPH0748089B2 (ja) 1988-03-11 1989-02-22 精密投影光学系

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE68916451D1 DE68916451D1 (de) 1994-08-04
DE68916451T2 true DE68916451T2 (de) 1994-11-17

Family

ID=27291174

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE68916451T Expired - Fee Related DE68916451T2 (de) 1988-03-11 1989-03-09 Optisches Projektionssystem.

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4948238A (de)
EP (1) EP0332201B1 (de)
DE (1) DE68916451T2 (de)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3360387B2 (ja) * 1993-11-15 2002-12-24 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JP3396935B2 (ja) * 1993-11-15 2003-04-14 株式会社ニコン 投影光学系及び投影露光装置
JPH08179204A (ja) 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JPH116957A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Nikon Corp 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JPH1195095A (ja) 1997-09-22 1999-04-09 Nikon Corp 投影光学系
JPH11214293A (ja) 1998-01-22 1999-08-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法
US6700645B1 (en) 1998-01-22 2004-03-02 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus and method
US5986824A (en) * 1998-06-04 1999-11-16 Nikon Corporation Large NA projection lens system with aplanatic lens element for excimer laser lithography
US5969803A (en) * 1998-06-30 1999-10-19 Nikon Corporation Large NA projection lens for excimer laser lithographic systems
US6451507B1 (en) * 1998-08-18 2002-09-17 Nikon Corporation Exposure apparatus and method
DE19942281A1 (de) * 1999-05-14 2000-11-16 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
US6867922B1 (en) 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same
JP2000356741A (ja) 1999-06-14 2000-12-26 Canon Inc 投影光学系
JP3359302B2 (ja) 1999-06-14 2002-12-24 キヤノン株式会社 投影露光装置
EP1242843B1 (de) 1999-12-29 2006-03-22 Carl Zeiss SMT AG Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen
KR20030072568A (ko) 2000-12-22 2003-09-15 칼-짜이스-스티프퉁 트레이딩 에즈 칼 짜이스 하나 이상의 비구면 렌즈를 갖는 대물렌즈
WO2002052303A2 (de) 2000-12-22 2002-07-04 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv
DE10064685A1 (de) 2000-12-22 2002-07-04 Zeiss Carl Lithographieobjektiv mit einer ersten Linsengruppe, bestehend ausschließlich aus Linsen positiver Brechkraft
JP2002244034A (ja) 2001-02-21 2002-08-28 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
JP2002323652A (ja) 2001-02-23 2002-11-08 Nikon Corp 投影光学系,該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151364A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR101391470B1 (ko) 2004-05-17 2014-05-07 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
TWI435138B (zh) 2011-06-20 2014-04-21 Largan Precision Co 影像拾取光學系統
TWI547713B (zh) 2014-07-30 2016-09-01 大立光電股份有限公司 攝影用光學鏡頭、取像裝置以及電子裝置
TWI510804B (zh) 2014-08-01 2015-12-01 Largan Precision Co Ltd 取像用光學鏡組、取像裝置及電子裝置
TWI534467B (zh) 2015-02-17 2016-05-21 大立光電股份有限公司 攝影系統、取像裝置及電子裝置
EP3572859A4 (de) 2017-01-20 2020-01-22 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Linsensystem mit fester brennweite und kamera
TWI600940B (zh) 2017-03-01 2017-10-01 大立光電股份有限公司 光學影像透鏡系統組、取像裝置及電子裝置
TWI632411B (zh) 2018-01-19 2018-08-11 大立光電股份有限公司 光學攝像鏡組、取像裝置及電子裝置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE831156C (de) * 1950-05-18 1952-02-11 Askania Werke Ag Mehrteiliges afokales Vorsatzlinsensystem fuer photographische Objektive
SE363410B (de) * 1972-05-30 1974-01-14 Aga Ab
JPS5712966A (en) * 1980-06-21 1982-01-22 Tomie Numahata Mixed cake from rice and barley
JPS6039624A (ja) * 1983-08-11 1985-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd エレクトロクロミツク表示装置
JPS60169818A (ja) * 1984-02-15 1985-09-03 Olympus Optical Co Ltd 内視鏡用対物レンズ

Also Published As

Publication number Publication date
DE68916451D1 (de) 1994-08-04
EP0332201A3 (de) 1991-07-17
EP0332201B1 (de) 1994-06-29
US4948238A (en) 1990-08-14
EP0332201A2 (de) 1989-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68916451T2 (de) Optisches Projektionssystem.
DE3784963T2 (de) Optisches projektionssystem.
DE69531153T2 (de) Optisches Projektionssystem mit Belichtungsgerät
DE69526568T2 (de) Optisches Projektionssystem und Belichtungsapparat mit einem solchen
DE3786648T2 (de) Optisches uebertragungssystem mit vergroesserung.
DE69306428T2 (de) Optisches Breitbandverkleinerungssystem mit angepassten refraktiven Materialien
DE69522422T2 (de) Belichtungsvorrichtung
DE69824658T2 (de) Optisches System für Projektion
WO2002033467A1 (de) 8-spiegel-mikrolithographie-projektionsobjektiv
DE10210899A1 (de) Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie
DE102018207277A1 (de) Lithografiemaske, optisches System zur Übertragung von Original Strukturabschnitten der Lithografiemaske sowie Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Original-Strukturabschnitt einer Lithografiemaske anordenbar ist
DE19726058A1 (de) Katadioptrisches System zur Photolithographie
DE2756989A1 (de) Optisches system
DE102005024290A1 (de) Abbildungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE4203464B4 (de) Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
DE4331735C1 (de) Objektiv
DE2836070C2 (de) Objektiv für Mikrofilm
DE2515319A1 (de) Mikroskop-objektive
DE2834328C2 (de) Objektiv für starke Verkleinerungen
DE102022205700A1 (de) Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102017207582A1 (de) Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102008015775A1 (de) Chromatisch korrigiertes Lithographieobjektiv
DE2836071C2 (de) Hochauflösendes Objektiv für Mikrofilm
DE2018300B2 (de) Photographisches Objektiv
DE102008043395A1 (de) Projektionsobjektiv für die Lithographie

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8320 Willingness to grant licences declared (paragraph 23)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee