DE68902848T2

DE68902848T2 - Lichtempfindliche zusammensetzung.

Info

Publication number: DE68902848T2
Application number: DE8989103667T
Authority: DE
Inventors: Toshiyuki Sekiya
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-03-03
Filing date: 1989-03-02
Publication date: 1993-01-21
Anticipated expiration: 2009-03-03
Also published as: EP0331171A2; US4980263A; DE68902848D1; EP0331171B1; JP2668540B2; EP0331171A3; JPH01223445A

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine negativ arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, die zur Herstellung einer vorsensibilisierten Platte zur Verwendung bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten geeignet ist, welche eine ausgezeichnete Entwickelbarkeit mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler besitzt.
Die meisten Materialien, die als lichtempfindliche Substanzen für negativ arbeitende vorsensibilisierte Platten zur Verwendung bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten (nachstehend als "PS-Platten" bezeichnet) verwendet werden, sind Diazonium-Verbindungen, und üblicherweise werden Diazoharze, wie ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd, verwendet.
Zusammensetzungen für die lichtempfindliche Schicht von PS-Platten, worin ein Diazoharz verwendet wird, können in zwei Gruppen eingeteilt werden, wovon eine einfach Diazoharze umfaßt, mit anderen Worten, solche, die kein Bindemittel enthalten, wie in der US-PS 2 714 066 offenbart, und die andere eine Mischung aus einem Diazoharz und einem Bindemittel umfaßt, wie in der US-PS 4 275 138 (ungeprüfte japanische Patentveröffentlichung (nachstehend als "J.P. KOKAI" bezeichnet) Nr. 50-30604) offenbart. Die meisten lichtempfindlichen Zusammensetzungen für PS-Platten, in denen Diazonium-Verbindungen verwendet werden, umfassen jedoch eine Diazonium-Verbindung und ein Polymer, das als Bindemittel dient, um eine hohe Druckhaltbarkeit zu erzielen.
Als lichtempfindliche Schicht sind sogenannte alkalientwickelbare Schichten, deren unbelichtete Bereiche entfernt werden oder mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler entwickelt werden, und sogenannte lösungsmittelentwickelbare Schichten, deren unbelichtete Bereiche mit einem Entwickler vom organischen Lösungsmitteltyp entfernt werden, wie in der US-PS 4 275 138 (japanische Patentveröffentlichung (nachstehend als "J.P-.-KOKOKU" bezeichnet) Nr. 52-7364) offenbart, bekannt. Die alkalientwickelbaren Schichten sind seit kurzem von großem Interesse im Hinblick auf die Sicherheit des Arbeitsbetriebs und der Gesundheit der Betreiber. Beispiele für Bindemittel, die in solchen alkalientwickelbaren lichtempfindlichen Schichten geeignet sind, schließen Polymere, erhalten durch Copolymerisieren von 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat und einem carboxylgruppenhaltigen Monomer, wie Methacrylsäure, wie in der vorstehenden US-PS 4 275 138 (J.P. KOKOKU Nr. 52-7364) offenbart; Polymere, erhalten durch Copolymerisieren eines Monomers mit einer aromatischen Hydroxylgruppe (aromatischen Hydroxylgruppen) und eines carboxylgruppenhaltigen Monomers, wie Methacrylsäure, wie in der J.P. KOKOKU Nr. 57-43890 offenbart; Polymere, erhalten durch Umsetzen von restlichen Hydroxylgruppen von Polyvinylacetalharz init einem Säureanhydrid und anschließende Umsetzung eines Teils der erhaltenen Carbonsäure mit einer Halogenverbindung mit Hydroxyl- oder Cyanogruppe(n), wie in der US-PS 4 741 985 (J.P. KOKAI Nr. 61-128123) beschrieben; Polymere, hergestellt durch Umsetzen von Sulfonylisocyanat mit einem Polymer mit freier OH-Gruppe(n), wie in der US-PS 3 732 105 (J.P. KOKAI Nr. 47-9902) beschrieben; und Polyurethanharze, die Substituenten mit saurem Wasserstoffatom(en) besitzen, wie in der DE-A- 37 16 607 (japanische Patentanmeldung (nachstehend als "J.P.A." bezeichnet) Nr. 62-121666) beschrieben, ein. Es sind jedoch weitere Verbesserungen der Entwickelbarkeit dieser üblicherweise verwendeten lichtempfindlichen Schichten erforderlich.
Die DE-A-33 19 991 und die EP-A-0089507 offenbaren lichtempfindliche Zusammensetzungen, umfassend ein Diazoharz, ein Polyurethanharz und eine Verbindung mit einer Ureidobindung.
Die US-A-3 867 147 offenbart eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend ein Diazoharz und ein Polyurethan.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit ausgezeichneter Entwickelbarkeit mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler zur Verfügung zu stellen.
Erfindungsgemäß wird eine lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verfügung gestellt, welche ein Diazoharz, ein Polyurethanharz als polymeres Bindemittel und wenigstens eine nicht-polymere Verbindung mit wenigstens einer Struktureinheit, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer Thioureidobindung (=N-CS-N=), einer Urethanbindung (=N-CO-O-) und einer Thiourethanbindung (=N-CS-O-) (nachstehend als erfindungsgemäße Verbindung bezeichnet) umfaßt.
Spezifische Beispiele für erfindungsgemäße Verbindungen schließen solche der folgenden allgemeinen Formeln (1) bis (3) ein:
(R&sub1;) (R&sub2;)N-CS-N(R&sub3;) (R&sub4;) (1)
(R&sub1;) (R&sub2;)N-CO-O-R&sub3; (2)
(R&sub1;) (R&sub2;) N-CS-O-R&sub3; (3)
In den vorstehenden Formeln (1) bis (3) können R&sub1; bis R&sub4; gleich oder verschieden sein und bedeuten jeweils ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Aralkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Alkenylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Acylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe oder können miteinander zur Bildung einer Ringstruktur verbunden sein.
Insbesondere bedeuten R&sub1; bis R&sub4; jeweils Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl n-Butyl, Isobutyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, 2-Ethylhexyl, Nonyl, Decyl, Lauryl, Stearyl, Behenyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl, 2-Hydroxyethyl, 2-Hydroxypropyl, 3-Hydroxypropyl, 2-Methoxyethyl, 2-Ethoxyethyl, 3-Methoxypropyl, 3-Ethoxypropyl, 2,3-Dichlorpropyl, 2,3-Dibrompropyl, -CH&sub2;COOH, - CH(COOH) -CH&sub2;-COOH, -CH&sub2;CH&sub2;COOH, -CH&sub2;CH&sub2;SO&sub3;Na, -CH&sub2;CH&sub2;SO&sub3;K, Phenyl, Naphthyl, Tolyl, Xylyl, Fluorphenyl, Chlorphenyl, Bromphenyl, Ethylphenyl, Propylphenyl, Hydroxyphenyl, Methoxyphenyl, Ethoxyphenyl, -Phe-SO&sub3;Na, -Phe-SO&sub3;K, -Phe-NHNHCHO (worin "Phe" eine Phenylgruppe bedeutet), Benzyl, Methylbenzyl, Dimethylbenzyl, Ethylbenzyl, Propylbenzyl, Fluorbenzyl, Chlorbenzyl, Brombenzyl, Hydroxybenzyl, Methoxybenzyl, Ethoxybenzyl, Vinyl, Propenyl, Butenyl, Allyl, -CO-CH&sub3;, -CO-C&sub2;H&sub5;, -CO-OH, -CO-OCH&sub3;, -CO-OC&sub2;H&sub5;, -CO-NH&sub2;, -CO-COOH, -CO-CH&sub2;COOH, -NH&sub2;, -NHCH&sub3;, -N(CH&sub3;)&sub2;, -NH-Ph und -N(Ph)&sub2; (worin "Ph" eine Phenylgruppe bedeutet).
Die folgende Verbindung kann vom Umfang dieser Erfindung umfaßt sein:
Die erfindungsgemäßen Verbindungen schließen ebenfalls die folgenden Verbindungen, die zwei Struktureinheiten in einem Molekül umfassen, ein:
R&sub1;OCONH(CH&sub2;)&sub6;NHCOOR&sub2;,
worin R&sub1; und R&sub2; die vorstehend angegebene Bedeutung besitzen.
Das Molekulargewicht der erfindungsgemäßen Verbindung beträgt vorzugsweise weniger als 20 000. Wenn das Molekulargewicht übermäßig groß ist, wird die Wirkung zur Verbeserung der Entwickelbarkeit niedrig. Besonders bevorzugt liegt es bei weniger als 5000 und am meisten bevorzugt bei weniger als 1000.
Die Menge der erfindungsgemäßen Verbindung in der lichtempfindlichen Zusammensetzung liegt bei 1 bis 25 Gew.-%, vorzugsweise 2 bis 20 Gew.-%, besonders bevorzugt 3 bis 15 Gew.-%, bezogen auf die Menge des polymeren Bindemittels. Wenn sie weniger als 1 Gew.-% beträgt, ist die entwickelbarkeitsverbessernde Wirkung unzureichend, während, wenn sie mehr als 25 Gew.-% beträgt, die Druckhaltbarkeit der erhaltenen lithographischen Druckplatte verschlechtert ist.
Die lichtempfindlichen Diazoharze, die erfindungsgemäß verwendet werden, sind Diazoharze, wie Kondensate von aromatischen Diazonium-Salzen und Verbindungen mit aktiven Carbonylgruppen, beispielsweise Formaldehyd, und insbesondere werden solche, die in organischen Lösungsmitteln löslich sind, erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.
Beispiel für diese Diazoharze sind anorganische Salze von in organischen Lösungsmitteln löslichen Diazoharzen, die Reaktionsprodukte eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd mit Hexafluorphosphat oder Tetrafluorborat sind; organische Salze von in organischen Lösungsmitteln löslichen Diazoharzen, die Reaktionsprodukte des vorstehenden Kondensats und Sulfonaten, wie p-Toluolsulfonsäure oder Salze davon, Propylnaphthalinsulfonsäure oder Salze davon, Butylnaphthalinsulfonsäure oder Salze davon, Dodecylbenzolsulfonsäure oder Salze davon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure oder Salze davon, Dioctylnaphthalensulfonsäure oder Salze davon oder einer Mischung daraus, wie in J.P. KOKOKU Nr. 47-1167 beschrieben, sind.
Zusätzlich zu den vorstehenden Beispielen ist ein Produkt, erhalten durch Kondensieren von 3-Methoxy-4-diazodiphenylamin und 4,4'-Bis-methoxymethyldiphenylether und anschließendes Umwandeln in ein Mesitylensulfonat, wie in dem kanadischen Patent 1 172 492 (J.P. KOKAI Nr. 58-2714) offenbart, ebenfalls zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung geeignet.
Als polymere Bindemittel sind Polyurethanharze, wie in der BP 2185120 (J.P. KOKAI Nr. 62-123452 und 62-123453) und der DE-A-37 16 607 (J.P.A. Nr. 62-121666) offenbart, bevorzugt. Sie können die entwickelbarkeitsverstärkende Wirkung der erfindungsgemäßen Verbindung stark verbessern und sind deshalb bevorzugte polymere Bindemittel, die mit dem lichtempfindlichen Diazoharz kombiniert werden.
Die Mengen dieser lichtempfindlichen Diazoharze und des polymeren Bindemittels in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung liegen geeigneterweise bei 3 bis 40 Gew.-% für die ersteren und 97 bis 60 Gew.-% für das letztere, bezogen auf das Gesamtgewicht dieser zwei Komponenten. Ihre Empfindlichkeit wird um so höher, je mehr der Gehalt des Diazoharzes abnimmt; wenn er jedoch weniger als 3 Gew.-% beträgt, wird das Lichthärten des Bindemittels unzureichend, und somit wird der erhaltene lichtgehärtete Film gequollen mit einem Entwickler während des Entwicklungsverfahrens, was den Film gegebenenfalls zerbrechlich macht. Wenn andererseits die Menge mehr als 40 Gew.-% beträgt, wird die Empfindlichkeit der erhaltenen lichtempfindlichen Schicht erniedrigt, und die Zusammensetzung kann in der Praxis nicht verwendet werden. Deshalb liegt die bevorzugte Menge an Diazoharz bei 5 bis 30 Gew.-% und die bevorzugte Menge an polymerem Bindemittel bei 95 bis 70 Gew.-%.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung kann weiterhin eine Vielzahl von Additiven enthalten. Beispielsweise können der Zusammensetzung Alkylether, wie Ethylcellulose und Methylcellulose, zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften der Zusammensetzung; oberflächenaktive Mittel, wie fluorhaltige oberflächenaktive Mittel; Weichmacher, wie Tricresylphosphat, Dimethylphthalat, Dibutylphthalat, Trioctylphosphat, Tributylphosphat, Tributylcitrat, Polyethylenglykol und Polypropylenglykol, um dem erhaltenen Film Flexibilität und Abriebbeständigkeit zu verleihen; Färbungssubstanzen zum Sichtbarmachen der Bildteile nach der Entwicklung, wie Acridin-Farbstoffe, Cyanin-Farbstoffe, Styryl-Farbstoffe, Triphenylmethan-Farbstoffe, oder Pigmente, wie Phthalocyanin; oder übliche Stabilisatoren für die Diaioharze, wie Phosphorsäure, Phosphorige Säure, Pyrophosphorsäure, Oxalsäure, Borsäure, p-Toluolsulfonsäure, Benzolsulfonsäure, p-Hydroxybenzolsulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl- benzolsulfonsäure, Apfelsäure, Weinsäure, Dipicolinsäure, Polyacrylsäure und Copolymere davon, Polyvinylphoshonsäure und Copolymere davon, Polyvinylsulfonsäure und Copolymere davon, 5-Nitronaphthalin-1-phosphonsäure, 4-Chlorphenoxymethylphosphonsäure, Natriumphenylmethylpyrazolonsulfonat, 2-Phosphonobutantricarbonsäure-1,2,4, 1-Phosphonoethantricarbonsäure-1,2,2, 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure, zugegeben werden. Die Menge dieser Additive, die der Zusammensetzung zugegeben werden, kann in Abhängigkeit von der Art der Zusammensetzung und dem Zweck der Additive variieren, liegt jedoch im allgemeinen bei 0,5 bis 30 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der lichtempfindlichen Schicht.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung wird in einem geeigneten organischen Lösungsmittel gelöst und dann auf die Oberfläche eines Substrats mit einer hydrophilen Oberfläche in einer Menge von 0,5 bis 5 g/m², die ausgedrückt ist als gewogene Menge nach dem Trocknen, zum Erhalt einer PS-Platte aufgebracht. Nach dem Beschichten liegt die Konzentration der Zusammensetzung in einem organischen Lösungsmittel vorzugsweise bei 1 bis 50 Gew.-%. Beispiele für organische Lösungsmittel schließen Methylcellosolve, Ethylcellosolve, 1-Methoxy-2-propanol, Methylcellosolveacetat, Aceton, Methylethylketon, Methanol, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Dioxan und Tetrahydrofuran ein. Zusätzlich zu diesen Lösungsmitteln können gemischte Lösungsmittel davon als auch diese Lösungsmittel und Mischungen daraus, enthaltend eine geringe Menge an Lösungsmitteln, wie Wasser und Toluol, die die Diazoharze und polymeren Bindemittel nicht auflösen, ebenfalls auf geeignete Weise verwendet werden. Nach dem Aufbringen der lichtempfindlichen Zusammensetzung, gelöst in einem solchen Lösungsmittel, auf das Substrat, wird die aufgebrachte Schicht vorzugsweise bei einer Temperatur im Bereich von 50 bis 120º C getrocknet. Das Trocknen wird zunächst bei recht niedriger Temperatur und dann bei erhöhter Temperatur durchgeführt. Alternativ dazu kann die aufgebrachte Schicht direkt bei erhöhter Temperatur durch geeignetes Wählen des Lösungsmittels und der Konzentration getrocknet werden.
Die PS-Platte, die aus einem Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche, auf die eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht ist, zusammengesetzt ist, wird bildweise belichtet und dann mit einem Entwickler, zusammengesetzt aus schwach alkalischem Wasser, zur Bildung von Reliefbildern, die bezüglich des Originals negativ sind, entwickelt. Lichtquellen, die zum Belichten der PS-platte geeignet sind, schließen beispielsweise eine Kohlebogenlampe, eine Quecksilberlampe, eine Xenonlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Blitzlampe, Ultraviolettstrahlen und Laserstrahlen ein. Beispiele für Entwickler, die zum Entwickeln der PS-Platten mit einer Schicht aus der erfindungsgemäßen Zusammensetzung verwendet werden, schließen schwach alkalische wäßrige Lösungen, wie solche aus Wasser, ein organisches Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser von nicht mehr als 10 Gew.-% bei üblicher Temperatur (beispielsweise Benzylalkohol und Ethylenglykolmonophenylether), ein alkalisches Mittel (beispielsweise Triethanolamin und Monoethanolamin), ein anionisches oberflächenaktives Mittel (beispielsweise aromatische Sulfonsäuresalze, Dialkylsulfosuccinsäuresalze, Alkylnapthalinsulfonsäuresalze, oberflächenaktive Mittel der folgenden allgemeinen Formeln:
und verzweigte Alkylschwefelsäureestersalze), und solche, die aus Wasser, gegebenenfalls- kontaminationsinhibierenden Mitteln (wie Natriumsulfit und Natriumsalz von Sulfopyrazolon) und Mitteln zum Weichmachen von hartem Wasser (beispielsweise Tetranatriumethylendiamintetraacetat und eine Verbindung der Formel N(CH&sub2;COONa)&sub3;) zusammengesetzt sind, ein.
Als Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche, auf die die erfindungsgemäße Zusammensetzung aufgebracht wird, sind Aluminiumplatten, die einer Hydrophilisierungsbehandlung ausgesetzt worden sind, besonders bevorzugt. Die Oberfläche der Aluminiumplatten wird vorzugsweise durch Drahtbürstenkörnen, Bürstenkörnen, worin die Oberfläche mit einer Nylonbürste körnig gemacht wird, während eine Aufschlämmung aus Schleifteilchen darauf gegossen wird, Kugelkörnen, chemisches Körnen, elektrolytisches Körnen oder kombiniertes Körnen, zusammengesetzt aus einer Kombination dieser Körnungstechniken, körnig gemacht und dann gegebenenfalls durch Leiten eines elektrischen Stroms (Gleichstrom oder Wechselstrom) in einem Elektrolyten, zusammengesetzt aus Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Borsäure, Chromsäure, Sulfaminsäure oder einer Mischung daraus, anodisiert zur Bildung eines stark passiven Films auf der Oberfläche. Die Hydrophilisierung der Oberfläche der Aluminiumplatte kann durch Bilden eines solchen passiven Films erreicht werden, besonders bevorzugt sind jedoch Platten, die weiterhin der folgenden Behandlung ausgesetzt werden: einer Silikat (Natriumsilikat oder Kaliumsilikat)-Behandlung, wie in den US-PSen 2 714 066 und 3 181 461 offenbart; einer Behandlung mit einem Fluorzirkonat, wie in der US-PS 2 946 638 offenbart; einer Phosphomolybdat-Behandlung, wie in der US-PS 3 201 247 offenbart; einer
Polyacrylsäure-Behandlung, wie in dem deutschen Patent 1 091 433 offenbart; einer Polyvinylsulfonsäure-Behandlung, wie in dem deutschen Patent 1 134 093 und dem britischen Patent 1 230 447 offenbart; einer Phosphonsäure-Behandlung, wie in der J.P. KOKOKU Nr. 44-6409 offenbart; einer PhytinsäureBehandlung, wie in der US-PS 3 307 951 offenbart; einer kombinierten Behandlung mit einer hydrophilen organischen Polymer-Verbindung und einem bivalenten Metall, wie in der J.P. KOKAI Nr. 58-16893 und 58-18291 offenbart; und einer Hydrophilisierung durch Aufbringen einer Unterschicht aus einem wasserlöslichen Polymer mit Sulfonsäuregruppe(n). Beispiele solcher Hydrophilisierungsbehandlungen schließen eine elektrolytische Silikatabscheidungstechnik, wie in der US-PS 3 658 662 offenbart, ein.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung ist in ihrer Entwickelbarkeit mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler überlegen oder zeigt eine sehr kurze Entwicklungszeit und kann deshalb auf geeignete Weise zur Herstellung von PS-Platten verwendet werden.
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend mit Bezug auf die folgenden Arbeitsbeispiele näher erläutert, und die erfindungsgemäß erzielten Wirkungen werden ebenfalls im Vergleich mit den folgenden Vergleichsbeispielen näher erläutert.

Beispiele 1 bis 15 und Vergleichsbeispiel 1

Die Oberfläche einer Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm wurde mit einer Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension aus Bimsstein (400 mesh) körnig gemacht und mit Wasser ausreichend gewaschen. Die Platte wurde dann in eine 10 %-ige wäßrige Lösung von Natriumhydroxid bei 70º C über 60 Sekunden zum Ätzen getaucht, gefolgt von Waschen mit fließendem Wasser, Neutralisieren und Waschen mit einer 20 %-igen Salpetersäurelösung, und anschließend wurde die Platte elektrolytisch gekörnt durch das elektrochemische Körnungsverfahren, das in der J.P. KOKAI 53-67507 offenbart ist, mit anderen Worten wurde die Platte elektrolytisch in 1 %-iger wäßriger Salpetersäurelösung unter Verwendung eines Wechselstroms von VA = 12.7 V und VC = 9,1 V gekörnt, so daß die Elektrizitätsmenge zur Anodenzeit 160 Cb/dm² betrug. Anschließend wurde die Aluminiumplatte in 30 %-ige wäßrige Schwefelsäurelösung bei 55º C über 2 Minuten getaucht, um die Platte zu entschmutzen, und in einer 7 %-igen wäßrigen Schwefelsäurelösung anodisiert, bis die Dicke des erhaltenen anodisierten Films 2,0 g/m² betrug. Dann wurde die Platte in eine 3 %-ige wäßrige Lösung von Natriumsilikat eingetaucht, bei 70º C über 1 Minute gehalten, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Eine Lösung aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche der so erhaltenen Aluminiumplatte mit einer Wirbelvorrichtung aufgebracht und dann bei 80º C über 2 Minuten getrocknet. Die Menge der aufgebrachten Zusammensetzung betrug 1,5 g/m² (gewogen nach dem Trocknen). Lösung der Lichtempfindlichen Zusammensetzung Komponente Menge 4-(n-Dodecyl)benzolsulfonsäuresalz des Kondensats von 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd Polymer (a) in Tabelle I angegebene Verbindung Apfelsäure FC-430 (fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel, erhältlich von 3M Co., Ltd. USA) öllöslicher Farbstoff (Viktoria-Reinblau BOH) 1-Methoxy-2-propanol Methanol Methylethylketon
In der Zusammensetzung war das Polymer (a) ein Polyurethanharz mit Carboxylgruppen und Hydroxylgruppen, hergestellt gemäß Herstellungsbeispiel 9 der J.P. KOKAI Nr. 62-123453. Es wurde eine Vergleichs-PS-Platte auf die gleiche Weise, wie vorstehend beschrieben, hergestellt mit der Ausnahme, daß die lichtempfindliche Zusammensetzung die erfindungsgemäße Verbindung nicht enthielt (Vergleichsbeispiel).
Ein Entwickler, erhalten durch Verdünnen des wäßrigen alkalischen Entwicklers DN-3C (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.; Verdünnung = 1 : 2), wurde auf die Oberfläche dieser PS-Platten getropft, die Oberfläche wurde mit einem Schwamm nach einem konstanten Zeitraum gerieben, während mit Wasser gewaschen wurde, um die Zeit zu bestimmen, die zur vollständigen Entwicklung der PS-Platten erforderlich ist (Entwicklungszeit). Die beobachteten Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle I zusammengefaßt. Tabelle I Beispiel verwendete Verbindung Entwicklungszeit Tabelle I (Forts.) Beispiel verwendete Verbindung Entwicklungszeit Tabelle I (Forts.) Beispiel verwendete Verbindung Entwicklungszeit
Die in Tabelle I zusammengestellten Ergebnisse zeigen, daß die PS-Platten, in denen die erfindungsgemäße Verbindung verwendet wurde, mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler innerhalb einer kurzen Zeit entwickelt werden können und eine ausgezeichnete Entwickelbarkeit besitzen.

Beispiele 16 und 17 und Vergleichsbeispiel 2

Eine Lösung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche einer wie in Beispiel 1 behandelten Aluminiumplatte mit einer Wirbelvorrichtung aufgebracht und bei 100º C über 2 Minuten getrocknet. Die aufgebrachte Menge der Zusammensetzung betrug 2,4 g/m², gewogen nach dem Trocknen Zusammensetzung der Lösung Komponente Menge (g) Hexafluorphosphorsäuresalz des Kondensats von 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd Polymer (b) in Tabelle II angegebene Verbindung Phosphorsäure öllösliche Farbe (Viktoria-Reinblau BOH) 2-Methoxyethanol
Das Polymer (b) war ein Copolymer von 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Methacrylsäure (Molverhältnis der Copolymerisation = 35/35/25/5) mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 12000. Es wurde ein Vergleichs-PS-Platte auf die gleiche Weise, wie vorstehend beschrieben, hergestellt mit der Ausnahme, daß die erfindungsgemäße Verbindung nicht verwendet wurde (Vergleichsbeispiel 2).
Die Entwicklungszeit dieser PS-Platten wurde auf die gleiche Weise wie in den Beispielen 1 bis 15 bestimmt. Die beobachteten Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle II angegeben. Tabelle II Beispiel Nr. verwendete Verbindung Entwicklungszeit Vergleichsbeispiel
Wie aus den in Tabelle II gezeigten Ergebnissen ersichtlich ist, können die PS-Platten, in denen die erfindungsgemäße Verbindung verwendet wurde, mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler innerhalb einer kurzen Zeit entwickelt werden und besitzen eine ausgezeichnete Entwickelbarkeit.

Claims

1. Lichtempfindliche Zusammensetzung, welche ein Diazoharz, ein Polyurethanharz als polymeres Bindemittel und wenigstens eine nichtpolymere Verbindung mit wenigstens einer Struktureinheit, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer Thioureidobindung, einer Urethanbindung und einer Thiourethanbindung, umfaßt.

2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Verbindung wenigstens eine Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus den tolgenden allgemeinen Formeln (1) bis (3) , ist:

N(R&sub1;)-CS-N(R&sub3;) (R&sub4;) (1)

N(R&sub1;)(R&sub2;)-CO-O-R&sub3; (2)

N(R&sub1;)(R&sub2;)-CS-O-R&sub3; (3)

worin R&sub1; bis R&sub4; gleich oder verschieden sein können und jeweils ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Aralkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Alkenylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Acylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe bedeuten oder miteinander zur Bildung einer Ringstruktur verbunden sein können.

3. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 2, worin R&sub1; bis R&sub4; jeweils eine Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, Isobutyl, sec-Butyl, tert-Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, 2-Ethylhexyl, Nonyl, Decyl, Lauryl, Stearyl, Behenyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl, 2-Hydroxyethyl, 2-Hydroxypropyl, 3-Hydroxypropyl, 2-Methoxyethyl, 2-Ethoxyethyl, 3-Methoxypropyl, 3-Ethoxypropyl, 2,3-Dichlorpropyl, 2,3-Dibrompropyl, -CH&sub2;COOH, -CH(COOH) -CH&sub2;-COOH, -CH&sub2;CH&sub2;COOH, -CH&sub2;CH&sub2;SO&sub3;Na, -CH&sub2;CH&sub2;SO&sub3;K, Phenyl, Naphthyl, Tolyl, Xylyl, Fluorphenyl, Chlorphenyl, Bromphenyl, Ethylphenyl, Propylphenyl, Hydroxyphenyl, Methoxyphenyl, Ethoxyphenyl, -Phe-SO&sub3;Na, -Phe-SO&sub3;K, -Phe-NHNHCHO (Phe bedeutet eine Phenylengruppe), Benzyl, Methylbenzyl, Dimethylbenzyl, Ethylbenzyl, Propylbenzyl, Fluorbenzyl, Chlorbenzyl, Brombenzyl, Hydroxybenzyl, Methoxybenzyl, Ethoxybenzyl, Vinyl, Propenyl, Butenyl, Allyl, -CO-CH&sub3;, -CO-C&sub2;H&sub5;, -CO-OH, -CO-OCH&sub3;, -CO-OC&sub2;H&sub5;, -CO-NH&sub2;, -CO-COOH, -CO-CH&sub2;COOH, -NH&sub2;, -NHCH&sub3;, -N(CH&sub3;)&sub2;, -NH-Ph und -N(Ph)&sub2; (Ph bedeutet eine Phenylgruppe), bedeuten.

4. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Verbindung wenigstens eine Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus den folgenden Formeln, ist:

R&sub1;OCONH(CH&sub2;)&sub6;NHCOOR&sub2;,

und

worin R&sub1; und R&sub2; die gleiche Bedeutung wie vorstehend besitzen.

5. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin das Molekulargewicht der Verbindung weniger als 20 000 ist.

6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 5, worin das Molekulargewicht der Verbindung weniger als 5000 ist.

7. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Menge der Verbindung, die der Zusammensetzung zugegeben wird, im Bereich von 1 bis 25 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des polymeren Bindemittels, liegt.

8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 7, worin die Menge der Verbindung in der Zusammensetzung im Bereich von 2 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des polymeren Bindemittels, liegt.

9. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 7, worin die Menge des Diazoharzes im Bereich von 3 bis 40 Gew.-% und die Menge des polymeren Bindemittels im Bereich von 97 bis 60 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht dieser zwei Komponenten, liegt.

10. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 7, worin die Menge des Diazoharzes im Bereich von 5 bis 30 Gew.-% und die Menge des polymeren Bindemittels im Bereich von 95 bis 70 Gew.-%, bezogen das Gesamtgewicht dieser zwei Komponenten, liegt.

11. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, welche weiterhin wenistens ein Additiv, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Alkylethern, oberflächenaktiven Mitteln, Weichmachern, Farbstoffen oder Pigmenten und Stabilisatoren für das Diazoharz, umfaßt.

12. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Menge des Additivs im Bereich von 0,5 bis 30 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Zusammen, liegt.

13. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin das Polyurethanharz eine Carboxylgruppe besitzt.

14. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 13, worin das Polyurethanharz zusätzlich eine ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoffbindung besitzt.