DE4404154C2 - Verfahren und Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer Oberfläche - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer OberflächeInfo
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- DE4404154C2 DE4404154C2 DE19944404154 DE4404154A DE4404154C2 DE 4404154 C2 DE4404154 C2 DE 4404154C2 DE 19944404154 DE19944404154 DE 19944404154 DE 4404154 A DE4404154 A DE 4404154A DE 4404154 C2 DE4404154 C2 DE 4404154C2
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum optischen Untersuchen
einer Oberfläche auf der Grundlage der Weißlicht-Interferometrie,
bei dem spektral breitbandiges Licht in einen Referenzarm und
einen Objektarm aufgeteilt wird, bei dem ein aus einem durch
Fokussieren des Lichtes gebildeten, gegenüber den Abmessungen
der Oberfläche kleinflächigen Auftreffbereich des Lichtes von der
Oberfläche in den Objektarm zurückgeworfener Objektlichtanteil
mit einem aus dem Referenzarm zurückgeworfenen Referenzlicht
anteil überlagert und ein aus dem Objektlichtanteil und dem
Referenzlichtanteil gebildetes Oberflächeninterferenzsignal detek
tiert wird, wobei das Oberflächeninterferenzsignal in Abhängigkeit
einer veränderlichen optischen Weglänge wenigstens eines Armes
aufgenommen wird.
Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zum optischen
Untersuchen einer Oberfläche auf der Grundlage der Weißlicht-
Interferometrie, insbesondere zum Durchführen des Verfahrens
nach Anspruch 1, mit einer breitbandigen Lichtquelle, deren
Ausgangslicht mit einer Strahlteilvorrichtung in einen eine Reflek
tionsvorrichtung aufweisenden Referenzarm und einen Objektarm
aufteilbar ist, wobei das mittels der Strahlteilvorrichtung in den
Objektarm geleitete Ausgangslicht die Oberfläche in einem durch
Fokussieren gebildeten, gegenüber den Abmessungen der Ober
fläche kleinflächigen Auftreffbereich beaufschlagt und ein von der
Oberfläche aus dem Auftreffbereich zurückgeworfener Objektlicht
anteil mit einem von der Reflektionsvorrichtung zurückgeworfenen
Referenzlichtanteil mit einer Überlagerungsvorrichtung zu einem
einen lichtempfindlichen Detektor beaufschlagenden Oberflächen
interferenzlichtanteil überlagerbar ist, und mit wenigstens einer
Verstellvorrichtung, mit der die optische Weglänge wenigstens
eines Armes einstellbar ist, wobei ein Interferenzsignal in Ab
hängigkeit der optischen Weglängen in einer Auswerteeinheit ab
speicherbar ist.
Ein derartiges Verfahren und eine derartige Vorrichtung sind aus
der US 5,112,129 A sowie der US 4,818,110 bekannt. Mit den
gattungsgemäßen Verfahren und Vorrichtungen sind flächige
Interferenzmuster bezüglich des Kontrastes bei Verändern einer
optischen Weglänge eines Interferometerarmes zum Untersuchen
einer mikroelektronischen Schaltungsoberfläche auswertbar. Zur
Aufnahme und Verarbeitung der Flächenbilder sind rechenauf
wendige Algorithmen vorgesehen, die zwar Substrukturen mit
gegenüber dem Auftreffbereich des Lichtes kleineren Oberflächen
dimensionen untersuchbar machen, allerdings ist zum einen zum
Verarbeiten der anfallenden Datenmenge ein hoher Rechenauf
wand vonnöten, zum anderen bezüglich der lateralen Auflösung
durch die Beugungsbegrenzung eine untere Grenze bei der Auf
lösung der Interferenzmuster gegeben. Diese Einschränkungen
sind beispielsweise bei der Reihenuntersuchung von Oberflächen
mit Substrukturen nachteilig, die kleinere Oberflächendimensionen
als die aufgrund der Beugungsbegrenzung auflösbaren Bildpunkte
aufweisen.
Aus der US 5,054,924 ist ein interferometrisches Verfahren
bekannt, bei dem durch Überlagerung von zwei mit verschiedenen
Wellenlängen aufgenommenen Interferogrammen die Differenz
frequenz zwischen den beiden Bestrahlungswellenlängen als
Schwebungsfrequenz mittels einer räumlichen Fourier-Transforma
tion zur Rekonstruktion von asphärischen Oberflächen ausge
wertet wird. Durch das Gewinnen der Schwebungsfrequenz mit
direkten optischen Methoden ist zwar die der Schwebungsfreq
uenz inhärente Information verhältnismäßig einfach mit hoher
Genauigkeit ohne großen Rechenaufwand zugänglich, allerdings
ist der optische Aufwand mit Registrierung des Summeninter
ferogrammes auf einem hochauflösenden Film und anschließender
Beleuchtung und räumlicher Fourier-Transformation bei Reihen
untersuchungen mit kurzen Taktzeiten nachteilig.
Aus der US 4,946,280 ist ein Interferometer zur Wellenfront
analyse bei der Qualitätsuntersuchung von Spiegeln bekannt. Bei
der Überlagerung der Wellenfronten sind makroskopische Unregel
mäßigkeiten in der Spiegeloberfläche durch Deformationen in den
Interferenzmustern erkennbar. Eine Untersuchung mikroskopischer
Substrukturen ist nicht vorgesehen.
Aus der DE 30 32 564 A1 ist eine Interferometeranordnung
bekannt, bei der mittels eines Kreuzgitters die Ausrichtung eines
streifenartigen Interferenzmusters mit hohem Kontrast auch bei
verschiedenartigen Ausrichtungen von makroskopischen Ober
flächenstrukturen auswertbar ist. An eine Erfassung mikro
skopischer Substrukturen ist nicht gedacht.
Aus der DE 41 08 944 A1 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum interferometrischen Bestimmen der makroskopischen Form
von diffus streuenden Oberflächen bekannt. Durch Auswerten des
Kontrastes von bei inkohärenter Beleuchtung auftretenden soge
nannten "speckles" bei Variation einer Weglängendifferenz zwi
schen dem Objektarm und dem Referenzarm ist zwar eine auf
grund einer Oberflächenrauhigkeit im Bereich der sehr kleinen
Kohärenzlänge diffus streuende Oberfläche untersuchbar, aller
dings versagt das Prinzip beispielsweise bei polierten, glatten
Oberflächen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren/eine
Vorrichtung der eingangs genannten Art zu schaffen, bei dem/der
insbesondere eine Reihenuntersuchung von Oberflächen beispiels
weise in der Qualitätskontrolle mit einem geringen apparativen
Aufwand und einer hohen, insbesondere durch die Beugungs
begrenzung nicht eingeschränkten lateralen Auflösung durchführ
bar ist.
Diese Aufgabe wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren da
durch gelöst, daß die optische Weglänge in einem Bereich ver
ändert wird, in dem ein von einer Substruktur mit einer gegenüber
der Größe des Auftreffbereiches kleineren Oberflächendimension
zurückgeworfener Substrukturlichtanteil mit einem Referenzlicht
anteil überlagert als ein Substrukturinterferenzsignal detektiert
wird, wobei das Substrukturinterferenzsignal durch die aus dem
Auftreffbereich zurückgeworfene Signalintensität in Abhängigkeit
der veränderlichen optischen Weglänge gebildet ist, und daß die
Differenz der Weglängen zwischen dem Oberflächeninterferenz
signal und dem Substrukturinterferenzsignal sowie die Form des
sich in Abhängigkeit der veränderlichen optischen Weglänge
innerhalb der Kohärenzlänge des Lichtes sowie in Abhängigkeit
von geometrischen und optischen Parametern der Substruktur in
hierfür charakteristischer Weise ändernden Substrukturinterferenz
signales zur Bestimmung von die Lage und Form des Substruktur
interferenzsignales beeinflussenden Eigenschaften der Substruktur
ausgewertet werden.
Diese Aufgabe wird bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung
dadurch gelöst, daß mit wenigstens einer der Verstellvorrich
tungen die optische Weglänge wenigstens eines Armes in einem
Bereich einstellbar ist, in dem ein von einer Substruktur mit einer
gegenüber der Größe des Auftreffbereiches kleineren Oberflächen
dimension zurückgeworfener Substrukturlichtanteil mit einem
Referenzlichtanteil zu einem Substrukturinterferenzsignal über
lagerbar sind, daß mit dem Detektor ein mit der Intensität des
Oberflächeninterferenzsignales beziehungsweise des Substruktur
interferenzsignales korreliertes Ausgangssignal erzeugbar ist und
daß eine Signalanalyseeinrichtung zur Bestimmung von die Lage
und Form des Substrukturinterferenzsignales beeinflussenden
Eigenschaften der Substruktur aus der Differenz der Weglängen
zwischen dem Oberflächeninterferenzsignal und dem Substruktur
interferenzsignal sowie der Form des sich in Abhängigkeit der
veränderlichen optischen Weglänge innerhalb der Kohärenzlänge
des Lichtes sowie in Abhängigkeit von geometrischen und op
tischen Parametern der Substruktur in hierfür charakteristischer
Weise ändernden Substrukturinterferenzsignales vorgesehen ist.
Es hat sich gezeigt, daß beispielsweise auf integrierte Schaltkreise
auftreffendes Weißlicht in Gräben mit Abmessungen im Sub
mikrometerbereich wie in einen Wellenleiter einkoppelt, von den
Grabenwänden geführt, am Grabenboden reflektiert wird und
wieder an der Oberfläche austritt. Dieser Lichtanteil ist gegenüber
dem direkt an der Oberfläche zurückgeworfenen Lichtanteil in dem
Objektarm verzögert. Durch das Abstimmen der optischen Weg
längen des Referenzarmes und des Objektarmes auf den von der
Substruktur zurückgeworfenen Substrukturlichtanteil ist ein von
dem Graben hervorgerufenes Substrukturinterferenzsignal auf
nehmbar.
Dadurch, daß erfindungsgemäß von dem optischen Weg
längenunterschied zwischen dem Referenzarm und dem Objektarm
abhängige, ein Weißlicht-Interferogramm bildende Intensitätsaus
gangssignale aus Substrukturen mit Abmessungen, die kleiner als
der Auftreffbereich sind, durch Verändern der Differenz der opti
schen Weglänge in einen über die zur Erfassung der Oberfläche
des Objektes hinausgehenden Bereich sind von der Intensität von
Substrukturinterferenzsignalen abhängige Meßwerte gewinnbar,
die in charakteristischer Weise von geometrischen und optischen
Parametern der erfaßten Substruktur abhängig und zur Bestim
mung dieser Parameter auswertbar sind. Da die Intensität der Sub
strukturinterferenzsignale in der Regel zum Teil deutlich kleiner als
die der Oberflächeninterferenzsignale sind, ist eine Fokussierung
des Lichtes auf die Oberfläche des Objektes sowie eine integrale
Intensitätserfassung erforderlich. Bei dem erfindungsgemäßen
Verfahren beziehungsweise der erfindungsgemäßen Vorrichtung
ist durch die intensitätsmäßige Erfassung der Substrukturinter
ferenzsignale in Abhängigkeit der Weglängendifferenz zwischen
dem Referenzarm und dem Objektarm die effektive laterale Auf
lösung kleiner als der Auftreffbereich.
In einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist zu Beginn
der Messung der Auftreffbereich auf einem substrukturfreien Teil
der Oberfläche positioniert. Durch Verstellen der optischen Weg
länge des Referenzarmes mit einer Referenzarmverstellvorrichtung
in groben Schritten sind die optischen Weglängen des Referenzar
mes und des Objektarmes aufeinander abstimmbar, indem nach
Detektieren eines Interferenzsignales die optische Weglänge des
Referenzarmes mit einer vorbestimmten Länge festgehalten wird.
Anschließend ist mit einer Objektarmverstellvorrichtung die opti
sche Weglänge des Objektarmes in einem vorbestimmten Bereich
einstellbar, der wenigstens den Dimensionen der Strukturen der
Oberfläche wie beispielsweise Stufen oder Gräben entspricht. Das
Verstellen der optischen Weglänge des Objektarmes erfolgt im
Verhältnis zu der Periodizität der Interferenzsignale in kleinen
Schritten.
Handelt es sich bei den zu untersuchenden Oberflächenstrukturen
um Gräben, die abschnittsweise in einer Richtung verlaufen, ist es
zweckmäßig, zum Erhöhen des Pegels des Substrukturinterferenz
signales den Auftreffbereich des Objektstrahles auf diese Vorzugs
richtung mittels einer Schlitzblende mit einer länglichen Ausdeh
nung auszurichten. Mit einer derartigen Schlitzblende ist anderer
seits an einer Position auf der Oberfläche über das Feststellen des
maximalen Pegels des Substrukturinterferenzsignales bei Ver
änderung der Aus
richtung der Schlitzblende der Verlauf eines detek
tierten Grabens ohne eine Relativbewegung zwischen der
Substruktur und dem Objektarm erfaßbar.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung
ergeben sich aus den Unteransprüchen und der nach
folgenden Figurenbeschreibung. Es zeigt:
Fig. 1 in einer schematischen Darstellung eine Vor
richtung zum optischen Untersuchen einer Ober
fläche, bei der die optischen Weglängen sowohl
eines Objektarmes als auch eines Referenzarmes
getrennt einstellbar sind und
Fig. 2 eine Anordnung einer Schlitzblende in einer
Vorrichtung gemäß der Fig. 1.
Fig. 1 zeigt in einer schematischen Darstellung eine
Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer Oberfläche.
Eine thermische Weißlichtquelle 1 emittiert breit
bandiges Ausgangslicht 2. Mit einer Fokussierlinse 3 ist
das über Rückreflektoren gerichtete Ausgangslicht 2 der
Weißlichtquelle 1 in eine Ausnehmung einer Nahfeldloch
blende 4 zum Festlegen eines kleinen Emissionsbereiches
der Weißlichtquelle 1 als Punktlichtquelle abbildbar.
Das durch die Ausnehmung der Nahfeldlochblende 4 durch
getretene Ausgangslicht 2 beaufschlagt eine
Kollimationslinse 5, die mit dem Abstand ihrer Brenn
weite von der Nahfeldlochblende 4 angeordnet ist. Das
nach Durchtritt durch die Kollimationslinse 5 parallele
Ausgangslicht 2 der Lichtquelle 1 durchläuft ein
Spektralfilter 6.
Der transmittierte Lichtanteil 7 durchtritt eine Fern
feldblende 8 mit einer rundlichen Ausnehmung 9 und fällt
auf einen Strahlteiler 10, mit dem der Lichtanteil 7 in
einen Referenzarm 11 und einen Objektarm 12 aufteilbar
ist.
Ein von dem Strahlteiler 10 in den Referenzarm 11 ein
geleiteter paralleler Referenzstrahl 13 ist mit einer
Referenzarmlinse 14 auf einen in der Brennebene der
Referenzarmlinse 14 vorgesehenen Referenzarmspiegel 15
fokussierbar. Bei einem sehr breitbandigen trans
mittierten Lichtanteil 7 ist es zweckmäßig, zum Ver
meiden von Abbildungsfehlern die Referenzarmlinse 14 als
eine achromatische Abbildungsvorrichtung auszuführen.
Die Referenzarmlinse 14 und der Referenzarmspiegel 15
sind in einem festen Abstand als eine Reflektions
vorrichtung 16 verbunden. Die Reflexionsvorrichtung 16
ist an einer Referenzarmverstellvorrichtung 17 an
gebracht, mit der die optische Weglänge des Referenz
armes 11 einstellbar ist.
Ein von dem Strahlteiler 10 in den Objektarm 12 ge
leiteter Objektstrahl 18 trifft auf einen ersten Ablenk
spiegel 19, der in einem Winkel von etwa 45 Grad zu dem
einfallenden Objektstrahl 18 an einem feststehenden
Ablenkspiegelhalter 20 angebracht ist. Das durch den
ersten Ablenkspiegel 19 um 90 Grad in Bezug auf den
einfallenden Objektstrahl 18 abgelenkte Licht fällt auf
einen ersten Rücklenkspiegel 21, der an einem Rücklenk
spiegelhalter 22 angebracht ist. Der erste Rücklenk
spiegel 21 lenkt das einfallende Licht um etwa 90 Grad
um, so daß dieses auf einen zweiten, ebenfalls an dem
Rücklenkspiegelhalter 22 angebrachten Rücklenkspiegel 23
fällt. Das auf den zweiten Rücklenkspiegel 23 fallende
Licht trifft nach einer Reflektion um etwa 90 Grad auf
einen zweiten Ablenkspiegel 24, der so angeordnet ist,
daß das von dem zweiten Rücklenkspiegel 23 einfallende
Licht wieder die gleiche Strahlachse wie das auf den
ersten Ablenkspiegel 19 einfallende Licht hat.
Der Rücklenkspiegelhalter 22 mit den an ihm befestigten
Rücklenkspiegel 21, 23 ist mit einer Objektarmverstell
vorrichtung 25 verbunden. Mit der Objektarmverstell
vorrichtung 25 ist die optische Weglänge des Objektarmes
12 einstellbar. Vorzugsweise ist für ein hochgenaues
Verstellen der optischen Weglänge des Objektarmes 12 die
Objektarmverstellvorrichtung 25 als ein Piezoelement
ausgeführt. Die Spiegel 19, 21, 23, 24 bilden zusammen
mit den Spiegelhaltern 20, 22 eine Umlenkeinheit 26.
In einer nicht dargestellten abgewandelten Ausführungs
form weist die Umlenkeinheit 26 ein Ablenkprisma und ein
Rücklenkprisma auf. Das Ablenkprisma ist auf einer dem
Strahlteiler 10 zugewandten äußeren Seitenfläche von dem
Objektstrahl 18 beaufschlagt, wobei diese den Objekt
strahl 18 auf die rechtwinklig zu dem einfallenden Licht
gestellte Basisfläche des Rücklenkprisma lenkt. Das über
die Basisfläche in das Rücklenkprisma eingetretene Licht
wird an den Innenseiten der Seitenflächen des Rücklenk
prismas reflektiert, tritt gegenüber dem einfallenden
Licht versetzt wieder über die Basisfläche aus dem
Rücklenkprisma aus und beaufschlagt die zweite äußere
Seitenfläche des Ablenkprismas, welche das von dem
Rücklenkprisma einfallende Licht in die gleiche Strahl
achse wie den von dem Strahlteiler 10 abgelenkten
Objektstrahl 18 lenkt. Die optische Weglänge des
Referenzarmes 11 ist mit optischen Ausgleichselementen
bezüglich der optischen Eigenschaften der Prismen in dem
Objektarm 12 kompensiert. Diese Ausführungsform der
Umlenkeinheit 26 zeichnet sich durch einen besonders
kompakten Aufbau aus.
Der Objektstrahl 18 beaufschlagt nach Durchlauf der
Umlenkeinheit 26 eine Objektarmlinse 27, die den Objekt
strahl 18 auf eine strukturierte Oberfläche 28 eines
Prüfkörpers 29 fokussiert. Die Referenzarmlinse 14 und
die Objektarmlinse 27 sind optisch gleichwirkend aus
geführt, so daß der Referenzarm 11 und der Objektarm 12
bezüglich ihrer optischen Eigenschaften, insbesondere
der Dispersion, kompensiert sind.
Die Oberfläche 28 weist beispielsweise wie in Fig. 1
schematisch dargestellt eine Stufe 30 und Gräben 31, 32
auf. Der Prüfkörper 29 ist mit einer Probenverstell
vorrichtung 33 verbunden, mit der über drei Verstell
elemente 34, 35, 36 der Prüfkörper 29 in drei zueinander
orthogonalen Raumrichtungen verstellbar ist.
Ein von einem Auftreffbereich 37 von der Oberfläche 28
des Prüfkörpers 29 rückgeworfener Oberflächenlichtanteil
des Objektstrahles 18 läuft in dem Objektarm 12 zurück
und wird an dem als Überlagerungsvorrichtung wirkenden
Strahlteiler 10 mit dem von dem Referenzarmspiegel 15
rückreflektierten Lichtanteil des Referenzstrahles 13 in
einem Interferenzstrahl 38 zu einem Oberflächen
interferenzsignal überlagert.
Ein weiterer Anteil des auf die Oberfläche 28 auf
treffenden Objektstrahles 18 koppelt in der in Fig. 1
dargestellten Stellung des Prüfkörpers 29 in den Graben
31 wie in einen Wellenleiter ein. Der in den Graben 31
eingekoppelte Lichtanteil wird teilweise an den Be
grenzungen des Grabens 31 geführt, am Boden des Grabens
31 reflektiert und tritt als ein Substrukturlichtanteil
wieder aus dem Graben 31 aus. Dieser Substrukturlicht
anteil läuft in dem Objektarm 12 ebenfalls auf den
Strahlteiler 10 zurück und bildet bei einer im wesent
lichen gleichen optischen Weglänge wie bei einem
zugeordneten Referenzlichtanteil ein in dem Inter
ferenzstrahl 38 enthaltenes Substrukturinterferenz
signal. Der Interferenzstrahl 38 ist mit einer Sammel
linse 39 auf einen lichtempfindlichen Detektor 40 ab
bildbar. Die Transmissionscharakteristik des Spektral
filters 6 ist so ausgeführt, daß das Ausgangssignal des
Detektors 40 im Frequenzbereich einer im wesentlichen
gaußförmigen Intensitätsverteilung des detektierten
Lichtes bei einer Mittenwellenlänge von in diesem Aus
führungsbeispiel etwa 1 Mikrometer entspricht.
Durch Verstellen der optischen Weglängen des Referenz
armes 11 und/oder des Objektarmes 12 in einem Bereich,
der sowohl Oberflächenlichtanteile als auch Substruktur
lichtanteile mit zugeordneten Referenzlichtanteilen
kohärent zur Überlagerung bringt, ist durch Detektieren
des Oberflächeninterferenzsignales und des Substruktur
interferenzsignales, die durch Interferenz innerhalb der
Kohärenzlänge einander zugeordneter Lichtanteile ent
stehen, das Substrukturinterferenzsignal zum Bestimmen
von Eigenschaften der durch die Gräben 31, 32 gebildeten
Substruktur auswertbar.
Die Referenzarmverstellvorrichtung 17 ist in diesem
Ausführungsbeispiel als ein Piezoelement ausgeführt, das
über einen einstufigen Steuerspannungswandler 41 zur
Grobverstellung der optischen Weglänge des Referenzarmes
11 an einen zentralen Datenprozessor 42 angeschlossen
ist. Die ebenfalls aus einem Piezoelement gebildete
Objektarmverstellvorrichtung 25 ist über einen weiteren
einstufigen Steuerspannungswandler 43 zur Feinver
stellung der optischen Weglänge des Objektarmes 12 an
den zentralen Datenprozessor 42 angeschlossen. Die
Verstellelemente 34, 35, 36 der Probenverstellvor
richtung sind gleichfalls aus Piezoelementen gebildet
und über einen dreistufigen Steuerspannungswandler 44
mit dem Datenprozessor 42 verbunden. Das Ausgangssignal
des Detektors 40 ist mit einem Verstärker 45 verstärkbar
und über einen Signalfilter 46 zum Abtrennen von
mechanisch und/oder elektrisch erzeugten Störsignalen
dem Datenprozessor 42 zuführbar.
Mit dem Datenprozessor 42 ist der Ablauf des Meß
vorganges steuerbar. Zu Beginn der Messung ist durch
Beaufschlagen des dreistufigen Steuerspannungswandlers
44 mit Steuersignalen und einer Umsetzung der Steuer
signale in Hochspannungsstellsignale durch den Steuer
spannungswandler 44 der Prüfkörper 29 mittels der
Probenverstellvorrichtung 33 auf eine Anfangsposition
verfahrbar. Zweckmäßigerweise weist die Oberfläche 28 an
dieser Anfangsposition einen glatten, unstrukturierten
Auftreffbereich 37 auf.
Bei einer Vorjustierung der Vorrichtung mittels in Fig.
1 nicht dargestellter mechanisch betätigbarer Einstell
elemente sind die optischen Weglängen des Referenzarmes
11 und des Objektarmes 12 bis auf etwa 1 Millimeter
gleich lang eingestellt. Durch eines der Verstell
elemente 34, 35, 36 ist die Oberfläche 28 an der
Anfangsposition in Bezug auf die Richtung des ein
fallenden Objektstrahles 18 in dem Fokalbereich der
Objektarmlinse 27 positionierbar.
Dann ist mit einer Grobmessung bei konstant gehaltener
optischer Weglänge des Objektarmes 12 durch Steuer
signale auf den Steuerspannungswandler 41 und von diesem
erzeugte Hochspannungsstellsignale auf die Referenzarm
verstellvorrichtung 17 die optische Weglänge des
Referenzarmes 11 in groben Schritten von typischerweise
etwa 0,3 Mikrometer veränderbar. Nach Verstellen der
optischen Weglänge des Referenzarmes 11 über einen
vorbestimmten Bereich wird die optische Weglänge des
Referenzarmes 11 beispielsweise auf den der größten
detektierten Signalintensität des Interferenzsignales
entsprechenden Längenwert eingestellt und in dieser
Referenzeinstellung festgehalten.
Anschließend ist vorgesehen, die Vorrichtung mit einem
im Auftreffbereich 37 angeordneten Referenzkörper in
einer Grundeinstellung einzujustieren. Der Referenz
körper weist eine Oberfläche mit einer lateralen
Struktur auf, die mit der Apertur der Objektarmlinse 27
und der spektralen Zusammensetzung des Objektstrahles 18
auf lösbar ist und die eine hohe Reflektivität besitzt,
so daß ein besonders rauscharmes Interferenzsignal
erreichbar ist. In einem ersten Schritt wird mit den
Verstellelementen 34, 35, 36 die Oberfläche des
Referenzkörpers genau in der Fokalebene der Objektarm
linse 27 angeordnet, wobei hierzu für eine besonders
präzise Justage in Fig. 1 nicht dargestellte optische
Justiervorrichtungen vorgesehen sind. In einem ab
gewandelten Ausführungsbeispiel erfolgt die visuelle
Beobachtung der Fokussierung mittels des Detektors 45.
Dann wird bei der festgehaltenen optischen Weglänge des
Referenzarmes 11 in der Referenzeinstellung die optische
Weglänge des Objektarmes 12 über die Objektarmverstell
vorrichtung 25 in kleinen Schritten von höchstens etwa
100 Nanometer variiert, so daß der Maximalwert des
Oberflächeninterferenzsignales des Referenzkörpers
bestimmbar ist. In der somit festgelegten Grundein
stellung mit definierten optischen Weglängen des
Referenzarmes 11 und des Objektarmes 12 sowie dem in der
Fokalebene der Objektarmlinse 27 angeordneten Referenz
körper ist nunmehr ein Prüfkörper 29, der eine Ober
fläche 28 mit beispielsweise einer Stufe 30 aufweist, in
einfacher Weise dadurch in die Grundeinstellung justier
bar, daß bei festgelegten optischen Weglängen des
Referenzarmes 11 und des Objektarmes 12 die Grundein
stellung durch alleiniges Bestimmen des Maximalwertes
des Oberflächeninterferenzsignales der Prüfkörper 29 in
der Fokalebene der Objektarmlinse 27 positionierbar ist.
Diese Vorgehensweise ist insbesondere für eine automati
sche Fokussierung zweckmäßig.
Bei dem Beginn der Feinmessung mit fest eingestellter
optischer Weglänge des Referenzarmes 11 durch Verstellen
der optischen Weglänge des Objektarmes 12 über die
Objektarmverstellvorrichtung 25 in kleinen Schritten von
typischerweise etwa 50 Nanometer beispielsweise von
einem Maximalwert zu einem Minimalwert überlagern sich
die aus dem Referenzarm 11 und dem Objektarm 12
stammenden Wellenzüge auf dem Detektor 40 bei einer
Differenz der optischen Weglängen, die größer als die
Kohärenzlänge des transmittierten Lichtanteiles 7 ist,
im wesentlichen zu einer gleichbleibenden Referenz
intensität. Durch Verändern der optischen Weglänge des
Objektarmes 12 tritt ab einer bestimmten Differenz der
optischen Weglängen eine teilweise kohärente Über
lagerung von durch den Strahlteiler 10 getrennten Licht
anteilen mit gleicher durchlaufener optischer Weglänge
auf.
Liegt wie in Fig. 1 dargestellt in dem Auftreffbereich
37 eine beispielsweise durch einen Graben 31 gebildete
Substruktur mit einer kleineren Dimension als die Größe
des Auftreffbereiches 37, ist durch Verändern der
optischen Weglänge des Objektarmes 12 mit der Objektarm
verstellvorrichtung 25 eine Überlagerung des durch den
Graben 31 rückgeworfenen Substrukturlichtanteiles in den
Objektarm 12 mit dem zugehörigen rückreflektierten
Lichtanteil aus dem Referenzarm 11 zu einem Substruktur
interferenzsignal durchführbar.
Diese nunmehr kohärent mit unterschiedlichen Phasenver
schiebungen bei verschiedenen optischen Weglängen
innerhalb der Kohärenzlänge überlagerten Lichtanteile
erzeugen ein mit der optischen Weglänge des Objektarmes
12 korreliertes Ausgangssignal des Detektors 40, das der
Intensität des Oberflächeninterferenzsignales oder des
Substrukturinterferenzsignales entspricht.
Tritt im Verlauf der Feinmessung beispielsweise eine
Änderung der Höhe der Oberfläche 28 durch die Stufe 30
ein, ist dies durch ein gegenüber der Referenzlage
wegverschobenes Weißlicht-Interferogrammes der Ober
fläche 28 erfaßbar. Diese Verschiebung des Weißlicht-
Interferogrammes ist durch Nachfahren des Prüfkörpers 29
durch Verfahren beispielsweise des für die Verschiebung
in Richtung des Objektstrahles 18 vorgesehenen Verstell
elementes 36 korrigierbar. Der Verstellweg des Verstell
elementes 36 ist in dem Datenprozessor 42 mit Bezug auf
den Ort des Auftreffbereiches 37 abspeicherbar und
entspricht in diesem Ausführungsbeispiel der Höhe der
Stufe 30.
Nach Abschluß der Feinmessung bei in diesem Ausführungs
beispiel fester optischer Weglänge des Referenzarmes 11
ist in dem Datenprozessor 42 das verstärkte und ge
filterte Ausgangssignal des Detektors 40 als ein so
genanntes Weißlicht-Interferogramm des Oberflächeninter
ferenzsignales und des Substrukturinterferenzsignales
abgespeichert, bei dem die Intensität des Ausgangs
signales des Detektors 40 gegen die eingestellte Weg
länge des Objektarmes 12 abgelegt ist. Durch Auswertung
des Weißlicht-Interferogrammes der Interferenzsignale
ist mit einer in dem Datenprozessor 42 integrierten
Signalverarbeitungsschaltung 47 ist beispielsweise der
Ort der größten Signalintensität als eine Bezugsgröße
festlegbar.
Die durch die Objektarmverstellvorrichtung 25 veränder
bare Weglänge des Objektarmes 12 entspricht wenigstens
der größten Höhendifferenz auf der Oberfläche 28, bei
spielsweise der Höhe der Stufe 30 sowie der Tiefe des
Grabens 31. Zweckmäßigerweise beträgt der Stellweg der
Objektarmverstellvorrichtung 25 das etwa Fünffache einer
zu erwartenden Höhendifferenz, um auch größere
Toleranzen beispielsweise bei einer Qualitätsüberwachung
sicher erfassen zu können.
Insbesondere bei verhältnismäßig schwachen Substruktur
interferenzsignalen und/oder einem verhältnismäßig
langsamen Verstellen der optischen Weglängen im Bereich
von weniger als etwa einem Mikrometer pro Sekunde ist es
zweckmäßig, in dem Strahlengang des Objektarmes 12 eine
in Fig. 1 nicht dargestellte Vorrichtung zum Unter
brechen des Objektstrahles 18 mit einer festen Frequenz
mit einigen 10 Hertz vorzusehen, die an einen Frequenz
speiseeingang eines synchronisierten Verstärkers, eines
sogenannten Lock-In-Verstärkers, angeschlossen ist. Der
Signaleingang des Lock-In-Verstärkers ist mit dem Detek
tor 40 verbunden. In diesem Ausführungsbeispiel werden
mit dem Lock-In-Verstärker bei dem Verstellen der
optischen Weglänge des Objektarmes 12 die Interferenz
signale mit einem hohen Signal/Rausch-Verhältnis detek
tiert, wobei die Meßzeit durch das Anwenden der Lock-In-
Technik in nur einem Meßschritt verhältnismäßig kurz
ist.
Die Differenz der Weglängen zwischen dem Oberflächen
interferenzsignal und dem Substrukturinterferenzsignal
sowie die Form des Substrukturinterferenzsignales sind
mit einer Substruktursignalanalyseeinrichtung 48 des
Datenprozessors 42 auswertbar. Beispielsweise ist bei
einer durch den Graben 31 gebildeten Substruktur der
Wegunterschied im wesentlichen durch die Tiefe des
Grabens 31 und die Form des durch das Substrukturinter
ferenzsignal gebildete Weißlicht-Interferogrammes durch
die Weite und die Dispersion des als Wellenleiter
wirkenden Grabens 31 bestimmt und beispielsweise über
eine Fouriertransformation auswertbar, die Informationen
über die Geometrie des Grabens 31 enthält. Es ist vor
gesehen, als aus der Form des Substrukturinterferenz
signales abgeleitete Größen beispielsweise die Breite
der Einhüllenden, die Periode sowie die Abfolge von
Maxima und Minima zur Bestimmung der Geometrie und/oder
Dispersion der Substruktur zu bestimmen. Durch die
Intensitätsverteilung des Lichtanteiles 7 ist nach
Detektion durch den Detektor 40 ein besonders gut auf
lösbares Substrukturinterferenzsignal und damit eine
zuverlässige Tiefenauflösung erreicht.
Nach Auswertung der Oberflächeninterferenzsignale und
der Substrukturinterferenzsignale nach dem Abrastern der
Oberfläche 28 ist in einer an den Datenprozessor 42 an
geschlossenen Ausgabeeinheit 49, beispielsweise auf
einem Farbbildschirm, mit einer Farbkodierung die
Struktur und Substruktur der Oberfläche 28 darstellbar.
Fig. 2 zeigt in einer schematischen Darstellung eine
Fernfeldblende 8 mit einer rechteckigen Fernfeldaus
nehmung 50. Der Fernfeldblende 8 mit der Fernfeld
ausnehmung 50 ist eine in Fig. 2 nicht dargestellte
Nahfeldblende 4 mit einer gegenüber der Fernfeld
ausnehmung 50 um 90 Grad gedrehten rechteckigen Nahfeld
ausnehmung zugeordnet. Ein Teil des durch die Fernfeld
ausnehmung 50 transmittierten Lichtanteiles 7 ist mit
der Objektarmlinse 27 auf die Oberfläche 28 des Prüf
körpers 29 fokussierbar. In der in Fig. 2 dargestellten
Anordnung ist die Fernfeldausnehmung 50 so ausgerichtet,
daß der von der Fernfeldblende 8 transmittierte Licht
anteil des Objektstrahles 18 in der Längsrichtung des
Grabens 31 verläuft. Die Fernfeldblende 8 ist, wie durch
einen Drehpfeil 51 angedeutet, mit einer in Fig. 2 nicht
dargestellten Drehvorrichtung um die Achse 52 des
Objektstrahles 18 drehbar. Mit der Drehvorrichtung ist
entsprechend dem Drehwinkel der Fernfeldblende 8 die
Nahfeldausnehmung der Nahfeldblende 4 so nachführbar,
daß die Ausnehmungen konjugiert um 90 Grad versetzt
zueinander ausgerichtet sind. In einem nicht dar
gestellten Ausführungsbeispiel entfällt die Fernfeld
blende 8 bei einer hohen optischen Qualität der Ab
bildung des transmittierten Lichtanteiles 7.
In der in Fig. 2 dargestellten Ausrichtung der
Fernfeldausnehmung 50 ist das durch den Graben 31
hervorgerufene Substrukturinterferenzsignal maximal,
während bei einer Drehung der Fernfeldausnehmung 50 und
der Nahfeldausnehmung gleichsinnig um jeweils 90 Grad
das Substrukturinterferenzsignal minimal ist. Auf diese
Weise ist bei einer Position des Prüfkörpers 29 der
Längsverlauf des Grabens 31 zwischen zwei Meßpunkten auf
der Oberfläche 28 bestimmbar. Daher ist die für ein
genaues Untersuchen der Oberfläche 28 notwendige Dichte
der Meßpunkte und damit die im wesentlichen von der
durch das Verändern der optischen Weglängen bestimmten
Meßzeit reduzierbar, da nunmehr zwischen zwei weiter
entfernten Meßpunkten der Verlauf des Grabens 31 inter
polierbar ist.
Claims (14)
1. Verfahren zum optischen Untersuchen einer Oberfläche (28)
auf der Grundlage der Weißlicht-Interferometrie, bei dem
spektral breitbandiges Licht (2, 7) in einen Referenzarm (11)
und einen Objektarm (12) aufgeteilt wird, bei dem ein aus
einem durch Fokussieren des Lichtes (2, 7) gebildeten,
gegenüber den Abmessungen der Oberfläche (28) klein
flächigen Auftreffbereich (37) des Lichtes (2, 7) von der
Oberfläche (28) in den Objektarm (12) zurückgeworfener
Objektlichtanteil mit einem aus dem Referenzarm (11) zu
rückgeworfenen Referenzlichtanteil überlagert und ein aus
dem Objektlichtanteil und dem Referenzlichtanteil gebildetes
Oberflächeninterferenzsignal detektiert wird, wobei das Ober
flächeninterferenzsignal in Abhängigkeit einer veränderlichen
optischen Weglänge wenigstens eines Armes (11, 12) aufge
nommen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die optische
Weglänge in einem Bereich verändert wird, in dem ein von
einer Substruktur (31, 32) mit einer gegenüber der Größe des
Auftreffbereiches (37) kleineren Oberflächendimension zu
rückgeworfener Substrukturlichtanteil mit einem Referenz
lichtanteil überlagert als ein Substrukturinterferenzsignal
detektiert wird, wobei das Substrukturinterferenzsignal durch
die aus dem Auftreffbereich (37) zurückgeworfene Signal
intensität in Abhängigkeit der veränderlichen optischen
Weglänge gebildet ist, und daß die Differenz der Weglängen
zwischen dem Oberflächeninterferenzsignal und dem Sub
strukturinterferenzsignal sowie die Form des sich in Abhän
gigkeit der veränderlichen optischen Weglänge innerhalb der
Kohärenzlänge des Lichtes (2, 7) sowie in Abhängigkeit von
geometrischen und optischen Parametern der Substruktur
(31, 32) in hierfür charakteristischer Weise ändernden Sub
strukturinterferenzsignales zur Bestimmung von die Lage und
Form des Substrukturinterferenzsignales beeinflussenden
Eigenschaften der Substruktur (31, 32) ausgewertet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
Licht (7) mit einer Intensitätsverteilung in den Referenzarm
(11) und den Objektarm (12) aufgeteilt wird, die bei Detek
tion zu einem Ausgangssignal führt, das einer im Frequenz
bereich gaußförmigen Intensitätsverteilung des detektierten
Lichtes entspricht.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Abgleich der optischen Weglängen des Referenz
armes (11) und des Objektarmes (12) die optische Weglänge
des Referenzarmes (11) verändert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die optische Weglänge des Referenzarmes (11) an einem
vorbestimmten Wert festgehalten wird und die optische
Weglänge des Objektarmes (12) in einem vorbestimmten
Bereich zum Detektieren des Oberflächeninterferenzsignales
und des Substrukturinterferenzsignales verändert wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die optische Weglänge des Objektarmes (12) ausgehend von
einer Grundeinstellung verändert wird, wobei die Grundein
stellung durch den Maximalwert des Oberflächeninterferenz
signales definiert ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Substrukturinterferenzsignal zur
Auswertung fouriertransformiert wird.
7. Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer Oberfläche
(28) auf der Grundlage der Weißlicht-Interferometrie, ins
besondere zum Durchführen des Verfahrens nach Anspruch
1, mit einer breitbandigen Lichtquelle (1), deren Ausgangs
licht (2, 7) mit einer Strahlteilvorrichtung (10) in einen eine
Reflexionsvorrichtung (16) aufweisenden Referenzarm (11)
und einen Objektarm (12) aufteilbar ist, wobei das mittels der
Strahlteilvorrichtung (10) in den Objektarm (12) geleitete
Ausgangslicht (2, 7) die Oberfläche (28) in einem durch
Fokussieren gebildeten, gegenüber den Abmessungen der
Oberfläche (28) kleinflächigen Auftreffbereich (37) beauf
schlagt und ein von der Oberfläche (28) aus dem Auftreff
bereich (37) zurückgeworfener Objektlichtanteil mit einem
von der Reflexionsvorrichtung (16) zurückgeworfenen Refe
renzlichtanteil mit einer Überlagerungsvorrichtung (10) zu
einem einen lichtempfindlichen Detektor (40) beaufschlagenden
Oberflächeninterferenzlichtanteil überlagerbar ist, und mit
wenigstens einer Verstellvorrichtung (17), mit der die opti
sche Weglänge wenigstens eines Armes (11, 12) einstellbar
ist, wobei ein Interferenzsignal in Abhängigkeit der optischen
Weglängen in einer Auswerteeinheit (42) abspeicherbar ist, da
durch gekennzeichnet, daß mit wenigstens einer der Verstell
vorrichtungen (17, 25) die optische Weglänge wenigstens
eines Armes (11, 12) in einem Bereich einstellbar ist, in dem
ein von einer Substruktur (31 , 32) mit einer gegenüber der
Größe des Auftreffbereiches (37) kleineren Oberflächen
dimension zurückgeworfener Substrukturlichtanteil mit einem
Referenzlichtanteil zu einem Substrukturinterferenzsignal
überlagerbar ist, daß mit dem Detektor (40) ein mit der
Intensität des Oberflächeninterferenzsignales
oder des Substrukturinterferenzsignales korreliertes Aus
gangssignal erzeugbar ist und daß eine Signalanalyseein
richtung (48) zur Bestimmung von die Lage und Form des
Substrukturinterferenzsignales beeinflussenden Eigenschaften
der Substruktur (31, 32) aus der Differenz der Weglängen
zwischen dem Oberflächeninterferenzsignal und dem Sub
strukturinterferenzsignal sowie der Form des sich in Abhän
gigkeit der veränderlichen optischen Weglänge innerhalb der
Kohärenzlänge des Lichtes (2, 7) sowie in Abhängigkeit von
geometrischen und optischen Parametern der Substruktur
(31, 32) in hierfür charakteristischer Weise ändernden
Substrukturinterferenzsignales vorgesehen ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
mit dem Ausgangslicht (2) der breitbandigen Lichtquelle (1)
eine Filtervorrichtung (6) beaufschlagbar ist, wobei das von
der Filtervorrichtung (6) transmittierte Licht (7) zu einem
Ausgangssignal des Detektors (40) führt, das einer im Fre
quenzbereich gaußförmigen Intensitätsverteilung entspricht.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeich
net, daß die Reflexionsvorrichtung (16) mit einer Referenz
armverstellvorrichtung (17) und die optische Weglänge des
Objektarmes (12) mittels einer mit einer Objektarmverstell
vorrichtung (25) zusammenwirkenden Umlenkeinheit (26)
veränderbar sind.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Umlenkeinheit (26) eine Strahlablenkvorrichtung (19, 20,
24) aufweist, mit der der Lichtanteil (18) in dem Objektarm
(12) einer Rückreflexionsvorrichtung (21, 22, 23) zuführbar
ist, wobei die Rückreflexionsvorrichtung (21, 22, 23) mit
einem seitlichen Abstand von der Strahlablenkvorrichtung
(19, 20, 24) angeordnet ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Raumfiltervorrichtung (3, 4, 5, 8)
vorgesehen ist, mit der der Auftreffbereich (37) des Licht
anteiles (18) auf die Oberfläche (28) in seiner geometrischen
Gestalt einstellbar ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Raumfiltervorrichtung eine Blende (4) mit einer recht
eckigen Ausnehmung und zwei Sammellinsen (3, 5) auf
weist, wobei in den zusammenfallenden Brennebenen der
Sammellinsen (3, 5) die Blende (4) mit der Ausnehmung in
den zusammenfallenden Fokalbereichen der Sammellinsen (3,
5) angeordnet ist.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (4) drehbar ist.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
an jeder Meßposition die Blende (4) mit einer Drehvorrichtung
in einem Winkelbereich einstellbar ist.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19733890C2 (de) * | 1996-08-04 | 2000-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zum Vermessen eines Mediums und Vorrichtung dazu |
DE10256273B3 (de) * | 2002-12-03 | 2004-03-18 | Carl Mahr Holding Gmbh | Interferenzoptische Formmesseinrichtung mit Phasenschiebung |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19544253B4 (de) * | 1995-11-28 | 2006-06-29 | Jochen Neumann | Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgefühltem Objektstrahlengang |
DE19814057B4 (de) * | 1998-03-30 | 2009-01-02 | Carl Zeiss Meditec Ag | Anordnung zur optischen Kohärenztomographie und Kohärenztopographie |
KR20050098268A (ko) * | 2003-01-27 | 2005-10-11 | 제테틱 인스티튜트 | 트렌치의 특성을 측정하는 간섭 공초점 현미경에 사용되는누설 유도파 모드 |
DE102007010389B4 (de) | 2007-03-03 | 2011-03-10 | Polytec Gmbh | Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Objekts |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD146337A1 (de) * | 1979-09-26 | 1981-02-04 | Alois Erben | Einrichtung zur bestimmung geometrischer abmessungen an prueflingen |
US4310245A (en) * | 1980-03-19 | 1982-01-12 | Pritchard James L | Interferometer system |
US4615620A (en) * | 1983-12-26 | 1986-10-07 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for measuring the depth of fine engraved patterns |
JPH0654221B2 (ja) * | 1985-04-12 | 1994-07-20 | 株式会社日立製作所 | 段差測定装置およびその方法 |
DE3527245A1 (de) * | 1985-07-30 | 1987-02-12 | Adolf Friedrich Prof D Fercher | Verfahren und vorrichtung zur laengen- und positionsmessung |
US4818110A (en) * | 1986-05-06 | 1989-04-04 | Kla Instruments Corporation | Method and apparatus of using a two beam interference microscope for inspection of integrated circuits and the like |
US4946280A (en) * | 1988-09-15 | 1990-08-07 | Massachusetts Institute Of Technology | Wavefront analysis for segmented mirror control |
US5054924A (en) * | 1989-06-12 | 1991-10-08 | California Institute Of Technology | Method for extracting long-equivalent wavelength interferometric information |
US5112129A (en) * | 1990-03-02 | 1992-05-12 | Kla Instruments Corporation | Method of image enhancement for the coherence probe microscope with applications to integrated circuit metrology |
DE4108944A1 (de) * | 1991-03-19 | 1992-09-24 | Haeusler Gerd | Verfahren und einrichtung zur beruehrungslosen erfassung der oberflaechengestalt von diffus streuenden objekten |
DE4135959C2 (de) * | 1991-10-31 | 1994-01-20 | Leica Ag Heerbrugg | Verfahren zur Messung der Neigungen von Grenzflächen in einem optischen System |
US5398113A (en) * | 1993-02-08 | 1995-03-14 | Zygo Corporation | Method and apparatus for surface topography measurement by spatial-frequency analysis of interferograms |
-
1994
- 1994-02-10 DE DE19944404154 patent/DE4404154C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-01 WO PCT/DE1995/000140 patent/WO1995022040A1/de active Application Filing
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19733890C2 (de) * | 1996-08-04 | 2000-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zum Vermessen eines Mediums und Vorrichtung dazu |
DE10256273B3 (de) * | 2002-12-03 | 2004-03-18 | Carl Mahr Holding Gmbh | Interferenzoptische Formmesseinrichtung mit Phasenschiebung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1995022040A1 (de) | 1995-08-17 |
DE4404154A1 (de) | 1995-08-17 |
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