DE4345403C2

DE4345403C2 - Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung

Info

Publication number: DE4345403C2
Application number: DE4345403A
Authority: DE
Inventors: Eggo Sichmann; Stefan Kempf; Michael Koenig
Original assignee: Leybold AG; Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Current assignee: Oerlikon Deutschland Holding GmbH
Priority date: 1993-05-06
Filing date: 1993-05-06
Publication date: 1997-11-20
Anticipated expiration: 2013-05-07
Also published as: DE4315023A1; DE4315023C2

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Katho denzerstäubung für die statische Beschichtung scheibenförmiger Substrate mittels eines Plasmas in einer Vakuum-Prozeßkammer mit einer Zerstäu bungskathode, die im wesentlichen besteht aus ei nem ferromagnetischen Joch, einer Kühlplatte, ei nem Ringmagnet mit Polschuh, der ein zu zerstäu bendes, rotationssymmetrisches Target radial außen umgibt, sowie einer Anode. Die Vorderseite des Targets ist dem zu beschichtenden Substrat zuge wandt und in mindestens zwei Bereiche unterteilt; nämlich einen ebenen, ringförmigen und zentralen Bereich, dessen Oberfläche parallel zur ebenen Targetrückseite verläuft, sowie einem äußeren Be reich, der den zentralen Bereich ringförmig umgibt und dessen Oberfläche zur Oberfläche des zentralen Bereichs so geneigt ist, daß die Dicke des Targets an seinem in Umfangsrichtung äußeren Rand größer ist als die Dicke in Targetmitte.

Zur Herstellung dünner Schichten auf Substraten sind verschiedene Vorrichtungen bekannt. So werden beispielsweise für die Beschichtung von scheiben förmigen Substraten, wie etwa Compact-Discs, zum Großteil Kathodenzerstäubungsvorrichtungen einge setzt. Solche Vorrichtungen sind in vielzähligen Schriften bereits offenbart und unterliegen einer ständigen Weiterentwicklung.

So hat sich bei den bekannten Vorrichtungen her ausgestellt, daß der Kathodenaufbau mit Nachteil zu aufwendig ausgeführt ist und die Vorrichtung aus zu vielen Teilen besteht, daß die Kühlwirkung nicht ausreichend ist, der Targetabtrag sehr un gleichmäßig verläuft sowie die unerwünschte Ent stehung von Arcs noch nicht vermieden werden kann.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die oben genannten Nachteile zu vermeiden und eine neue Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung an zuge ben, die sich insbesondere durch eine kostengün stige, bedienerfreundliche Ausführung des Katho denaufbaus sowie durch einen geringen elektrischen Leistungsbedarf auszeichnet.

Die Lösung der oben genannten Aufgaben wird durch eine Kombination mehrerer Merkmale erreicht, die in den selbständigen Ansprüchen der vorliegenden Patentanmeldung offenbart sind.

Mit Vorteil wird die Kühlwirkung einer indirekt gekühlten Anode erhöht, indem man sich den entste henden Differenzdruck zwischen dem Innenraum der Vakuumkammer sowie der die Kammer umgebenden Atmo sphäre als Andruckkraft zunutze macht. Üblicher weise wurde die Andruckkraft bislang durch Pratz- oder Schraubverbindung erzeugt. Durch die vorlie gende Erfindung wird der Kathodenkörper auf die Außenwand der Vakuumkammer aufgelegt. Zwischen der Kathode und der Außenwand ist beispielsweise ein O-Ring eingelegt, der sich nach dem Auflegen der Kathode zunächst durch das Eigengewicht der Ka thode gering verformt und erst beim Evakuieren des Innenraums der Vakuumkammer eine weitere starke Verformung erfährt, bis ein Kühlkörper der Katho denunterseite auf der Kammerwand aufliegt. Dadurch wird eine schnelle Montage und Demontage der Ka thodenzerstäubungsvorrichtung an der Vakuum-Pro zeßkammer ohne Schrauben ermöglicht.

Um ein möglichst flaches Magnetfeld vor und in dem Target zu erzeugen und um die Lage des Erosionsma ximums im Target verschieben zu können, wird zum einen ein Gegenmagnetfeld erzeugt und zum anderen ein Distanzring aus nicht magnetischem Material zwischen Target und Polschuh eingesetzt. Die Ge genmagnete sind auf der Targetrückseite angeordnet und können sowohl ferromagnetisch an das Joch ge koppelt oder auch ohne Ankopplung nahe der Targe trückseite vorgesehen sein.

Der beschriebene Distanzring besteht vorzugsweise aus rostfreiem Stahl oder Kupfer und hat ferner die Aufgabe durch seine konische Gestaltung in Verbindung mit einer konischen Gestaltung des Pol schuhs die Magnetfeldlinien in einer gewünschten Richtung austreten zu lassen, um eine vorteilhafte linsenförmige Magnetfeldstruktur zu erreichen.

Durch eine vorzugsweise kathodische Beschaltung des Distanzrings wird die Wahrscheinlichkeit der Bildung von Überschlägen/Arcs zwischen Target und Polschuh reduziert. Arcing zwischen dem Target und dem Magnetsystem führt in bekannten Anwendungen zu unkonstanten Sputtereigenschaften wie einer un gleichmäßigen Sputterrate, Pinholes auf den Substraten sowie schlechten Einsputtereigenschaf ten. Da das Target einem häufigen Bauteilwechsel unterliegt und beispielsweise im Falle der Verwen dung von Aluminium als Targetmaterial zu der Aus bildung von dielektrischen Oxydschichten neigt, ist die Überschlagshäufigkeit zwischen Target und den angrenzenden, auf unterschiedlichem Potential (floatend, anodisch oder auf Masse) liegenden Tei len sehr hoch.

Durch den kathodischen Anschluß des Distanzrings wird ein Arcing zum Targetrand hin ausgeschlossen. Ein Überschlag kann demzufolge nur zwischen Di stanzring und Polschuh stattfinden. Ein dort auf tretender Überschlag hat jedoch wegen der geome trischen Abschirmwirkung keinen negativen Einfluß auf die Beschichtungsqualität. Da der Distanzring nicht zu den häufig zu wechselnden Teilen zählt, ist eine Verunreinigung, die wiederum arcproduzie rend ist, nahezu auszuschließen. Ferner läßt sich durch geeignete Materialwahl des Distanzrings (Edelstahl, Kupfer, etc.) die Arcwahrscheinlich keit deutlich reduzieren, da solche Materialien nicht zur Ausbildung einer dielektrischen Schicht neigen.

Bei einer Kathodenzerstäubungsvorrichtung werden üblicherweise die Elemente, die dem Sputterprozeß nicht unterliegen mit Masse- oder Anodenpotential angeschlossen. In der vorliegenden Erfindung wer den jedoch zur Vereinfachung des Kathodenaufbaus alle Elemente, die zur Zerstäubungsquelle zugehö rig sind, mit negativem Anschluß der Sputterstrom versorgung angeschlossen. Die Isolierung erfolgt vorteilhafterweise nur zwischen Kammer und dem Ka thodenkörper, wodurch die Anzahl der notwendigen Isolationen verringert wird.

In der vorliegenden Anmeldung wird weiterhin eine Befestigungsmöglichkeit für das Target angegeben, die vorteilhafterweise aus nur einer Hohlschraube besteht, mit der das Target gegen eine, auf der Targetrückseite befindliche Kühlplatte verschraubt wird. Diese Hohlschraube übernimmt mehrere Funk tionen, so daß sie auch als Multifunktionselement bezeichnet werden kann. Die Schraube sorgt erstens für ein mechanisches Verspannen des Targets mit der Kühlplatte und zweitens für ein Leiten des elektrischen Stroms zum Target und drittens ist sie für das Führen des magnetischen Feldes durch das Target vorgesehen.

Als weiteres Merkmal der vorliegenden Erfindung ist eine Doppelanode beschrieben, welche das Tar get radial außen umschließt und in die zentrische Bohrung des Targets eingreift. Die Anode ist im wesentlichen vor dem Target angeordnet und taucht um einen definierten Abstand hinter die Targeto berfläche ein. Der radiale Abstand zwischen Target und Anode wird vorzugsweise so ausgeführt, daß der Dunkelraumabstand unterschritten ist und so ein Abtrag des Targets ab dieser Stelle verhindert wird.

Weitere Ausführungsmöglichkeiten und Merkmale sind in den Unteransprüchen näher beschrieben und ge kennzeichnet.

Die vorliegende Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungsmöglichkeiten zu; einige Beispiele sind in den anhängenden Zeichnungen näher dargestellt und zwar zeigen:

Fig. 1 eine Zerstäubungskathode mit An oden, Substrat und Teilen der Kam merwand in Schnittdarstellung,

Fig. 2. den Bereich zwischen Kathode und Kammerwand entsprechend Detail X aus Fig. 1 bei Atmosphärendruck und in vergrößerter Darstellung,

Fig. 3. das Target mit dem Magnetfeldlinienverlauf als Ausschnitt und in vergrößerter Darstellung,

Fig. 4 eine Zerstäubungskathode mit Anoden und Substrat in schematischer Dar stellung, wobei der gesamte Katho denkörper kathodisch angeschlossen ist und

Fig. 5 den Bereich um das Target mit der Doppelanode als Ausschnitt und in vergrößerter Darstellung.

Auf der Kammerwand 1 (Fig. 1) einer ortsfesten Va kuum-Prozeßkammer ist eine Zerstäubungskathode 2 aufgesetzt. In einer ringförmigen Nut auf der Oberseite der Kammerwand 1 ist ein Vakuum-Dicht ring 3 vorgesehen und in eine ringförmige Ausneh mung in der Kammerwand 1 eine Anode 4 eingelegt.

Die Kathode 2 besteht aus einem scheibenförmigen ferromagnetischen Joch 5 und einer Kühlplatte 7, wobei zwischen beiden ein scheibenförmiger Isola tor 6 eingelegt ist. Vor der Kühlplatte 7 befindet sich das zu zerstäubende Target 8, während auf der Rückseite der Kühlplatte 7 in einer ringförmigen Nut ein Ringmagnet 9 eingelegt ist; Das Joch 5, der Isolator 6 und die Kühlplatte 7 werden durch eine Schraube 10 gehalten, wobei jedoch die Schraube 10 gegen das Joch 5 durch einen Isolator 12 isoliert ist und die Schraube 10 durch ein Ka bel 11 mit einer nicht gezeigten Sputterstromver sorgung verbunden ist. Im radial äußeren Bereich der Vorderseite des Jochs 5 ist ein Ringmagnet 13 vorgesehen an den sich der Polschuh 14 anschließt.

Auf der Stirnseite des Polschuhs 14 befindet sich ein Kühlring 15, der einen ringförmigen Kühlkanal 16 aufweist und der mit Schrauben 17 mit dem Pol schuh 14 verbunden ist. Ein Kühlwasseranschluß 18 versorgt den Kühlkanal 16 mit der erforderlichen Kühlflüssigkeit. Auf der Rückseite des Jochs 5 ist ein zweiter Kühlwasseranschluß 19 zur Versorgung der Kühlplatte 7 vorgesehen.

Im radial innen liegenden Bereich der Kathode 2 ist eine Axialbohrung eingebracht, welche von der Rückseite des Jochs 5 bis zur Vorderseite des Tar gets 8 durchgehend ausgeführt ist. In diese durch gehende Axialbohrung ist von der Targetseite eine Hohlschraube 20 eingesetzt, welche mit der Unter seite ihres Schraubenkopfes auf einer kreisring förmigen Auflagefläche des Targets aufliegt und mit der Kühlplatte 7 verschraubt ist. An diese Hohlschraube 20 schließt sich in axialer Richtung berührungsfrei eine Hülse 21 an, welche in der Axialbohrung des Isolators 6 geführt wird und bis zur Rückseite des Jochs 5 zeigt. Auf der Rückseite der Hülse 21 ist ein Kühlkopf 22 befestigt, der in axialer Richtung durch die Hülse 21 sowie die Hohlschraube 20 bis zur Targetvorderseite reicht und die Hohlschraube 20 nicht berührt. In dem Kühlkopf 22 sind Kühlwasserzu- und -rückführungen 23, 24 vorgesehen. Auf der Stirnseite des Kühlkop fes 22 ist mittels einer Schraube 25 die Mittelanode 26 befestigt. Diese Mittelanode 26 reicht bis in die zentrische Vertiefung auf der Vorderseite des Targets 8 hinein und bildet mit ihren anderen Enden eine gemeinsame Ebene mit der Vorderseite der ringförmigen Anode 4, was die weitere Funktion als mögliche Substratmaskierung erfüllt.

Vor diesen beiden Anoden 4, 26 ist das zu be schichtende scheibenförmige Substrat 27 angeord net.

Das Detail X aus Fig. 1 ist in der Fig. 2 mit den wesentlichen Bauteilen und Abmessungen in vergrö ßerter Darstellung gezeigt. Auf der Oberfläche 30 der Kammerwand 1 ist eine trapezförmige Ringnut 28 eingedreht. Konzentrisch zu dieser Nut 28 ist eine Ausnehmung 29 vorgesehen, welche zur Kammerober fläche 30 sowie zu der kreisförmigen Öffnung 35 hin offen ist. In die Nut 28 ist ein Vakuum-Dicht ring 3 eingelegt, der die Kammeroberfläche 30 um den Abstand c überragt und auf dem der Kühlkörper 15 mit seiner Unterseite 31 aufliegt. In die Aus nehmung 29 ist die Anode 4 eingelegt, die aus ei nem hohlzylindrischen Anodenring 33 besteht, an den sich radial außen ein Klemmring 32 anschließt. Auf der Oberseite des Klemmrings 32 ist eine Kon taktfläche 34 angeordnet, die in dieser Ausführung parallel zur Oberfläche 30 der Kammerwand 1 ver läuft. Diese Kontaktfläche 34 überragt die Kam meroberfläche 30 um den Abstand b und ist zur Un terseite 31 des Kühlrings 15 um den Abstand a entfernt, solange im Innenraum der Vakuum-Prozeß kammer, welche durch die Kammerwand 1 begrenzt ist, noch Atmosphärendruck anliegt.

Ist der Innenraum der Vakuum-Prozeßkammer im Be triebszustand evakuiert, so wird der Vakuum-Dicht ring 3 soweit komprimiert bis die Unterseite 31 des Kühlrings 15 auf der Kontaktfläche 34 der An ode 4 aufliegt. Dies entspricht dann dem Zustand, wie er im Detail X in Fig. 1 bereits gezeigt ist.

Ein weiteres Detail aus der Fig. 1 ist in der Fig. 3 gezeigt, dieses stellt den Bereich um das Target 8 dar. Auf der Rückseite des Targets 8 schließt sich die Kühlplatte 7, der Isolator 6 sowie das Joch 5 an. In einer ringförmigen Ausnehmung 36 auf der Rückseite der Kühlplatte 7 ist der Ringmagnet 9 eingelegt. Am radial äußeren Rand der Vordersei te des Jochs 5 befindet sich der zweite Ringmagnet 13 mit seinem Polschuh 14, der sich bis zur Vor derkante des Targets 8 erstreckt.

Die Polungsrichtung der beiden Ringmagnete 9, 13 ist durch Pfeile dargestellt und weist in Richtung auf das Target 8. Durch den Ringmagnet 9 wird ein Gegenmagnetfeld erzeugt, welches den Verlauf der Magentfeldlinien 37 beeinflußt. Die Magnetfeldli nien 37 treten aus der Innenfläche des äußeren Polschuhs 14 aus, durchdringen das Target und tre ten in dem als Hohlschraube ausgebildeten zentri schen Polschuh 20 wieder ein. Das Gegenmagnetfeld, das durch den Ringmagneten 9 erzeugt wird, beein flußt den Verlauf der Magnetfeldlinien 37 dahinge hend, daß diese innerhalb des Targets einen paral lelen oder auch linsenförmigen Verlauf annehmen.

Fig. 4 zeigt eine Vorrichtung zur Kathodenzerstäu bung ähnlich der Darstellung in Fig. 1, die im we sentlichen besteht aus einer Kathode 38, und An oden 39, 39′, welche auf den Kühlring 40 aufge setzt sind. Die Kathode 38 besteht aus einem Joch 41, einer Kühlplatte 42 und einem Target 43, einem Ringmagnet 44 mit einem Polschuh 45 sowie einem Distanzring 46, der auf der Vorderseite der Kühl platte 42 befestigt ist und das Target 43 radial außen umgibt. Der Distanzring 46 weist eine äuße re, kegelstumpfförmige Mantelfläche 46a auf, wel che parallel zu einer korrespondierenden Mantel fläche 45a des Polschuhs 45 verläuft. Die vordere Stirnseite des Polschuhs 45 ist auf einen Isolator 47 aufgesetzt, welcher die Kathode 38 vom Kühlring 40 elektrisch isoliert.

Über ein Kabel 48 ist die Kathode 38 mit einer Sputterstromversorgung verbunden. Dadurch sind die folgenden Kathodenbauteile auf kathodisches Poten tial geschaltet: die Kühlplatte 42, das Joch 41, die Hohlschraube 51, der Distanzring 46, der Pol schuh 45 sowie das Target 43.

In die zentrische Bohrung des Targets 43 ist ein Kühlkopf 49 eingesetzt, welcher durch einen Isola tor 50 von der Rückseite des Jochs 41 elektrisch getrennt ist. Alle auf kathodischem Potential lie genden Bauteile sind von den auf anodischem Poten tial liegenden Bauteilen um den Dunkelraumabstand d beabstandet.

In Fig. 5 ist ein Ausschnitt aus Fig. 1 gezeigt, welcher im wesentlichen das Target 8 sowie die An oden 4, 26 darstellt. Von der Zerstäubungskathode 2 sind im wesentlichen die konzentrisch zueinander angeordneten Bauteile Kühlkopf 22, Hohlschraube 20, Target 8 sowie Polschuh 14 gezeigt. In Zer stäubungsrichtung vor dem Target angeordnet sind die Anoden 4, 26 ausschnittweise dargestellt.

Der Abstand in radialer Richtung von dem Target 8 zu den Anoden 4, 26 entspricht jeweils dem Dunkel raumabstand d. Die zur Kathode 2 hinzeigenden vor deren Enden der Anoden 4, 26 tauchen jeweils um einen Abstand A hinter die Targetvorderseite 52 ein.

Bezugszeichenliste

1 Kammerwand
2 Zerstäubungskathode
3 Vakuum-Dichtring
4 Anode
5 Joch
6 Isolator
7 Kühlplatte
8 Target
9 Ringmagnet
10 Schraube
11 Kabel
12 Isolator
13 Ringmagnet
14 Polschuh
15 Kühlring, -körper
16 Kühlkanal
17 Schraube
18 Kühlwasseranschluß
19 Kühlwasseranschluß
20 Hohlschraube (Polschuh)
21 Hülse
22 Kühlkopf
23 Kühlwasserzuführung
24 Kühlwasserrückführung
25 Schraube
26 Mittelanode
27 Substrat
28 Nut
29 Ausnehmung
30 Kammeroberfläche
31 Unterseite
32 Klemmring
33 Anodenring
34 Kontaktfläche
35 Öffnung
36 Ausnehmung
37 Magnetfeldlinien
38 Kathode
39, 39′ Anode
40 Kühlring
41 Joch
42 Kühlplatte
43 Target
44 Ringmagnet
45 Polschuh
45a Mantelfläche
46 Distanzring
46a Mantelfläche
47 Isolator
48 Kabel
49 Kühlkopf
50 Isolator
51 Hohlschraube
52 Targetvorderseite
53 Linie
X Detail
A Abstand
d Dunkelraumabstand
D1 Dicke
D2 Dicke
a Abstand
b Abstand
c Abstand

Claims

1. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die sta tische Beschichtung scheibenförmiger Sub strate (27) mittels eines Plasmas in einer Va kuum-Prozeßkammer mit einer Zerstäubungs kathode (2), im wesentlichen bestehend aus einem ferromagnetischen Joch (5), einem Magnet system (13) mit Polschuh (14), einem zu zerstäu benden, kreisringförmigen Target (8), einem Iso lator (6) sowie einer Kühlplatte (7) zwischen Target (8) und Joch (5), wobei das Target (8) mit nur einer, zentrisch durch das Target (8) hin durchgeführten Hohlschraube (20) gehalten ist und die Hohlschraube (20) sowohl aus einem ferromag netischen als auch elektrisch leitenden Werkstoff besteht, das Target (8) über die Hohl schraube (20) mit der Kühlplatte (7) elektrisch leitend verbunden ist und die Stromzuführung in die Kathode (2) über die Kühlplatte (7) erfolgt und die Hohlschraube (20) mit dem Joch (5) magne tisch führend verbunden ist.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß alle wesentlichen Kathodenbauteile rota tionssymmetrisch ausgeführt sind und sämtlich zentrische Bohrungen aufweisen, die in der Rota tionsachse liegen.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich net, daß die Hohlschraube (20) in der zentrischen Bohrung des Targets (8) geführt ist.

4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich net, daß die Hohlschraube (20) eine Kontaktfläche auf der Unterseite des Schraubenkopfes aufweist, welche auf einer Kontaktfläche auf der Targetvor derseite aufliegt.

5. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich net, daß die Hohlschraube (20) ein Außengewinde aufweist, welches in eine korrespondierende Ge windebohrung der Kühlplatte (7) eingeschraubt ist.

6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeich net, daß die Hohlschraube (20) berührungsfrei in magnetischem Kontakt steht mit einer ferromagne tischen Hülse (21), welche fest verbunden ist mit dem ferromagnetischen Joch (5) an der Kathoden rückseite.

7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß ein flüssigkeitsgekühlter Bolzen berüh rungsfrei in die Bohrung der Hohlschraube (20) eingesetzt und durch die Kathode (2) hindurch ge führt ist.

8. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die sta tische Beschichtung scheibenförmiger Sub strate (27) mittels eines Plasmas in einer Va kuum-Prozeßkammer mit einer Zerstäubungs kathode (2) mit einem rotationssymmetrischen, ringförmigen Target (8) aus dem zu zerstäubenden Werkstoff, und einer Doppelanode, bestehend aus einer ersten Mittelanode (26) und einer zweiten ringförmigen Außenanode (4), welche im wesentli chen in der Prozeßkammer vor dem Target (8) ange ordnet sind und wobei jedoch die Mittelanode (26) in axialer Richtung in eine zentrische Bohrung des Targets (8) hineinreicht und die Außen anode (4) das Target (8) zumindest teilweise ra dial außen umgibt und beide Anoden (4, 26) mit ihren dem Target (8) zugewandten vorderen Ende jeweils um einen Abstand (A) hinter die Target vorderseite (52) eintauchen und der kürzeste, ra diale Abstand zwischen Target (8) und Ano den (4, 26) jeweils innerhalb des Dunkelraumab stands (d) ist.

9. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung nach An spruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Tar get (8) an seinem radial äußeren Rand eine größe re Dicke (D1) aufweist als an seinem radial inne ren Rand.

10. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung nach An spruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Ano den (4, 26) mit ihren, dem Substrat (27) zuge wandten Enden, Bereiche der Substratvorderseite während des Beschichtungsvorganges abdecken.

11. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung nach An spruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Form der dem Substrat (27) zugewandten Enden der Ano den (4, 26) der Form des Substrats (27) entspre chen.

12. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die sta tische Beschichtung scheibenförmiger Substrate mittels eines Plasmas in einer Vakuum-Prozeßkam mer mit einer Zerstäubungskathode (38), im we sentlichen bestehend aus einem Magnetjoch (41), einem Magnetsystem (44) mit Polschuh (45), einer Kühlplatte (42), einem Target (43) aus dem zu zerstäubenden Werkstoff sowie einem Distanz ring (46), wobei die Kathode (38) auf eine Kam merwand (40) der Prozeßkammer aufgesetzt wird und alle Kathodenbauteile elektrisch miteinander ver bunden und mittels eines Kabels (48) an negativer Kathodenspannung angeschlossen sind und nur ein elektrischer Isolator (47) zwischen Zerstäubungs kathode (38) und der Kammerwand (40) vorgesehen ist.

13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekenn zeichnet, daß alle auf Kathodenpotential liegen den Bauteile zu allen benachbarten, auf Anodenpo tential liegenden Bauteilen beabstandet sind.

14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn zeichnet, daß der Abstand dem Dunkelraumab stand (d) entspricht.

15. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die sta tische Beschichtung scheibenförmiger Sub strate (27) mittels eines Plasmas in einer Va kuum-Prozeßkammer mit mindestens einer Öff nung (35), welche durch Auflegen einer Zerstäu bungskathode (2) von außen verschließbar ist und wobei zwischen Kathode (2) und Kammerwand (1) ein elastischer Vakuum-Dichtring (3) sowie eine ring förmige Anode (4) vorgesehen sind, die die Öff nung (35) radial außen umgeben und die Anode (4) auf ihrer zur Kathode (2) hin zeigenden Seite eine ebene Kontaktfläche (34) aufweist und einer seits bei Atmosphärendruck in der Kammer der Dichtring (3) diese Kontaktfläche (34) um einen Abstand (a) überragt und die zur Kammerwand (1) hin zeigende ebene Unterseite (31) der Kathode nur auf dem Dichtring (3) aufliegt und der Ab stand (a) so gewählt ist, daß andererseits bei Vakuumbedingungen in der Kammer die Unter seite (31) der Kathode auf der zu ihr parallelen Kontaktfläche (34) der Anode (4) dicht aufliegt.