DE4340107B4 - Verfahren zur Herstellung eines Teils mit einer fein strukturierten konkaven Oberfläche - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Teils mit einer fein strukturierten konkaven Oberfläche Download PDF

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Abstract

Verfahren zur Herstellung eines Teils (8) mit einer fein strukturierten konkaven Oberfläche durch Druck- oder Spritzgießen unter Verwendung einer als Dauerform dienenden Negativform (1) der Oberfläche des Teils, wobei die Negativform (1) unter Anwendung eines photochemischen Verfahrens mit Belichtung ihrer zur Formung der fein strukturierten konkaven Oberfläche des Teils (8) dienenden konvexen Oberfläche (1b) durch durch das Material der Negativform (1) von der Rückseite (1a) ihrer konvexen Oberfläche her durchdringende Strahlung erzeugt wird.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren mit dem ein Teil mit einer fein strukturierten konkaven Oberfläche durch Druck- oder Spritzgießen unter Verwendung einer als Dauerform für die der Oberfläche des Teils dienenden Negativform hergestellt werden kann.
  • Es ist bekannt, Teile mit fein strukturierter Oberfläche aus Metall oder Kunststoff durch Druck- oder Spritzgießen mittels einer Dauerform herzustellen.
  • Für optische Teile ist dies z. B. in R. K. Dakin, E.G. Loewen: "Replica Optics circa '75", Optical Spectra 1975, S. 29–31, beschrieben.
  • Bei bekannten Verfahren dieser Art gelangt eine Negativform des herzustellenden Teils als Master zum Einsatz, die zumeist aus Metall besteht und deren Oberflächenstruktur üblicherweise durch bekannte Verfahren der Metallbearbeitung (Drehen, Fräsen, Schleifen, Gravieren) ausgebildet wird.
  • Aus H. Dislich, E. Hildebrandt: "Über ein Verfahren zum Herstellen von Kunststoff-Beugungsgittern mit behinderter thermischer Ausdehnung", Optik, Vol. 28, Heft 2, 1968/69, S. 126–131, ist es bekannt, Kunststoff-Beugungsgitter mit niedrigem thermischen Ausdehnungskoeffizienten durch Auspolymerisation an einem Master aus Glas oder Glaskeramik zu bilden. Auch dieser Master wird durch mechanische Erzeugung der Oberflächenstruktur hergestellt.
  • Handelt es sich bei dem herzustellenden Teil um eines, dessen strukturierte Oberfläche konkav ist, so ist die komplementäre Struktur auf einer konvexen Oberfläche der Negativform zu erzeugen.
  • Dies ist für sehr feine Strukturen, die mit hoher Genauigkeit gebildet werden müssen, mit hohem Aufwand verbunden und überhaupt nur in gewissen, durch die mechanischen Toleranzen der Bearbeitungsmaschinen bedingten Grenzen möglich.
  • Auch photochemische Strukturbildungsverfahren, die in der Technologie der Mikroelektronik große Bedeutung gewonnen haben und deren Anwendung zur Herstellung von optischen Beugungsgittern aus der DE 16 23 803 A und mehreren Zusatzpatenten hierzu bekannt ist, stoßen bei der Erzeugung sehr feiner Strukturen auf konvexen Oberflächen an durch das Reflexions- und Streuungsverhalten konvex gekrümmter Flächen gesetzte Grenzen.
  • In der US 5,013,494 wird ein Verfahren zum Erzeugen von optischen Komponenten mit Hologrammen, vorzugsweise mit gezahntem Querschnitt beschrieben. Hierbei wird ein Hologramm auf eine Glas- oder Metallplatte aufgebracht, die als Negativform in einer Gussform Verwendung findet. Das Hologramm wird in bekannter Weise fotolithographisch auf der Glasplatte erzeugt, wobei die Glas- oder Metallplatte mit einem Photoresist beschichtet, belichtet und entwickelt wird. Im anschließenden Ätzprozess wird das entstandene Photoresistmuster auf die Glas- oder Metallplatte übertragen. Das Oberflächenmuster der Glas- oder Metallplatte kann im Spritzgießverfahren auf Kunststoff, wie beispielsweise Acrylharz mit guter Reproduzierbarkeit übertragen werden.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Gattung anzugeben, das zur Erzeugung sehr feiner Strukturen mit hoher Genauigkeit geeignet ist.
  • Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
  • Die Erfindung schließt den Gedanken ein die Strukturbildung direkt von der Rückseite der konvexen Oberfläche der Negativform selbst her vorzunehmen.
  • Schließlich schließt sie den Gedanken ein, dazu ein photochemisches Verfahren zu nutzen, das sich zur Belichtung einer Strahlung bedient, für die das Material der Negativform transparent ist, so dass die Belichtung von deren Rückseite her erfolgen kann.
  • Die Belichtung der konvexen Oberfläche der Negativform, die letztlich zur Strukturbildung der konkaven Oberfläche des herzustellenden Teils verwendet wird, kann grundsätzlich mit beliebiger Strahlung erfolgen, für die ein Resistmaterial mit entsprechender Empfindlichkeit verfügbar ist. Dabei ist für sehr feine Strukturen etwa die Verwendung von Elektronenstrahlen mit einem Elektronenstrahlresist, wie er aus der Halbleitertechnologie bekannt ist, möglich.
  • Für optische Teile wird jedoch zweckmäßigerweise elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge im optischen Bereich – vom UV- bis in den nahen IR-Bereich, insbesondere vom nicht zu fernen UV- bis in den nahen IR-Bereich – benutzt werden, die leicht zu erzeugen und zu handhaben ist. Als Material der Negativform wird dann ein für Licht eines Teilbereiches aus dem ultravioletten bis zum nahen infraroten Bereich des elektromagnetischen Spektrums durchlässiges Material eingesetzt.
  • Eine relativ einfache und hochgenaue Vorbearbeitung und Strukturierung der Negativform ist möglich, wenn als Material für diese Glaskeramik, Glas oder in Spezialfällen auch Quarz (unter anderem in Abhängigkeit von der Belichtungs- Wellenlänge) eingesetzt wird. Als besonders vorteilhaft hat sich – zumindest für Belichtungs-Wellenlängen im sichtbaren Bereich – Glaskeramik erwiesen.
  • Um Absorptionsverluste klein zu halten und Streueffekte im Material, die die Abbildungsgenauigkeit beeinträchtigen, zu minimieren, erfolgt die Belichtung der konvexen Oberfläche der Negativform mittels Laserstrahlung mit einer Wellenlänge, die im Bereich eines Absorptionsminimums des Materials der Negativform liegt.
  • Daneben ist es von Bedeutung, für die Negativform eine Materialqualität mit möglichst hoher Transparenz auszuwählen, die weitgehend frei von Inhomogenitäten ist.
  • Für die Erzeugung von konkaven Teilen mit einer ganzen Reihe von Strukturen – unter anderem von konkaven Beugungsgittern und Teilen mit reliefartigen holografischen Abbildungen – ist es zweckmäßig, dass die Belichtung der konvexen Oberfläche der Negativform unter Anwendung eines holografischen Verfahrens erfolgt.
  • Für andere Zwecke kann es von Vorteil sein, die Oberfläche der konvexen Negativform mit einem auf sie fokussierten Strahl punktweise zu belichten. Zur Übertragung irregulärer Muster kann eine flächige Belichtung durch eine Maske hindurch vorteilhaft sein.
  • Nach der photochemischen Erzeugung bzw. Übertragung eines vorgegebenen Strukturmusters wird die konvexe Oberfläche der Negativform zweckmäßigerweise einem Ätzschritt zur Bildung eines Reliefs entsprechend dem (flächigen) Strukturmuster unterzogen. Dafür kommen grundsätzlich die etwa aus der Halbleitertechnologie bekannten Ätzverfahren in Betracht, soweit die dabei verwendbaren Ätzmittel eine gut steuerbare Strukturbildung im Material der Negativform – also etwa Glas oder Glaskeramik – zulassen.
  • Das Teil mit konkaver Oberfläche wird dann vorzugsweise unter Verwendung der Negativform als Master durch Spritzgießen aus Kunststoff hergestellt. Für spezielle Anwendungen kommt aber auch der Einsatz der Negativform als Prägematrize in einem Prägeverfahren oder etwa auch die unmittelbare Auspolymerisation eines Kunststofffilms an der Oberfläche der Negativform in Betracht.
  • Als Materialien für die kostengünstige Fertigung der herzustellenden konkaven Teile eignen sich – je nach Einsatzzweck der Teile – etwa Epoxydharze, Silikonmassen oder Thermoplastmaterialien wie Polycarbonat.
  • Die Teile können etwa in Spektralgeräten, insbesondere einem Spektralphotometer, einem Spektrometer oder einem Monochromator, eingesetzt werden.
  • Weitere vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung werden nachstehend zusammen mit der Beschreibung der bevorzugten Ausführung der Erfindung anhand der Figuren näher dargestellt. Es zeigen:
  • 1a bis 1c: eine schematische Darstellung der Hauptschritte bei der Herstellung der Negativform entsprechend einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens,
  • 2: eine schematische Darstellung des Prinzips der Abformung eines konkaven Beugungsgitters von der Negativform durch Spritzgießen entsprechend einer Ausführungsform des Verfahrens und
  • 3a bis 3f: schematische Darstellungen der einzelnen Phasen des Spritzgießverfahrens.
  • In 1a ist schematisch verdeutlicht, wie ein Rohling aus einem Glaskeramik-Werkstoff Zerodur® 1'' durch Schleifen und Polieren mittels eines rotierend über eine seiner Stirnflächen bewegten Werkzeugs 2 zu einer in ihrer Grundform zylindrischen Negativ-Vorform 1' mit einer ebenen Stirnfläche 1a und einer sphärisch konvexen Stirnfläche 1b mit optischer Oberflächengüte bearbeitet wird. Diese Bearbeitung erfolgt auf eine Weise, wie sie für die Bearbeitung von optischen Bauteilen aus Glas – etwa Linsen und Spiegeln – bekannt ist. Die Abweichungen der Gestalt der Negativ-Vorform von der Ideal- bzw. Sollform liegen im Ergebnis der feinoptischen Bearbeitung bei etwa 60 nm oder darunter. Diese Formgenauigkeit ist Voraussetzung zur Erzielung guter Abbildungsparameter des herzustellenden Beugungsgitters.
  • Anschließend werden beide Stirnflächen der Negativ-Vorform 1' mit einer Antireflexionsbeschichtung versehen, die in den Figuren nicht dargestellt ist.
  • Auf die konvexe Oberfläche 1b wird so dann – etwa durch Aufschleudern ("spincoating") – eine dünne Fotolackschicht 3 aufgebracht, die für eine Belichtungs-Wellenlänge von 458 nm empfindlich ist. Als Fotolack kann dabei sowohl ein sogenannter Positiv- als auch ein Negativ-Resist verwendet werden. Beide Resist-Arten unterscheiden sich insofern, als beim Positiv-Resist die belichteten Teile im Entwicklungsprozess aus der Schicht herausgelöst werden, während beim Negativ-Resist die belichteten Teile stehen bleiben und die unbelichteten Teile herausgelöst werden. Die Dicke der Lackschicht wird entsprechend der zu erzeugenden Gitterstruktur und in Abstimmung auf das Ätzmittel und die Verfahrensparameter des anschliessenden Ätzschrittes vorgegeben.
  • Nachdem die Resistschicht getrocknet wurde, wird die Negativ-Vorform 1', wie 1b schematisch verdeutlicht, von der ebenen Stirnfläche 1a – also von der (konkaven) Rückseite der konvexen Oberfläche 1b – aus mit den überlagerten monochromatischen und kohärenten Lichtbündeln zweier Punktlichtquellen 4a und 4b belichtet. Die Punktlichtquellen 4a und 4b werden in der praktischen Ausführung etwa durch einen mittels einer Spiegel-Prismen-Anordnung aufgespaltenen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 458 nm und geeigneten Raumfiltereinheiten, bestehend aus an die zu belichtende Fläche angepassten Mikroobjektiven und Pinholes, realisiert. Sie entwerfen in der Ebene der Fotolackschicht 3 auf der Oberfläche 1b ein holografisches Interferenzmuster und prägen dieses der Fotolackschicht inhärent ein.
  • Anschließend wird der Resist entwickelt, und im Ergebnis des Entwicklungsschrittes entsteht aus der Resistschicht 3 mit gleichmäßiger Dicke eine strukturierte Schicht 3' (siehe 1c) mit annähernd sinusförmigen Querschnitt. Für die Qualität der herzustellenden Gitter kommt es darauf an, dass die Dicke der Resistschicht (in Abstimmung mit den Parametern des Entwicklungs- und des nachfolgenden Ätzschrittes) so groß gewählt wird, dass sich in dieser gerade ein sinusförmiges Tiefenprofil mit idealer, unverzerrter Gestalt bzw. voller Amplitude ausbilden kann.
  • Der Resist wird dann gebacken bzw. gehärtet und kann ggf. auch mit einer zusätzlichen Schicht zur besseren Steuerung des folgenden Ätzschrittes bedeckt werden.
  • Wie 1c schematisch zeigt, wird anschließend die konvexe Oberfläche 1b unter Nutzung der (in der Figur strichpunktiert dargestellten) strukturierten Schicht 3' als Ätzmaske unter Verwendung einer Ionenstrahlquelle 5 einem gerichteten Ionenstrahlätzen unterzogen, in dessen Verlauf die von den dünneren stehen gebliebenen Abschnitten der Ätzmaske 3' bedeckten Abschnitte der Oberfläche 1b stärker geätzt werden als die noch mit einer dickeren Schicht bedeckten Abschnitte.
  • In diesem Schritt bildet sich eine annähernd den Verlauf des Tiefenprofils der Maske 3' wiedergebende Reliefstruktur im Material der Negativ-Vorform 1' aus, wodurch die Negativform 1 entsteht. Die Profiltiefe hängt dabei von den Ätzparametern – beim Ionenstrahlätzen insbesondere von der Ätzdauer und der Ionenart und -energie – ab und kann durch Vorgabe dieser Parameter gesteuert werden. Da es durch unterschiedlichen Abtrag des Resists und des Glaskeramik-Materials der Negativform zu einer Gestaltänderung des vorgegebenen Struktur-Querschnittes kommt, muss die Wahl der Belichtungs-, Entwicklungs- und Ätzparameter bereits (im Sinne einer Vorkompensation) unter Berücksichtigung dieser Veränderung erfolgen.
  • 2 zeigt schematisch, dass von der Negativform 1 – indem sie in ein Spritzgusswerkzeug 6 aus Stahl eingelegt wird und diese über einen Extruder 7 mit dem plastifizierten (flüssigen bzw. erweichten) Ausgangsmaterial 8' des künftigen Gitters gefüllt wird – ein konkaves Beugungsgitter 8 abgeformt wird.
  • Die 3a bis 3f zeigen den Ablauf des Spritzgießverfahrens genauer. Eine Bezeichnung der Teile der verwendeten Vorrichtung wird zur besseren Übersichtlichkeit der Darstellungen nur in 3a und 3d vorgenommen. Die jeweiligen Bewegungsrichtungen der Teile sind – soweit in den einzelnen Schritten Bewegungen stattfinden – durch Pfeile verdeutlicht.
  • 3a zeigt wiederum das aus zwei relativ zueinander verschieblichen Teilen 6a und 6b zusammengefügte Spritzgusswerkzeug 6 mit der in das Teil 6a eingelegten Negativform 1 zur Abformung der Gitteroberfläche. Der Extruder 7 weist eine Schnecke 9 auf, die Kunststoffgranulat 8'' aus einem Vorratsbehälter 10 erfasst und in Richtung der Spritzgussform 6 vorschiebt. Um den der Spritzgussform 6 zugewandten Mantelabschnitt des Extruders 7 (den Heizzylinder 7b) ist eine Heizung 11 angeordnet, die eine Verflüssigung bzw. Erweichung des Kunststoffgranulats 8'' bewirkt und dieses damit in plastifiziertes Material 8' überführt, das durch eine Austrittsdüse 7a des Extruders in das Spritzgusswerkzeug 6 gelangen kann.
  • Der in 3a gezeigte Zustand der Spritzgießvorrichtung ist der zu Beginn des Spritzgießvorganges, in dem die entsprechend der obigen Beschreibung hergestellte Negativform 1 in das Spritzgießwerkzeug 6 eingelegt, dieses geschlossen und der Vorratsbehälter 10 mit Kunststoffgranulat 8'' gefüllt ist. Auch der Heizzylinder 7b ist mit der Kunststoffformmasse gefüllt, die sich im hinteren Bereich noch im granulierten Zustand 8'' befindet und im vorderen Bereich infolge der Erwärmung durch die bereits eingeschaltete Heizung 11 plastifiziert ist. Der Schneckenkolben 9 ist vollständig zurückgezogen.
  • 3b zeigt, dass anschließend der gesamte Extruder in Richtung auf das Spritzgießwerkzeug 6 vorgeschoben wird, bis die Vorderkante der Spritzdüse 7a an diesem anliegt.
  • Dann wird, wie 3c zeigt, der Schneckenkolben 9 innerhalb des Heizzylinders 7 des Extruders vorgeschoben, womit plastifizierter Kunststoff 8' aus dem vorderen Bereich des Extruders 7 unter hohem Druck durch die Düse 7a in das Spritzgießwerkzeug 6 gedrückt wird, bis dieses vollständig gefüllt ist. Damit ist das Kunststoff-Beugungsgitter 8 in seiner Form gebildet.
  • Anschließend wird, wie 3d zeigt, der Schneckenkolben 9 unter Drehen wieder zurückgezogen, wobei neues Kunststoffgranulat 8'' in den hinteren, nicht beheizten Abschnitt des Heizzylinders 7 zugeführt wird.
  • Im voll zurückgezogenen Zustand des Schneckenkolbens 9 ist der gesamte Extruder 7 wieder mit Kunststoff gefüllt. Diesen Zustand des Extruders – der hier zudem bereits wieder von der Spritzgussform 6 zurückgezogen ist, zeigt 3e.
  • Zuletzt wird, wie 3f zeigt, das Spritzgießwerkzeug 6 geöffnet, indem die beiden Teile 6a und 6b auseinandergezogen werden. Das fertig geformte Kunststoff-Beugungsgitter 8 wird entnommen.
  • Dessen strukturierte (Gitter-)Oberfläche wird üblicherweise – was in den Figuren nicht dargestellt ist – noch einer Verspiegelung unterzogen. Diese kann z. B. durch Aufdampfen von Metallen, wie Aluminium in einer herkömmlichen Vakuumbeschichtungsanlage erfolgen.
  • Mit der beschriebenen Herstellung der Gitter lassen sich an deren Grundform zugleich Fortsätze, Ausnehmungen, Achsen etc. zur Halterung und ggf. Bewegung beim späteren Einsatz in einem optischen Gerät oder auch sonstige, konstruktiv mit dem Gitter starr verbindbare Teile des betreffenden Gerätes an das Gitter anformen, womit wesentliche Vereinfachungen des Aufbaus und Kostensenkungen erreichbar sein können.
  • Der Verfahrensabschnitt des Spritzgießens wird mit den üblichen, auf den konkreten Werkstoff angepassten Parametern ausgeführt.
  • Die gegebene Beschreibung ist rein schematisch, und der Verfahrensabschnitt kann in vielfältiger Art und Weise variiert werden. Der Begriff des Spritzgießens soll im vorliegenden Zusammenhang insbesondere die Verfahren des Formpressens (bei dem das Material in der Form statt im Extruder erweicht) und Spritzpressens ausdrücklich einschließen.
  • Abwandlungen, die der Fachmann aufgrund der gegebenen Beschreibung leicht vornehmen kann, ergeben sich entsprechend den Besonderheiten dieser Verfahren sowie etwa bei Verwendung von Metall anstelle von Kunststoff als Gitterwerkstoff. Für diese eignen sich – je nach Gitterwerkstoff – auch herkömmliche Kalt- oder Warmkammer-Druckgussverfahren. Der nachfolgende Schritt des Metallisierens kann für Metallgitter verzichtbar sein.

Claims (11)

  1. Verfahren zur Herstellung eines Teils (8) mit einer fein strukturierten konkaven Oberfläche durch Druck- oder Spritzgießen unter Verwendung einer als Dauerform dienenden Negativform (1) der Oberfläche des Teils, wobei die Negativform (1) unter Anwendung eines photochemischen Verfahrens mit Belichtung ihrer zur Formung der fein strukturierten konkaven Oberfläche des Teils (8) dienenden konvexen Oberfläche (1b) durch durch das Material der Negativform (1) von der Rückseite (1a) ihrer konvexen Oberfläche her durchdringende Strahlung erzeugt wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Material der Negativform (1) ein für Licht eines Teilbereiches aus dem ultravioletten bis zum nahen infraroten Bereich des elektromagnetischen Spektrums durchlässiges Material eingesetzt wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Material der Negativform (1) Glaskeramik, Glas oder Quarz eingesetzt wird.
  4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Belichtung der konvexen Oberfläche (1b) der Negativform (1) mittels Laserstrahlung mit einer Wellenlänge erfolgt, die im Bereich eines Absorptionsminimums des Materials der Negativform (1) liegt.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Belichtung der konvexen Oberfläche (1b) der Negativform (1) unter Anwendung eines holografischen Verfahrens erfolgt.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass nach photochemischer Erzeugung eines vorgegebenen Strukturmusters (3') die konvexe Oberfläche (1b) der Negativform (1) einem Ätzschritt zur Bildung eines Reliefs entsprechend dem Strukturmuster unterzogen wird.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei dem Teil mit konkaver Oberfläche um ein konkaves Beugungsgitter (8) zum Einsatz in einem Spektralgerät handelt.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Teil (8) mit konkaver Oberfläche unter Verwendung der Negativform als Master durch Spritzgießen aus Kunststoff (8'') hergestellt wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Teil mit konkaver Oberfläche (8) aus einem Epoxydharz hergestellt wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Teil mit konkaver Oberfläche (8) aus einer Silikonmasse hergestellt wird.
  11. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Teil mit konkaver Oberfläche (8) aus einem Thermoplastwerkstoff hergestellt wird.
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