DE4338040A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im VakuumInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten von Brillengläsern aus
Kunststoff oder Mineralglas mit mindestens einer haft- und kratzfesten re
flexmindernden Schicht im Vakuum.
Es ist bekannt, eine größere Anzahl von Brillengläsern chargenweise durch
Vakuum-Aufdampfen zu beschichten, wobei die Brillengläser in einem kalot
tenförmigen Substrathalter befestigt sind, der gegebenenfalls um seine Ro
tationsachse drehbar ist. Als Energiequellen für das Verdampfungsmaterial
dienen hierbei Elektronenstrahlen, Lichtbögen, Induktionsspulen oder
Stromwärme, die durch ein mit entsprechenden Anschlüssen versehenes
Verdampferschiffchen geleitet wird. Derartige Beschichtungsverfahren wer
den als PVD-Verfahren bezeichnet (Physical Vapour Deposition). Der
Dampfstrom hat hierbei eine stark gerichtete Wirkung, so daß zur Vergleich
mäßigung der Beschichtung ein erheblicher Abstand zwischen den Dampf
quellen und den Brillenglas-Substraten eingehalten werden muß. Dennoch
läßt sich die gewünschte Schichtdickenverteilung nicht in ausreichendem
Maße erzielen, da insbesondere die Krümmung der Brillengläser zu einer
Veränderung der Kondensationsbedingungen des Schichtmaterials im Rand
bereich der Brillengläser führt. Der durch die Krümmung bedingte streifende
Einfall des Beschichtungsmaterials führt nicht nur zur Ausbildung dünnerer
Schichten im Randbereich der Brillengläser, sondern auch zu einer ver
schlechterten Haftung der Schichten auf der Brillenglasoberfläche.
Als Beschichtungsmaterial kommen hierbei verschiedene Oxide, Nitride und
Fluoride von Metallen in Frage, die als Ein- oder Mehrfachschichten inner
halb vorgegebener Schichtdickenbereiche reflexmindernde Eigenschaften
haben, wobei die Farbe der Rest-Reflexion modischen Anforderungen
unterliegt.
Auch Versuche, die Schichtdickenverteilung durch eine Dampfstreuung an
schwereren Gasmolekülen zu verbessern, haben nicht zu dem gewünschten
Erfolg geführt. Zur Herbeiführung dieser Dampfstreuung werden in den Va
kuum-Rezipienten Gase wie beispielsweise Kohlendioxid mit entsprechen
dem Partialdruck eingeleitet, die durch Kollision mit den Dampfmolekülen zu
der gewünschten Dampfstreuung führen. Bei Verwendung von Elektronen
strahlen hat die Anwesenheit derartiger Gase zusätzlich eine unerwünschte
Defokussierung des Elektronenstrahls zur Folge.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs
beschriebenen Gattung dahingehend zu verbessern, daß bei hoher Wirt
schaftlichkeit auch Brillengläser einzeln oder paarweise beschichtet werden
können, wobei eine hohe Gleichförmigkeit der Schichtdickenverteilung eine
exakte Einstellbarkeit von Farbreflexen zur Erzeugung von sogenannten
"Modefarben" möglich ist. Insbesondere soll dabei auch die Temperatur der
Brillenglas-Substrate niedrig gehalten werden, um mit den gleichen Verfah
rensparametern auch Brillengläser aus Kunststoff beschichten zu können.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs beschriebenen
Verfahren erfindungsgemäß dadurch, daß man die Brillengläser in Gegen
wart mindestens eines schichtbildenden Stoffes in der Gasphase einem
Niederdruckplasma aussetzt.
Derartige Verfahren, die auch als PCVD-Verfahren bezeichnet werden
(Plasmal-Chemical-Vapour-Deposition) sind für andere Substrate als Brillen
gläser an sich bekannt. Als schichtbildende Stoffe werden hierbei gas
förmige bzw. verdampfbare Metallverbindungen eingesetzt, beispielsweise
solche aus der Gruppe der Siloxane und Silazane. Es handelt sich hierbei
um metallorganische Verbindungen. Als besonders geeignet haben sich
hierbei die Stoffe TMDS und HMDSO erwiesen. Für die Erzeugung hoch
brechender Schichten werden hierbei beispielsweise metallorganische Ver
bindungen des Titans eingesetzt, für die Erzeugung niedrigbrechender
Schichten metallorganische Verbindungen des Siliziums. Durch die ab
wechselnde Anordnung derartiger Schichten werden sogenannte Inter
ferenz-Schichtsysteme erzeugt, denen die gewünschten optischen Eigen
schaften verliehen werden können.
Die Anregung des Niederdruck-Plasmas kann dabei auf induktivem Wege
(mit bestimmten Frequenzen gespeiste Spulen) und/oder auf kapazitivem
Wege (an entsprechende Energiequellen angeschlossene Elektroden) er
folgen. Man erhält hierdurch äußerst einfach aufgebaute Apparaturen, die in
einem großen Druckbereich z. B. zwischen 10-3 und 10 mbar sehr zuver
lässig arbeiten. Insbesondere werden dadurch keine kostspieligen Dampf
quellen der eingangs beschriebenen Art benötigt, desgleichen keine großen
Volumina der entsprechenden Vakuumkammern bzw. Rezipienten.
Durch Anwendung des PCVD-Verfahrens für die Beschichtung von Brillen
gläsern unter an sich bekannten Verfahrensparametern lassen sich folgende
Vorteile erzielen:
Die erzeugten Einfach- und Mehrfachschichten haben eine hohe Härte, Transparenz, Dichte und Haftfestigkeit, und es treten insbesondere bei Bril lengläsern aus organischen und mineralischen Materialien keine Rißbil dungen auf. Es wird eine hohe Abscheide- bzw. Kondensationsrate erzielt, so daß das Beschichtungsverfahren auch für die Beschichtung von einzeln oder paarweise angeordneten Brillengläsern geeignet ist. Die Beschichtung von paarweise angeordneten Brillengläsern ist deswegen interessant, weil Brillengläser in der Regel paarweise bestellt werden. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich durch eine hohe Reproduzierbarkeit und Gleich förmigkeit der Schichtdickenverteilung auch bei gewölbten Flächen aus, d. h. es unterbleibt der beim PVD-Verfahren zu beobachtende typische Rand effekt. Vor allem aber lassen sich Farbreflexe gezielt einstellen, d. h. Mode farben erzeugen, d. h. abgesehen von gewollten Interferenzfarben entstehen keine unerwünschten Farbstiche an den fertigen Brillengläsern. Die Substrattemperatur kann auf einem sehr niedrigen Niveau, beispielsweise unterhalb 60°C gehalten werden, was bei Verwendung organischer Brillen glas-Substrate von besonderem Vorteil ist. Durch die hohe Produktionsrate einzelner oder paarweise hergestellter Brillengläser läßt sich der Beschich tungsprozeß in den Produktionsprozeß der Brillengläser integrieren, d. h. die Brillengläser lassen sich nach der heute geforderten "Just-in-Time"-Methode fertigen.
Die erzeugten Einfach- und Mehrfachschichten haben eine hohe Härte, Transparenz, Dichte und Haftfestigkeit, und es treten insbesondere bei Bril lengläsern aus organischen und mineralischen Materialien keine Rißbil dungen auf. Es wird eine hohe Abscheide- bzw. Kondensationsrate erzielt, so daß das Beschichtungsverfahren auch für die Beschichtung von einzeln oder paarweise angeordneten Brillengläsern geeignet ist. Die Beschichtung von paarweise angeordneten Brillengläsern ist deswegen interessant, weil Brillengläser in der Regel paarweise bestellt werden. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich durch eine hohe Reproduzierbarkeit und Gleich förmigkeit der Schichtdickenverteilung auch bei gewölbten Flächen aus, d. h. es unterbleibt der beim PVD-Verfahren zu beobachtende typische Rand effekt. Vor allem aber lassen sich Farbreflexe gezielt einstellen, d. h. Mode farben erzeugen, d. h. abgesehen von gewollten Interferenzfarben entstehen keine unerwünschten Farbstiche an den fertigen Brillengläsern. Die Substrattemperatur kann auf einem sehr niedrigen Niveau, beispielsweise unterhalb 60°C gehalten werden, was bei Verwendung organischer Brillen glas-Substrate von besonderem Vorteil ist. Durch die hohe Produktionsrate einzelner oder paarweise hergestellter Brillengläser läßt sich der Beschich tungsprozeß in den Produktionsprozeß der Brillengläser integrieren, d. h. die Brillengläser lassen sich nach der heute geforderten "Just-in-Time"-Methode fertigen.
Es ist dabei im Zuge der weiteren Ausgestaltung der Erfindung besonders
vorteilhaft, wenn man die Raumausdehnung des Plasmas, in Normalenrich
tung zur Beschichtungsfläche gesehen, auf maximal 50 mm, vorzugsweise
auf maximal 30 mm, begrenzt. Diese Begrenzung kann beispielsweise durch
Wandelemente innerhalb einer Vakuumkammer erzeugt werden, die der zu
beschichtenden Brillenglas-Oberfläche mit entsprechend geringem Abstand
gegenüberliegen, wobei die betreffenden Wandelemente zusätzlich auch
noch zur Gasführung dienen. Auf diese Weise überstreicht das schicht
bildende Gas die Beschichtungsoberfläche in etwa in einer parallelen Rich
tung. Durch die Begrenzung der Raumausdehnung des Plasmas wird ver
hindert, daß sich durch eine sogenannte Homogenreaktion im Gasraum
feste Partikel bilden, die auch als "Schnee" oder "Glasruß" bezeichnet
werden. Diese Partikel führen, wenn sie sich auf den Beschichtungsober
flächen absetzen, zu trüben bzw. unbrauchbaren Schichten.
Durch die Begrenzung der Raumausdehnung des Plasmas wird weiterhin er
reicht, daß die Kondensationsbedingungen auf der Brillenglas-Oberfläche
verbessert werden, weil dort eine größere Teilchendichte erreicht wird.
Es ist dabei im Zuge einer wiederum weiteren Ausgestaltung der Erfindung
besonders vorteilhaft, wenn man zwei Brillengläser durch einen im wesent
lichen ringförmigen Kammerteil im Abstand zueinander hält und dadurch
zwischen den Brillengläsern und dem Kammerteil einen plasmaerfüllten
Raum bildet, in den der schichtbildende Stoff eingeleitet wird. Durch diese
Maßnahme wird aus den Brillengläsern und dem ringförmigen Kammerteil
eine Plasma-Kammer gebildet, deren Wände zu einem großen Teil aus den
Brillengläsern selbst bestehen, d. h. durch die nicht zu vermeidende Be
schichtung des ringförmigen Kammerteils geht nur ein verhältnismäßig ge
ringer Anteil des Beschichtungsmaterials verloren. Die innere Oberfläche
des ringförmigen Kammerteils ist relativ klein, und der betreffende Kammer
teil kann durch einen Reinigungsprozeß kurzfristig wieder aufbereitet wer
den, so daß auch die Gefahr vermieden wird, daß sich von dem Kammerteil
Schichtmaterial ablöst, das in ähnlicher Weise wie die weiter oben be
schriebene Schnee- oder Glasrußbildung ansonsten zu einer Beein
trächtigung der Schichtqualität führen würde.
Es ist dabei besonders vorteilhaft, wenn man die beiden Brillengläser mit
gleicher Krümmungsrichtung in den ringförmigen Kammerteil einsetzt. Durch
diese Maßnahme ist der Abstand zwischen den einander gegenüberliegen
den Beschichtungs-Oberflächen in etwa gleich, so daß sich auf beiden Be
schichtungsoberflächen eine im wesentlichen parallele Gasströmung aus
bildet.
Eine beidseitige Beschichtung der Brillengläser ist in besonders vorteilhafter
und einfacher Weise dann möglich, wenn man die beiden Brillengläser nach
Beschichtung ihrer einander zuerst zugekehrten Oberflächen unter Beibe
haltung ihrer relativen Raumlage gegeneinander vertauscht und in den
ringförmigen Kammerteil einsetzt und danach die jeweils anderen Ober
flächen der beiden Brillengläser beschichtet. Auf diese Weise lassen sich
unter Beibehaltung ansonsten gleicher Verfahrensparameter identische
Schichten auf beiden Oberflächen jeweils eines Brillenglases erzeugen.
Natürlich lassen sich durch Änderung der Beschichtungsparameter auch
unterschiedliche Schichten auf beiden Oberflächen eines Brillenglases er
zeugen.
Es ist dabei wiederum vorteilhaft, wenn man die aus den Brillengläsern und
dem ringförmigen Kammerteil bestehende Plasmakammer mit einer weiteren
Kammer umgibt, in der ein niedrigerer Druck eingestellt wird als in der Plas
makammer. In der äußeren Kammer kann mit besonderem Vorteil beispiels
weise ein Druck von 10-5 mbar eingehalten werden.
Bei Anwendung dieser Maßnahme müssen die Brillengläser nicht absolut
dicht in den ringförmigen Kammerteil eingesetzt werden, da eine gewisse
Leckage für den Beschichtungsprozeß unschädlich ist: Es kann immer nur
schichtbildender Stoff aus der Plasma-Kammer in die Hochvakuum-Kammer
entweichen, nicht aber ein umgekehrter Gasfluß eintreten, so daß insbe
sondere die Atmosphäre in der Plasmakammer nicht nachteilig beeinflußt
wird.
Um die Plasmakammer besonders gleichmäßig mit der Anregungsenergie zu
beaufschlagen, ist es besonders vorteilhaft, wenn man die aus den beiden
Brillengläsern und dem ringförmigen Kammerteil gebildete Plasmakammer
derart zwischen zwei plattenförmigen Elektroden unterbringt, daß die durch
die Ränder der Brillengläser definierten Ebenen im wesentlichen parallel zu
den Elektroden verlaufen, und daß man die Elektroden an die entgegenge
setzten Pole eines Wechselspannungsgenerators legt.
Mit dem Erfindungsgegenstand ist es mit besonderem Vorteil möglich, nach
einander Schichten mit unterschiedlichen optischen Eigenschaften auf die
Brillengläser aufzubringen, nämlich durch einen Wechsel der Gasart durch
Anschluß an eine andere Gasquelle. Eine solche Maßnahme dient insbe
sondere zum Herstellen sogenannter Interferenz-Schichtsysteme. Dieser
Vorteil kommt besonders dann zum Tragen, wenn erfindungsgemäß die
Raumsausdehnung des Plasmas begrenzt ist, beispielsweise durch die Be
schränkung dieses Raumes auf den Abstand zwischen zwei Brillengläsern.
Durch das dadurch entstehende äußerst kleine Volumen des Reaktions
raumes ist ein rascher Gaswechsel zwischen dem ersten und einem wei
teren Gas möglich. Allerdings können durch Drosselung der Gaszufuhr des
ersten Gases und allmähliche Steigerung der Zufuhr des zweiten Gases
auch sogenannte Übergangsschichten hergestellt werden, eine Maßnahme,
die zur Züchtung bestimmter Schichteigenschaften von besonderem Vorteil
ist.
Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zum Durchführen des Ver
fahrens mit einer Vakuumkammer mit einem Anschluß an mindestens eine
Gasquelle zur Versorgung der Vorrichtung mit einem durch ein Niederdruck-
Plasma zersetzbaren Gas, dessen Zersetzungsprodukte auf den Brillen
gläsern als reflexmindernde Schichtstoffe kondensationsfähig sind, und mit
einer Einrichtung zur Versorgung der Vorrichtung mit Anregungsenergie für
die Unterhaltung des Plasmas.
Zur Lösung der gleichen Aufgabe ist eine solche Vorrichtung dadurch ge
kennzeichnet, daß in der Vakuumkammer eine weitere, etwa rotations
symmetrische Kammer angeordnet ist, die in Richtung der Rotationsachse
auf gegenüberliegenden Seiten mit Einsatzöffnungen für je ein Brillenglas
versehen ist und auf diametral zur Reaktionsachse gegenüberliegenden
Seiten mindestens je eine Einlaßöffnung für das zersetzbare Gas und eine
Auslaßöffnung für das Restgas besitzt.
Im Zuge einer weiteren Ausgestaltung einer solchen Vorrichtung ist diese
dadurch gekennzeichnet, daß der weiteren Kammer auf in Richtung der
Rotationsachse gegenüberliegenden Seiten Elektroden für die Einbringung
der Anregungsenergie für das Plasma in der weiteren Kammer durch die
Brillengläser hindurch zugeordnet sind.
Ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung und deren
Wirkungsweise werden nachfolgend anhand der einzigen Figur näher er
läutert.
Diese Figur zeigt einen Vertikalschnitt entlang der Rotationsachse zweier
Brillengläser und der diese aufnehmenden Teilkammer.
In der Figur sind zwei Brillengläser 1 und 2 dargestellt, die eine positive
Dioptrienzahl aufweisen und in die kreisförmig begrenzten Einsatzöffnungen
3 und 4 eines Kammerteils 5 eingesetzt sind, das aus einem Oberteil 5a und
einem Unterteil 5b besteht. Ober- und Unterteil stoßen an einer Trennfuge 6
aneinander, so daß die Teilkammer 5 zu Reinigungszwecken geöffnet wer
den kann. Die Brillengläser 1 und 2 und das Kammerteil 5 bilden zusammen
eine Plasmakammer 7, die einen Raum 8 umschließt, in dem beim Betrieb
das Plasma mit den schichtbildenden Stoffen aufrechterhalten wird. Die
schichtbildenden Stoffe werden der Plasmakammer 7 durch eine radial ein
mündende Gasleitung 9 zugeführt, die mit zwei Gasquellen 10 und 11 über
Regelventile 10a und 11a verbindbar ist.
An einer diametral gegenüberliegenden Stelle ist die Plasmakammer 7 mit
einer radial angesetzten Abgasleitung 12 versehen, in der sich eine einstell
bare Drosselstelle 13 befindet. Jenseits der Drosselstelle 13 mündet die Ab
gasleitung 12 in eine Saugleitung 14, die eine Hochvakuumpumpe 15 und
einen Vorvakuum-Pumpsatz 16 miteinander verbindet, die beide hier nur
schematisch angedeutet sind. In dem Raum 8 läßt sich ein Gasgleichgewicht
entsprechender Zusammensetzung mit einem Druck zwischen 10-3
und 10 mbar einstellen. Der Strömungsverlauf innerhalb des Raumes 8 wird
in etwa durch die eingezeichneten Strömungspfeile angedeutet: Die Strö
mung verläuft im wesentlichen parallel zu den in diesem Arbeitsgang zu be
schichtenden inneren Oberfläche 1b und 2a.
Es ist zu erkennen, daß die beiden Brillengläser 1 und 2 mit gleicher Krüm
mungsrichtung in den ringförmigen Kammerteil 5 eingesetzt sind. Auf eine
Abdichtung zwischen den Brillengläsern und dem Kammerteil braucht kein
besonderer Wert gelegt zu werden, da die bisher beschriebene Anordnung
von einer Vakuumkammer 17 umgeben ist, in der mittels der Vakuumpumpe
15 über einen Saugstutzen 18 ein Hochvakuum von beispielsweise 10-3
mbar einstellbar ist. Etwa aus der Plasmakammer 7 austretende Reaktions
gase werden mithin über den Saugstutzen 18 abgesaugt.
Nach Beschichtung der inneren Oberflächen 1b und 2a der Brillengläser 1
und 2 in einem ersten Arbeitsgang werden die beiden Brillengläser unter
Beibehaltung ihrer relativen Raumlage gegeneinander vertauscht in den
ringförmigen Kammerteil 5 eingesetzt, worauf die jeweils anderen Ober
flächen 1a und 2b beschichtet werden können. Um den Austausch vor
nehmen zu können, wird der Kammerteil 5 an der Trennfuge 6 geöffnet.
Durch einander gegenüberliegende Wandungen 17a und 17b der Vakuum
kammer 17 sind stromleitende Haltestangen 19 und 20 für zwei planparallel
zueinander ausgerichtete Elektroden 21 und 22 hindurchgeführt, zwischen
denen in koaxialer Anordnung die Plasmakammer 7 angeordnet ist. Die An
ordnung ist dabei so getroffen, daß die durch die kreisförmigen Ränder der
Brillengläser definierten Ebenen im wesentlichen parallel zu den Elektroden 21 und 22
verlaufen. Die Elektroden sind an die entgegengesetzten Pole
23a und 23b eines Wechselspannungsgenerators 23 gelegt, der beispiels
weise in einem Frequenzbereich zwischen 100 kHz und 100 MHz einstellbar
ist. Vorzugsweise wird eine Frequenz von 13,56 MHz verwendet. Das Ver
fahren ist allerdings keineswegs auf die Verwendung einer Frequenz in dem
oben angegebenen Frequenzbereich beschränkt; vielmehr kann das Ver
fahren auch bei Anwendung von Mittelfrequenz und Mikrowellenenergie
durchgeführt werden.
Bei einigen Schichtmaterialien, insbesondere bei der Abscheidung von
Schichten aus SiO₂ ist es vorteilhaft, im Plasma-Impulsbetrieb zu arbeiten,
um die Ausbildung von Schichtdickenunterschieden durch zu hohe Reak
tionsgeschwindigkeit zu unterdrücken. Tastverhältnisse mit einer Energie
dauer von 10 bis 100 Mikrosekunden und einer Pausendauer von 1 bis 10 Millisekunden sind hierbei besonders vorteilhaft.
Auch die Zahl der Gasquellen ist nicht kritisch; es kann eine ganze Batterie
von Gasquellen vorgesehen werden, beispielsweise auch zu dem Zweck,
um zwischen den Brillengläsern und der ersten optisch wirksamen Schicht
eine Haftschicht vorzusehen. Der Figur ist jedenfalls zu entnehmen, daß der
vom Plasma erfüllte Raum 8 äußerst geringe Abmessungen hat, so daß die
von den Elektroden 21 und 22 eingebrachte Anregungsenergie für das
Plasma auf dieses äußerst wirksam konzentriert werden kann. Die Ent
stehung von Partikeln in Form von "Schnee" und "Glasruß" unterbleibt auf
grund des geringen Kammervolumens, und ein Umschalten von einer Gasart
auf eine andere Gasart ist in kürzester Zeit möglich. Oberteil 5a und Un
terteil 5b des Kammerteils 5 lassen sich - nach Trennung - einem äußerst
wirksamen Reinigungsprozeß zuführen und dann erneut wieder verwenden.
Es ist vorteilhaft, für die serienmäßige Beschichtung von Brillengläsern eine
ganze Anzahl derartiger Kammerteile 5 vorrätig zu halten, die dann im
Innern der Vakuumkammer 7 lediglich über hier nicht gezeigte Schnellver
bindungen mit den Gasleitungen 9 und 12 verbunden werden können.
Selbstverständlich besitzt auch die Vakuumkammer 7 eine hier gleichfalls
nicht näher dargestellte Öffnung, um den Austausch der Plasmakammer 7
bzw. eine Vertauschung der Brillengläser 1 und 2 gegeneinander und gegen
neue Brillengläser vornehmen zu können.
Zwischen den äußeren Oberflächen 1a und 2b der Brillengläser 1 und 2 und
den Elektroden 21 und 22 entsteht wegen des niedrigen Drucks in der Va
kuumkammer 17 kein Plasma.
Claims (14)
1. Verfahren zum Beschichten von Brillengläsern (1, 2) aus Kunststoff oder
Mineralglas mit mindestens einer haft- und kratzfesten reflexmindernden
Schicht im Vakuum, dadurch gekennzeichnet, daß man die Brillen
gläser (1, 2) in Gegenwart mindestens eines schichtbildenden Stoffes in
der Gasphase einem Niederdruckplasma aussetzt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die
Raumausdehnung des Plasmas, in Normalenrichtung zur Beschichtungs
fläche (1b, 2a bzw. 1a, 2b) gesehen, auf maximal 50 mm, vorzugsweise
auf maximal 30 mm, begrenzt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man zwei
Brillengläser (1, 2) durch einen im wesentlichen ringförmigen Kammerteil
(5) im Abstand zueinander hält und dadurch zwischen den Brillengläsern
und dem Kammerteil einen plasmaerfüllten Raum (8) bildet, in den der
schichtbildende Stoff eingeleitet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man die
beiden Brillengläser (1, 2) mit gleicher Krümmungsrichtung in den ring
förmigen Kammerteil (5) einsetzt.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man den
schichtbildenden Stoff zumindest im wesentlichen parallel zur jeweiligen
Beschichtungsoberfläche (1b, 2a bzw. 1a, 2b) in den plasmaerfüllten
Raum (8) einleitet und das Restgas an der gegenüberliegenden Seite
des Raumes abführt.
6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man die
beiden Brillengläser (1, 2) nach Beschichtung ihrer einander zugekehrten
Oberflächen (1b, 2a) unter Beibehaltung ihrer relativen Raumlage gegen
einander vertauscht in den ringförmigen Kammerteil (5) einsetzt und da
nach die jeweils anderen Oberflächen (1a, 2b) der beiden Brillengläser
(1, 2) beschichtet.
7. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man die aus
den Brillengläsern (1, 2) und dem ringförmigen Kammerteil (5) bestehen
de Plasma-Kammer (7) mit einer weiteren Kammer (17) umgibt, in der ein
niedrigerer Druck eingestellt wird als in der Plasma-Kammer.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma
mit einem elektromagnetischen Wechselfeld angeregt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Fre
quenz des Wechselfeldes zwischen 100 kHz und 100 MHz gewählt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man die aus
den beiden Brillengläsern (1, 2) und dem ringförmigen Kammerteil (5)
gebildete Plasma-Kammer (7) derart zwischen zwei plattenförmigen Elek
troden (21, 22) unterbringt, daß die durch die Ränder der Brillengläser
definierten Ebenen im wesentlichen parallel zu den Elektroden verlaufen,
und daß man die Elektroden an die entgegengesetzten Pole (23a, 23b)
eines Wechselspannungsgenerators (23) legt.
11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die Be
schichtung im Impulsbetrieb durchführt.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß man ein
Tastverhältnis mit einer Energiedauer zwischen 10 und 100 Mikro
sekunden und mit einer Pausendauer von 1 bis 10 Millisekunden
anwendet.
13. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem oder mehreren
der Ansprüche 1 bis 12, mit einer Vakuumkammer (17) mit einem An
schluß an mindestens eine Gasquelle (10, 11) zur Versorgung der Vor
richtung mit einem durch ein Niederdruck-Plasma zersetzbares Gas,
dessen Zersetzungsprodukte auf den Brillengläsern (1, 2) als reflex
mindernde Schichtstoffe kondensationsfähig sind, und mit einer Einrich
tung zur Versorgung der Vorrichtung mit Anregungsenergie für die Unter
haltung des Plasmas, dadurch gekennzeichnet, daß in der Vakuum
kammer (17) eine weitere, etwa rotationssymmetrische Kammer (7) ange
ordnet ist, die in Richtung der Rotationsachse (A-A) auf gegenüber
liegenden Seiten mit Einsatzöffnungen (3, 4) für je ein Brillenglas (1, 2)
versehen ist und auf diametral zur Rotationsachse (A-A) gegenüber
liegenden Seiten mindestens je eine Einlaßöffnung (9) für das zersetz
bare Gas und eine Auslaßöffnung (12) für das Restgas besitzt.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der
weiteren Kammer (7) auf in Richtung der Rotationsachse gegenüber
liegenden Seiten Elektroden (21, 22) für die Einbringung der Anregungs
energie für das Plasma in der weiteren Kammer (7) durch die Brillen
gläser (1, 2) hindurch zugeordnet sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934338040 DE4338040C2 (de) | 1993-11-08 | 1993-11-08 | Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934338040 DE4338040C2 (de) | 1993-11-08 | 1993-11-08 | Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4338040A1 true DE4338040A1 (de) | 1995-05-11 |
DE4338040C2 DE4338040C2 (de) | 1997-01-30 |
Family
ID=6502035
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19934338040 Expired - Fee Related DE4338040C2 (de) | 1993-11-08 | 1993-11-08 | Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4338040C2 (de) |
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