DE4331727A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Anfasen der Peripherie eines gekerbten scheibenförmigen Werkstücks - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Anfasen der Peripherie eines gekerbten scheibenförmigen WerkstücksInfo
- Publication number
- DE4331727A1 DE4331727A1 DE19934331727 DE4331727A DE4331727A1 DE 4331727 A1 DE4331727 A1 DE 4331727A1 DE 19934331727 DE19934331727 DE 19934331727 DE 4331727 A DE4331727 A DE 4331727A DE 4331727 A1 DE4331727 A1 DE 4331727A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- workpiece
- grinding wheel
- semiconductor wafer
- notched
- grinding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
- B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B9/065—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Anfasen der Peripherie eines scheibenförmigen Werk
stücks, in das eine Kerbe eingeschnitten ist, zum Bei
spiel einer mit einer Kerbe versehenen kreisrunden Halb
leiterscheibe. Insbesondere betrifft die Erfindung ein
Verfahren und eine Vorrichtung zum Abrunden von Kanten
oder Ecken von gekerbten Bereichen an der Peripherie ei
nes mit einer Kerbe versehenen Werkstücks mit Hilfe einer
im wesentlichen zylinderförmigen, einen kleinen Durchmes
ser aufweisenden Schleifscheibe, die an ihrer Peripherie
mit einer im Querschnitt trapezförmigen Nut versehen ist
und über eine ausgezeichnete Bearbeitbarkeit verfügt.
Die Halbleiterscheibe, auf welche hier bezug genommen
wird, ist eine dünne Scheibe aus Halbleitermaterial, zum
Beispiel aus Silizium, die man normalerweise erhält, in
dem eine zylinderförmige verfeinerte Einkristallmasse in
Scheiben geschnitten wird. Ihre Oberfläche wird zu einer
Spiegelfläche poliert, auf welcher verschiedene Halblei
terelemente durch Ätzverfahren oder dergleichen herge
stellt werden.
Eine Halbleiterscheibe bzw. Wafer ist eine dünne Scheibe
mit Abmessungen von beispielsweise 10 mm bis 409 mm im
Durchmesser und 200 µm bis 10 mm in der Dicke. Um die
Ausrichtung in der Umfangsrichtung zu erleichtern, ist
die Halbleiterscheibe üblicherweise mit einer Orientie
rungsabflachung versehen, die an einem Teil ihrer Peri
pherie einen linearen Bereich bildet.
Da aber die Orientierungsabflachung durch lineares Her
ausschneiden eines bogenförmigen Bereichs der nach der
neuesten Entwicklung größer gewordenen Halbleiterscheibe
hergestellt wird, ist auch der Materialverlust größer ge
worden - eine Tatsache, die nicht ignoriert werden kann,
da sie die effiziente Nutzung der teueren Halbleiter
scheibe betrifft.
Zur Lösung dieses Problems hat man anstelle einer Orien
tierungsabflachung die Ausbildung einer V-förmigen Kerbe
an der Peripherie der Halbleiterscheibe vorgeschlagen, so
daß die Positionierung der zu bearbeitenden Halbleiter
scheibe erfolgt, indem ein Setzstift mit der äußeren Um
fangsfläche des V-förmig gekerbten Bereichs in Kontakt
gebracht wird.
Andererseits entstehen verschiedene ernsthafte Probleme
durch den Flugstaub, der sich bei der Feinbearbeitung der
Halbleiterscheibe auf deren Oberfläche oder an deren Pe
ripherie absetzt. Wenn an der Peripherie scharfe Kanten
oder Ecken gebildet sind, insbesondere der V-förmig ge
kerbte Bereich der Halbleiterscheibe, so kann diese
leicht brechen oder es entstehen Bruchstücke, wenn der
Setzstift an die scharfen Kanten des gekerbten Bereichs
der Halbleiterscheiben angesetzt wird, was wiederum eine
Ursache für die Entstehung einer großen Menge an Flug
staub ist.
Dies wiederum bedeutet ein ernsthaftes Problem in bezug
auf eine bessere Ausbeute und Produktivität, insbesondere
im Zusammenhang mit der neuen Generation von Halbleiter
scheiben, die über einen verbesserten Integrationsgrad
und eine feinere Musterlinienbreite verfügen sollen.
Die Beseitigung von scharfen Kanten oder Ecken in einem
Orientierungsabflachungsbereich und in dem gekerbten Be
reich der Halbleiterscheibe ist ein wirksames Mittel zur
Verhinderung von Flugstaub. Dazu werden die scharfen Kan
ten des Orientierungsabflachungsbereichs herkömmlich an
gefast oder gerundet. Aufgrund des komplizierten Umrisses
des Bereichs, in den die Kerbe eingeschnitten ist, ist
eine solche Vorgehensweise nur schwer zu übernehmen.
Die japanische Patentveröffentlichung 87523/1990 be
schreibt zum Beispiel ein Verfahren zum Anfasen der Ober
kante und Unterkante einer gekerbten Halbleiterscheibe,
nach welchem eine Schleifscheibe in getrennten Vorgängen
von der Oberseite und von der Unterseite des gekerbten
Bereichs her mit den Ecken in Kontakt gebracht wird. Bei
diesem Verfahren handelt es sich jedoch um eine soge
nannte 45°-Anfasung für lineares Schleifen der Ecken,
nämlich um einen sogenannten Facettenschliff, und obwohl
die scharfe Kante von 90° beseitigt wird, bleibt eine
Kante von 45° immer noch unbearbeitet. Dieses Verfahren
(nachstehend "Anfasen" genannt), bei welchem die scharfe
Kante oder Ecke gerundet wird, ist nicht ideal, läßt je
doch Raum für Verbesserungen.
Ein weiterer Nachteil des vorgenannten herkömmlichen Ver
fahrens ist dessen hoher Zeitaufwand, der durch die er
forderliche getrennte Bearbeitung von Oberkante und Un
terkante entsteht.
Um die in der japanischen Patentanmeldung 335179/1998
derselben Anmelderin beschriebene Vorrichtung zum Anfasen
verwenden zu können, muß (wie in Fig. 5 gezeigt) die
sich drehende Schleifscheibe 1 in einem komplizierten
Vorgang an dem gekrümmten geometrischen Ort S entlang in
Richtung des Pfeils T bewegt werden. Mit anderen Worten
erfordert dieses Verfahren eine komplizierte Vorschub
steuerung in einer Dreiachsen-Richtung, und es ist inso
fern von Nachteil, als es teuer ist und die darauf bezo
genen Vorrichtungen umfangreich sind.
Hinzu kommt, daß die Bearbeitung der Halbleiterscheibe
mit hochgenauen Herstellungstoleranzen bezüglich des
Durchmessers und der Abmessungen des gekerbten Bereichs
in einer Verkürzung der Positionseinstellungszeit bei der
Feinbearbeitung im darauffolgenden Verfahren resultiert,
so daß der diesbezügliche Schleifvorgang mit hoher Präzi
sion ausgeführt werden muß.
Das Ziel der Erfindung ist die Beseitigung der vorstehend
genannten Nachteile beim Stand der Technik.
Eine erste Aufgabe der Erfindung ist es, das Anfasen der
Peripherie eines mit einer Kerbe versehenen Werkstücks in
Form einer kreisrunden Scheibe zu ermöglichen, indem eine
im wesentlichen zylindrische Schleifscheibe, an deren
Umfangsfläche eine Ringnut ausgebildet ist, mit der Peri
pherie des gekerbten Werkstücks in Kontakt gebracht wird,
wobei die Ringnut einen trapezförmigen Querschnitt und
gerundete Ecken an den Seiten ihrer Bodenfläche hat, wo
durch die Oberkante und Unterkante in einem Vorgang in
kurzer Zeit mit einem leicht durchzuführenden Anfasprozeß
gerundet werden, ohne daß hierfür eine komplizierte
Steuerung in Richtung dreier Achsen, ein großer Raum für
die Bearbeitung und ein hoher Arbeitsaufwand notwendig
sind.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, beim Anfasen
der Peripherie eines mit einer Kerbe versehenen Werk
stücks in Form einer kreisrunden Scheibe das Absplittern
der scharfen Kanten oder Ecken des gekerbten Bereichs zu
verhindern, wenn der Setzstift für die Bearbeitungsposi
tion mit dem gekerbten Bereich in Kontakt gebracht wird,
und die Bildung von Flugstaub zu verringern und folglich
dessen Ablagerung auf einer polierten Oberfläche des
Werkstücks, zum Beispiel einer Halbleiterscheibe, und den
Ertrag bei der Herstellung von elektronischen Halbleiter
elementen in großem Maße zu steigern.
Zur Lösung der der Erfindung zugrundeliegenden Aufgaben
umfaßt ein Verfahren zum Anfasen, das heißt Abrunden der
Kanten oder Ecken an der Peripherie eines gekerbten Werk
stücks in Form einer kreisrunden Scheibe, beispielsweise
einer Halbleiterscheibe, mittels einer im wesentlichen
zylindrischen Schleifscheibe kleinen Durchmessers, die an
ihrer äußeren Umfangsfläche mit einer im Querschnitt tra
pezförmigen Ringnut versehen ist, die an den Seiten ihrer
Bodenfläche gerundete Ecken hat, folgende Verfahrens
schritte:
- - horizontale Anordnung des Werkstücks auf einer Aufla gefläche und Einstellung durch Drehung um dessen Mitte;
- - Anordnen der Schleifscheibe in einer solchen Posi tion, daß die an der Innenfläche der Nut ausgebildete Schleiffläche den Umfangsbereichen des Werkstücks gegen überliegt;
- - geradliniger Vorschub des Werkstücks in den Richtun gen (H-G) hin zur Schleifscheibe und weg von der Schleif scheibe, die sich mit hoher Geschwindigkeit dreht, wäh rend das Werkstück mit niedriger Geschwindigkeit um seine zentrale Achse (Richtung D) gedreht wird, wodurch die Kanten und Ecken an der Peripherie des Werkstücks gerun det werden.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens zum Anfasen, das heißt Abrunden der Kanten und
Ecken an der Peripherie eines scheibenförmigen gekerbten
Werkstücks, beispielsweise einer gekerbten kreisrunden
Halbleiterscheibe, umfaßt
- - eine im wesentlichen zylindrische Schleifscheibe kleinen Durchmessers, die an ihrer äußeren Umfangsfläche mit einer Ringnut versehen ist, die einen trapezförmigen Querschnitt und an ihren Seiten an der Bodenfläche gerun dete Kanten hat;
- - eine Halteeinrichtung zum senkrechten Halten der Schleifscheibenspindel;
- - eine erste Antriebseinrichtung zum Drehen der Schleifscheibe mit hoher Geschwindigkeit um deren Mittel achse;
- - einen Werkstückhalter zum horizontalen Halten und zum Zentrieren des Werkstücks auf der höhenverstellbaren Ba sis des Halters;
- - eine Vorschubeinrichtung für den geradlinigen Vor schub des Werkstückhalters in Richtung zu und weg von der konkaven Schleiffläche der Schleifscheibe (Richtungen H- G);
- - eine zweite Antriebseinrichtung zum Drehen der Basis des Halters, um das auf diesem gehaltene Werkstück in ei nem gewünschten Neigungswinkel (R) mit niedriger Ge schwindigkeit zu drehen;
- - eine elektronische Steuereinrichtung zur Steuerung der ersten und der zweiten Antriebseinrichtung und der Vorschubeinrichtung entsprechend der vorgegebenen Anfas arbeit, die vorher in dem Speicherteil der Steuereinrich tung gespeichert wurde, wobei die Steuereinrichtung die den Drehwinkelpositionen (Ri) entsprechenden Bewegungs wege des Werkstücks sequentiell berechnet, woraufhin das Werkstück jedesmal langsam um eine Drehwinkelsteigung weiterbewegt wird, und die einen geradlinigen Vorschub des Werkstückhalters derart bewirkt, daß dieser das daran befestigte Werkstück um die berechnete Vorschublänge in den Richtungen H-G vorschiebt, wodurch die Kanten der Pe ripherie des gekerbten Werkstücks gerundet werden.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung werden nach
stehend anhand einer bevorzugten Ausführungsform unter
Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert. Dabei sind
gleiche Teile mit denselben Bezugsziffern gekennzeichnet.
Es zeigt:
Fig. 1
eine perspektivische Darstellung einer mit einer Kerbe
versehenen Halbleiterscheibe, die anzufasen ist, und eine
bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrich
tung zur Herstellung von gerundeten Kanten oder Ecken an
der Peripherie der gekerbten Halbleiterscheibe;
Fig. 2
eine vergrößerte Längsschnittansicht eines wesentlichen
Teils, der eine zylindrische Schleifscheibe kleinen
Durchmessers der Vorrichtung bei der Abrundung der Kanten
an der Peripherie der gekerbten Halbleiterscheibe dar
stellt;
Fig. 3
eine Draufsicht auf einen wesentlichen Teil, der die zy
lindrische Schleifscheibe in einem Fig. 2 ähnlichen Be
arbeitungsvorgang darstellt;
Fig. 4
eine Draufsicht zur Darstellung des Zustands, in dem die
Peripherie der Halbleiterscheibe entsprechend der Mantel
kurve der zylindrischen Schleifscheibe angefast wird;
Fig. 5
eine vergrößerte vertikale Schnittansicht eines wesentli
chen Teils, der den Zustand des Anfasens der Peripherie
der gekerbten Halbleiterscheibe mit der herkömmlichen
Vorrichtung darstellt.
Die in den Fig. 1 bis 4 gezeigte Vorrichtung 10 zum
Anfasen der Peripherie eines mit einer Kerbe versehenen
Werkstücks in Scheibenform, zum Beispiel einer kreisrun
den Halbleiterscheibe mit einer V-förmigen Nut, weist im
allgemeinen eine im wesentlichen zylindrische Schleif
scheibe 11 kleinen Durchmessers, einen Werkstückhalter 12
und eine elektronische Steuereinheit 13 auf.
Die zylindrische Schleifscheibe 11 wird in geeigneter
Weise zum Anfasen des an der Peripherie 14a der Halblei
terscheibe 14 gebildeten V-förmig gekerbten Bereichs 14b
verwendet. Die Schleifscheibe hat eine Ringnut 11a mit
trapezförmigem Querschnitt, wobei auf jeder Seite ihrer
Bodenfläche eine Ecke 11b mit einer Rundung gebildet ist,
die einen Radius r von beispielsweise 0,03 mm aufweist.
Der Radius der Bodenfläche 11c der Nut 11a der Schleif
scheibe 11 ist gleich oder kleiner bemessen als der Krüm
mungsradius R1 des inneren Bodens 14d des V-förmig ge
kerbten Bereichs 14b der Halbleiterscheibe 14. In der
Mitte ist eine Spindel 16 an der in der Mitte der
Schleifscheibe 11 vorgesehenen Längsöffnung angebracht
und mit einer Mutter 18 befestigt.
Die Unwucht der Drehung der Schleifscheibe 11 wird auf
mehr als 0,3 gmm gehalten, so daß eine Drehung der
Schleifscheibe mit hoher Geschwindigkeit (z. B. 30 000 bis
50.000 U/min) in Richtung des Pfeils A durch einen ersten
Elektromotor 15 sichergestellt werden kann.
Auf dem beweglichen Auflagetisch 7, auf dem der Elektro
motor 15 montiert ist, ist eine Gewindestange 8 mit einer
Mutter 9 derart an dem Auflagetisch 7 befestigt, daß sie
auf und ab bewegbar ist, wobei der Auflagetisch 7 und
demzufolge die Schleifscheibe 11 in Pfeilrichtung B-C
nach oben und nach unten bewegt werden.
Ein Werkstückhalter 12 dient zum Festhalten eines anzufa
senden Werkstücks 14. Der Halter hat eine Vakuumbasis 12a
mit einer Luftansaugöffnung 12b und geradlinige sowie
kreisrunde Nuten 12c, die quer in seine Fläche einge
schnitten sind, wobei die Vakuumöffnung 12b und die Nuten
12c mit einer nicht dargestellten Vakuumpumpe derart ver
bunden sind, daß das sich auf der Oberfläche der Basis
12a befindende Werkstück 14 mit Hilfe der Vakuumpumpe an
gezogen wird.
Der Werkstückhalter 12 ist ferner mit einem nicht darge
stellten Zentriermechanismus zum Einstellen der Drehmitte
der auf der Basis 12a angeordneten Halbleiterscheibe 14
mit der Mittelachse des Halters 12 versehen.
Der Werkstückhalter 12 ist des weiteren an einem an dem
beweglichen Tisch 20 fest montierten Zylinder 21 drehbar
gehalten und direkt mit der Rotationswelle 22a eines
Gleichstrom-Hilfsmotors 22 verbunden, derart, daß er sich
in Pfeilrichtung D dreht.
An dem beweglichen Tisch 20 ist eine Vorschubmutter 23
befestigt, die mit einer mit der Welle 24a des Gleich
strom-Hilfsmotors 24 verbundenen Gewindeschubstange 25 in
Eingriff steht. Durch den Antrieb des Gleichstrom-Hilfs
motors in der normalen oder umgekehrten Drehrichtung E
oder F wird der an dem beweglichen Tisch 20 befestigte
Werkstückhalter 12 in der Pfeilrichtung G oder H hin und
her bewegt, um den an dem Tisch 20 befestigten Werkstück
halter 12 geradlinig in Richtung auf die Schleifscheibe
und weg von der Schleifscheibe 11 vorzuschieben.
Der Elektromotor und die Gleichstrom-Hilfsmotoren 22, 24
sind jeweils durch Leitungen 26, 27, 29 elektrisch mit
der elektronischen Steuereinheit 13 verbunden.
Die elektronische Steuereinheit 13, die eine zentrale Re
cheneinheit 30, eine externe Speichereinheit 31, eine
Eingabe-/Ausgabeschnittstelle 32 und eine Eingabe-Aus
gabe-Einheit 33 umfaßt, steuert den Elektromotor 19 und
die Gleichstrom-Hilfsmotoren 22, 24 derart, daß diese den
Werkstückhalter 12 in Pfeilrichtung G oder H hin und her
bewegen, während die an dem Werkstückhalter 12 angeord
nete und zentrierte Halbleiterscheibe 14 in Pfeilrichtung
D gedreht wird, wodurch die Bewegung der Schleifscheibe
11 dem Umriß der gekerbten Halbleiterscheibe 14 folgt, um
die scharfen Kanten an der Peripherie der Halbleiter
scheibe 14 abzurunden, das heißt die Peripherie der Halb
leiterscheibe 14 anzufasen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet,
daß beim Anfasen eines Umfangsteils der einen ge
kerbten Bereich 14b aufweisenden Halbleiterscheibe 14
letztere horizontal auf dem geradlinig bewegbaren Werk
stückhalter 12 angeordnet wird. Die Schleifscheibe 11 ist
an ihrer Peripherie mit einer Ringnut 11a versehen ist,
die an der Peripherie im Querschnitt trapezförmig ist und
an den Seiten ihrer Bodenfläche 11c gerundete Ecken 11b
hat, wobei die Anordnung derart getroffen ist, daß der
Umfangsteil des gekerbten Bereichs 14b der Halbleiter
scheibe 14 mit der inneren Schleiffläche in Kontakt ge
langt, die an der Innenfläche der Nut 11a der Schleif
scheibe ausgebildet ist, wobei die Schleifscheibe 11 mit
hoher Geschwindigkeit um die Mittelachse der Spindel ge
dreht wird, während andererseits die an dem Werkstückhal
ter 12 angeordnete Halbleiterscheibe 14 mit niedriger Ge
schwindigkeit um ihre Mitte (in Richtung D) gedreht wird,
wobei der Werkstückhalter 12 und die an diesem angeord
nete Halbleiterscheibe 14 geradlinig in Richtung (H-G)
zur Schleifscheibe und weg von der Schleifscheibe 11 vor
geschoben werden, wodurch die scharfen Kanten oder Ecken
an der Peripherie der Halbleiterscheibe 14 gerundet wer
den.
Nachstehend wird die Betriebsweise erläutert.
Bezugnehmend auf Fig. 1 wird eine mit einer V-förmigen
Kerbe versehene anzufasende Halbleiterscheibe 14
(Werkstück) auf der Basis 12a des Werkstückhalters 12 an
geordnet und mittels der Vakuumpumpe (nicht dargestellt)
Luft durch die Einlaßöffnung 12b angesaugt, wodurch die
Halbleiterscheibe 14 fest an die Basis 12a des Werkstück
halters 12 gezogen wird. Danach wird die Halbleiter
scheibe 14 mittels des nicht gezeigten Zentriermechanis
mus auf der Basis 12a des Halters 12 zentriert, wodurch
die Einstellung der Halbleiterscheibe 14 beendet ist.
Dann wird der Elektromotor 19 angetrieben, um den Aufla
getisch 7 vertikal und folglich die Schleifscheibe 11 in
den Richtungen B-C zu bewegen, wobei die Schleifscheibe
11 und die Halbleiterscheibe 14 in einer vertikalen Posi
tion eingestellt wurden (siehe Fig. 2). Dadurch sind die
Vorbereitungen für den Anfasvorgang beendet.
Anschließend wird der Elektromotor 15 angetrieben, um die
Schleifscheibe 11 mit hoher Geschwindigkeit, zum Beispiel
mit 30 000 bis 50 000 U/min, in Pfeilrichtung A (siehe
Fig. 2) zu drehen.
Entsprechend den Steuersignalen aus der elektronischen
Steuereinheit 13 (die durch einen herkömmlichen Mikrocom
puter gebildet ist), beginnt der Gleichstrom-Hilfsmotor
22 die Drehung des Werkstückhalters 12 und der an diesem
angeordneten Halbleiterscheibe 14 mit niedriger Geschwin
digkeit durch die angetriebene Motorwelle 22a des Motors
22 in Pfeilrichtung D zu bewirken.
Ein Drehwinkel Ri der Halbleiterscheibe 14, die an dem
durch den Gleichstrom-Hilfsmotor 22 anzutreibenden Werk
stückhalter 12 angeordnet ist, wird sequentiell in den
Computer 13 eingegeben, und entsprechend der Operations
gleichung L = f (R), die vorher in der nicht dargestell
ten Speichereinheit der Steuereinheit 13 gespeichert
wurde, wird der entsprechende Betrag L der linearen Bewe
gung zwischen der Halbleiterscheibe bei einer Rotations
winkelposition Ri und der Schleifscheibe 11 sequentiell
berechnet.
Mit dem solchermaßen sequentiell berechneten relativen
Betrag L der linearen Bewegung wird bewirkt, daß der
Werkstückhalter 12 und die an diesem angeordnete Halblei
terscheibe 14 in den Richtungen G-H relativ zu der konka
ven Schleiffläche, die an der Innenfläche der Ringnut 11a
der Schleifscheibe ausgebildet ist, vorgeschoben werden.
In diesem Fall zeigt die Funktion f(Φ) eine Entfernung
zwischen dem Mittelpunkt der Halbleiterscheibe 14 und der
gekrümmten Oberfläche des fertigbearbeiteten Profils oder
dem Punkt an dem Bewegungsort der Mitte der Schleif
scheibe 11.
Auf diese Weise werden durch die Schleiffläche der zylin
drischen Schleifscheibe 11 der Umfangsteil der Kerbe 14b
der Halbleiterscheibe 14 und die zwei Grenzbereiche zwi
schen der Kerbe 14b und der Peripherie 14a entsprechend
dem für die Feinbearbeitung gewünschten Profil angefast.
Die im wesentlichen zylindrische Schleifscheibe 11 ist
hier als Profilschneider ausgebildet mit einer im Quer
schnitt trapezförmigen Ringnut 11a, die an der Ecke 11b
gerundet ist, wobei der Umriß der Nut 11a dem Quer
schnittsprofil des gekerbten Bereichs 14b der anzufasen
den Halbleiterscheibe ähnlich ist, so daß die Quer
schnittsform der Kerbe 14b der Halbleiterscheibe 14 in
genau derselben Form wie die Ringnut 11a der Schleif
scheibe 11 geschliffen und das vordere Ende 14c mit einer
Rundung versehen wird, die in Richtung der Plattendicke
einen Radius r von beispielsweise 0,03 mm aufweist.
Da die Schleifscheibe 11 als formgebende Schleifscheibe
ausgebildet ist, können damit die unteren und oberen
Ecken 14c an der Peripherie der Halbleiterscheibe 14 in
einem Vorgang, das heißt simultan und dadurch mit ent
sprechend hoher Leistung bearbeitet werden.
Bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform ist die
Anordnung ferner so getroffen, daß bei der an einer vor
gegebenen Position angehaltenen zylindrischen Schleif
scheibe die an dem Werkstückhalter 12 befestigte Halblei
terscheibe linear in den Richtungen G-H vorgeschoben
wird, während die an dem Werkstückhalter 12 befestigte
Halbleiterscheibe 14 gedreht wird. Statt dessen kann die
Anordnung auch so getroffen werden, daß im Zustand der
Festlegung der an dem Werkstückhalter 12 befestigten
Halbleiterscheibe 14 in einer vorgegebenen Position die
Schleifscheibe 11 in den Richtungen G-H über die relative
Bewegungsstrecke, die in der vorstehend beschriebenen
Weise sequentiell berechnet wird, geradlinig vorgeschoben
wird.
Vorliegende Erfindung wurde anhand einer bevorzugten Aus
führungsform beschrieben. Verschiedene Abwandlungen sind
möglich, ohne von dem Rahmen der Erfindung abzuweichen,
der in den Ansprüchen wiedergegeben ist.
Claims (2)
1. Verfahren zum Anfasen der Umfangsbereiche eines mit
einer Kerbe versehenen scheibenförmigen Werkstücks, bei
spielsweise einer gekerbten kreisrunden Halbleiter
scheibe, mittels einer im wesentlichen zylindrischen
Schleifscheibe kleinen Durchmessers, die an ihrer äußeren
Umfangsfläche mit einer Ringnut versehen ist, die im
Querschnitt trapezförmig ist und gerundete Ecken an den
Seiten ihrer Bodenfläche aufweist, gekennzeichnet durch:
- - horizontale Anordnung des Werkstücks (14) auf einer Auflagefläche (7) und Einstellung durch Drehung um dessen Mitte;
- - Anordnen der Schleifscheibe (11) in einer solchen Posi tion, daß die an der Innenfläche der Nut (11a) ausgebil dete Schleiffläche den Umfangsbereichen des Werkstücks (14) gegenüberliegt;
- - geradliniges Vorschieben des Werkstücks (14) in den Richtungen (H-G) zu und weg von der sich mit hoher Ge schwindigkeit drehenden Schleifscheibe (11), während das Werkstück (14) mit niedriger Geschwindigkeit um seine zentrale Achse (Richtung D) gedreht wird, wodurch die Kanten oder Ecken an der Peripherie des Werkstücks gerun det werden.
2. Vorrichtung zum Anfasen der Umfangsbereiche eines
mit einer Kerbe versehenen Werkstücks in Scheibenform,
beispielsweise einer gekerbten kreisrunden Halbleiter
scheibe, gekennzeichnet durch:
- - eine im wesentlichen zylindrische Schleifscheibe (11) kleinen Durchmessers, die an ihrer äußeren Umfangsfläche mit einer Ringnut (11a) versehen ist, die im Querschnitt trapezförmig ist und an den Seiten ihrer Bodenfläche ge rundete Ecken hat;
- - eine Halteeinrichtung (7) zum senkrechten Halten der Spindel (16) der Schleifscheibe (11);
- - eine erste Antriebseinrichtung (15) für die Drehung der Schleifscheibe (11) mit hoher Geschwindigkeit um deren Mittelachse;
- - einen Werkstückhalter (12) zum horizontalen Halten und zum Zentrieren des Werkstücks auf einer höhenverstellba ren Basis (12a) des Halters (12);
- - eine Vorschubeinrichtung (24) für den geradlinigen Vor schub des Werkstückhalters (12) in den Richtungen (H-G) hin zur und weg von der konkaven Schleiffläche der Schleifscheibe (11);
- - eine zweite Antriebseinrichtung (22) zum Drehen der Ba sis (12a) des Werkstückhalters (12), um das an diesem ge haltene Werkstück (14) in dem gewünschten Neigungswinkel (R) mit niedriger Geschwindigkeit zu drehen;
- - eine elektronische Steuereinrichtung (13) zum Steuern der ersten und der zweiten Antriebseinrichtung und der Vorschubeinrichtung entsprechend der vorher in dem Spei cherteil der Steuereinrichtung gespeicherten Anfasarbeit, wobei die Steuereinrichtung (13) die den Drehwinkelposi tionen (Ri) entsprechenden Bewegungswege des Werkstücks (14) sequentiell berechnet, woraufhin das Werkstück je desmal langsam um eine Drehwinkelsteigung weiterbewegt wird, und wobei die Steuereinrichtung bewirkt, daß der Werkstückhalter (12) geradlinig vorgeschoben wird, um das daran befestigte Werkstück (14) geradlinig um die berech nete Vorschublänge in den Richtungen (H-G) zu bewegen und dabei die Kanten an der Peripherie des gekerbten Werk stücks abzurunden.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27541892A JPH06104228A (ja) | 1992-09-19 | 1992-09-19 | 半導体ウェーハのノッチ部のアール面取り方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4331727A1 true DE4331727A1 (de) | 1994-03-24 |
Family
ID=17555232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19934331727 Ceased DE4331727A1 (de) | 1992-09-19 | 1993-09-17 | Verfahren und Vorrichtung zum Anfasen der Peripherie eines gekerbten scheibenförmigen Werkstücks |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06104228A (de) |
DE (1) | DE4331727A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0962282A1 (de) * | 1998-06-05 | 1999-12-08 | Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. | Verfahren und Vorrichtung zum Abfasen von Halbleiterscheiben |
US6066031A (en) * | 1997-03-10 | 2000-05-23 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Wafer chamfering method and apparatus |
EP1443544A2 (de) * | 2003-01-20 | 2004-08-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Halbleitersubstrat, sein Herstellungsverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018103320A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板の端面加工方法、製造方法及びガラス板 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0222521A2 (de) * | 1985-11-04 | 1987-05-20 | Silicon Technology Corporation | Automatische Kantenschleifmaschine |
US4864779A (en) * | 1987-08-23 | 1989-09-12 | Emtec Co., Ltd. | Grinding method and apparatus of orientation flat |
JPH0287523A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-28 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウエーハ、ノッチ面取り方法及びその装置 |
-
1992
- 1992-09-19 JP JP27541892A patent/JPH06104228A/ja not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-09-17 DE DE19934331727 patent/DE4331727A1/de not_active Ceased
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0222521A2 (de) * | 1985-11-04 | 1987-05-20 | Silicon Technology Corporation | Automatische Kantenschleifmaschine |
US4864779A (en) * | 1987-08-23 | 1989-09-12 | Emtec Co., Ltd. | Grinding method and apparatus of orientation flat |
JPH0287523A (ja) * | 1988-09-26 | 1990-03-28 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウエーハ、ノッチ面取り方法及びその装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6066031A (en) * | 1997-03-10 | 2000-05-23 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Wafer chamfering method and apparatus |
EP0962282A1 (de) * | 1998-06-05 | 1999-12-08 | Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. | Verfahren und Vorrichtung zum Abfasen von Halbleiterscheiben |
EP1443544A2 (de) * | 2003-01-20 | 2004-08-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Halbleitersubstrat, sein Herstellungsverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements |
EP1443544A3 (de) * | 2003-01-20 | 2006-04-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Halbleitersubstrat, sein Herstellungsverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements |
US7102206B2 (en) | 2003-01-20 | 2006-09-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor substrate, method for fabricating the same, and method for fabricating semiconductor device |
US7393759B2 (en) | 2003-01-20 | 2008-07-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor substrate, method for fabricating the same, and method for fabricating semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06104228A (ja) | 1994-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4138087C2 (de) | Schleifmaschine zum Anfasen einer Kerbe in der Umfangsfläche eines scheibenförmigen Werkstücks | |
DE3884903T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Abschneiden einer Halbleiterscheibe. | |
DE69208050T2 (de) | Verfahren zum Abkanten einer Halbleiterscheibe | |
EP0830228B1 (de) | Verfahren zur spanenden bearbeitung von zylindrischen konturen, vorrichtung zur durchführung des verfahrens und schneideinsatz hierzu | |
DE10162945B4 (de) | Schleifmaschine | |
DE69207075T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Abschrägen der Kerbe eines Plättchen | |
DE3906305A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer orientierungs-abflachung | |
DE3927412A1 (de) | Linsenschleifvorrichtung und verfahren zum schleifen von linsen | |
DE60009506T2 (de) | Kantenschleifverfahren | |
DE3335116A1 (de) | Halbleiterplaettchen sowie verfahren und vorrichtung zu ihrer herstellung | |
WO2004076124A1 (de) | Verfahren zum rundschleifen bei der herstellung von werkzeugen aus hartmetall und rundschleifmaschine zum schleifen von zylindrischen ausgangskörpern bei der herstellung von werkzeugen aus hartmetall | |
DE69029913T2 (de) | Verfahren zur Behandlung eines Substrats für Halbleiter-Bauelemente | |
DE4440867A1 (de) | Scheiben-Anfasmaschine | |
EP1286802B1 (de) | Scheibenfräser | |
DE10044463A1 (de) | Plättchenschneidverfahren | |
EP1037727B1 (de) | Brillenglasrandbearbeitungsmaschine | |
CH669924A5 (de) | ||
DE4331727A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Anfasen der Peripherie eines gekerbten scheibenförmigen Werkstücks | |
DE60200676T2 (de) | Vorrichtung zur Bearbeitung und Entgratung von Luftreifen | |
EP1591197A1 (de) | Schleifverfahren und schleifvorrichtung | |
DE69719459T2 (de) | Verfahren zur splitterlosen Bearbeitung des Randbereiches eines keramischen Vorformkörpers | |
EP0841116B1 (de) | Verfahren zum Bearbeiten von rotationssymmetrischen Werkstückflächen sowie Werkzeug zur Durchführung eines solchen Verfahrens | |
DE2300736A1 (de) | Fraeser | |
EP1412149B1 (de) | Wafer-schneidemaschine | |
DE3804133C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |