DE4320786A1 - Prodn. of boron-contg. poly:silane(s), useful for prodn. of ceramics - by reacting tris-chloro:silyl:ethyl-borane(s) with alkali metal(s) - Google Patents

Prodn. of boron-contg. poly:silane(s), useful for prodn. of ceramics - by reacting tris-chloro:silyl:ethyl-borane(s) with alkali metal(s)

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DE4320786A1 DE19934320786 DE4320786A DE4320786A1 DE 4320786 A1 DE4320786 A1 DE 4320786A1 DE 19934320786 DE19934320786 DE 19934320786 DE 4320786 A DE4320786 A DE 4320786A DE 4320786 A1 DE4320786 A1 DE 4320786A1
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Abstract

B-contg. polysilanes (II) are produed by reacting tris-silyl-borane(s) of formula B-(C2H4-SiCl2X)3 (I) with metallic Li, Na and/or K. In (I), -C2H4- is -CH2-CH2- or -CHMe-; and X is Cl or 1-4C aliphatic residue. In (II), R = 1-4C aliphatic residue; and a + b is 1. At least equimolar amts. of alkali metal are useed, and the reaction is carried out in organic solvent, by adding the other reactants at 50-120 deg. C and then heating at 60-200 deg. C, pref. with exposure to ultrasound. Pref. (I) are prepd., e.g. by reaction of corresp. vinylsilanes of formula CH2=CH-SiCl2X with BH3.THF as described in J. Organomet. Chem. 34 (1972) C9 and 135 (1977) 249, and in Zhur. Obshchei. Thim. 30 (1960) 3615. Suitable solvents are, e.g. heptane, toluene, THF etc. USE/ADVANTAGE - (II) are new B-contg. polysilanes, useful for the prodn. of B- and Si- contg. ceramics with good adhesion, hardness and surface quality, which are useful for coating steel etc., esp. for the surface coating of machine components which are subjected to mechanical and chemical stress. (II) can also be shaped before pyrolysis, e.g. to give ceramic fibres which are useful for reinforcement of Al, Al alloys and ceramic components. In an example, tris-((dichloromethylsilyl) ethyl)-borane (I) was prepd. by reacting 216g dichloromethylvinylsilane in 255 ml toluen with 255 ml 2M soln. of BH3.SM32 in toluene, followed by evapn. of solvent to give 233g (I). Refluxing suspension of Na/K alloy (obtd. by melting 2.83g Na with 10.05g K) in THF was treated slowly with 27.5g (I), under the action of ultrasound. Mixt. was then worked up by filtration and evapn. to give polymer (II), contg. (apporx.) 42.8 wt.% C, 8.4 wt.% H, 11.8 wt.% B, 32.1 wt.% Si, below 0.2 wt.% Cl. 2.5g (II) was pressed-moulded to form a cylinder which was pyrolysed by heating under N2 to 1200 deg. C at 1 deg./min. and maintaining this temp. for a further 3 hrs. Black ceramic prod. obtd. showed slight shrinkage but no evidence of melting; X-ray diffraction analysis showed no crystalline phases.

Description

Die Erfindung betrifft neue borhaltige Polysilane, ihre Herstellung, ihre Weiterverarbeitung zu Bor und Silicium enthaltenden keramischen Materialien, sowie diese Materialien selbst. Die genannten keramischen Materialien werden durch Pyrolyse aus den borhaltigen Polysilanen erhalten.The invention relates to new boron-containing polysilanes, their preparation, their Further processing to ceramic materials containing boron and silicon, as well as these materials themselves. The ceramic materials mentioned are obtained by pyrolysis from the boron-containing polysilanes.

Die Herstellung von gewissen borsiliciumorganischen Polymeren und deren Pyrolyse zu Bor und Silicium enthaltenden keramischen Materialien ist bereits bekannt. R.R. Wills et al. (Cer. Bulletin 62 (1983) 905) beschreiben die Herstellung borhaltiger Polysiloxane durch Mischen von Alkoxysilanen mit Boralkoxiden B(OR)3 und anschließendem Sol-Gel-Prozeß. Sol-Gel-Prozesse sind jedoch als sehr langwierig bekannt; außerdem können Inhomogenitäten auftreten, weil durch mechanisches Vermischen eine ideal homogene Lösung mit idealer Verteilung von Siloxanen und Boralkoxid nicht herzustellen ist.The production of certain organosilicon polymers and their pyrolysis to ceramic and boron-containing ceramic materials is already known. RR Wills et al. (Cer. Bulletin 62 (1983) 905) describe the preparation of boron-containing polysiloxanes by mixing alkoxysilanes with boralkoxides B (OR) 3 and then using the sol-gel process. However, sol-gel processes are known to be very lengthy; In addition, inhomogeneities can occur because mechanical mixing does not produce an ideally homogeneous solution with an ideal distribution of siloxanes and boralkoxide.

Gemäß EP-A 0 325 483 werden Boroxine, cyclische Bor-Sauerstoff-Moleküle, mit Silazanen umgesetzt. Dabei müssen die Boroxine und Silazane separat synthetisiert und anschließend miteinander umgesetzt werden. Diese mehrstufige Synthese ist kompliziert und trotzdem sind Inhomogenitäten möglich.According to EP-A 0 325 483, boroxines, cyclic boron-oxygen molecules, implemented with silazanes. The boroxines and silazanes must be separate synthesized and then implemented together. This multi-step synthesis is complicated and yet there are inhomogeneities possible.

Gemäß EP-A-0 337 843 wird BCl3 mit Bis(trimethylsilyl)alkaliamid umgesetzt. Alkaliamide sind jedoch leicht entzündliche Verbindungen, die in der Handhabung Schwierigkeiten bereiten.According to EP-A-0 337 843, BCl 3 is reacted with bis (trimethylsilyl) alkali amide. However, alkali amides are highly flammable compounds that are difficult to handle.

Gemäß US-PS 4 906 763 werden siliciumhaltige Borazine in SiBN-Keramik überführt. Dabei geht man von Chlorborazinen aus und läßt diese mit Hexamethyldisilazan reagieren.According to US Pat. No. 4,906,763, silicon-containing borazines are used in SiBN ceramics transferred. One starts from chloroborazine and leaves it with  React hexamethyldisilazane.

Gemäß US-PS 4 780 337 werden SiH-haltige Polymere, u. a. Silane, mit Boralkenoxiden in einer Hydrosilylierungsreaktion (mit Platinverbindungen als Katalysatoren) umgesetzt. Dies führt u. a. auch zu borhaltigen Polysilanen. Schwierigkeiten entstehen bei der Rückgewinnung des Katalysators und in der Herstellung der Boralkenoxide.According to US Pat. No. 4,780,337, SiH-containing polymers, u. a. Silane, with Boralkene oxides in a hydrosilylation reaction (with platinum compounds as Catalysts) implemented. This leads u. a. also to boron-containing polysilanes. Difficulties arise in the recovery of the catalyst and in the Manufacture of boralkene oxides.

Es wurde nun gefunden, daß man neue borsiliciumorganische Polymere, nämlich borhaltige Polysilane, auf einfache Weise aus Tris-silylboranen der Formel (I)It has now been found that new organosilicon polymers, namely polysilanes containing boron, in a simple manner from tris-silylboranes of the formula (I)

B[-C₂H₄-SiCl₂X]₃ (I)B [-C₂H₄-SiCl₂X] ₃ (I)

worin die Gruppe -C2H4- die Struktur -CH2-CH2- oder -CH(CH3)- hat und X ein Chloratom oder ein aliphatischer Rest mit 1-4 C-Atomen ist, durch Umsetzung mit mindestens einem der Alkalimetalle Li, Na oder K herstellen kann. Aus diesen borhaltigen Polysilanen kann man dann durch Pyrolyse in einfacher Weise Bor und Silicium enthaltende keramische Materialien herstellen.wherein the group -C 2 H 4 - has the structure -CH 2 -CH 2 - or -CH (CH 3 ) - and X is a chlorine atom or an aliphatic radical with 1-4 C atoms, by reaction with at least one of the Alkali metals Li, Na or K can produce. Ceramic materials containing boron and silicon can then be produced in a simple manner from these boron-containing polysilanes by pyrolysis.

Ein Gegenstand der Erfindung ist daher ein Verfahren zur Herstellung von borhaltigen Polysilanen, dadurch gekennzeichnet, daß man mindestens ein Tris- silylboran der Formel (I)The invention therefore relates to a method for producing boron-containing polysilanes, characterized in that at least one tris silylborane of formula (I)

B[-C₂H₄-SiCl₂X]₃ (I)B [-C₂H₄-SiCl₂X] ₃ (I)

worin die Gruppe -C2H4- die Struktur -CH2-CH2- oder -CH(CH3)- hat und X ein Chloratom oder ein aliphatischer Rest mit 1-4 C-Atomen ist, mit mindestens einem der Alkalimetalle Li, Na oder K umsetzt.wherein the group -C 2 H 4 - has the structure -CH 2 -CH 2 - or -CH (CH 3 ) - and X is a chlorine atom or an aliphatic radical with 1-4 C atoms, with at least one of the alkali metals Li , Na or K implemented.

Die als Ausgangsprodukte eingesetzten Tris-silylborane der Formel B[-C2H4-SiCl2X]3 können nach P.R. Jones et al. (J. Organomet. Chem. 34 (1972) C9), T.F.O. Lim et al. (J. Organomet. Chem. 135 (1977) 249) und B.M. Mikailev et al. (Zhur. Obshchei. Khim. 30 (1960) 3615; C.A. (55) 20920) hergestellt werden, indem man entsprechende Vinylsilane der Formel CH2=CH-SiCl2X mit BH3·THF (Tetrahydrofuran) umsetzt. Dabei entsteht im allgemeinen ein Gemisch von 1- und 2-Substitutionsprodukten (mit -CH(CH3)- bzw. -CH2-CH2-Gruppen). Diese können getrennt und dann einzeln erfindungsgemäß umgesetzt werden, jedoch ist es auch ohne weiteres möglich, das Gemisch, wie es in der Reaktion entsteht, als solches einzusetzen. Man kann aber auch aus mehreren verschiedenen Vinylsilanen durch Umsetzung mit BH3·THF zuerst verschiedene Tris-silylboran-Gemische herstellen, dann diese Gemische jeweils in ihre beiden 1- und 2-Substitutionsprodukte auftrennen und daraus neue Gemische, z. B. nur aus 1-Substitutionsprodukten oder nur aus 2- Substitutionsprodukten herstellen und dann erfindungsgemäß umsetzen. Durch dieses Mischen von vorher isolierten Reinkomponenten kann man zu Mischungen gelangen, die durch die Vinylsilan-Umsetzung mit BH3·THF nicht direkt erhalten werden können.The tris-silylboranes of the formula B [-C 2 H 4 -SiCl 2 X] 3 used as starting products can, according to PR Jones et al. (J. Organomet. Chem. 34 (1972) C9), TFO Lim et al. (J. Organomet. Chem. 135 (1977) 249) and BM Mikailev et al. (Zhur. Obshchei. Khim. 30 (1960) 3615; CA (55) 20920) can be prepared by reacting corresponding vinylsilanes of the formula CH 2 = CH-SiCl 2 X with BH 3 .THF (tetrahydrofuran). This generally results in a mixture of 1- and 2-substitution products (with -CH (CH 3 ) - or -CH 2 -CH 2 groups). These can be separated and then reacted individually according to the invention, but it is also easily possible to use the mixture as it is in the reaction as such. But you can also from different vinyl silanes by reaction with BH 3 · THF first produce different tris-silylborane mixtures, then separate these mixtures into their two 1- and 2-substitution products and new mixtures, z. B. only from 1 substitution products or only from 2 substitution products and then implement according to the invention. This mixing of previously isolated pure components leads to mixtures which cannot be obtained directly by the vinylsilane reaction with BH 3 · THF.

Zur Herstellung der borhaltigen Polysilane wird vorzugsweise mindestens eins der genannten Alkalimetalle in einem Lösungsmittel vorgelegt, welches sich inert gegenüber den Reaktanten - Tris-silylboran und Alkalimetall - verhält und dessen Siedepunkt mindestens gleich dem Schmelzpunkt des eingesetzten Alkalimetalls ist. Geeignet sind z. B. gesättigte aliphatische oder aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Heptan, Decalin, Xylol, Toluol oder Ether wie Dibenzylether, Dibutylether oder Tetrahydrofuran (THF). Zum vorgelegten Alkalimetall wird das Tris-silylboran zugetropft. Im allgemeinen wird das Alkalimetall in mindestens äquimolarer Menge eingesetzt, vorzugsweise in leichtem Überschuß von etwa 0,1 bis 1 Mol %, besonders bevorzugt 0,1 bis 0,5 Mol %. Eine äquimolare Menge bedeutet dabei, daß auf ein Chloratom im Tris-silylboran, oder den Tris-silylboranen, ein Alkalimetallatom entfällt. Vorzugsweise wird die Reaktion, um die Enthalogenierung zu beschleunigen, unter Ultraschalleinwirkung durchgeführt.At least one is preferably used to produce the boron-containing polysilanes of the alkali metals mentioned in a solvent which is inert towards the reactants - tris-silylborane and alkali metal - and their behavior Boiling point at least equal to the melting point of the alkali metal used is. Are suitable for. B. saturated aliphatic or aromatic Hydrocarbons such as heptane, decalin, xylene, toluene or ethers such as Dibenzyl ether, dibutyl ether or tetrahydrofuran (THF). To the submitted The tris-silylborane is added dropwise to alkali metal. In general it will Alkali metal used in at least an equimolar amount, preferably in slight excess of about 0.1 to 1 mol%, particularly preferably 0.1 to 0.5 mol%. An equimolar amount means that on a chlorine atom in Tris-silylborane, or the tris-silylboranes, an alkali metal atom is omitted. Preferably, in order to accelerate the dehalogenation, the reaction is performed under the influence of ultrasound.

Die Reaktionstemperatur wird während des Zutropfens des Tris-silylborans vorzugsweise zunächst bei 50°C bis 120°C gehalten, und anschließend wird auf Temperaturen von 60°C bis 200°C erhitzt, vorzugsweise auf 60°C bis 100°C. The reaction temperature is increased during the dropping of the tris-silylborane preferably first kept at 50 ° C to 120 ° C, and then heated to temperatures from 60 ° C to 200 ° C, preferably to 60 ° C to 100 ° C.  

Bei der Reaktion entsteht Akalichlorid, das durch Extraktion mit einem inerten organischen Lösungsmittel vom borhaltigen Polysilan abgetrennt werden kann. Hierfür sind dieselben Lösungsmittel geeignet wie zum Lösen der Tris- silylborane.The reaction produces akali chloride, which is extracted by extraction with an inert organic solvent can be separated from the boron-containing polysilane. The same solvents are suitable for this as for dissolving the tris silylboranes.

Falls erwünscht, kann das Verfahren auch unter vermindertem Druck durchgeführt werden. Auch bei Drucken im Bereich von 1 bis 10 bar kann gearbeitet werden.If desired, the process can also be carried out under reduced pressure be performed. Even at pressures in the range of 1 to 10 bar be worked.

Das Verfahren kann auch kontinuierlich gestaltet werden.The process can also be designed continuously.

Die auf diese Weise hergestellten neuen borhaltigen Polysilane haben eine molekulare Struktur, die durch die Formel (II)The new boron-containing polysilanes produced in this way have one molecular structure represented by formula (II)

wiedergegeben werden kann, worin die Gruppe -C2H4- die Struktur -CH2-CH2- oder -CH(CH3)- hat, R ein aliphatischer Rest mit 1-4 C-Atomen ist und a, b die Molfraktionen der beiden Struktureinheiten bedeuten. Dabei gilt a + b = 1.can be reproduced in which the group -C 2 H 4 - has the structure -CH 2 -CH 2 - or -CH (CH 3 ) -, R is an aliphatic radical with 1-4 C atoms and a, b the mole fractions of the two structural units mean. Where a + b = 1.

Wird ausschließlich B[-C2H4-SiCl3]3 eingesetzt, so ist a = 1 und b = 0.If only B [-C 2 H 4 -SiCl 3 ] 3 is used, then a = 1 and b = 0.

Wird ausschließlich B[-C2H4-SiCl2CH3]3 eingesetzt, so ist a = 0 und b = 1 und R = CH3.If only B [-C 2 H 4 -SiCl 2 CH 3 ] 3 is used, then a = 0 and b = 1 and R = CH 3 .

Wird z. B. ein Gemisch aus 40 Mol.-% B[-C2H4-SiCl3]3 und 60 Mol.-% B[-C2H4-SiCl2CH3]3 eingesetzt, so ist a = 0,4 und b = 0,6 und R = CH3. Is z. B. a mixture of 40 mol% B [-C 2 H 4 -SiCl 3 ] 3 and 60 mol% B [-C 2 H 4 -SiCl 2 CH 3 ] 3 is used, then a = 0, 4 and b = 0.6 and R = CH 3 .

Um die 1- und 2-Boraneinheiten im Polymer zu unterscheiden, wird die Molfraktion a der alkylfreien Struktureinheit aufgeteilt in a1 für den Anteil der 1- Boraneinheit (-CH(CH3)-) und a2 für den Anteil der 2-Boraneinheit (-CH2-CH2-) und analog die Molfraktion b der den Alkylrest R enthaltenden Struktureinheit in b1 (1-Boraneinheit) und b2 (2-Boraneinheit).In order to differentiate the 1- and 2-borane units in the polymer, the mol fraction a of the alkyl-free structural unit is divided into a 1 for the proportion of the 1-borane unit (-CH (CH 3 ) -) and a 2 for the proportion of the 2-borane unit (-CH 2 -CH 2 -) and analogously the mol fraction b of the structural unit containing the alkyl radical R in b 1 (1-borane unit) and b 2 (2-borane unit).

Wird also ausschließlich ein B[-C2H4-SiCl3]3-Gemisch aus 10 Mol.-% B[-CH2-CH2-SiCl3]3 und 90 Mol.-% B[-CH(CH3)-SiCl3]3 eingesetzt, so ist a = 1, mit a1 = 0,9 und a2 = 0,1 , während b = 0 ist.If only a B [-C 2 H 4 -SiCl 3 ] 3 mixture of 10 mol% B [-CH 2 -CH 2 -SiCl 3 ] 3 and 90 mol% B [-CH (CH 3 ) -SiCl 3 ] 3 , then a = 1, with a 1 = 0.9 and a 2 = 0.1, while b = 0.

In ähnlicher Weise kann der Anteil verschiedener Alkylreste R unterschiedlicher Länge angegeben werden, indem die Molfraktionen b1 (1-Boraneinheit) und b2 (2-Boraneinheit) in b1 1, b1 2, b1 3, b1 4 und b2 1, b2 2, b2 3, b2 4 aufgeteilt werden, wobei der obere Index die Anzahl der C-Atome im Rest R wiedergibt, also z. B. b1 2 und b2 2 als Molfraktionen für die 1- bzw. 2-Boraneinheit mit R = C2H5.In a similar manner, the proportion of different alkyl radicals R of different lengths can be given by the mole fractions b 1 (1-borane unit) and b 2 (2-borane unit) in b 1 1 , b 1 2 , b 1 3 , b 1 4 and b 2 1 , b 2 2 , b 2 3 , b 2 4 can be divided, the upper index representing the number of C atoms in the radical R, B. b 1 2 and b 2 2 as mole fractions for the 1- or 2-borane unit with R = C 2 H 5 .

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind demgemäß borhaltige Polysilane der allgemeinen Formel (II)The present invention accordingly furthermore relates to boron-containing Polysilanes of the general formula (II)

worin die Gruppe -C2H4- die Struktur -CH2-CH2- oder -CH(CH3)- hat, R ein aliphatischer Rest mit 1-4 C-Atomen ist und a, b die Molfraktionen der jeweiligen Struktureinheiten bedeuten, wobei a + b = 1 gilt. wherein the group -C 2 H 4 - has the structure -CH 2 -CH 2 - or -CH (CH 3 ) -, R is an aliphatic radical with 1-4 C atoms and a, b are the mole fractions of the respective structural units , where a + b = 1 applies.

Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind borhaltige Polysilane, dadurch erhältlich, daß man mindestens ein Tris-silylboran der Formel (I)The present invention furthermore relates to boron-containing polysilanes, obtainable by at least one tris-silylborane of the formula (I)

B[-C₂H₄-SiCl₂X]₃ (I)B [-C₂H₄-SiCl₂X] ₃ (I)

worin die Gruppe -C2H4- die Struktur -CH2-CH2- oder -CH(CH3)- hat und X ein Chloratom oder ein aliphatischer Rest mit 1-4 C-Atomen ist, mit mindestens einem der Alkalimetalle Li, Na oder K umsetzt.wherein the group -C 2 H 4 - has the structure -CH 2 -CH 2 - or -CH (CH 3 ) - and X is a chlorine atom or an aliphatic radical with 1-4 C atoms, with at least one of the alkali metals Li , Na or K implemented.

Die bevorzugten Ausführungsformen dieser Umsetzung sind bereits oben angegeben worden.The preferred embodiments of this implementation are already above have been specified.

Die erfindungsgemäßen borhaltigen Polysilane sind sehr homogen in bezug auf die Elementverteilung von B, Si und C. Sie können durch Pyrolyse in inerter Stickstoff- oder Argonatmosphäre bei Temperaturen von 500 bis 2000°C, vorzugsweise 800 bis 1400°C, zu amorphen, dichten Materialien pyrolysiert werden, die im wesentlichen aus Si, C und B bestehen und in Spuren auch H und O enthalten können.The boron-containing polysilanes according to the invention are very homogeneous with respect to the element distribution of B, Si and C. You can by pyrolysis in inert Nitrogen or argon atmosphere at temperatures from 500 to 2000 ° C, preferably 800 to 1400 ° C, pyrolyzed to amorphous, dense materials be, which consist essentially of Si, C and B and in traces also H and can contain O.

Ein besonderer Vorteil ist, daß sich die borhaltigen Polysilane vor der Pyrolyse nach verschiedenen Verfahren zu dreidimensionalen Formkörpern formen lassen.A particular advantage is that the boron-containing polysilanes before pyrolysis have three-dimensional moldings formed using various processes.

Eine wichtige Methode der Formgebung ist das Ziehen von Fasern. Dabei lassen sich Fasern aus hochviskosen Lösungen des borhaltigen Polysilans in Lösemitteln, wie Toluol, THF oder Hexan ziehen. Das Faserziehen geschieht vorteilhafterweise mittels Spinndüsen von 80 bis 350 µm Durchmesser. Durch anschließendes Strecken wird der Faden verjüngt, so daß nach der Pyrolyse ein sehr fester Faden von 2 bis 20 µm, insbesondere 5 bis 15 µm Durchmesser entsteht. Die durch anschließende Pyrolyse hergestellten Fasern finden Verwendung als mechanische Verstärkungseinlagerungen in faserverstärktem Aluminium, Aluminiumlegierungen und Keramikbauteilen.An important method of shaping is pulling fibers. Let it go fibers from highly viscous solutions of boron-containing polysilane Draw solvents such as toluene, THF or hexane. The fiber drawing happens advantageously by means of spinnerets of 80 to 350 microns in diameter. By subsequent stretching, the thread is tapered so that after pyrolysis very strong thread of 2 to 20 µm, especially 5 to 15 µm in diameter arises. Find the fibers produced by subsequent pyrolysis Use as mechanical reinforcement inclusions in fiber reinforced Aluminum, aluminum alloys and ceramic components.

Eine weitere wichtige Verarbeitungsmöglichkeit der borhaltigen Polysilane ist die Herstellung dichter, gut haftender, amorpher keramischer Beschichtungen auf Metallen, insbesondere Stählen. Die Beschichtung erfolgt mit Hilfe einer Lösung des Polysilans in organischen Lösungsmitteln wie Toluol, THF oder Hexan. Die pyrolytische Umwandlung in eine amorphe Schicht erfolgt im gleichen Temperaturbereich von 500 bis 2000°C, vorzugsweise 800 bis 1400°C unter Inertgas wie oben bei den dreidimensionalen Formkörpern beschrieben.Another important processing option for the boron-containing polysilanes is Production of dense, well adhering, amorphous ceramic coatings Metals, especially steels. The coating is done with the help of a solution  of the polysilane in organic solvents such as toluene, THF or hexane. The Pyrolytic conversion into an amorphous layer takes place in the same Temperature range from 500 to 2000 ° C, preferably 800 to 1400 ° C below Inert gas as described above for the three-dimensional shaped bodies.

Die keramischen Beschichtungen eignen sich wegen ihrer hervorragenden Haftung, hohen Härte und Oberflächengüte besonders zur Oberflächenveredlung von mechanisch und chemisch beanspruchten Maschinenbauteilen.The ceramic coatings are suitable because of their excellent Adhesion, high hardness and surface quality especially for surface finishing of mechanically and chemically stressed machine components.

Weiter kann man die oben beschriebenen borhaltigen Polysilane mit gleichhoher keramischer Ausbeute von 70 bis 90% statt in Inertgas auch in NH3- Atmosphäre pyrolysieren. Dabei resultiert ein praktisch kohlenstofffreier, glasklarer, farbloser Werkstoff. Bei der Pyrolyse in NH3 bei 1000°C oder höher liegt der C-Gehalt unterhalb 0,5 Gew.-%. Das Pyrolyseprodukt besteht aus praktisch reinem amorphem SiBN. Die Pyrolyse in NH3 läßt sich auf alle nach den oben beschriebenen Formgebungsverfahren hergestellten Formkörpern, also aus Pulvern geformte Körper, Fasern, Beschichtungen anwenden.Furthermore, the boron-containing polysilanes described above can be pyrolyzed with an equally high ceramic yield of 70 to 90% in an NH 3 atmosphere instead of in inert gas. The result is a practically carbon-free, crystal-clear, colorless material. When pyrolysis in NH 3 at 1000 ° C or higher, the C content is below 0.5 wt .-%. The pyrolysis product consists of practically pure amorphous SiBN. The pyrolysis in NH 3 can be applied to all shaped bodies produced by the shaping processes described above, that is to say bodies, fibers, and coatings formed from powders.

Weitere Gegenstände der Erfindung sind daher die Herstellung von Si, B und C enthaltendem keramischem Material, dadurch gekennzeichnet, daß man die oben erwähnten, durch ihre Formel oder ihr Herstellungsverfahren charakterisierten borhaltigen Polysilane in inerter Stickstoff- oder Argonatmosphäre bei 500 bis 2000°C, vorzugsweise 800 bis 1400°C, pyrolysiert, sowie das dadurch erhältliche keramische Material selbst.The invention therefore also relates to the production of Si, B and C. containing ceramic material, characterized in that the mentioned above, by their formula or their manufacturing process characterized boron-containing polysilanes in inert nitrogen or Argon atmosphere at 500 to 2000 ° C, preferably 800 to 1400 ° C, pyrolyzed, as well as the ceramic material itself.

Weitere Gegenstände der Erfindung sind die Herstellung von Si, B und N enthaltendem keramischem Material, dadurch gekennzeichnet, daß man die oben erwähnten, durch ihre Formel oder ihr Herstellungsverfahren charakterisierten borhaltigen Polysilane in Ammoniak enthaltender Atmosphäre bei 500 bis 2000°C, vorzugsweise 800 bis 1400°C, pyrolysiert, sowie das dadurch erhältliche keramische Material selbst. The invention also relates to the production of Si, B and N. containing ceramic material, characterized in that the mentioned above, by their formula or their manufacturing process characterized boron-containing polysilanes in an atmosphere containing ammonia pyrolyzed at 500 to 2000 ° C, preferably 800 to 1400 ° C, and that thereby obtainable ceramic material itself.  

Vor ihrer Pyrolyse, entweder in inerter Stickstoff- oder Argonatmosphäre oder in Ammoniak enthaltender Atmosphäre, werden die borhaltigen Polysilane vorzugsweise auf 400-500°C erhitzt (wenn gewünscht, unter Druck), so daß eine radikalische Insertion von CH2-Einheiten in die Si-Si-Bindung stattfindet, analog zu borfreien Polysilanen (K. Shiina, M. Kumada, J. Org. Chem. 23 (1958) 139; M.T. Davidson, C. Eaborn, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 70 (1974) 249). Die so behandelten borhaltigen Polysilane sind im allgemeinen besser löslich als die unbehandelten.Before their pyrolysis, either in an inert nitrogen or argon atmosphere or in an atmosphere containing ammonia, the boron-containing polysilanes are preferably heated to 400-500 ° C. (if desired, under pressure), so that a radical insertion of CH 2 units into the Si -Si binding takes place, analogously to boron-free polysilanes (K. Shiina, M. Kumada, J. Org. Chem. 23 (1958) 139; MT Davidson, C. Eaborn, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 70 ( 1974) 249). The boron-containing polysilanes treated in this way are generally more soluble than the untreated ones.

Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.The following examples illustrate the invention.

VersuchsberichtTest report Herstellung von Tris[(dichlormethylsilyl)ethyl]boranProduction of tris [(dichloromethylsilyl) ethyl] borane

Zu einer auf 0°C gekühlten Lösung von 200 ml (216 g, 1 ,53 mol) Dichlormethylvinylsilan in 255 ml Toluol wurden unter starkem Rühren 255 ml einer 2-molaren Lösung von Dimethylsulfidboran (0,51 mol BH3) in Toluol langsam zugetropft. Die Temperatur wurde dabei unter 10°C gehalten. Nach dem Zutropfen wurde die Reaktionsmischung noch 5 Stunden bei 0°C gerührt und dann weitere 36 Stunden bei Raumtemperatur. Nach Abzug des Lösungsmittels im Vakuum konnten 223 g Tris[(dichlormethylsilyl)ethyl]boran isoliert werden.To a solution of 200 ml (216 g, 1.53 mol) of dichloromethylvinylsilane in 255 ml of toluene, cooled to 0 ° C., 255 ml of a 2-molar solution of dimethyl sulfide borane (0.51 mol of BH 3 ) in toluene were slowly added dropwise with vigorous stirring . The temperature was kept below 10 ° C. After the dropping, the reaction mixture was stirred for a further 5 hours at 0 ° C. and then for a further 36 hours at room temperature. After the solvent had been removed in vacuo, 223 g of tris [(dichloromethylsilyl) ethyl] borane were isolated.

Das hergestellte Tris-silylboran war eine farblose, ölige Flüssigkeit, die sich an der Luft von selbst entzündet, wenn ihr eine große Oberfläche zur Verfügung gestellt wird (z. B. auf Zellstoff). The tris-silylborane produced was a colorless, oily liquid that adhered to the air ignites by itself if you have a large surface available is placed (e.g. on pulp).  

Beispiel 1example 1 Umsetzung von Tris[(dichlormethylsilyl)ethyl]boran mit KaliumReaction of tris [(dichloromethylsilyl) ethyl] borane with potassium

Zu 6,8 g (0,17 mol) Kalium in 50 ml THF wurden bei 68°C unter Ultraschalleinfluß 10 ml (12,5 g; 0,029 mol) Tris[(dichlormethylsilyl)ethyl]boran langsam zugetropft. Das Gemisch wurde 24 Stunden bei dieser Temperatur gerührt und anschließend die flüssige Phase unter Ausschluß von Luft vom Kaliumchlorid abgetrennt.To 6.8 g (0.17 mol) of potassium in 50 ml of THF were at 68 ° C under Ultrasound influence 10 ml (12.5 g; 0.029 mol) of tris [(dichloromethylsilyl) ethyl] borane slowly added dropwise. The mixture was kept at this temperature for 24 hours stirred and then the liquid phase in the absence of air from Potassium chloride separated.

Die entstandenen löslichen borhaltigen Polysilane wurden vom Lösungsmittel und flüchtigen Anteilen befreit. Es fielen 4,6 g eines farblosen Pulvers an. Die Elementaranalyse ergab folgende Werte:The resulting soluble boron-containing polysilanes were removed from the solvent and volatile components. 4.6 g of a colorless powder were obtained. The elementary analysis showed the following values:

C  42,8 Gew.-%
H   8,4 Gew.-%
B  11,8 Gew.-%
Si  32,1 Gew.-%
Cl <0,2 Gew.-%
C 42.8% by weight
H 8.4% by weight
B 11.8% by weight
Si 32.1% by weight
Cl <0.2% by weight

Beispiel 2Example 2 Umsetzung von Tris[(dichlormethylsilyl)ethyl]boran mit Na/K-LegierungReaction of tris [(dichloromethylsilyl) ethyl] borane with Na / K alloy

Eine Na/K-Legierung wurde in einem Reaktionskolben durch Schmelzen von Na und K ohne Lösungsmittel hergestellt. Dabei wurden 2,83 g (0,123 mol) Natrium und 10,05 g (0,257 mol) Kalium eingesetzt. Nach Bildung der Legierung bei 20°C gab man als Lösungsmittel THF zu und rührte sehr heftig auf.A Na / K alloy was made in a reaction flask by melting Na and K made without solvent. 2.83 g (0.123 mol) Sodium and 10.05 g (0.257 mol) of potassium are used. After formation of the Alloy at 20 ° C was added as a solvent THF and stirred very violently on.

Anschließend wurden unter Ultraschalleinfluß 27,5 g (0,063 mol) Tris[(dichlormethylsilyl)ethyl]boran bei Rückfluß des THF langsam zugetropft. Die Aufarbeitung erfolgte wie in Beispiel 1. Die Elementaranalyse ergab mit geringen Abweichungen die gleichen Werte wie in Beispiel 1. Then, under the influence of ultrasound, 27.5 g (0.063 mol) Tris [(dichloromethylsilyl) ethyl] borane was slowly added dropwise with reflux of the THF. The work-up was carried out as in Example 1. The elementary analysis also indicated slight deviations the same values as in example 1.  

Beispiel 3Example 3 Pyrolyse in StickstoffatmosphärePyrolysis in a nitrogen atmosphere

2,5 g des borhaltigen Polysilans aus Beispiel 2 wurden in einer Mühle gemahlen und dann zu einem Zylinder verpreßt. Anschließend wurde dieser Zylinder unter Stickstoff auf 1200°C mit einer Aufheizrate von 1 Grad pro Minute aufgeheizt und dann diese Temperatur 3 Stunden gehalten. Nach dem Abkühlen wurde der Ofen geöffnet und der tiefschwarze Zylinder konnte entnommen werden. Der Zylinder war zwar etwas geschrumpft, jedoch bei der Aufheizung nicht geschmolzen.2.5 g of the boron-containing polysilane from Example 2 were ground in a mill and then pressed into a cylinder. Then this cylinder was under Nitrogen heated to 1200 ° C at a rate of 1 degree per minute and then held that temperature for 3 hours. After cooling, the Oven opened and the jet black cylinder could be removed. Of the The cylinder had shrunk somewhat, but not when it heated up melted.

Eine Röntgenbeugungsanalyse des keramischen Materials ließ keine kristallinen Phasen erkennen.X-ray diffraction analysis of the ceramic material did not reveal any crystalline ones Recognize phases.

Beispiel 4Example 4 Pyrolyse in AmmoniakatmosphärePyrolysis in an ammonia atmosphere

Man arbeitete wie in Beispiel 3, außer daß 3,2 g des borhaltigen Polysilans verwendet wurden und die Aufheizung in NH3-Atmosphäre statt in N2- Atmosphäre stattfand.The procedure was as in Example 3, except that 3.2 g of the boron-containing polysilane were used and the heating was carried out in an NH 3 atmosphere instead of an N 2 atmosphere.

Nach dem Abkühlen wurde der farblose und transluzente Zylinder aus dem Ofen entnommen. Die Röntgenbeugungsanalyse ergab, daß es sich hierbei um ein amorphes Material handelte.After cooling, the colorless and translucent cylinder was out of the oven taken. The X-ray diffraction analysis showed that this was a amorphous material traded.

Claims (11)

1. Verfahren zur Herstellung von borhaltigen Polysilanen, dadurch gekennzeichnet, daß man mindestens ein Tris-silylboran der Formel (I) B[-C₂H₄-SiCl₂X]₃ (I)worin die Gruppe -C2H4- die Struktur -CH2-CH2- oder -CH(CH3)- hat und X ein Chloratom oder ein aliphatischer Rest mit 1-4 C-Atomen ist, mit mindestens einem der Alkalimetalle Li, Na oder K umsetzt.1. A process for the preparation of boron-containing polysilanes, characterized in that at least one tris-silylborane of the formula (I) B [-C₂H₄-SiCl₂X] ₃ (I) wherein the group -C 2 H 4 - the structure -CH 2 - CH 2 - or -CH (CH 3 ) - and X is a chlorine atom or an aliphatic radical with 1-4 C atoms, with at least one of the alkali metals Li, Na or K. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das Alkalimetall in mindestens äquimolarer Menge einsetzt.2. The method according to claim 1, characterized in that one Alkali metal is used in at least an equimolar amount. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkalimetall in einem organischen Lösungsmittel vorgelegt und dann umgesetzt wird.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the Alkali metal placed in an organic solvent and then reacted becomes. 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man beim Zusammengeben der Reaktanten eine Temperatur von 50°C bis 120°C einhält und anschließend auf 60 bis 200°C erhitzt.4. The method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that a temperature of 50 ° C to Maintains 120 ° C and then heated to 60 to 200 ° C. 5. Verfahren nach einen der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktion unter Ultraschall durchgeführt wird.5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the reaction is carried out under ultrasound. 6. Borhaltige Polysilane der allgemeinen Formel (II) worin die Gruppe -C2H4- die Struktur -CH2-CH2- oder -CH(CH3)- hat, R ein aliphatischer Rest mit 1-4 C-Atomen ist und a, b die Molfraktionen der beiden Struktureinheiten bedeuten, wobei a + b = 1 gilt.6. Boron-containing polysilanes of the general formula (II) wherein the group -C 2 H 4 - has the structure -CH 2 -CH 2 - or -CH (CH 3 ) -, R is an aliphatic radical with 1-4 C atoms and a, b are the mole fractions of the two structural units , where a + b = 1 applies. 7. Borhaltige Polysilane, erhältlich nach dem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5.7. Boron-containing polysilanes, obtainable by the process according to one of the Claims 1 to 5. 8. Verfahren zur Herstellung von Si, B und C enthaltendem keramischen Material, dadurch gekennzeichnet, daß man borhaltige Polysilane gemäß Anspruch 6 oder 7 in inerter Stickstoff- oder Argonatmosphäre bei 500°C bis 2000°C pyrolysiert.8. Process for the production of ceramic containing Si, B and C. Material, characterized in that boron-containing polysilanes according to Claim 6 or 7 in an inert nitrogen or argon atmosphere at 500 ° C to Pyrolyzed at 2000 ° C. 9. Si, B und C enthaltendes keramisches Material, erhältlich nach dem Verfahren gemäß Anspruch 8.9. Ceramic material containing Si, B and C, available after A method according to claim 8. 10. Verfahren zur Herstellung von Si, B und N enthaltendem keramischem Material, dadurch gekennzeichnet, daß man borhaltige Polysilane gemäß Anspruch 6 oder 7 in Ammoniak enthaltender Atmosphäre bei 500°C bis 2000°C pyrolysiert.10. A process for producing Si, B and N containing ceramic Material, characterized in that boron-containing polysilanes according to Claim 6 or 7 in an atmosphere containing ammonia at 500 ° C to Pyrolyzed at 2000 ° C. 11. Si, B und N enthaltendes keramisches Material, erhältlich nach dem Verfahren gemäß Anspruch 10.11. Si, B and N containing ceramic material, available after A method according to claim 10.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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