DE4317718C2 - Magnetoresistenzelement - Google Patents
MagnetoresistenzelementInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Magnetore
sistenzelement und im besonderen auf ein Magnetoresistenz
element zur Erfassung eines Magnetfeldes durch Verwendung
der Magnetoresistenz, d. h. die Änderung des elektrischen
Widerstandes, die in einem ferromagnetischen Material nach
Anlegen eines Magnetfeldes H erzeugt wird, die von dem
Winkel zwischen der Richtung der Magnetisierung und der
Richtung des Stromflusses abhängt.
Magnetoresistenzelemente enthalten einen dünnen Magnetore
sistenzstreifen oder -film aus einem ferromagnetischen Ma
terial, üblicherweise eine Ni-Fe-Legierung oder eine Ni-Co-
Legierung, der auf ein isolierendes Substrat aufgebracht ist
und mit Anschlüssen an dessen beiden Enden verbunden ist.
Die Elemente werden, wenn es ein Grund erfordert, mit einem
Schutzüberzug bedeckt. Zum Ausgleichen oder um dem Element
eine einachsige magnetische Anisotropie zu geben, haben
einige Magnetoresistenzelemente auch eine harte Vorspan
nungsschicht, die auf dem Streifen aufgebracht ist und in
der Richtung parallel zu der leichten Magnetisierungsrich
tung des Streifens magnetisiert ist.
Wenn es erforderlich ist, den Arbeitspunkt des Magnetoresi
stenzelementes ohne Änderung der leichten Magnetisierungs
richtung zu verschieben, ist es üblich, ein Magnetfeld eines
Permanentmagneten oder eines Elektromagneten, das durch
einen elektrischen Strom erzeugt wird, an das Element anzu
legen. Anstatt des externen Magnetfeldes wird gelegentlich
der Magnetoresistenz streifen in einer gewünschten Richtung
teilweise magnetisiert. Solche Magnetoresistenzelemente sind
jedoch komplex in ihrem Muster und problematisch in der Her
stellung.
Aus der DE 39 11 242 C2 ist es bekannt, daß der Arbeitspunkt
eines Magnetoresistenzelementes, das aus einer in Form eines
Musters auf ein isolierendes Substrat aufgebrachten Magneto
resistenzschicht aus ferromagnetischem Material mit ein
achsiger magnetischer Anisotropie besteht, durch eine harte
Vorspannungsschicht verschoben werden kann.
Es ist deshalb die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein
Magnetoresistenzelement zu schaffen, das eine einfaches
Muster hat und die Möglichkeit bietet, den Arbeitspunkt ohne
Verursachung eines Wechsels seiner leichten Magnetisierungs
richtung zu verschieben.
Diese Aufgabe wird durch ein Magnetoresistenzelement gemäß
Anspruch 1 gelöst. Weiterbildungen des erfindungsgemäßen
Magnetoresistenzelements sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Für das Substrat kann irgendein bekanntes isolierendes Mate
rial wie z. B. wärmeresistentes Glas, Aluminiumoxid, Zirkon
erde andere Keramiken und ähnliches verwendet werden.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nach
folgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine ebene Darstellung eines Magnetoresistenzele
ments, das ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung zeigt;
Fig. 2 und 3 Graphen, die Änderungen des Widerstandes des Ele
mentes der Fig. 1 als eine Funktion des Magnet
feldes der angelegten Signale zeigen;
Fig. 4 eine ebene Darstellung eines Magnetoresistenzele
mentes, das ein anderes Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung zeigt;
Fig. 5 einen Graph, der die Änderung des Widerstandes des
Elementes der Fig. 4 mit einem Magnetfeld der an
gelegten Signale zeigt; und
Fig. 6 eine ebene Darstellung eines Magnetoresistenzele
mentes, das wiederum ein anderes Ausführungsbei
spiel der vorliegenden Erfindung zeigt.
In Fig. 1 wird ein Magnetoresistenzelement der vorliegenden
Erfindung gezeigt, das im allgemeinen mit dem Bezugszeichen
10 bezeichnet ist. Das Magnetoresistenzelement 10 umfaßt ein
isolierendes Substrat 1 aus einem wärmefesten Glas, eine in
Form eines Musters aufgebrachte Magnetoresistenzschicht 2,
die als magnetosensitiver Teil dient, ein Paar Anschlüsse 3,
die an beide Enden der in Form eines Musters aufgebrachten
Magnetoresistenzschicht 2 angeschlossen sind und eine in
Form eines Musters aufgebrachte harte Vorspannungsschicht 4
aus einem ferromagnetischen Material.
Die in Form eines Musters aufgebrachte Magnetoresistenz
schicht 2 ist aus einem dünnen ferromagnetischen Film aus
einer Ni-Co-Legierung auf dem Substrat 1 in der Form eines
Streifens zusammengesetzt. Die Vorspannungsschicht 4 ist aus
ferromagnetischen Dünnfilmen aus einer Ti- und Co-Ni-
Legierung auf dem Substrat 1 zusammengesetzt und in zwei
Teile, die an beiden Seiten der in Form eines Musters aufge
brachten Magnetoresistenzschicht 2 angeordnet sind, unter
teilt. Jedes Vorspannungsteil schließt eine Mehrzahl von
Streifenleitungen 4a ein, die parallel zu
einer Linie, die die leichte Magnetisierungsrichtung der in
Form eines Musters aufgebrachten Magnetoresistenzschicht 2
in einem spitzen Winkel (Θ) schneidet, magnetisiert sind.
Folglich sind die Streifenleitungen 4a um einen Winkel (Θ)
zu der leichten Magnetisierungsrichtung der in Form eines
Musters aufgebrachten Magnetoresistenzschicht 2 geneigt.
Das obige Magnetoresistenzelemente kann z. B. auf folgende
Art und Weise hergestellt werden.
Zuerst wird eine Ni-25%Co-Legierung auf die gesamte Ober
fläche eines isolierenden Glassubstrates 1 in einem Magnet
feld aufgebracht, um einen ferromagnetischen Dünnfilm mit
einer Dicke von 50 nm zu erzeugen. Dieser ferromagnetische
Film wird dann photolithographisch behandelt, um eine in
Form eines Musters aufgebrachte Magnetoresistenzschicht, d. h.
eine Magnetoresistenzstreifenleitung 2 (20 µm breit und
1 mm lang) mit der leichten Magnetisierungsrichtung parallel
zu dessen Längsrichtung, zu bilden.
Dann wird Titan auf die gesamte Oberfläche des Substrates 1
aufgedampft, um eine Titanschicht (50 nm dick), die als Un
terlage für Elektroden dient, zu erzeugen und dann wird eine
Co-15%Ni-Legierung auf die Titanschicht aufgebracht, um eine
ferromagnetische Schicht (300 nm dick) zu erzeugen. Die
photolithographischen Techniken werden wiederum angewendet,
um ein Muster der Anschlüsse 3 und der harten Vorspannungs
teile 4, wie in Fig. 1 gezeigt, zu bilden. Jeder Anschluß 3
stellt einen Kontakt mit einem Ende der Magnetoresistenz
streifenleitung 2 her, die als magnetosensitiver Teil dient,
während die Vorspannungsteile 4 an beiden Seiten der
Magnetoresistenzstreifenleitung 2 in einem Abstand von 4 µm
von der Seite der Magnetoresistenzstreifenleitung 2 angeor
dnet sind. Jedes Vorspannungsteil 4 ist in eine Mehrzahl von
parallelen Streifenleitungen 4a (10 µm breit und 15 µm lang)
unterteilt, die in einem Winkel (Θ) von 60° gegenüber der
Längsrichtung der Magnetisierung der Magnetoresistenz
streifenleitung 2, wie in Fig. 1 dargestellt, geneigt sind.
Die Anschlüsse 3 und die Streifenleitungen 4a der Vorspan
nungsteile 4 werden durch Wärmebehandlung in einem Magnet
feld, das an das Substrat in der Richtung, die gleich der
leichten Magnetisierungsrichtung der Magnetoresistenz
streifenleitung 2 ist, angelegt ist, magnetisiert. In diesem
Fall werden die Streifenleitungen 4a entlang ihrer Längs
richtung, wie durch einen Pfeil M₂ angezeigt, magnetisiert,
wobei die Streifenleitungen 4a in die Richtung des ange
legten Magnetfeldes geneigt sind. Da das Magnetfeld, das
durch die Vorspannungsteile 4 erzeugt wird, eine magnetische
Komponente senkrecht zu der leichten Magnetisierungsrichtung
der Magnetoresistenzstreifenleitung 2 hat, wird ein Vorspan
nungsmagnetfeld an die Magnetoresistenzstreifenleitung 2
durch die Streifenleitungen 4a der Vorspannungsteile 4 ange
legt. In Fig. 1 zeigt ein Pfeil M₁ die Richtung der Magnet
isierung für die Magnetoresistenzstreifenleitung 2 an.
Fig. 2 und 3 zeigen eine charakteristische Kurve für das
Magnetoresistenzelement der Fig. 1 und stellen die Änderung
des Widerstandes als eine Funktion des Magnetfeldes der an
gelegten Signale dar.
Wird das Magnetfeld H der Signale zur linken Seite in Fig.
1 gerichtet, dann ändert sich der Widerstand des Elementes
10 mit dem Magnetfeld H wie in Fig. 2 gezeigt. In dem Ge
biet, in dem das Magnetfeld H einen positiven Wert nahe Null
und darüber annimmt, nimmt der Widerstand des Elementes mit
der Zunahme des Magnetfeldes H zu und wird in dem Punkt, in
dem ein kombiniertes Magnetfeld aus dem Magnetfeld aufgrund
des Vorspannungsteiles 4 und aus dem Magnetfeld H aufgrund
der Signale, auf die Längsrichtung (Stromfluß) der in Form
eines Musters aufgebrachten Magnetoresistenzschicht gericht
et ist, maximal. Der Widerstand des Elementes nimmt ab, wenn
das Magnetfeld H aufgrund der Signale einen Wert mit einem
negativen Vorzeichen annimmt.
Im Gegensatz dazu ändert sich der Widerstand des Elementes
mit dem Magnetfeld H der Signale, wie in Fig. 3 dargestel
lt, wenn das Magnetfeld H zur rechten Seite in Fig. 1 ge
richtet wird. In diesem Gebiet, in dem das Magnetfeld H
einen Wert um Null annimmt, nimmt der Widerstand des Ele
mentes mit der Zunahme des Magnetfeldes H ab, nimmt aber mit
der Abnahme des Magnetfeldes H zu.
Aus den Ergebnissen, die in Fig. 2 und 3 gezeigt sind, geht
hervor, daß der Arbeitspunkt des Magnetoresistenzelementes
aus Fig. 1 durch Verwendung der harten Vorspannungsteile
und durch Änderung der Richtung der magnetischen Signale,
die an das Element angelegt werden, verschoben werden kann.
In dem Ausführungsbeispiel in Fig. 1 können die Streifen
leitungen 4a der Vorspannungsteile 4 durch Anlegen eines
Magnetfeldes an die Streifenleitungen in deren Längsrichtung
magnetisiert werden. In diesem Fall kann die magnetische
Charakteristik der Magnetoresistenzstreifenleitung 2 mit den
Werten des angelegten Magnetfeldes verändert werden, was zu
einer schlechten Genauigkeit aufgrund von Hysterese führt.
In dem obigen Ausführungsbeispiel wird die Magnetisierung
der Streifenleitungen 4a durch eine Wärmebehandlung in dem
Magnetfeld ausgeführt. Sie kann aber auch gleichzeitig mit
der Aufbringung des Filmes durch Aufdampfen der ferro
magnetischen Schicht in dem Magnetfeld ausgeführt werden.
In Fig. 4 wird eine ebene Darstellung gezeigt, die ein
Muster eines Magnetoresistenzelementes nach einem anderen
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt.
Das Magnetoresistenzelement 10 umfaßt ein isolierendes Sub
strat aus Aluminiumoxid, eine in Form eines
Musters aufgebrachte Magnetoresistenzschicht 2, die als
magnetosensitiver Teil dient, ein Paar Anschlüsse 3, die mit
beiden Enden der in Form eines Musters aufgebrachten Magnet
oresistenzschicht 2 verbunden sind, und zwei harten Vorspan
nungsteilen 4.
Die in Form eines Musters aufgebrachte Magnetoresistenz
schicht 2 enthält einen ferromagnetischen Streifen oder
Dünnfilm aus einer Ni-18%Fe-Legierung, die auf das Substrat
1 aufgebracht ist. Die Vorspannungsteile 4 werden an beiden
Seiten der in Form eines Musters aufgebrachten Magneto
resistenzschicht 2 angeordnet und bestehen aus einer Mehr
zahl paralleler Streifen 4a aus einer Co-18%Ni-Legierung in
der Form eines Parallelogrammes. Die Streifen 4a sind in
einem Winkel (Θ) von 45° gegenüber der leichten Magnet
isierungsrichtung der in Form eines Musters aufgebrachten
Magnetoresistenzschicht 2 geneigt. Ein solches Magneto
resistenzelement 10 kann z. B. in der folgenden Art und
Weise hergestellt werden.
Zuerst wird ein ferromagnetischer Film mit einer Dicke von
30 nm auf die Oberfläche des Substrates 1 durch
Aufdampfen einer Ni-18%Fe-Legierung in einem Magnetfeld auf
gebracht und dann durch Anwendung von Photolithographie ge
ätzt, um eine Magnetoresistenzstreifenleitung 2 (50 µm breit
und 500 µm lang) derart zu formen, daß die leichte Magnet
isierungsrichtung auf die Transversalrichtung ausgerichtet
ist.
Dann wird eine Co-18%Ni-Legierung auf das Substrat aufge
bracht, um eine harte Vorspannungsschicht mit einer Dicke
von 200 nm zu erzeugen und dem photolithographischen Prozeß
ausgesetzt, um ein Muster der Anschlüsse 3 und der harten
Vorspannungsteile 4, wie in Fig. 4 gezeigt, zu formen.
Jeder Anschluß 3 macht einen Kontakt mit einem Ende des
Streifens der Magnetoresistenzstreifenleitung 2, während die
Vorspannungsteile 4 an beiden Seiten der Magnetoresistenz
streifenleitung 2 in Abständen von 5 µm angeordnet sind. Je
des Vorspannungsteil 4 besteht aus einer Mehrzahl von Strei
fenleitungen 4a (45 µm breit und 100 µm lang), die in Ab
ständen von 50 µm voneinander entlang der gesamten Länge der
Magnetoresistenzstreifenleitung 2 angeordnet sind und in ei
nem Winkel von 45° gegenüber der Seite der Magnetoresistenz
streifenleitung 2 geneigt sind.
Dann werden die Anschlüsse 3 und die Streifenleitungen 4a
durch Wärmebehandlung in dem Magnetfeld, das in der Richtung
parallel zu der leichten Magnetisierungsrichtung der Mag
netoresistenzstreifenleitung 2 angelegt ist, magnetisiert.
In diesem Fall werden die Streifenleitungen 4a in der longi
tudinalen Richtung magnetisiert, wobei die Streifenleitungen
4a gegenüber der Richtung des angelegten Magnetfeldes ge
neigt sind. Folglich wird ein Vorspannungsmagnetfeld an die
Magnetoresistenzstreifenleitung 2 durch die Streifenleit
ungen 4a der Vorspannungsteile 4 angelegt, wobei das Magnet
feld, das durch die Vorspannungsteile 4 erzeugt wird, eine
Komponente senkrecht zu der leichten Magnetisierungsrichtung
der Magnetoresistenzstreifenleitung 2 hat.
Wenn das Magnetoresistenzelement der Fig. 4 unter der Be
dingung betrieben wird, daß die Magnetoresistenzstreifenlei
tung 2 und der Vorspannungsstreifen 4 in der linken Richtung
magnetisiert werden und das Magnetfeld der Signale in der
Richtung senkrecht zu der leichten Magnetisierungsrichtung
(d. h. in der Richtung der transversalen (kurzen Seiten)
Achse der in Form eines Musters aufgebrachten Magneto
resistenzschicht 2) angelegt wird, ändert sich der Wider
stand des Elementes 10 mit dem Magnetfeld der angelegten
Signale wie in Fig. 5 gezeigt.
Im Fall daß das Magnetoresistenzelement 10 keinen harten
Vorspannungsteil 4 hat, wird der Widerstand des Elementes,
das unter den selben Bedingungen wie oben betrieben wird,
minimal, wenn das Magnetfeld der Signale 0 ist.
Aus dem obigen ist es klar, das der Arbeitspunkt des Magne
toresistenzelementes durch die Verwendung der Vorspannungs
teile 4 auf beiden Seiten der Magnetoresistenzstreifenlei
tung 2 verschoben werden kann. Der Arbeitspunkt des Magne
toresistenzelementes kann ebenfalls durch Änderung der Rich
tung des Magnetfeldes der an das Element angelegten Signale
verschoben werden.
In Fig. 6 ist ein anderes Ausführungsbeispiel der vorlie
genden Erfindung gezeigt. In diesem Ausführungsbeispiel um
faßt das Magnetoresistenzelement 10 ein isolierendes Glas
substrat 1, eine Magnetoresistenzstreifenleitung 2, die aus
einem ferromagnetischen Streifen oder einem Dünnfilm aus
einer Ni-18%Fe-Legierung besteht, ein Paar Anschlüsse 3 die
mit beiden Enden der Magnetoresistenzstreifenleitung 2 ver
bunden sind, harte Vorspannungsteile 4, die aus einer
Co-18%Ni-Legierungsschicht und einer Au-Schicht, die darauf
aufgebracht ist, bestehen, und einem Schutzüberzug 5 über
der Magnetoresistenzstreifenleitung 2.
Das obige Magnetoresistenzelement 10 kann z. B. in der fol
genden Art und Weise hergestellt werden.
Zuerst wird eine Ni-18%Fe-Legierung auf ein Glassubstrat 1
aufgebracht, um einen ferromagnetischen Film mit einer Dicke
von 30 nm zu bilden, und der resultierende Film wird photo
lithographisch behandelt, um eine Magnetoresistenzstreifen
leitung 2 mit einer Breite von 50 µm und einer Länge von 500
µm herzustellen. Dann wird eine Si-N-Masse auf die gesamte
Oberfläche der Streifenleitung 2 und ein Teil des Substrates
durch Aufdampfen aufgebracht, um eine Schutzschicht 5 zu
schaffen, wobei kleine Löcher in der Schutzschicht über bei
den Enden der Streifenleitung 2 gelassen werden, und dann
wird der Reihe nach eine Co-18%Ni-Legierung und Gold (Au)
auf die Schutzschicht durch Aufdampfen aufgebracht, um eine
Metallisierungsschicht, die aus einer Co-18%Ni-Schicht mit
200 nm und einer Au-Schicht mit 100 nm besteht.
Die metallisierte Schicht wird photolithographisch behan
delt, um die Anschlüsse 3 und die harten Vorspannungsteile
4, die eine Mehrzahl von Inseln in Form rechtwinkliger Drei
ecke 4b mit 100 µm (Basis) auf 50 µm (Höhe) auf 50 √5 µm
(schiefe Seite) einschließen. Die Inseln 4b sind auf beiden
Seiten der Magnetoresistenzstreifenleitung 2 in einer Reihe
derart angeordnet, daß die Basis jeder Insel 4b auf die
Seite der ferromagnetischen Streifenleitung 2 ausgerichtet
ist und in einer Entfernung von 5 µm von der Seite der fer
romagnetischen Streifenleitung 2 angeordnet ist. Jeder An
schluß 3 stellt einen Kontakt zu einem Ende des magneto
sensitiven Teiles 2 durch das kleine Loch her.
Dann werden die Anschlüsse 3 und die Inseln 4b durch Wärme
behandlung, während an sie ein Magnetfeld H in der Richtung
parallel zu der leichten Magnetisierungsrichtung der Magne
toresistenzstreifenleitung 2 angelegt ist, magnetisiert. In
diesem Fall wird jede Insel 4b der Vorspannungsteile in der
Richtung magnetisiert, die einen Winkel von 30° mit der
leichten Magnetisierungsrichtung der Magnetoresistenz
streifenleitung 2, wie in Fig. 6 dargestellt, einschließt,
aufgrund der Form der magnetischen Anisotropie.
Das Magnetoresistenzelement aus Fig. 6 schafft Effekte
ähnlich den Elementen, die in Fig. 1 und Fig. 4 gezeigt
sind.
Claims (3)
1. Magnetoresistenzelement (10),
gekennzeichnet durch folgende Merkmale:
ein isolierendes Substrat (1);
eine Magnetoresistenzschicht (2) in Form eines Musters aus einem ferromagnetischen Material, das auf das Substrat (1) aufgebracht ist und eine einachsige magnetische Anisotropie hat; und
eine harte Vorspannungsschicht (4) in Form eines Musters aus einem ferromagnetischen Material, das auf das Sub strat (1) aufgebracht ist, und die in zwei Teile unter teilt ist, die auf beiden Seiten der Magnetoresistenz schicht (2) angeordnet sind, wobei die Vorspannungs schicht (4) in einer Richtung parallel zu einer Linie, die die leichte Magnetisierungsrichtung der Magnetore sistenzschicht (2) in einem spitzen Winkel (Θ) schnei det, magnetisiert ist.
ein isolierendes Substrat (1);
eine Magnetoresistenzschicht (2) in Form eines Musters aus einem ferromagnetischen Material, das auf das Substrat (1) aufgebracht ist und eine einachsige magnetische Anisotropie hat; und
eine harte Vorspannungsschicht (4) in Form eines Musters aus einem ferromagnetischen Material, das auf das Sub strat (1) aufgebracht ist, und die in zwei Teile unter teilt ist, die auf beiden Seiten der Magnetoresistenz schicht (2) angeordnet sind, wobei die Vorspannungs schicht (4) in einer Richtung parallel zu einer Linie, die die leichte Magnetisierungsrichtung der Magnetore sistenzschicht (2) in einem spitzen Winkel (Θ) schnei det, magnetisiert ist.
2. Magnetoresistenzelement nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet,
daß jeder Teil der in Form eines Musters aufgebrachten
harten Vorspannungsschicht (4) in eine Mehrzahl von
Streifenleitungen (4a) unterteilt ist, die Seite an
Seite angeordnet sind, wobei jede Streifenleitung (4a)
in Richtung parallel zu einer Linie, die die leichte
Magnetisierungsrichtung der Magnetoresistenzschicht (2)
unter einem spitzen Winkel (Θ) schneidet, magnetisiert
ist.
3. Magnetoresistenzelement nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet,
daß jeder Teil der harten Vorspannungsschicht (4) in
eine Mehrzahl von Inseln in Form rechtwinkliger Dreiecke
(4b), die Seite an Seite angeordnet sind, unterteilt
ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04134883A JP3089828B2 (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 強磁性磁気抵抗素子 |
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---|---|
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DE4317718C2 true DE4317718C2 (de) | 1996-07-11 |
Family
ID=15138740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4317718A Expired - Lifetime DE4317718C2 (de) | 1992-05-27 | 1993-05-27 | Magnetoresistenzelement |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5432494A (de) |
JP (1) | JP3089828B2 (de) |
DE (1) | DE4317718C2 (de) |
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R071 | Expiry of right | ||
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